JP4240531B2 - ベンゾイル誘導体 - Google Patents

Description

ベンゾイル誘導体
本発明は除草作用を有する新規のベンゾイル誘導体、このベンゾイル誘導体の製造法、これらを含有する組成物、および該誘導体または該誘導体を含有する薬剤の、雑草を防除するための使用法に関する。
除草作用を有する２−アロイルシクロヘキサンジオンは、ＥＰ９０２６２、ＥＰ１３５１９１、ＥＰ１８６１１８、ＥＰ１８６１１９、ＥＰ１８６１２０、ＥＰ３１９０７５、ＷＯ９００５７１２、Ｊ０３０５２８６２、Ｊ０３１２０２０２などの文献に開示されている。
しかしながら公知化合物の除草特性および農作物によるこれらに対する耐性は限られた程度においてのみ満足とされている。
しかるに本発明は、より優れた特性を有する新規の２−アロイルシクロヘキサンジオン誘導体を提供することをその課題とする。
本発明の上記課題は、式Ｉ

で表され、式中
Ｌ、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシを意味し、これら各基は非置換であっても、１−５個のハロゲン原子またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシ基により置換されていてもよく、またはそれぞれハロゲン、シアノ、ニトロ、−（Ｙ）_n−Ｓ（Ｏ）_mＲ⁷で表される基または−（Ｙ）_n−ＣＯ−Ｒ⁸で表される基を意味し、
Ｚが酸素、硫黄および窒素から選択される１〜３個のヘテロ原子を有し、非置換であっても、ハロゲン、シアノ、ニトロ、−ＣＯ−Ｒ⁸、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノにより置換されてもよい、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルによって置換されているフェニルによって置換されてもよい、または互変異性状態のヒドロキシル基として存在可能なオキソ基によって置換されてもよい、またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換された縮合フェニル環と共に、または縮合炭素環と共に、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換された縮合した第二の複素環と共に二環化合物を形成する、５員または６員の複素環式飽和または不飽和基を意味し、
ＹがＯまたはＮＲ⁹を意味し、
ｎが０または１であり、
ｍが０、１または２であり、
Ｒ⁷がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルまたはＮＲ⁹Ｒ¹⁰を意味し、
Ｒ⁸がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはＮＲ⁹Ｒ¹⁰を意味し、
Ｒ⁹が水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルを意味し、
Ｒ¹⁰がＣ₁−Ｃ₄アルキルを意味し、
Ｑが２位で結合し、式ＩＩ

で表され、式中
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴およびＲ⁶がそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルを、
Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたは−ＣＯＯＲ¹⁰で示される基を、
Ｒ³が水素、または１−３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオおよびＣ₁−Ｃ₄アルコキシを有しても良いＣ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₃−Ｃ₆シクロアルキルを、または
Ｒ³がテトラヒドロピラン−３−イル、テトラヒドロピラン−４−イル、またはテトラヒドロチオピラン−３−イルをそれぞれ意味するか、もしくは
Ｒ³とＲ⁵が合体して結合または３員から６員までの炭素環基を形成する、シクロヘキサン−１，３−ジオン環を意味することを特徴とする、新規のベンゾイル誘導体、または化合物Ｉの農業上使用可能な塩により、達成されることを本発明者らが見出した。
式Ｉａ

で表され、式中ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、ＱおよびＺが上記の意味を有する、ベンゾイル誘導体が好ましい。
他の好ましいベンゾイル誘導体には、式Ｉｂ

で表され、式中ＬおよびＭがそれぞれＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、ＱおよびＺが請求項１に記載の意味を有する化合物がある。
式Ｉｃの化合物は、式ＩＩの化合物を式ＩＩＩの安息香酸誘導体と反応させ、得られた生成物を転移反応に付することにより、式Ｉｃのベンゾイル誘導体として得られる。
式1

上記式中、Ｔはハロゲンを、Ｌ、Ｍ、Ｚは上記定義による各基を意味する。
反応経路の第一工程、つまりアシル化は、公知方法により、例えば式ＩＩＩ（Ｔ＝Ｃｌ）の塩化アシルをシクロヘキサン−１，３−ジオンＩＩの溶液または懸濁液に、補助塩基の存在下に添加することにより行われる。反応体および補助塩基をほぼ当モル量で用いると好ましい。場合によってはＩＩに対して助剤塩基をやや過剰に、例えば１．２〜１．５モル当量として用いることも有効である。
適する補助塩基としては第三アルキルアミン、ピリジンまたはアルカリ金属炭酸塩が用いられ、溶媒としては、例えば塩化メチレン、ジエチルエーテル、トルエンまたは酢酸エチルが用いられる。
塩化アシルの添加の間に、反応混合物を０−１０℃に冷却すると好ましく、次いで反応が完了するまで２０−１００℃、好ましくは２５−５０℃で攪拌する。後処理は、慣用の方法で行われる。例えば反応混合物を水に注入し、塩化メチレンを用いて抽出する。有機相を乾燥させた後、溶媒を除去し、粗エノールエステルを、更に精製せずに転移反応に用いることができる。シクロヘキサン−１，３−ジオンのエノールエステルの製造例はヨーロッパ特許出願公開第１８６１１８号公報およびＵＳ４７８０１２７号に記載されている。
式Ｉｃの化合物を得るための、エノールエステルの転移反応は２０−４０℃で溶媒中、補助塩基の存在下、触媒としてのシアノ化合物を用いて行われると有効である。
使用可能の溶媒の例にはアセトニトリル、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチルまたはトルエンがある。好ましい溶媒としてはアセトニトリルが用いられる。適する補助塩基には第三アルキルアミン、ピリジンまたはアルカリ金属炭酸塩が挙げられ、これらはベンゾイルエノールエステルに対して当モル量、または４倍までの過剰量で使用される。トリエチルアミンを助剤塩基として等モル量の二倍量で用いると好ましい。
適する触媒は、シアン化カリウムまたはアセトンシアノヒドリンであり、エノールエステルに対して、好ましくは１−５０モル％の量で用いられる。アセトンシアノヒドリンを、例えば５−１５、特に１０モル％の量で添加すると好ましい。シクロヘキサン−１，３−ジオンのエノールエステルの、シアン化物触媒作用による転移の例は、例えばヨーロッパ特許出願公開第１８６１１８号公報またはＵＳ４７８０１２７号に開示されている。
後処理は公知方法により行われる。例えば反応混合物を濃度５％の塩酸または硫酸等の希鉱酸で酸性化し、塩化メチレンまたは酢酸エチル等の有機溶媒を用いて抽出する。精製に際して抽出物を、冷却した濃度５−１０重量％のアルカリ金属炭酸塩で抽出し、最終生成物を水相中に投入する。水溶液を酸性化し、式Ｉｃの生成物を沈殿させるか、塩化メチレンで再抽出し、乾燥し、次いで溶媒から分離する。
出発材料として使用される式ＩＩの１，３−ジケトンは公知であり、公知方法により製造可能である（ヨーロッパ特許出願公開第７１７０７号、同第１４２７４１号、同第２４３３１３号各公報、ＵＳ４２９４９３７号、ＷＯ９２／１３８２１号）。シクロヘキサン−１，３−ジオンおよびジメドンは市販の化合物である。
以下のように式ＩＩＩの安息香酸誘導体を製造する。
式ＩＩＩ（Ｔ＝Ｃｌ）の塩化ベンゾイルなどのハロゲン化ベンゾイルは、公知方法により式ＩＩＩ（Ｔ＝ＯＨ）の安息香酸を塩化チオニルと反応させて製造される。
式ＩＩＩ（Ｔ＝ＯＨ）の安息香酸は公知方法により、酸性または塩基性加水分解により式ＩＩＩの対応するエステル（Ｔ＝Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ）から得られる。
式ＩＩＩの中間生成物は以下の式２および３により示される例により以下に記載の経路により合成可能である。
式２

上記式中
ＴはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、
ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＯＳ（Ｏ）₂ＣＦ₃、−ＯＳ（Ｏ）₂Ｆを、
Ａ¹はＳｎ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル）₃、Ｂ（ＯＨ）₂、ＺｎＨａｌ（ＨａｌはＣｌまたはＢｒを示す）を意味し、
Ｌ、Ｍ、Ｚは上記定義と同様の意味を有するものとする。
この工程によると、アリールハロゲン化合物またはアリールスルホナートＩＶを、公知方法により錫酸ヘテロアリール（スチレカップリング（Ｓｔｉｌｌｅ Ｃｏｕｐｌｉｎｇ））、ヘテロアリール硼素化合物（スズキカップリング）、またはヘテロアリール−亜鉛化合物（ネギシ反応）Ｖと（例えばＳｙｎｔｈｅｓｉｓ（１９８７）、５１−５３、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（１９９２）、４１３）、パラジウムまたはニッケル遷移金属触媒の存在下に、および塩基の存在または不存在下に反応させ、式ＩＩＩで表される新規化合物を得る。
また、式ＶＩ
式3

で表され、
Ｚ¹がＺまたはＣＮを意味し、
ＴがＯＨまたはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを意味し、
ＬおよびＭが上記定義による意味を有する、適当な臭素または沃素置換化合物を一酸化炭素および水と、圧力を上昇させて、パラジウム、ニッケル、コバルトまたはロジウム遷移金属触媒、および塩基の存在下に反応させることによっても式ＩＩＩの安息香酸誘導体が得られる。
本発明における好ましいベンゾイル誘導体は式ＩＩＩａ

で表され、式中
Ｔが塩素、ＯＨまたはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、
ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
ＭがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
Ｚが上記定義と同様の意味を有するものである。
更に、式ＩＩＩｂ

で表され、式中
Ｔが塩素、ＯＨまたはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを意味し、
Ｌ、ＭがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
Ｚが上記定義による意味を有するベンジル誘導体が好ましい。
ニッケル、コバルト、ロジウム、および特にパラジウム触媒は金属状態で、または慣用の塩の形態で、例えばＰｄＣｌ₂、ＰｈＣｌ₃、Ｈ₂Ｏ等のハロゲン化合物、Ｐｄ（ＯＡｃ）₂等の酢酸塩、またはシアン化物等の形状で、公知原子価水準で存在可能である。これらの触媒は第三ホスフィンとの金属錯体、金属アルキルカルボニル、金属カルボニル、例えばＣＯ₂（ＣＯ）₈、Ｎｉ（ＣＯ）₄として、第三ホスフィンとのカルボニル錯体、例えば（ＰＰｈ₃）₂Ｎｉ（ＣＯ）₂として、または第三ホスフィンと遷移金属塩との錯体として存在することもできる。ここで最後に挙げた実施形態は触媒としてパラジウムが用いられる場合に特に好ましい。ホスフィン配位子の性質は大幅に変化する。例えば、これらは以下の式

（式中のｎは１、２、３または４の数値を意味し、Ｒ¹¹−Ｒ¹⁴で示される基は低分子量アルキル、例えばＣ₁−Ｃ₆アルキル、アリール、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアリール、例えばベンジル、フェネチルまたはアリールオキシ）で表される。ここでアリールとしては、例えばナフチル、アントリルおよび、好ましくは置換または非置換のフェニルが挙げられる。この場合置換基は広範囲に選択可能であり、カルボニル化おいて不活性であることのみが重要である。この様な置換基の例にはあらゆる不活性Ｃ−有機基、例えばＣ₁−Ｃ₆アルキル基、例えばメチル、カルボキシル基、例えばＣＯＯＨ、ＣＯＯＭ（Ｍは例えばアルキル金属、アルカリ土類金属またはアンモニウム塩である）、または酸素原子を介して結合しているＣ−有機基、例えばＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基がある。
ホスフィン錯体は公知方法で、例えば冒頭に記載した文献中に記載されている方法により製造可能である。例えば、出発材料としては慣用の市販されている金属塩、例えばＰｄＣｌ₂またはＰｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂であり、ホスフィン、例えばＰ（Ｃ₆Ｈ₅）₃、Ｐ（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃、ＰＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₅）₂または１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンを用いることが可能である。
遷移金属に対するホスフィン使用量は、従来より０−２０モル当量、特に０．１−１０モル当量、特に好ましくは１−５モル当量である。
遷移金属の使用量は臨界的でははいが、コストによる理由から、例えば出発材料ＩＩまたはＩＩＩに対して０．１〜１０モル％、特に１〜５モル％といった少量の遷移金属を用いると良いことは言うまでもない。
安息香酸ＩＩＩ（Ｔ＝ＯＨ）を製造するために、一酸化炭素と、少なくとも出発材料ＶＩに対して当モル量の水とを用いて、反応を行う。反応体である水を同時に溶媒としても用いることが可能であり、最大使用量は臨界的ではない。
しかしながら、出発材料と使用する触媒によっては、反応体ではない溶媒として、他の不活性溶媒またはカルボニル化用の塩基を用いることも有効である。
適する不活性溶媒としては、カルボニル化反応に慣用の溶媒、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の炭化水素、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテル、ジメチルホルムアミドなどの置換アミド、テトラ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル尿素などの多置換尿素、またはベンゾニトリルまたはアセトニトリルなどのニトリルが用いられる。
この方法による好ましい実施の形態において、反応体の１つ、好ましくは塩基を過剰で用い、他の溶媒を用いる必要を省くことができる。
上記方法において適する塩基としては、反応中に遊離した沃化水素または臭化水素を結合可能なあらゆる不活性塩基が用いられる。この様な塩基の例は、ｔｅｒｔ−アルキルアミンなどの第三アミン、例えばトリエチルアミンなどのトリアルキルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、ピリジンなどの環状アミン、アルカリ金属重炭酸塩、またはテトラアルキル置換尿素誘導体、例えばテトラメチル尿素などのテトラ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル尿素が用いられる。
塩基の使用量は臨界的ではなく、一般的に１−１０、特に１−５モルが通常用いられる。塩基を同時に触媒としても用いる場合は、実際的な理由により反応体が溶解した後の必要以上の過剰が避けられるような量に計量して用いらるのが一般的であり、これによりコストが節減され、小さな反応容器の使用を可能とし、反応体同士を最大限に接触させることが可能となる。
反応中の一酸化炭素圧を、ＶＩに対してＣＯが常に過剰となるように調整する。室温における一酸化炭素圧は１−２５０バール、特に５−１５０バールであると好ましい。
通常、カルボニル化は２０−２５０℃、特に３０−１５０℃で、連続的にもバッチ式にも行われる。操作をバッチ式に行う場合、一酸化炭素を反応混合物に連続的に圧入し、一定圧を保つことが有効である。
出発化合物として用いられるアリールハロゲン化合物ＶＩは公知であり、公知合成法を好適に組み合わせることにより容易に得られる。
例えば、ハロゲン化合物ＶＩは、適するニトロ化合物を還元することにより合成可能な適当なアニリンからサンドマイヤー反応により、合成することができる（ＶＩ（Ｚ¹＝ＣＮ）の場合：Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．（１９８０）、７６８−７７８）。更に臭化アリールＶＩは適当な出発化合物を直接臭素化することにより得られる［例えばＭｏｎａｔｓｈ．Ｃｈｅｍ．９９、８１５−８２２参照］。
式４

（上記式中、
ＴはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、
ＸはＣｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＯＳ（Ｏ）₂ＣＦ₃、−ＯＳ（Ｏ）₂Ｆを意味し、
Ｌ、Ｍ、Ｚは上述の定義と同様の意味を有し、
Ｒ¹⁵は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、非置換または置換フェニルまたはトリメチルシリルを、および
Ｒ¹⁶は水素、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキルまたは非置換または置換フェニルを意味する。）
パラジウムまたはニッケル遷移金属触媒の存在下、塩基の存在下または不存在下に、文献に公知の方法によりアリールハロゲン化合物またはアリールスルホナートＩＶから出発し、これをビニルアルキルエーテルと反応させた後、加水分解に付すことによりアリールメチルケトンＩＶａが得られる［例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．３２、（１９９１）、１７５３−１７５６参照］。
エチニル化芳香族化合物ＩＶｂは、アリールハロゲン化合物またはアリールスルホナートＩＶを置換アセチレンと、パラジウムまたはニッケル遷移金属触媒の存在下に反応させることにより得られる（例えばＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ、２４、（１９８６）、３１−３２）。Ｒ¹⁵＝Ｈの場合の誘導体ＩＶｂを、Ｒ¹⁵＝−Ｓｉ（ＣＨ₃）₃の場合のシリル化合物ＩＶｂから得ると有利である［Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６、（１９８１）、２２８０−２２８６］。
パラジウム触媒の存在下のアリールハロゲン化合物またはアリールスルホナートＩＶとオレフィンとのヘック反応（Ｈｅｃｋ ｒｅａｃｔｉｏｎ）によりアリールアルケンＩＶｃが得られる（例えばＨｅｃｋ、Ｐａｒａｄｉｕｍ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、アカデミックプレス、ロンドン１９８５、またはＳｙｎｔｈｅｓｉｓ １９９３、７３５−７６２参照）。
出発材料として用いられるベンゾイル誘導体ＩＶ［例えばＣｏｌｌ．Ｃｚｅｃｈ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｎ．４０、（１９７５）、３００９−３０１９］は、公知合成法を適宜組み合わせることにより簡単な方法で製造可能である。
例えば、スルホナートＩＶ（Ｘ＝−ＯＳ（Ｏ）₂ＣＦ₃、または−ＯＳ（Ｏ）₂Ｆ）は対応の公知フェノール（例えばＥＰ１９５２４７参照）または公知方法により製造されたフェノール（例えばＳｙｎｔｈｅｓｉｓ １９９３、７３５−７６２）から得られる。
ハロゲン化合物ＩＶ（Ｘ＝Ｃｌ、ＢｒまたはＩ）は、例えばサンドマイヤー反応により対応するアニリンから得られる。
式５

上記ＡはＳ、ＮＨまたはＮＯＨを意味し、
ＴはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、ＬおよびＭは上記定義の意味を有する。
イソフタル酸誘導体ＩＶｆはアルデヒドＩＶｅから公知方法により得られる［Ｊ．Ｍａｒｃｈ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ第三版、６２９頁等、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ（１９８５）］。
アルデヒドＩＶｅを公知方法によりヒドロキシルアミンと反応させることによりオキシムＩＶｇを得ると有利である［Ｊ．Ｍａｒｃｈ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ第三版、８０５−８０６頁等、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ（１９８５）］。
オキシムＩＶｇは公知方法によりニトリルＩＶｈに変換可能である［Ｊ．Ｍａｒｃｈ Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ第三版、９３１−９３２頁、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ（１９８５）］。
出発化合物として必要であるアルデヒドＩＶｅは公知方法により製造可能である。例えば式６に準じてメチル化合物ＶＩＩからアルデヒドＩＶｅを合成することができる。
式６

上記式中、Ｔ、ＭおよびＬは式５と同様の基を意味する。メチル化合物ＶＩＩを、例えばＮ−ブロムスクシンイミドまたは１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントインと、一般的に公知の方法により反応させて臭化ベンジルＶＩＩＩを得ることができる。ベンズアルデヒドＩＶｅを得るための臭化ベンジルの反応も文献により公知である［Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｍ．２２（１９９２）、１９６７−１９７１］。
先駆物質ＩＶａ−ＩＶｈは複素環式中間体ＩＩＩの合成に適している。
例えば、５−オキサゾリル［例えばＪ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．２８、（１９９１）、１７−２８参照］または４−チアゾリル誘導体［例えばＭｅｔｚｇｅｒ、Ｔｈｉａｚｏｌｅｓ ｉｎ：Ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、第３４巻、１７５頁等、（１９７６）参照］は、アセトフェノールＩＶａから、ハロゲン化中間体ＩＶｄを経て得られる。
アセチレンＩＶｂまたはアルケンＩＶｃは４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル、４，５−ジヒドロイソキサゾール−４−イル、４，５−ジヒドロイソキサゾール−５−イル誘導体［例えばＨｏｗｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、第四版、第Ｘ／３巻、８４３頁等、（１９６５）参照］の合成に好適に用いられる。
２−オキサゾリル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イルまたは１，３，４−オキサジアゾール−２−イル誘導体［例えばＪ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．２８、（１９９１）、１７−２８］または２−ピロリル誘導体［例えばＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ２６、（１９８７）、３１４１−３１５１］は、例えば文献により公知の方法で、安息香酸ＩＶｆまたは標準的な方法で得られる塩化アシルＩＶｉから得られる。
１，２，４−トリアゾール−３−イル誘導体はベンゾニトリルＩＶｈから、公知方法により得られる［例えばＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（１９５４）、３４６１−３４６４参照］。
ベンゾニトリルＩＶｈは、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル［例えばＪ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍ．２８、（１９９１）、１７−２８］、２−チアゾリル、４，５−ジヒドロチアゾール−２−イル、または５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル誘導体［例えばＨｏｗｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、第４版、第Ｅ５巻、１２６８頁等、（１９８５）］に、中間段階としてのチオアミド、アミドオキシムまたはアミジンＩＶｍを経て変換される。更に、文献により公知の方法により、チオアミドＩＶｍ（Ａ＝Ｓ）が１，２，４−チアジアゾール−５−イル誘導体［例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４５、（１９８０）、３７５０−３７５３］または１，３，４−チアジアゾール−２−イル誘導体［例えばＪ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．Ｉ １９８７−１９９１（１９８２）］に変換される。
オキシムＩＶｇは、公知方法により、中間体としてのヒドロキシアミルクロリドＩＶｋを経て３−イソキサゾリル誘導体に変換される［例えばＨｏｗｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｏｈｄｅｎ ｄｅｒ ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、第４版、第Ｘ／３巻、８４３頁等（１９６５）参照］。
式Ｉのベンゾイル誘導体の目的に応じた使用において、置換基として以下の基が好ましく用いられる。
ＬおよびＭは水素、
Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピルまたは１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピルまたは１−エチル−２−メチルプロピル、
特にメチル、エチル、１−メチルエチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチルまたは１，１−ジメチルプロピル、または
Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、例えば２−プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−メチル−２−ブテニル、２−メチル−２−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−４−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１−エチル−２−プロペニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル−２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−２−ペンテニル、４−メチル−２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３−ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１，１−ジメチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−３−ブテニル、１，３−ジメチル−３−ブテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，３−ジメチル−２−ブテニル、２，３−ジメチル−３−ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、２−エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、１，１，２−トリメチル−２−プロペニル、１−エチル−１−メチル−２−プロペニルまたはエチル−２−メチル−２−プロペニル、
特に１−メチル−２−プロペニル、１−メチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニルまたは１，１−ジメチル−２−ブテニルまたは、
Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、例えばプロパルギル、２−ブチニル、３−ブテニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−２−プロピニル、１−エチル−２−プロピニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル−３−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、３−メチル−４−ペンチニル、４−メチル−２−ペンチニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−３−ブチニル、１，２−ジメチル−３−ブチニル、２，２−ジメチル−３−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−エチル−３−ブチニルまたは１−エチル−１−メチル−２−プロピニルまたは、
Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、１−メチルエトキシ、ｎ−ブトキシ、１−メチルプロポキシ、２−メチルプロポキシまたは１，１−ジメチルエトキシ、
特にＣ₁−Ｃ₃アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシまたはｉ−プロポキシであり、
これらの基は非置換であるか、または上述のように１−５個までのハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素および沃素、好ましくは弗素および塩素、またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシにより置換されてもよい。
上記定義による−（Ｙ）_n−Ｓ（Ｏ）_mＲ⁷は例えば、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、１−メチルエチルチオ、ｎ−ブチルチオ、１−メチルプロピルチオ、２−メチルプロピルチオまたは１，１−ジメチルエチルチオ、特にメチルチオ、または
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、１−メチルエチルスルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、１−メチルプロピルスルフィニル、２−メチルプロピルスルフィニルまたは１，１−ジメチルエチルスルフィニル、特にメチルスルフィニル、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、１−メチルエチルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、１−メチルプロピルスルホニル、２−メチルプロピルスルホニルまたは１，１−ジメチルエチルスルホニル、特にメチルスルホニル、
Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシスルホニル、例えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル、ｎ−プロポキシスルホニル、１−メチルエトキシスルホニル、ｎ−ブトキシスルホニル、１−メチルプロポキシスルホニル、２−メチルプロポキシスルホニルまたは１，１−ジメチルエトキシスルホニル、特にメトキシスルホニル、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルファモイル、例えばＮ−メチルスルファモイル、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ−２−メチルプロピルスルファモイルまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルファモイル、特にＮ−メチルスルファモイル、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィナモイル、例えばＮ−メチルスルフィナモイル、Ｎ−エチルスルフィナモイル、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィナモイル、Ｎ−１−メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィナモイル、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィナモイル、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィナモイルまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、例えばＮ−メチルスルフィナモイル、
ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルファモイル、例えばジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、ジプロピルスルファモイル、ジブチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルファモイル、ジ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−１−メチルスルファモイルまたはＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルファモイル、特にジメチルスルファモイル、
ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィナモイル、例えばジメチルスルフィナモイル、ジエチルスルフィナモイル、ジプロピルスルフィナモイル、ジブチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１−メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、ジ−１−メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−１−メチルエチルスルフィナモイルおよびＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、特にジメチルスルフィナモイル、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニルオキシ、例えばメチルスルフィニルオキシ、エチルスルフィニルオキシ、ｎ−プロピルスルフィニルオキシ、１−メチルエチルスルフィニルオキシ、ｎ−ブチルスルフィニルオキシ、１−メチルプロピルスルフィニルオキシ、２−メチルプロピルスルフィニルオキシおよび１，１−ジメチルエチルスルフィニルオキシ、特にメチルスルフィニルオキシ、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニルオキシ、例えばメチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ｎ−プロピルスルホニルオキシ、１−メチルエチルスルホニルオキシ、ｎ−ブチルスルホニルオキシ、１−メチルプロピルスルホニルオキシ、２−メチルプロピルスルホニルオキシまたは１，１−ジメチルエチルスルホニルオキシ、特にメチルスルホニルオキシ、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニルアミノ、例えばメチルスルフィニルアミノ、エチルスルフィニルアミノ、ｎ−プロピルスルフィニルアミノ、１−メチルエチルスルフィニルアミノ、ｎ−ブチルスルフィニルアミノ、１−メチルプロピルスルフィニルアミノ、２−メチルプロピルスルフィニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルスルフィニルアミノ、特にメチルスルフィニルアミノ、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニルアミノ、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ｎ−プロピルスルホニルアミノ、１−メチルエチルスルホニルアミノ、ｎ−ブチルスルホニルアミノ、１−メチルプロピルスルホニルアミノ、２−メチルプロピルスルホニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルスルホニルアミノ、特にメチルスルホニルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、例えばＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、特にＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、例えばＮ−メチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、特にＮ−メチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、または
Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、例えばクロロメチルチオ、ジクロロメチルチオ、トリクロロメチルチオ、フルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、クロロフルオロメチルチオ、クロロジフルオロメチルチオ、１−フルオロエチルチオ、２−フルオロエチルチオ、２，２−ジフルオロエチルチオ、２，２，２−トリフルオロエチルチオ、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチルチオ、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチルチオ、２，２，２−トリクロロエチルチオまたはペンタフルオロエチルチオ、特にトリフルオロメチルチオを意味する。
上記定義による−（Ｙ）_n−ＣＯ−Ｒ⁸で示される基は、例えば
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニル、例えばメチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、１−メチルエチルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル、１−メチルプロピルカルボニル、２−メチルプロピルカルボニルまたは１，１−ジメチルエチルカルボニル、特にメチルカルボニル、
Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、１−メチルエトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、１−メチルプロポキシカルボニル、２−メチルプロポキシカルボニルまたは１，１−ジメチルエトキシカルボニル、特にメトキシカルボニル、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルバモイル、例えばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−１−メチルプロピルカルバモイル、Ｎ−２−メチルプロピルカルバモイルまたはＮ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、特にＮ−メチルカルバモイル、
ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルバモイル、例えばジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、ジ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルエチルカルバモイルまたはＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、特にジメチルカルバモイル、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、例えばメチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ｎ−プロピルカルボニルオキシ、１−メチルエチルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、１−メチルプロピルカルボニルオキシ、２−メチルプロピルカルボニルオキシまたは１，１−ジメチルエチルカルボニルオキシ、特にメチルカルボニルオキシ、
Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニルアミノ、例えばメチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ｎ−プロピルカルボニルアミノ、１−メチルエチルカルボニルアミノ、ｎ−ブチルカルボニルアミノ、１−メチルプロピルカルボニルアミノ、２−メチルプロピルカルボニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルカルボニルアミノ、特にメチルカルボニルアミノ、
Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノを意味する。
Ｚは例えば、
酸素、硫黄および窒素から選択される１−３個のヘテロ原子を有する飽和または不飽和の５員または６員複素環基、例えば２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピロリル、３−ピロリル、３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル、１，２，５−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，２，５−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，３−トリアゾール−５−イル、１，２，４−トリアゾール−５−イルまたはテトラゾール−５−イル、特に２−チアゾリルまたは３−イソキサゾリル、
６員の複素環基、例えば２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、２−ピラジニル、１，３，５−トリアジン−２−イル、１，２，４−トリアジン−５−イル、１，２，４−トリアジン−３−イル、１，２，４−トリアジン−６−イル、１，２，４，５−トリアジン−３−イル、または
１−３個の窒素原子および／または１−２個の酸素または硫黄原子を有する飽和または部分的に不飽和の５員または６員の複素環基、例えば２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル、２−テトラヒドロチエニル、３−テトラヒドロチエニル、テトラヒドロチオピラン−２−イル、テトラヒドロチオピラン−３−イル、テトラヒドロチオピラン−４−イル、１，３−ジチオラン−２−イル、１，３−ジチオラン−４−イル、１，３−ジチアン−２−イル、１，３−ジチアン−４−イル、５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル、１，３−オキサチオラン−２−イル、１，３−オキサチアン−２−イル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、３−イソキサゾリジニル、４−イソキサゾリジニル、５−イソキサゾリジニル、３−イソチアゾリジニル、４−イソチアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、５−ピラゾリジニル、２−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、２−チアゾリジニル、４−チアゾリジニル、５−チアゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１，２，４−オキサジアゾリジン−３−イル、１，２，４−オキサジアゾリジン−５−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−３−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−５−イル、１，３，４−オキサジアゾリジン−２−イル、１，３，４−チアジアゾリジン−２−イル、１，３，４−トリアゾリジン−２−イル、２，３−ジヒドロフラ−２−イル、２，３−ジヒドロフラ−３−イル、２，４−ジヒドロフラ−２−イル、２，４−ジヒドロフラ−３−イル、２，３−ジヒドロチエン−２−イル、２，３−ジヒドロチエン−３−イル、２，４−ジヒドロチエン−２−イル、２，４−ジヒドロチエン−３−イル、２，３−ピロリン−２−イル、２，３−ピロリン−３−イル、２，４−ピロリン−２−イル、２，４−ピロリン−３−イル、２，３−イソキサゾリン−３−イル、３，４−イソキサゾリン−３−イル、４，５−イソキサゾリン−３−イル、２，３−イソキサゾリン−４−イル、３，４−イソキサゾリン−４−イル、４，５−イソキサゾリン−４−イル、２，３−イソキサゾリン−５−イル、３，４−イソキサゾリン−５−イル、４，５−イソキサゾリン−５−イル、２，３−イソチアゾリン−３−イル、３，４−イソチアゾリン−３−イル、４，５−イソチアゾリン−３−イル、２，３−イソチアゾリン−４−イル、３，４−イソチアゾリン−４−イル、４，５−イソチアゾリン−４−イル、２，３−イソチアゾリン−５−イル、３，４−イソチアゾリン−５−イル、４，５−イソチアゾリン−５−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−１−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−２−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−３−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−４−イル、２，３−ジヒドロピラゾール−５−イル、３，４−ジヒドロピラゾール−１−イル、３，４−ジヒドロピラゾール−３−イル、３，４−ジヒドロピラゾール−４−イル、３，４−ジヒドロピラゾール−５−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−１−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−３−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−４−イル、４，５−ジヒドロピラゾール−５−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−２−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−３−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−４−イル、２，３−ジヒドロオキサゾール−５−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−２−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−４−イル、４，５−ジヒドロオキサゾール−５−イル、１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−４−イル、１，３−ジオキサン−５−イル、１，４−ジオキサン−２−イル、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、３−テトラヒドロピリダジニル、４−テトラヒドロピリダジニル、２−テトラヒドロピリミジニル、４−テトラヒドロピリミジニル、５−テトラヒドロピリミジニル、２−テトラヒドロピラジニル、１，３，５−テトラヒドロトリアジン−２−イルまたは１，２，４−テトラヒドロトリアジン−３−イル、特に２−テトラヒドロフラニル、１，３−ジオキソラン−２−イルまたは１，３−ジオキサン−２−イルを意味し、
非置換であっても、上述のハロゲン、例えば弗素または塩素、
シアノ、ニトロ、
−ＣＯＲ⁸で示される基、例えば上述のアルキルカルボニル、上述のアルコキシカルボニル、上述のＮ−アルキルカルバモイル、または上述のジアルキルカルバモイル、
上述のＣ₁−Ｃ₄アルキル、
Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、例えばクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、１，１，２，２−テトラフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエチルまたはペンタフルオロエチル、デカフルオロブチル、１，１−ビストリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル、好ましくはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチルまたはクロロジフルオロメチル、
Ｃ₃−Ｃ₈クロロアルキル、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、特にシクロプロピルおよびシクロヘキシル、
上述のＣ₁−Ｃ₄アルコキシ、
Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、例えばクロロメトキシ、ジクロロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、クロロジフルオロメトキシ、ジクロロフルオロメトキシ、１−フルオロメトキシ、２−フルオロエトキシ、２，２−ジフルオロエトキシ、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエトキシまたはペンタフルオロエトキシ、特にＣ₁−Ｃ₃ハロアルコキシ、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシまたは２−クロロ−２，２−ジフルオロエトキシ、
上述のＣ₁−Ｃ₄アルキルチオ、
上述のＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、
ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−１−メチルエチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルアミノ、ジ−１−メチルエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−１−メチルエチルアミノまたはＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルアミノ、
置換または非置換のフェニル、または
互変異性形態としてヒドロキシル基としても存在可能なオキソ基、例えばチアゾリン−４，５−ジオン−２−イル、３−オキソ−３Ｈ−１，２，４−ジチアゾリルまたは２−オキソ−２Ｈ−１，３，４−ジチアゾリルにより置換されてもよい。
ベンゾ縮合した５員または６員のヘテロ芳香族基は、例えばベンゾフラニル、ベンゾチエニル、インドリル、ベンズオキサゾリル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイソチアゾリル、ベンゾピラゾリル、インダゾリル、１，２，３−ベンゾチアジアゾリル、２，１，３−ベンゾチアジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベンゾフロキサニル、キノリニル、インキノリニル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニルまたはフタラジニルを意味する。一般式Ｉで表される特に好ましい化合物の例を以下の表１〜５に挙げる。

化合物Ｉまたはこれらの農業において有効な塩は、異性体混合物形態、および純粋な異性体の形態のいずれによっても除草剤として好適に使用される。Ｉを含有する除草組成物は非耕作地帯において、特に高使用率で、草木を非常に良好に防除する。これらは、栽培植物に大きな害を与えることなく、小麦、稲、とうもろこし、大豆、綿花などの栽培植物における広葉の雑草および稲科の雑草を非常に良好に防除することができる。この効果は特に低使用量において顕著である。
施与方法に応じて、化合物Ｉまたはこれらを含有する除草剤を多種類の農作物に使用して望ましくない植物を除去することも可能である。使用に適する農作物の例を以下に示す。
タマネギ（Ａｌｌｉｕｍ ｃｅｐａ）
パイナップル（Ａｎａｎａｓ ｃｏｍｏｓｕｓ）
ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓ ｈｙｐｏｇａｅａ）
アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓ ｏｆｆｉｃｉｎａｌｉｓ）
フダンソウ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．ａｌｔｉｓｓｉｍａ）
サトウジシヤ（Ｂｅｔａ ｖｕｌｇａｒｉｓ ｓｐｐ．ｒａｐａ）
アブラナ（変種カブラ）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ ｖａｒ．ｎａｐｕｓ）
カブカンラン（変種ナポプラシーカ）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｎａｐｕｓ ｖａｒ．ｎａｐｏｂｒａｓｓｉｃａ）
テンサイ（変種シルベストリス）（Ｂｒａｓｓｉｃａ ｒａｐａ ｖａｒ．ｓｉｌｖｅｓｔｒｉｓ）
トウツバキ（Ｃａｍｅｌｌｉａ ｓｉｎｅｎｓｉｓ）
ベニバナ（Ｃａｒｔｈａｍｕｓ ｔｉｎｃｔｏｒｉｕｓ）
キヤリーヤイリノイネンシス（Ｃａｒｙａ ｉｌｌｉｎｏｉｎｅｎｓｉｓ）
レモン（Ｃｉｔｒｕｓ ｌｉｍｏｎ）
ナツミカン（Ｃｉｔｒｕｓ ｓｉｎｅｎｓｉｓ）
コーヒー〔Ｃｏｆｆｅａ ａｒａｂｉｃａ（Ｃｏｆｆｅａ ｃａｎｅｐｈｏｒａ，Ｃｏｆｆｅａ ｌｉｂｅｒｉｃａ）〕
キユウリ（Ｃｕｃｕｍｉｓ ｓａｔｉｖｕｓ）
ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎ ｄａｃｔｙｌｏｎ）
ニンジン（Ｄａｕｃｕｓ ｃａｒｏｔａ）
アブラヤシ（Ｅｌａｅｉｓ ｇｕｉｎｅｅｎｓｉｓ）
イチゴ（Ｆｒａｇａｒｉａ ｖｅｓｃａ）
大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅ ｍａｘ）
木棉〔Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｈｉｒｓｕｔｕｍ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ａｒｂｏｒｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｈｅｒｂａｃｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍ ｖｉｔｉｆｏｌｉｕｍ）〕
ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）
ゴムノキ（Ｈｅｖｅａ ｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）
大麦（Ｈｏｒｄｅｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）
カラハナソウ（Ｈｕｍｕｌｕｓ ｌｕｐｕｌｕｓ）
アメリカイモ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｂａｔａｔａｓ）
オニグルミ（Ｊｕｇｌａｎｓ ｒｅｇｉａ）
レンズマメ（Ｌｅｎｓ ｃｕｌｉｎａｒｉｓ）
アマ（Ｌｉｎｕｍ ｕｓｉｔａｔｉｓｓｉｍｕｍ）
トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎ ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｕｍ）
リンゴ属（Ｍａｌｕｓ ｓｐｐ．）
キヤツサバ（Ｍａｎｉｈｏｔ ｅｓｃｕｌｅｎｔａ）
ムラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏ ｓａｔｉｖａ）
バシヨウ属（Ｍｕｓａ ｓｐｐ．）
タバコ〔Ｎｉｃｏｔｉａｎａ ｔａｂａｃｕｍ（Ｎ．ｒｕｓｔｉｃａ）〕
オリーブ（Ｏｌｅａ ｅｕｒｏｐａｅａ）
イネ（Ｏｒｙｚａ ｓａｔｉｖａ）
アズキ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｌｕｎａｔｕｓ）
ゴガツササゲ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓ ｖｕｌｇａｒｉｓ）
トウヒ（Ｐｉｃｅａ ａｂｉｅｓ）
マツ属（Ｐｉｎｕｓ ｓｐｐ．）
シロエンドウ（Ｐｉｓｕｍ ｓａｔｉｖｕｍ）
サクラ（Ｐｒｕｎｕｓ ａｖｉｕｍ）
モモ（Ｐｒｕｎｕｓ ｐｅｒｓｉｃａ）
ナシ（Ｐｙｒｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
スグリ（Ｒｉｂｅｓ ｓｙｌｖｅｓｔｒｅ）
トウゴマ（Ｒｉｃｉｎｕｓ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）
サトウキビ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍ ｏｆｆｉｃｉｎａｒｕｍ）
ライムギ（Ｓｅｃａｌｅ ｃｅｒｅａｌｅ）
ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｔｕｂｅｒｏｓｕｍ）
モロコシ〔Ｓｏｒｇｈｕｍ ｂｉｃｏｌｏｒ（ｓ．ｖｕｌｇａｒｅ）〕
カカオ（Ｔｈｅｏｂｒｏｍａ ｃａｃａｏ）
ムラサキツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｐｒａｔｅｎｓｅ）
小麦（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ａｅｓｔｉｖｕｍ）
トリテイカム、ドラム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍ ｄｕｒｕｍ）
ソラマメ（Ｖｉｃｉａ ｆａｂａ）
ブドウ（Ｖｉｔｉｓ ｖｉｎｉｆｅｒａ）
トウモロコシ（Ｚｅａ ｍａｙｓ）。
更に、遺伝子工学的方法等の栽培の結果として、除草剤の作用に抵抗性を有する農作物においても化合物Ｉを使用することができる。
除草剤またはその有効物質は事前法または事後法により施用される。有効物質がある種の栽培植物にうまく適合しない場合は、下部に成長している雑草または露出している土壌には付着しても、敏感な栽培植物の葉にできるだけ接触しないように、噴霧装置により除草剤を噴霧することができる（後直接撒布、レイーバイ）。
化合物Ｉおよびこれを含有する除草剤は、例えば直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁液、高濃度の水性、油性またはその他の懸濁液または分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用することができる。適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の有効物質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。
適する不活性添加剤としては、主に中位乃至高位の沸点の鉱油留分、例えば燈油又はディーゼル油、更にコールタール油等、並びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、環状及び芳香族炭化水素、例えばパラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置換ナフタレン又はその誘導体、アルキル化ベンゼン及びその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、または強極性溶剤、例えばＮ−メチルピロリドン、水が使用される。
水性使用形は乳濁液濃縮物、懸濁液、ペースト、又は湿潤可能の粉末、水分散可能の粉末より水の添加により製造することができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製造するためには、物質をそのまま、或いは油又は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤により水中に均質に混合することができる。しかも有効物質、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水にて希釈するのに適する。
界面活性剤としては、芳香族スルホン酸、たとえばリグニンスルホン酸、フェノールスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、ジブチルナフタリンスルホン酸の各アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、並びに脂肪酸、アルキルスルホナート、アルキルアリールスルホナート、アルキルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、脂肪アルコールスルファートのアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、並びに硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノール及びオクタデカノールの塩、並びに硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、スルホン化ナフタリン及びナフタリン誘導体とホルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルホン酸とフェノール及びホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレンオキシド−縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、又はポリオキシプロピレン、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチルセルロースが挙げられる。
粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質とを混合又は一緒に磨砕することにより製造することができる。
粒状体例えば被覆−、含浸−及び均質粒状体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製造することができる。固状担体物質は、例えば鉱物土、例えばシリカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリン、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びクルミ穀粉、セルロース粉末及び他の固状担体物質である。
直接使用可能な組成における有効物質の濃度は広範囲に変更可能であるが、例えば０．００１〜９８重量％、特に０．０１〜９５重量％を含有する。この際有効物質は純度９０〜１００％、特に９５〜１００％（ＮＭＲスペクトルによる）で使用される。
本発明による化合物Ｉは以下のように調製される。
Ｉ．２０重量部の化合物Ｎｏ．１．１２３２を、アルキル化ベンゼン８０重量部、エチレンオキシド８乃至１０モルをオレイン酸−Ｎ−モノエタノールアミド１モルに付加した付加生成物１０重量部、ドデシルベンゼンルスルホン酸のカルシウム塩５重量部、およびエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物５重量部よりなる混合物中に添加する。この混合物を１０００００重量部に注入しかつ細分布することにより有効物質０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。
ＩＩ．２０重量部の化合物Ｎｏ．１．１２３２を、シクロヘキサノン４０重量部、イソブタノール３０重量部、エチレンオキシド７モルをイソオクチルフェノール１モルに付加した付加生成物２０重量部、エチレンオキシド７モルをイソオクチルフェノール１モルに付加した付加生成物２０重量部、エチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物１０重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水１０００００重量部に注入することにより有効成分０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。
ＩＩＩ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．１．１２３２を、シクロヘキサノン２５重量部、沸点２１０乃至２８０℃の鉱油留分６５重量部、およびエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物１０重量部よりなる混合物中に分散する。この混合物を水１０００００重量部に注入することにより有効物質０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。
ＩＶ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．１．１２３２を、ジイソブチルナフタレン−α−スルホン酸のナトリウム塩３重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルホン酸のナトリウム塩１７重量部及び粉末状シリカゲル６０重量部と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。この混合物を水２００００重量部に細分布することにより有効物質０．１重量％を含有する噴霧液が得られる。
Ｖ．３重量部の有効成分Ｎｏ．１．１２３２を細粒状カオリン９７重量部と密に混和する。かくして有効物質３重量％を含有する噴霧液が得られる。
ＶＩ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．１．１２３２を、ドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩２重量部、脂肪アルコールポリグリコールエーテル８重量部、フェノール−尿素−ホルムアルデヒド−縮合物のナトリウム塩２重量部及びパラフィン系鉱油６８重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
ＶＩＩ．１重量部の化合物Ｎｏ．１．１２３２を、シクロヘキサノン７０重量部、エトキシル化イソオクチルフェノール２０重量部、およびエトキシル化ヒマシ油１０重量部から成る混合物に溶解する。これにより安定な乳濁液濃縮物が得られる。
ＶＩＩＩ．１重量部の化合物Ｎｏ．１．１２３２をシクロヘキサノン８０重量部とＥｍｕｌｐｈｏｒ ＥＬ２０重量部から成る混合物に溶解する。これにより安定な乳濁液濃縮物が得られる。
有効作用範囲を拡張し、相乗効果を達成するために、ベンゾイル誘導体Ｉは、多様な他の除草剤ないし生長抑制有効物質と混合され、同時に施与される。その混合対称物質としては、例えばジアジン、４Ｈ−３，１−ベンズオキサジン誘導体、ベンゾチアジアジノン、２，６−ジニトロアニリン、Ｎ−フェニルカルバマート、チオカルバマート、ハロゲンカルボン酸、トリアジン、アミド、尿素、ジフェニルエーテル、トリアジノン、ウラシル、ベンゾフラン誘導体、２−位に例えばカルボキシ基、カルボイミノ基を有するシクロヘキサン−１，３−ジオン誘導体、キノリンカルボン酸誘導体、イミダゾリノン、スルホンアミド、スルホニル尿素、アリールオキシ−ならびにヘテロアリールオキシ−フェノキシプロピオン酸ならびにこれらの塩、エステル、アミドなどが挙げられる。
更に、化合物Ｉは、単独でまたは他の除草剤または生長抑制剤と、また更なる植物保護剤と組み合わせ、混合し、例えば殺害虫剤または植物殺菌剤または殺バクテリア剤と共に施用することができるという利点を有する。苗栄養不足、希元素欠乏などの症状治癒のために使用されるミネラル塩溶液と混合し得ること、植物に無害の油類、油濃縮物類に添加し得ることも重要である。
有効成分の施与割合は、使用目的、季節、対象植物および発育段階に応じて１ヘクタールあたりの有効成分（ａ．ｉ．）０．００１−３．０、好ましくは０．０１−１．０ｋｇとされる。
使用実施例
式Ｉのベンゾイル誘導体Ｉの除草効果を以下の温室実験で示す。
プラスチック植木鉢を栽培容器として用い、約３．０％腐蝕したローム質の砂を培養基とした。被検植物の種子を種類ごとに播種した。
事前法により、水中に懸濁または乳化させた有効物質を、種子を撒いた後に細分布したノズルを使用して直接撒布した。出芽と成長を促進するために容器を軽く灌水し、次いで植物が根付くまで透明のプラスチックの覆いを被せた。有効物質により害が与えられない限り、この被覆が被検植物の均一な出芽を促進する。
事後法による処理を行う目的で、被検植物を発育型により、草丈３−１５ｃｍとなった後、水中に懸濁または乳化させた有効物質で処理した。この場合、被検植物を直接播種し同一の容器で栽培することも、当初は別々に苗として植え、処理の行われる２−３日前に試験用容器に移植することも可能である。事後法における有効物質の施与量を１ヘクタールあたり０．１２５−０．０６２５ｋｇとした。
各被検植物を種類ごとに１０−２５℃または２０−３５℃に保持し、実験期間を２−４週間とした。この間、被検植物を管理し、個々の処理に対する反応を評価した。
０−１００の基準に基づき評価を行った。この基準において１００は植物が全く出芽しないか、或いは少なくとも地上に出ている部分の全てが破壊してしまったことを示し、０は全く被害がなく正常な成長を遂げたことを示す。
温室実験で使用した植物の種類は以下の通りである。

製造実施例
Ａ）出発材料の合成
１．２−クロロ−３−ホルミル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
ａ．４２０ミリリットルの１，２−ジクロロエタン中の２８６ｇ（２．１４モル）三塩化アルミニウムの懸濁液に、４２０モルの１，２−ジクロロエタン中の１５７ｇ（２モル）の塩化アセチルの溶液を１５−２０℃で滴下した。次いで１リットルの１，２−ジクロロエタン中の３４６ｇ（２モル）の２−クロロ−６−メチルチオトルエン溶液をこれに滴下した。攪拌を１２時間継続し、反応混合物を３リットルの氷と、１リットルの濃塩酸との混合物に注入した。塩化メチレンを用いて混合物を抽出し、有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。残渣を減圧下に蒸留した。
これにより２５６ｇ（化学量論量の６０％）の、融点４６℃の２−クロロ−３−メチル−４−メチルチオアセトフェノンを得た。
ｂ．１６３ｇ（０．７６モル）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルチオアセトフェノンを１．５リットルの氷酢酸に溶解し、１８．６ｇのタングステン酸ナトリウムを添加し、冷却しつつ１７３．３ｇの濃度３０％の過酸化水素溶液を滴下した。攪拌を２日間継続し、次いで混合物を水で希釈した。沈殿した固体を吸引濾過し、水で洗浄し、乾燥した。
これにより１６４ｇ（化学量論量の８８％）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニルアセトフェノンを得た。融点：１１０−１１１℃。
ｃ．８２ｇ（０．３３モル）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニルアセトフェノンを７００ミリリットルのジオキサン中に溶解し、１リットルの濃度１２．５％の次亜塩素酸ナトリウム溶液で室温にて添加した。８０℃にて更に１時間攪拌を継続した。冷却後、形成された２相の下相を水で希釈し、弱酸性とした。沈殿した固体を水で洗浄し、乾燥した。
これにより６０ｇ（化学量論量の７３％）の、融点を２３０−２３１℃とする２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニル安息香酸が得られた。
ｄ．１００ｇ（０．４モル）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニル安息香酸を１リットルのメタノール中に溶解し、還流温度にてＨＣｌを５時間通過させた。次いで混合物を濃縮した。
これにより８８．５ｇ（化学量論量の８４％）の、融点を１０７−１０８℃とする２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
ｅ．８２ｇ（０．３１モル）の２−クロロ−３−メチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを、２リットルのテトラクロロメタンに溶解し、５６ｇ（０．３１モル）の一度に少量づつのＮ−ブロモスクシンイミドを用い、露光により処理した。反応混合物を濾過し、濾液を濃縮し、残渣を２００ミリリットルのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルに取り込んだ。溶液に石油エーテルを添加し、沈殿した固体を吸引濾過し、乾燥した。
これにより７４．５ｇ（化学量論量の７０％）の、融点を７４−７５℃とする３−ブロモメチル−２−クロロ−４−メチルスルホニル安息香酸メチルが得られた。
ｆ．２５０ミリリットルのアセトニトリル中の４１ｇ（０．１２モル）の３−ブロモメチル−２−クロロ−４−メチルスルホニル安息香酸メチルの溶液に、４２．１ｇ（０．３６モル）のＮ−メチルモルホリンＮ−オキシドを添加した。バッチの攪拌を室温にて１２時間継続し、この後、濃縮し、残渣を酢酸エチル中に取り込んだ。溶液を水で抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。
これにより３１．２ｇ（化学量論量の９４％）の、融点を９８−１０５℃とする２−クロロ−３−ホルミル−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
２．２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−トリフルオロメチルスルホニル）オキシ安息香酸メチル
ａ．１０１ｇ（０．４１モル）の２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル安息香酸を１．３リットルのメタノールに溶解し、還流下にＨＣＬガスを４時間通過させた。溶液を濃縮し、残渣をジクロロメタン中に取り込み、Ｋ₂ＣＯ₃溶液で抽出した。希塩酸を用いて水相をｐＨ７とし、ジクロロメタンを用いて洗浄した。次いでｐＨ１に酸性化し、生成物をジクロロメタンで抽出した。
これにより７６．２ｇ（化学量論量の７１％）の２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
ｂ．７００ミリリットルのジクロロメタン中の７６ｇ（０．２９モル）２−クロロ−３−ヒドロキシ−４−メチルスルホニル安息香酸メチルおよび６８ｇのピリジンの溶液に、８９ｇ（０．３２モル）の無水トリフルオロメタンスルホン酸を、−２０℃にて添加した。溶液の攪拌を室温にて１２時間継続し、溶液をジクロロメタンで希釈し、水で抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。
これにより、９４ｇ（化学量論量の８２％）の、融点を６９℃とする、２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）オキシ安息香酸メチルを得た。
Ｂ）中間生成物の製造法
１．３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
ａ．２００ミリリットルのジエチルアミンと６０ミリリットルのジメチルホルムアミド中の３０ｇ（１０２ミリモル）３−ブロモ−４−メチルスルホニル安息香酸メチル、９０ｍｇの二塩化パラジウム、および２４０ｍｇのトリフェニルホスフィンに１０ｇ（１０２ミリモル）の（トリメチルシリル）アセチレンおよび１８０ｍｇの沃化銅（Ｉ）を添加し、混合物を４０℃で、４．５時間攪拌した。室温での攪拌を更に１２時間継続した。得られた反応混合物を濾過し、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、移動相としてトルエンを用いた。
これにより１７．３ｇ（化学量論量の５５％）の４−メチルスルホニル−３−（トリメチルシリル）エチニル安息香酸メチルを油状物として得た。
ｂ．２５ｇの４−メチルスルホニル−３−（トリメチルシリル）エチニル安息香酸メチルを１００ミリリットルのメタノールおよび０．９ｇの炭酸カリウムと共に室温で１８時間攪拌した。次いで固体を吸引濾過し、濾液を濃縮して、酢酸エチル／水で抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。
これにより１５ｇ（化学量論量の７９％）の、融点を９５−９８℃とする４−メチルスルホニル−３−エチル安息香酸メチルを得た。
ｃ．１３．５ｇ（５７ミリモル）の４−メチルスルホニル−３−エチニル安息香酸メチルを５０ミリリットルのジクロロメタンに溶解し、５．２ｇ（６０ミリモル）のイソブチルアルデヒドオキシムを添加し、濃度１２．５％の次亜塩素酸ナトリウム溶液４１ｇを滴下した。次いで、得られた混合物の攪拌を室温にて２４時間継続した。この後、反応バッチをジクロロメタン／水を用いて抽出し、有機相を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、移動相としてトルエン／酢酸エチルを用いた。
これにより８．８ｇ（化学量論量の４８％）の、融点を１０２−１０４℃とする３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチルが得られた。
２．２−クロロ−３−イソキサゾール−３−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
ａ．１５ｇ（５４ミリモル）の２−クロロ−３−ホルミル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル（Ｅｘ．Ａ．１．）および４．２ｇ（６０ミリモル）の塩化ヒドロキシルアミンを３００ミリリットルのメタノールとともに攪拌し、８０ミリリットルの水中の炭酸ナトリウム３．１８ｇ（３０ミリモル）の溶液を滴下した。反応混合物を室温にて一晩攪拌し、次いでメタノールを留去し、バッチをエーテル／水で抽出した。エーテル相を硫酸ナトリウムで乾燥させ、濃縮した。
これにより１４．４ｇ（化学量論量の９１％）の、融点を１２６−１２８℃とする２−クロロ−３−ヒドロキシイミノメチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
ｂ．５．３ｇ（１８ミリモル）の２−クロロ−３−ヒドロキシイミノメチル−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを５０ミリリットルのジクロロメタンに溶解し、アセチレンを０−５℃で、３０分間通過させた。次いで少量の酢酸ナトリウムを添加し、更にアセチレンを通過させながら、濃度１０％の次亜塩素酸ナトリウム溶液１５ミリリットルを１０℃で滴下した。添加終了後、アセチレンを１０℃で更に１５分間通過させ、更に攪拌を１２時間継続した。この後各相を分離し、有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。これにより、４．８ｇ（化学量論量の８４％）の、融点を１４５−１４７℃とする２−クロロ−３−（イソキサゾール−３−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチルが得られた。
３．２−クロロ−３−（トリアゾール−２−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
３３ｇ（８８ミリモル）の２−（トリブチルスタニル）−チアゾール、１７．５ｇ（４４ミリモル）の２−クロロ−４−メチルスルホニル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）オキシ安息香酸メチル（ＥＸ．Ａ．２．）、５．８ｇの塩化リチウム、１ｇのテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム−（Ｏ）、少量の２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、および２００ミリリットルの１，４−ジオキサンを１４０℃のオートクレーブ中、固有圧力下に３時間攪拌した。冷却後、反応混合物をシリカゲル層を通して濾過し、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで洗浄し、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、移動相としてトルエン／酢酸エチルを用いた。
これにより９．１ｇ（化学量論量の６２．６％）の、融点を１３５−１３８℃とする２−クロロ−３−（チアゾール−２−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
４．２−クロロ−３−（オキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチル
２５ｇ（０．０９モル）の２−クロロ−３−ホルミル−４−メチルスルホニル安息香酸メチル（Ｅｘ．Ａ．１．）、１７．６ｇ（０．０９ミリモル）のイソシアン化トシルメチレンおよび６．２ｇ（０．０４５モル）の微粉砕状の炭酸カリウムを、４５０ミリリットルのメタノールと共に還流温度にて５時間攪拌した。次いで溶媒を除去し、残渣を酢酸エチルに取り込み、水で抽出した。酢酸エチル相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮した。
これにより２４．７ｇ（化学量論量の８７％）の２−クロロ−３−（オキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチルを得た。
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）
δ：８．２４（ｄ、１Ｈ）、８．１５（ｓ、１Ｈ）、８．０１（ｄ、１Ｈ）、７．４０（ｓ、１Ｈ）、４．０（ｓ、３Ｈ）、２．９６（ｓ、３Ｈ）。
以下の表に記載の中間生成物を同様の方法で得た。

Ｃ）最終生成物の製造
１．２−［３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイル］−シクロヘキサン−１，３−ジオン（実施例Ｎｏ．１．４７４）
ａ．８ｇ（２５ミリモル）の３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸メチル（実施例Ｂ．１．）を５０ミリリットルのメタノールに溶解し、１．５ｇ（３７ミリモル）のＮａＯＨを添加した。得られた溶液を室温にて１２時間攪拌した。この後、反応混合物を濃縮し、残渣を水中に取り込み、溶液を塩酸で酸性化した。長時間攪拌すると、淡黄色の結晶が得られた。固体を吸引濾過し、乾燥した。
６．６ｇ（化学量論量の８６％）の、融点を１７６−１７８℃とする３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸を得た。
ｂ．６ｇ（１９ミリモル）の３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニル安息香酸を６０ミリリットルのトルエンに溶解し、ここにジメチルホルムアミドを１滴添加し、３２ｇ（２７ミリモル）の塩化チオニルを導入した。４時間還流後、反応混合物を濃縮した。
６．３ｇ（化学量論量の９９％）の、融点を１０２−１０５℃とする塩化３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイルを得た。
ｃ．０．５６ｇ（５．５ミリモル）のトリエチルアミンを、３０ミリリットルのジクロロメタン中の０．５ｇ（４．６ミリリットル）のシクロヘキサン−１．３−ジオンの懸濁液に添加し、次いで２０ミリリットルのジクロロメタン中の１．５ｇ（４．６ミリモル）の塩化３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイルを２５℃で滴下した。次いで４０℃にて１２時間攪拌を継続した。冷却後、混合物を水で希釈し、ジクロロメタン相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、濃縮した。得られた残渣を３０ミリリットルのアセトニトリルに溶解し、２．８ｇのトリエチルアミン、次いで０．１５ｇのアセトンシアノヒドリンを添加し、室温にて１２時間攪拌を継続した。この後、反応バッチを濃縮し、残渣を酢酸エチルに取り込み、溶媒を希塩酸で抽出した。水で二回洗浄後、有機相を濃度５％の炭酸カリウム溶液で抽出した。水相をｐＨ６と成した後、酢酸エチルで再抽出した。乾燥および濃縮により、融点９５−９８℃の２−［３−（３−イソプロピルイソキサゾール−５−イル）−４−メチルスルホニルベンゾイル］シクロヘキサン−１，３−ジオン０．５１ｇ（化学量論量の２８％）を得た。
同様の方法で以下の表に記載の化合物を得た。

Claims (10)

1. 式Ｉ
   

   

   で表され、式中
   Ｌ、Ｍがそれぞれ水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシを意味し、これら各基は非置換であっても、１−５個のハロゲン原子またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシ基により置換されていてもよく、またはそれぞれハロゲン、シアノ、ニトロ、−（Ｙ）_n−Ｓ（Ｏ）_mＲ⁷で表される基または−（Ｙ）_n−ＣＯ−Ｒ⁸で表される基を意味し、
   Ｚが酸素、硫黄および窒素から選択される１〜３個のヘテロ原子を有し、非置換であっても、ハロゲン、シアノ、ニトロ、−ＣＯ−Ｒ⁸、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノにより置換されてもよい、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルによって置換されているフェニルによって置換されてもよい、または互変異性状態のヒドロキシル基として存在可能なオキソ基によって置換されてもよい、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換された縮合フェニル環と共に、または縮合炭素環と共に、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換された縮合した第二の複素環と共に二環化合物を形成する、５員または６員の複素環式飽和または不飽和基を意味し、
   ＹがＯまたはＮＲ⁹を意味し、
   ｎが０または１であり、
   ｍが０、１または２であり、
   Ｒ⁷がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルまたはＮＲ⁹Ｒ¹⁰を意味し、
   Ｒ⁸がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはＮＲ⁹Ｒ¹⁰を意味し、
   Ｒ⁹が水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルを意味し、
   Ｒ₁₀がＣ₁−Ｃ₄アルキルを意味し、
   Ｑが２位に結合し、式ＩＩ
   

   

   で表され、式中
   Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴およびＲ⁶がそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルを、
   Ｒ⁵が水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたは−ＣＯＯＲ¹⁰で示される基を、
   Ｒ³が水素、または１−３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオおよびＣ₁−Ｃ₄アルコキシを有しても良いＣ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₃−Ｃ₆シクロアルキルを、または
   Ｒ³がテトラヒドロピラン−３−イル、テトラヒドロピラン−４−イル、またはテトラヒドロチオピラン−３−イルをそれぞれ意味するか、もしくはＲ³とＲ⁵が合体して結合または３員から６員までの炭素環基を形成する、シクロヘキサン−１，３−ジオン環を意味することを特徴とする、ベンゾイル誘導体、または化合物Ｉの農業上使用可能な塩。
2. 式Ｉａ
   

   

   で表され、式中
   ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
   Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
   ＱおよびＺが請求項１で定義した意味を有することを特徴とする請求項１に記載のベンゾイル誘導体。
3. 式Ｉｂ
   

   

   で表され、式中
   Ｌ、ＭがそれぞれＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
   ＱおよびＺが請求項１に記載した意味を有することを特徴とする請求項１に記載のベンゾイル誘導体。
4. ＬおよびＭが、それぞれ水素、メチル、メトキシ、メチルチオ、塩素、シアノ、メチルスルホニル、ニトロまたはトリフルオロメチルを意味することを特徴とする、請求項１に記載の式Ｉのベンゾイル誘導体。
5. 式ＩＩ
   

   

   で表される特定の出発物質を、式ＩＩＩ
   

   

   で表され、式中Ｔがハロゲンを意味し、Ｌ、ＭおよびＺが請求項１に記載した意味を有する安息香酸誘導体によりアシル化させ、得られたアシル化生成物を触媒の存在下に転移反応させて化合物Ｉを得ることを特徴とする、請求項１に記載の式Ｉの化合物の製造法。
6. 請求項１に記載の式Ｉで示される少なくとも１種類のベンゾイル誘導体と、慣用の不活性添加剤とを含有することを特徴とする除草剤。
7. 請求項１に記載の式Ｉで示されるベンゾイル誘導体の除草有効量を植物またはその生長圏に作用させることを特徴とする、望ましくない草木の防除方法。
8. 式ＩＩＩ
   

   

   で表され、式中Ｔがハロゲン、ＯＨ、またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、Ｌ、Ｍ、Ｚが請求項１に記載の意味を有する安息香酸誘導体であり、且つ
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）を、ＬがＦ（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ（ＣＨ₃）₂、ＯＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ₂ＣＨ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂、ＯＣＨ₃、ＯＣＨ₂ＣＨ₃、ＯＨ、ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₃又はＯＣ（ＣＨ₃）₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）を、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ又はＯＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）を、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₂ＣＨ₃又はＯＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ又はＣｌ（４位）を、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₂ＣＨ₃又はＯＣＨ₃を意味する（Ｍ＝Ｆ（４位）、Ｌ＝Ｃｌ（６位）且つＴ＝ＯＨの場合を除く）場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ₂ＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨを意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＣｌ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＦ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨを意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   又は
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨを意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＨ（４位）、ＬがＣｌ（６位）を意味し、そしてＴがＯＨ、ＯＣＨ₃又はＯＣＨ（ＣＨ₃）₂を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、
   

   

   を意味し、ＭがＯＣＨ₃（２位）、ＬがＣＨ₃（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   Ｚが、ピロリジノ基を意味し、ＭがＣＯＯＣＨ₃（２位）を、ＬがＨ、ＣＨ₃₃（４位）又はＣＨ₃（６位）を意味し、そしてＴがＯＣＨ₃を意味する場合の安息香酸誘導体、
   ５−（２，５−ジメチル−３−チエニル）−３−メチルフタル酸ジメチルエステル、メチル２−メトキシ−５−メチルスルホニル−３−ピロール−１−イル）ベンゾアート、２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）安息香酸、ジメチル５−（１，１−ジメチルエチル）−３−（１−ピロリジニル）−１，２−ベンゼンジカルボキシラート、及びジメチル５−メチル−３−（１−ピロリジノ）−フタラート
   が除外されている安息香酸誘導体。
9. 式ＩＩＩａ
   

   

   で表され式中
   Ｔが塩素、ＯＨまたはＣ₁−Ｃ₄アルコキシを、
   ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロ、シアノを、
   ＭがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、
   Ｚが請求項１に記載の意味を有することを特徴とする請求項８に記載のベンゾイル誘導体。
10. Ｚが酸素、硫黄および窒素から選択される１〜３個のヘテロ原子を有し、非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₃−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアミノにより置換された、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換されたフェニルによって置換された、５員または６員ヘテロ芳香族構造、または非置換またはハロゲン、シアノ、ニトロ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルにより置換された、５員または６員環を有するベンゾ縮合ヘテロ芳香族構造を意味し、
    Ｌ、ＭおよびＱが請求項１に記載の意味を有することを特徴とする請求項１に記載の式Ｉのベンゾイル誘導体。