JP2003007670A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板表面が損傷しないように基板を回収する
ことが可能な基板処理装置と基板処理方法を提供する。 【解決手段】 洗浄処理システム１は、ウエハ搬送装置
１３・１５と、システム１内に存在するウエハを検出す
るウエハ検出センサと、システム１の電源遮断時にシス
テム１内に存在するウエハに関するウエハ情報を記憶す
るメモリ７４と、システム１内に存在するウエハをシス
テム１外に回収するように搬送装置１３・１５を制御す
る装置制御部７１と、搬送装置１３・１５がウエハの回
収を開始するように装置制御部７１に指令を発する回収
開始部７７とを具備する。システム１の電源投入時にウ
エハ検出センサによる検出情報とメモリ７４から取り出
されたウエハ情報とを照合して、システム１内のウエハ
が所定の向きで回収されることが確認された後に、回収
開始部７７からウエハ回収指令を装置制御部７１に発す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の基板に液処理や液処理後の熱的処理等の所
定の処理を施す基板処理装置と基板処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程で
は、半導体ウエハにおいて半導体デバイスが形成される
ウエハの表面の清浄度を高く維持する必要がある。この
ために、種々の製造プロセスの前後でウエハの表面の洗
浄が行われている。特に、フォトリソグラフィ工程にお
いては、ウエハの表面および裏面の洗浄は不可欠であ
る。そこで、従来より、例えば、略水平に載置されて面
内回転するウエハの上面に洗浄液を供給しながら回転す
るブラシをウエハの上面に当接させ、このブラシをウエ
ハの中心部と周縁部との間で往復移動させることによっ
て、ウエハの上面に付着したパーティクル等の汚染物質
を除去するスクラブ洗浄が行われている。

【０００３】このようなスクラブ洗浄を行う洗浄処理装
置に対するウエハの搬入出は、複数のウエハを略水平姿
勢で鉛直方向に一定間隔で収容可能な容器を用いて行わ
れる。容器に収容されるウエハは、ウエハの表面と裏面
を区別するために、その表面が上面となるように（以下
このような状態を「表向き」という）揃えて収容されて
いる。

【０００４】このような洗浄処理装置においては、先ず
容器の所定スロットからウエハが取り出されて装置内に
搬入される。その後にレシピに合わせてウエハを所定の
タイミングで反転させて、ウエハの表裏面の洗浄処理と
洗浄処理後の乾燥処理等を行う。このような種々の処理
は、ウエハの表面または裏面のどちらが上面となってい
るかを認識しながら行われる。最後に、処理が終了した
ウエハは、ウエハが表向きとなっている状態で容器の元
のスロットに戻されている。通常の運転では、容器に収
容されていた全てのウエハが、処理の終了後に元の容器
の元のスロットに戻され、これにより全工程が終了す
る。

【０００５】ところが、例えば、処理中に地震や強風等
の天災や人為的ミスによって洗浄処理装置の電源が落ち
て洗浄処理装置がシャットダウンしてしまった場合に
は、容器に収容されていた全てのウエハについて処理を
終了することができない。この場合には、再び洗浄処理
装置を起動させた際に、洗浄処理装置内に存在する全て
のウエハを回収しなければならない。このようなウエハ
の回収は、ウエハの表面と裏面の区別をすることなく、
容器の空きスロットに回収することによって行われてい
た。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエハ
を裏面が上面となっている状態（以下このような状態を
「逆向き」という）で容器に収容すると、容器内に設け
られたウエハを保持するための棚板とウエハの表面とが
擦れる。この場合には、ウエハに傷が生じてウエハが利
用不可能となる。また、ウエハの再処理の開始にあたっ
ては、容器に回収された基板の状態をオペレータが目視
により確認して、ウエハを表向きに揃える必要がある。
この場合には、オペレータの負担が大きくなり、生産性
も低下する。さらに、ウエハをオペレータが手作業で取
り扱うために、取り落とし等によってウエハが破損する
おそれもある。

【０００７】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、基板の表面が損傷することを回避しながら
装置内に存在する基板を回収することができる基板処理
装置と基板処理方法を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、オペレータの負担を軽減する基板処理装
置と基板処理方法を提供することを目的とする。さら
に、本発明は、装置内に存在する基板の回収や基板に対
する所定の処理の再開を容易ならしめる基板処理装置と
基板処理方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明の第１
の観点によれば、基板に対して所定の処理を施すととも
に、その中で基板の反転が行われる装置本体と、前記装
置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、前記装置本
体内に存在する基板を検出する基板検出手段と、前記装
置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する基板の
位置と向きに関する情報を記憶し、次に前記装置本体に
電源が投入された際にこの記憶された情報が取り出され
る記憶手段と、前記装置本体に電源が投入された際に前
記基板検出手段が検出した検出情報と前記記憶手段から
取り出された情報とを照合して、これらの情報に相違が
ある場合に警報を発する警報手段と、前記警報を解除す
る警報解除手段と、前記装置本体内に存在する基板を前
記装置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送
手段を制御する制御手段と、前記制御手段に基板回収を
開始する指令を発する回収開始手段と、を具備し、前記
警報解除手段によって警報が解除され、かつ、前記装置
本体内の基板が所定の向きで回収されることが確認され
た後に、前記回収開始手段は基板回収の指令を前記制御
手段に発することを特徴とする基板処理装置、が提供さ
れる。

【０００９】本発明の第２の観点によれば、基板に対し
て所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行
われる装置本体と、前記装置本体内で基板を搬送する基
板搬送手段と、前記装置本体の電源遮断時に前記装置本
体内に存在する基板の位置と向きに関する情報を記憶
し、次に前記装置本体に電源が投入された際にこの記憶
された情報が取り出される記憶手段と、前記装置本体に
電源が投入された際に前記記憶手段から取り出された情
報を操作する情報操作手段と、前記情報操作手段によっ
て得られた基板情報に基づいて基板を装置本体外の所定
位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御
手段と、前記制御手段に基板回収を開始する指令を発す
る回収開始手段と、を具備し、前記装置本体内の基板が
所定の向きで回収されることが確認された後に前記回収
開始手段は基板回収の指令を前記制御手段に発すること
を特徴とする基板処理装置、が提供される。

【００１０】本発明の第３の観点によれば、基板に所定
の処理を施す基板処理装置であって、複数の基板を所定
間隔で収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有す
る基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部と
の間で基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体
と、前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基
板搬送装置と、前記基板搬送部において基板の搬送を行
う第２の基板搬送装置と、前記装置本体内に存在する基
板を検出する基板検出手段と、前記装置本体の電源遮断
時に前記装置本体内に存在する基板の位置と向きに関す
る情報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された
際にこの記憶された情報が取り出される記憶手段と、前
記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段が
検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情報
とを照合して、これらの情報に相違がある場合に警報を
発する警報手段と、前記警報を解除する警報解除手段
と、前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部
に載置された容器に回収するように前記第１の基板搬送
装置および前記第２の基板搬送装置を制御する制御手段
と、前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回
収開始手段と、を具備し、前記警報解除手段によって警
報が解除され、かつ、前記装置本体内の基板が所定の向
きで回収されることが確認された後に、前記回収開始手
段が基板回収の指令を前記制御手段に発することを特徴
とする基板処理装置、が提供される。

【００１１】本発明の第４の観点によれば、基板に所定
の処理を施す基板処理装置であって、複数の基板を所定
間隔で収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有す
る基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部と
の間で基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体
と、前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基
板搬送装置と、前記基板搬送部において基板の搬送を行
う第２の基板搬送装置と、前記装置本体の電源遮断時に
前記装置本体内に存在する基板の位置と向きに関する情
報を記憶し、次に前記装置本体に電源が投入された際に
この記憶された情報が取り出される記憶手段と、前記装
置本体に電源が投入された際に前記記憶手段から取り出
された情報を操作する情報操作手段と、前記情報操作手
段によって得られた基板情報に基づいて前記装置本体内
に存在する基板を前記容器搬入出部に載置された容器へ
回収するように前記第１の基板搬送装置および前記第２
の基板搬送装置を制御する制御手段と、前記制御手段に
基板回収を開始する指令を発する回収開始手段と、を具
備し、前記装置本体内に存在する基板が所定の向きで回
収されることが確認された後に前記回収開始手段は基板
回収の指令を前記制御手段に発することを特徴とする基
板処理装置、が提供される。

【００１２】本発明の第５の観点によれば、基板の表面
および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を
搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基
板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記
基板処理装置内に存在する基板の位置および向きに関す
る情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最
初に前記基板処理装置に電源が投入された際に、前記メ
モリに記憶された情報を取り出す工程と、前記取り出し
工程において取り出された情報を前記基板処理装置内の
実際の基板状態と一致するように修正し、基板情報を確
定する工程と、前記確定工程において確定された基板情
報に基づいて、前記基板処理装置内に存在する基板を前
記基板搬送手段により所定の向きで前記基板処理装置外
の所定位置に搬出する工程と、を有することを特徴とす
る基板処理方法、が提供される。

【００１３】本発明の第６の観点によれば、基板の表面
および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を
搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基
板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記
基板処理装置内に存在する基板の位置および向きに関す
る情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最
初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリ
に記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置
内に存在する基板を検出する工程と、前記検出工程にお
いて前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装
置内で検出された基板の位置情報とを照合して、これら
の情報に相違がない場合に基板情報を確定し、前記基板
情報に基づいて前記基板処理装置内に存在する基板を前
記基板搬送手段により所定の向きで前記基板処理装置外
の所定位置に搬出する工程と、を有することを特徴とす
る基板処理方法、が提供される。

【００１４】本発明の第７の観点によれば、基板の表面
および裏面に対して所定の処理を行い、その中で基板を
搬送する基板搬送手段を備えた基板処理装置における基
板処理方法であって、基板処理装置の電源遮断時に前記
基板処理装置内に存在する基板の位置および向きに関す
る情報をメモリに記憶する工程と、前記記憶工程後に最
初に基板処理装置に電源が投入された際に、前記メモリ
に記憶された情報を取り出し、また、前記基板処理装置
内に存在する基板を検出する工程と、前記メモリから取
り出された情報と前記基板処理装置内で検出された基板
の位置情報とを照合して、これらの情報に相違点または
不明点がある場合に警報を発する工程と、オペレータに
よって前記基板処理装置内の実際の基板状態を示す基板
情報を確定し、前記警報を解除する工程と、前記解除工
程において確定された基板情報に基づいて、前記基板処
理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段により所定
の向きで基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法、が提供され
る。

【００１５】本発明の第８の観点によれば、基板に対し
て所定の処理を施すとともに、その中で基板の反転が行
われる装置本体と、前記装置本体内で基板を搬送する基
板搬送手段と、前記装置本体内に存在する基板を検出す
る基板検出手段と、前記装置本体に電源が投入された際
に前記基板検出手段が前記装置本体内で基板を検出した
場合に、その基板を装置本体外の所定位置に回収するた
めの前記基板搬送手段の動作を決定する制御手段と、前
記制御手段に基板回収開始の指令を送る回収開始手段
と、を具備し、前記装置本体内に存在する基板が所定の
向きで回収されることが確認された後に、前記回収開始
手段は前記制御手段に基板回収の指令を発することを特
徴とする基板処理装置、が提供される。

【００１６】本発明の第９の観点によれば、基板に所定
の処理を施す基板処理装置であって、複数の基板を所定
間隔で収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
理ユニットおよび基板の表面または裏面が基板の上面と
なるように基板を反転させる反転ユニットを有する基板
処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部との間で
基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体と、前
記基板処理部内において基板の搬送を行う第１の基板搬
送装置と、前記基板搬送部内において基板の搬送を行う
第２の基板搬送装置と、前記装置本体内に存在する基板
を検出する基板検出手段と、前記装置本体に電源が投入
された際に前記基板検出手段が前記装置本体内で基板を
検出した場合に、その基板を前記容器搬入出部に載置さ
れた容器へ回収するための前記第１の基板搬送装置およ
び前記第２の基板搬送装置の動作を決定する制御手段
と、前記制御手段に基板回収開始の指令を送る回収開始
手段と、を具備し、前記基板処理部内の基板が所定の向
きで回収されることが確認された後に、前記回収開始手
段は前記制御手段に基板回収の指令を発することを特徴
とする基板処理装置、が提供される。

【００１７】このような本発明の基板処理装置と基板処
理方法によれば、基板処理装置の電源が遮断されてその
後に最初に再起動した際に、基板処理装置内に存在する
基板の位置と向きを容易に把握することができる。これ
により、オペレータは必要に応じて基板の表面と裏面の
別を確認し、所定の処理手順にしたがった操作を行え
ば、容易に基板をその向きを揃えて回収することができ
る。また、自動回収も行うことができる。こうして基板
の損傷が防止され、また、オペレータの負担が軽減され
る。また、オペレータが直接に基板を取り扱う際の基板
の取り落とし等の発生を防止することができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の基板処理装置の実施態様について説明する。本実施態
様では、本発明を半導体ウエハ（ウエハ）の搬送、洗
浄、乾燥を一貫して行うように構成された洗浄処理シス
テムに適用した場合について説明することとする。

【００１９】図１は洗浄処理システム１の概略構造を示
す平面図であり、図２はその側面図である。これら図１
および図２に示されるように、洗浄処理システム１は、
ウエハＷに洗浄処理および洗浄処理後の熱的処理を施す
基板洗浄処理部３と、複数枚、例えば２５枚のウエハＷ
が鉛直方向に所定の間隔で略水平に収容可能な容器（Ｆ
ＯＵＰ Ｆ；Front Opening Unified Pod）を載置する
ための載置台１１が設けられたイン・アウトポート４
と、載置台１１に載置されたフープＦと基板洗浄処理部
３との間でウエハの受け渡しを行うウエハ搬送装置（Ｃ
ＲＡ）１３が備えられたウエハ搬送部５から構成されて
いる。洗浄処理システム１の本体装置は、基板洗浄処理
部３とウエハ搬送部５からなる。

【００２０】フープＦに対するウエハＷの搬入出はフー
プＦの１側面に設けられた搬入出口を通して行われる。
フープＦにはこの搬入出口を開閉する蓋体が設けられて
いる。また、フープＦの内壁にはウエハＷを鉛直方向に
一定間隔で保持するための棚板が設けられ、ウエハＷを
収容するスロット１〜スロット２５が形成されている。
ウエハＷは、ウエハＷの表面（半導体デバイスを形成す
る面をいうものとする）が上面（ウエハＷを水平に保持
した場合に上側となっている面をいうものとする）とな
っている状態（表向きの状態）で、各スロットに１枚ず
つ収容される。

【００２１】イン・アウトポート４の載置台１１上に
は、例えば、３個のフープＦを水平面のＹ方向に並べて
載置することができるようになっている。フープＦは搬
入出口が設けられている側面をイン・アウトポート４と
ウエハ搬送部５との境界壁９１側に向けて載置される。
境界壁９１においてフープＦの載置場所に対応する位置
には窓部９２が形成されている。窓部９２をシャッター
等により開閉する窓部開閉機構１２が、各窓部９２に対
してウエハ搬送部５側に設けられている。

【００２２】この窓部開閉機構１２はフープＦの蓋体を
も保持することができ、これにより窓部９２の開閉と同
時にフープＦの搬入出口を開閉することができるように
なっている。フープＦが載置台１１の所定位置に載置さ
れていないときに窓部開閉機構１２が動作しないよう
に、窓部開閉機構１２にインターロックを設けることが
好ましい。窓部９２を開口してフープＦのウエハ搬入出
口とウエハ搬送部５とを連通させると、ウエハ搬送部５
に設けられたウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３のフープＦ
へのアクセスが可能となる。これによりウエハＷの搬送
が可能な状態となる。

【００２３】各窓部９２の上部には図示しないウエハ検
査装置が設けられている。ウエハ検査装置は、フープＦ
内に収容されたウエハＷの枚数と状態をスロット毎に検
出する。このようなウエハ検査装置は、窓部開閉機構１
２に装着してもよい。

【００２４】ウエハ搬送部５に設けられたウエハ搬送装
置（ＣＲＡ）１３は、Ｙ方向とＺ方向に移動可能であ
り、かつ、Ｘ−Ｙ平面内で回転（θ方向）自在に構成さ
れている。ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３はウエハＷを
把持する搬送ピック１３ａを有し、この搬送ピック１３
ａはＸ方向にスライド自在となっている。これにより搬
送ピック１３ａは、載置台１１に載置された全てのフー
プＦの任意の高さのスロットにアクセスし、また、基板
洗浄処理部３に設けられた２台のウエハ受渡ユニット
（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにアクセスすることができ
る。

【００２５】ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３には、搬送
ピック１３ａがウエハＷを保持しているかどうかを検出
するウエハ検出センサ（図示せず）が取り付けられてい
る。このウエハ検出センサは、フープＦの所定のスロッ
トからウエハＷを搬出し、また、所定のスロットにウエ
ハＷを搬入することを可能とする位置センサとしても機
能する。つまり、ウエハ検出センサは、フープＦのスロ
ットを認識することもできるようになっている。

【００２６】基板洗浄処理部３は、ウエハＷを反転させ
る２台のウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ
と、ウエハ搬送部５との間で基板の受け渡しを行うため
にウエハＷを一時的に載置する２台のウエハ受渡ユニッ
ト（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂとを有する受渡／反転部
（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４を備えている。また、基板洗浄
処理部３は、洗浄処理後のウエハＷを加熱処理する３台
のホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと、
加熱されたウエハＷを冷却する冷却ユニット（ＣＯＬ）
１６ｄとを有する加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６を
備えている。

【００２７】さらに基板洗浄処理部３は、ウエハＷにス
クラブ洗浄を施す４台のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ〜２１ｄと、基板洗浄処理部３に設けられた
これら各ユニットの全てにアクセス可能であり、これら
各ユニットの間でウエハＷの搬送を行う主ウエハ搬送装
置（ＰＲＡ）１５と、を有している。

【００２８】ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１
４ｂと、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ
と、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄの
各ユニットには、各ユニット内にウエハＷが存在するか
否かを検出するウエハ検出センサ（図示せず）が設けら
れている。なお、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６
ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにウエハ検
出センサを設けることも当然に可能である。

【００２９】基板洗浄処理部３には、洗浄処理システム
１全体を稼働させるための電源である電装ユニット（Ｅ
Ｂ）１８と、洗浄処理システム１内に設けられた各種ユ
ニットおよび洗浄処理システム１全体の動作・制御を行
う機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９と、スクラブ洗浄ユ
ニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに送液する所定の洗浄
液を貯蔵する薬液貯蔵ユニット（ＣＴＢ）１７と、が設
けられている。電装ユニット（ＥＢ）１８は主電源（図
示せず）と接続される。基板洗浄処理部３の天井部に
は、ウエハＷを取り扱う各ユニットおよび主ウエハ搬送
装置（ＰＲＡ）１５に、清浄な空気をダウンフローする
ためのフィルターファンユニット（ＦＦＵ）２２が設け
られている。

【００３０】薬液貯蔵ユニット（ＣＴＢ）１７と電装ユ
ニット（ＥＢ）１８と機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９
を基板洗浄処理部３の外側に設置することによって、ま
たは外部に引き出すことによって、この面（Ｙ方向側
面）から受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４と主ウエ
ハ搬送装置（ＰＲＡ）１５と加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯ
Ｌ）１６のメンテナンスを行うことが可能である。

【００３１】図３は受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１
４におけるウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４
ｂと、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄの
配置を、Ｘ方向に隣接する主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）
１５および加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６とともに
示した断面図である。受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ）
１４においては、下側にウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）
１４ａ・１４ｂが２段に積み重ねられ、ウエハ受渡ユニ
ット（ＴＲＳ）１４ｂ上にウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｃ・１４ｄがさらに２段積み重ねられている。

【００３２】例えば、下段のウエハ受渡ユニット（ＴＲ
Ｓ）１４ａはイン・アウトポート４側から基板洗浄処理
部３側へ搬送するウエハＷを載置するために用い、一
方、上段のウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂは基板
洗浄処理部３側からイン・アウトポート４側へ搬送する
ウエハＷを載置するために用いることができる。

【００３３】また、下段のウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｃはウエハＷを表向きの状態からその裏面（半
導体デバイスを形成しない面をいう）が上面となってい
る状態（逆向きの状態）へウエハＷを反転させるために
用い、一方、上段のウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４
ｄはウエハＷを逆向きの状態から表向きの状態へウエハ
Ｗを反転させるために用いることができる。

【００３４】フィルターファンユニット（ＦＦＵ）２２
からのダウンフローの一部は、ウエハ受渡ユニット（Ｔ
ＲＳ）１４ａ・１４ｂの内部およびウエハ反転ユニット
（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄの内部に導かれた後に、ウエ
ハ搬送部５に向けて流出する構造となっている。これに
よりウエハ搬送部５から基板洗浄処理部３へのパーティ
クル等の侵入が防止されるため、基板洗浄処理部３の清
浄度が保持される。

【００３５】主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、垂直
壁５１ａ・５１ｂおよびこれらの間の側面開口部５１ｃ
を有し、Ｚ方向に延在する筒状支持体５１と、その内側
に筒状支持体５１に沿ってＺ方向に昇降自在に設けられ
たウエハ搬送体５２と、を有している。筒状支持体５１
はモータ５３の回転駆動力によって回転可能となってお
り、それに伴ってウエハ搬送体５２も一体的に回転され
るようになっている。

【００３６】ウエハ搬送体５２は、搬送基台５４と、搬
送基台５４に沿って前後に移動可能な３本の主ウエハ搬
送アーム５５・５６・５７とを備えており、主ウエハ搬
送アーム５５〜５７は、筒状支持体５１の側面開口部５
１ｃを通過可能な大きさを有している。これら主ウエハ
搬送アーム５５〜５７は、搬送基台５４内に内蔵された
モータおよびベルト機構によりそれぞれ独立して進退移
動することが可能となっている。ウエハ搬送体５２は、
モータ５８によってベルト５９を駆動させることにより
昇降自在である。なお、符号６０は駆動プーリー、６１
は従動プーリーである。また、主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５にはウエハＷを保持しているかどうかを検出す
るウエハ検出センサ（図示せず）が取り付けられてい
る。

【００３７】加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６は、主
ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５を挟んで受渡／反転部
（ＴＲＳ／ＲＶＳ）１４の反対側に設けられている。加
熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ）１６では、ウエハＷの強制
冷却を行う１台の冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの上
に、強制加熱／自然冷却を行うホットプレートユニット
（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃが３台積み重ねられている。

【００３８】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜
２１ｄは、上下２段の各段に２台ずつが配置されてい
る。例えば、上段に配置された２台のスクラブ洗浄ユニ
ット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄはウエハＷの表面洗浄用
に用いられ、下段に配置された２台のスクラブ洗浄ユニ
ット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂはウエハＷの裏面洗浄用
に用いられる。この場合において、例えば、表面洗浄用
のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにお
いては、ウエハＷを略平行に保持して回転させるスピン
チャックとして、真空吸引力を用いてウエハＷを保持す
るものが好適に用いられる。また、裏面洗浄用のスクラ
ブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにおいては、
ウエハＷの外周を機械的に把持してウエハＷを保持する
スピンチャックが好適に用いられる。

【００３９】次に、上述した洗浄処理システム１による
ウエハＷの洗浄処理工程の一態様について以下に説明す
る。ここで、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａはイ
ン・アウトポート４側から基板洗浄処理部３側へ搬送す
るウエハＷを載置するために用い、ウエハ受渡ユニット
（ＴＲＳ）１４ｂは基板洗浄処理部３側からイン・アウ
トポート４側へ搬送するウエハＷを載置するために用い
るものとする。また、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１
４ｃは表向きのウエハＷを逆向きになるように反転させ
るために用い、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄは
逆向きになっているウエハＷを表向きに反転させるため
に用いるものとする。さらに、スクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄをウエハＷの表面洗浄用に用
い、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂを
ウエハＷの裏面洗浄用に用いるものとする。

【００４０】図４は、以下に説明する洗浄処理工程を簡
略的に示した工程説明図（フローチャート）である。最
初に、２５枚のウエハＷが表向きの状態で収容されてい
るフープＦを載置台１１に載置する（ステップ１）。次
に、窓部開閉機構１２によって窓部９２およびフープＦ
の搬入出口を開口する。続いてフープＦの所定のスロッ
トにあるウエハＷをウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３を用
いてフープＦから搬出し（ステップ２）、ウエハ受渡ユ
ニット（ＴＲＳ）１４ａに搬送する（ステップ３）。

【００４１】主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、ウエ
ハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａからウエハＷを搬出
し、表面の洗浄処理用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ｃ・２１ｄのいずれかへ搬送する（ステップ
４）。そこでウエハＷのスクラブ洗浄処理が行われる
（ステップ５）。

【００４２】ステップ５の処理が終了したウエハＷは、
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって、ホットプレ
ートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃのいずれかへ搬送
されてそこで加熱乾燥処理が施され（ステップ６）、続
いて冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに搬送されて冷却処
理される（ステップ７）。

【００４３】冷却処理されたウエハＷを、主ウエハ搬送
装置（ＰＲＡ）１５により、ウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｃへ搬送する（ステップ８）。ウエハ反転ユニ
ット（ＲＶＳ）１４ｃでは、表向きのウエハＷが逆向き
となるようにウエハＷを１８０°反転させる（ステップ
９）。ステップ９の処理によって逆向きとされたウエハ
Ｗは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってスクラ
ブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかへ
搬送され（ステップ１０）、そこでウエハＷの裏面のス
クラブ洗浄処理が行われる（ステップ１１）。

【００４４】ステップ１１の処理が終了したウエハＷ
は、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によって、ウエハ
反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄへ搬送され（ステップ１
２）、そこでウエハＷが表向きとなるようにウエハＷの
反転処理が行われる（ステップ１３）。ステップ１３に
よって表向きとなったウエハＷは、主ウエハ搬送装置
（ＰＲＡ）１５によって、ウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｄからホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ
〜１６ｃのいずれかへ搬送され、そこでウエハＷに加熱
乾燥処理が施される（ステップ１４）。続いて主ウエハ
搬送装置（ＰＲＡ）１５は、ウエハＷを冷却ユニット
（ＣＯＬ）１６ｄに搬送し、そこでウエハＷは冷却処理
される（ステップ１５）。

【００４５】冷却処理されたウエハＷは、主ウエハ搬送
装置（ＰＲＡ）１５によって冷却ユニット（ＣＯＬ）１
６ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ｂへ搬送さ
れる（ステップ１６）。ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）
１４ｂに載置された洗浄処理の終了したウエハＷは、ウ
エハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦ内の所定
のスロットに戻される（ステップ１７）。なお、上述し
たステップ６とステップ７の工程およびステップ１４と
ステップ１５の工程は省略することができる。

【００４６】上述したステップ１〜ステップ１７の工程
による洗浄処理を行うために、洗浄処理システム１に電
源投入して洗浄処理システム１を起動させた際には、洗
浄処理システム１を構成する各ユニットが正常な動作を
行うことが可能な状態にあるかどうかを調べる動作確認
と、各ユニットや搬送装置にウエハＷが存在していない
かどうかの確認作業とを行う初期化処理（イニシャライ
ズ処理）が行われる。

【００４７】このときに洗浄処理システム１内にウエハ
Ｗが存在している場合（このようなウエハＷを以下「エ
クストラウエハ」という）には、エクストラウエハが洗
浄処理の開始の妨げとなるために、エクストラウエハを
載置台１１に載置されたフープＦに戻す回収処理を行う
必要が生ずる。

【００４８】エクストラウエハが存在する理由として
は、洗浄処理システム１の稼働中に地震や台風等の自然
災害による停電によって不可避的に洗浄処理システム１
の電源が落ちてしまった場合や、基板洗浄処理部３にお
いてトラブルが発生した際にオペレータが安全性確保の
ために洗浄処理システム１の電源を意図的に落とした場
合等が挙げられる。

【００４９】なお、正常に洗浄処理が終了した後に洗浄
処理システム１の稼働を停止させるために電源を落とし
た場合においても、次に洗浄処理システム１を起動した
ときには、イニシャライズ処理を行う必要がある。その
際にエクストラウエハの有無の確認を行うことは、洗浄
処理システム１の運転の安全性を確保する点からも必要
である。

【００５０】エクストラウエハの回収処理の際に、例え
ば、エクストラウエハが逆向きでフープＦに戻された場
合には、搬送ピック１３ａにエクストラウエハが保持さ
れた際にエクストラウエハの表面に傷が生じたり、フー
プＦ内に設けられた棚板とエクストラウエハの表面とが
擦れ合ってエクストラウエハに傷が生ずるおそれがあ
る。この場合にはエクストラウエハを製品として使用で
きなくなる可能性が大きくなる。そこで、このような問
題を回避するために、エクストラウエハの回収処理は、
エクストラウエハを表向きの状態でフープＦに戻すこと
が望ましい。

【００５１】洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄
処理システム１を起動させた際に、洗浄処理システム１
内にエクストラウエハが存在する場合のエクストラウエ
ハの各ユニット別の回収順序は、原則として（１）ウエ
ハ搬送装置（ＣＲＡ）１３、（２）ウエハ受渡ユニット
（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ、（３）主ウエハ搬送装置
（ＰＲＡ）１５、（４）ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）
１４ｃ・１４ｄ、（５）スクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ〜２１ｄ、（６）ホットプレートユニット
（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃ、（７）冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）１６ｄの順である。

【００５２】ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３はウエハＷ
を反転させる機能を有しておらず、フープＦとウエハ受
渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂとの間でウエハＷ
を略水平な状態で搬送するために、ウエハ搬送装置（Ｃ
ＡＲ）１３の搬送ピック１３ａは、必ずウエハＷを表向
きの状態で搬送する。したがって、搬送ピック１３ａが
エクストラウエハを保持している場合には、そのエクス
トラウエハはそのままフープＦの空スロットに搬入され
る。

【００５３】ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１
４ｂにエクストラウエハが存在している場合にも、エク
ストラウエハは表向きの状態である。したがって、これ
らのエクストラウエハは、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１
３によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４
ｂから搬出され、フープＦの空のスロットに搬入され
る。

【００５４】このようにして、最初にウエハ受渡ユニッ
ト（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにエクストラウエハが回収
され、それらにエクストラウエハが存在しない状態とす
る。これにより、基板洗浄処理部３内に多くのエクスト
ラウエハが存在する場合には、一時的にエクストラウエ
ハをウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに退
避させることが可能となる。

【００５５】主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクス
トラウエハを保持していた場合には、（ａ−１）エクス
トラウエハが表向きの場合と、（ａ−２）エクストラウ
エハが逆向きの場合、の２通りの場合がある。この（ａ
−１）の場合には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は
保持しているエクストラウエハをウエハ受渡ユニット
（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬送し、ウエハ
搬送装置（ＣＲＡ）１３がウエハ受渡ユニット（ＴＲ
Ｓ）１４ａ・１４ｂからエクストラウエハを取り出して
フープＦの所定のスロットへ収容する。

【００５６】また（ａ−２）の場合には、まず、主ウエ
ハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が保持しているエクストラウ
エハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄの
いずれかに搬送して、そこでエクストラウエハの表裏を
反転させてエクストラウエハを表向きとする。次いで、
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は、エクストラウエハ
をウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウ
エハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれか
に搬送する。その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３が
ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂからエク
ストラウエハを取り出してフープＦの所定のスロットへ
収容する。

【００５７】ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１
４ｄにエクストラウエハが存在した場合には、ウエハＷ
を表向きから逆向きに反転させるユニットと、その逆の
反転を行うユニットとを使い分けている場合であって
も、ウエハＷは反転処理の前後で表向きまたは逆向きの
どちらにもなり得る。また、反転処理の途中で洗浄処理
システム１の稼働が停止した場合にはエクストラウエハ
が表向きであるか逆向きであるかは不明となる。

【００５８】つまり、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１
４ｃ・１４ｄにおいては、（ｂ−１）エクストラウエハ
が表向きである場合と、（ｂ−２）エクストラウエハが
逆向きである場合と、（ｂ−３）エクストラウエハの向
き（表面または裏面のどちらが上面になっているか）が
不明となる場合と、がある。

【００５９】この（ｂ−１）の場合には、まず、主ウエ
ハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハをウエハ
反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウエハ受渡
ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかへ搬送す
る。その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がそこから
エクストラウエハを取り出して、フープＦの所定のスロ
ットへ収容する。

【００６０】また、（ｂ−２）の場合には、まず、その
場でエクストラウエハの反転処理を行ってエクストラウ
エハを表向きとする。その後に主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５がエクストラウエハをウエハ反転ユニット（Ｒ
ＶＳ）１４ｃ・１４ｄからウエハ受渡ユニット（ＴＲ
Ｓ）１４ａ・１４ｂのいずれかへ搬送する。次いで、ウ
エハ搬送装置（ＣＲＡ）１３がそこからエクストラウエ
ハを取り出してフープＦの所定のスロットへ収容する。

【００６１】さらに（ｂ−３）の場合には、まず、主ウ
エハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにあるエクストラウエハ
を、一旦、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ・２１ｂのいずれかに搬送する。次に、オペ
レータがエクストラウエハが載置された状態を目視観察
して、エクストラウエハの向きを判断する。

【００６２】この目視観察において、オペレータがエク
ストラウエハが表向きとなっていると判断した場合に
は、このエクストラウエハは主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５によってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ
・１４ｂのいずれかに搬送される。一方、エクストラウ
エハが逆向きとなっていると判断した場合には、このエ
クストラウエハは主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によ
ってウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのい
ずれかに搬送され、そこで反転処理が行われ、その後に
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってそこからウエ
ハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに
搬送される。ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１
４ｂに搬入されたエクストラウエハは、ウエハ搬送装置
（ＣＲＡ）１３によってフープＦの所定のスロットに搬
入される。

【００６３】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・
２１ｄは表面洗浄用として用いられているために、スク
ラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄにエクスト
ラウエハが存在した場合には、必ずそのエクストラウエ
ハは表向きとなっている。したがって、スクラブ洗浄ユ
ニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに存在するエクストラ
ウエハは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウ
エハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれか
に搬送され、その後にウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３に
よってウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂか
ら取り出され、フープＦの所定のスロットに収容され
る。

【００６４】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・
２１ｂは裏面洗浄用として用いられているために、スク
ラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにエクスト
ラウエハが存在した場合には、必ずそのエクストラウエ
ハは逆向きとなっている。したがって、スクラブ洗浄ユ
ニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに存在するエクストラ
ウエハは、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウ
エハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれか
に搬送され、そこで反転処理が行われて表向きにされた
後に、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によってウエハ
受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのいずれかに搬
送され、さらにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によって
フープＦの所定のスロットに収容される。

【００６５】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜
２１ｄを、表面洗浄用と裏面洗浄用とに区別することな
く使用している場合には、エクストラウエハが表向きの
場合には、前述したスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２
１ｃ・２１ｄにエクストラウエハが存在している場合に
準じてエクストラウエハを回収する。一方、エクストラ
ウエハが逆向きとなっている場合には、前述したスクラ
ブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにエクストラ
ウエハが存在している場合に準じてエクストラウエハを
回収する。ここで、エクストラウエハの向きが不明であ
る場合には、まず、オペレータがエクストラウエハの向
きを目視観察して確認する。オペレータはその確認結果
に基づいて適切な回収方法を決定し、エクストラウエハ
の回収を行う。

【００６６】ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜
１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにエクストラウ
エハが存在する場合には、図４を参照しながら先に説明
した洗浄処理工程によれば、エクストラウエハは表向き
となっている。したがって、ホットプレートユニット
（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６
ｄにエクストラウエハが存在する場合には、上述した表
面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２
１ｄにエクストラウエハが存在していた場合に準じて回
収することができる。

【００６７】なお、ホットプレートユニット（ＨＰ）１
６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの回収順
序を入れ替えてもよい。つまり、冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）１６ｄのエクストラウエハを回収した後に、空いた
冷却ユニット（ＣＯＬ）ｌ６ｄにホットプレートユニッ
ト（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃのエクストラウエハを搬入
し、そこでエクストラウエハを冷却した後に、フープＦ
に回収してもよい。この場合には、回収するフープＦ内
で他のウエハに対する熱影響を低減することができる。

【００６８】図５は、上述した一連の洗浄処理およびイ
ニシャライズ処理とエクストラウエハの回収処理を行う
際に、洗浄処理システム１内に設けられた各処理ユニッ
トおよび搬送装置の制御を行う機械制御ユニット（ＭＣ
Ｂ）１９の構成の一例を示した説明図である。洗浄処理
システム１においては、予め設定されたレシピに基づい
て装置制御部（ＣＰＵ）７１により制御が行われる。

【００６９】装置制御部（ＣＰＵ）７１にはメモリ（記
憶装置）７４が接続されている。このメモリ７４には、
所望の洗浄処理に対応する洗浄レシピと、イニシャライ
ズ処理に対応するイニシャライズレシピ、およびエクス
トラウエハの回収処理に対応する回収レシピ、が記録さ
れている。また、操作部７３において所望の洗浄レシピ
およびその他の条件を選択し、その信号を装置制御部
（ＣＰＵ）７１に送ることによって、レシピコントロー
ラ７２が所望の洗浄レシピを選択するとともに、装置制
御部（ＣＰＵ）７１が、その処理レシピおよび設定情報
に基づいて各ユニットおよび搬送装置を制御する。

【００７０】洗浄処理システム１内におけるウエハＷの
位置とウエハＷの向きは、装置制御部（ＣＰＵ）７１が
各ユニットおよび搬送装置へ送った制御信号の履歴と、
ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（Ｐ
ＲＡ）１５に備えられたウエハ検出センサからの信号と
によって知ることができる。メモリ７４はこの制御信号
の履歴をウエハ情報として記憶する。メモリ７４による
ウエハ情報の記憶には、必要に応じてウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄとスクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに設けられたウエハ検出セン
サからの信号を用いることができる。

【００７１】装置制御部（ＣＰＵ）７１にはモニタ７５
が接続されており、例えば、モニタ７５の画面から操作
部７３の操作を行うことによって所望の洗浄レシピおよ
び他の条件を選択することができるようになっている。
また、モニタ７５には、装置制御部（ＣＰＵ）７１が各
ユニットおよび搬送装置へ送った制御信号の履歴に基づ
いて、洗浄処理システム１内での処理の進行の様子をリ
アルタイムに表示させることが可能である。

【００７２】装置制御部（ＣＰＵ）７１に所定の信号を
送るウエハ情報操作部７６および回収開始部７７は、イ
ニシャライズ処理時に洗浄処理システム１内に存在する
エクストラウエハを、フープＦに回収する処理を行うと
きに用いられる。ウエハ情報操作部７６は、エクストラ
ウエハの回収レシピの変更やエクストラウエハに関する
情報の修正等を行い、この修正された情報が装置制御部
（ＣＰＵ）７１へ送られる。回収開始部７７はエクスト
ラウエハの回収開始指示を装置制御部（ＣＰＵ）７１に
発信する。

【００７３】以下、図５に示した洗浄処理システム１の
制御系を用いたエクストラウエハの回収処理の一態様に
ついて、ウエハ情報操作部７６および回収開始部７７の
使用態様を含めてより詳細に説明する。

【００７４】図６はエクストラウエハの回収手順の一態
様を示した説明図である。ここでは、メモリ７４が、洗
浄処理システム１内において処理が行われている際のウ
エハＷの位置と向きを記憶するが、どのフープＦのどの
スロットから搬出したウエハＷがどの処理ユニットにお
いてどの向きにあるという情報までは記憶しておらず、
また、ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃ
と冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄについてのウエハ情報
を記憶していないものとする。なお、メモリ７４に記憶
されるエクストラウエハの向きは、ウエハ反転ユニット
（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄによるウエハＷの反転処理の
回数によって判断される。

【００７５】エクストラウエハの第１の回収態様につい
て以下に説明する。まず、洗浄処理システム１に電源投
入して洗浄処理システム１を起動する（ステップ１０
１）。これにより自動的にイニシャライズ処理のレシピ
がメモリ７４から取り出されて、洗浄処理システム１の
イニシャライズ処理が行われる。このイニシャライズ処
理時には、前回の洗浄処理システム１の電源遮断時にメ
モリ７４に保存されていた洗浄処理システム１内のウエ
ハ情報が取り出され、その結果がモニタ７５に表示され
る（ステップ１０２）。また、メモリ７４からエクスト
ラウエハの回収レシピが取り出されて、メモリ７４から
取り出されたウエハ情報に適用される。オペレータはモ
ニタ７５に表示されたウエハ情報を必要に応じて適切な
ウエハ情報に修正し（ステップ１０３）、その後にエク
ストラウエハの回収を開始する（ステップ１０４）。

【００７６】図７は、メモリ７４から取り出されたウエ
ハ情報にエクストラウエハの回収レシピを適用した結果
としてモニタ７５に表示される画面を模式的に示した説
明図である。エクストラウエハが存在するウエハ情報が
メモリ７４から取り出された場合には、エクストラウエ
ハが存在するユニットを示す欄に、ウエハ情報が表示さ
れる。

【００７７】回収レシピには、エクストラウエハが存在
する可能性があるウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３や主ウ
エハ搬送装置（ＰＲＡ）１５、スクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ等のユニットからのエクスト
ラウエハの回収順序を予め設定しておく。その回収順序
にしたがって、実際に存在するエクストラウエハに自動
的にＷ１、Ｗ２、Ｗ３と通し番号を付与する。

【００７８】このとき、エクストラウエハが表向きとな
っているときには、例えば、「Ｗ１」と表示され、エク
ストラウエハが逆向きとなっているときには、例えば
「Ｗ１Ｒ」と表示され、エクストラウエハの向きが不明
なときには、例えば、「Ｗ１？」と表示される。

【００７９】さらに、エクストラウエハがどのフープＦ
から搬出されたかは不明である。このために、各エクス
トラウエハには、回収先のフープＦのスロット位置が自
動的に付与される。図７においては回収先のフープＦは
フープＦ１のみであり、例えば、スロット番号はウエハ
の通し番号の後ろに「Ｓ１」と表される。なお、エクス
トラウエハのモニタ７５上での画面表示は、このような
例に限定されるものではなく、例えば、表示色を変えた
り、反転文字を使用する等の方法を用いることができ
る。

【００８０】図７は、載置台１１に１個のフープＦ１の
みが載置されており、フープＦ１に１５箇所の空きスロ
ットがあること（（Ｓ：１５）の表示））を示してい
る。このフープＦ１の検出は、例えば、窓部開閉機構１
２のインターロックによる窓部開閉機構１２の動作の実
行可否によって行われる。また、空きスロットの検出
は、例えば、窓部９２に対して設けられたウエハ検査装
置によって行われる。このフープＦ１は、エクストラウ
エハの搬出元となっているものであってもよく、エクス
トラウエハを回収するために専用に準備されたものであ
ってもよい。ここではフープＦ１を後者の場合として説
明する。

【００８１】図７においては「ＣＲＡ １３」と表示さ
れた欄に何らウエハ番号が表示されていないことから、
ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３の搬送ピック１３ａはエ
クストラウエハを保持しておらず、ウエハ受渡ユニット
（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにもエクストラウエハは存在
していないことがわかる。

【００８２】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・
２１ｄにはそれぞれエクストラウエハＷ１・Ｗ２が存在
しているが、前述したように洗浄処理システム１におい
ては、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄ
はウエハＷの表面洗浄用として用いているため、エクス
トラウエハＷ１・Ｗ２は表向きとなっていることを示す
表示がされている。また、エクストラウエハＷ１・Ｗ２
は、それぞれフープＦ１のスロット１１・１２へ回収さ
れるように設定されている。

【００８３】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａに
はエクストラウエハは存在していないが、スクラブ洗浄
ユニット（ＳＣＲ）２１ｂには、フープＦ１のスロット
１３に回収される予定のエクストラウエハＷ３が存在し
ている。スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂはウエ
ハＷの裏面洗浄用として用いられているために、エクス
トラウエハＷ３は「Ｗ３Ｒ」と表示されて、逆向きとな
っていることが示されている。

【００８４】ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１
４ｄには、それぞれフープＦ１のスロット１４・１５に
回収が予定されているエクストラウエハＷ４・Ｗ５が存
在している。このうちエクストラウエハＷ５について
は、その向きが不明であることを示す「Ｗ５？」の表示
がなされている。これは、洗浄処理システム１の電源遮
断が、反転処理の前後のどちらで行われたが不明である
ために、エクストラウエハＷ５の向きが不明となってい
ることによる。

【００８５】また、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は
フープＦ１のスロット１６に回収が予定されているエク
ストラウエハＷ６を保持している。このエクストラウエ
ハＷ６については、どのユニットからウエハＷを搬出し
たのかが不明であるために、その向きが不明であること
を示す「Ｗ６？」の表示がなされている。

【００８６】これらのエクストラウエハＷ１〜Ｗ６を、
前述した処理ユニットごとの回収手順にしたがってフー
プＦ１の所定のスロットに順次回収するが、この回収処
理に先立って、向きが不明であるエクストラウエハにつ
いて、ウエハ情報を確定する必要がある。また、例え
ば、洗浄処理システム１が停止している間に、オペレー
タが手動でエクストラウエハを洗浄処理システム１内か
ら搬出等した場合には、モニタ７５に表示されたウエハ
情報はメモリ７４に記憶されていたウエハ情報に基づい
ているために、モニタ７５に表示されたウエハ情報と実
際に洗浄処理システム１内に存在するエクストラウエハ
の状態とが相違するものとなってしまう。このような場
合には、ウエハ情報を修正する必要が生ずる。さらにエ
クストラウエハの回収先のスロットを変更等したい場合
も生じ得る。

【００８７】このようなウエハ情報の編集は、ウエハ情
報操作部７６を操作することによって行うことができ
る。例えば、洗浄処理システム１においては、オペレー
タがモニタ７５の画面上からウエハ情報操作部７６を操
作することによって、「エクストラウエハの削除」と、
「エクストラウエハの追加」と、「エクストラウエハの
表裏反転」と、「エクストラウエハの回収先スロットの
変更」などのウエハ情報の編集を行うことができる（図
６のステップ１０３）。

【００８８】エクストラウエハの削除機能は、メモリ７
４から取り出されたウエハ情報によれば、エクストラウ
エハがある位置に存在している状態が示されているが、
実際にはその位置にはエクストラウエハが存在しない場
合に、そのエクストラウエハについてのデータを削除す
る機能である。

【００８９】エクストラウエハの追加機能は、メモリ７
４から取り出されたウエハ情報によれば、エクストラウ
エハがある位置には存在していない状態が示されている
が、実際にその位置にエクストラウエハが存在している
場合に、その位置にエクストラウエハが存在するデータ
を追加する機能である。

【００９０】エクストラウエハの表裏反転機能は、実際
には表向きとなっているエクストラウエハに対して、メ
モリ７４からエクストラウエハが逆向きとなっていると
いうウエハ情報が取り出されてモニタ７５に表示されて
いる場合に、このウエハ情報をエクストラウエハの正し
い状態を表示するように修正する機能である。同様に、
エクストラウエハの表裏反転機能によって、逆向きのエ
クストラウエハについて、メモリ７４からエクストラウ
エハが表向きとなっているウエハ情報が取り出されてモ
ニタ７５に表示されている場合にも、ウエハ情報が修正
される。スロット変更機能は、自動的に付与された回収
先のスロット位置の変更を行う機能である。

【００９１】図８は、エクストラウエハの削除機能を使
用する場合を例として、このデータ編集時のモニタ７５
の表示の変化を示した説明図である。図８（ａ）は初期
画面であり、ウエハ情報は図７に示されているものと同
じである。この図８（ａ）の状態においては、モニタ７
５の下欄に「データ編集」「ウエハ回収」の表示があ
る。ウエハ情報操作部７６におけるウエハ情報の変更
は、この「データ編集」の表示を選択することで開始す
ることができる。また、回収開始部７７によるウエハ回
収の開始指令は、この「ウエハ回収」の表示を選択する
ことによって開始される。

【００９２】例えば、オペレータが洗浄処理システム１
内を目視した結果、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が
エクストラウエハＷ６を保持していないことが確認され
た場合には、まず、このエクストラウエハＷ６のデータ
を削除する。図８（ａ）に示されるモニタ７５の下欄に
ある「データ編集」の表示を選択すると、図８（ｂ）に
示されるように、モニタ７５の下欄に、「ウエハ削
除」、「ウエハ追加」、「表裏反転」、「スロット変
更」の各表示が現れる。

【００９３】新たに表示される「ウエハ削除」の表示を
選択した後、削除すべきエクストラウエハの番号「Ｗ
６」をキーボード（図示せず）から入力したり、または
モニタ７５の画面上でエクストラウエハＷ６の番号部分
に触れると、図８（ｃ）に示すように削除を確認するメ
ッセージが表示される。ここで図８（ｃ）に示される
「ＹＥＳ」の表示に触れる等することにより、エクスト
ラウエハＷ６が削除される。これによってモニタ７５の
画面は図８（ｄ）に示す状態となる。

【００９４】「ウエハ追加」、「表裏反転」、「スロッ
ト変更」についても、同様な対話式操作によってウエハ
情報を修正することができる。図７に示した場合では、
ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｄのエクストラウエ
ハＷ５に関する情報を確定させる必要がある。このウエ
ハ情報が確定し、ウエハ情報の編集を行う必要がなくな
った後に、図８（ａ）に示される「ウエハ回収」の部分
に触れる等することで、エクストラウエハの回収が開始
される。

【００９５】なお、エクストラウエハの回収処理（図６
のステップ１０４）の方法としては、“モニタ７５の画
面上で最初に「ウエハ回収」を選択した後に１枚のエク
ストラウエハを選択することにより、この選択されたエ
クストラウエハが定められたスロットに回収される”と
いう操作を全てのエクストラウエハに対して行う方法が
ある。

【００９６】また、エクストラウエハの別の回収方法と
しては、モニタ７５の画面上で「ウエハ回収」を選択す
ると、装置制御部（ＣＰＵ）７１が回収レシピにしたが
ってエクストラウエハを連続的に所定のスロットに収納
するように、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５等を制御
する方法等がある。

【００９７】図７に示したウエハ情報を修正して得られ
たウエハ情報に基づいて、連続的にエクストラウエハを
回収する場合には、例えば、主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５が保持していたエクストラウエハＷ６は削除さ
れているので、最初に、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）
１４ｃ・１４ｄに存在していたエクストラウエハＷ４・
Ｗ５がそれぞれ指定された空きスロット１４・１５に収
納される。続いて、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２
１ｃ・２１ｄに存在するエクストラウエハＷ１・Ｗ２が
指定された空きスロット１１・１２に収納される。最後
に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂに存在して
いたエクストラウエハＷ３が指定された空きスロット１
３に収納されて、エクストラウエハの回収処理が終了す
る。

【００９８】モニタ７５に表示されたエクストラウエハ
の回収処理が終了した後には、ホットプレートユニット
（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６
ｄの個々に対して主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によ
るエクストラウエハの搬出動作を行う。このときにエク
ストラウエハが主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に保持
されたかどうかを、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に
取り付けられたウエハ検出センサにより確認する。ホッ
トプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニ
ット（ＣＯＬ）１６ｄには、ウエハＷは表向きの状態で
搬入されているために、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１
５がエクストラウエハを検出した場合には、そのエクス
トラウエハはウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１
４ｂに搬送され、さらにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３
によってフープＦの所定の空きスロットに戻される。

【００９９】なお、モニタ７５に表示されたエクストラ
ウエハの回収処理を開始する前に、エクストラウエハを
保持していない主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５をホッ
トプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニ
ット（ＣＯＬ）１６ｄにアクセスさせて、これらの各ユ
ニットからエクストラウエハを搬出する動作を行い、そ
の結果、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラ
ウエハを保持した場合には、空いているウエハ受渡ユニ
ット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ等にエクストラウエハを
搬送してウエハ情報を追加し、他のエクストラウエハＷ
１等とともに、フープＦ１へ回収することもできる。

【０１００】また、複数のフープＦが載置台１１に載置
されている場合には、エクストラウエハの回収先のフー
プＦを選択する機能をウエハ情報操作部７６に付与する
こともできる。さらに、エクストラウエハを複数のグル
ープに分割して、グループごとに異なるフープＦに収納
するようにすることも可能である。例えば、図８に示し
たモニタ７５の画面において「スロット変更」を選択す
ると、回収先のフープの番号とそのスロット番号を選択
することができるようにしておき、選択した回収先に既
にウエハＷが収納されている場合には、そのスロットに
エクストラウエハが収納されないように、エラーメッセ
ージを表示させる等することができる。

【０１０１】上述したエクストラウエハの回収方法を用
いた場合には、オペレータは必要に応じてウエハＷの向
きを確認し、所定の処理手順にしたがったウエハ情報操
作部７６の操作を行うことによって、容易にウエハＷを
その向きを揃えて回収することができる。これによりウ
エハＷの損傷が防止されるとともに、オペレータは手作
業でフープＦ内のウエハＷを入れ替える等する必要がな
いために、オペレータの負担が低減される。また、人為
的なウエハＷの取り扱いミスを無くすことができる。

【０１０２】次に、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９の
別の実施形態である機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´
の構成を示す説明図を図９に示す。機械制御ユニット
（ＭＣＢ）１９´は、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９
が有していたウエハ情報操作部７６を有していないが、
警報装置７８ａと警報装置７８ｂおよび警報解除部７９
とを有している。機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´に
おいて、装置制御部（ＣＰＵ）７１、レシピコントロー
ラ７２、操作部７３、メモリ７４、モニタ７５は、機械
制御ユニット（ＭＣＢ）１９の場合と同様の機能を有す
る。

【０１０３】警報装置７８ａは、イニシャライズ処理時
にメモリ７４から取り出されたウエハ情報と、実際にウ
エハ検出センサが検出したエクストラウエハの位置情報
とに相違がある場合に、相違が生じている処理ユニット
または搬送装置ごとに警報を発する。この警報によって
オペレータは容易にエクストラウエハの位置を知ること
ができ、ウエハ情報を確定することができる。この警報
の発令方法としては、例えば、モニタ７５の画面表示に
よる方法や音声による方法が挙げられる。また、警報装
置７８ａは、回収するエクストラウエハの枚数に応じた
空きスロットがフープＦに存在しない場合にも警報を発
する。

【０１０４】また、警報装置７８ｂは、ウエハ搬送装置
（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５およ
び特定の処理ユニット、例えば、ウエハ反転ユニット
（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄとスクラブ洗浄ユニット（Ｓ
ＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場
合に警報を発する。この警報により、例えば、ウエハ搬
送装置（ＣＲＡ）１３または主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５がエクストラウエハを保持した状態において、
別のエクストラウエハが存在する処理ユニットへアクセ
スすることが禁止される。これによりエクストラウエハ
の破損や、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３や主ウエハ搬
送装置（ＰＲＡ）１５の損傷を防止することができる。

【０１０５】ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１
４ｄにエクストラウエハが存在していることを示す警報
によって、オペレータは、別のエクストラウエハが逆向
きで別の処理ユニットに存在していても、その別のエク
ストラウエハをウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・
１４ｄに搬送して反転処理を行うことができないという
ことを、容易に認識することができる。これによりエク
ストラウエハの損傷等を防止することができる。

【０１０６】スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜
２１ｄにエクストラウエハが存在する場合には、洗浄液
をウエハＷに供給している途中で洗浄処理システム１が
シャットダウンした場合が考えられる。この場合には、
エクストラウエハは洗浄液によって濡れた状態にあるお
それがある。このような状態でエクストラウエハを主ウ
エハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に移し替えた場合には、主
ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が濡れてしまい、動作不
良を起こすおそれがある。そこで、スクラブ洗浄ユニッ
ト（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在
する場合に警報を発することによって、オペレータは、
例えば、エクストラウエハに洗浄処理を施してスピン乾
燥を行った後に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１
ａ〜２１ｄから搬出する、等の対処を容易に取ることが
できる。

【０１０７】なお、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２
１ａ〜２１ｄにエクストラウエハが存在する場合には、
自動的に、自動的にリンス液（純水）がエクストラウエ
ハに吐出されて簡易的な洗浄処理が行われ、その後にス
ピン乾燥が行われるようにすることも好ましい。

【０１０８】先に述べたように、エクストラウエハの向
きが不明な場合には、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニッ
ト（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにそのエクストラウエハを
搬入してエクストラウエハの向きを確定する必要があ
る。しかし、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ・２１ｂに最初からエクストラウエハが存在
している場合には、別の処理ユニット等に存在している
エクストラウエハをさらに裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユ
ニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに搬入することはでき
ない。オペレータはこのような状況を、警報装置７８に
よる警報によって容易に認識することができる。

【０１０９】警報解除部７９は、警報装置７８ａ・７８
ｂによって発せられた警報を解除する。回収開始部７７
によるエクストラウエハの回収指令は、警報解除部７９
によって全ての警報が解除された状態において装置制御
部（ＣＰＵ）７１に発信することができるようになって
いる。つまり、警報解除部７９による警報解除操作は、
エクストラウエハの回収処理に用いられるウエハ情報を
確定する操作でもある。例えば、警報装置７８ａ・７８
ｂによる警報はモニタ７５の画面に表示され、警報解除
部７９の操作はモニタ７５の画面上から行うか、また
は、キーボードや各処理ユニットのマニュアル操作ボタ
ン等から行うことができるようになっている。

【０１１０】図１０は機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９
´を用いた場合のエクストラウエハの回収手順の一態様
を示した説明図である。ここで、メモリ７４は洗浄処理
システム１内において処理が行われている際のウエハＷ
の位置と向きを記憶するが、どのフープＦのどのスロッ
トから搬出したウエハＷがどのユニットにおいてどの向
きにあるという情報までは記憶されておらず、また、ホ
ットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユ
ニット（ＣＯＬ）１６ｄについてのウエハ情報を記憶し
ていないものとする。

【０１１１】洗浄処理システム１に電源投入して洗浄処
理システム１を起動する（ステップ２０１）とイニシャ
ライズ処理が開始され、このイニシャライズ処理時に
は、前回の洗浄処理システム１の電源遮断時にメモリ７
４に保存されていた洗浄処理システム１内のウエハ情報
が取り出されて、その結果がモニタ７５に表示される
（ステップ２０２）。また、ウエハ検出センサによって
検出されたエクストラウエハが検出される（ステップ２
０３）。

【０１１２】前述したように、洗浄処理システム１にお
いては、ウエハ検出センサが設けられているウエハ受渡
ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂ、ウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ、スクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）
１３、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５では、エクスト
ラウエハの有無を検出することができる。しかし、ウエ
ハ検出センサが設けられていないホットプレートユニッ
ト（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１
６ｄについては、エクストラウエハの有無は不明であ
る。

【０１１３】メモリ７４から取り出されたウエハ情報と
ウエハ検出センサによって検出された検出結果は照合さ
れる（ステップ２０４）。その結果、これらの情報に相
違がある場合には、ウエハ検出センサによる検出結果が
優先して表示され、警報装置７８ａによって警報が発せ
られる（ステップ２０５）。これは、ウエハ検出センサ
の検出結果が実際の洗浄処理システム１内の状態を反映
しているからである。例えば、メモリ７４から取り出さ
れたウエハ情報にはある位置にエクストラウエハが存在
する内容が記憶されているが、ウエハ検出センサがその
位置においてエクストラウエハを検出しなかった場合に
は、エクストラウエハはその位置にないと判断され、そ
の結果がモニタ７５の画面に表示される。

【０１１４】図１１は、メモリ７４から取り出されたウ
エハ情報とウエハ検出センサが検出したウエハ情報にエ
クストラウエハの回収レシピを適用した結果、モニタ７
５に表示される画面を模式的に示した説明図である。こ
こで、回収レシピとしては、エクストラウエハに対して
自動的に番号付けを行い、この番号順に所定のフープＦ
における空きスロットの上から順番にエクストラウエハ
を収納する内容のものが用いられたとする。

【０１１５】図１１は、載置台１１に３個のフープＦ１
〜Ｆ３が載置されているが、空きスロットがあるのはフ
ープＦ１のみであり、フープＦ１には５箇所の空きスロ
ットがあることを示している。後述するように、洗浄処
理システム１内には６枚のエクストラウエハが存在して
いることから、回収スロットの数が不足している。この
ために警報装置７８ａによる警報が発せられている。

【０１１６】ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３とウエハ受
渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにはエクストラウ
エハは存在していない。したがってウエハ搬送装置（Ｃ
ＲＡ）１３については警報も発令されていない。

【０１１７】主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５はエクス
トラウエハＷ１を保持しているが、その向きが不明であ
ることを示す「Ｗ１？」の表示がされている。「Ｗ１
？」の表示の後ろの「−０」という連番表示は、メモリ
７４から取り出されたウエハ情報に主ウエハ搬送装置
（ＰＲＡ）１５がエクストラウエハを保持しているとい
う情報がなかったことを示している。つまり、実際には
主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５にエクストラウエハＷ
１が存在し、かつ、エクストラウエハＷ１はその向きが
不明であり、その結果として「Ｗ１？−０」の表示がな
されている。また、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に
ついては、警報装置７８ａ・７８ｂによる二重の警報、
例えば、「Ｗ１？−０」の表示点滅と、音声等による警
報が発せられている。

【０１１８】このエクストラウエハＷ１については、例
えば、エクストラウエハが存在していないスクラブ洗浄
ユニット（ＳＣＲ）２１ａにエクストラウエハＷ１を搬
入してオペレータがその向きを判断し、エクストラウエ
ハＷ１に関するウエハ情報を確定する（ステップ２０
６）とともに、警報解除部７９を操作することによって
警報装置７８ａに基づく警報を解除し、さらにエクスト
ラウエハＷ１を主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５に戻す
操作を行う。

【０１１９】ウエハ反転ユニット１４ｃには表向きのエ
クストラウエハＷ２が存在し、また、ウエハ反転ユニッ
ト１４ｄには逆向きのエクストラウエハＷ３が存在して
おり、ともに、例えば、「Ｗ２」と「Ｗ３Ｒ」の表示が
点滅する等の警報装置７８ｂによる警報が発せられてい
る。また、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２
１ｄには、それぞれエクストラウエハＷ４・Ｗ５が存在
しており、例えば、「Ｗ４」と「Ｗ５」の表示が点滅す
る等の警報装置７８ｂによる警報が発せられている。同
様に、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｂには逆向
きのエクストラウエハＷ６が存在しており、同様に「Ｗ
６Ｒ」の表示が点滅する等の警告が発せられている。

【０１２０】オペレータは、警報装置７８ｂによって警
報が発せられている処理ユニット等を確認して警報を解
除する（ステップ２０７）。次に、フープＦ１には空き
スロットが５箇所しかないために、全てのエクストラウ
エハＷ１〜Ｗ６をフープＦ１に回収することはできない
ことを示す警報が警報装置７８ａによって発せられてい
る。このために、例えば、フープＦ１を載置台１１から
搬出して、必要数の空のスロットがあるフープＦに置き
換える等の処置を行って回収先スロット数に関する警報
を解除する。こうして、回収開始部７７からエクストラ
ウエハＷ１〜Ｗ６の回収開始の指令を装置制御部（ＣＰ
Ｕ）７１に送って、回収作業が開始される（ステップ２
０８）。エクストラウエハＷ１〜Ｗ６の回収は、与えら
れた番号の小さい順から自動的に行われる。

【０１２１】その後には、ホットプレートユニット（Ｈ
Ｐ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの
個々に対して主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５によるエ
クストラウエハの搬出動作を行う。ホットプレートユニ
ット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）
１６ｄには、ウエハＷは表向きで搬入されているため
に、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラウエ
ハを検出した場合には、そのエクストラウエハはウエハ
受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに搬送され、さ
らにウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３によってフープＦの
所定の空きスロットに戻される。

【０１２２】機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９´による
エクストラウエハの回収手順は、図１２のフローチャー
トに示すように変形することが可能である。この回収手
順では、エクストラウエハの情報を全て確定させずに、
エクストラウエハの有無は確定させるが、エクストラウ
エハの向きが確定されていない状態で、エクストラウエ
ハの回収を開始する。

【０１２３】まず、洗浄処理システム１を起動する（ス
テップ３０１）。これにより、メモリ７４に記憶された
ウエハ情報によるエクストラウエハの位置および向きが
モニタ７５に表示される（ステップ３０２）。また、ウ
エハ検出センサによってエクストラウエハが検出される
（ステップ３０３）。さらに、メモリ７４から取り出さ
れたウエハ情報とウエハ検出センサによる検出結果との
照合が行われる（ステップ３０４）。

【０１２４】次に、エクストラウエハの有無を確認する
（ステップ３０５）。メモリ７４から取り出したウエハ
情報とウエハ検出センサによるエクストラウエハの検出
結果が異なる場合には、ウエハ検出センサによる検出結
果を採用する。こうして、エクストラウエハの有無が確
定するが、その向きはまだ全てのエクストラウエハにつ
いては確定していない。

【０１２５】メモリ７４から取り出したウエハ情報とウ
エハ検出センサによるエクストラウエハの検出結果が異
なる場合には、警報が発令されるため、オペレータはエ
クストラウエハの向きを確認することなく、この警報を
解除し、さらに、エクストラウエハの回収開始を指示す
る（ステップ３０６）。

【０１２６】エクストラウエハの回収は、先に述べたよ
うに、原則として、（１）ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１
３、（２）ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４
ｂ、（３）主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５、（４）ウ
エハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄ、（５）ス
クラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄ、（６）
ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃ、
（７）冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄの順で行われる。

【０１２７】例えば、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３と
ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂのエクス
トラウエハは表向きであることが確定しているため、容
易に回収を行うことができる（ステップ３０７）。しか
し、次の主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクストラ
ウエハを保持していた場合には、そのエクストラウエハ
の向きは不明である場合がある。そこで、警報を発令し
て（ステップ３０８）、オペレータによるエクストラウ
エハの向きの確認を行い（ステップ３０９）、続いて警
報の解除を行う（ステップ３１０）。オペレータはモニ
タ７５に表示されたウエハ情報を確認作業結果に基づい
て修正し、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がエクスト
ラウエハを回収する（ステップ３１１）。

【０１２８】以降、エクストラウエハの向きが明らかに
表向きの場合には、そのままの状態でそのエクストラウ
エハを回収する。またエクストラウエハの向きが明らか
に逆向きの場合には、反転処理を行った後にそのエクス
トラウエハを表向きで回収する。さらに、エクストラウ
エハの向きが不明な場合には、ステップ３０８〜３１１
の手順にしたがってそのエクストラウエハを表向きで回
収する（ステップ３１２）。これにより全てのエクスト
ラウエハの回収作業が終了する（ステップ３１３）。

【０１２９】以上、本発明の実施の態様について説明し
てきたが、本発明はこのような態様に限定されるもので
はない。例えば、上記説明においては、メモリ７４から
取り出されたウエハ情報またはウエハ検出センサによる
検出結果にエクストラウエハの回収を開始するにあたっ
て何らかの障害が生じている場合について説明した。し
かし、このような障害が発生していない場合には、自動
的にイニシャライズ処理が終了した後に、エクストラウ
エハを回収させることが可能である。

【０１３０】また、洗浄処理システム１において、スク
ラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄを表面洗浄
用と裏面洗浄用とに分けて用いた場合には、スクラブ洗
浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ〜２１ｄに関するウエハ情
報をメモリ７４に記憶させる必要はなく、ウエハ検出セ
ンサによるウエハ検出結果にのみ基づいてエクストラウ
エハの有無とその向きを確定することができる。

【０１３１】また、搬送ピック１３ａが保持しているエ
クストラウエハとウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ
・１４ｂに存在するエクストラウエハは、必ず表向きと
なる。このため搬送ピック１３ａおよびウエハ受渡ユニ
ット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂに関するウエハ情報をメ
モリ７４に記憶させる必要はなく、ウエハ検出センサに
よるウエハ検出結果にのみ基づいてエクストラウエハの
有無とその向きを確定することができる。

【０１３２】換言すれば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ〜２１ｄと、ウエハ搬送装置（ＣＲＡ）１３
と、ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ）１４ａ・１４ｂにつ
いては、メモリ７４にウエハ情報が記憶されていても、
そのウエハ情報を用いることなく、ウエハ検出センサか
らのエクストラウエハの検出情報のみを用いることによ
って、エクストラウエハを回収することができる。

【０１３３】さらにまた、洗浄処理システム１におい
て、例えば、機械制御ユニット（ＭＣＢ）１９に、機械
制御ユニット（ＭＣＢ）１９´に設けられている警報装
置７８ａ・７８ｂおよび警報解除部７９を設けてもよ
い。この場合には、警報解除部７９にはウエハ情報を確
定させる機能を持たせないで単純に警報解除の機能だけ
を持たせ、また、ウエハ情報の修正と確定はウエハ情報
操作部７６によって行うことが好ましい。このような構
成とすることによって、オペレータはウエハ検出センサ
による検出結果からエクストラウエハが存在する位置を
容易に把握することが可能となる。また、メモリ７４か
ら取り出されたウエハ情報によって、ウエハＷの向きを
容易に確認することができる。オペレータは、ウエハ情
報操作部７６を操作することによって、警報が発せられ
ている処理ユニットや搬送装置におけるウエハ情報を適
切に修正し、回収先のスロット位置の変更等を行い、さ
らに警報解除部７９から警報解除を行って、エクストラ
ウエハの回収開始することが可能となる。これによりオ
ペレータの負担はさらに軽減される。

【０１３４】上記説明においては、モニタ７５の画面に
ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却
ユニット（ＣＯＬ）１６ｄに関するエクストラウエハの
情報を表示しなかった。しかし、ホットプレートユニッ
ト（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）１
６ｄにウエハ検出センサを設けるか、または、主ウエハ
搬送装置（ＰＲＡ）１５の動作からホットプレートユニ
ット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（ＣＯＬ）
１６ｄに対するウエハＷの搬入出履歴をメモリ７４に記
憶させることも可能である。これによってホットプレー
トユニット（ＨＰ）１６ａ〜１６ｃと冷却ユニット（Ｃ
ＯＬ）１６ｄに存在するエクストラウエハについても、
その他の処理ユニット等にエクストラウエハが存在する
場合と同様の手順にしたがって所定のフープＦの所定の
スロットに回収することが可能である。

【０１３５】また、上記説明においては、洗浄処理シス
テム１の電源遮断時に洗浄処理システム１内に存在する
ウエハＷに関して、メモリ７４に記憶されるのはウエハ
Ｗの位置と向きに関する情報のみであった。そこで、こ
れらに加えて、あるウエハＷについての、ウエハ搬送装
置（ＣＲＡ）１３がどのフープＦのどのスロットから取
り出したものであるかという情報と、ウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにおける処理の回数から判
断されるウエハＷの向きに関する情報と、ウエハ搬送装
置（ＣＲＡ）１３と主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の
動きを記憶することによるそのウエハＷの洗浄処理シス
テム１内で移動履歴情報とをメモリ７４に記憶して、イ
ニシャライズ処理時にこれらの情報を取り出すことがで
きるようにすれば、エクストラウエハを搬出元のフープ
Ｆのスロットに戻すことも可能となる。

【０１３６】図４に示した処理レシピに準じて洗浄処理
が行われることが明らかであって、ウエハＷの洗浄処理
システム１内での移動履歴情報がメモリ７４に記憶され
ている場合には、エクストラウエハの回収処理を行うこ
となく、洗浄処理を再開させることも可能である。例え
ば、表面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１
ｃ・２１ｄに存在するエクストラウエハについては、表
面洗浄処理を最初から行い、次に、処理レシピにしたが
って裏面洗浄や乾燥処理を行った後に、所定のフープＦ
に収納することができる。

【０１３７】また、裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂにおいて検出されたエクスト
ラウエハについては、表面が汚染されている可能性があ
るために、スピン乾燥を施した後に、再び表面洗浄用の
スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ｃ・２１ｄに戻し
て表面洗浄の再処理を行うことが好ましい。この場合に
は、その後に裏面洗浄をやり直して乾燥処理を行い、所
定のフープＦの所定のスロットに回収するといった操作
を行えばよい。

【０１３８】ホットプレートユニット（ＨＰ）１６ａ〜
１６ｃや冷却ユニット（ＣＯＬ）１６ｄにエクストラウ
エハが存在する場合には、少なくともエクストラウエハ
の表面の洗浄処理は終了していることとなるが、再度、
表面の洗浄処理から始まる一連の処理を行ってもよい
し、または裏面の洗浄処理から始まる一連の処理を行っ
てもよい。

【０１３９】さて、先に説明した（ａ−２）の場合、つ
まり、洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄処理シ
ステム１を起動させた際に、主ウエハ搬送装置（ＰＲ
Ａ）１５がエクストラウエハを保持しており、そのエク
ストラウエハが逆向きである場合において、さらにウエ
ハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれにも
既にエクストラウエハが存在する場合には、主ウエハ搬
送装置（ＰＲＡ）１５からウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｃ・１４ｄへのウエハＷの受け渡しは、以下の
方法によって行うことができる。

【０１４０】つまり、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５
は、主ウエハ搬送アーム５５・５６・５７を有している
ので、構造上は３枚のウエハを持つことができる。しか
し、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が再起動時にエク
ストラウエハを持っている数として考えられるのは０枚
または１枚または２枚であり、３枚という状態はあり得
ない。何故なら、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５はウ
エハＷの入れ替え動作しか行わないので、０枚または１
枚という場合が多く、２枚存在するのは、ある処理ユニ
ットへのウエハＷの入れ替え作業の途中で洗浄処理シス
テム１の電源が落ちたとき、つまり、処理ユニット内の
ウエハＷを主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が取り出
し、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が別の処理ユニッ
トへウエハＷを搬入する前に電源が落ちたときであり、
まれな現象だからである。

【０１４１】したがって、ウエハ反転ユニット（ＲＶ
Ｓ）１４ｃ・１４ｄのいずれかのエクストラウエハを主
ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５の空いているアームで受
け取り、その後に空いたウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）
１４ｃ・１４ｄのいずれかにエクストラウエハを搬送し
て（ａ−２）の作業を行うことができる。

【０１４２】なお、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が
最大２枚のウエハしか持つことができない場合（例え
ば、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５は通常動作では最
大２枚のウエハＷを待てればよいので、主ウエハ搬送装
置（ＰＲＡ）１５の運転ソフト上、最大で２枚しか持て
ない場合）には、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が２
枚のエクストラウエハを持っていて、ウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄのいずれにもエクストラウ
エハが存在したならば、回収を中止するか、またはエク
ストラウエハの向きを考慮することなく回収してもよ
い。回収中止の場合には、オペレータが回収作業を行
う。主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５が一度に３枚のウ
エハを持つことが運転ソフト上できる場合には、どのよ
うな場合においても（ａ−２）の動作が可能である。

【０１４３】先に説明した（ｂ−２）の場合、つまり、
洗浄処理システム１に電源を投入して洗浄処理システム
１を起動させた際に、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）１
４ｃ・１４ｄにエクストラウエハが存在し、そのエクス
トラウエハの向きが不明である場合において、さらに裏
面洗浄用のスクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ・２
１ｂのいずれにも既にエクストラウエハが存在する場合
は、次のようにしてエクストラウエハの回収を行うこと
ができる。

【０１４４】つまり、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５
の空いているアームが裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニッ
ト（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかのエクストラウ
エハを取り出し、空いた裏面洗浄用のスクラブ洗浄ユニ
ット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかにウエハ反転
ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄにあるエクストラウ
エハを搬送し、オペレータが表裏を目視観察する。その
後の回収方法は先に説明した通りである。

【０１４５】主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５がウエハ
Ｗを３枚保持することができれば、洗浄処理システム１
の再起動時にエクストラウエハが主ウエハ搬送装置（Ｐ
ＲＡ）１５に２枚、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２
１ａ・２１ｂに各１枚、ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ）
１４ｃ・１４ｄに各１枚存在していても、問題なくエク
ストラウエハを全て表向きで回収することができる。

【０１４６】しかし、主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ）１５
が、運転ソフトの都合でウエハを同時に２枚しか持つこ
とができない場合には、エクストラウエハが主ウエハ搬
送装置（ＰＲＡ）１５に２枚、スクラブ洗浄ユニット
（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂに各１枚、ウエハ反転ユニッ
ト（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｃに各１枚存在すると、エク
ストラウエハを全て表向きで回収することができない。

【０１４７】この場合には、スクラブ洗浄ユニット（Ｓ
ＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかのエクストラウエハを
オペレータ自身で回収し、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣ
Ｒ）２１ａ・２１ｂのいずれかを空の状態にすることに
より、他のエクストラウエハを全て表向きに回収するこ
とができる。なお、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２
１ａ・２１ｂは、洗浄処理システム１の外側でかつ下段
に配置されているために、オペレータはスクラブ洗浄ユ
ニット（ＳＣＲ）２１ａ・２１ｂのいずれかからエクス
トラウエハを取り出しやすい。これに対して、ウエハ反
転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄは、洗浄処理シス
テム１の中央に位置しているために、オペレータはウエ
ハ反転ユニット（ＲＶＳ）１４ｃ・１４ｄからエクスト
ラウエハを取り出し難い。

【０１４８】例えば、洗浄処理システム１のイニシャラ
イズ処理を行っても不具合が発生している処理ユニット
が存在する場合、例えば、ユニット駆動用のエア用力の
停止や処理液の供給停止、ユニットへの電力供給の停止
などによる不具合が生じている場合には、その処理ユニ
ットのイニシャライズ処理を行うことができない。この
ために、その処理ユニットにエクストラウエハが存在し
てもそれを回収できない事態が生ずる。

【０１４９】このような場合には、まずイニシャライズ
処理が終了していない処理ユニットを除く処理ユニット
に存在する回収が可能なエクストラウエハについて１回
目の回収動作を行う。次に、装置電源を落とすことなく
処理ユニットで発生している不具合をオペレータが手動
修復し、その後に装置電源を落とすことなく再度イニシ
ャライズ処理を行う。これにより、洗浄処理システム１
内に存在するエクストラウエハの２回目の回収動作を行
うことが可能となる。このような手順を踏むことによ
り、洗浄処理システム１の電源を入れて起動した後に、
再び装置電源を落とすことなく、全てのエクストラウエ
ハを回収することができる。

【０１５０】メモリ７４はウエハＷの位置と向きを記憶
するが、さらにどのフープＦのどのスロットから搬出し
たウエハＷかという情報を記憶させてもよい。エクスト
ラウエハを回収する際には、この情報を用いてフープＦ
へのエクストラウエハの搬入スロットを決定してもよ
い。例えば、搬出スロットと同じスロットに回収しても
よく、またはオペレータが指定するスロットまたは回収
レシピにしたがって装置制御部（ＣＰＵ）７１が割り当
てた所定のスロットに回収してもよい。

【０１５１】上記説明においては、基板として半導体ウ
エハを取り上げたが、基板はＬＣＤ基板等であってもよ
い。また本発明の基板処理装置と基板処理方法は、レジ
スト塗布処理装置や現像処理装置等、基板の両面を処理
する装置および方法にも適用することが可能である。

【０１５２】

【発明の効果】上述の通り、本発明の基板処理装置と基
板処理方法によれば、基板処理装置の電源が遮断されて
その後に最初に再起動した際に、基板処理装置内に存在
する基板の位置と向きを容易に把握することができる。
これにより、オペレータは必要に応じて基板の表面と裏
面の別を確認し、所定の処理手順にしたがった操作を行
えば、容易に基板をその向きを揃えて回収することがで
きる。また、自動回収も行うことができる。こうして基
板の損傷が防止され、また、オペレータの負担が軽減さ
れるという効果が得られる。また、オペレータが直接に
基板を取り扱う際の基板の取り落とし等の発生を防止す
ることができるという効果も得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】洗浄処理システムの概略構造を示す平面図。

【図２】図１記載の洗浄処理システムの側面図。

【図３】受渡／反転部、主ウエハ搬送装置および加熱／
冷却ユニットの配置を示す断面図。

【図４】洗浄処理工程を簡略に示したフローチャート。

【図５】図１記載の洗浄処理システムにおける機械制御
ユニット（ＭＣＢ）の構成の一態様を示す説明図。

【図６】洗浄処理システムの起動時におけるエクストラ
ウエハの回収の一態様を示す説明図。

【図７】洗浄処理システムの起動時においてモニタに表
示される内容の具体例を模式的に示す説明図。

【図８】データ編集時のモニタの表示の変化を示す説明
図。

【図９】洗浄処理システムにおける機械制御ユニット
（ＭＣＢ）の構成の別の態様を示す説明図。

【図１０】洗浄処理システムの起動時におけるエクスト
ラウエハの回収の別の態様を示すフローチャート。

【図１１】洗浄処理システムの起動時においてモニタに
表示される内容の具体例を模式的に示す別の説明図。

【図１２】洗浄処理システムの起動時におけるエクスト
ラウエハの回収のさらに別の態様を示すフローチャー
ト。

【符号の説明】

１；洗浄処理システム ３；基板洗浄処理部 ４；イン・アウトポート ５；ウエハ搬送部 １３；ウエハ搬送装置 １４；受渡／反転部（ＴＲＳ／ＲＶＳ） １４ａ・１４ｂ；ウエハ受渡ユニット（ＴＲＳ） １４ｃ・１４ｄ；ウエハ反転ユニット（ＲＶＳ） １５；主ウエハ搬送装置（ＰＲＡ） １６；加熱／冷却部（ＨＰ／ＣＯＬ） １６ａ〜１６ｃ；ホットプレートユニット（ＨＰ） １６ｄ；冷却ユニット（ＣＯＬ） １９・１９´；機械制御ユニット（ＭＣＢ） ２１ａ〜２１ｄ；スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ） ７１；装置制御部（ＣＰＵ） ７２；レシピコントローラ ７３；操作部 ７４；メモリ ７５；モニタ ７６；ウエハ情報操作部 ７７；回収開始部 ７８ａ・７８ｂ；警報装置 ７９；警報解除部 Ｗ；半導体ウエハ（基板） Ｆ；フープ（基板収容容器）

フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 DA08 EA14 FA01 FA02 FA07 FA11 FA12 FA15 FA20 GA36 GA57 GA58 GA59 HA13 JA22 JA23 LA13 MA23 MA30 NA02 NA10 NA16 PA02 PA10 PA20

Claims (26)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に対して所定の処理を施すととも
   に、その中で基板の反転が行われる装置本体と、 前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、 前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段
   と、 前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する
   基板の位置と向きに関する情報を記憶し、次に前記装置
   本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り
   出される記憶手段と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段
   が検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情
   報とを照合して、これらの情報に相違がある場合に警報
   を発する警報手段と、 前記警報を解除する警報解除手段と、 前記装置本体内に存在する基板を前記装置本体外の所定
   位置に回収するように前記基板搬送手段を制御する制御
   手段と、 前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開
   始手段と、 を具備し、 前記警報解除手段によって警報が解除され、かつ、前記
   装置本体内の基板が所定の向きで回収されることが確認
   された後に、前記回収開始手段は基板回収の指令を前記
   制御手段に発することを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記警報解除手段は、前記警報手段によ
   って警報が発せられた基板に関する情報を修正して基板
   情報を確定し、基板情報の確定後に前記警報を解除する
   情報修正手段を具備し、 前記制御手段は、前記情報修正手段によって確定された
   基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を装
   置本体外の所定位置に回収するように前記基板搬送手段
   を制御することを特徴とする請求項１に記載の基板処理
   装置。
3. 【請求項３】 前記情報修正手段は、前記基板検出手段
   が所定位置において基板を検出していないにもかかわら
   ず前記記憶手段から前記所定位置に基板が存在している
   ことを示すデータが取り出された場合に前記データを削
   除し、または前記基板検出手段が所定位置において基板
   を検出しているにもかかわらず前記記憶手段から前記所
   定位置に基板が存在していないことを示すデータが取り
   出された場合に前記所定位置に存在する基板の状態を示
   すデータを追加し、または前記記憶手段から取り出され
   た所定位置に存在する基板の向きに関するデータが実際
   の基板の向きと異なっている場合に前記データを修正す
   ることができることを特徴とする請求項２に記載の基板
   処理装置。
4. 【請求項４】 基板に対して所定の処理を施すととも
   に、その中で基板の反転が行われる装置本体と、 前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、 前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する
   基板の位置と向きに関する情報を記憶し、次に前記装置
   本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り
   出される記憶手段と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記記憶手段から
   取り出された情報を操作する情報操作手段と、 前記情報操作手段によって得られた基板情報に基づいて
   基板を装置本体外の所定位置に回収するように前記基板
   搬送手段を制御する制御手段と、 前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開
   始手段と、 を具備し、 前記装置本体内の基板が所定の向きで回収されることが
   確認された後に前記回収開始手段は基板回収の指令を前
   記制御手段に発することを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 前記情報操作手段は、前記記憶手段から
   取り出された所定位置に基板が存在していることを示す
   データを削除し、または前記記憶手段から所定位置に基
   板が存在していないことを示すデータが取り出された場
   合に前記所定位置に基板が存在するデータを追加し、ま
   たは前記記憶手段から取り出された所定位置に存在する
   基板の向きに関するデータが実際の基板の向きと異なっ
   ている場合に前記データを修正することができることを
   特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
6. 【請求項６】 前記装置本体内の全ての基板は、所定の
   向きで回収されることが確認された後に各基板が連続し
   て前記装置本体外の所定位置に回収されることを特徴と
   する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の基板
   処理装置。
7. 【請求項７】 基板に所定の処理を施す基板処理装置で
   あって、 複数の基板を所定間隔で収納可能な容器の搬入出を行う
   容器搬入出部と、 基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
   理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有す
   る基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部と
   の間で基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体
   と、 前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基板搬
   送装置と、 前記基板搬送部において基板の搬送を行う第２の基板搬
   送装置と、 前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段
   と、 前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する
   基板の位置と向きに関する情報を記憶し、次に前記装置
   本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り
   出される記憶手段と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段
   が検出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情
   報とを照合して、これらの情報に相違がある場合に警報
   を発する警報手段と、 前記警報を解除する警報解除手段と、 前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部に載
   置された容器に回収するように前記第１の基板搬送装置
   および前記第２の基板搬送装置を制御する制御手段と、 前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開
   始手段と、 を具備し、 前記警報解除手段によって警報が解除され、かつ、前記
   装置本体内の基板が所定の向きで回収されることが確認
   された後に、前記回収開始手段が基板回収の指令を前記
   制御手段に発することを特徴とする基板処理装置。
8. 【請求項８】 前記警報手段は、前記装置本体に電源が
   投入された際に、前記基板検出手段が前記液処理ユニッ
   ト、前記反転ユニット、前記第１の基板搬送装置または
   前記第２の基板搬送装置において基板を検出した場合に
   警報を発することを特徴とする請求項７に記載の基板処
   理装置。
9. 【請求項９】 前記制御手段は、前記基板検出手段が検
   出した検出情報と前記記憶手段から取り出された情報と
   を照合した結果に異常がない場合に、基板の回収手順と
   基板を回収する容器における基板収容スロットを自動的
   に定めて、前記回収開始手段からの指令によって前記第
   １の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制御
   して基板の回収を行う請求項７または請求項８に記載の
   基板処理装置。
10. 【請求項１０】 前記警報解除手段は、前記警報手段に
    よって警報が発せられた基板に関する情報を修正して基
    板情報を確定し、基板情報の確定後に前記警報を解除す
    る情報修正手段を具備し、 前記制御手段は、前記情報修正手段によって確定された
    基板情報に基づいて前記装置本体内に存在する基板を前
    記容器搬入出部に載置された容器へ回収するように前記
    第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置を制
    御することを特徴とする請求項７から請求項９のいずれ
    か１項に基板処理装置
11. 【請求項１１】 前記情報修正手段は、前記基板検出手
    段が所定位置で基板を検出していないにもかかわらず前
    記記憶手段から前記所定位置に基板が存在していること
    を示すデータが取り出された場合に前記データを削除
    し、または前記基板検出手段が所定位置で基板を検出し
    ているにもかかわらず前記記憶手段から前記所定位置に
    基板が存在していないことを示すデータが取り出された
    場合に前記所定位置にある基板の状態を示すデータを追
    加し、または前記記憶手段から取り出された所定位置に
    ある基板の向きに関するデータが実際の基板の向きと異
    なっている場合に前記データを修正し、または基板を回
    収する容器における基板収容スロットを変更し、または
    基板の回収順序を変更することができることを特徴とす
    る請求項１０に記載の基板処理装置。
12. 【請求項１２】 前記情報修正手段は、前記記憶手段か
    ら取り出された情報を表示可能なモニタを具備し、 前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集し
    て、前記モニタの画面から前記回収開始手段による基板
    回収の指令を前記制御手段に送ることができることを特
    徴とする請求項１０または請求項１１に記載の基板処理
    装置。
13. 【請求項１３】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
    であって、 複数の基板を所定間隔で収納可能な容器の搬入出を行う
    容器搬入出部と、 基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
    理ユニットおよび基板を反転させる反転ユニットを有す
    る基板処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部と
    の間で基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体
    と、 前記基板処理部において基板の搬送を行う第１の基板搬
    送装置と、 前記基板搬送部において基板の搬送を行う第２の基板搬
    送装置と、 前記装置本体の電源遮断時に前記装置本体内に存在する
    基板の位置と向きに関する情報を記憶し、次に前記装置
    本体に電源が投入された際にこの記憶された情報が取り
    出される記憶手段と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記記憶手段から
    取り出された情報を操作する情報操作手段と、 前記情報操作手段によって得られた基板情報に基づいて
    前記装置本体内に存在する基板を前記容器搬入出部に載
    置された容器へ回収するように前記第１の基板搬送装置
    および前記第２の基板搬送装置を制御する制御手段と、 前記制御手段に基板回収を開始する指令を発する回収開
    始手段と、 を具備し、 前記装置本体内に存在する基板が所定の向きで回収され
    ることが確認された後に前記回収開始手段は基板回収の
    指令を前記制御手段に発することを特徴とする基板処理
    装置。
14. 【請求項１４】 前記情報操作手段は、前記記憶手段か
    ら取り出された所定位置に基板が存在していることを示
    すデータを削除し、または前記記憶手段から所定位置に
    基板が存在していないことを示すデータが取り出された
    場合に前記所定位置に基板が存在するデータを追加し、
    または前記記憶手段から取り出された所定位置に存在す
    る基板の向きに関するデータが実際の基板の向きと異な
    っている場合に前記データを修正し、または基板を回収
    する容器における基板収容スロットを変更し、または基
    板の回収順序を変更することができることを特徴とする
    請求項１３に記載の基板処理装置。
15. 【請求項１５】 前記情報操作手段は、前記記憶手段か
    ら取り出された情報を表示可能なモニタを具備し、 前記モニタに表示された情報をモニタ画面上で編集し
    て、前記モニタの画面から前記回収開始手段による基板
    回収の指令を前記制御手段に送ることができることを特
    徴とする請求項１３または請求項１４に記載の基板処理
    装置。
16. 【請求項１６】 前記記憶手段は、前記反転ユニットに
    よる基板の反転処理の回数によって前記基板処理部に存
    在する基板の向きを判断してその状態を記憶することを
    特徴とする請求項７から請求項１５のいずれか１項に記
    載の基板処理装置。
17. 【請求項１７】 前記装置本体内に存在する基板は、基
    板の表面を上面とした状態で前記容器搬入出部に載置さ
    れた容器に回収されることを特徴とする請求項７から請
    求項１６のいずれか１項に記載の基板処理装置。
18. 【請求項１８】 前記液処理ユニットは基板の表面また
    は裏面に対して洗浄処理を施す枚葉式洗浄ユニットであ
    って、前記枚葉式洗浄ユニットは多段に積み重ねられて
    いることを特徴とする請求項７から請求項１７のいずれ
    か１項に記載の基板処理装置。
19. 【請求項１９】 前記基板処理部は、前記液処理ユニッ
    トにおいて液処理された基板に所定の熱的処理を施す熱
    的処理ユニットを具備することを特徴とする請求項７か
    ら請求項１８のいずれか１項に記載の基板処理装置。
20. 【請求項２０】 前記熱的処理ユニットは、基板を加熱
    処理する加熱処理ユニットと、前記加熱処理ユニットに
    おいて熱処理された基板を冷却する冷却処理ユニット
    と、を有することを特徴とする請求項１９に記載の基板
    処理装置。
21. 【請求項２１】 基板の表面および裏面に対して所定の
    処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備
    えた基板処理装置における基板処理方法であって、 基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在
    する基板の位置および向きに関する情報をメモリに記憶
    する工程と、 前記記憶工程後に最初に前記基板処理装置に電源が投入
    された際に、前記メモリに記憶された情報を取り出す工
    程と、 前記取り出し工程において取り出された情報を前記基板
    処理装置内の実際の基板状態と一致するように修正し、
    基板情報を確定する工程と、 前記確定工程において確定された基板情報に基づいて、
    前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段
    により所定の向きで前記基板処理装置外の所定位置に搬
    出する工程と、 を有することを特徴とする基板処理方法。
22. 【請求項２２】 基板の表面および裏面に対して所定の
    処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備
    えた基板処理装置における基板処理方法であって、 基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在
    する基板の位置および向きに関する情報をメモリに記憶
    する工程と、 前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入され
    た際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、ま
    た、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程
    と、 前記検出工程において前記メモリから取り出された情報
    と前記基板処理装置内で検出された基板の位置情報とを
    照合して、これらの情報に相違がない場合に基板情報を
    確定し、前記基板情報に基づいて前記基板処理装置内に
    存在する基板を前記基板搬送手段により所定の向きで前
    記基板処理装置外の所定位置に搬出する工程と、 を有することを特徴とする基板処理方法。
23. 【請求項２３】 基板の表面および裏面に対して所定の
    処理を行い、その中で基板を搬送する基板搬送手段を備
    えた基板処理装置における基板処理方法であって、 基板処理装置の電源遮断時に前記基板処理装置内に存在
    する基板の位置および向きに関する情報をメモリに記憶
    する工程と、 前記記憶工程後に最初に基板処理装置に電源が投入され
    た際に、前記メモリに記憶された情報を取り出し、ま
    た、前記基板処理装置内に存在する基板を検出する工程
    と、 前記メモリから取り出された情報と前記基板処理装置内
    で検出された基板の位置情報とを照合して、これらの情
    報に相違点または不明点がある場合に警報を発する工程
    と、 オペレータによって前記基板処理装置内の実際の基板状
    態を示す基板情報を確定し、前記警報を解除する工程
    と、 前記解除工程において確定された基板情報に基づいて、
    前記基板処理装置内に存在する基板を前記基板搬送手段
    により所定の向きで基板処理装置外の所定位置に搬出す
    る工程と、 を有することを特徴とする基板処理方法。
24. 【請求項２４】 前記検出工程では前記メモリから取り
    出された情報および前記基板処理装置内で検出された基
    板の位置をモニタに表示し、前記解除工程では前記モニ
    タに表示された情報をモニタ画面上で編集し、前記搬出
    工程では前記モニタ画面から前記基板搬送手段の動作を
    制御する制御部へ基板回収の指令を送ることを特徴とす
    る請求項２３に記載の基板処理方法。
25. 【請求項２５】 基板に対して所定の処理を施すととも
    に、その中で基板の反転が行われる装置本体と、 前記装置本体内で基板を搬送する基板搬送手段と、 前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段
    と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段
    が前記装置本体内で基板を検出した場合に、その基板を
    装置本体外の所定位置に回収するための前記基板搬送手
    段の動作を決定する制御手段と、 前記制御手段に基板回収開始の指令を送る回収開始手段
    と、 を具備し、 前記装置本体内に存在する基板が所定の向きで回収され
    ることが確認された後に、前記回収開始手段は前記制御
    手段に基板回収の指令を発することを特徴とする基板処
    理装置。
26. 【請求項２６】 基板に所定の処理を施す基板処理装置
    であって、 複数の基板を所定間隔で収納可能な容器の搬入出を行う
    容器搬入出部と、 基板の表面または裏面に対して所定の液処理を施す液処
    理ユニットおよび基板の表面または裏面が基板の上面と
    なるように基板を反転させる反転ユニットを有する基板
    処理部と、前記容器搬入出部と前記基板処理部との間で
    基板を搬送する基板搬送部と、を有する装置本体と、 前記基板処理部内において基板の搬送を行う第１の基板
    搬送装置と、 前記基板搬送部内において基板の搬送を行う第２の基板
    搬送装置と、 前記装置本体内に存在する基板を検出する基板検出手段
    と、 前記装置本体に電源が投入された際に前記基板検出手段
    が前記装置本体内で基板を検出した場合に、その基板を
    前記容器搬入出部に載置された容器へ回収するための前
    記第１の基板搬送装置および前記第２の基板搬送装置の
    動作を決定する制御手段と、 前記制御手段に基板回収開始の指令を送る回収開始手段
    と、 を具備し、 前記基板処理部内の基板が所定の向きで回収されること
    が確認された後に、前記回収開始手段は前記制御手段に
    基板回収の指令を発することを特徴とする基板処理装
    置。