[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE3311815C3 - Verfahren zum Herstellen von Scheiben - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von Scheiben

Info

Publication number
DE3311815C3
DE3311815C3 DE3311815A DE3311815A DE3311815C3 DE 3311815 C3 DE3311815 C3 DE 3311815C3 DE 3311815 A DE3311815 A DE 3311815A DE 3311815 A DE3311815 A DE 3311815A DE 3311815 C3 DE3311815 C3 DE 3311815C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
color
reflection
transmission
nitride layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE3311815A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3311815A1 (de
DE3311815C2 (de
Inventor
Anton Dr Dietrich
Klaus Dr Hartig
Michael Dr Scherer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold AG, Balzers und Leybold Deutschland Holding AG filed Critical Leybold AG
Priority to DE3311815A priority Critical patent/DE3311815C3/de
Priority to US06/592,907 priority patent/US4534841A/en
Priority to GB08407852A priority patent/GB2138026B/en
Priority to FR8405082A priority patent/FR2543532B1/fr
Priority to ES531139A priority patent/ES531139A0/es
Priority to JP59061315A priority patent/JPS6036355A/ja
Priority to CA000451097A priority patent/CA1212922A/en
Priority to AU26334/84A priority patent/AU566790B2/en
Publication of DE3311815A1 publication Critical patent/DE3311815A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3311815C2 publication Critical patent/DE3311815C2/de
Publication of DE3311815C3 publication Critical patent/DE3311815C3/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3435Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation
    • C23C14/0036Reactive sputtering
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31627Next to aldehyde or ketone condensation product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Scheiben nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Derartige Scheiben haben eine farbneutrale und niedrige Transmission im sichtbaren Spektralbereich und werden bevorzugt in Gebieten mit Kontinentalklima, d. h. extrem heißen Sommern und kalten Wintern, eingesetzt. Es handelt sich um sogenannte Sonnenschutzscheiben, die im englischen Sprachgebrauch auch als "solar-control- panes" bezeichnet werden.
Es ist bekannt, für die eigentlichen aktiven Schichten Metalle aus der Gruppe Gold, Silber und Kupfer zu verwenden. Diese Schichten werden zwischen einer Haftschicht und einer Schutzschicht angeordnet, wobei die Haftschicht gleichfalls optische Eigenschaften hat und beispielsweise aus einem Metall wie Chrom oder einem Dielektrikum bestehen kann. Als Schutzschicht wird in der Regel dielektrisches Material verwendet (DE-AS 20 29 181 und DE-AS 23 34 152). Derartige Schichten haben den Nachteil, je nach dem für die aktive Schicht verwendeten Metall mehr oder weniger starke Farbstiche aufzuweisen, die innerhalb des zur Verfügung stehenden Spielraums nur schwer zu vermeiden bzw. zu verändern sind. Merkliche Veränderungen der Farbcharakteristik führen alsdann zu starken Änderungen des Reflexions- und Transmissionsverhaltens, da diese optische Eigenschaften mit der Farbcharakteristik der Scheiben eng verknüpft sind.
Es ist weiterhin bekannt, unter Verzicht auf rein metallische Schichten farbneutrale Schichten herzustellen, die einen hohen Infrarotanteil der Strahlung reflektieren. Dies geschieht durch eine erste Schicht aus Indium- Zinn-Oxid, die durch eine zweite Schicht aus mindestens einem der Oxide von Zinn, Wismut, Titan, Tantal, verstärkt wird. Die Transmissionswerte liegen jedoch oberhalb 70%, und außerdem läßt sich der Farbeindruck nicht gezielt verändern (DE-OS 32 01 783).
Durch die DE-OS 30 27 256 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtsystems für Wärmeschutzanwendungen bekannt, durch das auf eine Metallschicht eine dielektrische Deckschicht aufgebracht wird, die eine Metall-Stickstoffverbindung enthält. Als Beispiel für diese Metall-Stickstoffverbindung wird ausschließlich Titannitrid angegeben, das entweder als Zusatz zu einem Metalloxid oder in reiner Form angewendet werden kann. Hiermit ist es zwar möglich, einen besseren Schutz des gesamten Schichtsystems gegenüber äußeren Einflüssen zu erzielen, ohne das Transmissionsverhalten zu verschlechtern, eine gezielte Beeinflussung bestimmter optischer Schichteigenschaften ohne gleichzeitige Beeinflussung anderer optischer Schichteigenschaften ist jedoch mit dem bekannten Verfahren nicht möglich.
Durch den Aufsatz von Kienel/Meyer und Münz, "Moderne Beschichtungstechnologien von Architekturglas" aus Vakuum-Technik, 30. Jahrgang, Heft 8, Seiten 236 bis 246, ist es bekannt, daß Chrom als metallische Komponente für infrarotreflektierende Sonnenschutzschichten auf Glasscheiben verwendet werden kann. Soweit es sich um dielektrische Schichten handelt, wird angegeben, daß an die Stelle von Sauerstoff unter anderem auch Stickstoff treten kann, um beispielsweise Titannitridschichten zu erzeugen. Die Problemstellung, eine der optischen Schichteigenschaften ohne nennenswerte Beeinflussung anderer optischer Schichteigenschaften verändern zu können, wird auch dort nicht angesprochen.
Durch die CH-PS 558 763 ist es bekannt, thermisch isolierende Filterscheiben gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1 herzustellen, die in der Ansicht oder Durchsicht farblich neutral, beispielsweise grau oder graublau sein können. Dies soll durch geeignete Wahl der Komponente oder der Komponenten der Filterschicht geschehen, wodurch notwendigerweise das Transmissionsverhalten mit beeinflußt wird. Zwecks Herbeiführung einer hinreichenden Absorption im Infrarotbereich muß zusätzlich eine Filterhilfsschicht vorgesehen werden, für die beispielhaft die Oxide des Eisens, Nickels oder Kobalts angegeben werden.
Durch die US-PS 3 846 152 ist es bekannt, bei Scheiben mit einer Beschichtung aus einem Metall, beispielsweise aus Chrom, und aus einem Oxid die Farbcharakteristik durch Veränderung der relativen Schichtdicken aus Metall und Metalloxiden wie grünlich-silber über bronze-, goldfarben bis grau, in der Reflexion von blau über violett bis blaugrün und in der Transmission von silbern über golden, messingfarben, bronzegelb, Gelb-Bronze bis Gelbbraun herzustellen. Hierdurch ist es aber nicht möglich, die wechselseitigen Beeinflussungen der Metallschicht einerseits und der Oxidschicht andererseits zu entkoppeln.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen von Scheiben der eingangs beschriebenen Gattung, d. h. mit einer sehr niedrigen Transmission, herzustellen, durch das wahlweise entweder die Farbcharakteristik oder das Transmissionsverhalten im sichtbaren Bereich oder die Infrarot-Reflexionswerte im Wärmestrahlungsbereich veränderbar sind, ohne daß sich die optischen Werte der jeweils nicht beeinflußten Charakteristika mit verschieben.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei dem eingangs beschriebenen Verfahren erfindungsgemäß durch die Maßnahmen im Kennzeichen des Patentanspruchs 1.
Durch das erfindungsgemäße, durch das Verfahren der Kathodenzerstäubung mit üblichen Verfahrensparametern herstellbare Schichtsystem wird beispielsweise erreicht, daß sich die Reflexionsfarbe der Scheibe in der Außenansicht bei neutraler Transmissionsfarbe durch Wahl der optischen Dicke der Oxidschicht einstellen läßt, wobei die Farbcharakteristik von Silber über Bronze und Blau zu Grün verläuft, wenn man die optische Schichtdicke von 20 nm auf 280 nm allmählich steigert. Hierbei können die Transmissionswerte im sichtbaren Bereich und die Reflexionswerte im Wärmestrahlungsbereich unverändert beibehalten werden, wenn man die geometrische Dicke der Chromnitridschicht und die Zusammensetzung des Zerstäubungsgases bei der Herstellung der Chromnitridschicht unverändert läßt. Eine solche Möglichkeit wird von den Architekten sehr geschätzt, die dem zu verglasenden Gebäude eine ganz bestimmte Farbcharakteristik bei vorgegebenen Transmissions- und Reflexionswerten verleihen wollen. Dabei läßt sich das erfindungsgemäße Verfahren auch in hohem Maße reproduzierbar durchführen.
Maßgebend ist hierbei die optische Dicke, definiert als tatsächliche bzw. geometrische Dicke, multipliziert mit dem Brechungsindex "n" des verwendeten Oxids. Durch Division der optischen Dicke durch den Brechungsindex "n" läßt sich auf diese Weise leicht die geometrische Dicke "d" bestimmen, die der Steuerung der Sputterparameter zugrundegelegt wird, die letztendlich die Schichteigenschaften bestimmen. Für die Chromnitridschicht wird die geometrische Schichtdicke angegeben, weil es sich hier um kein Dielektrikum handelt.
Als Oxide für die erste Schicht kommen bevorzugt Oxide aus der nachstehenden Gruppe mit den in der Tabelle angegebenen Brechungsindices bzw. Bereichen für die geometrische und optische Dicke in Frage:
Tabelle I
Andererseits werden bei konstanter Reflexionsfarbe die Transmissionswerte in einem weiten Bereich verändert, wenn man die geometrische Dicke der Chromnitridschicht bei unveränderter Dicke der Oxidschicht und unveränderter Gaszusammensetzung bei der Herstellung der Chromnitridschicht entsprechend verändert. So entspricht eine geometrische Schichtdicke der Chromnitridschicht von 19 nm einer Transmission von 15% und eine geometrische Dicke der Chromnitridschicht von 12 nm einer Transmission von 30%.
Durch das Merkmal c) werden bei unveränderter Reflexionsfarbe und unveränderten Transmissionswerten im sichtbaren Bereich die Infrarot-Reflexionswerte im Wärmestrahlungsbereich verändert. Dies geschieht bei unverändert beibehaltener Dicke der Oxidschicht und gleichfalls unveränderter Dicke der Chromnitridschicht durch eine Änderung der Gaszusammensetzung beim Aufstäuben der Chromnitridschicht. So kann beispielsweise bei einem Verhältnis Ar zu N₂ = 0,20 eine IR-Reflexion von 10% erzielt werden, während bei einem Verhältnis Ar zu N₂ von 0,60 eine IR-Reflexion von 45% erzielt werden kann.
Vereinfacht ausgedrückt ermöglicht das erfindungsgemäße Verfahren eine Entkopplung der Vorgänge bei der Einstellung bestimmter optischer Eigenschaften, sei es die Reflexionsfarbe bzw. Farbcharakteristik, sei es der Transmissionswert im sichtbaren Bereich oder sei es der Infrarot-Reflexionswert im Wärmestrahlungsbereich. Damit können mit nur zwei verschiedenen Schichtmaterialien, nämlich der Oxide von Zinn, Titan oder Aluminium und Chromnitrid, Scheiben mit sehr unterschiedlichen, wohl aber definierten optischen Eigenschaften erhalten werden, und zwar lediglich durch die Wahl der Schichtdicke bzw. der Beschichtungsdauer sowie die Wahl der Zusammensetzung des Zerstäubungsgases.
Üblicherweise weden für die Herstellung der Oxidschicht Targets aus dem betreffenden Metall verwendet und in sauerstoffhaltiger Atmosphäre zerstäubt. Analog werden zur Herstellung der Chromnitridschichten Targets aus Chrom in stickstoffhaltiger Atmosphäre zerstäubt.
Das Chromnitrid hat bereits eine ausgezeichnete mechanische Beständigkeit gegenüber einer schleifenden oder kratzenden Beanspruchung. Auch gegenüber chemischen Einflüssen, wie Chlor, Schwefel, Säuren und Laugen, ist die Chromnitridschicht äußerst beständig. Die mechanische und chemische Resistenz kann jedoch noch weiter dadurch verbessert werden, daß auf die Chromnitridschicht noch eine dritte Schicht aus einem Dielektrikum, vorzugsweise aus einem der genannten Oxide, aufgebracht wird. Diese Schicht kann auch als Antireflexschicht ausgebildet sein.
Im Hinblick auf die weiter oben beschriebenen Infrarot- Reflexionswerte muß es sich dabei keineswegs um eine Chromnitridschicht mit einem stöchiometrischen Verhältnis von Chrom und Stickstoff handeln, sondern die Chromnitridschicht kann dabei mit Stickstoff mehr oder weniger weitgehend gesättigt sein.
Ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes wird nachfolgend anhand der Fig. 1 bis 3 sowie einiger Verfahrensbeispiele näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 einen Querschnitt durch ein erfindungsgemäßes Schichtsystem,
Fig. 2 eine grafische Darstellung der Abhängigkeit der Infrarot-Reflexion von der Zusammensetzung des Zerstäubungsgases Ar zu N₂ und
Fig. 3 eine grafische Darstellung der Abhängigkeit des Schichtwiderstandes von der Zusammensetzung des Zerstäubungsgases Ar zu N₂.
In Fig. 1 ist ein Substrat S dargestellt, das durch eine Glasscheibe aus Mineralglas gebildet wird. Auf dem Substrat befindet sich unmitelbar eine erste Schicht 1 aus Zinndioxid, auf die unmittelbar eine zweite Schicht 2 aus Chromnitrid aufgestäubt ist. Auf dieser Schicht kann sich eine nur gestrichelt angedeutete dritte Schicht 3 befinden, die bevorzugt gleichfalls aus Zinndioxid besteht. Sämtliche Schichten sind durch ein Kathodenzerstäubungsverfahren aufgebracht, das - für sich genommen - zum Stande der Technik gehört.
Beispiele 1 bis 4
In einer handelsüblichen Kathodenzerstäubungsanlage wurden nacheinander Targets aus reinem Zinn und Chrom zerstäubt, bis ein Schichtaufbau nach Fig. 1 (ohne die Schicht 3) vorlag. Als Substrate dienten Glasscheiben mit den Abmessungen 40 cm × 40 cm, die relativ zu den Targets bzw. zu den Kathoden bewegt wurden. Die Zerstäubung des Zinns fand in sauerstoffhaltiger Atmosphäre statt, so daß Zinndioxidschichten niedergeschlagen wurden. Das Chromtarget wurde in einer Atmosphäre Ar zu N₂ = 0,55 zerstäubt, so daß sich ein Schichtwiderstand von 0,12 kΩ einstellte. Die geometrische Dicke der Chromnitridschicht betrug 15 nm, so daß sich eine Transmission im sichtbaren Bereich und bei einer Meßlichtwellenlänge von 550 nm von 20% einstellte. Die aus Zinndioxid bestehende Interferenzschicht wurde hinsichtlich ihrer Dicke nach Maßgabe der nachfolgenden Tabelle variiert, wobei sich die dort angegebenen Farbcharakteristika nach Qualität und Quantität (letztere in sogenannten Cielab-Einheiten) ergaben.
Tabelle II
Die vorstehend genannten Cielab-Einheiten wurden mittels einer Meßmethode bestimmt, die sich in den letzten Jahren bei den Herstellern von Oberflächenschichten durchgesetzt hat. Es handelt sich um eine colorimetrische Meßmethode, bei der ein Meßlichtstrahl einer genormten Lichtquelle mit ganz bestimmten spektralen Eigenschaften auf das Meßobjekt gerichtet und der reflektierte Meßlichtanteil im optisch sichtbaren Wellenlängenbereich des Spektrums ausgewertet wird. Dabei kennzeichnet je nach Vorzeichen A* den Rotanteil bzw. Grünanteil und B* den Gelbanteil bzw. Blauanteil im reflektierten Meßlicht.
Die Grundlagen der Meßmethode sind beispielsweise bei R. M. German, M. M. Guzowsky und D. C. Wright in "Journal of Metals", März 1980, Seiten 20 ff., sowie von denselben Autoren in "Gold Bulletin", July 1980, Seiten 113 ff., beschrieben. Mehrere Hersteller von Seriengeräten für Farbmessungen sind in dem "Handbook of Optics" von Walter G. Driscol und W. Vaughan, MacGraw- Hill-Book Company, Ausgabe 1978, im Kapitel 9 angegeben. Geräte mit Auswertungen speziell nach Cielab-Einheiten werden von folgenden Firmen vertrieben:
MacBeth (Newburgh, N. Y./USA)
Hunterlab (Reston, Virginia/USA)
Instr. Colour Syst. (Newbury, Berkshire/GB)
Diano Corp (USA - Typ Match Scan DZM 1045).
Die Tabelle zeigt ganz deutlich die Veränderung der Farbcharakteristik von Silber über Bronze und Blau nach Grün, bei weitgehend konstanter Transmission zwischen 19 und 23%.
Beispiele 5 bis 8
Analog den Beispielen 1 bis 4 wurden insgesamt vier Substrate mit einem Bronze-Ton hergestellt, also mit einer Dicke der Zinndioxidschicht von 40 nm gemäß Beispiel 2. Allerdings wurde nunmehr die Dicke der Chromnitridschicht (Absorptionsschicht) variiert, wie aus der nachfolgenden Tabelle III hervorgeht. Diese Beispiele sind bezogen auf einen Flächenwiderstand von 0,110 kΩ bei 20% Transmission.
Tabelle III
Das Schichtsystem gemäß Beispiel Nr. 5 führt zu einer sehr "dunklen" Scheibe, die nur 15% des sichtbaren Lichts bei einer Meßlichtwellenlänge von 550 nm durchläßt. Das Schichtsystem gemäß Beispiel 8 hat die doppelte Durchlässigkeit, die Scheibe ist also entsprechend "heller".
Beispiele 9 bis 16
Das Schichtsystem gemäß Beispiel 2 mit einer Dicke der Chromnitridschicht gemäß Beispiel 7 wurde wiederholt, jedoch mit der Maßgabe, daß bei insgesamt acht weiteren Verfahrensbeispielen (Nr. 9 bis 16) die Zusammensetzung des Zerstäubungsgases Ar zu N₂ zwischen 0,20 und 0,90 variiert wurde. Dabei ergab sich eine Veränderung der Infrarotreflexion zwischen 10% und etwa 47%. Die Meßwerte sind in Fig. 2 grafisch dargestellt, und es ist zu erkennen, daß mit abnehmendem Stickstoffgehalt der Zerstäubungsatmosphäre die Infrarot­ reflexion bis zu einem Maximalwert bei etwa 47% deutlich ansteigt, um danach wieder abzufallen. Der Verlauf des Schichtwiderstandes in kΩ ist in Fig. 3 dargestellt.
Beispiele 17 und 18
Beispiel 3 wurde wiederholt, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle der Zinndioxidschicht mit der geometrischen Dicke von 100 nm je eine Titandioxidschicht der geometrischen Dicke von 87 nm und eine Aluminiumoxidschicht der geometrischen Dicke von 118 nm aufgestäubt wurde. Die optische Dicke betrug in allen Fällen etwa 200 nm, und die charakteristische Farbe in der Außenansicht war blau.

Claims (3)

1. Verfahren zum Herstellen von Scheiben mit einer Transmission zwischen 10 und 40%, vorzugsweise zwischen 15 und 30%, im sichtbaren Spektralbereich und mit Reflexionseigenschaften gegenüber Wärmestrahlung durch Beschichtung von transparenten Substraten durch Kathodenzerstäubung, wobei als erste Schicht unmittelbar auf das Substrat eine Oxidschicht in sauerstoffhaltiger Atmosphäre und darauf als zweite Schicht eine Chromnitridschicht aufgestäubt wird, dadurch gekennzeichnet, daß
  • a) die Oxidschicht eine dielektrische Schicht ist und nach Maßgabe der gewünschten Reflexionsfarbe in der Außenansicht durch Wahl einer optischen Dicke zwischen 20 und 280 nm eingestellt wird, wobei 20 nm der Farbe "Silber", 80 nm der Farbe "Bronze", 200 nm der Farbe "Blau" und 240 nm der Farbe "Grün" entsprechen, daß
  • b) unabhängig hiervon die Transmissionswerte der Scheibe durch Aufstäuben der Chromnitridschicht in einer Atmosphäre aus Edelgas und Stickstoff und durch Wahl der geometrischen Dicke der Chromnitridschicht zwischen 10 und 30 nm eingestellt werden, wobei 19 nm einer Transmission von 15% und 12 nm einer Transmission von 30% entsprechen, und daß
  • c) die Infrarot-Reflexionswerte der Scheibe durch Wahl der Gaszusammensetzung beim Aufstäuben der Chromnitridschicht eingestellt werden, wobei eine IR-Reflexion von 10% bei Ar: N₂ = 0,20 und eine IR-Reflexion von 45% bei Ar: N₂ = 0,60 erzielt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Chromnitridschicht noch eine dritte Schicht aus einem Dielektrikum aufgestäubt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die dritte Schicht aus einem Oxid aus der Gruppe der Oxide des Zinns, Titans und des Aluminiums ausgewählt werden.
DE3311815A 1983-03-31 1983-03-31 Verfahren zum Herstellen von Scheiben Expired - Fee Related DE3311815C3 (de)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3311815A DE3311815C3 (de) 1983-03-31 1983-03-31 Verfahren zum Herstellen von Scheiben
US06/592,907 US4534841A (en) 1983-03-31 1984-03-23 Solar controlled glazing and method of producing glazing
GB08407852A GB2138026B (en) 1983-03-31 1984-03-27 Solar controlled glazing
ES531139A ES531139A0 (es) 1983-03-31 1984-03-30 Procedimiento para fabricar lunas.
FR8405082A FR2543532B1 (fr) 1983-03-31 1984-03-30 Procede pour la fabrication de vitres pare-soleil a couleur neutre par transmission, couleur determinee par reflexion et proprietes determinees de reflexion de la chaleur, et vitres obtenues par ce procede
JP59061315A JPS6036355A (ja) 1983-03-31 1984-03-30 可視スペクトル帯域で5〜40%の透過率および熱線に対する反射能を有する板の製法
CA000451097A CA1212922A (en) 1983-03-31 1984-04-02 Solar controlled glazing
AU26334/84A AU566790B2 (en) 1983-03-31 1984-04-02 Glass coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3311815A DE3311815C3 (de) 1983-03-31 1983-03-31 Verfahren zum Herstellen von Scheiben

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE3311815A1 DE3311815A1 (de) 1984-10-04
DE3311815C2 DE3311815C2 (de) 1992-02-06
DE3311815C3 true DE3311815C3 (de) 1997-12-04

Family

ID=6195246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3311815A Expired - Fee Related DE3311815C3 (de) 1983-03-31 1983-03-31 Verfahren zum Herstellen von Scheiben

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4534841A (de)
JP (1) JPS6036355A (de)
AU (1) AU566790B2 (de)
CA (1) CA1212922A (de)
DE (1) DE3311815C3 (de)
ES (1) ES531139A0 (de)
FR (1) FR2543532B1 (de)
GB (1) GB2138026B (de)

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4964963A (en) * 1984-12-17 1990-10-23 Ppg Industries, Inc. Method of making architectural coating with interference colors
US4690871A (en) * 1986-03-10 1987-09-01 Gordon Roy G Protective overcoat of titanium nitride films
JPS63190742A (ja) * 1987-01-30 1988-08-08 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射ガラスの製法
US4769291A (en) * 1987-02-02 1988-09-06 The Boc Group, Inc. Transparent coatings by reactive sputtering
JPS63141901U (de) * 1987-03-09 1988-09-19
JPS63141902U (de) * 1987-03-09 1988-09-19
US4938857A (en) * 1987-03-26 1990-07-03 Ppg Industries, Inc. Method for making colored metal alloy/oxynitride coatings
US4920006A (en) * 1987-03-26 1990-04-24 Ppg Industries, Inc. Colored metal alloy/oxynitride coatings
US4861669A (en) * 1987-03-26 1989-08-29 Ppg Industries, Inc. Sputtered titanium oxynitride films
US4900633A (en) * 1987-03-26 1990-02-13 Ppg Industries, Inc. High performance multilayer coatings
JPS63242948A (ja) * 1987-03-31 1988-10-07 Asahi Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
JPS63265846A (ja) * 1987-04-22 1988-11-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 曲げ熱線反射ガラス及びその製造方法
GB8717959D0 (en) * 1987-07-29 1987-09-03 Pilkington Brothers Plc Coated glass
US5096776A (en) * 1987-11-25 1992-03-17 Ppg Industries, Inc. Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing
US4990408A (en) * 1987-11-25 1991-02-05 Ppg Industries, Inc. Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing
JPH0764598B2 (ja) * 1987-12-01 1995-07-12 旭硝子株式会社 赤外線遮断ガラス
DE3806124A1 (de) * 1988-02-26 1989-09-07 Leybold Ag Verfahren zum herstellen von scheiben aus mineralglas mit hohem transmissionsverhalten im sichtbaren spektralbereich und mit niedriger sonnenenergietransmission sowie durch das verfahren hergestellte scheiben
US4931158A (en) * 1988-03-22 1990-06-05 The Regents Of The Univ. Of Calif. Deposition of films onto large area substrates using modified reactive magnetron sputtering
JPH0214851A (ja) * 1988-06-30 1990-01-18 Nippon Sheet Glass Co Ltd 多色系熱線遮へい板の製造方法
US5112693A (en) * 1988-10-03 1992-05-12 Ppg Industries, Inc. Low reflectance, highly saturated colored coating for monolithic glazing
JPH0764599B2 (ja) * 1988-12-20 1995-07-12 旭硝子株式会社 耐久性の優れた熱線反射性を有する光学体
US5087525A (en) * 1989-02-21 1992-02-11 Libbey-Owens-Ford Co. Coated glass articles
JPH02225346A (ja) * 1989-02-27 1990-09-07 Central Glass Co Ltd 熱線反射ガラス
US5047131A (en) * 1989-11-08 1991-09-10 The Boc Group, Inc. Method for coating substrates with silicon based compounds
EP0429905B1 (de) * 1989-11-30 1995-06-14 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Verringerung der Reflektivität von Sputter-Schichten
DE3942990A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Leybold Ag Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
DE3941797A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Leybold Ag Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags
CA2081912A1 (en) * 1990-05-01 1991-11-02 Chong T. Wan Vacuum deposited dark coating on a substrate
DE4018399A1 (de) * 1990-06-08 1991-12-19 Leybold Ag Verfahren zur beschichtung eines substrats, insbesondere einer glasscheibe, um eine opakwirkung zu erzielen und durch das verfahren beschichtete substrate
US5183700A (en) * 1990-08-10 1993-02-02 Viratec Thin Films, Inc. Solar control properties in low emissivity coatings
US5407733A (en) * 1990-08-10 1995-04-18 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
US5091244A (en) * 1990-08-10 1992-02-25 Viratec Thin Films, Inc. Electrically-conductive, light-attenuating antireflection coating
DE4033881A1 (de) * 1990-10-25 1992-04-30 Leybold Ag Verfahren zur herstellung von scheiben mit einer vorgegebenen transmission
GB2252333B (en) * 1991-01-29 1995-07-19 Spectra Physics Scanning Syst Improved scanner window
KR920020223A (ko) * 1991-04-04 1992-11-20 세야 히로미찌 무진주광택 투명체
FR2676048B1 (fr) * 1991-04-30 1993-10-08 Saint Gobain Vitrage Internal Substrat en verre revetu de multicouches minces metalliques pour la protection solaire.
EP0678483B1 (de) * 1991-04-30 1998-12-23 Saint-Gobain Vitrage Glassubstrat mit einer dünnen Mehrschichtbekleidung für Sonnenschutz
FR2676046B1 (fr) * 1991-04-30 1993-08-06 Saint Gobain Vitrage Int Substrat en verre revetu de multicouches minces pour la protection solaire.
FR2676047B1 (fr) * 1991-04-30 1993-10-08 Saint Gobain Vitrage Internal Substrat en verre revetu de multicouches minces metalliques pour la protection solaire.
FR2679578A1 (fr) * 1991-07-25 1993-01-29 Saint Gobain Vitrage Interna Plaque de parement pour panneau de facade et panneau realise avec cette plaque.
US5705278A (en) * 1991-09-30 1998-01-06 Ppg Industries, Inc. Heat processable metallic vacuum coatings
DE4135701C2 (de) * 1991-10-30 1995-09-28 Leybold Ag Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung
US5709938A (en) 1991-11-29 1998-01-20 Ppg Industries, Inc. Cathode targets of silicon and transition metal
US6793781B2 (en) 1991-11-29 2004-09-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Cathode targets of silicon and transition metal
US5344718A (en) * 1992-04-30 1994-09-06 Guardian Industries Corp. High performance, durable, low-E glass
JP3211986B2 (ja) * 1992-08-13 2001-09-25 セントラル硝子株式会社 グレー色電波透過型熱線遮蔽ガラス
AU680786B2 (en) * 1995-06-07 1997-08-07 Guardian Industries Corporation Heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same
US5770321A (en) * 1995-11-02 1998-06-23 Guardian Industries Corp. Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom
MX9605168A (es) * 1995-11-02 1997-08-30 Guardian Industries Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos.
DE19745881B4 (de) * 1997-10-17 2004-07-22 Applied Films Gmbh & Co. Kg Wärmeschutz-Schichtsystem
US6007901A (en) * 1997-12-04 1999-12-28 Cpfilms, Inc. Heat reflecting fenestration products with color corrective and corrosion protective layers
US20030049464A1 (en) * 2001-09-04 2003-03-13 Afg Industries, Inc. Double silver low-emissivity and solar control coatings
KR100402604B1 (ko) * 2001-09-07 2003-10-17 주식회사 엘지이아이 냉장고 도어의 외장재
US7063893B2 (en) * 2002-04-29 2006-06-20 Cardinal Cg Company Low-emissivity coating having low solar reflectance
US7122252B2 (en) * 2002-05-16 2006-10-17 Cardinal Cg Company High shading performance coatings
US7588829B2 (en) * 2002-05-31 2009-09-15 Ppg Industries Ohio, Inc. Article having an aesthetic coating
CA2493803C (en) * 2002-07-31 2011-09-27 Cardinal Cg Compagny Temperable high shading performance coatings
DE10252543A1 (de) * 2002-11-08 2004-05-27 Applied Films Gmbh & Co. Kg Beschichtung für ein Kunststoffsubstrat
RU2431621C2 (ru) * 2004-12-21 2011-10-20 Агк Гласс Юроп Лист стекла, несущий многослойное покрытие
CN100410198C (zh) * 2006-02-08 2008-08-13 中国科学院广州能源研究所 无光污染的二层膜结构镀膜玻璃
DE102008032415B4 (de) * 2008-07-10 2010-06-17 Walter Pragst Glasklares Cabrio-Hardtop
US8731699B2 (en) * 2009-09-29 2014-05-20 Hp3 Software, Inc. Dynamic, lean insulated glass unit assembly line scheduler
BE1019641A3 (fr) * 2010-03-10 2012-09-04 Agc Glass Europe Vitrage a reflexion elevee.
CN102603209A (zh) * 2011-01-25 2012-07-25 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 镀膜玻璃及其制备方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE878585C (de) * 1951-03-02 1953-06-05 Heraeus Gmbh W C Verfahren zur Herstellung duenner Schichten von Verbindungen durch Kathodenzerstaeubung
US3414429A (en) * 1965-12-07 1968-12-03 Owens Illinois Inc Method of rendering glass surfaces abrasion-resistant and article produced
LU52765A1 (de) * 1967-01-06 1968-08-06
BR7102060D0 (pt) * 1970-04-17 1973-04-05 Wilkinson Sword Ltd Lamina de barbear e processo para a fabricacao da mesma
US3679291A (en) * 1970-04-21 1972-07-25 Optical Coating Laboratory Inc Filter with neutral transmitting multilayer coating having asymmetric reflectance
GB1354726A (en) * 1970-07-29 1974-06-05 Nippon Sheet Glass Co Ltd Glass articles coated to reduce solar radiation transmission
US3907660A (en) * 1970-07-31 1975-09-23 Ppg Industries Inc Apparatus for coating glass
US3934961A (en) * 1970-10-29 1976-01-27 Canon Kabushiki Kaisha Three layer anti-reflection film
GB1342072A (en) * 1971-04-19 1973-12-25 Wilkinson Sword Ltd Razor blades
BE787599A (fr) * 1971-08-16 1973-02-16 Battelle Memorial Institute Vitrage filtrant antisolaire et isolant thermique
US3846152A (en) * 1972-05-12 1974-11-05 Ppg Industries Inc Selective reflecting metal/metal oxide coatings
CH558763A (de) * 1972-08-10 1975-02-14 Battelle Memorial Institute Vitrage filtrant antisolaire et isolant thermique.
US3897325A (en) * 1972-10-20 1975-07-29 Nippon Electric Varian Ltd Low temperature sputtering device
US3904506A (en) * 1972-11-13 1975-09-09 Shatterproof Glass Corp Apparatus for continuous production of sputter-coated glass products
DE2334152B2 (de) * 1973-07-05 1975-05-15 Flachglas Ag Delog-Detag, 8510 Fuerth Wärmereflektierende, 20 bis 60% des sichtbaren Lichtes durchlassende Fensterscheibe mit verbesserter Farbneutralltät In der Ansicht und ihre Verwendung
CH595458A5 (de) * 1975-03-07 1978-02-15 Balzers Patent Beteilig Ag
US4048039A (en) * 1975-03-07 1977-09-13 Balzers Patent Und Beteiligungs-Ag Method of producing a light transmitting absorbing coating on substrates
JPS51112824A (en) * 1975-03-29 1976-10-05 Central Glass Co Ltd Glass which reflects heat rays and method of producing it
NL7509341A (nl) * 1975-08-06 1977-02-08 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van elektrisch geleidende indiumoxide patronen op een isole- rende drager.
JPS5226237A (en) * 1975-08-25 1977-02-26 Ulvac Corp Process for treating the surface of a lens made of synthesized plastics
US4022947A (en) * 1975-11-06 1977-05-10 Airco, Inc. Transparent panel having high reflectivity for solar radiation and a method for preparing same
US4093349A (en) * 1976-10-27 1978-06-06 Northrop Corporation High reflectivity laser mirrors
DE2658418A1 (de) * 1976-12-23 1978-06-29 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur herstellung von antireflexschichten auf acrylglaesern, nach dem verfahren hergestellter optischer koerper und verwendung des optischen koerpers
US4190321A (en) * 1977-02-18 1980-02-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Microstructured transmission and reflectance modifying coating
US4187336A (en) * 1977-04-04 1980-02-05 Gordon Roy G Non-iridescent glass structures
DE2750500A1 (de) * 1977-11-11 1979-05-17 Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg Verfahren zur herstellung von infrarotreflektierenden, fuer sichtbares licht weitgehend transparenten scheiben und durch die verfahren hergestellte scheibe
US4248687A (en) * 1979-07-23 1981-02-03 Massachusetts Institute Of Technology Method of forming transparent heat mirrors on polymeric substrates
FR2439167A1 (fr) * 1978-10-20 1980-05-16 Gordon Roy Gerald Verres couches non irises
US4279726A (en) * 1980-06-23 1981-07-21 Gte Laboratories Incorporated Process for making electroluminescent films and devices
DE3027256A1 (de) * 1980-07-18 1982-02-18 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Mehrschichtsystem fuer waermeschutzanwendungen und verfahren zu seiner herstellung
DE3130857C2 (de) * 1981-08-04 1984-09-20 Interpane Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG, 3471 Lauenförde Wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material, Verfahren zu dessen Herstellung und seine Verwendung
DE3201783A1 (de) * 1982-01-21 1983-09-08 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Verfahren zum herstellen von in der draufsicht und durchsicht weitgehend farbneutralen, einen hohen infrarotanteil der strahlung reflektierenden scheiben durch katodenzerstaeubung von targets sowie durch das verfahren hergestellte glasscheiben

Also Published As

Publication number Publication date
FR2543532B1 (fr) 1986-11-21
GB8407852D0 (en) 1984-05-02
DE3311815A1 (de) 1984-10-04
AU2633484A (en) 1984-10-04
CA1212922A (en) 1986-10-21
JPS6036355A (ja) 1985-02-25
ES8504502A1 (es) 1985-04-16
AU566790B2 (en) 1987-10-29
GB2138026B (en) 1986-04-30
JPH0459258B2 (de) 1992-09-21
FR2543532A1 (fr) 1984-10-05
ES531139A0 (es) 1985-04-16
GB2138026A (en) 1984-10-17
US4534841A (en) 1985-08-13
DE3311815C2 (de) 1992-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3311815C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Scheiben
DE69404006T2 (de) Transparente Substrate mit einem Dünnschichtstapel, Verwendung in Verglasungen für thermische Isolation und/oder Sonnenschutz
DE69228007T2 (de) Glassubstrat mit einer dünnen Mehrschichtbekleidung für Sonnenschutz
EP0224704B1 (de) Verfahren zum Herstellung einer vorgespannten und/oder gebogenen Glasscheibe mit reduzierter Transmission
DE69220901T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases
DE19541937C1 (de) Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission
EP0671641B1 (de) Mehrlagige Beschichtung
DE69404690T2 (de) Glassubstrate beschichtet mit einer Häufung von dünnen Schichten, Anwendung für Glasscheiben mit Infrarot reflectierenden Eigenschaften und/oder mit sonnenstrahlungseigenschaften
DE3850095T3 (de) Verfahren zur Herstellung eines transparenten mehrschichtigen Gegenstands
DE69411107T2 (de) Transparentes Substrat mit einer Folge von dünnen Schichten mit Wirkung auf Sonnen- und/oder Infrarotstrahlung
DE4135701C2 (de) Scheibe mit hohem Transmissionsverhalten im sichtbaren Spektralbereich und mit hohem Reflexionsverhalten für Wärmestrahlung
DE60131776T2 (de) Verglasung mit dünnschichtstapel, mit eigenschaften für den sonnenschutz und/oder zur wärmeisolierung
DE3941859C1 (de)
DE69905010T2 (de) Mit einem schichtstapel niedriger emissivität versehene verglasung
DE68913068T2 (de) Neutrale kathodenzerstäubte Metallegierungsoxidfilme.
DE69125644T2 (de) Interferenz-Filter
DE69018170T2 (de) Mit Keramik überzogenes Metallblech.
DE69809680T2 (de) Durch Zerstäubung hergestellte Glasschichtsysteme mit einer hohen Lichttransmission und einer niedrigen Emissivität und damit zusammengestellte wärmedämmende Mehrfachverglasung
DE10152412A1 (de) Filmschicht mit bestimmten optischen und elektrischen Eigenschaften
DE19712527A1 (de) Beschichtetes Substrat für eine transparente Anordnung mit hoher Selektivität
DE10058700A1 (de) Glasscheibe mit einem metallisch reflektierenden Schichtsystem
DE19616841B4 (de) Beschichtete Scheibe aus glasartigem Material mit hoher Lichtdurchlässigkeit, geringem Solarfaktor und neutralem Aussehen bei Reflexion und Verwendung derselben in einer Mehrfachverglasungseinheit
DE10152410A1 (de) Filmschicht mit bestimmten optischen und elektrischen Eigenschaften
EP1291331A2 (de) Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie
WO2005051855A2 (de) Wärmebehandelbares sonnen- und wärmeschutzschichtsystem und verfahren zu dessen herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: LEYBOLD AG, 6450 HANAU, DE

8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450

8366 Restricted maintained after opposition proceedings
8305 Restricted maintenance of patent after opposition
D4 Patent maintained restricted
8339 Ceased/non-payment of the annual fee