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KR0139923B1 - 가역성 감열 기록매체용 조성물 - Google Patents

가역성 감열 기록매체용 조성물

Info

Publication number
KR0139923B1
KR0139923B1 KR1019900702579A KR900702579A KR0139923B1 KR 0139923 B1 KR0139923 B1 KR 0139923B1 KR 1019900702579 A KR1019900702579 A KR 1019900702579A KR 900702579 A KR900702579 A KR 900702579A KR 0139923 B1 KR0139923 B1 KR 0139923B1
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KR
South Korea
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Prior art date
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KR1019900702579A
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Inventor
니로오 와다나베
도요꼬 시미즈
요시히로 히노
Original Assignee
스즈끼 가즈오
돕빵 인사쯔 가부시끼가이샤
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Publication date
Application filed by 스즈끼 가즈오, 돕빵 인사쯔 가부시끼가이샤 filed Critical 스즈끼 가즈오
Publication of KR920700112A publication Critical patent/KR920700112A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR0139923B1 publication Critical patent/KR0139923B1/ko

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Abstract

페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나를 갖고, 그리고 아미노기를 관능기로서 또는 염화합물의 일부로서 갖는 양성화합물과, 로이코 화합물을 포함하는 가역성 감열기록매체용 조성물이다.

Description

[발명의 명칭]
가역성 감열 기록매체용 조성물
[기술분야]
본 발명은 상형성 재료용 조성물에 관한 것이고, 더욱 자세히는, 열에너지의 차이로 인하여, 상형성 및 소거를 행하는 가역성 감열기록매체용 조성물에 관한 것이다.
[배경분야]
종래부터, 가역성 화상 재료에 대하여는, 예를들면 특개소 58-191190호, 특개소 60-193691호, 미국특허명세서 3,666,525호, 특개소 54-119377호, 특개소 63-39377호, 특개소 63-41186호, 미국특허명세서 4,028,118호, 특개소 50-81157호 또는 특개소 50-105555호 각 공보에 여러가지 개시되어 있다.
그러나, 상기 문헌 중 미국특허명세서 4,028,118, 특개소 50-81157호 및 50-105555호 각 공보에 개시되어 있는 방법에 있어서는, 형성되는 형상은 온도에 의하여 변동되는 것이고 화상의 메모리성에 있어서는 불충분한 것이었다. 또 특개소 58-191190호, 특개소 60-133691호 및 미국특허명세서 3,666,525호 각 공보에 기재되어 있는 것은, 발색제, 현색제 및 바인더로 이루어지는 기록층을 설치하여 이루어지고, 필요에 따라 저증기압 용제 또는 열 용융물질을 첨가하여 이루어지는 것으로서, 그의 발색(발色)은 열에너지를 사용하여 이루어지고, 소색(消色)은 물, 수증기 또는 어떤 종류의 유기용제에 의하여 행하는 것이고, 열 에너지의 제어만으로 발색·소색을 되풀이하는 것과는 다르다.
또 특개소 54-119377호, 특개소 63-39377호 및 특개소 63-41186호 각 공보에 기재되어 있는 것은, 수지 모재(母材)와 그 수지모재중에 분산된 유기 저분자 물질을 주성분으로 하는 감열층을 갖는 것이고, 기록방법으로서는, 열에너지의 제어에 의하여 감열층의 투명도를 가역적으로 변화시켜 화상형성 및 소거를 행하는 것이다. 즉 화학적으로는 발색·소색하여 화상형성 및 소거를 행하는 것은 아니다.
이상과 같이, 열에너지의 제어만으로, 화학적으로 발색·소색을 행하는 계는, 종래기술에는 발견되지 않고, 아직 실용화되어 있지 않다.
따라서 본 발명이 해결하려고 하는 과제는 종래기술에는 없는 열 에너지의 제어만으로, 화학적으로 발색·소색하는 메모리성이 있는 감열 기록매체 및 이에 적합한 조성물을 제공하는 것에 있다.
[발명의 개시]
본 발명등은, 상기 과제에 비추어 보아서 예의 연구한 결과, 본 발명의 상기 목적은, 페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나를 갖고, 그리고 아미노기를 관능기로서 또는 염화합물의 일부로서 갖는 양성화합물과, 로이코 화합물을 포함하는 가역성 감열 기록매체용 조성물을 제공함으로써, 특히 상술한 양성화합물이 페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나와 아미노기를 갖고 그리고 다음의 일반식[1]으로 표시되는 화합물 또는, 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/또는 카르복실기를 갖는 화합물과, 지방족 아민과의 염 또는 착염일때에 달성되는 것을 발견하였다.
[식중, X는 수산기 또는 카르복실기를 표시하고, R는 수소원자 또는 수산기를 표시한다.]
본 발명에 있어서 페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나를 갖고, 그리고 아미노기를 관능기로서 또는 염화합물의 일부로서 갖는 양성화합물로서는, 바람직하기는 페놀성, 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나와 아미노기를 갖고 그리고 상기 일반식[1]로 표시되는 화합물, 또는 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/ 또는 카르복실기를 갖는 화합물과 지방족 아민과의 염 또는 착염을 들수 있다.
페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나와 아미노기를 갖고, 그리고 전기 일반식[1]으로 표시도는 양성 화합물로서는, 바람직하가는, 하기 일반식[2]으로 표시되는 아미노 페놀 또는 아미노 벤조 또는 하기 일반식[3]으로 표시되는 히드록시 아미노 벤조산을 들수 있다.
(식중, X는 수산기 또는 카르복실기를 표시한다.)
상기 일반식[2]으로 표시되는 아미노 페놀 또는 아미조 벤조산으로서는, 구체적으로 2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀등의 아미노페놀, 2-아미노벤조산, 3-아미노벤조산, 4-아미노벤조산등의 아미노 벤조산을 들수가 있다.
일반식[3]으로 표시되는 히드록시 아미노 벤조산으로서는, 예를들면 2-히드록시-3-아미노 벤조산, 2-아미노-3-히드록시 벤조산, 3-아미노-4-히드록시-4-아미노 벤조산, 2-히드록시-6-아미노 벤조산, 3-아미노-4-히드록시 벤조산, 3-히드록시-5-아미노 벤조산을 들수가 있다.
또, 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/또는 카르복실기를 갖는 화합물과 지방족 아민과의 염 또는 착염을 형성하는 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/또는 카르복실기를 갖는 화합물로서는, 바람직하기는 하기 일반성 [A] 또는 [B]로 표시되는 화합물 및 이들의 화합물의 에스테르 화합물을 들수 있다.
[식중, n는 1∼3의 정수, 바람직하게는 2 또는 3을 표시한다.)
(식중, R1은 수소원자 또는 메틸기를 표시하고, n1은 0∼6의 정수를 표시한다.)
상기 일반식[A]으로 표시되는 화합물로서 구체적으로 이하와 같은 것을 들수 있다.
n=1;2-히드록시 벤조산, 3-히드록시 벤조산, 4-히드록시 벤조산등.
n=2;3,4 - 디히드록시 벤조산
3,5 - 디히드록시 벤조산
2,3 - 디히드록시 벤조산
2,4 - 디히드록시 벤조산
2,5 - 디히드록시 벤조산
2,6 - 디히드록시 벤조산
3,6 - 디히드록시 벤조산
4,5 - 디히드록시 벤조산
4,6 - 디히드록시 벤조산
4 - 디히드록시 벤조산
5 - 디히드록시 벤조산
n=3; 갈산(gallic acid)
또 상기 일반식[A]으로 표시되는 화합물의 에스테르화합물로서는, 구체적으로는 갈산헥실, 갈산헵틸, 갈산옥틸, 갈산노닐, 갈산데실, 갈산운데실, 갈산라우릴, 갈산트리데실, 갈산테트라데실, 갈산펜타데실, 갈산세틸, 갈산헵타데실, 갈산스테아릴 등을 들수 있다.
또 상기 일반식[B]으로 표시되는 화합물로서는, 구체적으로 하기의 것을 들수 있다.
· 2,2-비스(4- 히드록시페닐) 에탄산
· 2,2-비스(4- 히드록시페닐) 프로피온산
· 3,3-비스(4- 히드록시페닐) 프로피온산
· 4,4-비스(4- 히드록시페닐) 부탄산
· 4,4-비스(4- 히드록시페닐) 헵탄산
· 5,5-비스(4- 히드록시페닐) 펜탄산
· 5,5-비스(4- 히드록시페닐) 헵산산
· 6,6-비스(4- 히드록시페닐) 헵탄산
· 7,7-비스(4- 히드록시페닐) 헵탄산
· 8,8-비스(4- 히드록시페닐) 옥탄산
· 7,7-비스(4- 히드록시페닐) 옥탄산
· 8,8-비스(4- 히드록시페닐) 노난산
본발명에 있어서 상기의 염 또는 착염을 형성하는 지방족 아민으로서는, 하기 일반식[C] 또는 [D]로 표시되는 화합물을 들수 있다.
(식중, R2는 탄소원자수 8개 이상의 알킬기를 표시한다.)
(식중, R33는 수소원자, 알킬기, 할로겐원자 또는 알콕시기를 표시하고, n2는 1∼18의 정수를 나타낸다.)
상기 일반식[C]으로 표시되는 지방족 아민으로서는, 구체적으로 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 운데실아민, 라우릴아민, 프리데실아민, 테트라데실아민, 펜타데실아민, 헵타데실아민, 세틸아민, 스테아릴아민, 헥실아민, 헵틸아민등을 들수 있고, 일반식[D]으로 표시되는 지방족 아민으로서는 구체적으로 벤질아민, 2-페닐에틸아민, 3-페닐프로필아민, 4-페닐부틸아민, 5-페닐펜틸아민, 6-페닐헥실아민, 7-페닐헵틸아민, 8-페닐옥틸아민, 9-페닐노닐아민, 10-페닐데실아민, 11-페닐운데실아민, 12-페닐도데실아민, 14-페닐테트라데실아민, 15-페닐펜타데실아민, 16-페닐헥사데실아민, 17-페닐헵타데실아민, 18-페닐옥타데실아민, 메틸벤질아민, 2-트리에틸아민, 3-톨릴프로필아민, 4-톨릴부틸아민, 5-톨릴펜틸아민, 6-톨릴헥실아민, 7-톨릴헵틸아민, 8-톨틸옥틸아민, 9-톨릴노릴아민, 10-톨릴데실아민, 11-톨릴운데실아민, 12-톨릴도데실아민, 13-톨릴트리데실아민, 14-톨릴데트라데실아민, 15-톨릴펜타데실아민, 16-톨릴헥사데실아민, 17- 톨릴헵타데실아민, 18-톨릴옥타데실아민, 클로로벤질아민, 2-클로로페닐에틸아민, 브로모벤질아민, 2-브로모페닐에틸아민, 메톡시벤질아민, 에톡시벤질아민등을 들수 있다.
본 발명에 있어서 상기 일반식[C]에서의 R2의 탄소원자수가 7 이하의 경우는 융점이 높아지고 소색하기 어려운 경우가 있고 바람직하지 않다.
본 발명에 있어서 상기와 같은 염 또는 착염으로서 바람직하기는 하기 일반식[4]으로 표시되는 디히드록시 벤조산과 탄소원자수 8이상의 알킬기를 갖는 고급지방족 아민의 염, 하기 일반식[5]으로 표시되는 갈산과 고급지방족 아민의 염, 하기 일반식[6]으로 표시되는 히드록시 벤조산, 또는 디히드록시 벤조산과 지방족 아민의 염, 하기 일반식[7]으로 표시되는 갈산과 지방족 아민의 염, 하기 일반식[8]으로 표시되는 비스(히드록시페닐) 아세트산, 또는 비스(히드록시페닐) 부티르산과 고급지방족 아민의 염, 하기 일반식[9]으로 표시되는 2개의 히디록시 페닐기를 갖는 지방족 카르복실산과 지방족아민의 염, 하기 일반식[10]으로 표시되는 갈산 세스테르와 고급지방족 아민의 착염을 들수 있다.
(식중, R4는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
(식중, R5는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
(식중, R6는 수소원자, 알킬기, 할로겐원자, 또는 알콕시기, n2는 1 또는 2, n3는 1에서 18의 정수를 표시한다.)
(식중, R7는 수소원자, 알킬기, 할로겐원자, 또는 알콕시기, n4는 1에서 18의 정수를 표시한다.)
(식중, R8는 수소원자 또는 메틸기, R9는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
(식중, R10은 수소원자 또는 메틸기, R11는 수소원자, 알킬기, 할로겐 원자 또는 알콕시기, n5는 0∼6의 정수, n6은 1∼18의 정수를 표시한다.)
(단, R12및 R13은 각각 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
본 발명의 조성물에 있어서, 상기 양성화합물과 같이 사용되는 로이코화합물의 구체예로서는 크리스탈 바이올렛 락톤, 3-인돌리노-3-P-디메틸아미노페닐-6-디메틸아미노프탈리드, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 2-(2-플루오로페닐아미노)-6-디에틸아미노플루오란, 2-(2-플루오로페닐아미노)-6-디-n-부틸아미노를루오란, 3-디에틸아미노-7-시클로헥실아미노를루오란, 3-디에틸아미노-5-메틸-7-t부틸플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-아닐리를루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-P-부틸아닐리노를루오란, 3-시클로헥실아미노-6-클로로를루오란, 2-아닐리노-3-메틸-6-(N-에틸-n-톨루이디노)-를루오란, 3-티롤리디노-6-메틸-7-아닐리노를루오란, 3-피롤리디노-7-시클로헥실아미노를루오란, 3-N-메틸시클로헥실아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란, 3-N-에틸펜틸아미노-6-메틸-7-아닐리노플루오란등을 들수 있다.
또, 본 발명의 조성물은 더욱 바인더를 함유할 수 있지만, 이와 같은 바인더로서는 물 또는 유기용제에 용해되는 일반적으로 쓰이는 고분자재료를 사용할 수가 있다. 이와같은 고분가 재료로서는 구체적으로, 폴리비닐 알코올, 메틸셀룰로스, 에틸셀룰로스, 아세트산셀룰로스, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 선상 포화 폴리에스테르, 폴리메타크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸등의 메타크릴수지의 단독 또는 공(共) 중합물, 폴리우레탄, 폴리부티랄, 니트로셀룰로스등의 열가소성수지가 사용된다.
본 발명의 조성물에 있어서 상기와 같은 각 성분의 함유량으로서는 본 발명의 양성화합물 1중량부에 대하여, 로이코화합물 0.1∼1 중량부이고, 또 바인더 2중량부이하가 바람직하다.
다음에 본 발명의 조성물을 사용하여 가역성 감열기록매체를 형성할 때, 지지체위에 기록층을 도포하는 방법으로서는, 구체적으로 물 또는 유기용제로 균일하게 분산 또는 용해한 도포액중에 바인더를 용해시켜, 필요에 따라서,액성 개량제로서 증점제나 백색안료등을 첨가해서 이루어지는 기록층 도포액을 종이, 플라스틱 필름 또는 쉬트등의 위에 바아(bar) 도포, 블레이드(blade) 도포, 에어 나이프(air-knife) 도포, 그래비아 (gravure) 도포, 로울(roll) 코오팅등의 도포법에 의해 도포, 건조하여 기록층을 설치하는 방법이 사용된다. 이 경우, 건조후의 도포량으로서는 4∼10g/㎡이 적당하다.
더욱 지지체위에 로이코화합물, 본 발명의 양성화합물, 및 바인더로 이루어지는 기록층상에 서멀헤드 매치성(서멜헤드로의 가스부착, 점착)의 개량, 또는 기록층의 내구성을 부여할 목적으로 보호층을 설치하더라도 하등 본 발명의 기록체의 특성을 깨뜨리는 일은 없다. 예를 들면, 보호층 성분으로서, 무색무기안료 또는 왁스류의 필러와 해당 기록층 바인더에 사용하는 열가소성수지, 또는 열경화성수지, 자외선 경화수지와의 조합으로 사용된다.
본 발명에 의한 화상형성 또는 상의 소거방법은, 열에 의한 것이고 서멀 프린터, 열반사복사장치, 한스탠퍼나 열로울등의 장치를 사용하여 행할 수가 있다.
본 발명의 조성물로부터 얻어진 가역성 감열 기록체의 기록, 즉 화상형성 및 소거원리는 이하와 같다. 즉 페놀성 화합물은 열 에너지에 의하여 무색의 로이코 화합물의 락톤환을 개환(開環)시켜 무색에서 유색으로 색변화시킨다. 그러나, 락톤환을 개환하여 형성된 유기 화합물은, 염기성물질이 접촉하면 개환(開環)하여 본래 락톤환이 있는 무색의 화합물로 되돌아간다.
페놀성 수산기 및 카르복실기를 적어도 하나를 갖고, 동시에 아미노기를 관능기로서 또는 염화합물의 일부로서 갖는 양성화합물, 즉, 본 발명의 현·감색제는, 무색의 로이코 화합물에 대하여 열에너지의 제어만으로, 락톤환을 개환시켜 유색화합물로 하거나, 페환시켜 무색의 로이코 화합물로 되돌아 가게할 수 있다. 이 현상은, 현·감색제의 구조와 로이코 화합물의 가역성에 의한 것이다. 즉, 현·감색제는, 상기한 바와 같이 양성화합물이고, 열의 작용에 의하여 산의 성질를 표시하거나, 염기의 성질을 표시하기 위하여 로이코 화합물에 대하여, 현색제로 되거나, 감색제로되거나 하기 때문이다.
무색의 로이코 화합물과, 현·감색제를 포함하는 본 발명의 조성물로 이루워지는 기록층을 설치한 기록체는, 열에너지(h1), 예를 들면 고온(300℃이상), 단시간(수밀리초∼수백밀리초)의 가열에 의하여 페놀성 수산기 또는 카르복실기가 로이코화합물과 반응하여 유색의 화상을 형성한다.
이 화상은, 별도의 열에너지(h2), 예를 들면 저온(현·소색제의 융점부근 또는 그 이상의 온도, 예를 들면 약100∼200℃) 장시간(1초이상)의 가열로 인하여 아미노기의 작용에 의하여 소거가능하고, 화상을 소거한 해당화상 형성체에 재차 열에너지(h1)을 작용시키면, 다시 화상이 형성된다. 이 화상의 형성과 소거는 되풀이 행할 수 있다. 이 화상 형성체는 열에너지을 작용시키지 않는 한, 화상형성 상태, 또는 화상소거 상태를 간직하고 있다. 형성한 화상을 소거한 후의 배경은, 해당 화상형성전의 배경의 상태와 비교하여, 하등 손색이 없는 것이고, 가역성 기록매체로서 우수한 것이다.
발명을 실시하기 위한 최량의 형태.
이하, 실시예를 들어 구체적으로 본 발명을 설명한다.
더욱, 실시예중의 [부]는 중량부를 표시한다.
[실시예 1]
A 액
B 액
상기 성분 A액 및 B액을 샌드밀로, 각각 1시간 분쇄하고 분산한후, 이들의 분산액을 A액 1부에 대하여 B액 4부의 비율로 충분히 혼합하여 기록층 도포액을 조제하였다. 이 도포액을 60g/㎡의 상질(上質) 종이 위에 메이어(Mayer)바를 사용하여, 건조중량이 6g/㎡ 되도록 도포, 건조하여 표면에 덮어 씌운것이 없는 가역성 감열 기록 쉬트(1)를 작성하였다.
또, 상기 감열 기록쉬트(1)의 제작에서 B액에 있어서 본 발명의 현·감색제를 표1에 표시하는 화합물로 바꾼외는 마찬가지로 하여 감열기록쉬트(2-9)를 제작하였다.
단, 감열기록쉬트(9)의 작성에 있어서는 B액에 더욱 4,4'-이소프로필리덴페놀을 5부 가하였다.
이렇게 하여 제작한 기록쉬트(1-9)는 각각을 도오시바제 서멀 시뮬레이터(인자(印字) 조건 : 인가전압 0.40W/dot 펄스폭 2.5ms ON/OFf)를 사용하여 인자한 즉 모두 선명하고 그리고 고농도의 청색의 인자상을 얻을수가 있었다.
다음에 전면에 120℃로 가열되어 있는 열인판으로 1초간 압착한 즉 인자상은 소거되고, 처음 기록층의 상태로 되돌아 갔다. 다시 마찬가지의 인자, 소거를 행한 즉 재현성이 있고 가역성 감열기록매체로서 극히 우수한 것임을 확인하게 되었다.
[실시예 2]
A 액
B 액
상기 성분 A액 및 B액을 볼밀로, 각각 20 시간 분쇄, 분산하였다. 그후, 이들의 분산액을 A액 2부에 대하여, B액 5부의 비율로 충분히 혼합하여 기록층 도포액을 조제하였다.
이 도포액을 60g/㎡의 상질 종이위에 메이어(Mayer) 바를 사용하여 건조중량이 6g/㎡되도록 도포, 건조하여 배경, 흐림이 없는 가역성 감열 기록쉬트(11)를 제작하였다.
또 상기 감열기록쉬트(11)의 제작에 있어서, B액의 본 발명의 현·감색제를 표2에 표시하는 화합물로 바꾼 이외는 마찬가지로 하여 감열 기록쉬트(12-19)를 제작하였다.
더욱, 감열기록쉬트(19)의 제작에 있어서는, B액에 더욱 4,4'-메틸-비스(히드록시페닐) 아세테이트를 8부 첨가 하였다.
이렇게 제작한 가역성 감열 기록쉬트(11-19)의 각각읠 실시예1과 마찬가지로 인자, 소거를 되풀이하여, 그 효과를 확인한 후, 실시예1과 마찬가지로 인자, 소거성이 얻어지고 그리고 재현성도 양호하였다.
단, 인자의 색상은 선명하고 그리고 고농도의 흑색이다.
[실시예 3]
A 액
B 액
C 액
상기 성분 A액, B액 및 C액을 샌드밀로서 각각 2시간 분쇄, 분산하였다.
그후 이들의 분산액을 A액 3부에 대하여 B액 20부의 비율로 충분히 혼합하여 기록층 도포액을 조제하였다.
이 도포액을 188㎛의 백색폴리에스테르 쉬트상의 바코더(Bar coater)를 사용하여 건조막 두께가 6㎛ 되도록 도포, 건조하여 기록층을 설치하였다. 이 기록층 위에 분산한 C액을 바코터를 사용하여 건조막 두께가 3㎛에 이르도록 도포 건조하여 보호층을 설치하여 가역성 감열기록쉬트(101)를 제작하였다.
이 기록쉬트는 배경흐림이 없고 백색도가 높은 것이었다.
또, 상기 감열기록쉬트(101)의 제작에 있어서, B액의 본 발명의 현·감색제를 표3에 표시하는 화합물로 바꾼 이외는 마찬가지로하여 감열기록쉬트(102∼109)를 제작하였다. 더욱, 감열기록 쉬트(109)의 제작에 있어서, B액에 더욱 갈산스테아릴을 4부 첨가하였다. 이렇게 하여 제작한 것은 기록쉬트(101∼109)의 각각을 도오시바제 서멀시뮬레이션(인자 조건 : 인가전압 0.45W/dot, 펄스폭 2.5ms ON/OFF)를 사용하여 인자(印字)한 즉, 선명 그리고 고농도(반사농도: 1.5)의 흑색인자상을 얻을 수가 있다. 다음에 인자한 기록쉬트를 롤(roll)온도 130℃의 열롤기(hot roll press)에 통한 즉, 인자상은 소거되고, 원 기록층의 상태로 되돌아 갖다. 다시 마찬가지의 인자, 소거를 행한즉 재현성이 있고, 가역성
감열기록매체로서 극히 우수한 것임이 확인되었다.
본 발명의 조성물로부터 얻어지는 가역성 감열 기록매체는, 열에너지의 제어안으로 간단히 화상형성 및 소거를 행하는 것이고, 화학적으로 발색, 소색하는 계(系)이다. 이 때문에 고 콘트라스이고 그리고 선명한 화상을 형성할 수가 있고, 또 로이코 화합물을 바꿈으로써 여러 가지 색상을 표시할 수 있다.
더욱 화상형성, 소거는 되풀이 행하는 것도 가능하다.
[산업상의 이용가능성]
이상과 같이 본 발명의 가역성 감열 기록매체용 조성물은 디스플레이나 전자흑판은 말할것도 없이, 위조방지가 필요한 카아드류, 및 프리페이드(Prepaid)카아드등의 잔고표시 매체로서 이용할 수가 있고, 특히, 정기권등에 인쇄·도포하여, 입장시 및 퇴장시에 가역적으로 발소색시킴으로써 부정 입장을 방지하는 등의 방법에 적용될 수 있다.

Claims (15)

  1. 페놀성수산기 및 카르복실기의 적어도 하나를 갖고, 그리고 아미노기를 관능기로서 또는 염화물의 일부로서 갖는 양성화합물과 로이코 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 가역성 감열 기록매체용 조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 양성화합물이 페놀성 수산기 및 카르복실기의 적어도 하나와 아미노기를 갖고, 그리고 하기 일반식[1]으로 표시되는 화합물임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, X는 수산기 또는 카르복실기를 나타내고, R는 수소원자 또는 수산기를 표시한다.)
  3. 3. 제 2 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[2]으로 표시되는 아미노페놀 또는 아미노벤조산임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, X는 수산기 또는 카르복실기를 표시한다.)
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[3]으로 표시되는 히드록시 아미노벤조산임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 양성 화합물이, 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/또는 카르복실기를 갖는 화합물과, 지방족 아민의 염 또는 착염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 페놀성 수산기 및/또는 카르복실기를 갖는 화합물이, 하기 일반식[A] 또는 [B]로 표시되는 화합물 및 이들의 에스테르 화합물로부터 선택되는 일종임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, n는 1∼3의 정수를 표시한다.)
    (식중, R1수소원자 또는 메틸기를 표시하고, n1은 0∼6의 정수를 표시한다.)
  7. 제 5 항에 있어서, 상기 지방족 아민이 하기 일반식[C] 또는 [D]로 표시되는 화합물로부터 선택되는 일종임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, R2는 탄소원자수 8개 이상의 알킬기를 표시한다.)
    (식중, R3는 수소원자, 알킬기, 할로겐원자 또는 알콕시기를 나타내고, n2는 1∼18의 정수를 표시한다.)
  8. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[4]으로 표시되는 디히드록시벤조산과 탄소원자수 8이상의 알킬기를 갖는 고급지방족 아민의 염임을 특징으로 하는 가역성 감열 기록매체용 조성물.
    (식중, R4는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
  9. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[5]으로 표시되는 갈산과 고급지방족 아민의 염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, R5는 탄소원자수 8 이상의 알킬기를 표시한다.)
  10. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[6]으로 표시되는 히도록시 벤조한, 또는 디히드록시 벤조산과 지방족 아민의 염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, R6는 수소원자, 알킬기, 할로겐원자 또는 알콕시기, n2는 1또는 2, n3는 1∼18의 정수를 표시한다.)
  11. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[7]으로 표시되는 갈산과 지방족 아민의 염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, R은 수소원자, 알킬기, 할로겐원자 또는 알콕시기, n는 1∼18의 정수를 나타낸다.)
  12. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[8]으로 표시되는 비스(히드록시 페닐) 아세트산, 또는 비스(히드록시페닐)부티르산과 고급지방족 아민의 염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (식중, R8은 수소원자 또는 메틸기, R9는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
  13. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[9]으로 표시되는 2개의 히드록시 페닐기를 갖는 지방족 카르복실산과 지방족 아민의 염임을 특징으로하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (단, R10은 수소원자 또는 메틸기, R11은 수소원자, 알킬기, 할로겐원자 또는 알콕시기, n5는 0∼6의 정수, n6은 1∼18의 정수를 표시한다.)
  14. 제 5 항에 있어서, 상기 양성화합물이 하기 일반식[10]으로 표시되는 갈산에스테르와 고급지방족 아민의 착염임을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
    (단, R12및 R12는 탄소원자수 8이상의 알킬기를 표시한다.)
  15. 제 1 항에 있어서, 바인더를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 가역성 감열기록매체용 조성물.
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