JP3318514B2 - 半導体支持装置 - Google Patents
半導体支持装置Info
- Publication number
- JP3318514B2 JP3318514B2 JP21160897A JP21160897A JP3318514B2 JP 3318514 B2 JP3318514 B2 JP 3318514B2 JP 21160897 A JP21160897 A JP 21160897A JP 21160897 A JP21160897 A JP 21160897A JP 3318514 B2 JP3318514 B2 JP 3318514B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum nitride
- semiconductor
- plane
- base
- orientation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6831—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using electrostatic chucks
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T279/00—Chucks or sockets
- Y10T279/23—Chucks or sockets with magnetic or electrostatic means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24322—Composite web or sheet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24322—Composite web or sheet
- Y10T428/24331—Composite web or sheet including nonapertured component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24322—Composite web or sheet
- Y10T428/24331—Composite web or sheet including nonapertured component
- Y10T428/24339—Keyed
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24273—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including aperture
- Y10T428/24322—Composite web or sheet
- Y10T428/24331—Composite web or sheet including nonapertured component
- Y10T428/24339—Keyed
- Y10T428/24347—From both sides
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Description
の半導体材料を支持し、あるいは吸着するための半導体
支持装置に関するものである。
VD、スパッタリング等の成膜プロセス、微細加工、洗
浄、エッチング、ダイシング等の工程において、半導体
ウエハーを吸着し、保持するために、静電チャックが使
用されている。こうした静電チャックの基体として、緻
密質セラミックスが注目されている。特に半導体製造装
置においては、エッチングガスやクリーニングガスとし
て、ClF 3 等のハロゲン系腐食性ガスを多用する。緻
密な窒化アルミニウムは、前記のようなハロゲン系腐食
性ガスに対して高い耐食性を備えている。また、窒化ア
ルミニウムは、高熱伝導性材料として知られており、ま
た、耐熱衝撃性も高いことが知られている。従って、半
導体製造装置用の静電チャックの基体を窒化アルミニウ
ム基セラミックスによって形成することが好適であると
考えられる。
書 (1992年2月13日出願) において、表面にフッ
化アルミニウム層を有する窒化アルミニウム焼結体が、
上記のハロゲン系腐蝕性ガスのプラズマに対して高い耐
蝕性を備えていることを開示した。即ち、例えばClF3ガ
スに対して1時間窒化アルミニウム焼結体を曝露して
も、その表面状態は変化が見られなかった。
体の表面に、CVD法等の気相法によってフッ化アルミ
ニウム膜を形成することを開示した(特開平5−251
365号公報)。また、特開平7−273053号公報
においては、半導体ウエハー用静電チャックの表面の腐
食を防止するために、静電チャックの表面を、予めフッ
素で置換する表面処理を施し、静電チャックの表面にA
lF3 を生成させておくことが開示されている。
ック等の半導体ウエハー支持用のサセプターの材質とし
ての窒化アルミニウムを検討する中で、サセプターを構
成する窒化アルミニウムの異方性を変化させ、制御する
ことによって、ハロゲン系腐食性ガスに対するサセプタ
ーの表面領域の耐食性を一層向上させる研究に取り組ん
できた。これは、特に半導体製造プロセスの微細化が一
層進行してくるのに伴って、従来は問題とならなかった
ような、サセプターの表面の微細な腐食によっても、半
導体欠陥の原因となりうるパーティクルが発生する可能
性があるために、サセプターの表面領域における腐食速
度を、より一層減少させることが要求されているからで
ある。
ミックスからなる基体を備えており、この基体に半導体
設置面が設けられている半導体支持装置をハロゲン系腐
食性ガスに対して暴露したときに、半導体設置面の表面
領域における腐食速度を一層減少させることである。
ウム基セラミックス焼結体からなる基体を備えており、
この基体に半導体面が設けられており、この半導体設置
面がハロゲン系腐食性ガスまたはそのプラズマに対して
暴露されるべき半導体支持装置であって、下記の式によ
って規定される前記窒化アルミニウム基セラミックス焼
結体の配向度が1.1以上、2.0以下であることを特
徴とする、半導体支持装置に係るものである。
0)〕/〔I(002)/I(100)〕(I’(00
2)は、X線回折測定において半導体設置面側からX線
を照射したときの窒化アルミニウム基セラミックスの
(002)面の回折強度であり、I’(100)は、半
導体設置面側からX線を照射したときの前記セラミック
スの(100)面の回折強度である。I(002)は、
JCPDSカード番号25−1133による窒化アルミ
ニウムセラミックスの(002)面の回折強度であり、
I(100)は、JCPDSカード番号25−1133
による窒化アルミニウムセラミックスの(100)面の
回折強度である)
ルミニウムについて種々の新しい製法に取り組み、サセ
プターを構成する窒化アルミニウムの異方性を制御する
過程で、特に半導体設置面側から見たときに、窒化アル
ミニウムを構成する結晶格子の(100)面と(00
2)面との間に特定の異方性を付与することによって、
ハロゲン系腐食性ガスまたはそのプラズマに暴露したと
きの腐食速度が著しく減少することを見いだし、本発明
に到達した。
酸、アルカリ溶液に対するイオン反応性を示している
が、本発明では、イオン反応性ではなく、ドライガス中
でのハロゲンガス酸化還元反応に対する反応性に着目し
ている。
ガス、NF3 ガス、CF 4 ガス、WF6 の他、Cl2 、
BCl3 等がある。
導体ウエハーを設置するためのサセプターが好ましい。
これによって、クリーニングガス、エッチングガスに対
して安定なサセプターを提供でき、半導体不良の原因と
なるパーティクルやコンタミネーションの発生を長期間
に亘って防止できる。これにより、特にDRAM、4M
等の高集積度半導体の製造に対しても、初めて良好に対
応できるようになった。
ランプ加熱によって発熱するサセプター、半導体加熱用
セラミックスヒーター、セラミックスヒーターの発熱面
に設置されるサセプター、静電チャック用電極が埋設さ
れているサセプター、静電チャック用電極および抵抗発
熱体が埋設されているサセプター、高周波プラズマ発生
用電極が埋設されているサセプター、高周波プラズマ発
生用電極および抵抗発熱体が埋設されているサセプター
がある。
アルミニウムからなる基体中に、バルク状の金属部材、
特に面状のバルク状の金属部材を埋設することができ
る。この金属部材は、通常は窒化アルミニウム粉末と同
時に焼成するので、高融点金属によって形成することが
好ましい。こうした高融点金属としては、タンタル,タ
ングステン,モリブデン,白金,レニウム、ハフニウム
及びこれらの合金を例示できる。半導体汚染防止の観点
から、更に、タンタル、タングステン、モリブデン、白
金及びこれらの合金が好ましい。また、金属以外の導体
を埋設することもできる。
を例示できる。 (1)薄板からなる、面状のバルク材。 (2)面状の電極の中に多数の小空間が形成されている
バルク材。これには、多数の小孔を有する板状体からな
るバルク材や、網状のバルク材を含む。多数の小孔を有
する板状体としては、パンチングメタルを例示できる。
ーター付きの静電チャック1の一例を概略的に示す断面
図である。略円盤形状の基体5の側周面5dにリング状
のフランジ5cが設けられており、基体5の内部に静電
チャック電極12が埋設されている。半導体ウエハー2
の設置面5a側には、所定厚さの誘電層3が形成されて
いる。基体5のうち支持部分4側には、端子7が埋設さ
れている。端子7の端面が、基体5の背面5bに露出し
ている。基体5の所定箇所に、半導体ウエハー2を昇降
させるためのピンを通す孔6が形成されている。
が接続されている。また、半導体ウエハー2には、直流
電源11の負極が、電線10Bを介して接続されてい
る。静電チャック電極12と背面5bとの間には、基体
5内に抵抗発熱体8が埋設されている。抵抗発熱体8の
両端部は、それぞれ端子9に接続されており、端子9は
それぞれ外部端子14に接続されている。この抵抗発熱
体8は、半導体ウエハー2を吸着しながら加熱するため
のものであり、必ずしも必要ない。
光の回折強度を測定する。I’(002)は、このとき
の窒化アルミニウム基セラミックスの(002)面の回
折強度であり、I’(100)は、前記セラミックスの
(100)面の回折強度である。これを、JCPDSカ
ード番号25−1133による窒化アルミニウムセラミ
ックス(実質的に無配向のものを意味する)の(00
2)面の回折強度と(100)面の回折強度との比率に
よって除し、半導体支持装置の配向度を測定する。
は、例えば次の方法による。まず、高純度の窒化アルミ
ニウム原料を使用することが好ましく、具体的には、希
土類元素を除く金属不純物量を500ppm以下とする
ことが好ましく、100ppm以下とすることが一層好
ましい。
有させることができ、アルミナの含有量を、原料全体に
対して1.0〜10重量%とすることが好ましい。ま
た、希土類元素を、窒化アルミニウム原料粉末に対し
て、種々の形態で添加することができる。希土類元素と
しては、Y、Yb、Ce、Pr、Euが特に好ましい。
の単体または化合物の粉末を添加することができる。一
般には、希土類元素の酸化物が最も入手し易い。しか
し、希土類元素の硝酸塩、硫酸塩、アルコキシド等の化
合物を、これらの化合物が可溶性である適当な溶剤に溶
解させて溶液を得、この溶液を窒化アルミニウム原料粉
末に対して添加することができる。
記原料粉末を乾燥する方法としては、スプレードライ法
を提案できる。これは、微量添加物である希土類化合物
の瞬間乾燥法として特に好適である。
ニウム原料粉末を分散させ、この中に希土類元素化合物
やアルミナを、前記した酸化物粉末や溶液の形で添加す
ることができる。混合を行う際には、単純な攪拌によっ
ても可能であるが、前記原料粉末中の凝集物を解砕する
必要がある場合には、ポットミル、トロンメル、アトリ
ッションミル等の混合粉砕機を使用できる。
ードライ法が好ましい。また、真空乾燥法を実施した後
に、乾燥粉末をフルイに通してその粒度を調整すること
が好ましい。
の成形体を製造する場合には、金型プレス法を使用でき
る。成形圧力は、100kgf/cm2 以上とすること
が好ましい。
焼成する。圧力を上昇させる際には、昇温時には、窒化
アルミニウムの焼結が始まる1400℃から、焼結工程
の最高温度の範囲内で、圧力を200kgf/cm2 以
上とする必要があり、かつ、降温時には、焼結工程の最
高温度から1400℃まで圧力を200kgf/cm2
以上とする必要がある。この圧力は、250kgf/c
m2 以上が好ましい。この上限は特に限定されないが、
モールド等の窯道具の損傷を防止するためには、実用上
は1000kgf/cm2 以下が好ましい。また、室温
から1400℃までは真空にし、1400℃からガスを
導入することが好ましい。
始まる1400℃から、焼結工程の最高温度の範囲内で
は、昇温速度を250℃/時間以下とする。これは50
℃/時間以上とすることが好ましい。最高温度は、17
00℃〜2300℃とすることが好ましい。
る。 (実施例1〜5、比較例1〜3の各サセプター用基体の
製造)以下のようにして、各サセプター用基体を製造し
た。具体的には、原料粉末としては、還元窒化法によっ
て得られた窒化アルミニウム粉末を使用した。イットリ
ウムの硝酸塩をイソプロピルアルコールに溶解させて添
加剤溶液を製造し、この添加剤溶液を窒化アルミニウム
原料粉末に対して、ポットミルを使用して混合した。Y
2 O3 に換算したイットリアの混合比率は、0.1重量
%であった。これと同時に、アルミナ粉末を3.0重量
%添加した。
cm2 の圧力で一軸加圧成形することによって、直径2
00mmの円盤状成形体を作製した。この円盤状成形体
をホットプレス型中に収容し、密封した。昇温速度30
0℃/時間で温度を上昇させ、この際、室温〜1400
℃の温度範囲で減圧を行い、1400℃に到達した後、
窒素ガスを2.5kgf/cm2 で導入した。
1では200、実施例2では250、実施例3では30
0、実施例4では400、実施例5では500、比較例
1では0、比較例2では50、比較例3では100kg
f/cm2 とした。
温速度を100℃/時間まで落とし、1900℃まで昇
温した。1900℃で5時間保持した後、100℃/時
間の冷却速度で1400℃まで冷却し、更に300℃/
時間で室温まで冷却した。
結体からなる円盤形状の基体について、前記の配向度を
測定した。この結果を表1に示す。
ては、市販の窒化アルミニウム焼結体からなる基体の表
面に、化学的気相成長法によって窒化アルミニウム膜を
成膜した。このときの条件は、温度を850℃とし、反
応ガスを、NH3 :250ml/分、HCl:150m
l/分、AlCl3 キャリア用の水素ガス:1000m
l/分とし、圧力を10mbarとした。
5と同様にして、本発明の実施形態に係るサセプター用
基体を製造した。ただし、実施例6においてはイットリ
アを添加せず、また圧力を250kgf/cm2 とし
た。実施例7においては、Y2 O3 に換算したイットリ
アの添加量を1.0重量%とし、圧力を250kgf/
cm2 とした。実施例8においては、Y2 O3 に換算し
たイットリアの添加量を5.0重量%とし、圧力を25
0kgf/cm2 とした。
サセプター用基体について、それぞれ腐食試験を行っ
た。具体的には、各基体を、誘導結合プラズマで励起し
た600℃、1torrのNF3 ガス中で10時間保持
した。ただし、ガスの流量は100sccmであり、1
3.56MHz、500Wの条件で励起した。各基体に
ついて、反応前後の重量を測定し、「mg/cm2 」の
単位で表1に示した。
以上、2.0以下とすることによって、腐食速度が著し
く減少することが判明した。更に、この配向度を1.3
以上、1.7以下とすることによって、腐食速度が0.
3mg/cm2 以下まで顕著に減少し、1.4〜1.6
とすることによって、腐食速度が0.2mg/cm2 以
下となることが判明した。実施例1〜8および比較例1
〜3の各基体が同種の材質からなっていることを考慮す
ると、こうした耐食性の向上は驚くべきことである。
と、プレス圧力が同じであるとき、イットリアの添加量
が少ないほど、配向度が高くなることがわかった。
長膜を形成し、その配向度を測定すると、2を越えるか
なり大きな配向が見られた。しかし、この場合には化学
的気相成長法によって緻密な膜が生成しているのにも係
わらず、その腐食速度は本発明例に比べて著しく劣って
いるものであった。
は明確ではない。しかし、窒化アルミニウム焼結体を構
成する粒子の向きおよび表面の硬度が、ハロゲン系腐食
性ガスに対して何らかの抑制性を有しているものとも思
われる。
ば、窒化アルミニウム基セラミックスからなる基体を備
えている半導体支持装置を、ハロゲン系腐食性ガスに対
して暴露したときに、半導体設置面の表面領域における
腐食速度を一層減少させることができる。
用のサセプターを概略的に示す断面図である。
ー、3 誘電層、5 基体、5a 半導体設置面、7
端子、8 抵抗発熱体、12 静電チャック電極
Claims (2)
- 【請求項1】 窒化アルミニウム基セラミックス焼結体
からなる基体を備えており、この基体に半導体設置面が
設けられており、この半導体設置面がハロゲン系腐食性
ガスまたはそのプラズマに対して暴露されるべき半導体
支持装置であって、 下記の式によって規定される前記窒化アルミニウム基セ
ラミックス焼結体の配向度が1.1以上、2.0以下で
あることを特徴とする、半導体支持装置。 配向度=〔I’(002)/I’(100)〕/〔I
(002)/I(100)〕(I’(002)は、X線
回折測定において前記半導体設置面側からX線を照射し
たときの前記窒化アルミニウム基セラミックス焼結体の
(002)面の回折強度であり、I’(100)はX線
回折測定において前記半導体設置面側からX線を照射し
たときの前記窒化アルミニウム基セラミックス焼結体の
(100)面の回折強度であり、I(002)は、JC
PDSカード番号25−1133による窒化アルミニウ
ムセラミックスの(002)面の回折強度であり、I
(100)は、JCPDSカード番号25−1133に
よる窒化アルミニウムセラミックスの(100)面の回
折強度である) - 【請求項2】 前記配向度が1.3以上、1.7以下で
あることを特徴とする、請求項1記載の半導体支持装
置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21160897A JP3318514B2 (ja) | 1997-08-06 | 1997-08-06 | 半導体支持装置 |
TW087109513A TW383443B (en) | 1997-08-06 | 1998-06-15 | Semiconductor supporting device |
US09/122,894 US6051303A (en) | 1997-08-06 | 1998-07-28 | Semiconductor supporting device |
KR1019980031005A KR100295146B1 (ko) | 1997-08-06 | 1998-07-31 | 반도체 지지 장치 |
EP98306154A EP0896362B1 (en) | 1997-08-06 | 1998-07-31 | Semiconductor supporting device |
DE69834778T DE69834778T2 (de) | 1997-08-06 | 1998-07-31 | Haltevorrichtung für Halbleiter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21160897A JP3318514B2 (ja) | 1997-08-06 | 1997-08-06 | 半導体支持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1154603A JPH1154603A (ja) | 1999-02-26 |
JP3318514B2 true JP3318514B2 (ja) | 2002-08-26 |
Family
ID=16608590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21160897A Expired - Lifetime JP3318514B2 (ja) | 1997-08-06 | 1997-08-06 | 半導体支持装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6051303A (ja) |
EP (1) | EP0896362B1 (ja) |
JP (1) | JP3318514B2 (ja) |
KR (1) | KR100295146B1 (ja) |
DE (1) | DE69834778T2 (ja) |
TW (1) | TW383443B (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3949268B2 (ja) * | 1998-04-20 | 2007-07-25 | 日本碍子株式会社 | 耐食性セラミックス部材 |
JP2000113427A (ja) * | 1998-10-06 | 2000-04-21 | Tdk Corp | 薄膜デバイス、薄膜磁気ヘッドおよび磁気抵抗効果素子並びにそれらの製造方法 |
US6376807B1 (en) * | 1999-07-09 | 2002-04-23 | Applied Materials, Inc. | Enhanced cooling IMP coil support |
JP4447750B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2010-04-07 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム焼結体および半導体製造用部材 |
JP4028149B2 (ja) * | 2000-02-03 | 2007-12-26 | 日本碍子株式会社 | 加熱装置 |
JP2002097075A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-04-02 | Nihon Ceratec Co Ltd | セラミックス材料 |
JP4641609B2 (ja) * | 2000-10-18 | 2011-03-02 | 日本碍子株式会社 | 耐蝕性部材 |
JP4514379B2 (ja) * | 2000-12-21 | 2010-07-28 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム焼結体及び半導体製造装置用部材 |
US6847014B1 (en) * | 2001-04-30 | 2005-01-25 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for controlling the spatial temperature distribution across the surface of a workpiece support |
US20050211385A1 (en) * | 2001-04-30 | 2005-09-29 | Lam Research Corporation, A Delaware Corporation | Method and apparatus for controlling spatial temperature distribution |
WO2002089531A1 (en) * | 2001-04-30 | 2002-11-07 | Lam Research, Corporation | Method and apparatus for controlling the spatial temperature distribution across the surface of a workpiece support |
JP5073135B2 (ja) * | 2001-07-05 | 2012-11-14 | 電気化学工業株式会社 | 窒化アルミニウム焼結体、その製造方法及び用途 |
JP3888531B2 (ja) * | 2002-03-27 | 2007-03-07 | 日本碍子株式会社 | セラミックヒーター、セラミックヒーターの製造方法、および金属部材の埋設品 |
US6986865B2 (en) * | 2002-07-10 | 2006-01-17 | Watlow Electric Manufacturing Company | Method for manufacturing an electrostatic chuck |
WO2004030411A1 (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | ウエハー保持体及び半導体製造装置 |
JP3829935B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2006-10-04 | 信越化学工業株式会社 | 高耐電圧性部材 |
US8038796B2 (en) | 2004-12-30 | 2011-10-18 | Lam Research Corporation | Apparatus for spatial and temporal control of temperature on a substrate |
US7935325B2 (en) * | 2006-01-31 | 2011-05-03 | Osram Sylvania Inc. | Rare earth-activated aluminum nitride powders and method of making |
JP2008115440A (ja) * | 2006-11-06 | 2008-05-22 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 基板加熱装置 |
US9355883B2 (en) * | 2011-09-09 | 2016-05-31 | Lam Research Ag | Method and apparatus for liquid treatment of wafer shaped articles |
US9748120B2 (en) | 2013-07-01 | 2017-08-29 | Lam Research Ag | Apparatus for liquid treatment of disc-shaped articles and heating system for use in such apparatus |
JP7054705B2 (ja) * | 2016-11-16 | 2022-04-14 | クアーズテック,インコーポレイティド | 耐食性構成要素およびその製造方法 |
JP6642386B2 (ja) | 2016-11-18 | 2020-02-05 | 株式会社デンソー | リフロー装置およびそれを用いた基板の製造方法 |
CN111868010B (zh) | 2018-03-27 | 2023-04-28 | 日本碍子株式会社 | 氮化铝板 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3608326A1 (de) * | 1986-03-13 | 1987-09-17 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Praktisch porenfreie formkoerper aus polykristallinem aluminiumnitrid und verfahren zu ihrer herstellung ohne mitverwendung von sinterhilfsmitteln |
JP3071933B2 (ja) * | 1991-05-28 | 2000-07-31 | 日本碍子株式会社 | 解離したハロゲン系腐蝕性ガスに対する耐蝕性部材およびその製造方法 |
US5413360A (en) * | 1992-12-01 | 1995-05-09 | Kyocera Corporation | Electrostatic chuck |
US5320990A (en) * | 1993-03-30 | 1994-06-14 | The Dow Chemical Company | Process for sintering aluminum nitride to a high thermal conductivity and resultant sintered bodies |
JP2857015B2 (ja) * | 1993-04-08 | 1999-02-10 | 株式会社ジャパンエナジー | 高純度アルミニウムまたはその合金からなるスパッタリングターゲット |
JPH0786379A (ja) * | 1993-09-13 | 1995-03-31 | Kyocera Corp | 半導体製造用サセプタ |
US5520785A (en) * | 1994-01-04 | 1996-05-28 | Motorola, Inc. | Method for enhancing aluminum nitride |
US5668524A (en) * | 1994-02-09 | 1997-09-16 | Kyocera Corporation | Ceramic resistor and electrostatic chuck having an aluminum nitride crystal phase |
JPH07273053A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置及びアルミ系部材のコーティング方法 |
JP3297571B2 (ja) * | 1995-12-18 | 2002-07-02 | 京セラ株式会社 | 静電チャック |
US5672420A (en) * | 1996-03-22 | 1997-09-30 | Lockheed Martin Energy Systems, Inc. | High temperature ceramic articles having corrosion resistant coating |
JP3457495B2 (ja) * | 1996-03-29 | 2003-10-20 | 日本碍子株式会社 | 窒化アルミニウム焼結体、金属埋設品、電子機能材料および静電チャック |
-
1997
- 1997-08-06 JP JP21160897A patent/JP3318514B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-15 TW TW087109513A patent/TW383443B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-07-28 US US09/122,894 patent/US6051303A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-31 KR KR1019980031005A patent/KR100295146B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-07-31 EP EP98306154A patent/EP0896362B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-31 DE DE69834778T patent/DE69834778T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69834778T2 (de) | 2007-06-14 |
EP0896362B1 (en) | 2006-06-07 |
KR100295146B1 (ko) | 2001-08-07 |
KR19990023263A (ko) | 1999-03-25 |
US6051303A (en) | 2000-04-18 |
TW383443B (en) | 2000-03-01 |
EP0896362A1 (en) | 1999-02-10 |
DE69834778D1 (de) | 2006-07-20 |
JPH1154603A (ja) | 1999-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3318514B2 (ja) | 半導体支持装置 | |
US6632549B1 (en) | Corrosion-resistant member, wafer-supporting member, and method of manufacturing the same | |
JP3457495B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体、金属埋設品、電子機能材料および静電チャック | |
JP5121268B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体及び半導体製造装置用部材 | |
JP2007516921A (ja) | 半導体材料処理装置におけるイットリアでコーティングされたセラミック部品及びその部品を製造する方法 | |
JP3433063B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体、電子機能材料および静電チャック | |
JP3670444B2 (ja) | 窒化アルミニウム基複合体、電子機能材料、静電チャックおよび窒化アルミニウム基複合体の製造方法 | |
JP4493264B2 (ja) | 窒化アルミニウム質セラミックス、半導体製造用部材および耐蝕性部材 | |
JP2003221278A (ja) | 窒化アルミニウム質セラミックス、半導体製造用部材、耐蝕性部材および導電性部材 | |
KR20180126142A (ko) | 고온에서 높은 비저항을 갖는 질화알루미늄 소결체 및 그 제조방법 | |
JP2001220237A (ja) | 炭化ケイ素体およびその製造方法 | |
JP3037883B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体、その製造方法および半導体製造用装置 | |
JP2001308011A (ja) | 半導体製造装置用チャンバー部材 | |
JP2009234877A (ja) | プラズマ処理装置用部材 | |
JP3623107B2 (ja) | 静電チャック | |
JP3784180B2 (ja) | 耐食性部材 | |
JP2003261383A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体およびそれを用いた静電チャック | |
JP2001240461A (ja) | アルミナ質耐食部材及びプラズマ装置 | |
JP2000143348A (ja) | 窒化アルミニウム焼結体及びその製造方法並びにこれを用いた半導体製造装置用部材 | |
JP3667077B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2009203113A (ja) | プラズマ処理装置用セラミックス | |
JP4376881B2 (ja) | イットリアセラミックス焼結体およびその製造方法 | |
JPH08208338A (ja) | 耐蝕性部材およびウエハ保持装置 | |
JP2003261396A (ja) | 耐プラズマ性窒化アルミニウム基セラミックス | |
JPH07135246A (ja) | 静電チャック |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020122 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020514 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080614 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090614 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100614 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100614 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110614 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120614 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130614 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140614 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |