JP2011049523A - 電子部品搭載用パッケージおよびそれを用いた電子装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 上面に電子部品6の搭載部1aを、および上面から下面にかけて第1の貫通孔1bを有する第1の基体1と、外周部が第1の基体1の下面に接合された、第1の貫通孔1bに対応して上面から下面にかけて第2の貫通孔2bを有する第2の基体2と、第2の貫通孔2bに充填された封止材3を貫通して固定され、一端が第1の貫通孔1bを通って第1の基体1の上面から突出している信号端子5とを具備しており、第2の基体2の熱伝導率よりも第1の基体1の熱伝導率の方が大きい電子部品搭載用パッケージである。電子部品6の搭載部1aの面積を大きくすることができ、発生した熱を熱伝導率の大きい第1の基体を介して外部に放出することができる。
【選択図】 図2
Description
bps(Giga bit per second)程度であったが、近年では25〜40Gbps程度まで向上
してきており、半導体装置をより高出力化させ、高速化させることが要求されている。
の貫通孔21bの中心部に挿通されるとともに、少なくとも下端部が貫通孔21bから突出するように封止材23を介して固定された信号端子25とを具備しているものであった。信号端子25の固定はホウケイ酸等を主成分とする絶縁ガラスから成る封止材23を介して行なわれ、封止材23によって基体21と信号端子25とが電気的に絶縁されている。また、基体21の下面には、2つの貫通孔21b・21bの間に接地端子29が接続されている。この電子部品搭載用パッケージの搭載部21aに必要に応じて回路基板26aを介して電子部品26を搭載し、電子部品搭載用パッケージの信号端子25の上端部と電子部品26の端子とを回路基板26aを介して電気的に接続し、基体21の上面の外周領域に、電子部品26を覆うようにFe−Ni−Co合金等の金属から成る蓋体29をYAGレーザー溶接,シーム溶接等の溶接またはろう接で接合して気密封止することによって電子装置としていた。また、この蓋体29の電子部品26と対向する部分に光ファイバを固定したり、電子部品26と対向する部分に光を透過させる窓を設けたりすることもある(例えば、特許文献1を参照。)。
置となる。
係数の差による熱応力が発生しても、この熱応力は溝によって緩和されて、第1の基体1と第2の基体2との接合部に加わる熱応力は小さいものとなるので、より気密信頼性に優れた高信頼性の電子装置を得ることのできる電子部品搭載用パッケージとなる。
。例えば基体1がFe−Mn合金から成る場合は、この合金のインゴット(塊)に圧延加工や打ち抜き加工等の金属加工方法を施すことによって所定形状に製作され、貫通孔1bはドリル加工や金型による打ち抜き加工によって形成される。また、第1の基体1が搭載部1aとして突出部を有する形状の場合は、切削加工やプレス加工することによって形成することができる。
状,一辺が3〜15mmの四角板状等である。
とを加えて2mm以下であるのがよいので、図6に示す例のように、第1の基体1が凹部1dを有し、第2の基体2がこの凹部1d内で第1の基体1に接合されている場合には、第1の基体1は1mmを超えて2mm以下の厚みであってもよい。
mとすればよい。DC端子8が通る貫通孔1bについては、DC端子8は特性インピーダンスの影響を受けないので、DC端子8と第1の基体1とがショートしない程度に、上記寸法よりも小さくして搭載部1aの面積を大きくするとよい。また、逆に貫通孔1bを上記寸法よりも大きくして、図1に示す例のように複数のDC端子8を貫通させても構わない。この場合は、例えば図1に示す例のように、円形ではなく長円形とすることで搭載部1aの面積を大きくすることができる。上述したように、電子部品6の数や電子部品6の端子の数に応じて信号端子5の数が、また電子部品5以外の他の素子等の数に応じてDC端子8の数が決まるので、それに応じて第1の貫通孔1bも適宜形成すればよい。
〜9μmのNi層と厚さが0.5〜5μmのAu層とをめっき法によって順次被着させてお
くのがよい。これにより、第1の基体1が酸化腐食するのを有効に防止することができるとともに、電子部品6や回路基板6aあるいは蓋体9等を第1の基体1に良好にろう付けすることができる。
円周の一部を切り取った半円板状,一辺が3〜15mmの四角板状等である。第2の基体2はその外周部が第1の基体1の下面に接合されるので、必要な大きさの第2の貫通孔2bが形成されるとともに、外周部が第1の貫通孔1bよりも大きいものであればよい。例えば、図3および図4(a)に示す例のように、平面視の外形が第1の基体1より一回り小さい第2の基体2を第1の基体1の下面に接合することによって、複数の第1の貫通孔1bをまとめて封止してもよいし、図4(b)に示す例のように、第2の基体2を複数の第1の貫通孔1bのそれぞれよりも一回り大きい複数個にして、複数の第1の貫通孔1bをそれぞれ封止するようにしてもよい。また、このように第2の基体2が小さいと、第1の基体1との間で熱膨張係数に差がある場合には、発生する熱応力が小さくなるので好ましい。1つの第2の基体2に電子部品搭載用パッケージの全ての信号端子5が固定されていると、第1の基体1と第2の基体2とを接合する際に、信号端子5の相対位置が正確に位置決めできるとともに、複数の第1の貫通孔1bと複数の第2の貫通孔2b(およびそれら第2の貫通孔2b内に固定された複数の信号端子5)との位置合わせが一括して行なえるので、組み立て精度の良い電子部品搭載用パッケージを効率よく得ることができる。
1mmを超えると、第1の基体1と接合して得られる電子部品搭載用パッケージや電子装置の厚みが不要に厚いものとなり、小型化し難くなるので、第2の基体2の厚みは1mm以下であるのが好ましい。
3が入る程度の大きさに形成すればよい。
ているのが好ましい。例えば、図6に示す例のように第2の基体2がその側面で第1の基体1と接合され、第2の基体2の下面に溝を設ける場合は、図7(a)に示す例のように連続した溝10でなくても、図7(b)に示す例のように、第1の基体1と第2の基体2との接合部に沿って全周にわたって連続していない複数の溝10が形成され、接合部から溝10が形成されている方を見た場合に、1つの溝10の不連続な部分と他の溝10とが重なるように形成されていれば、第2の基体2の全周にわたって応力を緩和できるのでよい。また、連続した溝10が2重以上に形成されていてもよいし、例えば第1の基体1と第2の基体2との接合部と第2の貫通孔2bとの距離が短い部分を2重(例えば、図7(b)の内側の溝10が連続した形状であるような場合)にして封止材3に熱が伝わり難くしてもよい。
うに、すなわち、溝10の底部の厚みが0.1〜0.25mmとなるように形成すると、溝10の部
分による応力緩和の効果が大きくなり、かつ気密性も高いので好ましい。溝10の底部の厚みが薄いほど応力緩和の効果は大きいが、溝10の底部の厚みが0.1mm未満となると、溝10の部分での変形が大きくなり、電子部品6を搭載して使用した際に、繰り返し熱応力が
加わることで溝10の底部に亀裂が入って気密性が低くなりやすい。同様の理由から、溝10の断面形状は、底面と側面とがなす角部に丸みをつけた形状や、U字形状が好ましい。
mm、直径が0.1〜0.5mmの線状に製作される。
とし、第2の貫通孔2bの内径を1.75mmとして、封止材3に比誘電率が6.8であるもの
を用いればよい。あるいは信号端子5の外径が0.25mmの場合であれば、第1の貫通孔1bの内径を0.57mmとし、第2の貫通孔2bの内径を2.2mmとして、封止材3の比誘電
率が6.8であるものを用いればよい。また、同じく信号端子5の外径が0.25mmの場合で
あれば、第2の貫通孔2bの内径を1.65mmとして、封止材3の比誘電率が5であるものを用いてもよい。封止材3の比誘電率が4であれば、同じ外径0.25mmの場合で、第2の貫通孔2bの内径を1.35mmとすれば特性インピーダンスが50Ωとなる。
面の形状に金型等で打ち抜いて作製した接合材4を第1の基体1と第2の基体2それぞれの接合面間に挟んで、窒素中で合金はんだの融点以上に加熱して冷却することで、第1の基体1と第2の基体2とが接合される。ろう材としては例えば銀ろう材、ガラスとしては低融点ガラスを用いればよい。また、箔を用いる代わりに接合材4のペーストを接合面に塗布して加熱してもよい。
なるが、第1の基体1に形成される第1の貫通孔1bは小さいものでよいので、搭載部1a面積の第1の基体1の上面全体の面積に占める割合を高くすることができ、電子部品6に発生した熱を第1の基体1に効率よく伝えることができる。また、比誘電率の小さいガラスは、一般的に熱膨張係数が2×10−6〜5×10−6/℃と小さいので、SPC材のような高熱伝導性の金属(熱膨張係数:8×10−6〜10×10−6/℃)に対して、比較的熱膨張係数の小さい(4×10−6〜6×10−6/℃)Fe−Ni−Co合金を第2の基体2として用いれば、第2の貫通孔2b内に充填しても、第2の基体2との熱膨張差によって剥がれたり、割れたりすることがない。本発明の電子部品搭載用パッケージは、電子部品6が搭載される第1の基体1と、信号端子5が封止材3によって固定される第2の基体2とを、それぞれに必要な特性を有する別々の材質にすることで、小型で信頼性に優れた電子装置が得られるものとなる。
日本工業規格)のBAg−8であるが、これ以外の銀ろうでもよく、また、必要に応じて融点や、硬度を低下させるために1質量%〜10質量%程度のインジウム(In)を加えたものでもよい。
好ましい。密着金属層の厚みが0.01μm未満では、密着金属層を絶縁基板に強固に密着することが困難となる傾向があり、0.2μmを超えると、成膜時の内部応力によって密着金
属層が絶縁基板から剥離し易くなる傾向がある。
厚みが0.1μm未満では、電気抵抗が大きなものとなって回路基板6aの配線導体に要求
される電気抵抗を満足できなくなる傾向があり、5μmを超えると、成膜時の内部応力によって主導体層が拡散防止層から剥離し易く成る傾向がある。なお、Auは貴金属で高価であることから、低コスト化の点でなるべく薄く形成することが好ましい。また、Cuは酸化し易いので、その上にNiおよびAuからなる保護層を被覆してもよい。
路基板6aの配線導体に接続してこの配線導体と信号端子5とをボンディングワイヤ7で接続することによって信号端子5に電気的に接続される。また、例えば、回路基板6aを基体1上に搭載した後に電子部品6を回路基板6a上に搭載する場合は、回路基板6aの固定には金−錫(Au−Sn)合金や金−ゲルマニウム(Au−Ge)合金をろう材として用い、電子部品6の固定には、これらより融点の低い錫−銀(Sn−Ag)合金や錫−銀−銅(Sn−Ag−Cu)合金のろう材や、融点より低い温度で硬化可能なAgエポキシ等の樹脂製の接着剤を用いればよい。また、電子部品6を回路基板6a上に搭載した後に回路基板6aを第1の基体1上に搭載してもよく、その場合は上記とは逆に、回路基板6aを第1の基体1上に搭載する際に用いるろう材の融点の方を低くすればよい。いずれの場合であっても、回路基板6a上や第1の基体1の搭載部1a上にろう材ペーストを周知のスクリーン印刷法を用いて印刷したり、フォトリソグラフィ法によってろう材層を形成したり、低融点ろう材のプリフォームを載置するなどすればよい。
1a・・・・搭載部
1b・・・・第1の貫通孔
1c・・・・蓋体接合部
1d・・・・凹部
2・・・・・第2の基体
2b・・・・第2の貫通孔
3・・・・・封止材
4・・・・・接合材
5・・・・・信号端子
6・・・・・電子部品
6a・・・・回路基板
6b・・・・中継基板
7・・・・・ボンディングワイヤ
8・・・・・DC端子
9・・・・・蓋体
10・・・・・溝
11・・・・・温度制御素子
12・・・・・モニタPD
13・・・・・反射鏡
14・・・・・温度モニタ素子
Claims (7)
- 上面に電子部品の搭載部を、および上面から下面にかけて貫通する第1の貫通孔を有する第1の基体と、外周部が前記第1の基体の下面に接合された、前記第1の貫通孔に対応して上面から下面にかけて貫通する第2の貫通孔を有する第2の基体と、前記第2の貫通孔に充填された封止材を貫通して固定され、一端が前記第1の貫通孔を通って前記第1の基体の上面から突出している信号端子とを具備しており、前記第2の基体の熱伝導率よりも前記第1の基体の熱伝導率の方が大きいことを特徴とする電子部品搭載用パッケージ。
- 前記第2の基体の外形寸法よりも前記第1の基体の外形寸法の方が大きいことを特徴とする請求項1記載の電子部品搭載用パッケージ。
- 前記第1の基体および前記第2の基体の少なくとも一方は、前記第1の基体と前記第2の基体との接合部に沿った溝を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子部品搭載用パッケージ。
- 前記第1の基体は下面に凹部を有し、前記第2の基体は前記凹部内で前記第1の基体に接合されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の電子部品搭載用パッケージ。
- 前記第1の基体の下面の前記搭載部に対向する部分から外周部にかけて前記第1の基体よりも熱伝導率が高い接合材が被着されており、前記第2の基体は、外周部の前記接合材で前記第1の基体に接合されていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の電子部品搭載用パッケージ。
- 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の電子部品搭載用パッケージの前記搭載部に電子部品を搭載するとともに、前記第1の基体の上面に前記電子部品および前記第1の貫通孔を覆う蓋体を接合したことを特徴とする電子装置。
- 前記電子部品は、温度制御素子を介して搭載されていることを特徴とする請求項6記載の電子装置。
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