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KR20180005129A - Vapor deposition apparatus and evaporation source - Google Patents

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KR20180005129A
KR20180005129A KR1020170084996A KR20170084996A KR20180005129A KR 20180005129 A KR20180005129 A KR 20180005129A KR 1020170084996 A KR1020170084996 A KR 1020170084996A KR 20170084996 A KR20170084996 A KR 20170084996A KR 20180005129 A KR20180005129 A KR 20180005129A
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evaporation
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evaporation source
longitudinal direction
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히로유키 타무라
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캐논 톡키 가부시키가이샤
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Publication date
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Abstract

The present invention provides a deposition apparatus and an evaporation source, capable of preventing reflection or re-evaporation of a film forming material to an evaporation source and deposition on a member around an evaporation source, even in a configuration in which an opened cross-sectional surface of an evaporation hole located on the outermost side is inclined to face the outer side in the long longitudinal direction of the evaporation source. The deposition apparatus has an evaporation source comprising: a container (1) containing a film-forming material; a plurality of evaporation holes (2a, 2b) installed along the long longitudinal direction of the container (1); and an evaporation source surrounding member (3) installed around the container (1), wherein a pair of outer evaporation holes (2a) installed on the outermost side among the evaporation holes (2a, 2b) have an opened cross-sectional surface inclined to face the outer side of the container (1) in the long longitudinal direction, and the container (1) and the evaporation source surrounding member (3) are configured to be inserted into the inner side of a virtual plane without protruding outward beyond the virtual plane including the opened cross-sectional surface.

Description

증착 장치 및 증발원{VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND EVAPORATION SOURCE}≪ Desc / Clms Page number 1 > APPARATUS AND EVAPORATION SOURCE [

본 발명은 증착 장치 및 증발원에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition apparatus and an evaporation source.

본 출원인은 자신의 선출원인 일본특허출원 제2014-265981호에서, 증발원에 설치된 복수의 증발구부(蒸發口部) 중 외측에 위치하는 증발구부의 개구 단면을 증발원의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사시킴으로써, 증발구부를 긴 길이 방향 외측으로 넓게 배치하여 설치하지 않더라도 막 두께 분포가 균일하며, 성막된 패턴에 있어서의 불량(shadow)이 억제된 증착막을 얻을 수 있도록 한 진공 증착 장치를 제안하고 있다.The applicant of the present application has found that the applicant of Japanese Patent Application No. 2014-265981 of the applicant of the present application has found that the open end face of the evaporation portion located on the outer side of the plurality of evaporation holes provided in the evaporation source is inclined A vapor deposition apparatus in which a film thickness distribution is uniform and a shadow is suppressed in a deposited pattern can be obtained even if the evaporation and bending section is not arranged widely outward in the longitudinal direction.

그런데, 전술한 바와 같이 증발원(A)의 증발구부(B)의 개구 단면을 증발원의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사시켰을 경우, 이 경사지는 개구 단면으로부터 방출되는 증발한 성막 재료의 비산 범위가 증발원 측으로 기울어, 도 1에 도시한 바와 같이, 증발원(A)의 양 단부(도 1 중 C로 나타내는 범위)에 걸쳐 버리는 문제가 있다(일반적으로 증발구부로부터 방출되는 성막 재료의 방출 각도 분포는, 개구의 법선 방향을 0°로 하는 여현칙을 따라, 개구 단면을 포함하는 가상 평면으로부터 전방으로 비산한다).As described above, when the open end face of the evaporation portion B of the evaporation source A is inclined toward the outside in the longitudinal direction of the evaporation source, the range of scattering of evaporated film forming material, 1, there is a problem in that both end portions of the evaporation source A (the range indicated by C in Fig. 1) are tilted as shown in Fig. 1. (Generally, the emission angle distribution of the film forming material discharged from the evaporation / In a forward direction from the imaginary plane including the opening cross-section, according to a condi- tion that the normal direction of the opening is 0 deg.).

증발원에 직접 성막 재료의 비산 범위가 걸치는 경우, 증발원은 가열되고 있기 때문에, 비산한 성막 재료는 증발원에서 반사 또는 재증발하여 기판 상에 도달하여, 막 두께 분포에 영향을 줄 가능성이 있다.In the case where the scattering range of the film forming material is directly applied to the evaporation source, since the evaporation source is heated, the scattered film forming material may be reflected or re-evaporated from the evaporation source and reach the substrate, thereby affecting the film thickness distribution.

또한, 증발원을 냉각 부재로 덮고 있는 경우에는, 성막 재료의 비산 범위에 걸쳐 있는 냉각 부재 상으로 성막 재료가 퇴적하게 된다. 냉각 부재 상의 퇴적물은 재증발하기 어렵고, 서서히 성장하여, 언젠가는 증발구부의 개구를 막을 가능성이 있다.Further, when the evaporation source is covered with the cooling member, the film forming material is deposited on the cooling member which spans the scattering range of the film forming material. The deposit on the cooling member is difficult to re-evaporate and grow slowly, possibly blocking the opening of the evaporation bellet sometime.

본 발명은, 전술한 바와 같은 현상을 감안하여 이루어진 것으로, 가장 외측에 위치하는 증발구부의 개구 단면이 증발원의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사진 구성에서도, 성막 재료의 증발원으로의 반사 또는 재증발 및 증발원 주변 부재로의 퇴적을 방지할 수 있는 증착 장치 및 증발원을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described phenomenon, and it is an object of the present invention to provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition apparatus, And an evaporation source that can prevent deposition on a member around the evaporation source.

성막 재료가 수용되는 용기와, 상기 용기의 긴 길이 방향을 따라 설치되는 복수의 증발구부와, 상기 용기의 주위에 설치되는 증발원 주변 부재를 포함하는 증발원을 구비하고, 상기 증발구부로부터 상기 성막 재료를 방출함으로써 기판 상에 증착막을 형성하도록 구성한 증착 장치로서, 상기 복수의 증발구부 중 가장 외측에 설치된 한 쌍의 외측 증발구부는 각각 상기 용기의 긴 길이 방향 외측을 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고, 상기 용기 및 상기 증발원 주변 부재가 상기 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치에 관한 것이다.An evaporation source including a container in which a film forming material is accommodated, a plurality of evaporator portions provided along a longitudinal direction of the container, and an evaporation source peripherally provided around the container, And a pair of outer evaporation ports provided on the outermost one of the plurality of evaporation ports has an opening section inclined so as to face outward in the longitudinal direction of the container, Wherein the container and the evaporation source peripheral member are configured so as to enter the inside of the virtual plane without protruding outwardly from a virtual plane including the opening end face.

본 발명은 전술한 바와 같이 구성함으로써, 가장 외측에 위치하는 증발구부의 개구 단면이 증발원의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사진 구성에서도, 성막 재료의 증발원으로의 반사 또는 재증발 및 증발원 주변 부재로의 퇴적을 방지할 수 있는 증착 장치 및 증발원이 된다.The present invention can be applied to a structure in which the opening end face of the evaporation portion located at the outermost position is inclined so as to be directed to the outside in the longitudinal direction of the evaporation source by reflection or reflow to the evaporation source, The evaporation source and the evaporation source that can prevent the deposition of the evaporation source.

도 1은 배경 기술의 개략 설명도이다.
도 2는 본 실시예의 확대 개략 설명 단면도이다.
도 3은 본 실시예의 개략 설명 단면도이다.
도 4는 본 실시예의 요부의 개략도이다.
도 5는 다른 예 1의 확대 개략 설명 단면도이다.
도 6은 다른 예 2의 개략 설명 단면도이다.
도 7은 다른 예 3의 확대 개략 설명 단면도이다.
도 8은 다른 예 4의 개략 설명 정면도이다.
도 9는 다른 예 4의 개략 설명 측면도이다.
도 10은 증착 장치의 개략 설명 정면도이다.
도 11은 증착 장치의 개략 설명 측면도이다.1 is a schematic explanatory diagram of the background art.
2 is an enlarged schematic explanatory cross-sectional view of this embodiment.
3 is a schematic explanatory sectional view of this embodiment.
4 is a schematic view of the main part of the embodiment.
5 is an enlarged schematic explanatory sectional view of another example 1. Fig.
6 is a schematic cross-sectional view of another example 2. Fig.
7 is an enlarged schematic explanatory sectional view of another example 3. Fig.
8 is a schematic explanatory front view of another example 4. Fig.
9 is a schematic explanatory side view of another example 4. Fig.
10 is a schematic front view of a deposition apparatus.
11 is a schematic explanatory side view of a deposition apparatus.

바람직하다고 생각되는 본 발명의 실시형태를, 도면을 기초로 본 발명의 작용을 나타내어 간단하게 설명한다.Brief Description of the Drawings Fig.

용기(1)의 증발구부(2a, 2b)로부터 증발한 성막 재료를 방출하여 기판에 증착막을 형성한다.The deposition material evaporated from the evaporation ports 2a and 2b of the container 1 is discharged to form a vapor deposition film on the substrate.

이 때, 용기(1) 및 가열 부재나 냉각 부재 등의 증발원 주변 부재(3)가, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고, 즉, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면으로부터 방출되는 성막 재료가 걸리는 영역에 용기(1) 및 증발원 주변 부재(3)가 존재하지 않기 때문에, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면으로부터 방출되는 성막 재료의 용기(1)로의 반사 또는 재증발 및 증발원 주변 부재(3)로의 퇴적을 방지할 수 있다.At this time, the evaporation source peripheral member 3 such as the container 1 and the heating member or the cooling member does not protrude outward beyond the virtual plane including the open end face of the outer evaporation portion 2a, The container 1 of the film forming material discharged from the open end face of the outer evaporator 2a does not exist in the region where the film forming material discharged from the opening end face of the outer evaporator 2a is present. It is possible to prevent reflection or re-evaporation on the evaporation source member 3 and deposition on the evaporation source peripheral member 3.

[실시예][Example]

본 발명의 구체적인 실시예에 대해 도면을 기초로 설명한다.Specific embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

본 실시예는 도 10, 11에 도시한 바와 같은 증착 장치에 본 발명을 적용한 예이다. 이 증착 장치는, 감압 분위기를 유지하는 진공조(20) 내에서 기판(21)에 박막을 형성하기 위해, 성막 재료를 방출하는 증발원(25)이 기판(21)과 대향하는 위치에 배치하여 설치되고, 증발원(25)으로부터 방출된 증발 입자의 증발 레이트를 모니터하는 막 두께 모니터(22)와, 진공조(20) 밖에 설치되어 모니터된 증발 입자의 양을 막 두께로 환산하는 막 두께 계측기(23)와, 환산된 막 두께가 원하는 막 두께가 되도록 성막 재료의 증발 레이트를 제어하기 위해 증발원(25)을 가열하는 히터용 전원(24)을 설치하고 있다. 또한, 기판(21)과 증발원(25)을 상대적으로 이동시키는 상대 이동 기구가 설치되어 있고, 상대 이동하면서 성막을 행함으로써, 기판 전면에 걸쳐 균일한 막 두께의 증착막을 형성할 수 있다.This embodiment is an example in which the present invention is applied to a deposition apparatus as shown in Figs. This vapor deposition apparatus is provided with an evaporation source 25 for emitting a film forming material disposed at a position facing the substrate 21 in order to form a thin film on the substrate 21 in a vacuum chamber 20 maintaining a reduced pressure atmosphere A film thickness monitor 22 for monitoring the evaporation rate of evaporated particles emitted from the evaporation source 25 and a film thickness meter 23 for converting the amount of evaporated particles installed outside the vacuum chamber 20 into a film thickness And a heater power source 24 for heating the evaporation source 25 to control the evaporation rate of the film forming material so that the converted film thickness becomes a desired film thickness. Further, a relative movement mechanism for relatively moving the substrate 21 and the evaporation source 25 is provided, and by performing film formation while moving relative to each other, a vapor-deposited film having a uniform film thickness can be formed over the entire surface of the substrate.

또한, 상기 용기(1)와 상기 용기(1)에 대향하는 위치에 배치된 기판은, 상기 용기(1)의 긴 길이 방향과 직교하는 방향으로 상대적으로 이동하고, 증발구부(2)로부터 상기 성막 재료를 방출함으로써, 기판 상에 증착막을 형성하도록 구성되어 있다.The substrate 1 and the substrate disposed opposite to the container 1 are relatively moved in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the container 1 and the substrate 1 is transported from the evaporation / Thereby forming a vapor deposition film on the substrate.

본 실시예에 있어서는, 성막 재료가 수용되는 용기(1)와, 이 용기(1)에 용기(1)의 긴 길이 방향을 따라 복수 설치되는 증발구부(2a, 2b)를 포함하는 증발원(25)을 채용하고 있다.In this embodiment, the evaporation source 25 including the container 1 in which the film-forming material is accommodated and the plurality of evaporation portions 2a and 2b provided in the container 1 along the longitudinal direction of the container 1, .

본 실시예의 상기 용기(1) 및 이 용기(1)의 주위에 설치되는 증발원 주변 부재(3)는, 상기 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성되어 있다.The container 1 of the present embodiment and the evaporation source peripheral member 3 provided around the container 1 are configured so as not to protrude outward beyond the virtual plane including the opening end face but to enter the inside of the virtual plane .

또한, 용기(1)에는 기화한 성막 재료가 확산하는 확산부(4)가 설치되고, 이 확산부(4)의 용기(1)의 긴 길이 방향에서의 폭 W1은 증발구부(2a, 2b)의 배치폭 W2보다 좁은 폭으로 설정되어 있다. 본 실시예에 있어서는, 용기(1)의 하부를 재료 수용부(5)로 하고, 상부를 확산부(4)로 한 일체형의 용기(1)를 채용하고 있다.A width W1 of the diffusion section 4 in the longitudinal direction of the container 1 is set to be equal to the width of the evaporation section 2a or 2b, The width W2 is set to be smaller than the arrangement width W2. In this embodiment, the integral container 1 in which the lower part of the container 1 is the material accommodating part 5 and the upper part is the diffusion part 4 is adopted.

상기 복수의 증발구부(2) 중 가장 외측에 설치된 한 쌍의 외측 증발구부(2a)는, 각각 상기 용기(1)의 긴 길이 방향 외측을 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고 있다.The pair of outer evaporator portions 2a provided on the outermost side of the plurality of evaporator portions 2 each have an opening end face inclined so as to face outward in the longitudinal direction of the container 1.

또한, 외측 증발구부(2a) 이외의 다른 증발구부(2b)는, 외측 증발구부(2a)와 마찬가지로 용기(1)의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖는 구성으로 하여도 좋고, 긴 길이 방향 내측을 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖는 구성으로 하여도 좋고, 용기(1)에 수직으로 세워 설치된 구성으로 하여도 좋다.The other evaporation portion 2b other than the outside evaporation portion 2a may have an opening section inclined so as to be directed outwardly in the longitudinal direction of the container 1 like the outside evaporation portion 2a, It may have an opening section inclined so as to face inward in the longitudinal direction, or it may be constructed so as to be vertically erected on the container 1. [

본 실시예에 있어서는, 가장 내측의 1조를 제외한 다른 증발구부(2b)를 외측 증발구부(2a)와 마찬가지의 구성으로 하고, 가장 내측의 1조의 증발구부(2b)를 용기(1)에 수직으로 세워 설치한 구성으로 하고 있다.In the present embodiment, the evaporation bending section 2b except for the innermost one is constructed in the same manner as the outer evaporation bending section 2a, and the innermost one evaporation bending section 2b is arranged perpendicular to the vessel 1 As shown in Fig.

본 실시예의 증발원 주변 부재(3)는, 평면에서 보았을 때 사각 형상의 용기(1)의 주위를 둘러싸도록 설치되는 각형 링(角環) 형상의 부재로서, 구체적으로는, 용기(1)의 가열 부재 및 냉각 부재이다.The evaporation source peripheral member 3 of the present embodiment is a rectangular ring shaped member which is provided so as to surround the periphery of the rectangular container 1 when seen in plan view. Member and a cooling member.

본 실시예에 있어서는, 도 2, 3에 도시한 바와 같이, 증발원 주변 부재(3)로서 안쪽에서부터 순서대로, 용기(1)를 가열하는 히터(6)와, 용기(1) 및 히터(6)로부터의 열을 반사하는 리플렉터(7)와, 상기 용기(1), 히터(6) 및 리플렉터(7)로부터의 열을 주위로 확산시키지 않기 위한 수냉판(8)과, 용기(1), 히터(6), 리플렉터(7) 및 수냉판(8)을 둘러싸는 증착방지판(防着板)(9)을 설치하고 있다. 또한, 본 실시예에 있어서는 증착방지판(9)은, 히터(6), 리플렉터(7) 및 수냉판(8)의 상면도 덮는 형상으로 하고 있다. 나아가, 증착방지판(9)은, 증발구부(2a, 2b)의 배치 영역을 제외하고, 용기(1)의 상면 전체도 덮는 형상으로 하고 있다.2 and 3, the evaporation source peripheral member 3 includes a heater 6 for heating the container 1 and a heater 6 for heating the container 1 and the heater 6 in this order from the inside, A reflector 7 for reflecting heat from the container 1, a water-cooled plate 8 for preventing the heat from the container 1, the heater 6 and the reflector 7 from spreading to the surroundings, (6), a reflector (7), and a deposition preventing plate (9) surrounding the water cooling plate (8). In this embodiment, the evaporation preventing plate 9 also has a shape that covers the upper surface of the heater 6, the reflector 7, and the water-cooled plate 8. [ Furthermore, the evaporation prevention plate 9 is formed so as to cover the entire upper surface of the container 1 except for the region where the evaporation holes 2a and 2b are arranged.

용기(1)는, 용기(1)의 긴 길이 방향 단면으로부터 외측 증발구부(2a)까지의 거리가, 용기(1)의 양 단부 및 상기 증발원 주변 부재(3)가 상기 가상 평면의 외측에 위치하지 않는 길이로 되도록 구성되어 있다.The container 1 is configured such that the distance from the longitudinally long end face of the container 1 to the outer evaporation port 2a is set such that both ends of the container 1 and the evaporation source peripheral member 3 are located outside the virtual plane The length is set to a length that does not exist.

구체적으로는, 용기(1)의 긴 길이 방향 단면으로부터 외측 증발구부(2a)까지의 길이, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면의 경사 각도, 증발원 주변 부재(3)의 두께를 적절히 설정하여, 용기(1) 및 증발원 주변 부재(3)가 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성되어 있다. 여기서, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면의 경사 각도는 30°~45°로 설정하는 것이 바람직하다.Specifically, the length from the longitudinally long end face of the container 1 to the outer evaporation portion 2a, the inclination angle of the opening end face of the outer evaporation portion 2a, and the thickness of the evaporation source peripheral member 3 are appropriately set, The container 1 and the evaporation source peripheral member 3 are configured to enter the inside of the virtual plane. Here, the angle of inclination of the open end face of the outer evaporator 2a is preferably set to 30 to 45 degrees.

예를 들어, 도 4에 도시한 바와 같이, 용기(1)의 긴 길이 방향 단면으로부터 외측 증발구부(2a)까지의 길이 M1, 증발원 주변 부재(3)의 단면으로부터 외측 증발구부(2a)까지의 길이 M2 및 증발원 주변 부재(3)의 두께 M3는, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면의 경사 각도 θ, 외측 증발구부(2a)의 (용기(1)의 상면으로부터 돌출하는) 선단 길이 L2를 이용하여, 이하와 같이 하여 결정할 수 있다. 또한, 도면 중 L1은 외측 증발구부(2a)의 전체 길이다.For example, as shown in Fig. 4, the length M1 from the long longitudinal direction end face of the container 1 to the outer evaporation hole 2a, the length M1 from the end face of the evaporation source peripheral member 3 to the outer evaporation hole 2a The length M2 and the thickness M3 of the evaporation source peripheral member 3 are set such that the inclination angle? Of the opening edge face of the outer evaporation hole 2a and the tip length L2 (protruding from the upper surface of the container 1) of the outer evaporation hole 2a Can be determined as follows. In the figure, L1 is the entire length of the outer evaporator 2a.

M1=L2×sinθM1 = L2 x sin &thetas;

M2=L2÷sinθM2 = L2 / sin &thetas;

M3=M2-M1M3 = M2-M1

예를 들어, L2가 40㎜, θ가 40°인 경우, M1는 25.7㎜, M2는 62.2㎜, M3는 36.5 ㎜가 된다.For example, when L2 is 40 mm and? Is 40, M1 is 25.7 mm, M2 is 62.2 mm, and M3 is 36.5 mm.

또한, 증발원 주변 부재(3)는, 도 2에서는 용기(1)의 단부의 측면 및 단면을 둘러싸는 구성으로 하고 있지만, 용기(1)의 단부의 상면까지 둘러싸는 구성으로 하여도 좋다. 예를 들어, 도 5에 도시한 다른 예 1과 같이, 히터(6), 리플렉터(7) 및 증착방지판(9)이 용기(1)의 단부의 상면도 덮는 구성으로 하여도 좋다.Although the evaporation source peripheral member 3 surrounds the side surface and the end surface of the end portion of the container 1 in Fig. 2, it may be configured to surround the upper surface of the end portion of the container 1. Fig. For example, the heater 6, the reflector 7, and the evaporation preventing plate 9 may also be configured to cover the upper surface of the end portion of the container 1 as in the first example shown in Fig.

또한, 용기(1)의 구성으로서 전술한 바와 같은 일체형에 한하지 않고, 예를 들어 도 6에 도시한 다른 예 2의 증발원(25)과 같이, 재료 수용부(5)와 확산부(4)가 연통부(12)를 거쳐 설치되고, 상기 재료 수용부(5)와 상기 확산부(4)의 2개를 합쳐 용기(1)로 하는 분리형으로 하여도 된다. 이 경우, 확산부(4)의 폭 W1을 상기 가상 평면으로부터 용기(1) 등이 외측으로 돌출하지 않도록 좁게 하면, 재료 수용부(5)의 폭 W3는 상기 가상 평면의 내측에 넣기 위해 짧게 할 필요가 없기 때문에, 확산부(4)의 폭 W1보다 넓게 하여 보다 많은 재료를 수용할 수 있는 구성을 실현할 수 있고, 또한, 재료 수용부(5)의 기판 온도에 대한 영향을 억제할 수 있는 등, 한층 양호하게 성막을 행할 수 있는 구성으로 된다.6, the material accommodating portion 5 and the diffusion portion 4 may be formed in the same manner as the evaporation source 25 of the second example shown in Fig. 6, It is also possible to form the container 1 by separating the material accommodating portion 5 and the diffusion portion 4 into two. In this case, if the width W1 of the diffusion portion 4 is narrowed so that the container 1 or the like does not protrude outwardly from the virtual plane, the width W3 of the material accommodating portion 5 is shortened to be placed inside the virtual plane It is possible to realize a structure in which more material can be accommodated by making the width W1 of the diffusion section 4 larger than the width W1 of the diffusion section 4 and also the influence of the material accommodating section 5 on the substrate temperature can be suppressed , So that film formation can be performed more satisfactorily.

또한, 본 실시예에 있어서는, 증발구부(2a, 2b)의 용기(1)의 긴 길이 방향 외측을 향하도록 경사지는 개구 단면의 경사 각도를 동일하게 하고 있지만, 외측 증발구부(2a)의 개구 단면의 경사 각도가 가장 커지도록 각 개구 단면의 경사 각도를 다른 각도로 설정하여도 좋다. 또한, 이 때, 증발구부(2a, 2b)의 개구 단면의 경사 각도는, 이보다 내측의 증발구부(2b)의 개구 단면의 경사 각도 이상의 각도가 되도록 설정하여도 좋다.In this embodiment, the angle of inclination of the opening end faces of the evaporation ports 2a and 2b is set to be the same as the angle of inclination toward the outside in the longitudinal direction of the container 1, The angle of inclination of each opening section may be set to be different from the angle of inclination of the opening section. At this time, the angle of inclination of the open end face of the evaporation portion 2a or 2b may be set to be an angle larger than the inclination angle of the open end face of the evaporation portion 2b inside.

이 경우, 내측의 증발구부(2b)로부터 방출한 증발 입자가 외측의 증발구부(2a, 2b)에 부착되어 재증발하지 않는 구성으로 할 수 있다. 또한, 외측의 증발구부(2a, 2b) 쪽이 기판 단까지의 거리가 길어, 보다 멀리까지 증발 입자를 도달시킬 필요가 있지만, 외측으로 갈수록 경사 각도를 크게 함으로써 외측의 증발구부(2a, 2b)로부터 방출되는 증발 입자를 보다 멀리까지 도달시키는 것이 가능하게 된다.In this case, the evaporation particles emitted from the inner evaporation port portion 2b adhere to the outer evaporation ports 2a and 2b, so that the evaporation particles do not evaporate again. It is necessary to reach the evaporation particles farther from the outer evaporation ports 2a and 2b because the distance to the end of the evaporation ports 2a and 2b is long. However, by increasing the angle of inclination toward the outer side, It is possible to reach farther the evaporated particles emitted from the evaporator.

또한, 도 7에 도시한 다른 예 3과 같이, 외측 증발구부(2a)뿐만 아니라, 용기(1)의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖는 다른 증발구부(2b)에 대해서도 각각, 용기(1) 및 이 용기(1)의 주위에 설치되는 증발원 주변 부재(3)가, 각 증발구부(2a, 2b)의 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성하면 보다 한층 효과가 크다.7, not only the outer evaporation portion 2a but also the other evaporation portion 2b having an opening section inclined toward the outside in the longitudinal direction of the container 1, The container 1 and the evaporation source peripheral member 3 provided around the container 1 do not protrude outward beyond the virtual plane including the open end face of each of the evaporation hole portions 2a and 2b, So that the effect is more remarkable.

또한, 일체형의 용기(1) 또는 분리형의 용기(1)의 상부를, 도 8 및 도 9에 도시한 다른 예 4와 같이, 좌우 양단 상부나 전후 양단 상부 또는 좌우 양단 상부 및 전후 양단 상부를 소정 각도로 모따기 한 구성으로 하여도 좋다. 도 8의 경우 용기(1)의 긴 길이 방향의 증발원 주변 부재(3)로의 재료 부착을, 도 9의 경우 증발원 짧은 길이 방향 전후의 증발원 주변 부재(3)로의 재료 부착을 한층 방지할 수 있는 구성으로 된다.The upper part of the integral type container 1 or the detachable container 1 is divided into upper left and right upper ends, upper and lower right upper ends, upper left and right upper ends, Or may be chamfered at an angle. In the case of FIG. 8, the material attachment to the evaporation source peripheral member 3 in the long longitudinal direction of the container 1 can be further improved by preventing the material attachment to the evaporation source peripheral members 3 before and after the evaporation source short- .

또한, 본 발명은, 본 실시예에 한정되는 것은 아니며, 각 구성 요건의 구체적 구성은 적절히 설계할 수 있는 것이다.Further, the present invention is not limited to this embodiment, and the specific configuration of each constituent requirement can be appropriately designed.

1: 용기
2a·2b: 증발구부
3: 증발원 주변 부재
4: 확산부
5: 재료 수용부
6: 히터
7: 리플렉터
8: 수냉판
9: 증착방지판1: container
2a and 2b: evaporation bending
3: member around the evaporation source
4:
5: Material receiving portion
6: Heater
7: Reflector
8: Water-cooled plate
9:

Claims (16)

성막 재료가 수용되는 용기와, 상기 용기의 긴 길이 방향을 따라 설치되는 복수의 증발구부와, 상기 용기의 주위에 설치되는 증발원 주변 부재를 포함하는 증발원을 구비하고, 상기 증발구부로부터 상기 성막 재료를 방출함으로써 기판 상에 증착막을 형성하도록 구성한 증착 장치로서,
상기 복수의 증발구부 중 가장 외측에 설치된 한 쌍의 외측 증발구부는, 각각 상기 용기의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고, 상기 용기 및 상기 증발원 주변 부재가 상기 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.An evaporation source including a container in which a film forming material is accommodated, a plurality of evaporator portions provided along a longitudinal direction of the container, and an evaporation source peripherally provided around the container, Thereby forming a vapor deposition film on the substrate,
A pair of outer evaporation ports provided on the outermost side of the plurality of evaporation holes have an opening section inclined so as to be directed outwardly in the longitudinal direction of the container, and the container and the evaporation source peripheral member include the opening section And is configured so as not to protrude outward beyond the virtual plane but to enter the inside of the virtual plane. 제1항에 있어서,
상기 용기에는 증발한 상기 성막 재료가 확산하는 확산부가 설치되고, 이 확산부의 용기의 긴 길이 방향에서의 폭은 상기 증발구부의 배치폭보다 좁은 폭으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.The method according to claim 1,
Wherein the container is provided with a diffusion portion for diffusing the evaporated film forming material and the width of the container in the longitudinal direction of the diffusion portion is set narrower than the arrangement width of the evaporation portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 외측 증발구부를 제외한 임의의 증발구부는 상기 용기의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고, 상기 외측 증발구부의 개구 단면의 경사 각도가 가장 크게 되도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein any evaporation section except for the outer evaporation section has an opening section that is inclined so as to face outward in the longitudinal direction of the container and the inclination angle of the opening section of the outer evaporation section is set to be the largest. Device. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 증발구부의 개구 단면의 경사 각도는, 이보다 내측의 증발구부의 개구 단면의 경사 각도 이상의 각도로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the inclination angle of the opening section of the evaporation bending section is set to an angle at least equal to an inclination angle of the opening section of the evaporation section inside the evaporation bending section. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 외측 증발구부의 개구 단면의 경사 각도는 30°~45°로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the angle of inclination of the opening edge face of the outer evaporation hole is set to 30 to 45 degrees. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 용기는, 재료 수용부와 확산부로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the container comprises a material receiving portion and a diffusion portion. 제6항에 있어서,
상기 재료 수용부의 폭은 상기 확산부의 폭보다 넓은 폭으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증착 장치.The method according to claim 6,
Wherein the width of the material accommodating portion is set to be wider than the width of the diffusion portion. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 증발원 주변 부재는, 상기 용기를 가열하는 히터, 상기 용기로부터의 열을 반사하는 리플렉터, 상기 용기의 주위에 설치되는 수냉판 또는 상기 용기를 둘러싸는 증착방지판인 것을 특징으로 하는 증착 장치.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the evaporation source peripheral member is a vapor deposition plate for surrounding the vessel or a heater for heating the vessel, a reflector for reflecting heat from the vessel, and a water-cooled plate provided around the vessel. 성막 재료가 수용되는 용기와, 상기 용기의 긴 길이 방향을 따라 설치되는 복수의 증발구부와, 상기 용기의 주위에 설치되는 증발원 주변 부재를 포함하는 증발원으로서,
상기 복수의 증발구부 중 가장 외측에 설치된 한 쌍의 외측 증발구부는 각각 상기 용기의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고, 상기 용기 및 상기 증발원 주변 부재가 상기 개구 단면을 포함하는 가상 평면보다 외측으로 돌출하지 않고 상기 가상 평면의 내측에 들어가도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.An evaporation source including a container in which a film forming material is accommodated, a plurality of evaporator portions provided along a longitudinal direction of the container, and an evaporation source peripheral member provided around the container,
And a pair of outer evaporator portions provided at the outermost of the plurality of evaporator portions have an opening section inclined so as to face outward in the longitudinal direction of the container, respectively, and the container and the evaporation source peripheral member And is configured so as to enter the inside of the virtual plane without protruding outward than the plane. 제9항에 있어서,
상기 용기에는 증발한 상기 성막 재료가 확산하는 확산부가 설치되고, 이 확산부의 용기의 긴 길이 방향에서의 폭은 상기 증발구부의 배치폭보다 좁은 폭으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.10. The method of claim 9,
Wherein the container is provided with a diffusion portion for diffusing the evaporated film forming material therein and the width of the container in the longitudinal direction of the diffusion portion is set to be narrower than the arrangement width of the evaporation portion. 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 외측 증발구부를 제외한 임의의 증발구부는 상기 용기의 긴 길이 방향 외측으로 향하도록 경사지는 개구 단면을 갖고, 상기 외측 증발구부의 개구 단면의 경사 각도가 가장 크게 되도록 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein any evaporation section except for the outer evaporation section has an opening section inclined so as to face outward in the longitudinal direction of the container and the inclination angle of the opening section of the outer evaporation section is set to be largest. . 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 증발구부의 개구 단면의 경사 각도는, 이보다 내측의 증발구부의 개구 단면의 경사 각도 이상의 각도로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein an angle of inclination of the opening section of the evaporation bending section is set to an angle equal to or larger than an inclination angle of the opening section of the evaporation section inside the evaporating section. 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 외측 증발구부의 개구 단면의 경사 각도는 30°~45°로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the angle of inclination of the open end face of the outer evaporation hole is set to 30 ° to 45 °. 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 용기는, 재료 수용부와 확산부로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the container comprises a material receiving portion and a diffusion portion. 제14항에 있어서,
상기 재료 수용부의 폭은 상기 확산부의 폭보다 넓은 폭으로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 증발원.15. The method of claim 14,
Wherein the width of the material accommodating portion is set to be wider than the width of the diffusion portion. 제9항 또는 제10항에 있어서,
상기 증발원 주변 부재는, 상기 용기를 가열하는 히터, 상기 용기로부터의 열을 반사하는 리플렉터, 상기 용기의 주위에 설치되는 수냉판 또는 상기 용기를 둘러싸는 증착방지판인 것을 특징으로 하는 증발원.11. The method according to claim 9 or 10,
Wherein the evaporation source peripheral member is a vapor deposition plate for surrounding the vessel or a heater for heating the vessel, a reflector for reflecting heat from the vessel, a water-cooled plate provided around the vessel, or an evaporation prevention plate surrounding the vessel.
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