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KR102730359B1 - Lighting source module and lighting apparatus having thereof - Google Patents

Lighting source module and lighting apparatus having thereof Download PDF

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KR102730359B1
KR102730359B1 KR1020170011816A KR20170011816A KR102730359B1 KR 102730359 B1 KR102730359 B1 KR 102730359B1 KR 1020170011816 A KR1020170011816 A KR 1020170011816A KR 20170011816 A KR20170011816 A KR 20170011816A KR 102730359 B1 KR102730359 B1 KR 102730359B1
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light
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semiconductor chips
light source
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타쿠마 카토
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엘지이노텍 주식회사
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Abstract

실시 예에 개시된 광원 모듈은, 회로 기판; 상기 회로 기판 상에 배치된 복수의 반도체 칩; 상기 복수의 반도체 칩의 둘레에 배치된 반사 부재; 상기 복수의 반도체 칩과 상기 반사 부재 상에 배치된 형광체층; 및 상기 형광체층 상에 배치된 투광성 수지층을 포함한다.The light source module disclosed in the embodiment includes: a circuit board; a plurality of semiconductor chips arranged on the circuit board; a reflective member arranged around the plurality of semiconductor chips; a phosphor layer arranged on the plurality of semiconductor chips and the reflective member; and a light-transmitting resin layer arranged on the phosphor layer.

Description

광원 모듈 및 이를 구비한 조명 장치{LIGHTING SOURCE MODULE AND LIGHTING APPARATUS HAVING THEREOF}LIGHTING SOURCE MODULE AND LIGHTING APPARATUS HAVING THEREOF

본 발명은 광원 모듈에 관한 것이다.The present invention relates to a light source module.

본 발명은 광원 모듈을 갖는 조명 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a lighting device having a light source module.

발광 소자, 예컨대 발광 다이오드(Light Emitting Device)는 전기 에너지를 빛으로 변환하는 반도체 소자의 일종으로, 기존의 형광등, 백열등을 대체하여 차세대 광원으로서 각광받고 있다.Light-emitting devices, such as light-emitting diodes (LEDs), are a type of semiconductor device that converts electrical energy into light, and are receiving attention as a next-generation light source to replace existing fluorescent and incandescent lamps.

발광 다이오드는 반도체 소자를 이용하여 빛을 생성하므로, 텅스텐을 가열하여 빛을 생성하는 백열등이나, 또는 고압 방전을 통해 생성된 자외선을 형광체에 충돌시켜 빛을 생성하는 형광등에 비해 매우 낮은 전력만을 소모한다.Light-emitting diodes use semiconductor elements to generate light, so they consume very little power compared to incandescent lamps, which generate light by heating tungsten, or fluorescent lamps, which generate light by striking a phosphor with ultraviolet rays generated through a high-voltage discharge.

또한, 발광 다이오드는 반도체 소자의 전위 갭을 이용하여 빛을 생성하므로 기존의 광원에 비해 수명이 길고 응답특성이 빠르며, 친환경적 특징을 갖는다.In addition, light-emitting diodes generate light by utilizing the potential gap of semiconductor elements, so they have a longer lifespan, faster response characteristics, and are environmentally friendly compared to existing light sources.

이에 따라, 기존의 광원을 발광 다이오드로 대체하기 위한 많은 연구가 진행되고 있으며, 발광 다이오드는 실내 및 실외에서 사용되는 각종 램프, 액정표시장치, 전광판, 가로등, 전조등과 같은 조명 장치의 광원으로서 사용이 증가하고 있다.Accordingly, much research is being conducted to replace existing light sources with light-emitting diodes, and light-emitting diodes are increasingly being used as light sources for lighting devices such as lamps, liquid crystal displays, billboards, streetlights, and headlights used indoors and outdoors.

실시 예는 형광체층을 통해 방출되는 광의 광속을 개선한 광원 모듈을 제공한다.The embodiment provides a light source module having improved luminous flux of light emitted through a phosphor layer.

실시 예는 복수의 반도체 칩 상에 형광체층과 상기 형광체층 상에 투광성 수지층을 배치한 광원 모듈을 제공한다.The embodiment provides a light source module having a phosphor layer disposed on a plurality of semiconductor chips and a light-transmitting resin layer disposed on the phosphor layer.

실시 예는 반사 부재 및 반도체 칩 상에 배치된 형광체층의 측면에 반사 부재의 측면 반사부 및 투광성 수지층의 외곽 보호부 중 적어도 하나가 배치되는 광원 모듈을 제공한다.The embodiment provides a light source module in which at least one of a side reflector of a reflective member and an outer protective portion of a light-transmitting resin layer is disposed on a side of a phosphor layer disposed on a reflective member and a semiconductor chip.

실시 예는 형광체층 상에 배치된 투광성 수지층이 광 추출 구조를 갖는 광원 모듈을 제공한다.The embodiment provides a light source module having a light-extracting structure and a light-transmitting resin layer disposed on a phosphor layer.

실시 에는 광원 모듈을 갖는 조명 장치를 제공한다.The embodiment provides a lighting device having a light source module.

실시 예에 따른 회로 기판; 상기 회로 기판 상에 배치된 복수의 반도체 칩; 상기 복수의 반도체 칩의 둘레에 배치된 반사 부재; 상기 복수의 반도체 칩과 상기 반사 부재 상에 배치된 형광체층; 및 상기 형광체층 상에 배치된 투광성 수지층을 포함할 수 있다.A circuit board according to an embodiment; a plurality of semiconductor chips arranged on the circuit board; a reflective member arranged around the plurality of semiconductor chips; a phosphor layer arranged on the plurality of semiconductor chips and the reflective member; and a light-transmitting resin layer arranged on the phosphor layer.

실시 예에 따른 조명 장치에 의하면, 상기의 광원 모듈; 상기 복수의 광원 모듈 상에 이너 렌즈; 및 상기 이너 렌즈 상에 아우터 렌즈를 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a lighting device may include: the light source module; an inner lens on the plurality of light source modules; and an outer lens on the inner lens.

실시 예에 의하면, 상기 반사 부재는 상기 회로 기판 상에서 상기 형광체층의 하면 면적보다 큰 면적을 갖고 수지 재질을 포함할 수 있다.In an embodiment, the reflective member may have an area larger than the lower surface area of the fluorescent layer on the circuit board and may include a resin material.

실시 예에 의하면, 상기 반사 부재는 상기 형광체층의 측면에 배치된 측면 반사부를 포함할 수 있다. In an embodiment, the reflective member may include a side reflector disposed on a side of the phosphor layer.

실시 예에 의하면, 상기 투광성 수지층은 광 추출 구조를 포함할 수 있다.In an embodiment, the light-transmitting resin layer may include a light extracting structure.

실시 예에 의하면, 상기 투광성 수지층은 상기 형광체층 상에 배치된 입사부 및 상기 입사부 상에 광 추출 구조를 포함하며, 상기 광 추출 구조는 상기 입사부 상에 뿔 형상, 반구형 렌즈 또는 비구면 형상의 렌즈 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. According to an embodiment, the light-transmitting resin layer includes an incident portion arranged on the phosphor layer and a light extraction structure on the incident portion, and the light extraction structure may include at least one of a cone-shaped lens, a hemispherical lens, or an aspherical lens on the incident portion.

실시 예에 의하면, 상기 투광성 수지층은 상기 형광체층의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 수지 재질로 형성될 수 있다.According to an embodiment, the light-transmitting resin layer may be formed of a resin material having a refractive index lower than that of the fluorescent layer.

실시 예에 의하면, 상기 투광성 수지층은 상기 광 추출 구조의 외측 둘레에 배치된 외곽 보호부를 포함할 수 있다. 상기 외곽 보호부는 상기 형광체층의 상면과 상기 반사 부재의 상면 중 적어도 한 영역 위에 배치될 수 있다. In an embodiment, the light-transmitting resin layer may include an outer protective member arranged around an outer periphery of the light extraction structure. The outer protective member may be arranged on at least one area of an upper surface of the phosphor layer and an upper surface of the reflective member.

실시 예에 의하면, 상기 투광성 수지층는 상기 반사 부재의 측면 반사부의 외측에 배치된 외곽 보호부를 포함할 수 있다. In an embodiment, the light-transmitting resin layer may include an outer protective member arranged on the outside of a side reflective portion of the reflective member.

실시 예에 의하면, 상기 반사 부재와 상기 반도체 칩 사이에 투명한 수지 재질의 광 가이드층을 포함할 수 있다. According to an embodiment, a light guide layer made of a transparent resin material may be included between the reflective member and the semiconductor chip.

또한, 실시예에서 상기 형광체층은 상기 복수의 반도체 칩을 커버하고, 상기 측면 반사부는 위로 갈수록 너비가 얇아질 수 있다. 또한, 실시예에서 상기 반사 부재는 상기 반도체 칩과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 실시예에서 상기 측면 반사부는 상기 형광체층과 직접 접촉할 수 있다. 또한, 실시예에서 상기 반사 부재의 상면은 상기 복수의 반도체 칩의 상면의 높이 이하에 위치할 수 있다. 또한, 실시예에서 상기 복수의 반도체 칩 상에 배치된 형광체층은 일체형으로 형성될 수 있다. 또한, 실시예에서 상기 측면 반사부는 상기 투광성 수지층과 상기 회로 기판 상면의 수직 방향으로 중첩하지 않을 수 있다.In addition, in the embodiment, the phosphor layer covers the plurality of semiconductor chips, and the side reflector may have a width that becomes thinner as it goes upward. In addition, in the embodiment, the reflective member may be in direct contact with the semiconductor chip. In addition, in the embodiment, the side reflector may be in direct contact with the phosphor layer. In addition, in the embodiment, the upper surface of the reflective member may be positioned below the height of the upper surfaces of the plurality of semiconductor chips. In addition, in the embodiment, the phosphor layer disposed on the plurality of semiconductor chips may be formed as an integral body. In addition, in the embodiment, the side reflector may not overlap the light-transmitting resin layer in the vertical direction of the upper surface of the circuit board.

실시 예에 따른 광원 모듈은 형광체층 상에 수지층을 배치하여 반도체 칩으로부터 방출된 광을 효과적을 추출할 수 있다. A light source module according to an embodiment can effectively extract light emitted from a semiconductor chip by disposing a resin layer on a phosphor layer.

실시 예는 반도체 칩의 둘레에 배치된 반사 부재가 일부가 상기 형광체층의 측면 및 상면으로 침투하는 것을 억제하여, 광 손실 저하 및 광속 저하를 방지할 수 있다.The embodiment can prevent a reduction in light loss and a reduction in light flux by suppressing a portion of a reflective member arranged around a semiconductor chip from penetrating into the side and upper surfaces of the phosphor layer.

실시 예는 형광체층을 통해 방출되는 색 편차를 줄여줄 수 있다.The embodiment can reduce the color deviation emitted through the phosphor layer.

실시 예는 광원 모듈의 광속을 개선시켜 줄 수 있다.The embodiment can improve the luminous flux of the light source module.

실시 예는 광원 모듈 및 이를 구비한 조명 장치의 광학적인 신뢰성을 개선시켜 줄 수 있다. The embodiment can improve the optical reliability of a light source module and a lighting device having the same.

도 1은 제1실시 예에 따른 광원 모듈의 평면도이다.
도 2는 도 1의 광원 모듈의 A-A측 단면도이다.
도 3은 도 2의 광원 모듈의 부분 확대도이다.
도 4는 도 1의 광원 모듈의 B-B측 단면도이다.
도 5는 도 1의 광원 모듈의 다른 예이다.
도 6은 도 2의 광원 모듈의 제1변형 예이다.
도 7은 도 2의 광원 모듈의 제2변형 예이다.
도 8은 제2실시 예에 따른 광원 모듈의 측 단면도이다.
도 9는 도 8의 광원 모듈의 부분 확대도이다.
도 10은 도 8의 광원 모듈의 광 추출 구조의 다른 형상을 나타낸 도면이다.
도 11은 도 8의 광원 모듈의 제1변형 예이다.
도 12는 도 8의 광원 모듈의 제2변형 예이다.
도 13은 도 8의 광원 모듈의 제3변형 예이다.
도 14는 도 8의 광원 모듈의 제4변형 예이다.
도 15는 도 8의 광원 모듈의 제5변형 예이다.
도 16은 실시 예에 따른 광원 모듈의 다른 형태를 나타낸 평면도이다.
도 17은 실시 예에 따른 광원 모듈을 갖는 조명 장치의 예이다.
도 18은 실시 예에 따른 반도체 칩의 일 예를 나타낸 도면이다.
도 19는 도 2의 광원 모듈로부터 출사된 파장 광도와 비교 예의 파장 광도를 비교한 그래프이다.
도 20은 도 6의 광원 모듈로부터 출사된 파장 광도와 비교 예의 파장 광도를 비교한 그래프이다.
도 21은 도 8의 광원 모듈로부터 출사된 파장 광도와 비교 예의 파장 광도를 비교한 도면이다.
도 22는 도 14의 광원 모듈로부터 출사된 파장 광도와 비교 예의 파장 광도를 비교한 도면이다.
Figure 1 is a plan view of a light source module according to the first embodiment.
Figure 2 is a cross-sectional view of the AA side of the light source module of Figure 1.
Figure 3 is a partially enlarged view of the light source module of Figure 2.
Fig. 4 is a cross-sectional view of the BB side of the light source module of Fig. 1.
Fig. 5 is another example of the light source module of Fig. 1.
Fig. 6 is a first variation example of the light source module of Fig. 2.
Fig. 7 is a second variation example of the light source module of Fig. 2.
Figure 8 is a cross-sectional side view of a light source module according to the second embodiment.
Figure 9 is a partially enlarged view of the light source module of Figure 8.
Fig. 10 is a drawing showing another shape of the light extraction structure of the light source module of Fig. 8.
Fig. 11 is a first variation example of the light source module of Fig. 8.
Fig. 12 is a second variation example of the light source module of Fig. 8.
Fig. 13 is a third variation example of the light source module of Fig. 8.
Fig. 14 is a fourth variation example of the light source module of Fig. 8.
Fig. 15 is a fifth variation example of the light source module of Fig. 8.
Fig. 16 is a plan view showing another form of a light source module according to an embodiment.
Fig. 17 is an example of a lighting device having a light source module according to an embodiment.
Fig. 18 is a drawing showing an example of a semiconductor chip according to an embodiment.
Figure 19 is a graph comparing the wavelength luminous intensity emitted from the light source module of Figure 2 with the wavelength luminous intensity of a comparative example.
Figure 20 is a graph comparing the wavelength luminous intensity emitted from the light source module of Figure 6 with the wavelength luminous intensity of a comparative example.
Figure 21 is a drawing comparing the wavelength luminous intensity emitted from the light source module of Figure 8 with the wavelength luminous intensity of a comparative example.
Figure 22 is a drawing comparing the wavelength luminous intensity emitted from the light source module of Figure 14 with the wavelength luminous intensity of a comparative example.

본 실시 예들은 다른 형태로 변형되거나 여러 실시 예가 서로 조합될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 각각의 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 특정 실시 예에서 설명된 사항이 다른 실시 예에서 설명되어 있지 않더라도, 다른 실시 예에서 그 사항과 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 다른 실시 예에 관련된 설명으로 이해될 수 있다. 예를 들어, 특정 실시 예에서 구성 A에 대한 특징을 설명하고 다른 실시 예에서 구성 B에 대한 특징을 설명하였다면, 구성 A와 구성 B가 결합된 실시 예가 명시적으로 기재되지 않더라도 반대되거나 모순되는 설명이 없는 한, 본 발명의 권리범위에 속하는 것으로 이해되어야 한다.The present embodiments may be modified in other forms or several embodiments may be combined with each other, and the scope of the present invention is not limited to each embodiment described below. Even if a matter described in a specific embodiment is not described in another embodiment, it can be understood as a description related to the other embodiment, unless there is a description that is contrary or contradictory to the matter in another embodiment. For example, if a feature of component A is described in a specific embodiment and a feature of component B is described in another embodiment, even if an embodiment combining components A and B is not explicitly described, it should be understood that it falls within the scope of the present invention, unless there is a description that is contrary or contradictory.

이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 실시 예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention that can specifically achieve the above purpose will be described with reference to the attached drawings.

본 발명에 따른 실시예의 설명에 있어서, 각 element의 " 상(위) 또는 하(아래)(on or under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상(위) 또는 하(아래)(on or under)는 두 개의 element가 서로 직접(directly)접촉되거나 하나 이상의 다른 element가 상기 두 element사이에 배치되어(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)(on or under)"으로 표현되는 경우 하나의 element를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.In the description of embodiments according to the present invention, when it is described that each element is formed "on or under", "on or under" includes both cases where two elements are directly in contact with each other or where one or more other elements are formed by being disposed (indirectly) between the two elements. In addition, when expressed as "on or under", it can include the meaning of not only the upward direction but also the downward direction based on one element.

반도체 소자는 발광 소자, 수광소자, 광 변조기, 가스 센서 등 각종 전자 소자 포함할 수 있다. 실시 예는 가스센서를 일 예로 설명하고 있지만, 이에 한정되지 않고, 전기 소자의 다양한 분야에 적용될 수 있다.Semiconductor devices may include various electronic devices such as light-emitting devices, photodetectors, optical modulators, and gas sensors. The embodiment describes a gas sensor as an example, but is not limited thereto and may be applied to various fields of electrical devices.

실시 예에 따른 반도체 소자는 제1도전형 반도체층; 상기 제1도전형 반도체층 위에 활성층; 상기 활성층 위에 제2도전형 반도체층을 포함하는 발광 구조물을 포함할 수 있다. 상기 활성층은 자외선 파장부터 가시광선 파장의 범위 중에서 선택적으로 발광할 수 있다. 이러한 반도체 소자는 칩으로 구현되어, 반도체 칩 또는 발광 칩으로 정의될 수 있다. A semiconductor device according to an embodiment may include a light-emitting structure including a first conductive semiconductor layer; an active layer on the first conductive semiconductor layer; and a second conductive semiconductor layer on the active layer. The active layer may selectively emit light within a range of wavelengths from ultraviolet to visible light. Such a semiconductor device may be implemented as a chip and defined as a semiconductor chip or a light-emitting chip.

이하에서는 도 1 내지 도 4를 참고하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 광원 모듈을 설명한다.Hereinafter, a light source module according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4.

도 1은 제1실시 예에 따른 광원 모듈의 평면도이고, 도 2는 도 1의 광원 모듈의 A-A측 단면도이며, 도 3은 도 2의 광원 모듈의 부분 확대도이고, 도 4는 도 1의 광원 모듈의 B-B측 단면도이다.FIG. 1 is a plan view of a light source module according to the first embodiment, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the A-A side of the light source module of FIG. 1, FIG. 3 is a partially enlarged view of the light source module of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the B-B side of the light source module of FIG. 1.

도 1 내지 도 4를 참조하면, 광원 모듈(100)는 회로 기판(110), 상기 회로 기판(110) 상에 배치된 반도체 칩(150), 상기 반도체 칩(150) 둘레에 배치된 반사 부재(130), 상기 반도체 칩(150) 및 상기 반사 부재(130) 위에 배치된 형광체층(170), 상기 형광체층(170) 상에 배치된 투광성 수지층(180)을 포함한다.Referring to FIGS. 1 to 4, a light source module (100) includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150) disposed on the circuit board (110), a reflective member (130) disposed around the semiconductor chip (150), a phosphor layer (170) disposed on the semiconductor chip (150) and the reflective member (130), and a light-transmitting resin layer (180) disposed on the phosphor layer (170).

실시 예에 따른 광원 모듈(100)은 청색 LED, 녹색 LED, 적색 LED, 백색 LED, 레이저, 수직캐비티 표면 광 방출 레이즈(VESEL)와 같은 광원을 포함할 수 있다. 상기 광원 모듈(100)은 하나 또는 복수의 반도체 칩으로부터 방출된 일부 광의 파장을 변환하여 방출할 수 있다.The light source module (100) according to the embodiment may include a light source such as a blue LED, a green LED, a red LED, a white LED, a laser, or a vertical cavity surface-emitting laser (VESEL). The light source module (100) may convert the wavelength of some of the light emitted from one or more semiconductor chips and emit it.

<회로 기판(110)><Circuit board (110)>

상기 회로 기판(110)은 회로 패턴을 포함할 수 있다. 상기 회로 기판(110)은 수지 재질의 PCB(Printed circuit board), 금속 코어를 갖는 PCB(MCPCB, Metal Core PCB), 연성 PCB(FPCB, Flexible PCB), 세라믹 재질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 회로 기판(110)은 수지 재질의 층이나 세라믹 계열의 층을 포함할 수 있으며, 상기 수지 재질은 실리콘, 또는 에폭시 수지, 또는 플라스틱 재질을 포함하는 열 경화성 수지, 또는 고내열성, 고 내광성 재질로 형성될 수 있다. 상기 세라믹 재질은, 동시 소성되는 저온 소성 세라믹(LTCC: low temperature co-fired ceramic) 또는 고온 소성 세라믹(HTCC: high temperature co-fired ceramic)을 포함한다. The circuit board (110) may include a circuit pattern. The circuit board (110) may include at least one of a printed circuit board (PCB) made of a resin material, a metal core PCB (MCPCB, Metal Core PCB), a flexible PCB (FPCB, Flexible PCB), and a ceramic material. The circuit board (110) may include a layer of a resin material or a layer of a ceramic series, and the resin material may be formed of a thermosetting resin including silicone, an epoxy resin, or a plastic material, or a high heat resistance, high light resistance material. The ceramic material includes a low temperature co-fired ceramic (LTCC) or a high temperature co-fired ceramic (HTCC) that are simultaneously fired.

상기 회로 기판(110)은 도 1과 같이, X축 방향의 길이가 Y축 방향의 길이보다 길게 배치될 수 있다. 여기서, X축 방향은 상기 반도체 칩(150)들이 배열되는 방향일 수 있으며, Y축 방향은 상기 X축 방향과 직교하는 방향이며, Z축 방향은 X,Y축 방향과 직교하는 방향이거나 두께 방향일 수 있다. 다른 예로서, 상기 회로 기판(110)은 X,Y축 방향의 길이가 동일할 수 있다.The circuit board (110) may be arranged such that the length in the X-axis direction is longer than the length in the Y-axis direction, as shown in FIG. 1. Here, the X-axis direction may be the direction in which the semiconductor chips (150) are arranged, the Y-axis direction may be a direction orthogonal to the X-axis direction, and the Z-axis direction may be a direction orthogonal to the X and Y-axis directions or a thickness direction. As another example, the circuit board (110) may have the same length in the X and Y-axis directions.

상기 회로 기판(110)은 상면에 리드 전극(112,114)을 구비할 수 있으며, 상기 리드 전극(112,114)은 서로 이격된 제1 리드 전극(112)과 제2리드 전극(114)을 포함할 수 있다. 상기 제1,2리드 전극(112,114) 중 적어도 하나 또는 모두는 상기 반도체 칩(150) 아래에 배치될 수 있다. 상기 제1,2리드 전극(112,114)는 상기 반도체 칩(150)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 회로 기판(110)의 리드 전극(112,114)은 금속 예컨대, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P) 중 복수의 금속을 포함할 수 있으며, 다층으로 형성될 수 있다. 상기 회로 기판(110)의 상면에는 솔더 레지스트와 같은 보호층이 배치될 수 있다.The circuit board (110) may have lead electrodes (112, 114) on its upper surface, and the lead electrodes (112, 114) may include a first lead electrode (112) and a second lead electrode (114) that are spaced apart from each other. At least one or both of the first and second lead electrodes (112, 114) may be disposed below the semiconductor chip (150). The first and second lead electrodes (112, 114) may be electrically connected to the semiconductor chip (150). The lead electrodes (112, 114) of the circuit board (110) may include a plurality of metals, for example, titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), chromium (Cr), tantalum (Ta), platinum (Pt), tin (Sn), silver (Ag), and phosphorus (P), and may be formed in multiple layers. A protective layer such as solder resist may be placed on the upper surface of the circuit board (110).

상기 회로 기판(110) 상에는 상기 반도체 칩(150)을 전기적으로 보호하는 보호 칩(미도시)이 배치될 수 있다. 상기 보호 칩은 싸이리스터, 제너 다이오드, 또는 TVS(Transient voltage suppression)로 구현될 수 있으며, 상기 보호 칩은 상기 반도체 칩(150)을 ESD(electro static discharge)로 부터 보호하게 된다. 상기 보호 칩은 상기 반도체 칩(150) 내에 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. A protection chip (not shown) that electrically protects the semiconductor chip (150) may be placed on the circuit board (110). The protection chip may be implemented with a thyristor, a zener diode, or a TVS (transient voltage suppression), and the protection chip protects the semiconductor chip (150) from ESD (electro static discharge). The protection chip may be implemented within the semiconductor chip (150), but is not limited thereto.

<반도체 칩(150)><Semiconductor Chip (150)>

상기 반도체 칩(150)은 광원으로서, 자외선부터 가시광선까지의 파장 대역 중에서 선택적으로 발광하게 된다. 상기 반도체 칩(150)은 UV(ultra violet) LED 칩, 녹색 LED 칩, 청색 LED 칩, 또는 적색 LED 칩을 포함한다. 상기 반도체 칩(150)은 Laser, VCSEL와 같은 소자를 포함할 수 있다. 상기 반도체 칩(150)은 50㎛ 이상의 두께를 가질 수 있으며, 예컨대 50㎛ 내지 300㎛ 범위일 수 있다. 이러한 반도체 칩(150)은 수평형 칩 또는 수직형 칩에 따라 두께가 달라질 수 있으며, 실시 예는 수직형 칩 또는 플립 칩일 수 있다. 상기 반도체 칩(150)은 탑뷰 형상이 다각형 형상 예컨대, 정 사각형 또는 직사각형 형상일 수 있다. 상기 반도체 칩(150)은 탑뷰 형상이 원 형상 또는 다른 다각형 형상일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The semiconductor chip (150) above is a light source and selectively emits light in a wavelength band from ultraviolet to visible light. The semiconductor chip (150) includes a UV (ultra violet) LED chip, a green LED chip, a blue LED chip, or a red LED chip. The semiconductor chip (150) may include a device such as a laser or a VCSEL. The semiconductor chip (150) may have a thickness of 50 μm or more, for example, in a range of 50 μm to 300 μm. The thickness of the semiconductor chip (150) may vary depending on whether it is a horizontal chip or a vertical chip, and an example may be a vertical chip or a flip chip. The semiconductor chip (150) may have a top-view shape of a polygon, for example, a square or a rectangle. The semiconductor chip (150) may have a top-view shape of a circle or another polygonal shape, but is not limited thereto.

상기 반도체 칩(150)이 수직형 칩인 경우, 도 1 및 도 4와 같이 상기 반도체 칩(150) 아래에 제1리드 전극(112)이 배치되고, 상기 제2리드 전극(114)이 제1리드 전극(112)과 이격되며 상기 반도체 칩(150)과 와이어(156)로 연결될 수 있다. 상기 형광체층(170) 및 투광성 수지층(180)에는 상기 반도체 칩(150) 상의 전극을 노출하는 제1개구부(175)가 배치될 수 있으며, 상기 반사 부재(130)에는 상기 회로 기판(110)의 제2리드 전극(114)을 노출하는 제2개구부(135)가 배치될 수 있다. 상기 제1개구부(175)는 탑뷰 형상이 원형상 또는 다각형 형상일 수 있으며, 각 반도체 칩(150) 상에 각각 배치될 수 있다. 상기 제2개구부(135)는 다각형 형상 또는 원 형상일 수 있으며, 상기 각 반도체 칩(150)에 연결된 복수의 와이어(175)가 관통되거나, 각각의 와이어(175)가 관통되도록 복수로 배치될 수 있다. 상기 반도체 칩(150)이 플립형 칩인 경우, 도 5와 같이 상기 반도체 칩(150) 아래에 제1,2리드 전극(미도시)이 배치되어, 상기 반도체 칩(150)과 제1,2리드 전극이 전기적으로 연결될 수 있다. When the semiconductor chip (150) is a vertical chip, as shown in FIGS. 1 and 4, a first lead electrode (112) may be placed under the semiconductor chip (150), and the second lead electrode (114) may be spaced apart from the first lead electrode (112) and connected to the semiconductor chip (150) by a wire (156). A first opening (175) exposing an electrode on the semiconductor chip (150) may be placed in the fluorescent layer (170) and the light-transmitting resin layer (180), and a second opening (135) exposing the second lead electrode (114) of the circuit board (110) may be placed in the reflective member (130). The first opening (175) may have a circular or polygonal shape in a top view, and may be placed on each semiconductor chip (150). The second opening (135) may be polygonal or circular, and may be arranged in multiple positions so that a plurality of wires (175) connected to each semiconductor chip (150) pass through it, or so that each wire (175) passes through it. When the semiconductor chip (150) is a flip-type chip, as shown in FIG. 5, first and second lead electrodes (not shown) may be arranged under the semiconductor chip (150), so that the semiconductor chip (150) and the first and second lead electrodes may be electrically connected.

상기 회로 기판(110)의 리드 전극(112,114)은 상기 반도체 칩(150)의 종류나 상기 반도체 칩(150)과의 연결 형태에 따라 다양한 패턴으로 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. 상기 회로 기판(110)은 상기 반도체 칩(150)이 복수로 배치된 경우, 상기 반도체 칩(150)을 직렬, 직-병렬, 병렬, 또는 병-직렬로 연결해 줄 수 있다. The lead electrodes (112, 114) of the circuit board (110) may be implemented in various patterns depending on the type of the semiconductor chip (150) or the connection type with the semiconductor chip (150), and are not limited thereto. When a plurality of semiconductor chips (150) are arranged, the circuit board (110) may connect the semiconductor chips (150) in series, series-parallel, parallel, or parallel-series.

상기 반도체 칩(150)은 도 4와 같이, 발광 구조물(152) 및 전극층(154)을 포함하며, 상기 발광 구조물(152)는 제1도전형 반도체층, 활성층 및 제2도전형 반도체층을 포함할 수 있으며, 자외선 내지 가시광선 범위의 파장 중에서 선택적으로 발광할 수 있다. 상기 발광 구조물(152)은 III족-V족 화합물 반도체 및 II족-VI족 화합물 반도체를 포함할 수 있다. 상기 전극층(154)은 제1리드 전극과 연결되며 전원을 공급하고, 상기 발광 구조물(152) 상의 전극(25)은 와이어(156)로 연결될 수 있다. 상기 전극층(154)은 단층 또는 다층으로 구현될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The semiconductor chip (150) above includes a light-emitting structure (152) and an electrode layer (154), as shown in FIG. 4. The light-emitting structure (152) may include a first conductive semiconductor layer, an active layer, and a second conductive semiconductor layer, and may selectively emit light in a wavelength range from ultraviolet to visible light. The light-emitting structure (152) may include a group III-V compound semiconductor and a group II-VI compound semiconductor. The electrode layer (154) is connected to a first lead electrode and supplies power, and the electrode (25) on the light-emitting structure (152) may be connected by a wire (156). The electrode layer (154) may be implemented as a single layer or multiple layers, but is not limited thereto.

상기 반도체 칩(150)은 복수개가 적어도 하나의 행 또는 열로 배치되거나, 2행 또는/및 2열 이상으로 배열될 수 있다. 상기 반도체 칩(150)은 도 16과 같이 소정 직경을 갖는 원 형상의 영역 내에 복수로 배치될 수 있다. The semiconductor chips (150) above may be arranged in multiples in at least one row or column, or in two rows or/and two or more columns. The semiconductor chips (150) above may be arranged in multiples within a circular area having a predetermined diameter, as shown in FIG. 16.

상기 반도체 칩(150)이 복수로 배치된 경우, 서로 이격될 수 있다. 상기 복수의 반도체 칩(150)은 일정한 간격을 갖거나 서로 다른 간격을 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. When the above semiconductor chips (150) are arranged in multiples, they may be spaced apart from each other. The multiple semiconductor chips (150) may have a constant interval or different intervals, but are not limited thereto.

<반사 부재(130)><Absence of reflection (130)>

상기 반사 부재(130)는 회로 기판(110) 상에 배치된다. 상기 반사 부재(130)는 상기 회로 기판(110) 상에서 상기 반도체 칩(150)의 둘레에 배치된다. 상기 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)의 표면 예컨대, 상기 반도체 칩(150)의 측면들에 접촉될 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 상면은 상기 반도체 칩(150)의 상면과 같거나 낮은 높이로 배치될 수 있다. 상기 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)들 사이의 영역에 배치될 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 하면 면적은 상기 회로 기판(110)의 상면 면적과 같거나 작을 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 상면 면적은 상기 형광체층(170)의 하면 면적보다 넓을 수 있어, 광의 손실을 줄여줄 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 상면에는 상기 형광체층(170)의 하면이 접촉되거나 부착될 수 있다. 이러한 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)의 측면으로 진행하는 광을 반사하거나, 형광체층(170)이나 투광성 수지층(180)에 의해 반사된 광에 대해 재 반사시켜 줄 수 있다. 따라서 광 손실을 줄이고 광 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다.The above reflective member (130) is disposed on the circuit board (110). The reflective member (130) is disposed around the semiconductor chip (150) on the circuit board (110). The reflective member (130) may contact a surface of the semiconductor chip (150), for example, side surfaces of the semiconductor chip (150). The upper surface of the reflective member (130) may be disposed at a height equal to or lower than the upper surface of the semiconductor chip (150). The reflective member (130) may be disposed in an area between the semiconductor chips (150). The lower surface area of the reflective member (130) may be equal to or smaller than the upper surface area of the circuit board (110). The upper surface area of the reflective member (130) may be wider than the lower surface area of the fluorescent layer (170), thereby reducing light loss. The upper surface of the above reflective member (130) may be in contact with or attached to the lower surface of the above fluorescent layer (170). The reflective member (130) may reflect light traveling toward the side of the semiconductor chip (150) or re-reflect light reflected by the fluorescent layer (170) or the light-transmitting resin layer (180). Accordingly, light loss may be reduced and light extraction efficiency may be improved.

상기 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)의 둘레에 배치되어, 상기 반도체 칩(150)의 측 방향으로 진행되는 광을 반사시켜 주고, 광 손실을 줄여줄 수 있다. The above reflective member (130) is arranged around the periphery of the semiconductor chip (150) to reflect light traveling in the lateral direction of the semiconductor chip (150) and reduce light loss.

상기 반사 부재(130)는 수지 재질 내에 금속 산화물이 첨가된다. 상기 수지 재질은 실리콘 또는 에폭시를 포함하며, 상기 금속 산화물은 수지 재질보다 굴절률이 높은 물질로서, 예컨대 Al2O3, TiO2 또는 SiO2 중 적어도 하나를 포함한다. 상기 금속 산화물은 상기 반사 부재(130) 내에 5wt% 이상 예컨대, 5~30wt% 범위로 형성된다. 상기 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)으로부터 방출된 광에 대해 90% 이상의 반사율을 가질 수 있다. 상기 반사 부재(130)는 합성 수지와 같은 수지 재질을 포함할 수 있으며, 표면에 반사 패턴이 형성될 수 있다. 상기 합성 수지는 합성 수지로서는 폴리에틸엔 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 아크릴수지, 콜리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 셀룰로소스 아세테이트, 내후성 염화비닐이 적용될 수도 있다.The above reflective member (130) has a metal oxide added to a resin material. The resin material includes silicone or epoxy, and the metal oxide is a material having a higher refractive index than the resin material, for example, includes at least one of Al 2 O 3 , TiO 2 , or SiO 2 . The metal oxide is formed in the reflective member (130) in an amount of 5 wt% or more, for example, in a range of 5 to 30 wt%. The reflective member (130) can have a reflectivity of 90% or more for light emitted from the semiconductor chip (150). The reflective member (130) can include a resin material such as a synthetic resin, and a reflective pattern can be formed on a surface. As the synthetic resin, polyethylene naphthalate, acrylic resin, coke carbonate, polystyrene, polyolefin, cellulose acetate, and weather-resistant vinyl chloride can be applied.

도 2 및 도 3과 같이, 상기 반사 부재(130)는 측면 반사부(132)를 포함한다. 상기 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면으로부터 누설되는 광을 반사시켜 줄 수 있다. 상기 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 상면 외측에 배치되므로, 형광체층(170)의 상면을 통해 추출되는 광에 영향을 주지 않을 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 하면보다 높고 상기 형광체층(170)의 상면과 같거나 낮게 배치될 수 있다. 상기 측면 반사부(132)는 위로 갈수록 점차 얇은 너비를 가질 수 있다. 여기서, 상기 측면 반사부(132)의 너비 방향은 상기 형광체층(170)의 중심을 기준으로 X축 방향 또는 Y축 방향의 두께일 수 있다.As shown in FIGS. 2 and 3, the reflective member (130) includes a side reflection portion (132). The side reflection portion (132) may be disposed on the side surface of the phosphor layer (170). The side reflection portion (132) may reflect light leaking from the side surface of the phosphor layer (170). Since the side reflection portion (132) is disposed on the outer side of the upper surface of the phosphor layer (170), it may not affect light extracted through the upper surface of the phosphor layer (170). The side reflection portion (132) of the reflective member (130) may be disposed higher than the lower surface of the phosphor layer (170) and the same as or lower than the upper surface of the phosphor layer (170). The side reflection portion (132) may have a width that gradually becomes thinner as it goes upward. Here, the width direction of the side reflector (132) may be the thickness in the X-axis direction or the Y-axis direction based on the center of the fluorescent layer (170).

상기 반사 부재(130)의 두께는 상기 반도체 칩(150)의 두께와 동일하거나 작을 수 있다. 상기 반사 부재(130)는 상기 반도체 칩(150)을 탑재한 다음 형성됨으로써, 모세관 현상에 의해 상기 반도체 칩(150)의 표면을 따라 상기 반사 부재(130)가 이동될 수 있다. 이를 방지하기 위해, 반사 부재(130)를 상기 반도체 칩(150)의 상면 이하의 높이로 배치하고, 형광체층(170) 및 투광성 수지층(180)을 상기 반사 부재(130) 상에 배치하여 상기 반도체 칩(150)의 상면이나 형광체층(170)의 상면으로 반사 부재(130)의 일부가 이동하는 것을 방지할 수 있다. The thickness of the above reflective member (130) may be the same as or smaller than the thickness of the semiconductor chip (150). Since the reflective member (130) is formed after the semiconductor chip (150) is mounted, the reflective member (130) may move along the surface of the semiconductor chip (150) due to a capillary phenomenon. To prevent this, the reflective member (130) is disposed at a height lower than the upper surface of the semiconductor chip (150), and a fluorescent layer (170) and a light-transmitting resin layer (180) are disposed on the reflective member (130), thereby preventing a part of the reflective member (130) from moving to the upper surface of the semiconductor chip (150) or the upper surface of the fluorescent layer (170).

<형광체층(170)><Phosphor layer (170)>

상기 형광체층(170)은 상기 반사 부재(130)와 상기 반도체 칩(150) 위에 배치될 수 있다. 상기 형광체층(170)은 상기 반사 부재(130)의 상면에 접촉될 수 있다. 상기 형광체층(170)의 길이는 도 1과 같이, X축 방향의 길이가 Y축 방향의 길이보다 길게 배치될 수 있다. 상기 형광체층(170)의 X축 방향의 길이는 X축 방향으로 배열된 최 외곽 반도체 칩(150) 간의 간격보다 큰 길이로 배치될 수 있으며, Y축 방향의 길이는 각 반도체 칩의 Y축 방향의 길이보다 길게 배치될 수 있다. 상기 형광체층(170)은 복수의 반도체 칩(150)을 커버하는 크기로 배치될 수 있다.The above-described fluorescent layer (170) may be arranged on the above-described reflective member (130) and the above-described semiconductor chip (150). The above-described fluorescent layer (170) may be in contact with the upper surface of the above-described reflective member (130). As shown in FIG. 1, the length of the above-described fluorescent layer (170) may be arranged such that the length in the X-axis direction is longer than the length in the Y-axis direction. The length of the above-described fluorescent layer (170) in the X-axis direction may be arranged such that the length is longer than the spacing between the outermost semiconductor chips (150) arranged in the X-axis direction, and the length in the Y-axis direction may be arranged such that the length is longer than the length of each semiconductor chip in the Y-axis direction. The above-described fluorescent layer (170) may be arranged such that it covers a plurality of semiconductor chips (150).

상기 형광체층(170)은 상기 반도체 칩(150)으로부터 방출된 일부 광을 흡수하여 다른 파장의 광으로 파장 변환하게 된다. 상기 형광체층(170)은 실리콘 또는 에폭시와 같은 투광성 수지 재질에 형광체를 포함할 수 있다. 상기 형광체는 황색 형광체, 녹색 형광체, 청색 형광체, 적색 형광체 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 예를 들면, Eu, Ce 등의 란타노이드계 원소에 의해 주로 활성화되는 질화물계 형광체·산질화물계 형광체·사이어론계 형광체, Eu 등의 란타노이드계, Mn 등의 천이금속계의 원소에 의해 주로 활성화되는 알칼리 토류 할로겐 아파타이트 형광체, 알칼리 토류 금속 붕산 할로겐 형광체, 알칼리 토류 금속 알루민산염 형광체, 알칼리 토류 규산염, 알칼리 토류 황화물, 알칼리 토류 티오갈레이트, 알칼리 토류 질화규소, 게르마늄산염, 또는, Ce 등의 란타노이드계 원소에 의해 주로 활성화되는 희토류 알루민산염, 희토류 규산염 또는 Eu 등의 란타노이드계 원소에 의해 주로 활성화되는 유기 및 유기 착체 등으로부터 선택되는 적어도 어느 하나 이상일 수 있다. 구체적인 예로서, 상기의 형광체를 사용할 수 있지만, 이것에 한정되지 않는다.The above fluorescent layer (170) absorbs some of the light emitted from the semiconductor chip (150) and converts the light into light of a different wavelength. The fluorescent layer (170) may include a fluorescent substance in a light-transmitting resin material such as silicone or epoxy. The above phosphor may include at least one of a yellow phosphor, a green phosphor, a blue phosphor, and a red phosphor, and may be at least one selected from, for example, a nitride phosphor, an oxynitride phosphor, and a cyanophosphor mainly activated by lanthanoid elements such as Eu and Ce, an alkaline earth halogen apatite phosphor mainly activated by lanthanoid elements such as Eu and transition metal elements such as Mn, an alkaline earth metal borate halogen phosphor, an alkaline earth metal aluminate phosphor, an alkaline earth silicate, an alkaline earth sulfide, an alkaline earth thiogallate, an alkaline earth silicon nitride, a germanate, or a rare earth aluminate mainly activated by lanthanoid elements such as Ce, a rare earth silicate, or an organic and organic complex mainly activated by lanthanoid elements such as Eu. As specific examples, the above phosphors can be used, but are not limited thereto.

상기 형광체층(170)은 도 2와 같이, 상기 반도체 칩(150)의 두께와 다른 두께(T1)를 가질 수 있다. 상기 형광체층(170)은 100㎛ 이상 예컨대, 100㎛ 내지 200㎛의 범위의 두께(T1)로 형성될 수 있으며, 상기 범위보다 작은 경우 형광체 분포가 균일하지 못하여 색 편차가 발생될 수 있으며 상기 범위보다 큰 경우 광 추출 효율이 저하될 수 있다. 상기 형광체층(170)은 상기 반도체 칩(150)의 두께보다 작은 두께(T1)를 갖고, 상기 반도체 칩(150) 상에 부착될 수 있다. 상기 형광체층(170)은 필름 형태로 제공될 수 있다. 상기 형광체층(170)의 상면 및 하면이 수평한 평면으로 제공될 수 있다. 상기 형광체층(170)은 단층 또는 다층 구조를 포함할 수 있다.The above-described fluorescent layer (170) may have a thickness (T1) different from the thickness of the semiconductor chip (150), as shown in FIG. 2. The fluorescent layer (170) may be formed with a thickness (T1) of 100 ㎛ or more, for example, in a range of 100 ㎛ to 200 ㎛. If it is smaller than the above-described range, the fluorescent distribution may not be uniform, which may cause color deviation, and if it is larger than the above-described range, the light extraction efficiency may be reduced. The fluorescent layer (170) may have a thickness (T1) smaller than the thickness of the semiconductor chip (150) and may be attached onto the semiconductor chip (150). The fluorescent layer (170) may be provided in a film form. The upper and lower surfaces of the fluorescent layer (170) may be provided as horizontal planes. The fluorescent layer (170) may include a single-layer or multi-layer structure.

상기 형광체층(170)으로부터 방출된 광과 상기 반도체 칩(150)으로부터 방출된 광은 백색 광으로 혼합될 수 있다. 상기 백색 광은 색 온도 예컨대, 2000K 내지 10000K의 범위 내에서 색 온도를 가질 수 있다. 상기 백색 광은 웜 화이트(Warm white), 쿨 화이트(Cool white) 또는 뉴트럴 화이트(Neutral white) 중 적어도 하나의 색 온도를 가질 수 있다. The light emitted from the above fluorescent layer (170) and the light emitted from the semiconductor chip (150) can be mixed into white light. The white light can have a color temperature, for example, within a range of 2000 K to 10000 K. The white light can have at least one color temperature among warm white, cool white, and neutral white.

<투광성 수지층(180)><Transparent resin layer (180)>

상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170) 상에 배치된다. 상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)의 상면에 부착될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 실리콘 또는 에폭시와 같은 투명한 수지 재질로 형성될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 불소 수지를 포함할 수 있으며, 이 경우 방습 특성이 개선될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 내부에 확산제나 형광체와 같은 불순물이 첨가되지 않는 투명한 층으로 형성될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)을 통해 입사되는 광을 투과시켜 줄 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)의 굴절률보다 낮은 굴절률을 갖는 재질이거나, 상기 형광체층(170)과의 굴절률 차이가 0.3 이하의 재질을 포함할 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)의 굴절률보다 낮은 재질로 배치되므로, 상기 형광체층(170)을 통해 입사되는 광을 반사시키지 않고 투과시켜 줄 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 투명한 수지 재질로 단층 또는 다층으로 형성될 수 있다. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) is disposed on the above-mentioned fluorescent layer (170). The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can be attached to the upper surface of the above-mentioned fluorescent layer (170). The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can be formed of a transparent resin material such as silicone or epoxy. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can include a fluorine resin, in which case the moisture-proofing characteristic can be improved. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can be formed of a transparent layer to which no impurities such as a diffusion agent or fluorescent substance are added thereto. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can transmit light incident through the above-mentioned fluorescent layer (170). The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can be a material having a lower refractive index than that of the above-mentioned fluorescent layer (170), or can include a material having a refractive index difference of 0.3 or less with respect to the above-mentioned fluorescent layer (170). Since the above-mentioned light-transmitting resin layer (180) is formed of a material having a lower refractive index than that of the above-mentioned fluorescent layer (170), it can transmit light incident through the above-mentioned fluorescent layer (170) without reflecting it. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) can be formed of a single layer or multiple layers of a transparent resin material.

상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)의 상면 면적과 같은 면적이거나 작은 면적일 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)이 상기 형광체층(170)보다 외측으로 돌출된 경우, 상기 투광성 수지층(180)의 돌출된 부분이 벗겨지는 문제가 발생될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)이 상기 형광체층(170) 상에 배치되므로, 상기 반사 부재(130)의 일부가 상기 형광체층(170)의 상면을 덮는 문제를 방지하며 상기 형광체층(170)을 통해 입사된 광의 투과 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 이에 따라 형광체층(170) 상에 공기와 같은 매질이 존재하는 구조에 비해 광 손실을 줄이고 광 추출 효율을 개선시켜 줄 수 잇다. The above-mentioned light-transmitting resin layer (180) may have an area equal to or smaller than the upper surface area of the above-mentioned fluorescent layer (170). If the above-mentioned light-transmitting resin layer (180) protrudes outwardly from the above-mentioned fluorescent layer (170), a problem may occur in which the protruding portion of the above-mentioned light-transmitting resin layer (180) is peeled off. Since the above-mentioned light-transmitting resin layer (180) is disposed on the above-mentioned fluorescent layer (170), the problem of a part of the above-mentioned reflective member (130) covering the upper surface of the above-mentioned fluorescent layer (170) is prevented, and the transmission efficiency of light incident through the above-mentioned fluorescent layer (170) can be improved. Accordingly, compared to a structure in which a medium such as air exists on the above-mentioned fluorescent layer (170), light loss can be reduced and light extraction efficiency can be improved.

도 2와 같이, 상기 투광성 수지층(180)의 두께(T2)는 상기 형광체층(170)의 두께(T1)보다 작게 배치되어, 광의 손실을 줄여줄 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)의 두께(T2)는 상기 형광체층(170)의 두께(T1)의 0.1배 내지 0.9배 범위로 배치될 수 있으며, 예컨대 10㎛ 내지 180㎛의 범위로 배치될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)의 두께(T2)가 상기 범위보다 작은 경우 광 추출 효율의 개선이 미미하고 반사 부재(130)가 얇은 두께를 갖는 투광성 수지층(180)의 상면으로 침투하는 문제가 발생될 수 있으며, 상기 범위보다 큰 경우 광 추출 효율이 저하될 수 있다. As shown in FIG. 2, the thickness (T2) of the light-transmitting resin layer (180) may be arranged to be smaller than the thickness (T1) of the fluorescent layer (170), thereby reducing light loss. The thickness (T2) of the light-transmitting resin layer (180) may be arranged in a range of 0.1 to 0.9 times the thickness (T1) of the fluorescent layer (170), and may be arranged in a range of, for example, 10 μm to 180 μm. If the thickness (T2) of the light-transmitting resin layer (180) is smaller than the above range, the improvement in light extraction efficiency is minimal, and a problem may occur in which the reflective member (130) penetrates into the upper surface of the light-transmitting resin layer (180) having a thin thickness, and if it is larger than the above range, the light extraction efficiency may be reduced.

실시 예는 형광체층(170)의 상면에 투광성 수지층(180)이 배치됨으로써, 상기 형광체층(170)의 에지측 상면으로 반사 부재(130)가 침투하는 문제를 방지할 수 있다. 이에 따라 광원 모듈(100)의 광속이 개선될 수 있다. 도 19와 같이, 실시 예는 도 2의 광원 모듈의 그래프이며, 비교 예는 도 2의 광원 모듈에서 투광성 수지층(180)이 제거된 경우의 광속을 나타낸 그래프이다. 도 19의 실시 예와 비교 예의 광속과 같이, 실시 예의 광속이 비교 예에 비해 반도체 칩(150)으로부터 방출된 피크 파장이 2% 이상 높게 나타남을 알 수 있다. 상기 반도체 칩(150)은 예컨대, 청색 파장을 방출하며, 상기 형광체층(170)은 황색 광을 방출한 예이다.In the embodiment, since a light-transmitting resin layer (180) is arranged on the upper surface of a phosphor layer (170), the problem of a reflective member (130) penetrating into the upper surface of the edge side of the phosphor layer (170) can be prevented. Accordingly, the luminous flux of the light source module (100) can be improved. As shown in FIG. 19, the embodiment is a graph of the light source module of FIG. 2, and the comparative example is a graph showing the luminous flux when the light-transmitting resin layer (180) is removed from the light source module of FIG. 2. As in the luminous fluxes of the embodiment and the comparative example of FIG. 19, it can be seen that the luminous flux of the embodiment is higher by 2% or more in the peak wavelength emitted from the semiconductor chip (150) than that of the comparative example. For example, the semiconductor chip (150) emits a blue wavelength, and the phosphor layer (170) emits yellow light.

실시 예는 복수의 반도체 칩(150)의 둘레에 반사 부재(130)가 배치되고 상기 반사 부재(130) 및 상기 반도체 칩(150) 상에 형광체층(170)이 부착됨으로써, 상기 형광체층(170)이 벗겨지는 문제를 방지할 수 있고, 상기 형광체층(170)으로의 광 입사 효율이 개선될 수 있다. 상기 형광체층(170)이 필름 형태로 부착됨으로써, 형광체 분포에 따른 색차 문제나 두께 차이에 따른 발광 편차 문제를 제거할 수 있다.In the embodiment, a reflective member (130) is arranged around a plurality of semiconductor chips (150), and a fluorescent layer (170) is attached on the reflective member (130) and the semiconductor chip (150), thereby preventing the problem of the fluorescent layer (170) being peeled off, and improving the light incidence efficiency to the fluorescent layer (170). Since the fluorescent layer (170) is attached in a film form, a problem of color difference according to fluorescent distribution and a problem of luminescence deviation according to thickness difference can be eliminated.

도 6은 도 2의 광원 모듈의 제1변형 예로서, 도 6의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 제1변형 예에 선택적으로 적용될 수 있다. FIG. 6 is a first modified example of the light source module of FIG. 2. In the description of FIG. 6, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will be referred to the description above, and the configuration and description disclosed above can be selectively applied to the first modified example.

도 6을 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 투광성 수지층(180)을 포함한다.Referring to FIG. 6, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (180).

상기 투광성 수지층(180)은 상기 형광체층(170)의 상면 위에 소정 두께(T2)로 배치될 수 있다. 상기 투광성 수지층(180)은 외곽 보호부(182)를 포함하며, 상기 외곽 보호부(182)는 상기 형광체층(170)의 측면들 및 상기 반사 부재(130)의 상면에 연장될 수 있다. 상기 외곽 보호부(182)는 상기 형광체층(170)의 전 측면의 둘레를 커버하게 된다. 상기 외곽 보호부(182)는 상면이 플랫한 형태로 제공될 수 있다. 상기 외곽 보호부(182)는 상기 형광체층(170)의 외측 둘레에 소정 폭(W1)으로 배치될 수 있으며, 예컨대 100㎛ 이상의 폭으로 배치될 수 있다. 상기 폭이 100㎛ 미만인 경우 반사 부재(130)의 침투 경로가 짧아 침투 차단 효과가 저하될 수 있다. 또한 상기 외곽 보호부(182)는 상기 형광체층(170)의 측면을 보호하고 상기 형광체층(170)의 측면을 통해 광을 추출시켜 줄 수 있다. 상기 외곽 보호부(182)의 폭 W1>T2의 관계를 가질 수 있다.The above-described transparent resin layer (180) may be arranged on the upper surface of the fluorescent layer (170) with a predetermined thickness (T2). The transparent resin layer (180) includes an outer protective member (182), and the outer protective member (182) may extend to the side surfaces of the fluorescent layer (170) and the upper surface of the reflective member (130). The outer protective member (182) covers the perimeter of the entire side surface of the fluorescent layer (170). The outer protective member (182) may be provided in a flat shape on the upper surface. The outer protective member (182) may be arranged on the outer perimeter of the fluorescent layer (170) with a predetermined width (W1), and may be arranged with a width of, for example, 100 μm or more. When the width is less than 100 μm, the penetration path of the reflective member (130) may be short, which may reduce the penetration blocking effect. In addition, the outer protective part (182) can protect the side surface of the fluorescent layer (170) and extract light through the side surface of the fluorescent layer (170). The width of the outer protective part (182) can have a relationship of W1>T2.

상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 투광성 수지층(180)의 외곽 보호부(182)의 외측에 배치될 수 있다. 상기 외곽 보호부(182)의 외측에 상기 측면 반사부(132)가 배치됨으로써, 상기 투광성 수지층(180)의 측 방향으로 누설되는 광을 효과적으로 반사시켜 줄 수 있고 상기 형광체층(170)과 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)를 이격시켜 줄 수 있다. 상기 측면 반사부(132)는 상기 외곽 보호부(182)의 외측 둘레를 따라 배치될 수 있다. 상기 측면 반사부(132)와 상기 외곽 보호부(182)는 상기 반사 부재(130)의 에지로부터 이격되어 배치될 수 있다.The side reflection portion (132) of the above-described reflective member (130) may be arranged on the outer side of the outer protection portion (182) of the light-transmitting resin layer (180). By arranging the side reflection portion (132) on the outer side of the outer protection portion (182), light leaking in the lateral direction of the light-transmitting resin layer (180) may be effectively reflected, and the fluorescent layer (170) and the side reflection portion (132) of the reflective member (130) may be spaced apart. The side reflection portion (132) may be arranged along the outer perimeter of the outer protection portion (182). The side reflection portion (132) and the outer protection portion (182) may be arranged spaced apart from the edge of the reflective member (130).

다른 예로서, 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면과 상기 투광성 수지층(180)의 외곽 보호부(182) 사이에 배치될 수 있다. 이러한 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면을 통해 누설된 광을 반사시켜 줄 수 있다. 상기 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면과 상기 투광성 수지층(180)의 외곽 보호부(182) 사이의 접착력을 개선시켜 줄 수 있다. As another example, the side reflection portion (132) of the reflective member (130) may be placed between the side surface of the fluorescent layer (170) and the outer protective portion (182) of the light-transmitting resin layer (180). The side reflection portion (132) may reflect light leaked through the side surface of the fluorescent layer (170). The side reflection portion (132) may improve the adhesion between the side surface of the fluorescent layer (170) and the outer protective portion (182) of the light-transmitting resin layer (180).

도 6의 실시 예는 도 20과 같이, 청색 피크 파장의 광속이 비교 예에 비해 4% 이상 높게 나타남을 알 수 있다. 여기서, 비교 예는 도 6의 광원 모듈에서 상기 형광체층(170) 상에 투광성 수지층(180)이 없는 구조이다. It can be seen that the embodiment of Fig. 6 shows that the luminous flux of the blue peak wavelength is 4% higher than that of the comparative example, as in Fig. 20. Here, the comparative example is a structure in which there is no light-transmitting resin layer (180) on the fluorescent layer (170) in the light source module of Fig. 6.

도 7은 도 2의 광원 모듈의 제2변형 예로서, 도 7의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 제2변형 예에 선택적으로 적용될 수 있다. FIG. 7 is a second modified example of the light source module of FIG. 2. In the description of FIG. 7, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will be referred to the description above, and the configuration and description disclosed above can be selectively applied to the second modified example.

도 7을 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 투광성 수지층(180)을 포함한다.Referring to FIG. 7, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (180).

광원 모듈은 상기 반사 부재(130)와 상기 반도체 칩(150) 사이에 배치된 광 가이드층(140)을 포함할 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측면 상에 배치될 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 실리콘 또는 에폭시와 같은 투명한 수지 재질로 형성될 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)들의 둘레에 소정 깊이를 갖는 홈(134)을 따라 배치될 수 있다. 상기 홈(134)의 깊이는 상기 반도체 칩(150)의 두께보다 작을 수 있으며, 상기 홈(134)의 폭은 상기 반도체 칩(150)의 너비의 1/2 이하일 수 있다. 상기 홈(134)의 폭은 하 방향 또는 회로 기판 방향으로 갈수록 점차 좁아질 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The light source module may include a light guide layer (140) disposed between the reflective member (130) and the semiconductor chip (150). The light guide layer (140) may be disposed on a side surface of the semiconductor chip (150). The light guide layer (140) may be formed of a transparent resin material such as silicone or epoxy. The light guide layer (140) may be disposed along a groove (134) having a predetermined depth around the semiconductor chips (150). The depth of the groove (134) may be smaller than the thickness of the semiconductor chip (150), and the width of the groove (134) may be less than half the width of the semiconductor chip (150). The width of the groove (134) may gradually narrow as it goes downward or in the circuit board direction, but is not limited thereto.

상기 홈(134)에는 광 가이드층(140)이 배치되며, 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측면으로부터 상기 반사 부재(130)를 이격시켜 줄 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측면으로 방출된 광이나 상기 광 가이드층(140)의 외측에 배치된 반사 부재(130)에 의해 반사된 광을 투과시켜 가이드하게 된다. 이러한 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측 방향으로 진행하는 광을 반사 부재(130)로 반사하여 출사 방향으로 가이드되도록 할 수 있다. 이에 따라 상기 반도체 칩(150)의 표면에 반사 부재(130)가 부착될 때, 상기 반도체 칩(150)의 측면에서의 광 손실을 줄여줄 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 탑재 전에 반도체 칩의 측면 상에 부착될 수 있고, 상기 반도체 칩(150)의 탑재하고 반사 부재(130)를 형성한 다음, 상기 반도체 칩(150)과 반사 부재(130) 사이의 계면을 통해 홈(134)을 형성한 후 광 가이드층(140)을 배치할 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반사 부재(130)와 상기 반도체 칩(150) 사이에 배치되어, 반도체 칩(150)에서의 측면 광의 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다. A light guide layer (140) is arranged in the groove (134), and the light guide layer (140) can separate the reflective member (130) from the side surface of the semiconductor chip (150). The light guide layer (140) transmits and guides light emitted from the side surface of the semiconductor chip (150) or light reflected by the reflective member (130) arranged on the outside of the light guide layer (140). The light guide layer (140) can reflect light traveling in the lateral direction of the semiconductor chip (150) to the reflective member (130) and guide it in the emission direction. Accordingly, when the reflective member (130) is attached to the surface of the semiconductor chip (150), light loss from the side surface of the semiconductor chip (150) can be reduced. The above light guide layer (140) can be attached to the side surface of the semiconductor chip before mounting the semiconductor chip (150), and after mounting the semiconductor chip (150) and forming the reflective member (130), a groove (134) can be formed through the interface between the semiconductor chip (150) and the reflective member (130), and then the light guide layer (140) can be placed. The light guide layer (140) can be placed between the reflective member (130) and the semiconductor chip (150), thereby improving the extraction efficiency of side light in the semiconductor chip (150).

도 8은 제2실시 예에 따른 광원 모듈을 나타낸 측 단면도이며, 도 9는 도 8의 부분 확대도이다. 도 8 및 도 9의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. FIG. 8 is a cross-sectional side view showing a light source module according to the second embodiment, and FIG. 9 is a partial enlarged view of FIG. 8. In the description of FIGS. 8 and 9, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will be referred to the description above, and the configuration and description disclosed above may be selectively applied.

도 8 및 도 9를 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIGS. 8 and 9, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 투광성 수지층(190)은 광 추출 구조를 포함할 수 있다. 상기 투광성 수지층(190)은 입사부(191) 및 상기 입사부(191) 상에 돌출부들(192)을 갖는 광 추출 구조를 포함할 수 있다. 도 9와 같이, 상기 입사부(191)는 상기 형광체층(170) 상에 소정 두께(D3)로 배치되어, 돌출부(192)를 서로 연결해 줄 수 있다. 상기 입사부(191)는 70㎛ 이하의 두께(D3) 예컨대, 30㎛ 내지 70㎛의 범위로 배치되어, 입사되는 광을 반사 손실을 줄이고 투과 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 상기 입사부(191)로부터 입사된 광은 광 추출 구조를 통해 광의 임계각이 변화되어 외부로 추출될 수 있다. 상기 광 추출 구조는 복수의 돌출부(192)를 포함하며, 상기 복수의 돌출부(192)는 서로 이격될 수 있다. 상기 각 돌출부(192)는 뿔 형상 예컨대, 다각뿔 형상, 원뿔 형상, 다각뿔 대 형상, 원뿔대 형상, 반구형 렌즈, 비구면 형상의 렌즈 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 복수의 돌출부(192)는 매트릭스 형태로 배열되거나, 복수의 행 또는 열들이 지그 재그 형태로 배열될 수 있다. 상기 돌출부(192) 사이의 영역은 상기 입사부(191)를 향하여 점차 좁은 너비를 가질 수 있다.The above-described transparent resin layer (190) may include a light extraction structure. The above-described transparent resin layer (190) may include an incident portion (191) and a light extraction structure having protrusions (192) on the incident portion (191). As shown in FIG. 9, the incident portion (191) may be arranged on the fluorescent layer (170) with a predetermined thickness (D3) to connect the protrusions (192) to each other. The incident portion (191) may be arranged with a thickness (D3) of 70 ㎛ or less, for example, in a range of 30 ㎛ to 70 ㎛, to reduce reflection loss of incident light and improve transmission efficiency. Light incident from the incident portion (191) may be extracted to the outside by changing the critical angle of the light through the light extraction structure. The light extraction structure includes a plurality of protrusions (192), and the plurality of protrusions (192) may be spaced apart from each other. Each of the above protrusions (192) may include at least one of a cone shape, for example, a polypyramid shape, a cone shape, a polypyramid truncated shape, a cone truncated shape, a hemispherical lens, and an aspherical lens. The plurality of protrusions (192) may be arranged in a matrix shape, or a plurality of rows or columns may be arranged in a zigzag shape. The area between the protrusions (192) may have a width that gradually narrows toward the incident portion (191).

도 9와 같이, 상기 돌출부(192)의 주기(D1)는 상기 돌출부(192) 간의 간격(D5)의 n배일 수 있으며, 상기 n은 1 < n < 3의 관계를 만족하는 실수이다. 상기 돌출부(192)의 주기(D1)는 상기 입사부(191)의 두께의 m배일 수 있으며, 상기 m은 5≤m≤7의 관계를 만족하는 실수이다. 상기 돌출부(192) 높이(D4)는 상기 돌출부(192) 간의 주기(D1)의 0.5배 내지 1.5배 범위일 수 있다. 상기 돌출부(192)의 높이(D4)는 상기 입사부(191)의 두께보다 클 수 있다. 상기 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)은 형광체층(170)을 통한 광의 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 또한 상기 투광성 수지층(190)은 입사부(191)를 갖고 배치되므로, 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)가 상기 형광체층(170)의 상면에 침투하는 것을 방지할 수 있다. 상기 주기(D1)는 2.5㎛ 내지 3㎛의 범위를 가질 수 있다.As shown in FIG. 9, the period (D1) of the protrusions (192) may be n times the spacing (D5) between the protrusions (192), and n is a real number satisfying the relationship of 1 < n < 3. The period (D1) of the protrusions (192) may be m times the thickness of the incident portions (191), and m is a real number satisfying the relationship of 5 ≤ m ≤ 7. The height (D4) of the protrusions (192) may be in a range of 0.5 to 1.5 times the period (D1) between the protrusions (192). The height (D4) of the protrusions (192) may be greater than the thickness of the incident portions (191). The light-transmitting resin layer (190) having the light extraction structure may improve the extraction efficiency of light through the phosphor layer (170). In addition, since the light-transmitting resin layer (190) is arranged with an incident portion (191), it is possible to prevent the side reflection portion (132) of the reflection member (130) from penetrating into the upper surface of the fluorescent layer (170). The period (D1) may have a range of 2.5 μm to 3 μm.

상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 측면에 배치되어, 상기 형광체층(170)의 측 방향으로 누설되는 광을 반사시켜 줄 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 입사부(191)의 측면에 접촉될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The side reflection portion (132) of the above reflection member (130) is arranged on the side of the fluorescent layer (170) and can reflect light leaking in the lateral direction of the fluorescent layer (170). The side reflection portion (132) of the above reflection member (130) can be in contact with the side of the incident portion (191), but is not limited thereto.

도 10은 도 9의 광 추출 구조의 다른 예로서, 상기 광 추출 구조는 반구형 형상을 갖는 돌출부(192)들이 지그 재그로 배열될 수 있다. 상기 광 추출 구조의 돌출부(192)는 곡면으로 제공하므로, 입사되는 광을 굴절시켜 줄 수 있다. 또한 상기 광 추출 구조는 반구형 형태로 제공되므로, 돌출부(192)의 높이를 낮추고 상기 돌출부(192) 간의 간격을 더 좁혀 줄 수 있다. 이에 따라 상기 돌출부(192)로 진행되는 광량을 높여줄 수 있다. 상기 돌출부(192)의 높이(D4)는 1㎛ 내지 2㎛의 범위일 수 있고 상기 돌출부(192) 간의 주기(D1)보다는 작을 수 있다. 이러한 반구형 렌즈 형상의 돌출부(192)는 바닥 면적을 더 넓혀 주어, 입사 광량과 추출 효율이 개선시켜 줄 수 있다. 상기 광 추출 구조는 마이크로 렌즈 어레이(micro lens array) 형태로 제공될 수 있다. 상기 돌출부(192)들은 육방최밀격자 또는 면심입방 격자 형태로 배열될 수 있다. FIG. 10 is another example of the light extraction structure of FIG. 9, in which the light extraction structure may have protrusions (192) having a hemispherical shape arranged in a zigzag pattern. Since the protrusions (192) of the light extraction structure are provided in a curved shape, they may refract incident light. In addition, since the light extraction structure is provided in a hemispherical shape, the height of the protrusions (192) may be lowered and the interval between the protrusions (192) may be narrowed. Accordingly, the amount of light transmitted to the protrusions (192) may be increased. The height (D4) of the protrusions (192) may be in the range of 1 μm to 2 μm and may be smaller than the period (D1) between the protrusions (192). The protrusions (192) having such a hemispherical lens shape may increase the bottom area, thereby improving the amount of incident light and extraction efficiency. The light extraction structure may be provided in the form of a micro lens array. The above protrusions (192) can be arranged in a hexagonal close-packed lattice or a face-centered cubic lattice form.

제2실시 예에 따른 광원 모듈의 광속은 도 21과 같이, 비교 예에 비해 2% 이상 광속이 증가됨을 알 수 있다. 상기 비교 예는 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)이 없이 형광체층(170)을 통해 광이 추출되는 구조이다. As shown in Fig. 21, it can be seen that the luminous flux of the light source module according to the second embodiment is increased by more than 2% compared to the comparative example. The comparative example has a structure in which light is extracted through the fluorescent layer (170) without a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

도 11은 도 8의 광원 모듈의 제1변형 예이다. 도 11의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. Fig. 11 is a first variation example of the light source module of Fig. 8. In the description of Fig. 11, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will be referred to the description above, and the configuration and description disclosed above may be selectively applied.

도 11을 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIG. 11, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 투광성 수지층(190)은 외곽 보호부(193)를 포함한다. 상기 외곽 보호부(193)는 상기 광 추출 구조인 돌출부(192)의 외측 둘레를 따라 배치되며, 링 형상 또는 프레임 형상으로 형성될 수 있다. 상기 외곽 보호부(193)는 상기 형광체층(170)의 상면 에지 영역에 배치되어, 댐 역할을 수행한다. 상기 외곽 보호부(193)는 상기 형광체층(170)의 상면 에지 영역을 반사 부재(130)로부터 보호하게 된다. 상기 외곽 보호부(193)는 측 단면이 삼각형, 사각형 형상이거나 사다리꼴과 같은 다각형 형상일 수 있다. 상기 외곽 보호부(193)의 측 단면의 면적은 상기 각 돌출부(192)의 측 단면의 면적보다 클 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193)에 접촉될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The above-described transparent resin layer (190) includes an outer protective member (193). The outer protective member (193) is arranged along the outer perimeter of the protrusion (192), which is the light extraction structure, and may be formed in a ring shape or a frame shape. The outer protective member (193) is arranged on the upper edge area of the fluorescent layer (170) and functions as a dam. The outer protective member (193) protects the upper edge area of the fluorescent layer (170) from the reflective member (130). The outer protective member (193) may have a lateral cross-section in the shape of a triangle, a square, or a polygonal shape such as a trapezoid. The area of the lateral cross-section of the outer protective member (193) may be larger than the area of the lateral cross-section of each of the protrusions (192). The side reflective portion (132) of the above reflective member (130) may be in contact with the outer protective portion (193) of the light-transmitting resin layer (190), but is not limited thereto.

도 12는 도 11의 광원 모듈의 제2변형 예이다. 도 12의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. Fig. 12 is a second variation example of the light source module of Fig. 11. In the description of Fig. 12, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will refer to the description above, and the configuration and description disclosed above may be selectively applied.

도 12을 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIG. 12, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 반사 부재(130)와 상기 반도체 칩(150) 사이에는 광 가이드층(140)이 배치될 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측면과 상기 형광체층(170)의 하면에 접촉될 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 측면을 통해 진행되는 광을 가이드하여, 반사 부재(130)를 통해 반사시켜 줄 수 있다. 이러한 광 가이드층(140)은 실리콘 또는 에폭시와 같은 재질로 형성될 수 있다. 상기 광 가이드층(140)은 상기 반도체 칩(150)의 한 측면, 서로 반대측 측면 또는 모든 측면 상에 배치되어, 상기 반도체 칩(150)으로부터 측 방향으로 진행하는 광의 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다.A light guide layer (140) may be arranged between the reflective member (130) and the semiconductor chip (150). The light guide layer (140) may be in contact with a side surface of the semiconductor chip (150) and a lower surface of the fluorescent layer (170). The light guide layer (140) may guide light traveling through the side surface of the semiconductor chip (150) and reflect the light through the reflective member (130). The light guide layer (140) may be formed of a material such as silicon or epoxy. The light guide layer (140) may be arranged on one side surface, opposite sides surface, or all sides surface of the semiconductor chip (150), and may improve the extraction efficiency of light traveling laterally from the semiconductor chip (150).

도 13은 도 11의 광원 모듈의 제3변형 예이다. 도 13의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. Fig. 13 is a third variation example of the light source module of Fig. 11. In the description of Fig. 13, the description of the same configuration as the configuration disclosed above refers to the description above, and the configuration and description disclosed above can be selectively applied.

도 13을 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIG. 13, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 광 추출 구조의 돌출부(192)는 상기 반도체 칩(150)과 중첩되는 제1영역(A1)과, 상기 반사 부재(130)와 중첩되는 제2영역(A2)을 포함하며, 상기 제1영역(A1)에 배치된 돌출부(192)의 높이 또는 크기는 상기 제2영역(A2)에 배치된 돌출부(192)의 높이 또는 크기보다 클 수 있다. 상기 반도체 칩(150) 상에 배치된 제1영역(A1)의 돌출부(192)를 더 큰 크기로 배치함으로써, 상기 반도체 칩(150) 상의 제1영역(A1)과 상기 반사 부재(130) 상의 제2영역(A2) 사이의 광도 편차를 줄여줄 수 있다. 상기 제2영역(A2)의 돌출부(192)의 높이는 상기 제1영역(A1)의 돌출부(192)의 높이의 0.3 내지 0.7배의 범위로 배치될 수 있다.The protrusion (192) of the light extraction structure includes a first region (A1) overlapping the semiconductor chip (150) and a second region (A2) overlapping the reflective member (130), and the height or size of the protrusion (192) arranged in the first region (A1) may be larger than the height or size of the protrusion (192) arranged in the second region (A2). By arranging the protrusion (192) of the first region (A1) arranged on the semiconductor chip (150) to have a larger size, the luminous intensity difference between the first region (A1) on the semiconductor chip (150) and the second region (A2) on the reflective member (130) can be reduced. The height of the protrusion (192) of the second region (A2) may be arranged in a range of 0.3 to 0.7 times the height of the protrusion (192) of the first region (A1).

도 14는 도 11의 광원 모듈의 제4변형 예이다. 도 14의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. Fig. 14 is a fourth variation example of the light source module of Fig. 11. In the description of Fig. 14, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will refer to the description above, and the configuration and description disclosed above may be selectively applied.

도 14를 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIG. 14, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193A)는 상기 형광체층(170)의 측면 외측에 배치될 수 있다. 상기 외곽 보호부(193A)는 상기 형광체층(170)의 측면과 상기 반사 부재(130)의 상면으로 연장될 수 있다. 상기 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193A)는 상기 형광체층(170)과 중첩되지 않는 영역에 배치되며 상기 반사 부재(130)의 상면과 접촉될 수 있다. 상기 외곽 보호부(193A)는 상기 형광체층(170)의 측면에 부착되어 상기 반사 부재(130)의 일부가 상기 형광체층(170)의 상면으로 침투하는 것을 방지할 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193A)의 외측에 배치되므로, 상기 형광체층(170)으로부터 이격될 수 있다. 상기 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193A)와 상기 형광체층(170)의 측면 사이에 배치될 수 있어, 형광체층(170)의 측 방향으로 누설되는 광을 반사시켜 줄 수 있고, 상기 형광체층(170)과 외곽 보호부(193A)에 밀착 결합될 수 있다. 여기서, 반사 부재(130)의 측면 반사부(132)는 상기 형광체층(170)의 외측 둘레에 배치되거나, 상기 외곽 보호부(193A)의 외측 둘레에 배치될 수 있다.The outer protective part (193A) of the light-transmitting resin layer (190) may be arranged on the outer side of the side surface of the fluorescent layer (170). The outer protective part (193A) may extend to the side surface of the fluorescent layer (170) and the upper surface of the reflective member (130). The outer protective part (193A) of the light-transmitting resin layer (190) may be arranged in an area that does not overlap with the fluorescent layer (170) and may be in contact with the upper surface of the reflective member (130). The outer protective part (193A) may be attached to the side surface of the fluorescent layer (170) to prevent a part of the reflective member (130) from penetrating into the upper surface of the fluorescent layer (170). The side reflection portion (132) of the reflective member (130) is arranged on the outer side of the outer protection portion (193A) of the light-transmitting resin layer (190), and thus can be spaced apart from the fluorescent layer (170). The side reflection portion (132) of the reflective member (130) can be arranged between the outer protection portion (193A) of the light-transmitting resin layer (190) and the side of the fluorescent layer (170), so as to reflect light leaking in the lateral direction of the fluorescent layer (170), and can be closely coupled to the fluorescent layer (170) and the outer protection portion (193A). Here, the side reflection portion (132) of the reflective member (130) can be arranged on the outer periphery of the fluorescent layer (170) or on the outer periphery of the outer protection portion (193A).

도 22와 같이, 도 14의 광원 모듈의 광속은 비교 예에 비해 4% 이상이 개선됨을 알 수 있다. 비교 예는 광원 모듈이 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190) 없이 형광체층(170)을 통해 광이 추출되는 구조이다. 도 14의 광원 모듈은 도 12의 광원 모듈에 비해, 투광성 수지층(190)의 외곽 보호부(193A)를 더 구비한 구성으로서, 상기 외곽 보호부(193A)에 의해 상기 형광체층(170)의 측 방향으로의 광 추출을 개선시켜 줄 수 있다. As shown in FIG. 22, it can be seen that the luminous flux of the light source module of FIG. 14 is improved by more than 4% compared to the comparative example. The comparative example is a structure in which light is extracted through the fluorescent layer (170) without the light-transmitting resin layer (190) having the light extraction structure of the light source module. The light source module of FIG. 14 has a configuration in which an outer protective part (193A) of the light-transmitting resin layer (190) is further provided, compared to the light source module of FIG. 12, and the light extraction in the lateral direction of the fluorescent layer (170) can be improved by the outer protective part (193A).

도 15는 도 11의 광원 모듈의 제4변형 예이다. 도 15의 설명에 있어서, 상기에 개시된 구성과 동일한 구성에 대한 설명은 상기의 설명을 참조하기로 하며 상기에 개시된 구성 및 설명은 선택적으로 적용될 수 있다. Fig. 15 is a fourth variation example of the light source module of Fig. 11. In the description of Fig. 15, the description of the same configuration as the configuration disclosed above will refer to the description above, and the configuration and description disclosed above may be selectively applied.

도 15를 참조하면, 광원 모듈은 회로 기판(110), 반도체 칩(150), 반사 부재(130), 형광체층(170) 및 광 추출 구조를 갖는 투광성 수지층(190)을 포함한다.Referring to FIG. 15, the light source module includes a circuit board (110), a semiconductor chip (150), a reflective member (130), a phosphor layer (170), and a light-transmitting resin layer (190) having a light extraction structure.

상기 투광성 수지층(190)의 광 추출 구조는 복수의 돌출부(192)들 사이의 영역에 상기 형광체층(170)이 노출될 수 있다. 상기 광 추출 구조는 돌출부(192)들이 서로 이격되거나, 상기 돌출부(192)들의 하부가 서로 접촉될 수 있다. 상기 광 추출 구조는 돌출부(192)들 사이의 영역을 개방시켜 주거나 돌출부(192)들의 밀도를 높여줌으로써, 광의 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다.The light extraction structure of the above-described transparent resin layer (190) may expose the fluorescent layer (170) in the area between the plurality of protrusions (192). The light extraction structure may have the protrusions (192) spaced apart from each other, or the lower portions of the protrusions (192) may be in contact with each other. The light extraction structure may improve the light extraction efficiency by opening the area between the protrusions (192) or increasing the density of the protrusions (192).

도 16은 광원 모듈의 다른 형태를 나타낸 도면으로서, 반도체 칩(150)이 회로 기판(110) 상에 소정 직경을 갖는 원 영역 내에 배치되며, 상기 원 영역 상에 형광체층과 투광성 수지층(190)이 원 형상으로 배치될 수 있다. 상기 회로 기판(110) 상에는 반사 부재(130)가 배치되어, 광을 반사시켜 줄 수 있다. 이 경우 상기 반도체 칩(150)의 개수 또는 밀도를 더 높여줄 수 있다. 상기 반도체 칩(150)이 배열되는 외곽 선의 형상은 원 형상의 영역이 다닌 직사각형 또는 정 사각형 형상일 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.FIG. 16 is a drawing showing another form of a light source module, in which a semiconductor chip (150) is arranged within a circular area having a predetermined diameter on a circuit board (110), and a fluorescent layer and a light-transmitting resin layer (190) may be arranged in a circular shape on the circular area. A reflective member (130) may be arranged on the circuit board (110) to reflect light. In this case, the number or density of the semiconductor chips (150) may be further increased. The shape of the outer line on which the semiconductor chips (150) are arranged may be a rectangular or square shape with a circular area, but is not limited thereto.

도 17은 실시 예에 따른 광원 모듈을 갖는 조명 장치의 예이다. 상기의 조명 장치를 설명함에 있어서, 상기에 개시된 구성(들)과 동일한 부분은 선택적으로 적용될 수 있다. 상기 조명 장치는 평판디스플레이에 적용되는 백라이트 유닛이나, 실내환경에 사용하는 실내등, 또는 자동차 외부에 설치되는 전조등, 안개등, 후퇴등, 차폭등, 번호등, 후미등, 제동등, 방향지시등, 비상점멸표시등이나, 자동차 내부에 설치되는 실내조명등에 다양하게 적용될 수 있다.Fig. 17 is an example of a lighting device having a light source module according to an embodiment. In describing the lighting device above, the same parts as the configuration(s) disclosed above may be selectively applied. The lighting device may be variously applied to a backlight unit applied to a flat panel display, an interior light used in an indoor environment, a headlight, a fog light, a reversing light, a side light, a license plate light, a tail light, a brake light, a turn signal light, an emergency flasher light installed on the outside of a vehicle, or an interior light installed inside a vehicle.

도 17을 참조하면, 조명 장치는, 실시 예에 개시된 광원 모듈(100A, 100B, 100C)을 갖는 조명모듈(200)과, 상기 조명모듈(110)에서 출사하는 광의 광도를 제어하는 이너렌즈(215), 상기 이너렌즈(215)로부터 출사된 광을 회절시켜 광 형상을 제어하는 광 형상 제어 모듈(220)과, 상기 광형상 제어 모듈(220)로부터 출사된 광을 확산시켜 주어 광 이미지를 구현하는 아우터 렌즈(230)를 포함한다.Referring to FIG. 17, the lighting device includes a lighting module (200) having a light source module (100A, 100B, 100C) disclosed in the embodiment, an inner lens (215) for controlling the brightness of light emitted from the lighting module (110), a light shape control module (220) for controlling the light shape by diffracting the light emitted from the inner lens (215), and an outer lens (230) for implementing a light image by diffusing the light emitted from the light shape control module (220).

상기 조명 모듈(200)의 광원 모듈(100A,100B,100C)는 상기에 개시된 광원 모듈로서, 하나 또는 복수개가 배치될 수 있으며, 적색, 녹색, 적색 또는 백색의 광이 방출될 수 있다. 상기 복수의 광원 모듈(100A,100B,100C)는 개별 구동 또는 동시에 구동되어, 광의 광도나 광량이 제어될 수 있다.The light source modules (100A, 100B, 100C) of the above lighting module (200) are the light source modules disclosed above, and may be arranged in one or more, and may emit red, green, red, or white light. The plurality of light source modules (100A, 100B, 100C) may be driven individually or simultaneously, so that the brightness or amount of light may be controlled.

상기 이너 렌즈(inner lens)(215)는 입사되는 광을 확산하거나 집광시켜 줄 수 있다. 상기 광형상 제어모듈(220)은 상기 이너 렌즈(215)로부터 소정 거리(D)로 이격되어, 상기 각 광원 모듈(100A,100B,100C)와 대응되는 위치에 광 형상의 제어를 위한 패턴을 구비할 수 있다. 상기 패턴은 투명기판이나 투명필름, 투명시트 상에 다양한 광 이미지를 구현하는 이미지를 패터닝하거나, 랜덤한 패턴을 구현하는 것으로, 일예로 DOE(Diffractive optical elements) 또는 HOE(Holographic optical elements)가 구현되는 것을 적용할 수 있다.The inner lens (215) above can diffuse or focus incident light. The light shape control module (220) can be provided with a pattern for controlling the light shape at a position corresponding to each light source module (100A, 100B, 100C) at a predetermined distance (D) from the inner lens (215). The pattern can be applied to pattern an image that implements various light images on a transparent substrate, transparent film, or transparent sheet, or to implement a random pattern. For example, DOE (Diffractive optical elements) or HOE (Holographic optical elements) can be implemented.

상기 아우터 렌즈(230)은 입사된 광을 확산 또는 집광하여 광 이미지를 구현하여 출사할 수 있다. 이러한 광 이미지는 차량 램프에 적용될 때, 미리 정해진 신호 전달을 사용하는 용도 예컨대, 직선이 강한 광원이나, 급정거, 경고 신호, 점진적인 경로 신호와 같은 신호 이미지로 구현될 수 있다. The above outer lens (230) can implement an optical image by diffusing or focusing the incident light and outputting it. When applied to a vehicle lamp, this optical image can be implemented as a signal image, such as a straight strong light source, or a sudden stop, warning signal, or gradual path signal, for use in transmitting a predetermined signal.

도 18은 실시 예에 따른 반도체 칩의 일 예이다. Fig. 18 is an example of a semiconductor chip according to an embodiment.

도 18을 참조하면, 반도체 칩은 복수의 반도체층(11,12,13)을 갖는 발광구조물(10), 상기 발광 구조물(10) 아래에 제1 전극층(20), 상기 제1전극층(20) 아래에 제2 전극층(50), 상기 제1 및 제2전극층(20,50) 사이에 절연층(41), 및 복수의 제1전극(25,25A)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 18, a semiconductor chip may include a light-emitting structure (10) having a plurality of semiconductor layers (11, 12, 13), a first electrode layer (20) under the light-emitting structure (10), a second electrode layer (50) under the first electrode layer (20), an insulating layer (41) between the first and second electrode layers (20, 50), and a plurality of first electrodes (25, 25A).

상기 발광구조물(10)은 제1 반도체층(11), 활성층(12), 및 제2 반도체층(13)을 포함할 수 있다. 상기 활성층(12)은 상기 제1반도체층(11)과 상기 제2 반도체층(13) 사이에 배치될 수 있다. 상기 활성층(12)은 상기 제1 반도체층(11) 아래에 배치될 수 있으며, 상기 제2 반도체층(13)은 상기 활성층(12) 아래에 배치될 수 있다.The above light-emitting structure (10) may include a first semiconductor layer (11), an active layer (12), and a second semiconductor layer (13). The active layer (12) may be arranged between the first semiconductor layer (11) and the second semiconductor layer (13). The active layer (12) may be arranged under the first semiconductor layer (11), and the second semiconductor layer (13) may be arranged under the active layer (12).

예로서, 상기 제1 반도체층(11)은 제1 도전형 도펀트 예컨대, n형 도펀트가 첨가된 n형 반도체층을 포함하고, 상기 제2 반도체층(13)은 제2 도전형 도펀트 예컨대, p형 도펀트가 첨가된 p형 반도체층을 포함할 수 있다. 또한 반대로, 상기 제1 반도체층(11)이 p형 반도체층으로 형성되고, 상기 제2 반도체층(13)이 n형 반도체층으로 형성될 수도 있다.For example, the first semiconductor layer (11) may include an n-type semiconductor layer to which a first conductive dopant, for example, an n-type dopant, is added, and the second semiconductor layer (13) may include a p-type semiconductor layer to which a second conductive dopant, for example, a p-type dopant, is added. Also, conversely, the first semiconductor layer (11) may be formed as a p-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer (13) may be formed as an n-type semiconductor layer.

상기 제1반도체층(11)의 상면은 러프(rough)한 요철부(11A)로 형성될 수 있으며, 이러한 요철 면(11A)는 광 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 상기 요철 면(11A)의 측 단면은 다각형 형상, 또는 반구형 형상을 포함할 수 있다.The upper surface of the first semiconductor layer (11) may be formed as a rough uneven portion (11A), and this uneven surface (11A) may improve light extraction efficiency. The side cross-section of the uneven surface (11A) may include a polygonal shape or a hemispherical shape.

상기 제1전극층(20)은 상기 발광 구조물(10)과 제2전극층(50) 사이에 배치되며, 상기 발광 구조물(10)의 제2반도체층(13)과 전기적으로 연결되며, 상기 제2전극층(50)과 전기적으로 절연된다. 상기 제1전극층(20)은 제1 접촉층(15), 반사층(17) 및 캡핑층(19)를 포함하며, 상기 제1 접촉층(15)는 상기 반사층(17)과 제2반도체층(13) 사이에 배치되며, 상기 반사층(17)은 상기 제1 접촉층(15)과 상기 캡핑층(19) 사이에 배치된다. 상기 제1 접촉층(15), 반사층(17) 및 캡핑층(19)은 서로 다른 도전성 물질로 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first electrode layer (20) is disposed between the light-emitting structure (10) and the second electrode layer (50), is electrically connected to the second semiconductor layer (13) of the light-emitting structure (10), and is electrically insulated from the second electrode layer (50). The first electrode layer (20) includes a first contact layer (15), a reflective layer (17), and a capping layer (19), and the first contact layer (15) is disposed between the reflective layer (17) and the second semiconductor layer (13), and the reflective layer (17) is disposed between the first contact layer (15) and the capping layer (19). The first contact layer (15), the reflective layer (17), and the capping layer (19) may be formed of different conductive materials, but are not limited thereto.

상기 제1 접촉층(15)은 상기 제2 반도체층(13)에 접촉되며, 예컨대 상기 제2 반도체층(13)에 오믹 접촉을 형성할 수 있다. 상기 제1 접촉층(15)은 예컨대 전도성 산화막, 전도성 질화물 또는 금속으로 형성될 수 있다. 상기 제1 접촉층(15)은 예로서 ITO(Indium Tin Oxide), ITON(ITO Nitride), IZO(Indium Zinc Oxide), IZON(IZO Nitride), AZO(Aluminum Zinc Oxide), AGZO(Aluminum Gallium Zinc Oxide), IZTO(Indium Zinc Tin Oxide), IAZO(Indium Aluminum Zinc Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), IGTO(Indium Gallium Tin Oxide), ATO(Antimony Tin Oxide), GZO(Gallium Zinc Oxide), IZON(IZO Nitride), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt, Ag, Ti 중에서 적어도 하나로 형성될 수 있다.The first contact layer (15) is in contact with the second semiconductor layer (13) and may form an ohmic contact with the second semiconductor layer (13), for example. The first contact layer (15) may be formed of, for example, a conductive oxide film, a conductive nitride, or a metal. The first contact layer 15 is, for example, Indium Tin Oxide (ITO), ITO Nitride (ITON), Indium Zinc Oxide (IZO), IZO Nitride (IZON), Aluminum Zinc Oxide (AZO), Aluminum Gallium Zinc Oxide (AGZO), Indium Zinc Tin Oxide (IZTO), Indium Aluminum Zinc Oxide (IAZO), It may be formed of at least one of Indium Gallium Zinc Oxide (IGZO), Indium Gallium Tin Oxide (IGTO), Antimony Tin Oxide (ATO), Gallium Zinc Oxide (GZO), IZO Nitride (IZON), ZnO, IrOx, RuOx, NiO, Pt, Ag, and Ti.

상기 반사층(17)은 상기 제1 접촉층(15)과 캡핑층(19)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 반사층(17)은 상기 반사층(17)은 상기 발광구조물(10)로부터 입사되는 빛을 반사시켜 외부로 추출되는 광량을 증가시키는 기능을 수행할 수 있다.The above reflection layer (17) can be electrically connected to the first contact layer (15) and the capping layer (19). The above reflection layer (17) can perform the function of reflecting light incident from the light-emitting structure (10) to increase the amount of light extracted to the outside.

상기 반사층(17)은 광 반사율이 70% 이상인 금속으로 형성될 수 있다. 예컨대 상기 반사층(17)은 Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, Hf 중 적어도 하나를 포함하는 금속 또는 합금으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 반사층(17)은 상기 금속 또는 합금과 ITO(Indium-Tin-Oxide), IZO(Indium-Zinc-Oxide), IZTO(Indium-Zinc-Tin-Oxide), IAZO(Indium-Aluminum-Zinc-Oxide), IGZO(Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO(Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO(Aluminum-Zinc-Oxide), ATO(Antimony-Tin-Oxide) 등의 투광성 전도성 물질을 이용하여 다층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 실시 예에서 상기 반사층(17)은 Ag, Al, Ag-Pd-Cu 합금, 또는 Ag-Cu 합금 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 예를 들면, 상기 반사층(17)은 Ag 층과 Ni 층이 교대로 형성될 수도 있고, Ni/Ag/Ni, 혹은 Ti 층, Pt 층을 포함할 수 있다. 다른 예로서, 상기 제1 접촉층(15)은 상기 반사층(17) 아래에 형성되고, 적어도 일부가 상기 반사층(17)을 통과하여 상기 제2반도체층(13)과 접촉될 수도 있다. 다른 예로서, 상기 반사층(17)은 상기 제1 접촉층(15)의 아래에 배치되고, 일부가 상기 제1 접촉층(15)을 통과하여 상기 제2반도체층(13)과 접촉될 수 있다. The above reflection layer (17) may be formed of a metal having a light reflectance of 70% or more. For example, the above reflection layer (17) may be formed of a metal or alloy including at least one of Ag, Ni, Al, Rh, Pd, Ir, Ru, Mg, Zn, Pt, Cu, Au, and Hf. In addition, the reflective layer (17) may be formed as a multilayer using the metal or alloy and a light-transmitting conductive material such as ITO (Indium-Tin-Oxide), IZO (Indium-Zinc-Oxide), IZTO (Indium-Zinc-Tin-Oxide), IAZO (Indium-Aluminum-Zinc-Oxide), IGZO (Indium-Gallium-Zinc-Oxide), IGTO (Indium-Gallium-Tin-Oxide), AZO (Aluminum-Zinc-Oxide), ATO (Antimony-Tin-Oxide). For example, in the embodiment, the reflective layer (17) may include at least one of Ag, Al, an Ag-Pd-Cu alloy, or an Ag-Cu alloy. For example, the reflection layer (17) may be formed by alternating Ag layers and Ni layers, and may include Ni/Ag/Ni, Ti layers, or Pt layers. As another example, the first contact layer (15) may be formed below the reflection layer (17), and at least a portion thereof may pass through the reflection layer (17) to contact the second semiconductor layer (13). As another example, the reflection layer (17) may be arranged below the first contact layer (15), and a portion thereof may pass through the first contact layer (15) to contact the second semiconductor layer (13).

실시 예에 따른 반도체 칩은 상기 반사층(17) 아래에 배치된 캡핑층(capping layer)(19)을 포함할 수 있다. 상기 캡핑층(19)은 상기 반사층(17)의 하면과 접촉되고, 접촉부(34,34A)가 제1전극(25,25A)과 결합되어, 상기 제1전극(25,25A)로부터 공급되는 전원을 전달하는 배선층으로 기능한다. 상기 캡핑층(19)은 금속으로 형성될 수 있으며, 예컨대 Au, Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, Mo 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. A semiconductor chip according to an embodiment may include a capping layer (19) disposed under the reflective layer (17). The capping layer (19) is in contact with a lower surface of the reflective layer (17), and a contact portion (34, 34A) is coupled with a first electrode (25, 25A), thereby functioning as a wiring layer that transmits power supplied from the first electrode (25, 25A). The capping layer (19) may be formed of a metal, and may include at least one of, for example, Au, Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, and Mo.

상기 복수의 제1전극(25,25A)은 패드를 포함하며 상기 발광 구조물(10)의 외측에 배치될 수 있다. 다른 예로서, 복수의 제2전극이 상기 발광 구조물(10)의 외측에 배치되거나 상기 발광 구조물(10)의 상면에 배치될 수 있다. The plurality of first electrodes (25, 25A) include pads and may be arranged on the outside of the light-emitting structure (10). As another example, the plurality of second electrodes may be arranged on the outside of the light-emitting structure (10) or on the upper surface of the light-emitting structure (10).

상기 캡핑층(19)의 접촉부(34,34A)는 상기 발광 구조물(10)과 수직 방향으로 오버랩되지 않는 영역에 배치되며, 상기 제1전극(25,25A)와 수직하게 오버랩된다. 상기 캡핑층(19)의 접촉부(34,34A)는 상기 제1 접촉층(15) 및 반사층(17)과 수직 방향으로 오버랩되지 않는 영역에 배치된다. 상기 캡핑층(19)의 접촉부(34,34A)는 상기 발광 구조물(10)보다 낮은 위치에 배치되며, 상기 제1전극(25,25A)와 직접 접촉될 수 있다.The contact portion (34, 34A) of the capping layer (19) is arranged in an area that does not vertically overlap with the light-emitting structure (10) and vertically overlaps with the first electrode (25, 25A). The contact portion (34, 34A) of the capping layer (19) is arranged in an area that does not vertically overlap with the first contact layer (15) and the reflective layer (17). The contact portion (34, 34A) of the capping layer (19) is arranged at a lower position than the light-emitting structure (10) and can be in direct contact with the first electrode (25, 25A).

상기 제1전극(25,25A)은 단층 또는 다층으로 형성될 수 있으며, 단층은 Au일 수 있고, 다층인 경우 Ti, Ag, Cu, Au 중 적어도 2개를 포함할 수 있다. 여기서, 다층인 경우 Ti/Ag/Cu/Au의 적층 구조이거나, Ti/Cu/Au 적층 구조일 수 있다. 상기 반사층(17) 및 상기 제1 접촉층(15) 중 제1전극(25,25A)와 직접 접촉될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다. The above first electrode (25, 25A) may be formed as a single layer or multiple layers, and the single layer may be Au, and in the case of multiple layers, may include at least two of Ti, Ag, Cu, and Au. Here, in the case of multiple layers, it may have a stacked structure of Ti/Ag/Cu/Au or a stacked structure of Ti/Cu/Au. Among the above reflection layer (17) and the first contact layer (15), the first electrode (25, 25A) may be in direct contact with the first electrode, but is not limited thereto.

상기 제1전극(25,25A)은 제1전극층(20)의 외 측벽과 상기 발광 구조물(10) 사이의 영역에 배치될 수 있다. 상기 제1전극(25,25A)의 둘레에는 상기 보호층(30) 및 투광층(45)이 접촉될 수 있다.The first electrode (25, 25A) may be placed in an area between the outer wall of the first electrode layer (20) and the light-emitting structure (10). The protective layer (30) and the light-transmitting layer (45) may be in contact with the periphery of the first electrode (25, 25A).

보호층(30)은 상기 발광구조물(10)의 하면에 배치되며, 상기 제2반도체층(13)의 하면 및 상기 제1 접촉층(15)과 접촉될 수 있고, 상기 반사층(17)과 접촉될 수 있다.The protective layer (30) is placed on the lower surface of the light-emitting structure (10) and can be in contact with the lower surface of the second semiconductor layer (13) and the first contact layer (15), and can be in contact with the reflective layer (17).

상기 보호층(30) 중 상기 발광 구조물(10)과 수직 방향으로 오버랩되는 내측부는 상기 돌출부(16)의 영역과 수직 방향으로 오버랩되게 배치될 수 있다. 상기 보호층(30)의 외측부는 상기 캡핑층(19)의 접촉부(34,34A) 위로 연장되며 상기 접촉부(34,34A)와 수직 방향으로 오버랩되게 배치된다. 상기 보호층(30)의 외측부는 상기 제1전극(25,25A)과 접촉될 수 있으며, 예컨대 상기 제1전극(25,25A)의 둘레 면에 배치될 수 있다.The inner portion of the protective layer (30) that vertically overlaps with the light-emitting structure (10) may be arranged to vertically overlap with the area of the protrusion (16). The outer portion of the protective layer (30) extends over the contact portion (34, 34A) of the capping layer (19) and is arranged to vertically overlap with the contact portion (34, 34A). The outer portion of the protective layer (30) may be in contact with the first electrode (25, 25A) and may be arranged, for example, on the peripheral surface of the first electrode (25, 25A).

상기 보호층(30)의 내측부는 상기 발광 구조물(10)과 상기 제1전극층(20) 사이에 배치되며, 외측부는 투광층(45)과 상기 캡핑층(19)의 접촉부(34,34A) 사이에 배치될 수 있다. 상기 보호층(30)의 외측부는 상기 발광구조물(10)의 측벽보다 외측 영역으로 연장되어, 습기가 침투하는 것을 방지할 수 있다. The inner part of the protective layer (30) may be arranged between the light-emitting structure (10) and the first electrode layer (20), and the outer part may be arranged between the light-transmitting layer (45) and the contact part (34, 34A) of the capping layer (19). The outer part of the protective layer (30) may extend to an outer region than the side wall of the light-emitting structure (10), thereby preventing moisture from penetrating.

상기 보호층(30)은 채널층, 또는 저 굴절 재질, 아이솔레이션층으로 정의될 수 있다. 상기 보호층(30)은 절연물질로 구현될 수 있으며, 예컨대 산화물 또는 질화물로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상기 보호층(30)은 SiO2, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, AlN 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있다. 상기 보호층(30)은 투명한 재질로 형성될 수 있다.The above protective layer (30) may be defined as a channel layer, a low-refractive material, or an isolation layer. The protective layer (30) may be implemented with an insulating material, and may be implemented with, for example, an oxide or a nitride. For example, the protective layer (30) may be formed by selecting at least one from the group consisting of SiO 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , AlN, etc. The protective layer (30) may be formed with a transparent material.

실시 예에 따른 반도체 칩은 상기 제1 전극층(20)과 상기 제2 전극층(50)을 전기적으로 절연시키는 절연층(41)을 포함할 수 있다. 상기 절연층(41)은 상기 제1 전극층(20)과 상기 제2 전극층(50) 사이에 배치될 수 있다. 상기 절연층(41)의 상부는 상기 보호층(30)에 접촉될 수 있다. 상기 절연층(41)은 예컨대 산화물 또는 질화물로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상기 절연층(41)은 SiO2, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, AlN 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있다. A semiconductor chip according to an embodiment may include an insulating layer (41) that electrically insulates the first electrode layer (20) and the second electrode layer (50). The insulating layer (41) may be disposed between the first electrode layer (20) and the second electrode layer (50). An upper portion of the insulating layer (41) may be in contact with the protective layer (30). The insulating layer (41) may be implemented with, for example, an oxide or a nitride. For example, the insulating layer (41) may be formed by selecting at least one from the group consisting of SiO 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , AlN, etc.

상기 절연층(41)은 예로서 100nm 내지 2000nm의 두께로 형성될 수 있다. 상기 절연층(41)의 두께가 100nm 미만으로 형성될 경우 절연 특성에 문제가 발생 될 수 있으며, 상기 절연층(41)의 두께가 2000nm 초과로 형성될 경우에 후 공정 단계에서 깨짐이 발생 될 수 있다. 상기 절연층(41)은 상기 제1 전극층(20)의 하면과 상기 제2전극층(50)의 상면에 접촉되며, 상기 보호층(30), 캡핑층(19), 접촉층(15), 반사층(17) 각각의 두께보다는 두껍게 형성될 수 있다.The insulating layer (41) may be formed with a thickness of, for example, 100 nm to 2000 nm. If the thickness of the insulating layer (41) is formed to be less than 100 nm, a problem may occur in the insulating properties, and if the thickness of the insulating layer (41) is formed to be more than 2000 nm, breakage may occur in a subsequent process step. The insulating layer (41) contacts the lower surface of the first electrode layer (20) and the upper surface of the second electrode layer (50), and may be formed thicker than the thickness of each of the protective layer (30), the capping layer (19), the contact layer (15), and the reflective layer (17).

상기 제2 전극층(50)은 상기 절연층(41) 아래에 배치된 확산 방지층(52), 상기 확산 방지층(52) 아래에 배치된 본딩층(54) 및 상기 본딩층(54) 아래에 배치된 전도성 지지부재(56)를 포함할 수 있으며, 상기 제1반도체층(11)과 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제2 전극층(50)은 상기 확산 방지층(52), 상기 본딩층(54), 상기 전도성 지지부재(56) 중에서 1 개 또는 2 개를 선택적으로 포함하고, 상기 확산 방지층(52) 또는 상기 본딩층(54) 중 적어도 하나는 형성하지 않을 수 있다.The second electrode layer (50) may include a diffusion barrier layer (52) disposed under the insulating layer (41), a bonding layer (54) disposed under the diffusion barrier layer (52), and a conductive support member (56) disposed under the bonding layer (54), and may be electrically connected to the first semiconductor layer (11). In addition, the second electrode layer (50) may selectively include one or two of the diffusion barrier layer (52), the bonding layer (54), and the conductive support member (56), and at least one of the diffusion barrier layer (52) or the bonding layer (54) may not be formed.

상기 확산 방지층(52)은 Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, Mo 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 확산 방지층(52)은 절연층(41)과 본딩층(54) 사이에서 확산 장벽층으로 기능할 수도 있다. 상기 확산 방지층(52)은 본딩층(54) 및 전도성 지지부재(56)와 전기적으로 연결되고, 상기 제1반도체층(11)과 전기적으로 연결될 수 있다.The diffusion barrier layer (52) may include at least one of Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, and Mo materials. The diffusion barrier layer (52) may also function as a diffusion barrier layer between the insulating layer (41) and the bonding layer (54). The diffusion barrier layer (52) may be electrically connected to the bonding layer (54) and the conductive support member (56), and may be electrically connected to the first semiconductor layer (11).

상기 확산 방지층(52)은 상기 본딩층(54)이 제공되는 공정에서 상기 본딩층(54)에 포함된 물질이 상기 반사층(17) 방향으로 확산되는 것을 방지하는 기능을 수행할 수 있다. 상기 확산 방지층(52)은 상기 본딩층(54)에 포함된 주석(Sn) 등의 물질이 상기 반사층(17)에 영향을 미치는 것을 방지할 수 있다. The above diffusion prevention layer (52) can perform a function of preventing a material included in the bonding layer (54) from diffusing toward the reflection layer (17) in the process of providing the bonding layer (54). The diffusion prevention layer (52) can prevent a material such as tin (Sn) included in the bonding layer (54) from affecting the reflection layer (17).

상기 본딩층(54)은 베리어 금속 또는 본딩 금속 등을 포함하며, 예를 들어, Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd 또는 Ta 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 전도성 지지부재(56)는 실시 예에 따른 상기 발광구조물(10)을 지지하며 방열 기능을 수행할 수 있다. 상기 본딩층(54)은 시드(seed) 층을 포함할 수도 있다.The bonding layer (54) includes a barrier metal or a bonding metal, and may include, for example, at least one of Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd, or Ta. The conductive support member (56) may support the light-emitting structure (10) according to the embodiment and perform a heat dissipation function. The bonding layer (54) may also include a seed layer.

상기 전도성 지지부재(56)는 금속 또는 캐리어 기판 예를 들어, Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu-W 또는 불순물이 주입된 반도체 기판(예: Si, Ge, GaN, GaAs, ZnO, SiC, SiGe 등) 중에서 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 상기 전도성 지지부재(56)은 발광 소자(100)를 지지하기 위한 층으로서, 그 두께는 제2전극층(50)의 두께의 80% 이상이며, 30㎛ 이상으로 형성될 수 있다.The conductive support member (56) may be formed of at least one of a metal or carrier substrate, for example, Ti, Cr, Ni, Al, Pt, Au, W, Cu, Mo, Cu-W, or an impurity-injected semiconductor substrate (for example, Si, Ge, GaN, GaAs, ZnO, SiC, SiGe, etc.). The conductive support member (56) is a layer for supporting the light-emitting element (100), and its thickness is 80% or more of the thickness of the second electrode layer (50), and may be formed to be 30 ㎛ or more.

한편, 제2접촉층(33)은 상기 제1 반도체층(11)의 내부에 배치되고 상기 제1반도체층(11)과 접촉된다. 상기 제2접촉층(33)의 상면은 상기 제1반도체층(11)의 하면보다 위에 배치될 수 있으며, 제1반도체층(11)과 전기적으로 연결되고, 상기 활성층(12) 및 제2반도체층(13)과 절연된다.Meanwhile, the second contact layer (33) is arranged inside the first semiconductor layer (11) and is in contact with the first semiconductor layer (11). The upper surface of the second contact layer (33) may be arranged above the lower surface of the first semiconductor layer (11), is electrically connected to the first semiconductor layer (11), and is insulated from the active layer (12) and the second semiconductor layer (13).

상기 제2 접촉층(33)은 상기 제2 전극층(50)에 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제2 접촉층(33)은 상기 제1전극층(20), 상기 활성층(12) 및 상기 제2반도체층(15)을 관통하여 배치될 수 있다. 상기 제2 접촉층(33)은 상기 발광 구조물(10) 내에 배치된 리세스(recess)(2)에 배치되고, 상기 활성층(12) 및 제2반도체층(15)과 보호층(30)에 의해 절연된다. 상기 제2 접촉층(33)는 복수개가 서로 이격되어 배치될 수 있다. The second contact layer (33) may be electrically connected to the second electrode layer (50). The second contact layer (33) may be arranged to penetrate the first electrode layer (20), the active layer (12), and the second semiconductor layer (15). The second contact layer (33) is arranged in a recess (2) arranged in the light-emitting structure (10), and is insulated by the active layer (12), the second semiconductor layer (15), and the protective layer (30). A plurality of second contact layers (33) may be arranged spaced apart from each other.

상기 제2 접촉층(33)은 제2전극층(50)의 돌기(51)에 연결될 수 있으며, 상기 돌기(51)는 상기 확산 방지층(52)으로부터 돌출될 수 있다. 상기 돌기(51)은 절연층(41) 및 보호층(30) 내에 배치된 홀(41A)을 통해 관통되고, 제1전극층(20)과 절연될 수 있다. The second contact layer (33) may be connected to a protrusion (51) of the second electrode layer (50), and the protrusion (51) may protrude from the diffusion barrier layer (52). The protrusion (51) may penetrate through a hole (41A) arranged in the insulating layer (41) and the protective layer (30), and may be insulated from the first electrode layer (20).

상기 제2 접촉층(33)는 예컨대 Cr, V, W, Ti, Zn, Ni, Cu, Al, Au, Mo 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 돌기(501)는 다른 예로서, 상기 확산 방지층(52) 및 본딩층(54)을 구성하는 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있으며, 이에 대해 한정하지 않는다. 예컨대 상기 돌기(51)은 예로서 Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd 또는 Ta 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.The second contact layer (33) may include, for example, at least one of Cr, V, W, Ti, Zn, Ni, Cu, Al, Au, and Mo. The protrusion (501) may include, as another example, at least one of the materials constituting the diffusion barrier layer (52) and the bonding layer (54), but is not limited thereto. For example, the protrusion (51) may include, for example, at least one of Ti, Au, Sn, Ni, Cr, Ga, In, Bi, Cu, Ag, Nb, Pd, or Ta.

제1전극(25,25A)은 상기 제1 전극층(20)에 전기적으로 연결되며, 상기 발광구조물(10)의 측벽 외측의 영역에 노출될 수 있다. 상기 제1전극(25,25A)은 복수로 배치될 수 있다. 상기 제1전극(25,25A)은 예컨대 Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, Mo 물질 중에서 적어도 하나를 포함할 수 있다. The first electrode (25, 25A) is electrically connected to the first electrode layer (20) and may be exposed to an area outside the side wall of the light-emitting structure (10). The first electrodes (25, 25A) may be arranged in multiples. The first electrodes (25, 25A) may include at least one of, for example, Cu, Ni, Ti, Ti-W, Cr, W, Pt, V, Fe, and Mo materials.

투광층(45)은 상기 발광구조물(10)의 표면을 보호하고, 상기 제1전극(25,25A)과 상기 발광구조물(10)의 사이를 절연시킬 수 있고, 상기 보호층(30)의 주변부와 접촉될 수 있다. 상기 투광층(45)은 상기 발광 구조물(10)을 구성하는 반도체층의 물질보다 낮은 굴절률을 가지며, 광 추출 효율을 개선시켜 줄 수 있다. 상기 투광층(45)은 예컨대 산화물 또는 질화물로 구현될 수 있다. 예를 들어, 상기 투광층(45)은 Si02, SixOy, Si3N4, SixNy, SiOxNy, Al2O3, TiO2, AlN 등으로 이루어진 군에서 적어도 하나가 선택되어 형성될 수 있다. 한편, 상기 투광층(45)은 설계에 따라 생략될 수도 있다. 실시 예에 의하면, 상기 발광구조물(10)은 상기 제1 전극층(20)과 상기 제2 전극층(50)에 의해 구동될 수 있다.The light-transmitting layer (45) can protect the surface of the light-emitting structure (10), insulate between the first electrode (25, 25A) and the light-emitting structure (10), and can be in contact with the periphery of the protective layer (30). The light-transmitting layer (45) has a lower refractive index than the material of the semiconductor layer constituting the light-emitting structure (10), and can improve light extraction efficiency. The light-transmitting layer (45) can be implemented with, for example, an oxide or a nitride. For example, the light-transmitting layer (45) can be formed by selecting at least one from the group consisting of Si0 2 , Si x O y , Si 3 N 4 , Si x N y , SiO x N y , Al 2 O 3 , TiO 2 , AlN, etc. Meanwhile, the light-transmitting layer (45) may be omitted depending on the design. According to an embodiment, the light-emitting structure (10) can be driven by the first electrode layer (20) and the second electrode layer (50).

본 발명에 따른 차량용 조명유닛은 후미등(Tail) & 정지등(Stop) 및 방향지시등(turn signal)에 적용될 수 있다. 즉, 조명이 필요로 하는 다양한 램프장치, 이를테면 차량용 램프, 가정용 조명장치, 산업용 조명장치에 적용이 가능하다. 예컨대 차량용 램프에 적용되는 경우, 헤드라이트, 차량실내조명, 도어스카프, 후방라이트 등에도 적용이 가능하다. 추가적으로 본 발명의 조명장치는 액정표시장치에 적용되는 백라이트 유닛 분야에도 적용 가능하며, 이외에도 현재 개발되어 상용화되었거나 향후 기술발전에 따라 구현 가능한 모든 조명관련 분야에 적용 가능하다고 할 것이다.The vehicle lighting unit according to the present invention can be applied to tail lights, stop lights, and turn signals. In other words, it can be applied to various lamp devices requiring lighting, such as vehicle lamps, household lighting devices, and industrial lighting devices. For example, when applied to vehicle lamps, it can also be applied to headlights, vehicle interior lighting, door scarves, rear lights, etc. In addition, the lighting device of the present invention can be applied to the field of backlight units applied to liquid crystal displays, and in addition, it can be applied to all lighting-related fields that are currently developed and commercialized or can be implemented according to future technological developments.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects, etc. described in the embodiments above are included in at least one embodiment of the present invention, and are not necessarily limited to just one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects, etc. exemplified in each embodiment can be combined or modified and implemented in other embodiments by a person having ordinary knowledge in the field to which the embodiments belong. Therefore, the contents related to such combinations and modifications should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.In addition, although the above description has been made with reference to examples, these are merely examples and do not limit the present invention, and those with ordinary knowledge in the field to which the present invention pertains will recognize that various modifications and applications not exemplified above are possible without departing from the essential characteristics of the present invention. For example, each component specifically shown in the examples can be modified and implemented. And, the differences related to such modifications and applications should be interpreted as being included in the scope of the present invention defined in the appended claims.

110: 회로 기판
130: 반사 부재
132: 측면 반사부
150: 반도체 칩
170: 형광 필름
180,190: 투광성 수지층
191: 입사부
192: 광 추출 구조
193: 외곽 보호부
110: Circuit board
130: Absence of reflection
132: Side reflector
150: Semiconductor Chips
170: Fluorescent film
180,190: Translucent resin layer
191: Admissions Department
192: Light extraction structure
193: Outer Protection Unit

Claims (11)

회로 기판;
상기 회로 기판 상에 배치된 복수의 반도체 칩;
상기 복수의 반도체 칩의 둘레에 배치된 반사 부재;
상기 복수의 반도체 칩과 상기 반사 부재 상에 배치된 형광체층;
상기 형광체층 상에 배치된 투광성 수지층 및
상기 반사 부재 상에 형성되어 상기 형광체층의 측면에 배치되는 측면 반사부를 포함하며,
상기 형광체층 및 상기 투광성 수지층은 상기 복수의 반도체 칩 상부, 및 상기 복수의 반도체 칩 사이의 영역 상에 배치되며,
상기 형광체층은 상기 복수의 반도체 칩을 커버하고,
상기 측면 반사부는 위로 갈수록 너비가 얇아지며,
상기 복수의 반도체 칩 상에 배치된 형광체층은 일체형으로 형성되는, 광원 모듈.
circuit board;
A plurality of semiconductor chips arranged on the circuit board;
A reflective member arranged around the periphery of the plurality of semiconductor chips;
A phosphor layer disposed on the plurality of semiconductor chips and the reflective member;
A light-transmitting resin layer disposed on the above fluorescent layer, and
It includes a side reflector formed on the above reflective member and arranged on the side of the fluorescent layer,
The above fluorescent layer and the light-transmitting resin layer are disposed on the upper portion of the plurality of semiconductor chips and in the region between the plurality of semiconductor chips,
The above fluorescent layer covers the plurality of semiconductor chips,
The side reflector above becomes thinner as it goes up.
A light source module in which the phosphor layers arranged on the plurality of semiconductor chips are formed as an integral body.
제1항에 있어서,
상기 반사 부재는 상기 반도체 칩과 직접 접촉하는, 광원 모듈.
In the first paragraph,
A light source module in which the above reflective member is in direct contact with the semiconductor chip.
제1항에 있어서,
상기 측면 반사부는 상기 형광체층과 직접 접촉하는, 광원 모듈.
In the first paragraph,
A light source module in which the above-mentioned side reflector is in direct contact with the above-mentioned phosphor layer.
제1항에 있어서,
상기 투광성 수지층은 상기 형광체층 상에 배치된 입사부 및 상기 입사부 상에 복수의 돌출부를 갖는 광 추출 구조를 포함하는 광원 모듈.
In the first paragraph,
A light source module wherein the above-mentioned light-transmitting resin layer includes an incident portion arranged on the above-mentioned phosphor layer and a light extraction structure having a plurality of protrusions on the incident portion.
제1항에 있어서,
상기 투광성 수지층은 상기 형광체층의 굴절률 보다 낮은 굴절률을 갖는 수지 재질을 포함하며,
상기 투광성 수지층의 하면은 상기 형광체층의 상면 면적과 같거나 작은 면적을 갖는 광원 모듈.
In the first paragraph,
The above-mentioned light-transmitting resin layer includes a resin material having a lower refractive index than that of the above-mentioned fluorescent layer,
A light source module in which the lower surface of the above-mentioned light-transmitting resin layer has an area equal to or smaller than the upper surface area of the above-mentioned fluorescent material layer.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 반사 부재와 상기 복수의 반도체 칩의 각각의 측면 사이에 배치된 투명한 수지 재질의 광 가이드층을 포함하는 광원 모듈.
In the first paragraph,
A light source module including a light guide layer made of a transparent resin material arranged between the reflective member and each side of the plurality of semiconductor chips.
제1항에 있어서,
상기 복수의 반도체 칩 각각의 전극을 노출하기 위해 상기 투광성 수지층 및 상기 형광체층에 배치된 제1개구부, 및 상기 반사 부재 상에 배치되며 상기 회로 기판의 상부를 노출하는 제2개구부를 포함하며,
상기 회로 기판은 상기 복수의 반도체 칩 각각의 아래에 배치된 복수의 제1리드 전극, 및 상기 제2개구부에 노출되며 상기 복수의 반도체 칩 각각의 전극과 와이어로 연결된 제2리드 전극을 포함하며,
상기 복수의 반도체 칩 각각은 상기 제1,2리드 전극과 전기적으로 연결되는 광원 모듈.
In the first paragraph,
A first opening is disposed on the light-transmitting resin layer and the phosphor layer to expose the electrodes of each of the plurality of semiconductor chips, and a second opening is disposed on the reflective member and exposes the upper portion of the circuit board.
The circuit board includes a plurality of first lead electrodes arranged below each of the plurality of semiconductor chips, and a second lead electrode exposed through the second opening and connected to the electrodes of each of the plurality of semiconductor chips by wires.
Each of the above plurality of semiconductor chips is a light source module electrically connected to the first and second lead electrodes.
제1항에 있어서,
상기 측면 반사부는 상기 투광성 수지층과 상기 회로 기판 상면의 수직 방향으로 중첩하지 않는, 광원 모듈.
In the first paragraph,
A light source module, wherein the side reflector does not overlap the light-transmitting resin layer in the vertical direction of the upper surface of the circuit board.
적어도 하나의 광원 모듈;
상기 광원 모듈 상에 이너 렌즈; 및
상기 이너 렌즈 상에 아우터 렌즈를 포함하며,
상기 광원 모듈은,
회로 기판;
상기 회로 기판 상에 배치된 복수의 반도체 칩;
상기 복수의 반도체 칩의 둘레에 배치된 반사 부재;
상기 복수의 반도체 칩과 상기 반사 부재 상에 배치된 형광체층;
상기 형광체층 상에 배치된 투광성 수지층; 및
상기 반사 부재 상에 형성되어 형광체층의 측면에 배치되는 측면 반사부를 포함하며,
상기 형광체층 및 상기 투광성 수지층은 상기 복수의 반도체 칩 상부, 및 상기 복수의 반도체 칩 사이의 영역 상에 배치되며,
상기 형광체층은 상기 복수의 반도체 칩을 커버하고,
상기 측면 반사부는 위로 갈수록 너비가 얇아지며,
상기 복수의 반도체 칩 상에 배치된 형광체층은 일체형으로 형성되는 광원 모듈을 포함하는 조명 장치.
At least one light source module;
Inner lens on the above light source module; and
An outer lens is included on the inner lens,
The above light source module,
circuit board;
A plurality of semiconductor chips arranged on the circuit board;
A reflective member arranged around the periphery of the plurality of semiconductor chips;
A phosphor layer disposed on the plurality of semiconductor chips and the reflective member;
A light-transmitting resin layer disposed on the above fluorescent layer; and
It includes a side reflector formed on the above reflective member and arranged on the side of the fluorescent layer,
The above fluorescent layer and the light-transmitting resin layer are disposed on the upper portion of the plurality of semiconductor chips and in the region between the plurality of semiconductor chips,
The above fluorescent layer covers the plurality of semiconductor chips,
The side reflector above becomes thinner as it goes up.
A lighting device including a light source module in which the phosphor layers arranged on the plurality of semiconductor chips are formed as an integral part.
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