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JP2022121492A - 光源装置及び発光装置 - Google Patents

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剛史 小野
Takefumi Ono
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Takashi Ono
浩由 東坂
Hiroyoshi Tosaka
俊雄 幡
Toshio Hata
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Abstract

【課題】光源装置の光取り出し効率、及び発光の均一性を向上させ、光源装置の全体的なサイズを小さくすることができる光源装置等を提供する。【解決手段】光源装置は、駆動回路と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、少なくとも2個以上であり、III族窒化物半導体からなる複数の発光素子と、前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を赤色の光の波長に変換する赤色変換層と、前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を緑色の光の波長に変換する緑色変換層と、前記赤色変換層上に配置され、前記赤色の光のみを透過する赤色カラーフィルタ層と、前記緑色変換層上に配置され、前記緑色の光のみを透過する緑色カラーフィルタ層とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。【選択図】図7

Description

本発明は、光源装置及び発光装置に関する。
特許文献1には、基板上に発光素子のピクセル化されたアレイが形成され、発光素子の上に金属レイヤを介して蛍光体が配置された混合色発光素子装置が開示されている。また、特許文献2には、基体上に発光素子が配置され、発光素子の上面には、蛍光体を含む透光性部材が設けられている発光装置が開示されている。特許文献2に開示されている発光装置では、発光素子と透光性部材とは、圧着、焼結、または接着剤による接着等の公知の方法により接続される。
日本国公開特許公報「特開2006-054470号公報(2006年2月23日公開)」 日本国公開特許公報「特開2015-126209号公報(2015年7月6日公開)」
特許文献1に開示されている混合色発光素子装置では、発光素子と蛍光体との間に金属レイヤがあるので、光取り出し効率が下がり、装置全体のサイズが大きくなるという問題がある。また、金属レイヤの存在している部分の蛍光体の厚みと、金属レイヤの存在していない部分の蛍光体の厚みとが異なるので、発光素子の面で色ムラが発生する。
また、特許文献2に開示されている発光装置では、発光素子と透光性部材とが、圧着、焼結、または接着剤による接着等の公知の方法により接続されるので、発光素子と透光性部材との間に接着層ができる。このため、光取り出し効率が下がり、装置全体のサイズが大きくなるという問題がある。
本発明の一態様は、光源装置の光取り出し効率、及び発光の均一性を向上させ、光源装置の全体的なサイズを小さくすることを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る光源装置は、駆動回路と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる発光素子と、前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を変換する色変換層とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
また、本発明の一態様に係る光源装置は、駆動回路と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる発光素子と、前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を変換する蛍光体層と、前記蛍光体層上に配置されたカラーフィルタ層とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
さらに、本発明の一態様に係る光源装置は、駆動回路と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる複数の発光素子と、前記複数の発光素子の各々と一対一に対応し、かつ、対応する前記発光素子の前記光出射面と接触し、対応する前記発光素子の前記光出射面から出射される光の波長を変換する、複数の色変換層と、前記色変換層の間に配置された光吸収層または光反射層とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
本発明の一態様によれば、光源装置の光取り出し効率、及び発光の均一性を向上させ、光源装置の全体的なサイズを小さくすることができるという効果を奏する。
本発明の実施形態1に係る光源装置の色変換層の形状、及び光源装置の構造を示す図である。(a)は色変換層の形状が直方体である場合を示す図であり、(b)は光源装置の上面視を示す図である。(c)は光源装置の側面図であり、(d)は色変換層の上面の面積より色変換層の下面の面積の方が大きい場合を示す図であり、(e)は色変換層の形状が上面に角がなく丸みを帯びた形状である場合を示す図である。 本発明の実施形態1に係る光源装置の断面及び上面視を示す図である。(a)は光源装置が色変換層を備える場合を示す図であり、(b)は光源装置が樹脂を備える場合を示す図であり、(c)は(b)に示す光源装置の上面視を示す図である。(d)は(c)に示す光源装置の側面図であり、(e)は光源装置が固定樹脂を備える場合を示す図であり、(f)は光源装置が3種類の色変換層を備える場合を示す図である。 図2に示す光源装置の製造方法を示す図である。 図2に示す光源装置の変形例1である光源装置の断面図である。(a)は光源装置が透光性樹脂を備える場合を示す図であり、(b)は透光性樹脂が色変換層の側面及び上面を覆っている場合を示す図であり、(c)は(a)に示す光源装置から透光性樹脂を除いた光源装置を示す図である。 図2に示す光源装置の変形例1である光源装置の断面及び上面視を示す図である。(a)は光源装置の各色変換層の厚さが異なる場合を示す図であり、(b)は(a)に示す光源装置の上面視を示す図である。(c)は(b)に示す光源装置の側面図であり、(d)は光源装置の各色変換層の幅が異なる場合を示す図である。 図2に示す光源装置の変形例2である光源装置の断面図である。 本発明の実施形態2に係る光源装置の断面図である。(a)は光源装置がカラーフィルタ層を備える場合を示す図であり、(b)はカラーフィルタ層の厚さが異なる場合を示す図である。(c)はカラーフィルタ層が色変換層を覆っている場合を示す図であり、(d)は色変換層の厚さが異なる場合を示す図である。 本発明の実施形態3に係る光源装置の断面及び上面視を示す図である。(a)は1つの黄色変換層が3つの青色発光素子を覆っている場合を示す図であり、(b)は各カラーフィルタ層の厚さ及び幅が異なっている場合を示す図であり、(c)は各カラーフィルタ層の厚さが異なっている場合を示す図である。(d)は(c)に示す光源装置の上面視を示す図であり、(e)は(d)に示す光源装置の側面図であり、(f)は(c)に示す光源装置から色変換層を変更した場合を示す図である。 本発明の実施形態4に係る光源装置の断面図である。
〔実施形態1〕
本発明の実施の形態について、図1~図6に基づいて説明すれば、以下のとおりである。図1は、本発明の実施形態1に係る光源装置1の色変換層40~42の形状、及び光源装置1の構造を示す図である。図2は、本発明の実施形態1に係る光源装置1~1cの断面及び上面視を示す図である。
光源装置1は、図1の(a)に示すように、基板10、電極20、青色発光素子30、及び色変換層40を備えている。また、光源装置1は、図1の(b)及び(c)に示すように、個々の青色発光素子30が、基板10上にm×n(m、nは自然数)の格子状に配置されたアレイ(構造体)であってもよい。アレイには、青色発光素子30が等間隔(等ピッチ)に配置されてもよい。具体的には、例えば、隣接する青色発光素子30間の距離が統一されていてもよい。
基板10は、少なくともその表面が青色発光素子30と接続できるよう、配線を形成したものが利用できる。基板10は、例えばシリコン、ゲルマニウム、シリコンカーバイド、またはIn-Ga-Zn-O系からなってもよい。また、基板10は単層構造であってもよく、積層構造であってもよい。基板10は、駆動回路11を含んでおり、例えば、基板10の上面に駆動回路11が設けられていてもよい。駆動回路11は、青色発光素子30のON/OFFを制御する。基板10に青色発光素子30が複数配置されている場合、駆動回路11は、青色発光素子30を個別に制御してもよい。基板10の上面には、電極20を介して青色発光素子30が接続されている。駆動回路11は、青色発光素子30の直下に配置されることにより、光源装置1の上面視の面積を小さくすることができ、より小型の光源装置1(後述する発光装置)を実現することができる。また、青色発光素子30の直下に駆動回路11を配置することにより、青色発光素子30と駆動回路11との間の配線容量及び抵抗を小さくすることができ、遅延の少ない光源装置1(発光装置)を製造することができる。
また、図2~図9では、説明の便宜上、光源装置1に複数配置された青色発光素子30のうち、近接する3つの青色発光素子30に着目している。図2の(a)に示すように、光源装置1では、基板10の上面に、電極20を介して3つの青色発光素子30が接続されていてもよい。電極20については後述する。光源装置1では、3つの青色発光素子30の光出射面(上面)が、略同一平面上にある。これにより、青色発光素子30の光出射面に色変換層40を容易に塗布することができる。
基板10は、青色発光素子30を駆動するための回路を有している。基板10上で電極20と青色発光素子30の電極とが接合することにより、基板10と青色発光素子30とが電気的に接合される。
青色発光素子30の一例としては、公知のもの、具体的には半導体発光素子、例えば、III-V族化合物半導体を利用できる。中でも、III族窒化物半導体であるGaN系半導体は、蛍光物質を効率良く励起できる短波長の光を発光することが可能であるため、青色発光素子30として好ましい。青色発光素子30は、III族窒化物半導体からなっていてもよく、例えば、GaN系材料及びInGaN系材料からなっていてもよい。青色発光素子30は、例えば、p型GaN層、InGaN層、及び基板10側とは反対側にある光出射面を有するn型GaN層が、この順に配置された青色LED(Light Emitting Diode)であってもよい。また、青色発光素子30は、青色レーザーであってもよい。青色発光素子30は、フリップチップ型である。フリップチップ型の青色発光素子30を用いることにより、大きな電流を印加することが可能となり、高輝度の光源装置1を実現することができる。つまり、青色発光素子30の光出射面には電極が設けられておらず、青色発光素子30の光出射面は、III族窒化物半導体(例えば、GaN系材料)からなっていてもよい。
青色発光素子30は、後述する成長基板18をサファイア基板として、そのサファイア基板を剥離して形成されたものが利用できる。また、成長基板18は、シリコン、GaN、AlN、またはAlGaNなどからなっていてもよい。青色発光素子30の発光ピーク波長は、380~490nm、より好ましくは440~470nmである。青色発光素子30は発光チップであり、発光面の面積が1500μm以下(例えば、発光面のサイズが20μm×60μmのチップまたは15μm×45μmのチップ)、好ましくは450μm以下(例えば、発光面のサイズが12μm×36μmのチップまたは8μm×24μmのチップ)、より好ましくは100μm以下(例えば、発光面のサイズが5μm×15μmのチップまたは2μm×6μmのチップ)である。青色発光素子30のサイズが小さいほど、小型かつ高精細な光源装置1を製造することができる。また、青色発光素子30間の距離は、20μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは2μm以下である。青色発光素子30のサイズ、及び青色発光素子30間の距離は、後述する発光装置に求められる装置のサイズ、及び表示画像の解像度により決定される。
色変換層40は、青色発光素子30の光出射面と直接接触し、青色発光素子30の光出射面から出射される光の波長を変換する。具体的には、例えば、色変換層40は、青色発光素子30の光出射面と接触し、色変換層40の直下に配置される青色発光素子30からの発光の波長を変換し、黄色光を出射してもよい。つまり、色変換層40は、色変換材料である、黄色蛍光体及び/または光吸収材料を含有する黄色変換層であってもよい。光吸収材料は、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタ、またはイメージセンサー用のカラーレジストに用いられるような色素などの材料であってもよい。色変換層40に、蛍光体に加えて、光吸収材料を含有させることで、より細やかな光スペクトルの制御を行うことができる。色変換層40は、例えば、黄色蛍光体としてYl512:Ce3+を含有する。また、図2の(a)に示すように、青色発光素子30が3つある場合、色変換層40は、3つの青色発光素子30のそれぞれの光出射面に配置される。色変換層40は、例えば、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、及びアクリル系の樹脂に蛍光体を混錬させて形成されてもよい。上記樹脂は、色変換層40中に蛍光体を保持するためのものである。色変換層40に含有される蛍光体の材料は、例えば、以下に示す(1)~(4)であってもよい。
(1) (MI)3-x1Cex1(MII)12(MIはY、Lu、Gd、及びLaのうちの少なくとも1つを示し、MIIはAl及びGaのうちの少なくとも1つを示し、x1は0.005≦x1≦0.20を満たす。)で表される3価のセリウムを賦活した酸化物蛍光体。
(2) (MIII)2-x2Eux2SiO(MIIIはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示し、x2は0.03≦x2≦0.20を満たす。)で表される2価のユーロピウム賦活珪酸塩蛍光体。
(3) (MIV)3-x3Cex3Si11(MIVはLu、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。x3は0.01<x3≦0.2を満たす。)で表される3価のセリウムを賦活した窒化物蛍光体。
(4) [Eux4(MV)1-x4a1Sib1Alc1d1e1(a1は0.15≦a1≦1.5を満たし、x4は0≦x4≦1を満たし、b1及びc1はb1+c1=12を満たし、d1及びe1はd1+e1=16を満たす。MVはLi、Na、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。)で表されるα型SiAlONである2価のユーロピウムを賦活した酸窒化物蛍光体。
また、色変換層40は、黄色光とは異なる色の光を出射する色変換層であってもよい。色変換層40は、緑色蛍光体または赤色蛍光体を含有した色変換層であってもよく、緑色蛍光体と赤色蛍光体とを混合した色変換層であってもよい。なお、後述の実施形態においては、発光素子として、青色発光素子30ではなく、紫色発光素子30aを用いる場合があるが、その場合においてもこれらの黄色蛍光体を単独で用いて、または別の蛍光体と同時に用いて、色変換層を構成してもよい。また、色変換層に蛍光体だけでなく色吸収材料を含有させて、各々の色変換層を構成することもできる。
色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料などの色変換材料のサイズは、メディアン径で2μm以下、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.2μm以下である。色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料のサイズは、青色発光素子30の発光面よりも小さい。また、色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料のサイズは、基板10上に配置される青色発光素子30間の距離よりも小さい。色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料のサイズが、メディアン径で0.5μm以下であると、重力運動よりもブラウン運動が大きくなるので、色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料の自然沈降を抑制することができる。また、色変換層40に含有される蛍光体及び光吸収材料のサイズが、メディアン径で0.2μm以下であると、色変換層40内に密に蛍光体または光吸収材料を充填することができ、色変換層40の厚さを薄くすることができる。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さである。色変換層40の厚さは、30μm以下、好ましくは10μm以下、より好ましくは4μm以下である。色変換層40の厚さが薄いほど、その色変換層40の隣の色変換層40の下方に位置する青色発光素子30からの発光の影響が小さくなる。色変換層40の幅は、青色発光素子30の幅と同一である、または青色発光素子30の幅より大きい。幅とは、基板10から青色発光素子30に向かう方向と直交する方向に沿った幅である。
色変換層40の形状は、図1の(a)に示すように、直方体の形状であってもよい。また、図1の(d)に示すように、青色発光素子30の光出射面には、色変換層40に代えて、色変換層41が配置されてもよい。色変換層41は色変換層40と比べて形状が異なる。色変換層41の形状は、色変換層41の上面の面積より色変換層41の下面の面積の方が大きい。さらに、図1の(e)に示すように、青色発光素子30の光出射面には、色変換層40に代えて、色変換層42が配置されてもよい。色変換層42は色変換層40と比べて形状が異なる。色変換層42の形状は、色変換層42の上面に角がなく丸みを帯びた形状である。青色発光素子30の光出射面には、色変換層40に代えて、色変換層41または色変換層42など、円柱、多角柱、円錐台、多角錐台、及び半球の形状の色変換層を配置してもよい。また、青色発光素子30の光出射面には、円柱、多角柱、円錐台、多角錐台、及び半球の形状が並んだ凹凸形状の色変換層を配置してもよい。これにより、青色発光素子30の直上方向に出射される光の成分を多くすることができる。また、光取出し効率を向上させたり、光配向特性を制御したりするために、各々の青色発光素子30に、複数の種類の形状の色変換層を配置してもよい。
色変換層40の蛍光体及び光吸収材料の濃度は、10wt%以上、好ましくは25wt%以上である。色変換層40の蛍光体及び光吸収材料の濃度を高くすることができれば、色変換層40の厚さを薄くすることができる。色変換層40の厚さが薄くなることで、隣の色変換層40へ出射される光の成分が少なくなるので、別々の色変換層40から出射される光が混合することを低減することができる。また、色変換層40内では蛍光体及び光吸収材料の濃度勾配が存在する場合があり、色変換層40の下面側の蛍光体及び光吸収材料の濃度が高いとき、青色発光素子30への放熱経路が短くなる。よって、色変換に伴う、蛍光体及び光吸収材料から発せられる熱の放熱性が向上するため、蛍光体及び光吸収材料の色変換性能を高くすることができる。また、色変換層にアルミナやシリカ、チタニアのフィラーを混錬させたりすることで、光配向特性を制御したり、光取出し効率を向上させたりすることができる。
また、光源装置1aは、図2の(b)~(d)に示すように、光源装置1と比べて樹脂50(光遮蔽層)を備える点が異なる。樹脂50は、青色発光素子30及び電極20を基板10に固定させる。樹脂50は、青色発光素子30の側面から出射される光、及び色変換層40から出射される光を遮蔽する光遮蔽機能を有しており、光を吸収または反射する材料からなってもよい。樹脂50の光遮蔽率は50%以上であることが好ましい。樹脂50が光を吸収するような材料であれば、樹脂50の色は黒色に近く、樹脂50が光を反射するような材料であれば、樹脂50は白色に近い。樹脂50は、アンダーフィルとも呼ばれ、一例として液状である樹脂を硬化させて形成することが可能である。樹脂50は、光源装置1aにおける、基板10の上部と、青色発光素子30の側面と、電極20の側面とを少なくとも含めた領域に埋め込まれている。また、3つの青色発光素子30の光出射面と、樹脂50の上面とは、略同一平面上にある。
光源装置1aに樹脂50が設けられることにより、以下に説明する効果が得られる。具体的には、各青色発光素子30の光が、各青色発光素子30上の色変換層により色変換されるとき、青色発光素子30が、その青色発光素子30の隣の青色発光素子30の上方に位置する色変換層により色変換される確率が減る。これにより、鮮明な画像を得ることができる。また、青色発光素子30の保持強度が上がり、光源装置1aの寿命を長くすることができる。さらに、青色発光素子30の光出射面と、光遮蔽層の上面とが略同一平面上にあるので、色変換層の形成を容易に行うことができる。
さらに、光源装置1bは、図2の(e)に示すように、光源装置1aと比べて固定樹脂60を備えている点が異なる。固定樹脂60は、色変換層40を青色発光素子30及び樹脂50に固定させる。固定樹脂60は、色変換層40の側面及び上面、並びに樹脂50の上面を覆っている。光取出し効率の向上を優先させる場合、固定樹脂60の透過率は、青色発光素子30及び色変換層40から出射される光の波長に対して高いことが望ましい。また、光配向特性を変更する、または硬さを変更する場合、アルミナ、シリカ、及び/またはチタニアのフィラーを混錬することもでき、凹凸形状にするなどのように表面形状を変更することで光取り出し効率及び光配向特性を変化させることもできる。
光源装置1cは、図2の(f)に示すように、光源装置1aと比べて3つの青色発光素子30が3つの紫色発光素子30aに変更されている点が異なる。また、光源装置1cは、光源装置1aと比べて3つの色変換層40がそれぞれ、青色変換層40a、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cに変更されている点が異なる。光源装置1では、1種類の色変換層を用いていたが、光源装置1cでは、3種類の色変換層を用いている。例えば、青色変換層40aは、青色蛍光体としてSr(POCl:Eu2+を含有し、緑色変換層40bは、緑色蛍光体として(Ba、Sr)SiO:Eu2+を含有し、赤色変換層40cは、赤色蛍光体としてCaSiO:Eu2+を含有する。本発明の一態様に係る光源装置では、変換後の光の波長が異なるように、2種類以上の色変換層を用いてもよい。これにより、様々な光を発光させることができる。また、青色変換層40a、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cはそれぞれ、色変換材料(蛍光体、または色素など光吸収材料)の濃度が異なっていてもよい。色変換層の色変換材料の濃度が、色変換層の種類ごとに異なることにより、例えば、色ごとに適切な色変換材料の濃度に設定し、最適な光を出射することができる。
さらに、1つの色変換層に複数の種類の蛍光体及び/または光吸収材料が含まれてもよい。例えば、光取り出し効率と発光色とのバランスをとるために、KSiF:Mn4+とCaAlSiN:Eu2+とを組み合わせて赤色変換層40cを形成してもよい。KSiF:Mn4+は、半値幅10nm以下である630nm前後の発光ピーク波長を有し、CaAlSiN:Eu2+は、半値幅90~105nm程度の範囲である650nm前後の発光ピーク波長を有する。このように、色変換層が、複数の種類の蛍光体及び/または光吸収材料を含有していることにより、色変換層から出射される光のスペクトルを形成することが可能である。
紫色発光素子30aの一例としては、青色発光素子30と同様に、公知のもの、具体的には半導体発光素子を利用できる。中でも、III族窒化物半導体であるGaN系半導体は、蛍光物質を効率良く励起できる短波長の光を発光することが可能であるため、紫色発光素子30aとして好ましい。紫色発光素子30aは、III族窒化物半導体からなっていてもよく、例えば、GaN系材料及びInGaN系材料からなっていてもよい。つまり、紫色発光素子30aの光出射面には電極が設けられておらず、紫色発光素子30aの光出射面は、III族窒化物半導体(例えば、GaN系材料)からなっていてもよい。紫色発光素子30aは、例えば、p型GaN層、InGaN層、及び基板10側とは反対側にある光出射面を有するn型GaN層が、この順に配置された紫色LEDであってもよい。紫色発光素子30aの発光ピーク波長は365~420nm、好ましくは390~420nmである。
青色変換層40aは、3つのうち1つの紫色発光素子30aの光出射面(上面)に配置されており、青色変換層40aの直下に配置される紫色発光素子30aからの発光の波長を変換し、青色光を出射する。青色変換層40aに含有される蛍光体の材料は、例えば、以下に示す(5)~(7)であってもよい。
(5) (MVI)5-x5Eux5(PO(MVII)(MVIはCa、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示す。MVIIはF、Cl、及びBrのうちの少なくとも1つを示す。x5は0.1≦x5≦1.5を満たす。)で表される2価のユーロピウムを賦活したリン酸化物蛍光体。
(6) (MVIII)1-x6Eux6MgAl1017(MVIIIはSr及びBaのうちの少なくとも1つを示す。x6は0.005≦x6≦0.2を満たす。)で表される2価のユーロピウムを賦活したアルミ酸化物蛍光体。
(7) (MIX)1-x7Cex7Si(MIXはLu、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。x7は0.005≦x7≦0.2を満たす。)で表される3価のセリウムを賦活した窒化物蛍光体。
緑色変換層40bは、3つのうち1つの紫色発光素子30aの光出射面に配置されており、緑色変換層40bの直下に配置される紫色発光素子30aからの発光の波長を変換し、緑色光を出射する。緑色変換層40bに含有される蛍光体の材料は、以下の(8)~(15)であってもよい。
(8) Eux8SiAl(0.001≦x8≦0.2)で表されるβ型SiAlONである2価のユーロピウムを賦活した酸窒化物蛍光体。
(9) (MX)3-x9Cex9(MXI)12(MXはLu、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。MXIはAl及びGaのうちの少なくとも1つを示す。x9は0.005≦x9≦0.3を満たす。)で表されるガーネット型結晶構造を有する3価のセリウムを賦活した酸化物蛍光体。
(10) (MXII)2-x10Eux10SiO(MXIIはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示す。x10は0.005≦x10≦0.4を満たす。)で表される蛍光体(2価のユーロピウムを賦活した珪酸塩蛍光体)。
(11) (MXIII)3-x11Cex11(MXIV)Si12(MXIIIはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示す。MXIVはLi、Na、K、Cs、Rb、Mg、Ca、Ba、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Gd、及びLuのうちの少なくとも1つを示す。x11は0.005≦x11≦0.3を満たす。)で表される3価のセリウムを賦活した珪酸塩蛍光体。
(12) (MXV)3-x12Cex12Si11(MXVはLu、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。x12は0.005≦x12≦0.2を満たす。)で表される3価のセリウムを賦活した窒化物蛍光体。
(13) (MXVI)1-y1Euy1Mg1-x13Al10-x13Mnx13+y117(MXVIはSr及びBaのうちの少なくとも1つを示す。y1は0.005≦y1≦0.2を満たし、x13及びy1は0.005≦x13+y1≦0.2を満たす。)で表される2価のユーロピウムと2価のマンガンとを賦活したアルミン酸塩蛍光体。
(14) (MXVII)3-x14Eux14Si12(MXVIIはSr及びBaのうちの少なくとも1つを示す。x14は0.005≦x14≦0.2を満たす。)で表される2価のユーロピウムと2価のマンガンとを賦活した珪酸塩蛍光体。
(15) (MXVIII)2-x15Eux15SiO(MXVIIIはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示し、x15は0.03≦x15≦0.10を満たす。)で表される2価のユーロピウム賦活珪酸塩蛍光体。
赤色変換層40cは、3つのうち1つの紫色発光素子30aの光出射面に配置されており、赤色変換層40cの直下に配置される紫色発光素子30aからの発光の波長を変換し、赤色光を出射する。赤色変換層40cに含有される蛍光体の材料は、以下の(16)~(21)であってもよい。
(16) (MXIX)1-x16Eux16(MXX)SiN(MXIXはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示す。MXXはAl、Ga、In、Sc、Y、La、Gd、及びLuのうちの少なくとも1つを示す。x16は0.005≦x16≦0.2を満たす。)で表される2価のユーロピウムを賦活した窒化物蛍光体。
(17) (MXXI)2-x17Eux17Si(MXXIはMg、Ca、Sr、及びBaのうちの少なくとも1つを示す。x17は0.005≦x17≦0.2を満たす。)で表される2価のユーロピウムを賦活した窒化物蛍光体。
(18) [Eux18(MXXII)1-x18a2Sib2Alc2d2e2(a2は0.15≦a2≦1.5を満たし、x18は0≦x18≦1を満たし、b2及びc2はb2+c2=12を満たし、d2及びe2はd2+e2=16を満たす。MXXIIはLi、Na、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。)で表されるα型SiAlONである2価のユーロピウムを賦活した酸窒化物蛍光体。
(19) (MXXIII)((MXXIV)1-x19Mnx19)F(MXXIIIはLi、Na、K、Rb、及びCsのうちの少なくとも1つを示す。MXXIVはGe、Si、Sn、Ti、及びZrのうちの少なくとも1つを示す。x19は0.005≦x19≦0.3を満たす。)で表される4価のマンガンを賦活したフッ化金属塩蛍光体。
(20) (MXXV)2-x20Eux203-y2y2(MXXVはY、La、及びGdのうちの少なくとも1つを示す。x20は0.005≦x20≦0.4を満たし、y2は0.0≦y2≦2.0を満たす。)で表される3価のユーロピウムを賦活した硫酸化物蛍光体。
(21) Ca2-x21Eux21SiO(x21は0.5≦x21≦1.5を満たす。)で表される2価のユーロピウムを賦活した酸化物蛍光体。
また、後述の実施形態においては、発光素子として、紫色発光素子30aではなく、青色発光素子30を用いる場合があるが、その場合においてもここに示した緑色蛍光体または赤色蛍光体を用いることができる。色変換層に含まれる蛍光体は上記に限らないし、発光色に限らず複数の蛍光体を含有させて各々の色変換層を構成することができる。さらに、色変換層に蛍光体だけでなく色吸収材料を含有させて、各々の色変換層を構成することもできる。また、色変換層にアルミナ、シリカ、及び/またはチタニアのフィラーを混錬させたり、色変換層の表面形状を変更したりすることで、色変換層の光配向特性を制御したり、光取出し効率を向上させたりすることができる。なお、色変換層の表面形状は、円錐形状、多角錐形状、円錐台形状、多角錐台形状、または半球形状であってもよい。また、円錐形状、多角錐形状、円錐台形状、多角錐台形状、または半球形状が並んだ凹凸を持つ形状であってもよい。色変換層の光取出し効率を向上させたり、光配向特性を制御したりするために、各々の青色発光素子30に、複数の種類の形状の色変換層を配置してもよい。
(光源装置1の製造方法)
次に、光源装置1の製造方法について図3に基づいて説明する。図3は、光源装置1の製造方法を示す図である。光源装置1の製造方法について説明する前に、電極20及び金属配線12について説明する。
電極20は、例えば金(Au)またはAu-Sn(表面はAu)からなる電極であり、基板10と青色発光素子30とを電気的に接続するためのものである。具体的には、電極20は、金属配線12と青色発光素子30の表面に設けられた金属端子(図示せず)とを電気的に接続するパッド電極として機能するもので、バンプとも呼ばれる。
金属配線12は、青色発光素子30に制御電圧を供給する制御回路を少なくとも含む配線である。電極20における金属配線12に接続される第1部分は基板側電極201であり、電極20における、青色発光素子30の表面に設けられた金属端子(図示せず)に接続される第2部分は、発光素子側電極202である。
(青色発光素子30の形成工程)
まず、図3の(a)に示すように、成長基板18に青色発光素子30を設ける。成長基板18は、青色発光素子30の半導体層をエピタキシャル成長させる基板である。III-V族化合物半導体及びIII族窒化物半導体における基板としては、公知のものを利用できる。また、III-V族化合物半導体及びIII族窒化物半導体としては、公知のものを利用できる。
(発光素子側電極202の形成工程)
青色発光素子30の形成後、図3の(b)に示すように、青色発光素子30の上に複数の発光素子側電極202を形成する。この形成には、周知の一般的な電極形成技術が使用される。発光素子側電極202の代表的な材料は、例えば金(Au)である。
(分離溝19の形成工程)
発光素子側電極202の形成後、図3の(c)に示すように、青色発光素子30に複数の分離溝19を形成する。この形成には、標準的な半導体選択エッチングプロセスが使用される。図3では、隣り合う発光素子側電極202の間に、分離溝19を形成する。形成される分離溝19は、成長基板18の表面にまで達する。分離溝19が形成されることによって、一枚の青色発光素子30が、成長基板18の表面において複数の個別の青色発光素子30に分割される。
(2つの基板の位置合わせ工程)
分離溝19の形成後、図3の(d)に示すように、金属配線12、絶縁層13、及び基板側電極201が予め形成され、駆動回路11を有する基板10を用意する。絶縁層13は、酸化膜、樹脂膜、及び樹脂層によって構成される絶縁性の層である。絶縁層13は、基板10と電極20とが直接接触することを防ぐ。基板10に対する基板側電極201の形成には、周知の一般的な電極形成技術が使用される。基板側電極201の代表的な材料は、例えば金(Au)である。基板10の用意と並行して、図3の(d)に示すように、成長基板18を反転させる。反転後、各基板側電極201と各発光素子側電極202とが対向するように、基板10と成長基板18とを位置合わせする。
(基板10の貼り合わせ工程)
位置合わせの完了後、図3の(e)に示すように、基板10と成長基板18とを貼り合わせる。その際、既存の貼り合わせ技術を使用して、対応する基板側電極201及び発光素子側電極202が接合するように、基板10及び成長基板18を加圧によって上下から抑える。加えて、基板10の貼り合わせ工程中に基板10を加熱する処理により基板側電極201及び発光素子側電極202の反応性を向上させたり、基板10の貼り合わせ前のプラズマ処理などにより、電極20の清浄表面を露出させたりすることができる。基板10を加熱する処理及びプラズマ処理により、対応する基板側電極201及び発光素子側電極202をより強固に接合することができる。このように、対応する基板側電極201及び発光素子側電極202が一体化され、電極20を構成する。
(樹脂50の形成工程)
貼り合わせ工程の完了後、基板10と成長基板18との間にできた空隙内に、液状樹脂50aを充填する。充填後の状態を図3の(f)に示す。この際、例えば、液状樹脂50aで満たされた容器内に、貼り合わせ後の状態で浸せばよい。液状樹脂50aの主材料は特に限定されないが、例えばエポキシ樹脂である。なお、液状樹脂50aの注入方法は上記以外に注射針、特に基板10と青色発光素子30との間にできた空隙のサイズに合ったマイクロニードルで液状樹脂50aを注入する方法でもよい。この場合の注射針の材料としては金属製、またはプラスチック製などが用いられる。
充填工程では、液状樹脂50aを50℃~200℃の温度範囲内の温度下で充填することが好ましい。これにより、液状樹脂50aを空隙内に正常に充填しやすくなる。さらに、温度範囲は、80℃~170℃であることがより好ましい。これにより、樹脂50の特性(硬化プロセス後の密着性、放熱性など)を損なう恐れを減少させることができる。また、温度範囲は、100℃~150℃であることがなお一層好ましい。これにより、前記空隙に発生する気泡などを少なくすることができ、対流などが発生することなくほぼ完全に充填することができ、光源装置1を製造し易くなる。
特に、個々の青色発光素子30の大きさを、例えば縦幅及び横幅が20μm以下、より好ましくは数μm~10数μm、青色発光素子30の厚さを10μm前後(2μm~15μm)程度の微小サイズとした場合を考える。この場合、基板剥離及び剥離後の工程において液状樹脂50aは固着力向上のための補強部材としてより有用に機能する。これにより、樹脂50の製品間の特性のバラツキをより小さくできるため、光源装置1を製造し易くできる。上記製品とは、個々の青色発光素子30の大きさが、上面視において、縦幅及び横幅が20μm以下、より好ましくは数μm~10数μmの製品である。
空隙内に充填された液状樹脂50aは、図3の(f)に示すように、空隙内に完全に埋め込まれる。これにより、青色発光素子30の側面、電極20の側面及び段差面、並びに基板10の上部に、液状樹脂50aが埋め込まれる。液状樹脂50aの充填完了後、液状樹脂50aを硬化させる。なお、液状樹脂50aを硬化させる方法については特に限定されないが、例えば、液状樹脂50aを加熱する、または、液状樹脂50aに紫外線を照射する、ことにより液状樹脂50aを硬化させてもよい。
(成長基板18の剥離工程)
充填工程の完了後、図3の(g)に示すように、成長基板18を剥離させる。この工程には、既存の剥離技術が使用される。既存の剥離手段の一例として、レーザー光の照射を利用した剥離技術を利用することができる。例えば、青色発光素子30の成長基板にサファイアなどの透明基板を用い、発光素子層としてIII族窒化物半導体を結晶成長した場合、透明基板側からレーザー光を一定条件で照射することにより結晶成長層に与えるダメージを軽減することが可能である。なお、その他の手段としては湿式エッチング法、研削、または研磨法などを用いた成長基板18の剥離も可能である。
樹脂50が電極20及び青色発光素子30を基板10に密着固定しているので、成長基板18を剥離する際、青色発光素子30及び電極20が一緒に剥離されることを防止できる。成長基板18の剥離後、青色発光素子30の光出射面及び樹脂50の上面が露出される。また、成長基板18の剥離後、青色発光素子30の光出射面と、樹脂50の上面とは、略同一平面上にある。
レーザー光の照射による影響は、青色発光素子30における成長基板18側の数nm~数十nmの部分に及ぶだけであり、その影響は十分に小さい。
また、成長基板18の剥離後に、CMP(chemical mechanical polishing)及び/または湿式エッチングを用いて、剥離後の青色発光素子30の光出射面を含む面の平滑性を向上させることができる。また、剥離後残渣を取り除くこともできる。平滑性の向上、及び剥離後残渣を取り除くことにより、次の工程である色変換層40の形成がより容易になり、青色発光素子30から出射される光の光取出し効率を向上させることができる。
GaN材料及びInGaN系材料からなる青色発光素子30を用いた場合、本剥離工程にて成長基板18が剥離されることで、GaN系材料からなる光射出面が形成されることになる。なお、成長基板18の剥離後の青色発光素子30の光出射面はGaとNとから構成されることが一般的である。ただし、青色発光素子30の製造条件及び剥離条件によっては、青色発光素子30の光出射面がGaのみから構成される場合、及び、Nのみから構成される場合もあり得る。本実施形態においては、光出射面がGaのみから構成される場合、及び、光出射面がNのみから構成される場合を含めて、青色発光素子30の光出射面をGaN系材料からなる面としている。
(色変換層40の形成工程)
剥離工程の完了後、以下の(22)~(24)のうちの1つの工程により、色変換層40を形成することができる。以下の(22)~(24)の工程は、色変換層40を形成する工程の一例である。
(22)蛍光体物質を感光性硬化樹脂(フォトレジスト)に混錬して、混錬したものを青色発光素子30の光出射面及び樹脂50の上面に塗布する。一般的なフォトリソグラフィ工程により、必要な蛍光体が入ったレジストを残すことにより蛍光体パターンを形成する。
(23)蛍光体パターンを残さない位置に一般的なフォトプロセスを用いてリフトオフ用のフォトレジストパターンを形成する。このフォトレジストパターンの上に蛍光体が入った樹脂の塗布を行った後、フォトレジストパターンをリフトオフすることで蛍光体が入った樹脂パターン(色変換層40)が形成される。蛍光体が入った樹脂の塗布は、スプレーにて行ってもよい。
(24)蛍光体が入ったインクを一般的な印刷技術を利用して直接形成する。このとき、インクには、蛍光体と共に色素を入れることが可能である。
(固定樹脂60の形成工程)
青色発光素子30の光出射面と同じ面積である面を有する色変換層40(板状の色変換層)を作成し、その色変換層40を青色発光素子30の上に配置する。色変換層40の側面及び上面、並びに樹脂50の上面を樹脂(固定樹脂60が固体になる前の液体状態の樹脂)で覆うことにより、色変換層40を青色発光素子30及び樹脂50に固定させる。固定樹脂60の形成工程が完了後、光源装置1の製造が完了する。ここで説明した固定樹脂60の形成工程は、一例である。
以上により、光源装置1の製造では、成長基板18(サファイア基板)を剥離させているので、成長基板18を含む光源装置と比べて、成長基板18の厚さ(通常100μm程度)の分だけ薄い光源装置1を製造することができる。これにより、光源装置1において、色変換層40は、青色発光素子30の光出射面と直接接触することになる。つまり、青色発光素子30に対する色変換層40の接触面全てが、青色発光素子30の光出射面と直接接触する。
色変換層40と青色発光素子30との間には成長基板18がなく、色変換層40と青色発光素子30の光出射面とが直接接触することにより、色変換層の発熱を放熱する経路が短くなり、放熱性を向上させることができる。成長基板18による光の散乱を低減することができるので、光取り出し効率、及び発光の均一性を向上させることができる。よって、色変換層40から高輝度の光を出射することができる。また、成長基板18を取り除いているので、光源装置1の全体的なサイズが小さくなる。
本発明の一態様においては、青色発光素子30の基板側電極201は、アノード及びカソードがそれぞれ同一の面に形成されており、基板側電極201の基板10側の面にアノード及びカソードが存在する。また、青色発光素子30の基板10側とは反対側の面には、青色発光素子30の構成元素であるIn、Ga、及びNの元素のうち、1つないし複数の元素のみが存在する。
本発明の一態様においては、青色発光素子30から出射される光は、青色発光素子30の基板10側とは反対側の面から取り出され、青色発光素子30の光出射面には電極が存在しない。このため、青色発光素子30から出射される光が、青色発光素子30の光出射面で反射されることがなく、光取り出し効率を高くすることが可能となる。
また、色変換層40と青色発光素子30の光出射面、つまり電極などの金属膜を含まない面とが直接接触する。これにより、青色発光素子30から出射される光は電極などの金属膜による反射の影響が極めて小さく、色変換層40へ効率よく入光される。
色変換層40が青色発光素子30上に直接形成されることで、青色発光素子30と色変換層40との間の境界で、青色発光素子30と色変換層40との間の屈折率の差を小さくすることができる。
青色発光素子30と色変換層40との間に空気または部分的に別の材料から構成される領域もしくは別の材料から構成される層が存在する場合、青色発光素子30の光の反射及び散乱などが生じる可能性がある。上記別の材料とは、青色発光素子30及び色変換層40とは異なる材料である。しかし、上記場合であっても、本発明の一態様では光の反射及び散乱などが生じることはなく、光取り出し効率を高くすることが可能となる。
なお、上記場合であっても、別の構成と青色発光素子30または色変換層40との間の境界で、適切な界面形状または適切な屈折率を有する界面を形成することで、光取り出し効率が高くなる可能性もある。上記別の構成とは、空気または部分的に別の材料から構成される領域もしくは別の材料から構成される層である。
一方、例えば、接着剤などを介して色変換層40が青色発光素子30上に形成される場合、色変換層40と接着剤の層との間の境界、及び色変換層40と接着剤の層との間の境界で異なる屈折率を有するものが互いに接触することになる。これにより、青色発光素子30から出射される光がそれらの境界で屈折または反射されることで、色変換層40への入光の効率が低下することがある。
また、青色発光素子30が、青色発光素子30の一方の面とその面に対向する面との両方に電極を有する上下電極構造からなる場合、青色発光素子30の光出射面側に電極、つまり金属膜が存在することになる。これにより、青色発光素子30から出射される光が色変換層40に入光されることを妨げる。
ここでは、青色発光素子30上に色変換層40が直接形成されることによる効果を記載している。この効果以外にも、青色発光素子30上に色変換層40が直接形成されることで放熱性を向上させ、機械的な特性を改善することができる可能性がある。
上述した製造方法は、あくまで、光源装置1を製造可能とする方法の一例に過ぎない。ここに説明された各工程は、光源装置1を製造し易くするためのものであり、光源装置1の製造方法を構成する工程は、これらに限定されるものではない。
本発明の一態様においては、青色発光素子30と基板10との間に樹脂50が形成される。樹脂50は、基板側電極201のうち基板10側の面及び発光素子側電極202側の面を除いた部分を覆っている。また、樹脂50は、発光素子側電極202のうち青色発光素子30側の面及び基板側電極201側の面を除いた部分を覆っている。樹脂50により、青色発光素子30と基板10との接着力が強くなるため、青色発光素子30と基板10とが剥離しにくくなり、青色発光素子30が基板10上に安定的に保持される。
例えば、成長基板18の剥離工程または色変換層40の形成工程において、青色発光素子30が外力を受ける場合を考える。この場合、基板側電極201と発光素子側電極202とが剥離し、青色発光素子30を電気的に駆動できなくなり、青色発光素子30を発光させられなくなることがある。一方、樹脂50が青色発光素子30と基板10との間に存在することで、青色発光素子30が外力を受ける場合であっても、青色発光素子30と基板10とが剥離する可能性が小さくなり、青色発光素子30が基板10に接着された状態を安定的に保持する。
色変換層40は単層であってもよいし、吸収率または発光スペクトルが互いに異なる複数の色変換層を組み合わせたものであってもよい。色変換層40が単層である場合、色変換層40は単層で設計されるため、加工プロセスを簡易にすることができる。
また、色変換層40を複数の層を重ねて形成することで、本発明の一態様が利用される各々の発光装置の利用状況に合致する色変換層40の特性をより自由度高く実現することが可能となる。例えば、発光装置を屋外で使用する場合、発光装置の輝度がより重要になるため、視感度の高い発光スペクトルが重要になる。一方、映画などの映像鑑賞が主目的となる場合、色の鮮やかさが重要になるため、吸収率または発光スペクトルが互いに異なる複数の色変換層を組み合わせた発光装置が好ましい。この場合、色の再現範囲を大きくすることが可能な発光スペクトルを実現することが可能である。さらに、青色発光素子30から出射される青色の光を完全に色変換することでより純粋な発光色を所望する場合を考える。この場合、主に色変換の機能を有する層、及び色変換しきれなかった青色の光を吸収する機能を有する層などからなる複数の層として光変換層を形成することが好ましい。このように、特定の目的または複数の目的に対して同時に合致するように複数の層から色変換層40を構成してもよい。
(変形例1)
次に、光源装置1の変形例1である光源装置2~2dについて図4及び図5に基づいて説明する。図4は、光源装置1の変形例1である光源装置2~2bの断面図である。図5は、光源装置1の変形例1である光源装置2c、2dの断面及び上面視を示す図である。
光源装置2は、図4の(a)に示すように、光源装置1aと比べて、3つの色変換層40がそれぞれ、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cに変更されている点が異なる。図4の(a)に示す光源装置2においては、例えば、緑色変換層40bは、緑色蛍光体として(Ba、Sr)SiO:Eu2+を含有し、赤色変換層40cは、赤色蛍光体としてCaSiO:Eu2+を含有する。光源装置2では、光源装置2における青色の光を発光させる部分の青色発光素子30の光出射面に、透光性樹脂c1を配置する。また、緑色変換層40bの蛍光体濃度は、赤色変換層40cの蛍光体濃度よりも高い。これは、ストークスシフトが小さいほど光の吸収に不利なことが多いため、色変換層の色が青色と近いほど、その色変換層の蛍光体濃度が高い方がよいからである。このように、本発明の一態様に係る光源装置では、複数の青色発光素子30のうち、少なくとも1個の青色発光素子30上に透光性樹脂c1が形成されていてもよい。これにより、青色発光素子30上に色変換層を必ずしも配置しなくてもよい場合、青色発光素子30に塵等が付着することを防ぐことができる。
透光性樹脂c1は、3つのうち1つの青色発光素子30の光出射面に配置されており、透光性樹脂c1の直下に配置される青色発光素子30からの光を透過し、その光を出射する。透光性樹脂c1は、例えば、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、及びアクリル系の樹脂等であることが好ましい。また、透光性樹脂c1に感光性を付与することで、フォトプロセスを利用した透光性樹脂c1の形成が可能となる。
光源装置2aは、図4の(b)に示すように、光源装置1cと比べて、透光性樹脂c2を備えている点、3つのうち1つの青色発光素子30の光出射面には色変換層が設けられていない点、及び紫色発光素子30aが青色発光素子30に変更されている点が異なる。図4の(b)に示す光源装置2aにおいては、例えば、緑色変換層40bは、緑色蛍光体として(Ba、Sr)SiO:Eu2+を含有し、赤色変換層40cは、赤色蛍光体としてCaSiO:Eu2+を含有する。光源装置2aでは、3つの色変換層の直下にそれぞれ青色発光素子30が配置されているので、青色・緑色・赤色の3色の色変換層のうち、青色の色変換層を不要としている。
透光性樹脂c2は、緑色変換層40b及び赤色変換層40cを、青色発光素子30及び樹脂50に固定させる。透光性樹脂c2は、緑色変換層40bの側面及び上面、並びに赤色変換層40cの側面及び上面を覆っている。また、透光性樹脂c2は、樹脂50の上面を覆っている。これにより、青色発光素子30の光出射面、緑色変換層40b、赤色変換層40c、及び樹脂50の上面を透光性樹脂c2により保護することができる。透光性樹脂c2は、緑色変換層40bからの光、赤色変換層40cからの光、及び透光性樹脂c2の直下に配置される青色発光素子30からの光を透過し、それらの光を出射する。透光性樹脂c2は、例えば、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、及びアクリル系の樹脂であることが好ましい。また、透光性樹脂c2にアルミナ、シリカ、及び/またはチタニアのフィラーを混錬させたり、透光性樹脂c2の表面形状を変更したりすることもできる。これにより、透光性樹脂c2の光配向特性を制御したり、透光性樹脂c2の光取出し効率を向上させたりすることができる。
光源装置2bは、図4の(c)に示すように、光源装置1cと比べて、3つのうち1つの青色発光素子30の光出射面には色変換層が設けられていない点、及び紫色発光素子30aが青色発光素子30に変更されている点が異なる。図4の(c)に示す光源装置2bにおいては、例えば、緑色変換層40bは、緑色蛍光体として(Ba、Sr)SiO:Eu2+を含有し、赤色変換層40cは、赤色蛍光体としてCaSiO:Eu2+を含有する。光源装置2bでは、発光素子として、青色発光素子30を用いているので、青色・緑色・赤色の3色の色変換層のうち、青色の色変換層を不要としている。つまり、複数の青色発光素子30のうち、少なくとも1個の青色発光素子30の光出射面は露出している。これにより、青色発光素子30上に色変換層を必ずしも配置しなくてもよい場合、青色発光素子30から出射される光を外部に直接出射することができる。また、製造工程を簡素なものとすることができる。
光源装置2cは、図5の(a)~(c)に示すように、光源装置2において、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの厚さを変更したものである。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さである。例えば、透光性樹脂c1の厚さは、緑色変換層40bの厚さより大きくてもよい。また、緑色変換層40bの厚さは、赤色変換層40cの厚さより大きくてもよい。このように、色変換層の種類によって、色変換層の厚さが異なってもよい。これにより、ピクセルごとに必要な色の光を発光させることができる。
光源装置2dは、図5の(d)に示すように、光源装置2において、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの幅を変更したものである。幅とは、基板10から青色発光素子30に向かう方向と直交する方向に沿った幅である。例えば、緑色変換層40bの幅は、赤色変換層40cの幅より大きくてもよい。また、赤色変換層40cの幅は、透光性樹脂c1の幅より大きくてもよい。このように、色変換層の種類によって、色変換層の幅が異なってもよい。例えば、青色発光素子30を用いた場合を考える。この場合、青色光を担う青色発光素子30上には透光性樹脂c1が塗布されていることになるが、青色発光素子30からは青色光を取り出すため、色変換層による色変換は不要である。つまり、色変換層に相当する透光性樹脂c1の幅が小さいことは、大きな問題にはならない。一方、緑色光を担う青色発光素子30上には、緑色蛍光体を含有する緑色変換層40bが塗布されているが、緑色変換層40bには、青色光の欠如による色再現範囲の低下を抑制することが求められる。このため、緑色変換層40bの幅は大きい方が有利である。
前述したように、色変換層40の厚さは、各青色発光素子30上に形成された色変換層40ごとに異なっていてもよい。一般的に、緑色蛍光体における青色光の吸収強度は、赤色蛍光体における青色光の吸収強度よりも低い。このため、緑色蛍光体を含む色変換層の厚さは、赤色蛍光体を含む色変換層の厚さより大きいことが好ましい。
また、青色発光素子30の各々に輝度のバラツキまたは発光波長のバラツキがある場合、そのバラツキに応じて、各青色発光素子30上に形成する色変換層40の厚さをそれぞれ変更する。これにより、色変換層40を青色発光素子30上に形成した後の状態で、輝度及び色度にバラツキのない光を出射することを実現することができる。
さらに、フォトプロセスを用いて色変換層40を形成する場合、色変換層40の色ごとで色変換層40の厚さが異なるように、発光装置を設計することが好ましい。
例えば、緑色変換層40bと赤色変換層40cとを形成する場合を考える。この場合、スピンコートまたはスキージにて赤色蛍光体を含むフォトレジストを青色発光素子30上に塗布した後、フォトマスク等を用いて赤色に発光させる青色発光素子30上のみにフォトレジストを硬化させるための光照射を行う。これにより、赤色変換層40cを形成する。
次に、スピンコートまたはスキージにて緑色蛍光体を含むフォトレジストを青色発光素子30上に塗布する。このとき、緑色蛍光体を含むフォトレジストの厚さが、赤色変換層40cの厚さよりも大きくなるようにする。これにより、緑色蛍光体を含むフォトレジストの厚さが赤色変換層40cの厚さよりも大きく、かつ、緑色蛍光体を含むフォトレジストの厚さが均一となるように、緑色蛍光体を含むフォトレジストを塗布することができる。一方、赤色変換層40cを形成した後に緑色変換層40bを形成しようとすると、緑色蛍光体を含むフォトレジストの厚さが赤色変換層40cの厚さよりも小さくなる必要があるため、緑色変換層40bを均一に塗布することは難しい。その後、フォトマスク等を用いて緑色に発光させる青色発光素子30上のみにフォトレジスト硬化させるための光照射を行う。これにより、緑色変換層40bを形成する。
(変形例2)
光源装置1の変形例2である光源装置3について図6に基づいて説明する。図6は、光源装置1の変形例2である光源装置3の断面図である。光源装置3は、図6に示すように、光源装置2cと比べて、青色発光素子30の光出射面が凹凸面a1になっている点が異なる。
凹凸面a1は、凹凸のピッチが一定のピッチになっている面であり、PSS(Patterned Sapphire Substrate:パターン化サファイア基板)が残留した部分である。つまり、青色発光素子30の光出射面にはPSS(2μm程度のピッチ、1μm程度の深さの凹部)がある。表面研磨またはエッチングによりPSSを削ることもできるし、PSSのない成長基板18を使って青色発光素子30を形成することもできる。また、PSSのない成長基板18を使って青色発光素子30を形成した後、湿式エッチング及び/またはドライエッチングなどにより青色発光素子30の光射出面側に凹凸を形成することも可能である。このように、青色発光素子30の光出射面には、凹凸が形成されている。これにより、青色発光素子30から効率的に光を出射することができ、光取り出し効率を向上させることができる。また、凹凸により、青色発光素子30と色変換層(または透光性樹脂c1)との接着面積が大きくなるため、接着強度を向上させることができる。凹凸は、光出射面の最上部から凹んでいる形状が好ましく、凹みは円錐形状がさらに好ましい。円錐の頂点の角度は30°から120°が好ましく、50°から110°がより好ましく、70°から100°がさらに好ましい。また、凹凸により、青色発光素子30と色変換層(または透光性樹脂c1)との接着面積が大きくなるので、青色発光素子30と色変換層(または透光性樹脂c1)との接着強度を向上させることができる。
〔実施形態2〕
本発明の他の実施形態について、図7に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。図7は、本発明の実施形態2に係る光源装置4~4cの断面図である。
光源装置4は、図7の(a)に示すように、光源装置1と比べて、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cを備えている点が異なる。また、光源装置4は、光源装置1と比べて、色変換層40が黄色変換層45(蛍光体層)に変更されている点が異なる。黄色変換層45は、黄色蛍光体、例えば、Yl512:Ce3+を含有する。また、黄色変換層45は、緑色蛍光体と赤色蛍光体とを含有するなどのように、黄色変換層45に異なる種類の蛍光体を複数含有させることにより、青色発光素子30から出射される光を黄色光に変換するものであってもよい。
青色カラーフィルタ層70aは、黄色変換層45の上面と接触し、光吸収材料を含有し、黄色変換層45から出射される光のうち、青色光のみを透過させる。具体的には、青色カラーフィルタ層70aは、黄色変換層45上に配置され、青色カラーフィルタ層70aの直下に配置される黄色変換層45から出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、青色光を出射する。青色カラーフィルタ層70aの幅は、青色カラーフィルタ層70aの直下に配置される黄色変換層45の幅と同一である。幅とは、基板10から青色発光素子30に向かう方向と直交する方向に沿った幅である。
緑色カラーフィルタ層70bは、黄色変換層45の上面と接触し、光吸収材料を含有し、黄色変換層45から出射される光のうち、緑色光のみを透過させる。具体的には、緑色カラーフィルタ層70bは、黄色変換層45上に配置され、緑色カラーフィルタ層70bの直下に配置される黄色変換層45から出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、緑色光を出射する。緑色カラーフィルタ層70bの幅は、緑色カラーフィルタ層70bの直下に配置される黄色変換層45の幅と同一である。
赤色カラーフィルタ層70cは、黄色変換層45の上面と接触し、光吸収材料を含有し、黄色変換層45から出射される光のうち、赤色光のみを透過させる。具体的には、赤色カラーフィルタ層70cは、黄色変換層45上に配置され、赤色カラーフィルタ層70cの直下に配置される黄色変換層45から出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、赤色光を出射する。赤色カラーフィルタ層70cの幅は、赤色カラーフィルタ層70cの直下に配置される黄色変換層45の幅と同一である。
以上により、光源装置4では、黄色変換層45上にカラーフィルタ層を配置する。これにより、カラーフィルタ層の種類を選択することにより、必要な色の光を出射させることができる。
(カラーフィルタ層の形成方法)
ここでは、カラーフィルタ層の形成方法について説明する。以下の(4)~(8)の処理によって、カラーフィルタ層を形成することができる。以下の(4)~(8)の処理は、図7の(a)に示す構成を実現するための処理の一例である。
(4)赤色カラーフィルタレジストを黄色変換層45の上面に塗布する。
(5)フォトマスクを用いて、赤色カラーフィルタレジストの、青色発光素子30上にある部分のみに紫外線を照射し、赤色カラーフィルタレジストを硬化させる。
(6)赤色カラーフィルタレジストの、硬化していない部分を除去する。
(7)緑色カラーフィルタレジストを黄色変換層45の上面に塗布する。赤色カラーフィルタレジストに対して行った(5)及び(6)の処理を、緑色カラーフィルタレジストに対しても行う。
(8)青色カラーフィルタレジストを黄色変換層45の上面に塗布する。赤色カラーフィルタレジストに対して行った(5)及び(6)の処理を、青色カラーフィルタレジストに対しても行う。
光源装置4aは、図7の(b)に示すように、光源装置4と比べて、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cそれぞれの厚さが異なる。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さである。例えば、青色カラーフィルタ層70aの厚さは、緑色カラーフィルタ層70bの厚さより大きくてもよい。また、緑色カラーフィルタ層70bの厚さは、赤色カラーフィルタ層70cの厚さより大きくてもよい。このように、カラーフィルタ層の種類によって、カラーフィルタ層の厚さが異なってもよい。これにより、ピクセルごとに必要な色の光を発光させることができる。
なお、光源装置4a、つまり、図7の(b)に示す構成では、前述した(7)の処理にて、緑色カラーフィルタレジストを、赤色カラーフィルタレジストより分厚く塗布する処理を行う。また、光源装置4a、つまり、図7の(b)に示す構成では、前述した(8)の処理にて、青色カラーフィルタレジストを、緑色カラーフィルタレジストより分厚く塗布する処理を行う。光源装置4aでは、薄いカラーフィルタ層から順に形成されるように処理が行われる。これらの処理は一例である。
光源装置4bは、図7の(c)に示すように、光源装置4と比べて、以下の2点が異なる。1つ目は、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cがそれぞれ、青色カラーフィルタ層70d、緑色カラーフィルタ層70e、及び赤色カラーフィルタ層70fに変更されている点である。2つ目は、3つの黄色変換層45がそれぞれ、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cに変更されている点である。なお、透光性樹脂c1の幅は、透光性樹脂c1の直下に配置される青色発光素子30の幅より大きくてもよく、緑色変換層40bの幅は、緑色変換層40bの直下に配置される青色発光素子30の幅より大きくてもよい。また、赤色変換層40cの幅は、赤色変換層40cの直下に配置される青色発光素子30の幅より大きくてもよい。これにより、青色発光素子30から出射される光が、色変換層を通らないことを低減することができる。幅とは、基板10から青色発光素子30に向かう方向と直交する方向に沿った幅である。
青色カラーフィルタ層70dは、透光性樹脂c1の上面と接触し、光吸収材料を含有し、透光性樹脂c1から出射される光のうち、青色光のみを透過させる。具体的には、青色カラーフィルタ層70dは、青色カラーフィルタ層70d内に配置される透光性樹脂c1から出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、青色光を出射する。青色カラーフィルタ層70dの幅は、青色カラーフィルタ層70d内に配置される透光性樹脂c1の幅より大きい。なお、青色カラーフィルタ層70dは、透光性樹脂c1を覆っていてもよい。
緑色カラーフィルタ層70eは、緑色変換層40bの上面と接触し、光吸収材料を含有し、緑色変換層40bから出射される光のうち、緑色光のみを透過させる。具体的には、緑色カラーフィルタ層70eは、緑色カラーフィルタ層70e内に配置される緑色変換層40bから出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、緑色光を出射する。緑色カラーフィルタ層70eの幅は、緑色カラーフィルタ層70e内に配置される緑色変換層40bの幅より大きい。なお、緑色カラーフィルタ層70eは、緑色変換層40bを覆っていてもよい。
赤色カラーフィルタ層70fは、赤色変換層40cの上面と接触し、光吸収材料を含有し、赤色変換層40cから出射される光うち、赤色光のみを透過させる。具体的には、赤色カラーフィルタ層70fは、赤色カラーフィルタ層70f内に配置される赤色変換層40cから出射される光のうち、特定の波長の光のみを透過させ、赤色光を出射する。赤色カラーフィルタ層70fの幅は、赤色カラーフィルタ層70f内に配置される赤色変換層40cの幅より大きい。なお、赤色カラーフィルタ層70fは、赤色変換層40cを覆っていてもよい。
このように、カラーフィルタ層の幅が色変換層の幅より大きくてもよい。これにより、色変換層から出射される光が、カラーフィルタ層を通らないことを低減することができる。また、カラーフィルタ層にアルミナ、シリカ、及び/またはチタニアのフィラーを混錬させたり、カラーフィルタ層の表面形状を変更したりすることで、カラーフィルタ層の光配向特性を制御したり、光取出し効率を向上させたりすることもできる。
光源装置4cは、図7の(d)に示すように、光源装置4と比べて、以下の3点が異なる。1つ目は、透光性樹脂c1の上面にはカラーフィルタ層が設けられていない点である。2つ目は、3つの黄色変換層45がそれぞれ、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cに変更されている点である。3つ目は、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの厚さがそれぞれ異なる点である。
光源装置4cでは、発光素子として、青色発光素子30を用いており、青色発光素子30の光出射面には透光性樹脂c1が配置されている。このため、青色・緑色・赤色の3色のカラーフィルタ層のうち、青色のカラーフィルタ層を不要としている。
実施形態2において、青色発光素子30の代わりに紫色発光素子30aを用いてもよい。紫色発光素子30aを用いた場合、色変換層に青色蛍光体及び黄色蛍光体の2つを同時に含有させたり、青色蛍光体、緑色蛍光体、及び赤色蛍光体の3つを同時に含有させたりするなどのように、より多くの蛍光体を組み合わせて色変換層を構成してもよい。
〔実施形態3〕
本発明の他の実施形態について、図8に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。図8は、本発明の実施形態3に係る光源装置5~5cの断面及び上面視を示す図である。
光源装置5は、図8の(a)に示すように、光源装置4と比べて、黄色変換層45が黄色変換層80(蛍光体層)に変更されている点が異なる。1つの黄色変換層80は、青色発光素子30の光出射面、及び樹脂50の上面に配置されている。つまり、1つの黄色変換層80は、3つの青色発光素子30の光出射面と接触する。なお、3つの青色発光素子30の光出射面と、樹脂50の上面とは略同一平面上である。
黄色変換層80は、3つの青色発光素子30の光出射面から出射される光の波長を変換する。黄色変換層80に用いられる樹脂は、黄色変換層45に用いられる樹脂と同一の材料である。また、黄色変換層80に含有される蛍光体は、黄色変換層45に含有される蛍光体と同一の材料で形成されている。1つの黄色変換層80の上面には、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cが配置されている。
青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cそれぞれは、3つの青色発光素子30と一対一に対応している。光源装置5を、青色発光素子30の光出射面側から見たとき、青色カラーフィルタ層70aの下面は、対応する青色発光素子30の光出射面と一致し、緑色カラーフィルタ層70bの下面は、対応する青色発光素子30の光出射面と一致する。また、光源装置5を、青色発光素子30の光出射面側から見たとき、赤色カラーフィルタ層70cの下面は、対応する青色発光素子30の光出射面と一致する。
以上により、光源装置5では、黄色変換層80を複数の青色発光素子30の各光出射面と接触させるので、黄色変換層80の形成が容易になる。また、黄色変換層80を一度に形成することできるので、均一な光を得ることができる。
光源装置5aは、図8の(b)に示すように、光源装置5において、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cの厚さ及び幅を変更したものである。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さであり、幅とは、基板10から青色発光素子30に向かう方向と直交する方向に沿った幅である。
例えば、青色カラーフィルタ層70aの厚さは、緑色カラーフィルタ層70bの厚さより大きくてもよい。また、緑色カラーフィルタ層70bの厚さは、赤色カラーフィルタ層70cの厚さより大きくてもよい。
さらに、例えば、緑色カラーフィルタ層70bの幅は、赤色カラーフィルタ層70cの幅より大きくてもよい。また、赤色カラーフィルタ層70cの幅は、青色カラーフィルタ層70aの幅より大きくてもよい。
このように、カラーフィルタ層の種類によって、カラーフィルタ層の厚さ及び幅が異なってもよい。これにより、ピクセルごとに必要な色の光を発光させることができる。なお、ここでは、各カラーフィルタ層の厚さ及び幅が異なっているが、各カラーフィルタ層の幅のみが異なっていてもよい。
光源装置5bは、図8の(c)~(e)に示すように、光源装置5において、青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、及び赤色カラーフィルタ層70cの厚さを変更したものである。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さである。
例えば、青色カラーフィルタ層70aの厚さは、緑色カラーフィルタ層70bの厚さより大きくてもよい。また、緑色カラーフィルタ層70bの厚さは、赤色カラーフィルタ層70cの厚さより大きくてもよい。このように、カラーフィルタ層の種類によって、カラーフィルタ層の厚さが異なってもよい。これにより、ピクセルごとに必要な色の光を発光させることができる。
光源装置5cは、図8の(f)に示すように、光源装置5bと比べて、黄色変換層80が色変換層80aに変更されている点が異なる。色変換層80aは、黄色変換層80と形状が同一である。色変換層80aには、赤色蛍光体及び緑色蛍光体が含有されている。このように、色変換層に複数の種類の蛍光体を含有させてもよい。これにより、ピクセルから発せられる光スペクトルをより細やかに制御することができる。
実施形態3において、青色発光素子30の代わりに紫色発光素子30aを用いてもよい。紫色発光素子30aを用いた場合、色変換層に青色蛍光体及び黄色蛍光体の2つを同時に含有させたり、青色蛍光体、緑色蛍光体、及び赤色蛍光体の3つを同時に含有させたりするなどのように、より多くの蛍光体を組み合わせて色変換層を構成してもよい。
〔実施形態4〕
本発明の他の実施形態について、図9に基づいて説明すれば、以下のとおりである。なお、説明の便宜上、前記実施形態にて説明した部材と同じ機能を有する部材については、同じ符号を付記し、その説明を省略する。図9は、本発明の実施形態4に係る光源装置6の断面図である。
光源装置6は、図9に示すように、光源装置2と比べて、光吸収層90を備えている点が異なる。光吸収層90は、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cそれぞれの間に配置されている。光吸収層90は、樹脂、例えば、白色樹脂からなる。光吸収層90の厚さは、色変換層の厚みの約半分から約2倍であることが好ましく、光吸収層90の光吸収率は50%以上であることが好ましい。光吸収層90の上面は、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの上面と略同一平面上である。つまり、光吸収層90の厚さは、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの厚さと同一である。厚さとは、基板10から青色発光素子30に向かう方向に沿った厚さである。
また、光源装置6は、光吸収層90に代えて、光反射層を備えていてもよい。光反射層は、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cそれぞれの間に配置されている。光反射層は、樹脂、例えば、白色樹脂からなる。光反射層の厚さは、色変換層の厚みの約半分から約2倍以下であることが好ましく、光反射層の光反射率は50%以上であることが好ましい。光反射層の上面は、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの上面と略同一平面上である。つまり、光反射層の厚さは、透光性樹脂c1、緑色変換層40b、及び赤色変換層40cの厚さと同一である。
以上により、透光性樹脂c1から緑色変換層40bに向かう光の成分が少なくなり、緑色変換層40bから、透光性樹脂c1及び赤色変換層40cに向かう光の成分が少なくなる。また、赤色変換層40cから緑色変換層40bに向かう光の成分が少なくなる。よって、透光性樹脂c1から出射される光、緑色変換層40bから出射される光、及び赤色変換層40cから出射される光が混合することを低減することができる。
(光吸収層90の形成方法)
ここでは、光吸収層90の形成方法について説明する。以下の(9)~(11)の処理によって、光吸収層90を形成することができる。以下の(9)~(11)の処理は、光吸収層90を形成する処理の一例である。なお、光反射層も以下の(9)~(11)の処理と同様の処理によって形成することができる。
(9)基板10に、電極20を介して青色発光素子30を接合した後、アンダーフィルを、基板10の上面及び青色発光素子30を覆うように塗布する。
(10)アンダーフィルの、青色発光素子30上にある部分を除去する。つまり、アンダーフィルの壁に囲まれて形成される凹部を形成する。
(11)その凹部に色変換層を充填する。
〔発光素子及び色変換層について〕
青色発光素子、紫色発光素子、色変換層、及びカラーフィルタ層は、それらの形状が直方体に限らず、円柱、多角柱、円錐台、多角錐台、及び半球の形状であってもよい。また、異なるサイズの青色発光素子及び紫色発光素子が、1つの光源装置の中に含まれていてもよい。また、色変換層の種類ごとの数の比は、図2の(f)に示すように、青色:緑色:赤色が1:1:1でなくてもよく、例えば、青色:緑色:赤色が1:2:1であってもよい。
〔光源装置について〕
本発明の一態様に係る光源装置は、前述したように、個々の発光素子が、基板上にm×n(m、nは自然数)の格子状に配置されたアレイ(構造体)であってもよい。または、個々の発光素子は、千鳥格子状、または他のパターンで配置されていてもよい。光源装置は、ヘッドマウントディスプレイまたはメガネ型デバイス向けのディスプレイなどの発光装置に用いられる。発光装置には、1つのアレイを搭載してもよく、複数のアレイを搭載してもよい。発光装置の表示画面のピクセルに該当する、光源装置の各々の発光素子のON/OFFが、駆動回路11によって個別に制御されることにより、コントラストを向上させることができる。
〔まとめ〕
本発明の態様1に係る光源装置(1)は、駆動回路(11)と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる発光素子(青色発光素子30)と、前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を変換する色変換層(色変換層40)とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
上記構成によれば、色変換層と発光素子の光出射面とが直接接触することにより、光取り出し効率、及び発光の均一性を向上させることができる。また、色変換層と発光素子の光出射面とが直接接触するので、光源装置1の全体的なサイズが小さくなる。さらに、熱の影響及び色ムラを抑制することができる。
本発明の態様2に係る光源装置(1)は、上記態様1において、前記発光素子(青色発光素子30)は、少なくとも2個以上であり、複数の前記発光素子の前記光出射面は略同一平面上にあってもよい。
上記構成によれば、複数の発光素子の光出射面は略同一平面上にあるので、発光素子の光出射面に色変換層を容易に塗布することができる。
本発明の態様3に係る光源装置(1c)は、上記態様2において、前記色変換層(青色変換層40a、緑色変換層40b、赤色変換層40c)は、変換後の光の波長が異なるように、少なくとも2種類以上であってもよい。
上記構成によれば、色変換層の種類は、変換後の光の波長が異なるように、2種類以上であるので、様々な光を発光させることができる。
本発明の態様4に係る光源装置(2)は、上記態様2において、前記発光素子(青色発光素子30)のうち、少なくとも1個の前記発光素子上に透光性樹脂c1が形成されていてもよい。
上記構成によれば、少なくとも1個の発光素子上に透光性樹脂c1が形成されている。これにより、発光素子上に色変換層を必ずしも配置しなくてもよい場合、発光素子に塵等が付着することを防ぐことができる。
本発明の態様5に係る光源装置(2b)は、上記態様2において、前記発光素子(青色発光素子30)のうち、少なくとも1個の前記発光素子の前記光出射面は露出していてもよい。
上記構成によれば、複数の発光素子のうち、少なくとも1個の発光素子の光出射面は露出している。これにより、発光素子上に色変換層を必ずしも配置しなくてもよい場合、発光素子から出射される光を外部に直接出射することができる。
本発明の態様6に係る光源装置(2c)は、上記態様2において、前記色変換層(緑色変換層40b、赤色変換層40c)の、前記駆動回路(11)から前記発光素子(青色発光素子30)に向かう方向に沿った厚さは、前記色変換層の種類ごとに異なってもよい。
上記構成によれば、色変換層の、駆動回路から発光素子に向かう方向に沿った厚さは、色変換層の種類ごとに異なる。これにより、例えば、ピクセルごとに必要な色の光を発光させることができる。
本発明の態様7に係る光源装置(2d)は、上記態様2において、前記色変換層(緑色変換層40b、赤色変換層40c)の、前記駆動回路(11)から前記発光素子(青色発光素子30)に向かう方向と直交する方向に沿った幅は、前記色変換層の種類ごとに異なってもよい。
本発明の態様8に係る光源装置(1c)は、上記態様2において、前記色変換層(青色変換層40a、緑色変換層40b、赤色変換層40c)に含まれる色変換材料の濃度は、前記色変換層の種類ごとに異なってもよい。
上記構成によれば、色変換層に含まれる色変換材料の濃度は、色変換層の種類ごとに異なる。これにより、例えば、色ごとに適切な、色変換材料の濃度に設定し、最適な光を出射することができる。
本発明の態様9に係る光源装置(3)は、上記態様1において、前記光出射面には、凹凸が形成されていてもよい。
上記構成によれば、発光素子の光出射面には、凹凸が形成されている。これにより、発光素子から効率的に光を出射することができ、光取り出し効率を向上させることができる。
本発明の態様10に係る光源装置(1a)は、上記態様2において、互いに隣接する前記発光素子(青色発光素子30)の間に配置された光遮蔽層をさらに備え、前記光遮蔽層の、前記駆動回路(11)側とは反対側の面と、前記光出射面とが、略同一平面上にあってもよい。
上記構成によれば、各発光素子の光が、各発光素子上の色変換層を励起発光するとき、発光素子が、その発光素子の隣の発光素子の上方に位置する色変換層を励起発光する確率が減る。これにより、鮮明な画像を得ることができる。また、発光素子の保持強度が上がり、光源装置の寿命を長くすることができる。さらに、発光素子の光出射面と、光遮蔽層の、基板側とは反対側の面とが略同一平面上にあるので、色変換層の形成を容易に行うことができる。
本発明の態様11に係る光源装置(4)は、駆動回路(11)と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる発光素子(青色発光素子30)と、前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を変換する蛍光体層(黄色変換層45)と、前記蛍光体層上に配置されたカラーフィルタ層(青色カラーフィルタ層70a、緑色カラーフィルタ層70b、赤色カラーフィルタ層70c)とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
上記構成によれば、カラーフィルタ層が蛍光体層上に配置される。これにより、カラーフィルタ層の種類を選択することにより、必要な色の光を出射させることができる。
本発明の態様12に係る光源装置(5)は、上記態様11において、前記発光素子(青色発光素子30)は、少なくとも2個以上であり、前記蛍光体層(黄色変換層80)は、前記発光素子の各光出射面と接触していてもよい。
上記構成によれば、蛍光体層は、複数の発光素子の各光出射面と接触する。色変換層を複数の発光素子の各光出射面と接触させるので、色変換層の形成が容易になる。
本発明の態様13に係る光源装置(6)は、駆動回路(11)と、前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、III族窒化物半導体からなる複数の発光素子(青色発光素子30)と、前記複数の発光素子の各々と一対一に対応し、かつ、対応する前記発光素子の前記光出射面と接触し、対応する前記発光素子の前記光出射面から出射される光の波長を変換する、複数の色変換層(緑色変換層40b、赤色変換層40c)と、前記色変換層の間に配置された光吸収層(90)または光反射層とを備え、前記光出射面は、III族窒化物半導体からなる。
上記構成によれば、色変換層から、その隣の色変換層に向かう光の成分が少なくなる。これにより、色変換層から出射される光と、その隣の色変換層から出射される光とが混合することを低減することができる。
本発明の態様14に係る発光装置は、上記態様1、11、13のいずれかにおいて、前記光源装置を備えている。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

Claims (15)

  1. 駆動回路と、
    前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、少なくとも2個以上であり、III族窒化物半導体からなる複数の発光素子と、
    前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を赤色の光の波長に変換する赤色変換層と、
    前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を緑色の光の波長に変換する緑色変換層と、
    前記赤色変換層上に配置され、前記赤色の光のみを透過する赤色カラーフィルタ層と、
    前記緑色変換層上に配置され、前記緑色の光のみを透過する緑色カラーフィルタ層とを備え、
    前記光出射面は、III族窒化物半導体からなることを特徴とする光源装置。
  2. 前記駆動回路は前記複数の発光素子のそれぞれに印加される電流を個別に制御することを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記赤色変換層と前記緑色変換層の間に配置された光吸収層または光反射層とを備え、
    前記赤色変換層の下面または前記緑色変換層の下面は、前記光吸収層の下面または前記光反射層の下面と略同一平面上にあることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  4. 前記複数の発光素子の前記光出射面は略同一平面上にあることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  5. 前記複数の発光素子のうち、少なくとも1個の上に透光性樹脂が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  6. 前記複数の発光素子のうち、少なくとも1個の前記光出射面は露出していることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  7. 前記赤色変換層と前記緑色変換層は、前記駆動回路から前記複数の発光素子に向かう方向に沿った厚さが異なることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  8. 前記赤色変換層と前記緑色変換層とは、前記駆動回路から前記複数の発光素子に向かう方向と直交する方向に沿った幅が異なることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  9. 前記赤色変換層に含まれる色変換材料の濃度と、前記緑色変換層に含まれる色変換材料の濃度とは、異なることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  10. 前記光出射面には、凹凸が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  11. 前記複数の発光素子の間に配置された光遮蔽層をさらに備え、
    前記光遮蔽層の、前記駆動回路側とは反対側の面と、前記光出射面とが、略同一平面上にあることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  12. 駆動回路と、
    前記駆動回路側とは反対側にある光出射面を有し、前記駆動回路上に配置され、前記駆動回路と電気的に接続された、少なくとも2個以上であり、III族窒化物半導体からなる複数の発光素子と、
    前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を赤色の波長の光に変換する蛍光体材料からなる赤色蛍光体層と、
    前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の前記光出射面と接触し、前記光出射面から出射される光の波長を緑色の波長の光に変換する蛍光体材料からなる緑色蛍光体層と、
    前記赤色蛍光体層上に配置された、前記赤色の光のみを透過する赤色カラーフィルタ層と、
    前記緑色蛍光体層上に配置され、前記緑色の光のみを透過する緑色カラーフィルタ層とを備え、
    前記光出射面は、III族窒化物半導体からなることを特徴とする光源装置。
  13. 前記赤色蛍光体層は、前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の各光出射面と接触し、
    前記緑色蛍光体層は、前記複数の発光素子の内、少なくとも1個の各光出射面と接触していることを特徴とする請求項12に記載の光源装置。
  14. 前記赤色変換層と前記緑色変換層の間に配置された光吸収層または光反射層とを備え
    ることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  15. 請求項1、12、14のいずれか1項に記載の光源装置を備えていることを特徴とする発光装置。
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11792898B2 (en) 2012-07-01 2023-10-17 Ideal Industries Lighting Llc Enhanced fixtures for area lighting
US10529696B2 (en) 2016-04-12 2020-01-07 Cree, Inc. High density pixelated LED and devices and methods thereof
US10734363B2 (en) 2017-08-03 2020-08-04 Cree, Inc. High density pixelated-LED chips and chip array devices
JP7290001B2 (ja) * 2017-08-03 2023-06-13 クリーエルイーディー・インコーポレーテッド 高密度ピクセル化ledチップ、チップアレイデバイス、及びその製造方法
DE102018105884A1 (de) * 2018-03-14 2019-09-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches bauelement mit einer vielzahl licht emittierender bereiche und verfahren zur herstellung des optoelektronischen bauelements
KR102652645B1 (ko) * 2018-09-03 2024-04-02 삼성디스플레이 주식회사 발광 장치 및 이를 구비하는 표시 장치
US10903265B2 (en) 2018-12-21 2021-01-26 Cree, Inc. Pixelated-LED chips and chip array devices, and fabrication methods
JP7386714B2 (ja) * 2019-01-11 2023-11-27 シチズン時計株式会社 Led発光装置及びその製造方法
JP2020136672A (ja) * 2019-02-21 2020-08-31 シャープ株式会社 発光装置
JP6878640B2 (ja) * 2019-03-14 2021-05-26 シャープ株式会社 発光装置および表示装置
JP7060816B2 (ja) * 2019-03-29 2022-04-27 日亜化学工業株式会社 発光装置
JP7269196B2 (ja) * 2019-04-30 2023-05-08 シャープ株式会社 光源装置および発光装置
WO2021087109A1 (en) 2019-10-29 2021-05-06 Cree, Inc. Texturing for high density pixelated-led chips
TW202119652A (zh) * 2019-10-31 2021-05-16 隆達電子股份有限公司 顯示裝置及其製造方法
WO2021147064A1 (zh) * 2020-01-23 2021-07-29 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
CN113451483A (zh) * 2020-05-28 2021-09-28 重庆康佳光电技术研究院有限公司 一种颜色转换装置及其制备方法、显示背板
KR20220000481A (ko) * 2020-06-26 2022-01-04 엘지디스플레이 주식회사 표시 장치
JP7539296B2 (ja) 2020-10-21 2024-08-23 シャープ福山レーザー株式会社 半導体モジュール
US11437548B2 (en) 2020-10-23 2022-09-06 Creeled, Inc. Pixelated-LED chips with inter-pixel underfill materials, and fabrication methods
TWI776654B (zh) * 2021-08-24 2022-09-01 友達光電股份有限公司 顯示裝置及其製造方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10319877A (ja) * 1997-05-16 1998-12-04 Toshiba Corp 画像表示装置及び発光装置
JP2005353649A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Led光源およびその製造方法
JP2008262993A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Nikon Corp 表示装置
JP2013065726A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Toshiba Corp 半導体発光装置及びその製造方法
WO2013137052A1 (ja) * 2012-03-16 2013-09-19 シャープ株式会社 蛍光体基板およびこれを備えた表示装置
KR20130137985A (ko) * 2012-06-08 2013-12-18 엘지전자 주식회사 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치
US20150255505A1 (en) * 2014-03-05 2015-09-10 Lg Electronics Inc. Display device using semiconductor light emitting device
US20150340346A1 (en) * 2014-05-24 2015-11-26 Chen-Fu Chu Structure of a semiconductor array
US20150362165A1 (en) * 2014-06-14 2015-12-17 Hiphoton Co., Ltd. Light Engine Array
JP2017054092A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社東芝 ディスプレイパネル、表示装置およびディスプレイパネルの製造方法
US20170092820A1 (en) * 2015-09-30 2017-03-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Light emitting device package
WO2017094461A1 (ja) * 2015-12-01 2017-06-08 シャープ株式会社 画像形成素子

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5621225A (en) * 1996-01-18 1997-04-15 Motorola Light emitting diode display package
JP2002280415A (ja) * 2001-03-16 2002-09-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP4139634B2 (ja) * 2002-06-28 2008-08-27 松下電器産業株式会社 Led照明装置およびその製造方法
US7471040B2 (en) 2004-08-13 2008-12-30 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Mixed-color light emitting diode apparatus, and method for making same
US20090315045A1 (en) * 2006-05-01 2009-12-24 Mitsubishi Chemical Corporation Integrated semiconductor light emitting device and method for manufacturing same
WO2007126093A1 (ja) * 2006-05-01 2007-11-08 Mitsubishi Chemical Corporation 集積型半導体発光装置およびその製造方法
DE102009037186A1 (de) * 2009-08-12 2011-02-17 Osram Opto Semiconductors Gmbh Strahlungsemittierendes Halbleiterbauteil
US8557616B2 (en) * 2009-12-09 2013-10-15 Nano And Advanced Materials Institute Limited Method for manufacturing a monolithic LED micro-display on an active matrix panel using flip-chip technology and display apparatus having the monolithic LED micro-display
KR101064036B1 (ko) * 2010-06-01 2011-09-08 엘지이노텍 주식회사 발광 소자 패키지 및 조명 시스템
DE102011085645B4 (de) * 2011-11-03 2014-06-26 Osram Gmbh Leuchtdiodenmodul und Verfahren zum Betreiben eines Leuchtdiodenmoduls
JP6331389B2 (ja) 2013-12-27 2018-05-30 日亜化学工業株式会社 発光装置
CN103779375A (zh) * 2014-02-19 2014-05-07 京东方科技集团股份有限公司 全彩led显示面板及其制造方法、显示器
JP6303805B2 (ja) * 2014-05-21 2018-04-04 日亜化学工業株式会社 発光装置及びその製造方法
KR20160141301A (ko) * 2015-05-29 2016-12-08 삼성전자주식회사 반도체 발광 소자 패키지
KR102555242B1 (ko) * 2015-09-30 2023-07-17 삼성전자주식회사 발광소자 패키지
TWI588984B (zh) * 2016-03-14 2017-06-21 群創光電股份有限公司 顯示裝置
DE102016206524A1 (de) * 2016-04-19 2017-10-19 Osram Gmbh LED zur Emission von Beleuchtungsstrahlung

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10319877A (ja) * 1997-05-16 1998-12-04 Toshiba Corp 画像表示装置及び発光装置
JP2005353649A (ja) * 2004-06-08 2005-12-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Led光源およびその製造方法
JP2008262993A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Nikon Corp 表示装置
JP2013065726A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Toshiba Corp 半導体発光装置及びその製造方法
WO2013137052A1 (ja) * 2012-03-16 2013-09-19 シャープ株式会社 蛍光体基板およびこれを備えた表示装置
KR20130137985A (ko) * 2012-06-08 2013-12-18 엘지전자 주식회사 반도체 발광 소자를 이용한 디스플레이 장치
US20150255505A1 (en) * 2014-03-05 2015-09-10 Lg Electronics Inc. Display device using semiconductor light emitting device
US20150340346A1 (en) * 2014-05-24 2015-11-26 Chen-Fu Chu Structure of a semiconductor array
US20150362165A1 (en) * 2014-06-14 2015-12-17 Hiphoton Co., Ltd. Light Engine Array
JP2017054092A (ja) * 2015-09-11 2017-03-16 株式会社東芝 ディスプレイパネル、表示装置およびディスプレイパネルの製造方法
US20170092820A1 (en) * 2015-09-30 2017-03-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Light emitting device package
WO2017094461A1 (ja) * 2015-12-01 2017-06-08 シャープ株式会社 画像形成素子

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