DE3942990A1

DE3942990A1 - Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden schichtsystem, fuer substrate, wobei das schichtsystem insbesondere eine hohe antireflexwirkung aufweist, und verfahren zur herstellung des belags

Info

Publication number: DE3942990A1
Application number: DE3942990A
Authority: DE
Inventors: Joachim Dr Szczyrbowski; Klaus Dr Hartig; Albert Kastner; Stephan Roegels; Torsten Dr Halden
Original assignee: Leybold AG
Current assignee: Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date: 1989-12-19
Filing date: 1989-12-27
Publication date: 1991-06-20

Description

Die Erfindung betrifft einen Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist.

Es gibt eine breite Palette von Schichtsystemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten, beziehungsweise Antireflexschichtsysteme.

Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Absorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt geworden.

In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet, sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.

In der US-Patentschrift Nr. 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll für ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.

Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift 37 61 160. Dort werden eine Breitbandantireflexionsbeschichtung und Substrate, die damit beschichtet sind, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.

Weiterhin wird in der US-Patentschrift 38 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.

Weiterhin gehört zum Stand der Technik die US-Patentschrift 38 29 197, die einen Antireflexionsbelag, der als Mehrschichtsystem ausgebildet ist, beschreibt. Dieser Belag soll auf einem stark brechenden Substrat angebracht werden. Das Schichtsystem besteht aus fünf einzelnen Schichten, die gegenseitig angepaßt sind, und zwar in Hinsicht auf ihren Brechungsindex und in Hinsicht auf ihre optische Dicke. Durch diese Anpassung soll eine günstige Antireflexionskurve mit einem breiten, flachen, mittleren Teil erreicht werden. Weitere Einzelheiten dieses Vorschlags sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.

Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift 2 23 344. Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechungszahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechungszahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.

Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:

Es sollen Voraussetzungen für die wirtschaftliche Herstellung von Antireflexbeschichtungen für transparente Substrate geschaffen werden.

Transparente Substrate werden in einer Vielzahl moderner Einrichtungen und Geräte benötigt. Die Hersteller dieser Einrichtungen und Geräte stellen hohe Anforderungen in Hinsicht auf die optischen und sonstigen Eigenschaften dieser Substrate.

Die Erfindung soll diese hohen Anforderungen insbesondere in Hinsicht auf die Entspiegelung, die Kontrasterhöhung und die Erhöhung der Antistatikwirkung erfüllen.

Weiterhin sollen Voraussetzungen dafür geschaffen werden, daß eine nur geringe Anzahl von Schichten benötigt wird. Gleichzeitig sollen die Dicken der Einzelschichten klein sein. Die Erfindung macht sich weiterhin zur Aufgabe, Voraussetzungen für den Einsatz preisgünstigerer Materialien zu schaffen.

Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.

Die geringe Zahl der Schichten des Schichtsystems, die geringe Dicke der Einzelschichten des Schichtsystems, die Auswahl preisgünstiger Einsatzmaterialien und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung der erfindungsgemäßen Antireflexschichtsysteme.

An sich ist die Benutzung von Metallschichten für Antireflexsysteme im Prinzip bekannt. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß die bekannten Metallschichten für den Alltagsbetrieb zu weich sind.

Es gehört daher mit zu der Aufgabenstellung der vorliegenden Erfindung, einen Ersatz für die bekannten weichen Metallschichten (Ag, Ni, ..) zu finden. Dieser Ersatz soll hart und kratzfest sein. Er soll einerseits eine keramische Härte aufweisen, andererseits jedoch auch die Wirkung einer metallähnlichen Optik besitzen.

Die gestellten Aufgaben werden erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht angeordnet ist, darauffolgend eine zweite Nitrid, vorzugsweise TiNx, aufweisende Schicht angeordnet ist, darauffolgend eine dritte ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht angeordnet ist.

Dabei kann vorgesehen werden, daß die erste Schicht Oxide aus der Gruppe: SnO₂, ZrO₂, ZnO, Ta₂O_5, NiCr-Oxid, TiO₂, Sb₂O₃, In₂O₃ oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.

Weiterhin wird vorgeschlagen, daß die zweite Schicht Nitride aus der Gruppe TiN, ZrN umfaßt.

Es hat sich als vorteilhaft herausgestellt, daß die dritte Schicht niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.

In diesem Zusammenhang wird vorgeschlagen, daß die dritte Schicht Oxide aus der Gruppe SiO₂, Al₂O₃, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO oder Oxifluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.

Alternativ kann vorgesehen werden, daß die dritte Schicht MgF₂ umfaßt.

In einer besonderen Gruppe von Ausführungsbeispielen wird vorgeschlagen, daß zwischen der ersten und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (Haftvermittler) angeordnet ist.

Bei einem Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß der Haftvermittler Ni oder NiO_x mit x kleiner als 1 aufweist.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel ist vorgesehen, daß der Haftvermittler Cr oder Cr-Suboxid aufweist.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel besteht darin, daß der Haftvermittler eine NiCr Legierung, vorzugsweise NiCr mit 80 Gewichtsprozent Ni und 20 Gewichtsprozent Cr als Metall oder Metallsuboxid (NiCrO_x mit x kleiner als 1) aufweist.

Beim Aufbau des Schichtsystems kann vorgesehen, daß die erste Schicht NiCr-Suboxid aufweist und Haftvermittlereigenschaft hat.

Zur weiteren Konkretisierung des erfindungsgemäßen Grundgedankens werden nachfolgend fünf verschiedene Schichtsysteme in ihrer grundsätzlichen materialmäßigen Zusammensetzung vorgeschlagen:

Das Substrat bei diesen Schichtsystemen besteht insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas.

Beim ersten Schichtsystem wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht TiN_x mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende dritte Schicht Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_xSchicht mit x größer als 1 aufgebracht ist.

Beim zweiten Schichtsystem wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht Al₂O₃ aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Suboxide aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_x Schicht aufgebracht ist.

Beim dritten Schichtsystem wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht SiO₂ aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Suboxid aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_x-Schicht aufgebracht ist.

Beim vierten Schichtsystem wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht NiCr-Suboxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_x-Schicht aufgebracht ist.

Beim fünften Schichtsystem wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht NiCr-Suboxide aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht SiO₂ aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_x-Schicht aufgebracht ist.

Hinsichtlich der Schichtdicken des Schichtsystems wird vorgeschlagen, daß die erste Schicht eine Dicke von 80 Angström +/- 20% aufweist, daß die zweite Schicht eine Dicke von 130 Angström +/- 20% aufweist, daß die dritte Schicht eine optische Dicke von 5550/4 Angström +/- 10% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.

Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die erste Schicht SnO₂ aufweist und eine Dicke von 95 Angström besitzt, daß die zweite Schicht TiN_x aufweist und eine Dicke von 135 Angström besitzt, daß die dritte Schicht Al₂O₃ aufweist und eine Dicke von 710 Angström besitzt.

Ganz überraschend hat sich herausgestellt, daß eine sehr hohe Antireflexwirkung alleine schon dadurch erreicht wird, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) eine Rückseitenschicht, die TiN_x, aufweist, angeordnet ist.

In der Praxis haben sich die im folgenden beschriebenen beiden Ausführungsbeispiele besonders bewährt:

Beim ersten Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die Rückseitenschicht TiN_x aufweist und eine Dicke von 70 Angström besitzt, daß das Substrat aus Glas besteht, eine Dicke von 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht SnO₂ aufweist, eine Dicke von 90 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=2,05 aufweist, daß die zweite Schicht TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die dritte Schicht Al₂O₃ aufweist, eine Dicke von 730 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.

Beim zweiten Ausführungsbeispiel wird vorgeschlagen, daß die Rückseitenschicht TiN_x aufweist, daß das Substrat aus Glas besteht, eine Dicke von 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht NiCr-Oxid aufweist, eine Dicke von 70 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=2,1 aufweist, daß die zweite Schicht TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die dritte Schicht SiO₂ aufweist, eine Dicke von 790 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.

Es folgt die Beschreibung einer Gruppe von Lösungsvor schlägen mit nur zwei Schichten auf der Vorderseite des Substrats ("Zweischichtsystem").

In der Praxis hat sich herausgestellt, daß durchaus befriedigende Ergebnisse bereits bei einem Schichtsystem, das nur aus zwei Schichten besteht, erzielt werden.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung wird daher im nachfolgenden eine Gruppe von Lösungsvorschlägen für die gestellten Aufgaben beschrieben, bei denen ein Schichtsystem, bestehend aus zwei Schichten, vorhanden ist.

Es wird dabei vorgesehen, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, Nitrid, vorzugsweise TiN_x, aufweisende Schicht angeordnet ist, darauffolgend eine zweite ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht angeordnet ist.

Für die erste Schicht wird vorgeschlagen, daß sie Nitride aus der Gruppe TiN, ZrN umfaßt.

Für die zweite Schicht werden niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.

Dabei kann vorgesehen werden, daß die zweite Schicht Oxide aus der Gruppe SiO₂, Al₂O₃, AlSi-Oxid, NiSiOxid, MgO oder Oxifluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.

In einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die zweite Schicht MgF₂ umfassen.

Es wird in weiterer Ausgestaltung der Erfindung vorgeschlagen, daß die erste Schicht TiN_x mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende zweite Schicht Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite des Substrats eine TiN_x-Schicht mit x größer als oder gleich 1 aufgebracht ist.

Außerdem kann vorgesehen werden, daß die erste Schicht eine Dicke von 130 Angström +/- 20% aufweist, daß die zweite Schicht eine optische Dicke von 5550/4 Angström +/- 10% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.

Eine weitere Variante der Ausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß die erste Schicht TiN_x aufweist und eine Dicke von 135 Angström besitzt, daß die zweite Schicht Al₂O₃ aufweist und eine Dicke von 710 Angström besitzt.

Weiterhin kann vorgesehen werden, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) eine Rückseitenschicht, die TiN_x, aufweist, angeordnet ist.

Als besonders vorteilhaft hat sich herausgestellt, daß die Rückseitenschicht TiN_x aufweist und eine Dicke von 70 Angström besitzt, daß das Substrat aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die zweite Schicht Al₂O₃ aufweist, eine Dicke von 730 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.

Eine besondere Ausbildung besteht darin, daß die Rückseitenschicht TiN_x aufweist, daß das Substrat aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die zweite Schicht SiO₂ aufweist, eine Dicke von 790 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.

Soweit Daten zum "Zweischichtsystem".

Besonders wirtschaftliche Herstellungsverfahren für sämtliche bisher beschriebenen Schichtsysteme werden dadurch erzielt, daß Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron zur Beschichtung eingesetzt werden:

Für den Einsatz des DC-reaktiven Sputterns vom Target werden bei der Beschichtung von insbesondere 2 mm dickem Floatglas folgende Verfahrensparameter vorgeschlagen:
Ein Verfahrensdruck von cirka 5×10^-3 mbar.

Für das reaktive Sputtern vom Sn-Target zur Erzielung einer SnO₂-Schicht ein Sputtergasgemisch, bestehend aus Ar und O₂.

Für das reaktive Sputtern vom Si-Target zur Erzielung einer SiO₂-Schicht ein Sputtergasgemisch, bestehend aus Ar und O₂.

Für das reaktive Sputtern vom Al-Target zur Erzielung einer Al₂O₃-Schicht ein Sputtergasgemisch, bestehend aus Ar und O₂.

Für das reaktive Sputtern vom Ti-Target zur Erzielung einer TiN-Schicht ein Sputtergasgemisch, bestehend aus Ar und N₂.

Für das reaktive Sputtern vom NiCr-Target (vorzugsweise 80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr) zur Erzielung einer NiCr-Schicht ein Sputtergasgemisch, bestehend aus Ar und O₂.

Die erfindungsgemäßen Schichtsysteme können auch durch ein anderes Verfahren zur Herstellung dünner Schichten erzeugt werden.

So wird vorgeschlagen, ein Aufdampfverfahren, ein CVD- Verfahren, ein Plasmagestütztes CVD-Verfahren, ein Pyrolyse-Verfahren und andere bekannte Verfahren einzusetzen.

Zur Erzielung einer guten Antistatikwirkung wird vorgeschlagen, daß die dem Betrachter zugewandte Vorderseite des Schichtsystems einen Flächenwiderstand von 100 bis 400 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 150 Ohm pro Quadrat, aufweist.

Weiterhin wird vorgeschlagen, daß die vom Betrachter abgewandte Rückseite des Schichtsystems eine Dicke im Bereich von 40 bis 200 Angström besitzt und einen Flächenwiderstand von 150 bis 500 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 460 Ohm pro Quadrat, aufweist.

Mit der Erfindung werden folgende Vorteile erzielt.

Die eingangs beschriebenen Aufgaben werden gelöst.

Es wird eine hohe Entspiegelung erreicht, ebenso eine markante Kontrasterhöhung. Durch Reduzierung bzw. Verhinderung elektrostatischer Aufladung wird die Antistatikwirkung verbessert. Die Antireflexionswirkung wird insbesondere dadurch erhöht, daß die von der Rückseite des Substrats reflektierende Schicht durch Absorption im Schichtsystem der Vorderseite abgeschwächt wird. Damit wird eine Gesamtentspiegelung erzielt, die über dem liegt, was vergleichbare Systeme des Standes der Technik erzielen.

Die Gesamtdicke des Belags ist, verglichen mit den Systemen des Standes der Technik, sehr klein.

Die weiche Metallschicht, wie sie bei Metalloptiken des Standes der Technik als Antireflexschichten bekannt sind, werden durch die erfindungsgemäße harte kratzfeste TiN-Schicht ersetzt. Diese Schicht hat einerseits keramische Härte und andererseits eine metallähnliche optische Wirkung.

Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung zu entnehmen.

Diese Ausführungsbeispiele werden anhand von fünf Figuren erläutert.

Die Fig. 1, 2 und 5 zeigen je ein Schichtsystem.

Die Fig. 3 und 4 zeigen Transmissions- beziehungsweise Reflexions-Kurven in Prozent über Wellenlängen in nm.

Nachfolgend werden zunächst fünf Ausführungsbeispiele beschrieben:

Das Substrat 1 besteht aus Glas. Die Vorderseite 2 des Substrats ist die Seite des Substrats, die dem Betrachter zugewandt ist. Die Rückseite 9 des Substrats ist die Seite, die vom Betrachter abgewandt ist.

Die an der Vorderseite des Substrats anliegende Schicht wird als die "erste" Schicht 4 bezeichnet. Es folgen in Richtung zum Betrachter die "zweite" Schicht 5 und die "dritte" Schicht 6.

Das Schichtsystem des ersten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)

- auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiN_x-Schicht 8 angebracht,
- in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
- die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO₂,
- die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter der ersten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiN_x,
- die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al₂O₃.

Das Schichtsystem des zweiten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)

- auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiN_x-Schicht 8 angebracht,
- in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas,
- die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO₂,
- es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCrO_x,
- die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiN_x,
- die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al₂O₃.

Das Schichtsystem des dritten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)

- auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiN_x-Schicht 8 angebracht,
- in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
- die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO₂,
- es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCr-Suboxid,
- die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiN_x,
- die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO₂.

Das Schichtsystem des vierten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)

- auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiN_x-Schicht 8 angebracht,
- in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,
- die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrO_x; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
- die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiN_x,
- die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO₂.

Das Schichtsystem des fünften Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)

- auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiN_x-Schicht 8 angebracht,
- in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas 1,
- die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrO_x; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,
- die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiN_x,
- die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al₂O₃.

Als Substrat können außer Mineralglas, Floatglas auch Plexiglas, durchsichtige Kunststoffschichten, Folien usw. eingesetzt werden.

Neben der Vorderseitenentspiegelung durch die beschriebenen, vor der Vorderseite angeordneten, Schichtsystemen wird eine weitere überraschend niedrige Gesamtreflexion durch die auf der Rückseite angeordnete TiN_x-Schicht erzielt.

Der Grundgedanke der Erfindung läßt eine Vielzahl von Ausführungsbeispielen, bzw. Schichtsystemen, zu, die durch die nachfolgend genannten Materialien und Schichtdicken charakterisiert sind.

"Erste" Schicht (Bezugsziffer 4), ein Dielektrikum:
Metalloxid (SnO₂, ZrO₂, ZnO, Ta₂O₅, NiCrO_x, TiO₂, Sb₂O₃, In₂O₃),
Schichtdicke: 80 Angström +/- 20%,

"Zweite" Schicht (Bezugsziffer 5) Nitrid (TiN, ZrN)
Schichtdicke: 130 Angström +/- 20%,

"Dritte" Schicht (Bezugsziffer 6) Dielektrikum:
niederbrechende Materialien, n kleiner als 1,7, (SiO₂, Al₂O₃, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO, MgF₂)
Optische Dicke: 5550/4 Angström +/- 10%,

"Haftvermittler-Schicht" (Bezugsziffer 7): Ni, Cr, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr)
Schichtdicke: 10 Angström +/- 10%,

Auf der Rückseite 9 des Substrats ist die "Rückseiten- Schicht" (Bezugsziffer 8), bestehend aus TiN_x, angeordnet,
Schichtdicke: 40-150 Angström.

Es ist selbstverständlich, daß solche Werte für die jeweilige Schichtdicke innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.

Es folgt die Beschreibung zweier Beispiele von Schichtsystemen, bei denen die Reflexion und die Transmission im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden.

Die Meßergebnisse sind grafisch anhand von Kurven in den Fig. 3 und 4 dargestellt.

Bei der Beschreibung der Schichtsysteme werden die Bezugsziffern der Beschreibung der Fig. 1 benutzt.

Das Schichtsystem des ersten Beispiels ist wie folgt aufgebaut:

Substrat: Glas (1), Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n=1,52

Schicht (4) Material: SnO₂, Dicke 90 Angström Brechungskoeffizient n=2,05

Schicht (5) Material: TiN_x, Dicke 130 Angström

Schicht (6) Material: Al₂O₃, Dicke 730 Angström Brechungskoeffizient n=1,6

Schicht (8) Material: TiN_x, Dicke 70 Angström.

Der in Fig. 2 mit 7 bezeichnete Haftvermittler ist in diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.

Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.

Nachfolgend werden die Meßergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:

Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 3 grafisch dargestellt. Auf der Abzisse 10 des Koordinatensystems in Fig. 3 sind die Wellenlängen in nm eingetragen. Auf der linken Ordinate 11 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Reflexion eingetragen. Auf der rechten Ordinate 12 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Transmission eingetragen.

Aus den Kurven ist deutlich erkennbar, daß die Reflexionskurve 14 im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts außerordentlich niedrig ist. Sie liegt weit unter 1%. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in überraschend deutlicher Weise erzielt worden. Im gleichen Kernwellenlängenbereich hat die Transmissionskurve 13 relativ hohe Werte.

Das Schichtsystem des zweiten Beispiels ist wie folgt gekennzeichnet:

Substrat: Glas, Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n=1,52

Schicht (4) Material: NiCr-Oxid, Dicke 70 Angström Brechungskoeffizient n=2,1

Schicht (5) Material: TiN_x, Dicke 130 Angström

Schicht (6) Material: SiO₂, Dicke 790 Angström
Brechungskoeffizient n=1,5

Schicht (8) Material: TiN_x, Dicke 70 Angström

Ein gesonderter Haftvermittler, siehe Bezugsziffer 7, ist bei diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.

Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 499 nm bis 700 nm.

Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 4 grafisch dargestellt. Die Abzisse und die Ordinaten tragen die im Zusammenhang mit Fig. 3 beschriebenen Maßeinheiten.

Aus der Reflexionskurve 16 ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Bereich von ca. 560 nm Wellenlänge einen ausgesprochenen Tiefpunkt hat. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung auch durch dieses Beispiel in überzeugender Weise erzielt worden. Die Transmissionskurve 15 hat im Kernbereich des sichtbaren Lichts ihr Maximum.

Zu der Transmissionskurve 13 (Fig. 3) und zu der Transmissionskurve 15 (Fig. 4) ist grundsätzlich folgendes zu sagen:

Geringe Transmissionswerte einer Vorsatzscheibe können auf einfache Weise durch Verstärkung der Lichtquelle, z. B. durch Aufdrehen des Potentiometers bei einem LCD, kompensiert werden.

Die Schichtsysteme, mit denen die oben kommentierten Transmissions- und Reflexionswerte erzielt wurden, sind nach dem im folgenden beschriebenen Verfahren hergestellt worden:

Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasatmosphäre.

Nachfolgend wird in der linken Spalte das Sputtermaterial und in der rechten Spalte das reaktive Sputtergemisch angegeben:

SnO₂
Ar+O₂
SiO₂	Ar+O₂
Al₂O₃	Ar+O₂
TiN	Ar+N₂
NiCr	Ar+O₂

Druck während des Sputtervorgangs: ca. 5×10^-3 mb.

Targetmaterial: Sn, Si, Ti, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr), Al.

Auf der Vorderseite der Schichtsysteme wurde ein Flächenwiderstand von 150 Ohm pro Quadrat gemessen, auf der Rückseite wurde ein Flächenwiderstand von 240 Ohm pro Quadrat gemessen. Dies sind relativ geringe Flächenwiderstände.

Durch Erdung der Flächen kann daher die statische Aufladung reduziert oder sogar aufgehoben werden. Damit wird der gewünschte Antistatikeffekt erreicht.

Fig. 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel für das weiter oben in der Beschreibungseinleitung besprochene System, bestehend aus zwei Schichten, auf der Vorderseite 2 des Substrats 1. Die "erste" am Substrat anliegende Schicht trägt bei dem Zweischichtsystem nach Fig. 5 die Bezugsziffer 17. Darauf folgt zum Betrachter hin die "zweite" Schicht 18.

Für die "erste" Schicht 17 und die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems nach Fig. 5 werden diejenigen Daten über die chemische Zusammensetzungen, die Schichtdicken, die Brechungsindices und diejenigen Kombinationen dieser Daten eingesetzt, die für die Schichten 5 und 6 der Fig. 1 und 2 weiter oben und in der Beschreibungseinleitung beschrieben wurden.

Die für die Schichten 5 und 6 in der Beschreibungseinleitung und im Zusammenhang mit den Fig. 1 und 2 beschriebenen alternativen Ausführungsformen gelten auch für das Zweischichtsystem, wie es beispielsweise in Fig. 5 mit der "ersten" Schicht 17 und der "zweiten" Schicht 18 dargestellt wird.

Dabei entspricht die "erste" Schicht 17 des Zweischichtsystems der Fig. 5 der Schicht 5 der Schichtsysteme der Fig. 1 und 2.

Die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems der Fig. 5 entspricht der Schicht 6 der Schichtsysteme der Fig. 1 und 2.

Die Flächenwiderstände des Zweischichtsystems entsprechen denjenigen der Systeme nach Fig. 1 und 2.

Liste der Einzelteile

1 Substrat, Glas
2 Vorderseite
3 Pfeil, Blickrichtung
4 "erste" Schicht der Fig. 1 und 2
5 "zweite" Schicht der Fig. 1 und 2
6 "dritte" Schicht der Fig. 1 und 2
7 Haftvermittlerschicht
8 Rückseitenschicht
9 Rückseite
10 Abszisse
11 linke Ordinate
12 rechte Ordinate
13 Transmissionskurve
14 Reflexionskurve
15 Transmissionskurve
16 Reflexionskurve
17 "erste" Schicht der Fig. 5
18 "zweite" Schicht der Fig. 5

Claims

1. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (4) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite Nitrid, vorzugsweise TiN_x, aufweisende Schicht (5) angeordnet ist, darauffolgend eine dritte ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (6) angeordnet ist.

2. Belag nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) Oxide aus der Gruppe: SnO₂, ZrO₂, ZnO, Ta₂O₅, NiCr-Oxid, TiO₂, Sb₂O₃, In₂O₃ oder Mischoxide von Oxiden aus dieser Gruppe umfaßt.

3. Belag nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (5) Nitride aus der Gruppe TiN, ZrN umfaßt.

4. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht (6) niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.

5. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht (6) Oxide aus der Gruppe SiO₂, Al₂O₃, AlSi-Oxid, NiSiOxid, MgO oder Oxifluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.

6. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Schicht (6) MgF₂ umfaßt.

7. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen der ersten (4) und der zweiten Schicht (5) eine Haftvermittlerschicht (Haftvermittler) (7) angeordnet ist.

8. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (7) Ni oder NiO_x mit x kleiner als 1 aufweist.

9. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (7) Cr oder Cr-Suboxid aufweist.

10. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Haftvermittler (7) eine NiCr Legierung, vorzugsweise NiCr mit 80 Gewichtsprozent Ni und 20 Gewichtsprozent Cr als Metall- oder Metallsuboxid aufweist.

11. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid aufweist und Haftvermittlereigenschaft hat.

12. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiN_x mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende dritte Schicht (6) Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiN_x-Schicht (8) mit x größer als oder gleich 1 aufgebracht ist.

13. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht (6) Al₂O₃ aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (7) angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Suboxid aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats eine TiN_x- Schicht (8) aufgebracht ist.

14. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnO₂ aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SiO₂ aufweist, daß zwischen der ersten Schicht und der zweiten Schicht eine Haftvermittlerschicht (7) angeordnet ist, die NiCr oder NiCr-Suboxid aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiN_x- Schicht (8) aufgebracht ist.

15. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxid aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht (6) Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiN_x-Schicht (8) aufgebracht ist.

16. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) NiCr-Suboxide aufweist und die Eigenschaften eines Dielektrikums und eines Haftvermittlers aufweist, die folgende zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, die folgende dritte Schicht (6) SiO₂ aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiN_x-Schicht (8) aufgebracht ist.

17. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat insbesondere aus Glas, beispielsweise Floatglas, besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) eine Dicke von 80 Angström +/- 20% aufweist, daß die zweite Schicht (5) eine Dicke von 130 Angström +/- 20% aufweist, daß die dritte Schicht (6) eine optische Dicke von 5550/4 Angström +/- 10% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.

18. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, wobei das Substrat aus Glas mit vorzugsweise einem Brechungsindex von n=1,52 besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (4) SnO₂ aufweist und eine Dicke von 95 Angström besitzt, daß die zweite Schicht (5) TiN_x aufweist und eine Dicke von 135 Angström besitzt, daß die dritte Schicht (6) Al₂O₃ aufweist und eine Dicke von 710 Angström besitzt.

19. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, vorzugsweise nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiN_x, aufweist, angeordnet ist.

20. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (8) TiN_x aufweist und eine Dicke von 70 Angström besitzt, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) SnO₂ aufweist, eine Dicke von 90 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=2,05 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die dritte Schicht (6) Al₂O₃ aufweist, eine Dicke von 730 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.

21. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (8) TiN_x aufweist, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (4) NiCr-Oxid aufweist, eine Dicke von 70 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=2,1 aufweist, daß die zweite Schicht (5) TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die dritte Schicht (6) SiO₂ aufweist, eine Dicke von 790 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.

22. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, mit zwei Schichten auf der Vorderseite des Substrats, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß auf der dem Betrachter zugewandten Substratseite (Vorderseite) (2) in der örtlichen Reihenfolge von der Vorderseite (2) zum Betrachter eine erste am Substrat anliegende, Nitrid, vorzugsweise TiN_x, aufweisende Schicht (17) angeordnet ist, darauffolgend eine zweite ein Dielektrikum bildende, Metalloxid aufweisende Schicht (18) angeordnet ist.

23. Belag nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (17) Nitride aus der Gruppe TiN, ZrN umfaßt.

24. Belag nach Anspruch 22 und/oder 23, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (18) niederbrechende Materialien, insbesondere mit einem Brechungsindex n gleich oder kleiner als 1,7 umfaßt.

25. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (18) Oxide aus der Gruppe SiO₂, Al₂O₃, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO oder Oxifluoride aus der gleichen Gruppe umfaßt.

26. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schicht (18) MgF₂ umfaßt.

27. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (17) TiN_x mit x größer als oder gleich 1 aufweist, die folgende zweite Schicht (18) Al₂O₃ aufweist, daß auf der Rückseite (9) des Substrats (1) eine TiN_x-Schicht (8) mit x größer als oder gleich 1 aufgebracht ist.

28. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (17) eine Dicke von 130 Angström +/- 20% aufweist, daß die zweite Schicht (18) eine optische Dicke von 5550/4 Angström +/- 10% aufweist, daß solche Werte für die jeweiligen Schichtdicken innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.

29. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht (17) TiN_x aufweist und eine Dicke von 135 Angström besitzt, daß die zweite Schicht (18) Al₂O₃ aufweist und eine Dicke von 710 Angström besitzt.

30. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der vom Betrachter abgewandten Substratseite (Rückseite) (9) eine Rückseitenschicht (8), die TiN_x, aufweist, angeordnet ist.

31. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (8) TiN_x aufweist und eine Dicke von 70 Angström besitzt, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (17) TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die zweite Schicht (18) Al₂O₃ aufweist, eine Dicke von 730 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,6 aufweist.

32. Belag nach einem oder mehreren der ab Anspruch 22 vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseitenschicht (8) TiN_x aufweist, daß das Substrat (1) aus Glas besteht, eine Dicke von insbesondere 2 mm besitzt und einen Brechungsindex n=1,52 aufweist, daß die erste Schicht (17) TiN_x aufweist, eine Dicke von 130 Angström besitzt, daß die zweite Schicht (18) SiO₂ aufweist, eine Dicke von 790 Angström besitzt und einen Brechungsindex n=1,5 aufweist.

33. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Katodenzerstäubungsverfahren, insbesondere ein DC-reaktives Sputtern vom Target mit Magnetron zur Beschichtung eingesetzt wird.

34. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Sn-Target mit Magnetron eine Schicht aus SnO₂ bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O₂ umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10^-3 mbar.

35. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Si-Target mit Magnetron eine Schicht aus SiO₂ bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O₂ umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10^-3 mbar.

36. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Al-Target mit Magnetron eine Schicht aus Al₂O₃ bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O₂ umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10^-3 mbar.

37. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern vom Ti-Target mit Magnetron eine Schicht aus TiN bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und N₂ umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10^-3 mbar.

38. Verfahren nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche zum Beschichten von Glas, insbesondere von Floatglas, dadurch gekennzeichnet, daß durch reaktives Sputtern von einem Target, das NiCr, (vorzugsweise 80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr) aufweist, mit Magnetron eine Schicht aus NiCr bei Anwesenheit eines Sputtergasgemisches, das Ar und O₂ umfaßt, gebildet wird, und zwar bei einem Druck von cirka 5×10^-3 mbar.

39. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein an sich bekanntes Aufdampfverfahren zur Beschichtung eingesetzt wird.

40. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Chemical Vapor Deposition (CVD)- Verfahren eingesetzt wird.

41. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Plasma-gestützes Chemical Vapor Deposition (CVD) Verfahren eingesetzt wird.

42. Verfahren zur Herstellung eines Belags nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein Pyrolyse-Verfahren eingesetzt wird.

43. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Betrachter zugewandte Vorderseite des Schichtsystems einen Flächenwiderstand von 100 bis 400 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 150 Ohm pro Quadrat, aufweist.

44. Belag nach einem oder mehreren der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die vom Betrachter abgewandte Rückseite des Schichtsystems eine Dicke im Bereich von 40 bis 200 Angström besitzt und einen Flächenwiderstand von 150 bis 500 Ohm pro Quadrat, vorzugsweise 460 Ohm pro Quadrat, aufweist.