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JP2009135279A - セラミックチップ部品 - Google Patents

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Abstract

【課題】配線基板、半導体パッケージ、あるいは機能モジュール等に内蔵、封止されるセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品において、セラミックス材料の表面に応力が集中して絶縁性樹脂との間で剥離を生じる問題がある。
【解決手段】配線基板、半導体パッケージ又は機能モジュールに絶縁性樹脂で封止されて内蔵されるセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品において、前記セラミックチップ部品の絶縁部であるセラミックス材料の全表面に応力緩和層を有することを特徴とするセラミックチップ部品。応力緩和層として、ポリイミド、ベンゾシクロブテン、フッ素化ポリイミド、多孔質PTFEから選択されたポリマーからなることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、配線基板、半導体パッケージあるいは機能モジュール等に絶縁性樹脂で封止されて内蔵されるセラミックチップ部品に関する。
配線基板へ抵抗体あるいはコンデンサを埋め込む要求は、近年の電子機器の小型化高密度化に伴いますます高まってきている。抵抗体、コンデンサ等の受動部品を基板へ埋め込む技術としては大きく分けて次の2種類がある。ひとつは既存の表面実装用セラミックチップ部品を直接埋め込む方法であり、もうひとつは配線基板等の製造技術を応用して抵抗体等を造りこむ方法である。両者とも長所短所を備えており、現在も活発に開発が進められている。
一方、半導体素子の封止に関しては、QFPやSOPなどさまざまな形態が実用化されており、例えば特許文献1においては、半導体チップの上面にポリイミド層の応力緩和層を形成している。
以下に公知文献を記す。
特開平5−21653号公報
従来は、配線基板、半導体パッケージ、あるいは機能モジュール等に、埋め込み用のセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品を絶縁性樹脂で封止して内蔵すると、そのセラミックチップ部品とそれを覆う絶縁性樹脂の密着性が悪く、恒温吸湿等の信頼性試験を行うと、セラミックチップ部品と絶縁性樹脂が剥離する問題を生じた。その原因は、セラミックチップ部品のセラミックス材料の表面に応力が集中して絶縁性樹脂との間で剥離を生じるためと考えられる。この対策として、特許文献1のように半導体素子の上面に応力緩和層を設ける技術をセラミックチップ部品に適用しても有効な効果を生じるかは、セラミックチップ部品は半導体素子とは寸法と形状と材質が違うため、それが有効であるか不明であった。そのため、本発明者は、絶縁性樹脂との密着性を向上させるに、セラミックチップ部品の表面に応力緩和層を設ける技術を研究し本発明を得た。
本発明は、この課題を解決するために、配線基板、半導体パッケージ又は機能モジュールに絶縁性樹脂で封止されて内蔵されるセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品において、前記セラミックチップ部品の絶縁部であるセラミックス材料の全表面に応力緩和層を有することを特徴とするセラミックチップ部品である。
また、本発明は、上記応力緩和層の厚みが0.5μm以上20μm以下であることを特徴とする上記のセラミックチップ部品である。
また、本発明は、上記応力緩和層が、ポリイミド、ベンゾシクロブテン、フッ素化ポリイミド、多孔質PTFEから選択されたポリマーからなることを特徴とする上記のセラミックチップ部品である。
本発明は、配線基板、半導体パッケージ、あるいは機能モジュール等に内蔵、封止されるセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサ等のセラミックチップ部品において、絶縁部のセラミックス材料の全表面に厚さが0.5μm〜20μmの応力緩和層を設けて、そのセラミックチップ部品を半導体パッケージ等に絶縁性樹脂で接着して埋め込むことにより、絶縁性樹脂との剥離を防ぎ信頼性が高い配線基板、半導体パッケージ、あるいは機能モジュールが得られる効果がある。
本発明のセラミックチップ部品103を基板に内蔵する製造方法は、図1のように、先ず、導電パターンを形成してある導電箔を用意して、少なくとも回路素子の搭載部を多数個用意してあるパターンを形成した導電箔101の上に回路素子を固着する第1の工程と、前記導電箔の前記ブロック周辺の残余部をモールド金型で挟み、前記ブロックの各搭載部分を同一の面内に配置して絶縁性樹脂105でトランスファーモールドする第2の工程と、前記ブロックの絶縁性樹脂105を各搭載毎にダイシングにより分離する第3の工程とから成る。
この製造方法で用いる、本発明のセラミックチップ部品103は、縦横の寸法が0.2mmから1mmで高さが0.2mmから0.5mmのセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品103に、その絶縁部のセラミックス材料の全表面に厚さが0.5μm〜20μmの応力緩和層103aを設ける。
以下に、本発明に係るセラミックチップ部品103を内蔵する基板の一実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
(工程1)
図1(a)に示すように、回路素子の搭載部のパターンを形成したリードフレームの導電箔101を用意した。この導電箔101はロウ材の付着性、ボンディング性、めっき性が考慮されてその材料を選択し、材料としては、銅を主体とした導電箔101、またはFe−Ni等の合金からなる導電箔101を用いた。
(工程2)
次に、図1(b)に示す如く、所望の導電パターンの各搭載部に回路素子を固着し、各搭載部の電極と所望の導電パターンと電気的に接続する接続手段を形成した。以下に、工程2の内容を詳しく説明する。
工程2で実装する回路素子は、トランジスタ、ダイオード、ICチップ102等の半導体素子、セラミックチップコンデンサ、セラミックチップ抵抗等の受動部品である。また、厚みは厚くなるが、CSP、BGA等のフェイスダウンの半導体素子も実装できる。本実施例では、図2(a)の平面図で示すように、ICチップ102と、縦横高さが0.6mm×0.3mm×0.3mmのセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品103を実装した。
(工程2−1)
このセラミックチップ部品103は、搭載する以前に、絶縁部のセラミックス材料の側面を含む全表面に、ポリイミド、ベンゾシクロブテン、フッ素化ポリイミド、多孔質PTFE等のポリマーをスピンコート法で設置した応力緩和層103aを形成しておく。応力緩和層103aは、スピンコート法以外に蒸着重合法で形成することも可能である。応力緩和層103aの厚さは、後の絶縁性樹脂105との密着性を考慮すると0.5μm〜20μmであることが好ましく、ここでは厚みが10μmの応力緩和層103を形成した。
応力緩和層103aが0.5μm未満であると応力緩和層103aとして不十分であり、20μmを超えると実装時に接続する導電ペースト103b等の厚みを確保するのが困難となる。また、後に信頼性試験で比較するために、比較例として、図2(b)に示す配置で、応力緩和層103aが無いセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品201を実装した基板も作製した。
(工程2−2)
次に、図1(c)に示すように、ベアのトランジスタチップを導電パターンにダイボンディングし、エミッタ電極と導電パターン、ベース電極と導電パターンを、熱圧着によるボールディングあるいは超音波によるウェッヂボンディング等で固着した金配線104を介して接続する。またセラミック部品103は、はんだ等のロウ材または導電ペースト103bで固着した。
(工程3)
次に、図1(d)に示すごとく、導電箔のブロック周辺の残余部をモールド金型で挟み、ブロックの各搭載部を同一のキャビティ内に配置し、絶縁性樹脂105でトランスファーモールドした。
(工程4)
次に、図3に示すごとく、絶縁性樹脂105を搭載部毎にダイシングにより分離して機能モジュールを得た。
(温度サイクル(TCT)による信頼性評価結果)
実施例によって得られた一括モールド基板について、JEDEC(合同電子デバイス委員会、Joint Electron Device Engineering Council)発行規格、JESD22−A113Dに規定されている手順で前処理を行なった。具体的には、まず−40℃から60℃の温度サイクルに5サイクル通し、次に125℃のオーブンに24時間入れ、その後、30℃―60%RHの恒温恒湿槽にて192時保存し、そこから取り出して直ちに、鉛フリーはんだ使用を想定したリフロープロファイルにて、3サイクルのリフロー過程に通した。
次に、TCT試験を行なった。具体的には、気相にて−55℃の温度条件で30分曝し、次に125℃の温度条件で30分曝すサイクルを1000回繰り返した。各温度の切り替え時間については、装置の能力の許す限り速やかに行なった。
その後、超音波探査映像装置(Scanning Acoustic Tomgraph ; SAT)にて非破壊で絶縁性樹脂105内部の観察をした。観察した結果は、セラミックス材料の表面に応力緩和層103aを形成したセラミックチップ部品103では、セラミックス材料と絶縁性樹脂105の界面で剥離がなく良好であった。しかし、応力緩和層103aがないセラミックス材料と絶縁性樹脂105の界面では絶縁性樹脂105との間で剥離がみられた。これは、温度サイクル試験により絶縁性樹脂105が収縮することによりその部分のセラミックス材料の表面から絶縁性樹脂105が剥離したからである。これにより、従来の半導体素子の技術をそのまま適用し上面にのみ応力緩和層を設けたのでは、セラミックチップ部品側面で絶縁性樹脂105が剥離する問題を生じる知見が得られた。そのため、本発明のセラミックチップ部品103では、セラミックス材料の側面を含む全表面に応力緩和層103aを形成する。このように、TCT試験を行った結果、応力緩和層103aをセラミックス材料の全表面に形成したセラミックチップ部品103においては、高い信頼性を維持することができる知見が得られた。
本発明は、配線基板、半導体パッケージ、あるいは機能モジュール等に内蔵、封止され
るセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサ等のセラミックチップ部品103に使用できる。
本発明の実施の形態における機能モジュールの製造工程を示す模式断面図である。 本発明の実施例の機能モジュールの製造方法を説明する図である。 本発明の実施例の機能モジュールの製造方法を説明する図である。
符号の説明
101・・・導電箔
102・・・ICチップ
103・・・(応力緩和層を有する)セラミックチップ部品
103a・・・応力緩和層
103b・・・導電ペースト
104・・・金配線
105・・・絶縁性樹脂
201・・・(応力緩和層が無い)セラミックチップ部品

Claims (3)

  1. 配線基板、半導体パッケージ又は機能モジュールに絶縁性樹脂で封止されて内蔵されるセラミックチップ抵抗またはセラミックチップコンデンサのセラミックチップ部品において、前記セラミックチップ部品の絶縁部であるセラミックス材料の全表面に応力緩和層を有することを特徴とするセラミックチップ部品。
  2. 前記応力緩和層の厚みが0.5μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項1記載のセラミックチップ部品。
  3. 前記応力緩和層が、ポリイミド、ベンゾシクロブテン、フッ素化ポリイミド、多孔質PTFEから選択されたポリマーからなることを特徴とする請求項1又は2に記載のセラミックチップ部品。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014099487A (ja) * 2012-11-14 2014-05-29 Toyota Motor Corp 半導体装置
JP2017152603A (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 三菱電機株式会社 パワー半導体モジュール及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014099487A (ja) * 2012-11-14 2014-05-29 Toyota Motor Corp 半導体装置
US9013047B2 (en) 2012-11-14 2015-04-21 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Semiconductor device
JP2017152603A (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 三菱電機株式会社 パワー半導体モジュール及びその製造方法

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