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DE69220901T2 - Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines wärmebehandelten beschichteten Glases

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Publication number
DE69220901T2
DE69220901T2 DE69220901T DE69220901T DE69220901T2 DE 69220901 T2 DE69220901 T2 DE 69220901T2 DE 69220901 T DE69220901 T DE 69220901T DE 69220901 T DE69220901 T DE 69220901T DE 69220901 T2 DE69220901 T2 DE 69220901T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
coated glass
layer
heat
protective layer
oxide
Prior art date
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DE69220901T
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English (en)
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DE69220901D1 (de
DE69220901T3 (de
Inventor
Hiroyasu Kojima
Hisashi Ohsaki
Koichi Suzuki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of DE69220901D1 publication Critical patent/DE69220901D1/de
Publication of DE69220901T2 publication Critical patent/DE69220901T2/de
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Description

  • Diese Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen eines warmebehandelten, beschichteten Glases, insbesondere auf ein Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases, das Änderungen von dessen Eigenschaften vor und nach seinem Biegen minimiert.
  • Konventionell wird ein gebogenes, beschichtetes Glas hergestellt durch Aufbringen einer Schicht bzw. eines Überzuges auf ein bereits gebogenes Glas. Oder es wird hergestellt durch Biegen eines Glases, das mit einem Metallfilm oder mit einem zu schützenden Metallnitrid-Film beschichtet ist, der sandwichartig mit einem leicht oxidierbaren Metall, wie Tantal, bedeckt ist, wobei das leicht oxidierbare Metall hauptsächlich oxidiert ist, wodurch der zu schützende Film geschützt wird. Oder es wird hergestellt durch Verhindern der Oxidation des zu schützenden Filmes, indem man während des Biegens eine nicht oxidierende Atmosphäre aufrechterhält.
  • Von den obigen Technologien ist es bei dem Verfahren zum Beschichten des gebogenen Glases nicht möglich, einen gleichmäßigen Überzug auf dem gebogenen Glas herzustellen, ausgenommen, das Überzugs-Verfahren und die Überzugs-Bedingungen werden in einer Weise kontrolliert, die durch die Konfiguration des gebogenen Glases bestimmt werden. Es ist daher schwierig, Produkte zu erhalten, die die hohe Qualität und gleichmäßige Leistungsfähigkeit aufweisen.
  • Bei dem Verfahren des sandwichartigen Schützens der zu schützenden Schicht durch das leicht oxidierbare Metall ändern sich die Eigenschaften des beschichteten Glases vor und nach dem Biegen. Bei einem ebenen Glas, das die gleichen Eigenschaften wie das erhaltene, gebogene Glas aufweist, sollte eine unterschiedliche Filmkonstruktion hergestellt werden, oder es sollte eine Wärmebehandlung ausgeführt werden, die gleich der beim Biegen ist. Bei der Produktkontrolle ist demgemäß eine beträchtlicher Ausschuß vorhanden.
  • Bei dem Verfahren des Aufrechterhaltens der nicht oxidierenden Atmosphäre während des Biegens ist ein Erneuern einer normalen Biegevorrichtung erforderlich, was die Produktionskosten erhöht. Als Wärmebehandeln des Glases wird im allgemeinen ein Tempern benutzt, das ähnlich dem Biegen ist. Hinsichtlich eines getemperten, beschichteten Glases ist die Situation die gleiche wie bei dem gebogenen, beschichteten Glas.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases zu schaffen, bei dem ein beschichtetes, ebenes Glas mit einer ausgezeichneten Gleichmäßigkeit hergestellt wird durch Anwenden einer normalen Überzugs-Technologie auf ein ebenes Glas bei geringen Kosten, und Biegen und/oder Tempern, das im allgemeinen leicht ausgeführt wird, wird ohne die Notwendigkeit einer Atmosphären-Kontrolle und durch Erhitzen in der normalen, sauerstoffhaltigen Atmosphäre ausgeführt, wobei fast keine Änderung der aufgebrachten, zu schützenden Schicht stattfindet, die deren optische Eigenschaften hauptsächlich beeinflußt.
  • Diese Aufgabe wird durch das Verfahren des Anspruches 1 gelöst. Bevorzugte Ausführungsformen sind in den Ansprüchen 2 bis 9 definiert.
  • In der Zeichnung ist
  • Figur 1 eine diagrammartige Schnittansicht eines Beispiels eines wärmebehandelten, beschichteten Glases, das nach der vorliegenden Erfindung hergestellt ist, und
  • Figuren 2 und 3 zeigen in Form diagrammartiger Schnittansichten andere Beispiele von wärmebehandeltem, beschichtetem Glas gemäß der vorliegenden Erfindung.
  • In diesen Figuren bezeichnet die Bezugsziffer 1 eine solare Kontrollschicht, 2 eine erste Schutzschicht, 3 eine zweite Schutzschicht und 4 ein Glassubstrat.
  • In der vorliegenden Erfindung kann als die solare Kontrollschicht 1 ein Film, versehen mit einer Solarenergie absorbierenden Funktion mit Licht-Absorptionseigenschaften mindestens hinsichtlich eines Teiles einer Wellenlangenregion der Sonnenstrahlen, oder ein Film, versehen mit Licht-Reflexionseigenschaften hauptsächlich bezüglich einer Region im nahen Infrarot, oder ähnliches benutzt werden.
  • Spezifisch wird ein Film, dessen Hauptkomponente mindestens eine aus korrosionsbeständigem Stahl, Titan, Chrom, Zirkonium, Tantal und Hafnium (im folgenden als Metall M bezeichnet), ein Nitrid des Metalles M, ein Bond des Metalles M, ein Carbid des Metalles M oder einer Mischung davon oder ein Film genannt werden, dessen Hauptkomponente ein Metall, wie Silber, Aluminium, Chrom oder ähnliches ist. Im Falle des Nitrids, Borids oder Carbids oder ähnlichem liegt eine Dicke davon vorzugsweise etwa von 100Å bis 800Å, um die Eigenschaft der solaren Kontrolle zu erhalten. Im Falle des Metallfilms beträgt die Filmdicke vorzugsweise 20Å bis 300Å.
  • Diese Erfindung ist anwendbar auf eine elektrisch leitende Schicht, deren Träger durch die Sauerstoff-Fehlstellen verursacht werden, anstelle der solaren Kontrollschicht. Als Beispiele von Materialien solcher Filme können ein mit Zinn dotiertes Indiumoxid, ein mit Antimon oder Fluor dotiertes Zinnoxid oder ein mit Aluminium, Bor oder Silicium dotiertes Zinkoxid usw. genannt werden. ZnO, TiO&sub2;, SnO&sub2;, ThO&sub2;, V&sub2;O&sub5;, Nb&sub2;O&sub5;, Ta&sub2;O&sub5;, MoO&sub3;, WO&sub3;, MnO&sub2;, PbCrO&sub4; sind jedoch auch Beispiele der Materialien der obigen elektrisch leitenden Schicht. Im folgenden repräsentiert der Begriff "solare Kontrollschicht" nicht nur die obige solare Kontrollschicht sondern auch die obige elektrisch leitende Schicht in dieser Beschreibung.
  • Die erste Schutzschicht 2 ist ein Film, der die Diffusion von Sauerstoff in die solare Kontrollschicht 1 verhindert, selbst wenn sie während der Wärmebehandlung erhitzt wird, oder die nicht Sauerstoff an die solare Kontrollschicht 1 abgibt, selbst wenn die erste Schutzschicht an sich Sauerstoff enthält. Da sich in dem ersten Schutzfilm nur der Brechungsindex ändert, wird keine Änderung der Absorption verursacht und deren Durchlässigkeit wird aufrechterhalten, selbst wenn sie oxidiert wird, so daß nach der Wärmebehandlung kein beträchtlicher Einfluß auf die optischen Eigenschaften davon ausgeübt wird.
  • Das bevorzugteste Beispiel der ersten Schutzschicht 2 ist ein Film, dessen Hauptkomponente mindestens ein Bornitrid, ein Kohlenstoffnitrid und ein Siliciumnitrid ist. Ein repräsentatives Beispiel ist besonders ein Film, dessen Hauptkomponente ein Nitrid von Silicium oder Bor ist, oder ein Film, dessen Hauptkomponente ein Nitrid von mindestens zwei von Silicium, Bor, Aluminium, Zirkonium und Zinn ist, insbesondere ein Film eines Zirkoniumsiliconitrids, ein Film von Zinnsiliconitrid oder ähnlichem. Oder es kann ein Film sein, dessen Hauptkomponente eine partiell oxidierte Substanz des Nitrids, des Boronitrids, des Carbonitrids, des Siliconitrids und ähnlichem ist. Von diesen sind das Siliciumnitrid und das Zirkoniumsiliconitrid besonders mit einer ausgezeichneten Leistungsfähigkeit hinsichtlich der Sauerstoff-Sperre versehen. Im Film des Nitrids oder ähnlichem, als dem oben erwähnten ersten Schutzfilm, ist die Erfindung insofern darauf anwendbar, als er im Bereich sichtbaren Lichtes transparent ist, oder wenn das Nitrid nicht im allgemeinsten stöchiometrischen Verhältnis gebunden ist. So ist, z.B., im Falle des Siliciumnitrids Si&sub3;N&sub4; die allgemeine Zusammensetzung. Diese Erfindung ist jedoch anwendbar, soweit der Film im Bereich sichtbaren Lichtes transparent ist. Das Atomverhältnis von N zu Si beträgt vorzugsweise 1,25 oder mehr, weil der Siliciumnitrid-Film im Bereich sichtbaren Lichtes transparent ist.
  • Wird der zweite Schutzfilm 3 als äußerste Schicht ausgebildet, dann hängt die Dicke der ersten Schutzschicht 2 von der Leistungsfähigkeit als Sauerstoff-Sperre ab, und sie wird in Anbetracht der Menge an Sauerstoff bestimmt, die innerhalb durch die zweite Schutzschicht diffundiert. Bei der normalen Wärmebehandlung beträgt die Dicke vorzugsweise mindestens etwa 10Å, insbesondere 20Å oder mehr.
  • In dieser Erfindung kann die Wirkung der Erfindung geschaffen werden, selbst wenn der zweite Schutzfilm nicht gebildet wird, und der erste Schutzfilm mit einer Filmdicke gebildet wird, die zu einem gewissen Grade dick ist. Die Filmdicke sollte in Anbetracht einer Filmdicke eines Teiles des Filmes bestimmt werden, der bei der Wärmebehandlung oxidiert wird.
  • Die zweite Schutzschicht 3 ist vorzugsweise aus einem Metalloxid zusammengesetzt, ist im Bereich sichtbaren Lichtes ein transparenter Film und hat eine hohe Leistungsfähigkeit als Sauerstoff-Sperre. Als das Metalloxid wird spezifisch ein Oxid, wie ein Zinnoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Tantaloxid, Nioboxid, Titanoxid, Siliciumoxid oder ähnliches genannt. Die Dicke der zweiten Schutzschicht 3 wird in Berücksichtigung der Dicke der ersten Schutzschicht 2 und der optischen Eigenschaften in Anbetracht der Gesamtheit des beschichteten Glases und ähnlichem bestimmt.
  • Bei dem vorliegenden Verfahren ist es bevorzugt, einen Film, der die gleiche Funktion wie der erste Schutzfilm ausübt, zwischen dem solaren Kontrollfilm 1 und dem Glassubstrat 4 zu bilden, um Sauerstoff, der in einer sehr geringen Menge aus dem Glassubstrat diffundiert, abzuschirmen, d.h., ein Nichtoxidfilm oder ein Film, der nicht vollständig oxidiert ist, der selbst wenn er oxidiert ist, transparent ist, und dies als eine erste Unterschicht 5, wie in Figur 2 gezeigt.
  • Als die Materialien einer solchen ersten Unterschicht 5 können die Materialien, die für die erste Schutzschicht 2 angegeben worden sind, in ähnlicher Weise benutzt werden.
  • In dieser Erfindung kann die zu schützende, solare Kontrollschicht 1 vollständig vor Oxidation während des Heizverfahrens zum Biegen und/oder Tempern durch die erste Schutzschicht 2 und in einigen Fällen durch die erste Schutzschicht 2 zusammen mit der ersten Unterschicht 5 geschützt werden.
  • Weiter kann in dem erfindungsgemäßen Verfahren ein Film als eine zweite Unterschicht 6 gebildet werden, die aus einem Metalloxid zusammengesetzt ist und transparent ist, und zwar zwischen dem Glassubstrat 4 und der ersten Unterschicht 5, wie in Figur 3 gezeigt, um eine erwünschte optische Eigenschaft (Durchlässigkeit, Reflexionsvermögen, Farbton usw.) unter Anwendung der Interferenz des Lichtes zu erhalten oder die Haltbarkeit, wie die Haftung, zu fördern. Als die zweite Unterschicht 6 kann ein Film eingesetzt werden, für den Beispiele bei der ersten Schutzschicht angegeben sind. In dieser Erfindung kann die Änderung von Eigenschaften der aufgebrachten Schichten minimiert werden, weil die beiden Metalloxid-Schichten der zweiten Schutzschicht 3 und der zweiten Unterschicht 6, die während des Erhitzens keiner Anderung unterliegen, den in die erste Schutzschicht 2 und die erste Unterschicht 5, die den Sauerstoff absorbieren und nur ihre Brechungsindices ändern, diffundierenden Sauerstoff vermindern.
  • Ohne auf diese Filme beschränkt zu sein, kann ein erwünschter Film zwischen dem Glassubstrat 4 und der ersten Unterschicht 5 gebildet werden.
  • Das Glassubstrat 4 ist nicht besonders eingeschränkt. Es können verschiedene Glasplatten, wie eine Sodakalk-Glasplatte oder eine Wärmestrahlen absorbierende Glasplatte, eingesetzt werden.
  • Das Biegeverfahren als die Wärmebehandlung ist nicht besonders eingeschränkt, und es kann ein normal ausgeführtes Verfahren sein, bei dem beschichtetes Glas auf etwa 580 bis 700ºC (die Temperatur hängt von der Zusammensetzung eines Glases ab) in der Atmosphäre erhitzt und gebogen wird. Natürlich kann es in einer nicht oxidierenden Atmosphäre gebogen werden. In dem Falle ist jedoch die Erneuerung einer Vorrichtung oder ähnlichem erforderlich, und die Produktionskosten werden erhöht. Das Temperverfahren als die Wärmebehandlung ist auch nicht besonders eingeschränkt, und es kann ein normales Verfahren sein, bei dem beschichtetes Glas auf etwa 500 bis 700ºC in der Atmosphäre erhitzt und rasch abgekühlt wird. Es ist möglich, das Tempern kontinuierlich nach dem Biegen auszuführen. Das Tempern kann ein vollständiges oder ein Halb-Tempern sein.
  • In dem wärmebehandelten, beschichteten Glas wird fast keine Veränderung in der Zusammensetzung der ersten Schutzschicht verursacht, da deren Oxidation in dem Falle nicht gefördert wird, in dem die Leistungsfähigkeit des zweiten Schutzfilmes als Sauerstoff-Sperre ausgezeichnet ist. Die erste Schutzschicht enthält jedoch häufig mehr Sauerstoff als vor der Wärmebehandlung, da deren Oxidation durch das Erhitzen bei der Wärmebehandlung gefördert wird. In einigen Fällen wird sie durch Abgeben von Stickstoff oder Kohlenstoff in der ersten Schutzschicht in der Wärmebehandlung in ein Oxid umgewandelt. Ist die zweite Schutzschicht nicht gebildet, dann wird ein gewisser Grad der Oxidation von der Oberfläche der ersten Schutzschicht gefördert, doch befindet sich die erste Schutzschicht in einem Zustand, wo deren Oxidation nicht bis zu einem Teil benachbart der solaren Kontrollschicht stattfindet.
  • Die solare Kontrollschicht 1, die Glas bedeckt, wird nomalerweise in der Wärmebehandlung durch Sauerstoff in einem atmosphärischen Gas (die Atmosphäre) oxidiert, das durch den die solare Kontrollschicht 1 schützenden Film zu deren Innenseite diffundiert oder durch einen kombinierten Sauerstoff in dem benachbarten Oxidfilm, wodurch die optischen Eigenschaften davon beträchtlich geändert werden, insbesondere die Wärmestrahlen abschirmende Funktion, die Durchlässigkeit sichtbaren Lichtes und ähnliches (der elektrischen Leitfähigkeit im Falle einer elektrisch leitenden Schicht).
  • In dieser Erfindung wird als die zweite Schutzschicht 3 eine mit einer ausgezeichneten Leistungsfähigkeit als Sauerstoff-Sperre ausgewählt, wodurch der Sauerstoff, der in ihrem Inneren diffundiert, beträchtlich verringert wird. Weiter wird die erste Schutzschicht 2 zwischen der zweiten Schutzschicht 3 und der solaren Kontrollschicht 1 angeordnet. Die erste Schutzschicht 2 reagiert daher hauptsächlich mit dem Sauerstoff, der in einer sehr geringen Menge durch die zweite Schutzschicht nach innen diffundiert oder mit dem kombinlerten Sauerstoff in der zweiten Schutzschicht, wodurch verhindert wird, daß der diffundierte Sauerstoff und der kombinierte Sauerstoff die zu schützende solare Kontrollschicht 1 erreicht. Die solare Kontrollschicht 1 erleidet dadurch fast keine Änderung.
  • Selbst wenn die zweite Schutzschicht 3 nlcht gebildet wird, absorbiert die erste Schutzschicht genügend Sauerstoff von der Atmosphäre während der Wärmebehandlung und spielt eine Rolle als Sauerstoff-Sperre. Die solare Kontrollschicht 1 erleidet daher fast keine Änderung.
  • Da in Anbetracht einer Gesamtheit von mehreren Schichten, die auf das Glas aufgebracht sind, die solare Kontrollschicht 1 fast keine Änderung erleidet, obwohl sich der Brechungsindex der ersten Schutzschicht mehr oder weniger ändert, wird keine Veränderung in den optischen Eigenschaften verursacht, wie sie bei der konventionellen Wärmebehandlung auftritt.
  • BEISPIEL 1
  • Ein reaktives Zerstäuben wird auf dem ebenen Glassubstrat 4 unter Benutzung eines Zinn- Targets in einer Mischüing von Sauerstoff- und Argon-Gas ausgeführt, wodurch die zweite Unterschicht 6 (250Å) gebildet wird, die aus einem Zinnoxid zusammengesetzt ist. Als nächstes wird ein anderes reaktives Zerstäuben darauf unter Einsatz eines Zirkoniumsilicid-Legierungstargets in Stickstoffgas ausgeführt, wodurch die erste Unterschicht 5 (50Å) gebildet wird, die aus einem Zirkoniumsiliconitrid zusammengesetzt ist.
  • Als nächstes wird ein drittes reaktives Zerstäuben darauf ausgeführt, wozu ein Chrom- Target in einem Stickstoffgas eingesetzt wird, wodurch die solare Kontrollschicht 1 (100Å) gebildet wird, die aus einem Chromnitrid zusammengesetzt ist. Danach werden die erste Schutzschicht 2 (50Å) ähnlich der ersten Unterschicht 5 aus einem Zirkoniumsiliconitrids zusammengesetzt, und der zweite Schutzfilm 3 (300Å), der ähnlich der zweiten Unterschicht 6 aus einem Zinnoxid zusammengesetzt ist, gebildet. Auf diese Weise wurde ein beschichtetes Glas mit der in Figur 3 gezeigten Konstruktion geschaffen.
  • Das ebene, beschichtete Glas wurde in einen elektrischen Ofen gelegt, worin es auf etwa 630ºC in der Atmosphären-Umgebung erhitzt und sein Biegen ausgeführt wurde. Es gab keine Änderung in der solaren Kontrolischicht 1, der zweiten Schutzschicht 3 und der zweiten Unterschicht 6 nach dem Biegen, verglichen mit diesen Schichten vor dem Biegen. Der erste Schutzfilm 2 und die erste Unterschicht 5 waren nach dem Biegen besonders oxidiert. Die optischen Eigenschaften des beschichteten Glases vor und nach dem Erhitzen sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • VERGLEICHSBEISPIEL 1
  • Eine Zinnoxid-Schicht (250Å), eine Chromnitrid-Schicht (100Å) und eine Zinnoxid-Schicht (300Å) wurden nacheinander auf einem ebenen Glassubstrat nach dem in Beispiel 1 ähnlichen Zerstäubungs-Verfahren ausgebildet. Die Wärmebehandlung wurde ähnlich auf dem erhaltenen, ebenen, beschichteten Glas ausgeführt, und die optischen Eigenschaften vor und nach dem Erhitzen gemessen. Die Ergebnisse sind in Tabelle 1 gezeigt.
  • VERGLEICHSBEISPIEL 2
  • Eine Chromnltrid-Schicht (100Å) wurde auf einem ebenen Glassubstrat nach dem Beispiel 1 ähnlichen Zerstäubungs-Verfahren ausgebildet. Die Wärmebehandlung wurde ähnlich Beispiel 1 an dem erhaltenen, ebenen, beschichteten Glas ausgeführt. Die optischen Eigenschaften vor und nach dem Erhitzen des Glases sind in Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1
  • BEISPIEL 2
  • Ein beschichtetes Glas, wie in Beispiel 3 (d.h., ein beschichtetes Glas mit einer Konstruktion aus Glassubstrat/Zinnoxid-Schicht (320Å)/Siliciumnitrid-Schicht/Chromnitrid-Schicht (136)/ Siliciumnitrid-Schicht/Zinnoxid-Schicht (280Å)) wird nach einem Verfahren ähnlich dem von Beispiel 1 hergestellt, ausgenommen, daß die Siliciumnitrid-Schichten als die este Unterschicht 5 und die erste Schutzschicht 2 durch Ausführen eines reaktiven Zerstäubens unter Einsatz von Silicium- Targets in Stickstoffgas gebildet wurden.
  • Die Änderungen der optische Eigenschaften sind in Tabelle 2 gezeigt, in Fällen, bei denen die Wärmebehandlungs-Temperatur hinsichtlich drei Arten von Filmdicken, nämlich 30Å, 20Å und 0Å (d.i. der Fall, wenn das Siliciumnitrid nicht gebildet wird) der Siliciumnitrid-Schichten als der ersten Unterschicht 5 und der ersten Schutzschicht 2. Das Atom-Verhältnis von Stickstoff zu Silicium in den Siliciumnitrid-Schichtenin Beispiel 2 betrug 1,35.
  • Durch Vergleich der Ergebnisse von Beispiel 1, Vegleichsbeispielen 1 und 2 und Tabelle 2 wurde festgestellt, daß das beschichtete Glas dieser Erfindung wenig Änderung hinsichtlich deren optischen Eignschaften bei der Wärmebehandlung in der Atmosphäre erleidet, so daß die Bedeutung des erfindungsgemäßen Verfahrens klar ist. Tabelle 2

Claims (9)

1. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases, umfassend die Stufen:
Bilden einer solaren Kontrollschicht oder einer elektrisch leitenden Schicht auf einen Glassubstrat;
Bilden einer ersten Schutzschicht, deren Hauptkomponente mindestens ein Material ist, ausgewahlt aus der Gruppe bestehend aus einem Bernitrid, einem Siliciumnitrid, einem Boronitrid, einem Siliconitrid, einem Carbonitrid oder einem Nitrid von mindestens zweien, ausgewahlt aus der Gruppe bestehend aus Silicium, Bor, Aluminium, Zirkonium und Zinn, das unvollständig oxidiert sein kann, in einem Bereich sichtbaren Lichtes transparent ist und selbst, wenn es oxidiert ist, transparent bleibt, zur Schaffung eines mit mehreren Schichten überzogenen Glases, umfassend mindestens zwei Schichten, einschließlich der solaren Kontrolischicht oder einer elektrisch leitenden Schicht und der ersten Schutzschicht und
Ausführen einer Wärmebehandlung für das beschichtete Glas.
2. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 1, worin die zweite Schutzschicht, die aus einem Metalloxid zusammengesetzt und transparent ist, auf der ersten Schutzschicht ausgebildet wird, um ein mit mehreren Schichten überzogenes Glas zu schaffen, die aus mindestens drei Schichten zusammengesetzt sind, einschließlich der solaren Kontrollschicht oder einer elektrisch leitenden Schicht, der ersten Schutzschicht und der zweiten Schutzschicht und dann Ausführen einer Wärmebehandlung für das beschichtete Glas.
3. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 1, worin die solare Kontrollschicht ein Film ist, dessen Hauptkomponente mindestens ein Metall (im folgenden als Metall M definiert) ist, ausgewahlt aus der Gruppe bestehend aus korrosionsbeständigem Stahl, Titan, Chrom, Zirkonium, Tantal und Hafnium oder einem Nitrid des Metalles M oder einem Bond des Metalles M oder einem Carbid des Metalles M oder einer Mischung dieser.
4. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 2, worin die zweite Schutzschicht ein Film ist, der als eine Sauerstoff-Sperre wirkt.
5. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 2, worin die zweite Schutzschicht ein Film ist, dessen Hauptkomponente mindestens eine ist, ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus einem Zinnoxid, einem Tantaloxid, einem Titanoxid, einem Nioboxid, einem Titanoxid und einem Siliciumoxid.
6. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 1, worin eine erste Unterschicht, zusammengesetzt aus einem Nichtoxid oder nicht vollstandig oxidiert, und die, selbst wenn sie oxidiert ist, transparent bleibt, auf dem Glassubstrat ausgebildet wird, bevor die solare Kontrollschicht auf dem Glassubstrat gebildet wird.
7. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 6, worin eine zweite Unterschicht, die aus einem Metalloxid zusammengesetzt und transparent ist, auf dem Glassubstrat gebildet wird, bevor die erste Unterschicht auf dem Glassubstrat gebildet wird.
8. Verfahren zum Herstellen eines wärmebehandelten, beschichteten Glases nach Anspruch 1, worin die Wärmebehandlung ein Verfahren des Erhitzens vor dem Biegen und/oder Tempern ist.
9. Beschichtetes Glas, umfassend ein Glassubstrat mit einer gekrümmten Konfiguration oder ein getempertes Glassubstrat, erhältlich nach dem Verfahren eines der Ansprüche 1 bis 8.
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