JP2009260251A - 基板処理装置及び基板処理システム - Google Patents

Abstract

【課題】異なる表示部に異なる表示をさせたり、異なる操作画面から異なる操作をさせたりすることができる基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、主表示装置１８からユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、そのユーザの属するグループが設定されるユーザグループパラメータ、及びそのグループの権限を定める権限パラメータとを参照して、ユーザに応じた主操作画面１８ａを主表示装置１８に表示し、外部操作装置３０からユーザのログイン情報が入力されると、外部表示装置３２に、そのユーザが所属するグループの権限パラメータを設定するための外部パラメータ設定画面３２ｂを表示させるか、そのユーザが属するグループに応じた外部操作画面３２ａを表示させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、半導体ウエハやガラス基板等の基板を処理する基板処理システム、及び基板処理装置に関する。

半導体製造装置の管理装置に回線を介して遠隔操作装置からアクセス可能とした半導体製造装置のリモート操作システムであって、前記遠隔操作装置は、前記管理装置に表示される画面と同一の画面を表示し、かつ前記半導体製造装置に対して前記管理装置の操作と同一の操作を行なうことを可能とする技術が知られている（特許文献１）。

特開２００２−２７５６７号公報

しかしながら、従来の技術においては、表示部毎に異なる表示をさせたり、異なる操作をさせたりすることができないとの問題点があった。

本発明は、表示部毎に異なる表示をさせたり、異なる操作をさせたりすることができ、ログインした際の情報からユーザ毎に画面に表示する機能を異ならせ、操作に制限を与えることができる基板処理システムを提供することを目的とする。

本発明は、基板を処理する基板処理機構と、少なくとも前記基板処理機構を制御する制御手段と、前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構に固定され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第１の操作画面が表示される第１の表示部と、前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構近傍に配置され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第２の操作画面が表示される第２の表示部と、を有し、前記制御手段は、前記第１の表示部と前記第２の表示部とに異なる表示をさせることができ、前記第１の表示部からの指示と前記第２の表示部からの指示とで、異なる操作をすることを特徴とする基板処理装置である。

本発明によれば、基板処理装置の主操作部や基板処理装置近傍に接続された外部操作部と、基板処理装置から離間した位置に配置された外部操作部とでそれぞれ異なる表示や、異なる操作が可能となる。これにより、ユーザが所望する種々の運用ができるので、操作性が向上する。また、操作上、生産に支障をきたすような操作（プロセスレシピ等のレシピ編集やアラーム等の設定等）を外部操作部から実行できないように制御できるため安全性が向上する。一方、生産に支障をきたさないような操作は顧客のオフィスにある外部操作部からも操作できるため利便性が向上する。これにより、ユーザがクリーン服に着替えてクリーンルーム内の基板処理装置の操作部を操作する手間が省ける。

次に本発明を実施するための最良の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態に係る基板処理システム１の構成を示す図である。図１に示されるように、基板処理システム１は、基板処理装置１０と、第２の操作装置として用いられる外部操作装置３０とを有し、これらが、例えば、スイッチングハブ４２を有するＬＡＮ等の通信ネットワーク４０によって互いに接続されている。

基板処理装置１０は、本発明の実施形態に係る基板処理装置として用いられ、例えば、半導体装置（ＩＣ）の製造方法を実施する半導体製造装置として構成されている。以下の説明では、基板処理装置として基板に酸化、拡散処理やＣＶＤ処理などを行なう縦型の装置に適用した場合について述べる。
基板処理装置１０は、図１に示すように、例えば２つ等、基板処理システム１に複数個を設けても良いし、基板処理システム１に１つの基板処理装置１０を設けても良い。

基板を処理する基板処理機構（ユニット）として用いられる基板処理装置１０は、それぞれが、基板処理装置本体１１１を有し、基板処理装置本体１１１内に、基板を処理する処理部として用いられる処理炉２０２（図１において不図示、図２参照）と、主コントローラ１４と、スイッチングハブ１５とが設けられている。また、基板処理装置本体１１１の外壁には、例えば基板処理装置１０の背面側（図１における左側）に、第１の操作装置として用いられる主操作装置１６が装着されている。また、基板処理装置１０には、スイッチングハブ１５を介して主コントローラ１４に接続されるようにして、第３の操作装置として用いられる副操作装置５０が取り付けられている。

主操作装置１６は、基板処理装置１０（もしくは処理炉２０２及び基板処理装置本体１１１）近傍に配置されている。主操作装置１６は、この実施形態のように基板処理装置本体１１１に装着するようにして、基板処理装置１０と一体として固定する。
ここで、主操作装置１６が、基板処理装置１０（もしくは処理炉２０２及び基板処理装置本体１１１）近傍に配置されているとは、基板処理装置１０の状態を操作者が確認できる位置に主操作装置１６が配置されていることをいう。例えば、基板処理装置本体１１１が設置されているクリーンルーム内に設置される。
主操作装置１６は、第１の表示部として用いられる主表示装置１８を有する。

主表示装置１８は、例えば、液晶表示パネルからなる。また、主表示装置１８には、少なくとも基板処理装置１０を操作するための第１の操作画面として用いられる主操作画面１８ａが表示される。また、主表示装置１８には、基板処理装置１０に関する各種パラメータの設定をするためのパラメータ設定画面として用いられる主パラメータ設定画面１８ｂが表示される。
ここで、基板処理装置１０に関する各種パラメータは、多種多様である。例えば、本願発明において、基板処理装置１０を操作するユーザ（操作者）が所属するグループを設定するグループパラメータや、ユーザが所属するグループに応じて予め設定される操作権限を規定する権限パラメータや、ユーザが操作する機能を制限する機能制限パラメータ等が少なくとも含まれる。他のパラメータとしては、ユーザ毎にユーザ情報（ユーザＩＤ、パスワード）をリスト化したパラメータ(ユーザパラメータ)が含められる。
主操作画面１８ａ、主パラメータ設定画面１８ｂの詳細については後述する。

副操作装置５０は、第３の表示部として用いられる副表示装置５２を有する。
副表示装置５２は、例えば、液晶表示パネルからなる。副表示装置５２には、少なくとも基板処理装置１０を操作するための第３の操作画面として用いられる副操作画面５２ａが表示される。また、副表示装置５２には、基板処理装置１０に関する各種パラメータの設定をするためのパラメータ設定画面として用いられる副パラメータ設定画面５２ｂが表示される。

副操作装置５０は、例えば、ＷＢＴ（Ｗｉｎｄｏｗｓ Ｂａｓｅｄ Ｔｅｒｍｉｎａｌ）からなる。ここで、ＷＢTとは、マイクロソフト社のマイクロソフト社のＯＳであるＷＴＳ（Ｗｉｎｄｏｗｓ Ｔｅｒｍｉｎａｌ Ｓｅｒｖｅｒ）が動作しているサーバにネットワーク経由等で接続して処理を行なう専用端末機であり、入出力のための最低限の処理を行なうことができるように構成されているものである。
また、副操作装置５０は、基板処理装置１０（もしくは処理炉２０２及び基板処理装置本体１１１）近傍に配置されている。副操作装置５０は、基板処理装置本体１１１に固定される。ここで、副操作装置５０が、基板処理装置１０（もしくは処理炉２０２及び基板処理装置本体１１１）近傍に配置されているとは、基板処理装置１０の状態を操作者が確認できる位置に副操作装置５０が配置されていることをいう。主操作装置１６の場合と同様に、例えば、基板処理装置本体１１１が設置されているクリーンルーム内に設置される。但し、主操作装置１６と同じ側に配置される必要はなく、基板処理装置本体１１１近傍であって、主操作装置１６から目が届かない位置に配置される。主操作装置１６は、基板処理装置本体１１１の前面に設置され、副操作装置５０は、基板処理装置本体１１１の後側に配置される。

外部操作装置３０は、第２の表示部として用いられる外部表示装置３２を有する。
外部表示装置３２は、例えば、液晶表示パネルからなる。また、外部表示装置３２には、少なくとも処理部２０２を操作するための第２の操作画面として用いられる外部操作画面３２ａが表示される。さらに、外部表示装置３２にも、基板処理装置１０に関する各種パラメータの設定をするためのパラメータ設定画面として用いられる外部パラメータ設定画面３２ｂを表示するようにしてもよい。

また、外部操作装置３０は、副操作装置５０と同様に、ＷＢＴ（Ｗｉｎｄｏｗｓ Ｂａｓｅｄ Ｔｅｒｍｉｎａｌ）からなり、先述のように通信ネットワーク４０を介して主コントローラ１４に接続可能である。このため、外部操作装置３０は、基板処理装置１０から離間した位置に配置することが可能である。例えば、基板処理装置１０がクリーンルーム内に設置されている場合であっても、外部操作装置３０はクリーンルーム外の事務所等に配置することが可能である。

主コントローラ１４は、少なくとも処理炉２０２を制御する制御手段として用いられる。主コントローラ１４によって、基板処理システム１の制御がなされる。また、主コントローラ１４は、少なくとも基板処理装置１０を操作するユーザ（操作者）が所属するグループを設定するグループパラメータと、前記ユーザが所属するグループに応じて設定される操作権限を規定する権限パラメータと、ユーザが操作する機能を制限する制限パラメータ等の各種パラメータや基板に所定の処理を施すためのプロセスレシピ等の各種レシピを記憶する記憶手段を有する。

主コントローラ１４は、主操作装置１６と、例えば、ビデオケーブル２０を用いて接続されている。尚、主コントローラ１４と主操作装置１６とをビデオケーブル２０を用いて接続することに替えて、通信ネットワーク４０を介して、主コントローラ１４と主操作装置１６とを接続しても良い。

また、主コントローラ１４には、例えば、先述のＷＴＳがインストールされている。
ＷＴＳは、マイクロソフト社のＯＳであるＷｉｎｄｏｗｓ ＮＴ Ｓｅｒｖｅｒに、マルチユーザ機能を付加したものである。ＷＴＳは、１台のサーバに対して、複数の端末を、ネットワークを通じて同時に接続することができ、これらの複数の端末から処理を行なうことができる。この際、全てのアプリケーションソフトの処理は、サーバ上で実行され、端末側には画面の転送がされる。

主コントローラ１４は、主表示装置１８、外部表示装置３２、及び副操作装置５０に、それぞれ異なる表示をさせることができる。すなわち、主コントローラ１４は、主操作画面１８ａ、外部操作画面３２ａ、副操作画面５２ａを、それぞれ異なる表示とすることができる。
また、主コントローラ１４は、主表示装置１８、外部表示装置３２、及び副操作装置５０、それぞれに対して異なる制御を行なうことができる。すなわち、主コントローラ１４は、主操作画面１８ａ、外部操作画面３２ａ、副操作画面５２ａからの操作に対して、それぞれに異なる指示をすることができる。

より具体的には、主コントローラ１４には、主操作装置１６、副操作装置５０、及び外部操作装置３０からログインして、主コントローラ１４で複数の同じプログラムを起動させることができる。結果的に主表示装置１８、副表示装置５２、及び外部表示装置３２に、それぞれに異なる操作画面が表示され、主表示装置１８、副表示装置５２、及び外部表示装置３２から、それぞれに異なる指示をすることが可能となる。

図２には、基板処理装置１０が斜視図を用いて示されている。また、図３には、基板処理装置１０が側面透視図を用いて示されている。
基板処理装置１０は、基板として用いられるシリコン等からなるウエハ２００を処理する。

図２及び図３に示されているように、基板処理装置１０では、ウエハ２００を収納したウエハキャリアとして用いられるフープ（基板収容器。以下ポッドという）１１０が使用されている。また、基板処理装置１０は、基板処理装置本体１１１を備えている。

基板処理装置本体１１１の正面壁１１１ａの正面前方部にはメンテナンス可能なように設けられた開口部として用いられる正面メンテナンス口１０３が開設され、正面メンテナンス口１０３を開閉する正面メンテナンス扉１０４がそれぞれ建て付けられている。尚、図示しないが、上側の正面メンテナンス扉１０４近傍に副操作装置５０が設置される。主操操作部１６は、背面側のメンテナンス扉近傍に配置される。

基板処理装置本体１１１の正面壁１１１ａにはポッド搬入搬出口（基板収容器搬入搬出口）１１２が基板処理装置本体１１１の内外を連通するように開設されており、ポッド搬入搬出口１１２はフロントシャッタ（基板収容器搬入搬出口開閉機構）１１３によって開閉されるようになっている。
ポッド搬入搬出口１１２の正面前方側にはロードポート（（基板収容器受渡し台）１１４が設置されており、ロードポート１１４はポッド１１０を載置されて位置合わせするように構成されている。ポッド１１０はロードポート１１４上に工程内搬送装置（図示せず）によって搬入され、ロードポート１１４上から搬出されるようになっている。

基板処理装置本体１１１内の前後方向の略中央部における上部には、回転式ポッド棚（基板収容器載置棚）１０５が設置されており、回転式ポッド棚１０５は複数個のポッド１１０を保管するように構成されている。すなわち、回転式ポッド棚１０５は垂直に立設されて水平面内で間欠回転される支柱１１６と、支柱１１６に上中下段の各位置において放射状に支持された複数枚の棚板（基板収容器載置台）１１７とを備えており、複数枚の棚板１１７はポッド１１０を複数個宛それぞれ載置した状態で保持するように構成されている。

基板処理装置本体１１１内におけるロードポート１１４と回転式ポッド棚１０５との間には、ポッド搬送装置（基板収容器搬送装置）１１８が設置されており、ポッド搬送装置１１８は、ポッド１１０を保持したまま昇降可能なポッドエレベータ（基板収容器昇降機構）１１８ａと搬送機構としてのポッド搬送機構（基板収容器搬送機構）１１８ｂとで構成されており、ポッド搬送装置１１８はポッドエレベータ１１８ａとポッド搬送機構１１８ｂとの連続動作により、ロードポート１１４、回転式ポッド棚１０５、ポッドオープナ（（基板収容器蓋体開閉機構）１２１との間で、ポッド１１０を搬送するように構成されている。

基板処理装置本体１１１内の前後方向の略中央部における下部には、サブ筐体１１９が後端にわたって構築されている。サブ筐体１１９の正面壁１１９ａにはウエハ２００をサブ筐体１１９内に対して搬入搬出するためのウエハ搬入搬出口（基板搬入搬出口）１２０が一対、垂直方向に上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口１２０、１２０には一対のポッドオープナ１２１、１２１がそれぞれ設置されている。ポッドオープナ１２１はポッド１１０を載置する載置台１２２、１２２と、ポッド１１０のキャップ（蓋体）を着脱するキャップ着脱機構（蓋体着脱機構）１２３、１２３とを備えている。ポッドオープナ１２１は載置台１２２に載置されたポッド１１０のキャップをキャップ着脱機構１２３によって着脱することにより、ポッド１１０のウエハ出し入れ口を開閉するように構成されている。

サブ筐体１１９はポッド搬送装置１１８や回転式ポッド棚１０５の設置空間から流体的に隔絶された移載室１２４を構成している。移載室１２４の前側領域にはウエハ移載機構（基板移載機構）１２５が設置されており、ウエハ移載機構１２５は、ウエハ２００を水平方向に回転ないし直動可能なウエハ移載装置（基板移載装置）１２５ａ及びウエハ移載装置１２５ａを昇降させるためのウエハ移載装置エレベータ（基板移載装置昇降機構）１２５ｂとで構成されている。図２に模式的に示されているようにウエハ移載装置エレベータ１２５ｂは耐圧基板処理装置本体１１１右側端部とサブ筐体１１９の移載室１２４前方領域右端部との間に設置されている。これら、ウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ及びウエハ移載装置１２５ａの連続動作により、ウエハ移載装置１２５ａのツイーザ（基板保持体）１２５ｃをウエハ２００の載置部として、ボート（基板保持具）２１７に対してウエハ２００を装填（チャージング）及び脱装（ディスチャージング）するように構成されている。

移載室１２４の後側領域には、ボート２１７を収容して待機させる待機部１２６が構成されている。待機部１２６の上方には、処理炉２０２が設けられている。処理炉２０２の下端部は、炉口シャッタ（炉口開閉機構）１４７により開閉されるように構成されている。

図２に模式的に示されているように、耐圧基板処理装置本体１１１右側端部とサブ筐体１１９の待機部１２６右端部との間にはボート２１７を昇降させるためのボートエレベータ（基板保持具昇降機構）１１５が設置されている。ボートエレベータ１１５の昇降台に連結された連結具としてのアーム１２８には蓋体としてのシールキャップ２１９が水平に据え付けられており、シールキャップ２１９はボート２１７を垂直に支持し、処理炉２０２の下端部を閉塞可能なように構成されている。
ボート２１７は複数本の保持部材を備えており、複数枚（例えば、５０〜１２５枚程度）のウエハ２００をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持するように構成されている。

また、図２に模式的に示されているように移載室１２４のウエハ移載装置エレベータ１２５ｂ側及びボートエレベータ１１５側と反対側である左側端部には、清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア１３３を供給するよう供給ファン及び防塵フィルタで構成されたクリーンユニット１３４が設置されており、ウエハ移載装置１２５ａとクリーンユニット１３４との間には、図示はしないが、ウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置としてのノッチ合わせ装置が設置されている。

クリーンユニット１３４から吹き出されたクリーンエア１３３は、ノッチ合わせ装置及びウエハ移載装置１２５ａ、待機部１２６にあるボート２１７に流通された後に、図示しないダクトにより吸い込まれて、基板処理装置本体１１１の外部に排気がなされるか、もしくはクリーンユニット１３４の吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環され、再びクリーンユニット１３４によって、移載室１２４内に吹き出されるように構成されている。

次に、本発明の基板処理装置１０の動作について説明する。
図２及び図３に示されているように、ポッド１１０がロードポート１１４に供給されると、ポッド搬入搬出口１１２がフロントシャッタ１１３によって開放され、ロードポート１１４の上のポッド１１０はポッド搬送装置１１８によって基板処理装置本体１１１の内部へポッド搬入搬出口１１２から搬入される。

搬入されたポッド１１０は回転式ポッド棚１０５の指定された棚板１１７へポッド搬送装置１１８によって自動的に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板１１７から一方のポッドオープナ１２１に搬送されて受け渡され、一時的に保管された後、棚板１１７から一方のポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載されるか、もしくは直接ポッドオープナ１２１に搬送されて載置台１２２に移載される。この際、ポッドオープナ１２１のウエハ搬入搬出口１２０はキャップ着脱機構１２３によって閉じられており、移載室１２４にはクリーンエア１３３が流通され、充満されている。例えば、移載室１２４にはクリーンエア１３３として窒素ガスが充満することにより、酸素濃度が２０ｐｐｍ以下と、基板処理装置本体１１１の内部（大気雰囲気）の酸素濃度よりも遥かに低く設定されている。

載置台１２２に載置されたポッド１１０はその開口側端面がサブ筐体１１９の正面壁１１９ａにおけるウエハ搬入搬出口１２０の開口縁辺部に押し付けられるとともに、そのキャップがキャップ着脱機構１２３によって取り外され、ウエハ出し入れ口を開放される。
ポッド１１０がポッドオープナ１２１によって開放されると、ウエハ２００はポッド１１０からウエハ移載装置１２５ａのツイーザ１２５ｃによってウエハ出し入れ口を通じてピックアップされ、図示しないノッチ合わせ装置１３５にてウエハを整合した後、移載室１２４の後方にある待機部１２６へ搬入され、ボート２１７に装填（チャージング）される。ボート２１７にウエハ２００を受け渡したウエハ移載装置１２５ａはポッド１１０に戻り、次のウエハをボート２１７に装填する。

この一方（上段または下段）のポッドオープナ１２１におけるウエハ移載機構１２５によるウエハのボート２１７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ１２１には回転式ポッド棚１０５から別のポッド１１０がポッド搬送装置１１８によって搬送されて移載され、ポッドオープナ１２１によるポッド１１０の開放作業が同時進行される。

予め指定された枚数のウエハ２００がボート２１７に装填されると、炉口シャッタ１４７によって閉じられていた処理炉２０２の下端部が、炉口シャッタ１４７によって、開放される。続いて、ウエハ２００群を保持したボート２１７はシールキャップ２１９がボートエレベータ１１５によって上昇されることにより、処理炉２０２内へ搬入（ローディング）されていく。

ローディング後は、処理炉２０２にてウエハ２００に任意の処理が実施される。
処理後は、図示しないノッチ合わせ装置１３５でのウエハの整合工程を除き、概上述の逆の手順で、ウエハ２００及びポッド１１０は筐体の外部へ払出される。

次に、基板処理システム１における主コントローラ１４を中心としたハードウエア構成について説明する。
図４には、基板処理システム１の主コントローラ１４を中心としたハードウエアの概略構成が示されている。

図４に示されるように、基板処理装置１０の基板処理装置本体１１１内に、先述の主コントローラ１４、スイッチングハブ１５とあわせて、搬送制御部２３０と、プロセス制御部２３２とが設けられている。搬送制御部２３０とプロセス制御部２３２とは、基板処理装置本体１１１内に設けることに替えて、基板処理装置本体１１１外に設けても良い。

搬送制御部２３０は、例えばＣＰＵ等からなる搬送系コントローラ２３４を有し、プロセス制御部２３２は、例えばＣＰＵ等からなるプロセス系コントローラ２３６を有する。搬送系コントローラ２３４とプロセス系コントローラ２３６とは、スイッチングハブ１５を介して、主コントローラ１４にそれぞれ接続されている。尚、搬送制御部２３０及びプロセス制御部２３２の詳細については後述する。

また、図４に示されるように、主操作装置１６内には、主表示装置１８（図１参照）の表示を制御するため等に用いられる主表示制御部２４０が設けられている。主表示制御部２４０は、例えば、ビデオケーブル２０を用いて、主コントローラ１４に接続されている。尚、主表示制御部２４０の詳細については後述する。

また、図４に示されるように、副操作装置５０内には、副表示装置５２（図１参照）の表示を制御するため等に用いられる副表示制御部２４２が設けられている。副表示制御部２４２は、スイッチングハブ１５を介して主コントローラ１４に接続されている。尚、副表示制御部２４２の詳細については後述する。

また、図４に示されるように、外部操作装置３０内には、外部表示装置３２の表示を制御するため等に用いられる外部表示制御部２４４が設けられている。外部表示制御部２４４は、スイッチングハブ４２を有する通信ネットワーク４０を介して、主コントローラ１４に接続されている。尚、外部表示制御部２４４の詳細については後述する。

図５には、プロセス制御部２３２の詳細が記載されている。
図５に示されるように、プロセス制御部２３２は、先述のプロセス系コントローラ２３６を有するとともに、ＲＯＭ（read-only memory）２５０、ＲＡＭ（random-access memory）２５１、温度制御部２５２、ガス制御部２５３、圧力制御部２５４、及び温度制御部２５２等とのＩ／Ｏ制御を行なうＩ／Ｏ制御部２５５を有する。
プロセス系コントローラ２３６は、例えば、主操作装置１６の主操作画面１８ａ等で作成又は編集され、ＲＡＭ２５１等に記憶されているレシピに基づいて、基板を処理するための制御データ（制御指示）を温度制御部２５２、ガス制御部２５３及び圧力制御部２５４に対して出力する。

ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１には、シーケンスプログラム、複数のレシピや主操作装置１６等から入力される入力データ（入力指示）、レシピのコマンド及びレシピ実行時の履歴データ等が格納される。尚、プロセス制御部２３２には、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）等により実現される記憶装置（不図示）が含まれてもよく、この場合、該記憶装置には、ＲＡＭ２５１に格納されるデータと同様のデータが格納される。このように、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１は基板を処理する手順が記載されている種々のレシピを記憶する記憶手段として用いられる。
入力指示は、主操作装置１６の主表示装置１８に表示される主操作画面１８ａから、副操作装置５０の副表示装置５２に表示される副操作画面５２ａから、又は外部操作装置３０の外部表示装置３２に表示される外部操作画面３２ａからなされる。また、入力指示は、レシピを実行させる指示のほか、各ユーザの操作権限を設定する指示などがその一例として挙げられるが、これに限定されない。

温度制御部２５２は、上述した処理炉２０２の外周部に設けられたヒータ３３８の出力を制御することにより処理炉２０２内の温度を制御する。ガス制御部２５３は、処理炉２０２のガス配管３４０に設けられたＭＦＣ（マスフローコントローラ）３４２からの出力値に基づいて処理炉２０２内に供給する反応ガスの供給量等を制御する。圧力制御部２５４は、処理炉２０２の排気配管３４４に設けられた圧力センサ３４６の出力値に基づいてバルブ３４８を開閉することにより処理炉２０２内の圧力を制御する。
このように、温度制御部２５２等のサブコントローラは、プロセス系コントローラ２３６からの制御指示に基づいて基板処理装置１０の各部（ヒータ３３８、ＭＦＣ３４２及びバルブ３４８等）の制御を行なう。

図６には、搬送制御部２３０の詳細が記載されている。
図６に示されるように、搬送制御部２３０は、先述の搬送系コントローラ２３４を有するとともに、ＲＯＭ（read-only memory）２６０、ＲＡＭ（random-access memory）２６１、モータドライバ２６２、モータドライバ２６３、モータドライバ２６２等とのＩ／Ｏ制御を行なうＩ／Ｏ制御部２６４を有する。
搬送系コントローラ２３４は、例えば、主操作装置１６の主操作画面１８ａ等で作成又は編集され、ＲＡＭ２６１等に記憶されているレシピに基づいて、基板を搬送するための制御データ（制御指示）を、モータドライバ２６２、モータドライバ２６３に対して出力する。
モータドライバ２６２、モータドライバ２６３は、基板を搬送するための駆動源として用いられるモータ３５０、モータ３５２により、基板処理システム１内におけるウエハ２００の搬送を制御する。

図７には、主操作装置１６の詳細が示されている。
図７に示されるように、主操作装置１６は、先述の主表示装置１８、主表示制御部２４０、主表示装置１８に表示される主操作画面１８ａからのユーザ（作業者）の入力データ（入力指示）を受け付ける入力部１６０、及び入力部１６０に受け付けられた入力データが主表示制御部２４０により主コントローラ１４に送信されるまでの間記憶する一時記憶部１６６を有する。
主表示制御部２４０は、入力部１６０からの入力データ（入力指示）を受け付け、該入力データを主表示装置１８もしくは主コントローラ１４に送信する。

また、主表示制御部２４０は、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１等に格納された複数のレシピのうち任意のレシピをプロセス系コントローラ２３６により実行させる指示（制御指示）を受け付けるようになっている。また、主表示装置１８は、主表示制御部２４０から指示された任意のレシピを主操作画面１８ａとして表示するようになっているとともに、ユーザ（作業者）の操作権限等のパラメータの設定を行なうための主パラメータ設定画面１８ｂとして表示するようになっている。

図８には、副操作装置５０の詳細が示されている。
図８に示されるように、副操作装置５０は、先述の副表示装置５２、副表示制御部２４２、副表示装置５２に表示される副操作画面５２ａからのユーザ（作業者）の入力データ（入力指示）を受け付ける入力部２８０、入力部２８０に受け付けられた入力データが主表示制御部２４０により主コントローラ１４に送信されるまでの間記憶する一時記憶部２８４を有する。
副表示制御部２４２は、入力部１８０からの入力データ（入力指示）を受け付け、該入力データを副表示装置５２もしくは主コントローラ１４に送信する。

また、副表示制御部２４２は、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１等に格納された複数のレシピのうち任意のレシピをプロセス系コントローラ２３６により実行させる指示（制御指示）を受け付けるようになっている。また、副表示装置５２は、副表示制御部２４２からの指示により指示された任意のレシピを副操作画面５２ａに表示するようになっているとともに、ユーザ（作業者）の操作権限等のパラメータの設定を行なうための副パラメータ設定画面５２ｂ等の種々の画面を表示するようになっている。

図９には、外部操作装置３０の詳細が示されている。
図９に示されるように、外部操作装置３０は、先述の外部表示装置３２、外部表示制御部２４４、外部表示装置３２に表示される外部操作画面３２ａからユーザの入力データを受け付ける入力部２８８、入力部２８８に受け付けられた入力データが外部表示制御部２４４により主コントローラ１４に送信されるまでの間記憶する一時記憶部２９２を有する。
外部表示制御部２４４は、入力部２８８からの入力データ（入力指示）を受け付け、該入力データを外部表示装置３２もしくは主コントローラ１４に送信する。

また、外部表示制御部２４４は、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１に格納された複数のレシピのうち任意のレシピをプロセス系コントローラ２３６により実行させる指示（制御指示）を受け付けるようになっている。また、外部表示装置３２は、外部表示制御部２４４からの指示により指示された任意のレシピを外部操作画面３２ａに表示するようになっている。さらに外部表示装置３２は、後述するように、ユーザ（作業者）の操作権限を設定するための権限設定画面やレシピを編集するための編集画面等を外部操作画面３２ａに表示させる。

以上のように構成された基板処理システム１においては、主操作装置１６の主表示装置１８に表示される主操作画面１８ａ、主パラメータ設定画面１８ｂ等の種々の画面から、入力部１６０を介して、レシピを設定するためのデータや該レシピに対するユーザ（作業者）の操作権限等のデータ（入力データ）が入力されると、該入力データ（入力指示）は、主表示装置１８に表示されるとともに、一時記憶部１６６に格納され、さらに主表示制御部２４０によって、主コントローラ１４に送信される。

また、同様に、副操作装置５０の副表示装置５２に表示される副操作画面５２ａ、副パラメータ設定画面５２ｂ等の種々の画面から、入力部２８０を介して、レシピを設定するためのデータや該レシピに対するユーザ（作業者）の操作権限等のデータ（入力データ）が入力されると、該入力データ（入力指示）は、副表示装置５２に表示されるとともに、一時記憶部２８４に格納され、さらに副表示制御部２４２によって、主コントローラ１４に送信される。

また、同様に、外部操作装置３０の外部表示装置３２に表示される外部操作画面３２ａ、外部パラメータ設定画面３２ｂ等の種々の画面から、入力部２８８を介して、レシピを設定するためのデータや該レシピに対するユーザ（作業者）の操作権限等のデータ（入力データ）が入力されると、該入力データ（入力指示）は、外部表示装置３２に表示されるとともに、一時記憶部２９２に格納され、さらに外部表示制御部２４４によって、主コントローラ１４に送信される。

さらに、主コントローラ１４からプロセス系コントローラ２３６にデータが送信され、プロセス系コントローラ２３６は、該入力データをＲＡＭ２５１に格納し、例えばＲＯＭ２５０に格納されたレシピや該レシピに対するユーザ（作業者）の操作権限等の設定入力を確定させる。
プロセス系コントローラ２３６は、シーケンスプログラムを起動し、該シーケンスプログラムに従って、例えばＲＡＭ２５１に格納されたレシピのコマンドを呼び込み実行することで、ステップが逐次実行され、Ｉ／Ｏ制御部２５５を介して温度制御部２５２、ガス制御部２５３、及び圧力制御部２５４に対して基板を処理するための制御指示が送信される。温度制御部２５２等の各コントローラは、プロセス系コントローラ２３６からの制御指示に従って基板処理装置１０内の各部（ヒータ３３８、ＭＦＣ３４２及びバルブ３４８等）の制御を行なう。

また、主コントローラ１４からは、搬送系コントローラ２３４にもデータが送信され、搬送系コントローラ２３４は、シーケンスプログラムを起動し、該シーケンスプログラムに従って、ステップが逐次実行され、Ｉ／Ｏ制御部２６４を介してモータドライバ２６２、モータドライバ２６３に対して制御指示が送信される。モータドライバ２６２、２６３は、搬送系コントローラ２３４からの指示に従って、モータ３５０、モータ３５２の制御を行なう。

本実施形態における基板処理システム１においては、例えば、所定のファイルやコマンド毎に、ユーザ（作業者）の操作権限が設定される。また、所定のファイルやコマンド毎に、複数のユーザを登録したグループの操作権限が設定される。例えば、プロセスレシピに対して所定のグループの操作権限が編集可能に設定された場合、そのグループに登録された各ユーザは、プロセスレシピであるファイルの参照、編集を行なうことができる。操作権限は、例えば、管理者（マスターユーザともいう）により設定され、ユーザの操作実行時には、ユーザ名及び当該ユーザに対応するパスワードが確認される。

これら各ユーザの操作権限は、基板処理装置の稼動状態に対応して設定されることが好ましい。すなわち、オフライン時においては、例えばライン担当者等によるレシピ編集を許可し、オンライン時においては、（ホストコンピュータ等からの指示により基板処理装置が稼動するので）ライン担当者等によるレシピ編集を禁止する。又、オンライン時であり且つトラブル発生時においては、メンテナンスエンジニア等によるレシピの編集を許可することが好ましい。

次に、基板処理装置１０に格納されている各レシピに対するユーザ（作業者）の操作権限の設定方法を図１０乃至１３に基づいて説明する。

図１０は、基板処理装置１０の主操作装置１６が有する主表示装置１８に、主パラメータ設定画面１８ｂが表示され、例えば管理者により操作されるユーザ設定画面３００を例示する図である。このユーザ設定画面３００には、ユーザ名、各ユーザの属するグループ名及び各ユーザに対応するパスワードが表示され、各項目を編集（更新、修正、入力等）できる。

図１０に例示するように、ユーザ設定画面３００には、テーブル選択表示部３０２と、ユーザ設定テーブル３０４とが含まれる。テーブル選択表示部３０２は、複数の選択部３０６を有し、いずれかの選択部３０６を選択（押下）すると該選択部３０６に対応する所定数のユーザ設定テーブル３０４が表示されるようになっている。

ユーザ設定テーブル３０４には、グループ名と称されるユーザの属性を編集するためのグループ名設定部３０８、ユーザ名を編集するためのユーザ名設定部３１０及び各ユーザ名に対応するパスワードを入力するためのパスワード設定部３１２が含まれる。
グループ名には、各ユーザの属するグループの名称、例えばプロダクト（Product)、エンジニア（Engineer)、メンテナンス（Maintenance)、リカバリー(Recovery)等が入力又は選択される。例えば、「プロダクト」にはライン担当者であるユーザが含まれ、「エンジニア」にはプロセスエンジニアであるユーザが含まれ、「メンテナンス」にはメンテナンスエンジニアであるユーザが含まれる。尚、グループ名の数は例えば１０グループに固定されている。又、グループ名の数を限定せず、グループ名の名称も必要に応じて任意に設定されるようにしても良い。例えば、グループ名として、オンラインエンジニアや保守担当者等の名称を付与してもよい。

ユーザ名は、ユーザの名称を表し、パスワードは、例えば英数字からなる文字列である。図１０に示すように、例えば、管理者は、ユーザ名入力部３１０に「ユーザ１（ＵＳＥＲ１）」を入力し、グループ名入力部３０８に「プロダクト（Product)」を入力し、パスワード入力部３１２に「１」を入力する。尚、画面表示は、パスワードは「＊」等で表示させることは言うまでもない。

図１１は、基板処理装置１０の主操作装置１６が有する主表示装置１８に、主パラメータ設定画面１８ｂが表示され、例えば管理者により操作される権限設定画面４００を例示する図である。この権限設定画面４００においては、各レシピに対するユーザ（グループ）の操作権限が設定される。

図１１に例示するように、権限設定画面４００には、対象のグループ名を選択するグループ選択部４０２と、所定のコマンドや複数のレシピ等を表示する一覧表示部４０４と、これら複数のレシピそれぞれに対する当該グループの操作権限を入力する権限入力部４０６とが含まれる。グループ選択部４０２には、上述したユーザ設定テーブル３０４において設定された複数のグループ名が表示され、対象のグループ名を選択することができるようになっている。

一覧表示部４０４には、基板処理装置１０にファイルとして格納されている複数のレシピ等が一覧表示されるようになっている。尚、レシピに限らず、基板を処理するための条件等が設定されたファイルを表示するようにしてもよい。一覧表示部４０４には、例えば、プロセスレシピ、サブレシピ及びアラームレシピ等が表示される。尚、一覧表示部４０４は、表示切り替えボタン４０８を有し、ファイルの一覧が一画面に表示できない場合には、必要に応じて切り替え表示又はスクロール表示させることができるようになっている。

権限設定部４０６には、オンライン権限設定部４１０と、オフライン権限設定部４１２とが含まれる。オンライン権限設定部４１０には、基板処理装置１０の稼動状態がオンライン（オンラインリモート：外部操作装置３０等からの指示により基板処理装置１０が稼動する状態）である場合の各レシピに対するグループ（ユーザ）の操作権限が入力（選択）されるようになっている。オフライン権限設定部４１２には、基板処理装置１０の稼動状態がオフライン（非オンラインリモート）である場合の各レシピに対するグループ（ユーザ）の操作権限が入力（選択）されるようになっている。
グループ（ユーザ）の操作権限は、各レシピに対して設定され、例えば「禁止(Inhibit)」、「参照可(Read Only)」、「編集可(Edit)」及び「実行可(Exec)」のいずれかである。

ここで、禁止(Inhibit)とはレシピ等のファイルを編集及び参照を禁止する権限であり、参照可(ReadOnly)とはレシピ等のファイルの編集を禁止し参照を許可する権限であり、編集可(Edit)とはレシピ等のファイルを編集及び参照を許可する権限であり、実行可(Exec)とはレシピ等の実行（スタート）を許可する権限である。

また、権限設定画面４００には複数のボタンからなるボタン群４１４が含まれる。このボタン群４１４には、例えば編集ボタン４１６、コマンドボタン４１８等が配置されている。尚、図１１は、編集ボタン４１６が押下されているときの図面である。コマンドボタン４１８が押下されると、図示しないが一覧表示部４０４に権限が設定可能な複数のコマンドが表示される。そして、権限設定画面４００上でコマンドボタンについても設定できるようになっている。

図１２は、権限設定画面４００において、編集ボタン４１６を選択し、さらに例えば所定のレシピに対応するオンライン権限入力部４１０又はオフライン権限入力部４１２を選択し、選択画面４２０を新たに表示した図である。選択画面４２０は、例えば「禁止(Inhibit)」、「参照可(ReadOnly)」、「編集可(Edit)」及びキャンセルのいずれかを選択できるように構成されている。

例えば、管理者は、権限設定画面４００において、編集ボタン４１６を選択し、グループ名選択部４０２で「Default」を選択し、プロセスレシピに対応するオフライン権限入力部４１２を選択し、選択画面４２０において「参照可(ReadOnly)」を選択する。これにより、「Default」のグループに属するユーザに対し、オフライン時における基板処理装置１０側でのプロセスレシピの参照を許可する設定を行なうことができる。

また、例えば、権限設定画面４００において、グループ名選択部４０２で「エンジニア（Engineer)」又は「メンテナンス（Maintenance)」を選択し、選択画面４２０を用いて所定のレシピに対応するオンライン権限設定部４１０に対し「編集可(Edit)」を選択すると、「エンジニア」又は「メンテナンス」のグループに属するユーザに対し、オンライン時における基板処理装置１０側での所定のレシピの参照及び編集を許可する設定を行なうことができる。

また、権限設定画面４００において、ユーザは、例えば、グループ名選択部４０２で「プロダクト（Product)」を選択し、選択画面４２０を介し所定のレシピに対応するオンライン権限設定部４１０に「参照可(ReadOnly)」又は「禁止(Inhibit)」を選択する。これにより、「プロダクト」のグループに属するユーザに対し、オンライン時における基板処理装置１０側での所定のレシピの編集を禁止する設定を行なうことができる。

図１３は、権限設定画面４００において、コマンドボタン４１８を選択し、さらに表示された所定のコマンドに対応するオンライン権限設定部４１０又はオフライン権限設定部４１２を選択し、選択画面４２０を表示した図である。選択画面４２０において、例えば「禁止(Inhibit)」、「実行可(Exec)」及びキャンセルのいずれかを選択できるようになっている。ここで、「プロダクト」のグループに属するユーザに対し、所定のコマンドのうち搬送コマンドを「禁止（Inhibit)」することで、搬送コマンドボタンを表示させない（もしくは操作できない）ようにすることができる。例えば、オンライン時におけるフープ１１０の投入などをユーザに実施させないようにすることができる。

例えば、管理者は、権限設定画面４００において、グループ名選択部４０２で「Default」を選択し、コマンドボタン４１８を選択し、ファイルメンテナンスのコマンドに対応するオフライン権限設定部４１２を選択し、選択画面４２０において「実行可(Exec)」を選択する。これにより、「Default」のグループに属するユーザに対し、オフライン時における基板処理装置１０側でのファイルメンテナンスの実行を許可する設定を行なうことができる。この場合、ファイルメンテナンスを実行するためのコマンドボタンが画面に表示される。
尚、ここでファイルメンテナンスとは、基板処理装置１０で取り扱うファイルのメンテナンス作業を行なうための機能である。ファイルメンテナンスには、ハードディスク内とＵＳＢフラッシュメモリ等の外部記憶メディアとの間のファイルコピーやシステムに設定されているファイルのバックアップ等が含まれる。

以上のように、権限設定画面４００は、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１に記憶された所定のファイルやコマンドに対するユーザ（作業者）の操作権限を設定する主パラメータ設定画面１８ｂの一つとして用いられている。

図１４は、基板処理装置１０の主操作装置１６が有する主表示装置１８に主操作画面１８ａとして表示され、例えばユーザ（作業者）により操作されるメイン画面５００を例示する図である。

図１４に示すように、メイン画面５００には、ログインボタン５０２、編集ボタン５０４及びレシピや基板を処理するための諸条件（例えば温度条件、圧力条件など）を表示する条件表示部５０６ａ〜５０６ｇが含まれる。

ログイン画面６００は、ログインボタン５０２を選択（押下）することによりメイン画面５００上に表示される。ログイン画面６００には、ユーザ名を入力するためのユーザ名入力部６０２と、このユーザ名に対応するパスワードを入力するためのパスワード入力部６０４と、ログインを実行するためのログインボタン６０６と、ログインをキャンセルするためのキャンセルボタン６０８とが含まれる。ユーザは、ログイン画面６００において、ユーザ名入力部６０２にユーザ名を入力し、パスワード入力部６０４にパスワードを入力し、ログインボタン６０６を押下することによりログインを行なう。

ログイン後にメイン画面５００の編集ボタン５０４を選択すると、後述する編集メニュー画面７００が表示される。

図１５は、基板処理装置１０の主操作装置１６が有する主表示装置１８に、主操作画面１８ａとして表示され、例えばユーザ（作業者）により操作される編集メニュー画面７００を例示する図である。

編集メニュー画面７００には、例えばレシピ選択部７０２、温度設定選択部７０４及び圧力設定選択部７０６等が含まれる。レシピ選択部７０２には、例えばプロセスレシピ選択ボタン７１０、サブレシピ選択部７１２及びアラームレシピ選択部７１４等が表示されている。プロセスレシピ選択ボタン７１０、サブレシピ選択部７１２及びアラームレシピ選択部７１４等は、上述した権限設定画面４００の権限入力部４０６において、「参照可(ReadOnly)」、「編集可(Edit)」及び「実行可(Exec)」が選択されている場合に表示されるようになっている。すなわち、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１に記憶されている複数のレシピのうち、権限入力部４０６において「禁止(Inhibit)」が選択されているレシピは編集メニュー画面７００上に表示されないようになっている。

上述した編集メニュー画面７００においてプロセスレシピ選択ボタン７１０を押下（選択）すると図示しないレシピ編集メニュー画面が表示される。

レシピ編集メニュー画面には、例えばプロセスレシピボタン、バリアブルパラメータボタン及びレシピデータ範囲チェックパラメータボタン等が表示される。

上述したレシピ編集メニュー画面においてプロセスレシピボタンを選択すると図示しないプロセスレシピ一覧画面が表示される。

プロセスレシピ一覧表示画面は、プロセスレシピに関する複数のレシピの一覧を表示し、それぞれのレシピに対するファイル名（レシピ名）、編集日時、編集者及びコメント等の属性を表示する。このプロセスレシピ一覧表示画面には、例えば、編集者ＡＢＣにより編集されたファイルＡＡＡ、編集者ＥＦＧにより編集されたファイルＢＢＢ等が表示されている。このプロセスレシピ一覧表示画面に表示されたファイル名を選択すると該ファイルに応じたレシピ編集画面９００（図１６を用いて後述）が表示されるようになっている。

図１６は、基板処理装置１０の主操作装置１６が有する主表示装置１８に、主操作画面１８ａが表示され、例えばユーザ（作業者）により操作されるレシピ編集画面９００を例示する図である。このレシピ編集画面９００は、上述したプロセスレシピ一覧表示画面に表示された所定のファイル名（レシピ名）を選択すると表示される。このレシピ編集画面９００においては、所定のレシピの詳細内容が表示され、また、所定のレシピの編集（更新）等の指示が入力されるようになっている。本図においては、上述したプロセスレシピ一覧表示画面８５０においてレシピ名ＡＡＡが選択された状態を示している。

図１６に示すように、レシピ編集画面９００には、レシピ名表示部９０２、保存ボタン９０４及びレシピや基板を処理するための諸条件を編集する複数入力部、例えば、反応ガスなどの流量を設定する流量条件入力部９０６、炉内温度等を設定する温度条件入力部９０８、炉内圧力等を設定する圧力条件入力部９１０、レシピの各ステップを設定するステップ入力部９１２等が含まれる。ユーザは、レシピ編集画面９００において、レシピ名表示部９０２に表示されたレシピ（例えばレシピＡＡＡ）における各条件やコマンド等を各入力部に入力し、保存ボタン９０４を押下することにより、該レシピを更新する。

以上のように、主操作装置１６が有する主表示装置１８には、ユーザ設定画面３００、権限設定画面４００、メイン画面５００、ログイン画面６００、編集メニュー画面７００、レシピ編集画面９００等が表示される。これら種々の画面を用いて、基板処理システム１の操作がなされるとともに、ユーザ（操作者）が所属するグループが設定されるグループパラメータや、ユーザが所属するグループに応じて定められる種々の操作権限を規定する権限パラメータの設定がなされる。
これと同様に、副操作装置５０が有する副表示装置５２や、外部操作装置３０の外部表示装置３２にも、ユーザが所属するグループに応じて定められる種々の操作権限を規定する権限パラメータの設定がなされる。

ここで、外部操作装置３０は、基板処理装置１０から離間した位置に配置されるものである。よって、基板処理装置１０や基板処理装置１０の周りの状況を確認することできないこともある。従い、外部操作装置３０から、主操作装置１８や副操作装置５０と同様の操作ができるようにすると、基板処理に支障をきたしたり、危険が生じたりする虞がある。
そこで、この基板処理システム１において、外部操作装置３０からの操作に対し、主操作装置１６、及び副操作装置５０とは別に、特に制限が設けられている。

すなわち、外部操作装置３０の操作について、主操作装置１８と副操作装置５０からの操作で用いられる権限パラメータによる操作の制限に加えて、機能制限パラメータを用いて制限が加えられる。機能制限パラメータは、外部表示装置３２に表示される機能制限設定画面（後述する図１７）を用いて設定がなされる。

ここで、外部操作装置３０からなされる操作に制限を加えるために、先述の権限パラメータと機能制限パラメータとの論理積が算出され、その算出結果により可能な操作の権限が定められる。
先述の権限パラメータは、「禁止(Inhibit)」、「参照可(ReadOnly)」、「編集可(Edit)」について、それぞれのユーザ、又はユーザの属するグループに応じて、
禁止(Inhibit) ：0×00
参照可(ReadOnly) ：0×01
編集可(Edit) ：0×02
と値が定められている。
また、機能制限パラメータについては、「禁止(Inhibit)」、「参照可(ReadOnly)」、「編集可(Edit)」、「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」について、
禁止(Inhibit) ：0×00
参照可(ReadOnly) ：0×01
編集可(Edit) ：0×02
参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit） ：0×03
と値が定められている。

そして、これらの権限パラメータの値と、機能制限パラメータの値との論理積が主コントローラ１４により算出され、その値に応じて外部操作装置３０からなされる操作に制限が加えられる。図１９に、権限パラメータの値と機能制限パラメータの値との論理積を示す。図１９で、ユーザ権限とは、ログインしたユーザについての権限パラメータである。

図１７には、外部操作装置３０の外部表示装置３２に表示される機能制限設定画面９５０の一例として、メンテナンス(Maintenance)のグループに属するユーザとしてログインした際の画面が示されている。機能制限パラメータは、機能制限設定画面９５０を用いて設定がなされるとともに、設定がなされた機能制限パラメータが機能制限画面９５０に表示される。
図１７に示されるように、例示される機能制限設定画面９５０には、オンライン機能制限設定部９５４と、オフライン（非オンライン）機能制限設定部９５２とが含まれる。オンライン機能制限設定部９５４には、基板処理装置１０の稼動状態がオンラインである場合の各機能を制限するパラメータが入力されるようになっている。また、オフライン機能制限設定部９５２には、基板処理装置１０の稼動状態がオフラインである場合の各機能を制限するパラメータが入力されるようになっている。

機能制限パラメータは、各機能に対して設定され、先述のように「禁止(Inhibit)」、「参照可(ReadOnly)」、「編集可(Edit)」、及び「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」のいずれかである。「禁止(Inhibit)」であれば０が、「参照可(ReadOnly)」であれば１が、「編集可(Edit)」であれば２が、「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」であれば３が、オフライン機能制限設定部９５２とオンライン機能制限設定部９５４とにそれぞれ表示される。

外部操作装置３０からなされる操作の制限について、より具体的に説明する。
例えば、外部操作装置３０にメンテナンス(Maintenance)のグループに属するユーザとしてログインした場合の、プロセスレシピ編集に加えられる制限は、メンテナンス(Maintenance)のグループの権限が「参照可(ReadOnly)」である。図１７に番号９５６で示すようにプロセスレシピ編集の制限が「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」であるため、ユーザの操作権限は、両者の値「0×01」と「0×03」との論理積「0×01」で定められ、「参照可(ReadOnly)」となる。

また、例えば、図１７に番号９５８で示されるように、アラーム条件編集の制限は、「禁止(Inhibit)」であり、その値は「0×00」である。このため、いかなるグループに属するユーザとしてログインしても、そのグループの権限の値との論理積が常に「0×00」となり、属するユーザグループに関わらず、外部操作装置３０からの操作は、「禁止(Inhibit)」となる。

また、外部操作装置３０にメンテナンス(Maintenance)のグループに属するユーザとしてログインし、メンテナンス(Maintenance)のグループの権限が「編集可(Edit)」であり、機能制限が「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」である操作Ａがあると仮定する。この場合、操作Ａに加えられる制限は、ユーザが属するグループの権限パラメータの値「0×02」と、機能制限パラメータの値「0×03」との値の論理積が「0×02」であるため、「編集可(Edit)」となる。

次に、本発明の実施形態に係る基板処理システム１の制御処理を説明する。
図１８は、本発明の実施形態に係る基板処理システム１による制御処理であって、特に外部操作装置３０から操作がなされる際の制御処理を示すフローチャートである。

図１８に示すように、ステップＳ１００において、主コントローラ１４は、外部表示装置３２から入力されるユーザ名と、このユーザ名に対応するパスワードとを受け入れるとともに、そのユーザがいずれのユーザグループに属するかの検索処理を行なう。

次のステップＳ１０２で、主コントローラ１４は、ステップＳ１００で検索されたユーザグループが存在するか否かを判別する。具体的には、ステップＳ１００で検索されたユーザグループが、例えば、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１等に格納されたものと同一であるかを判定し、同一であるとの判別がなされた場合は、次のステップＳ１０４の処理に移行する。一方、同一でないとの判別がなされた場合、ステップＳ１１６に移行する。

ステップＳ１０４では、ステップＳ１０２で存在すると判別されたユーザグループの権限が設定される。具体的には、主コントローラ１４は、外部表示装置３２から入力されたユーザ名の属するユーザグループに対して、例えばＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１等に記憶された権限を設定する。この際、権限の設定は、該当するユーザグループに対して基板処理装置１０の稼動状態がオンライン時又はオフライン時である場合それぞれにおける各レシピに対するユーザの操作権限を設定する。
また、ステップＳ１０４における権限の設定は、先述のように、値「0×00」をとる「禁止(Inhibit)」、値「0×01」をとる「参照可(ReadOnly)」、値「0×02」をとる「編集可(Edit)」のいずれかにセットされる。

次のステップＳ１０６では、外部操作装置３０から操作がなされる際に独自の処理として、操作権限の制限がなされる。具体的には、主コントローラ１４は、外部表示装置３２に表示される機能制限設定画面９５０から入力された操作に対して、例えば、ＲＯＭ２５０又はＲＡＭ２５１等に記憶された機能制限パラメータの設定を行なう。
ステップＳ１０６における機能制限パラメータの設定は、先述のように値「0×00」をとる「禁止(Inhibit)」、値「0×01」をとる「参照可(ReadOnly)」、値「0×02」をとる「編集可(Edit)」、値「0×03」をとる「参照可・編集可（ReadOnly ＆ Edit）」のいずれかになされる。

次のステップＳ１０８では、ステップＳ１０４で設定された権限パラメータの値と、ステップＳ１０６で設定された機能制限パラメータの値との論理積が、主コントローラ１４により算出される。

ステップＳ１１０、ステップＳ１１２、及びステップＳ１１４では、ステップＳ１０８で算出された論理積から、値「0×00」をとる「禁止(Inhibit)」であるか、値「0×01」をとる「参照可(ReadOnly)」であるか、値「0×02」をとる「編集可(Edit)」であるかの判別がなされる。「禁止(Inhibit)」であるとの判別がなされた場合はステップＳ１１６へ進み、「参照可(ReadOnly)」であるとの判別がなされた場合はステップＳ１１８へ進み、「編集可(Edit)」であるとの判別がなされた場合はステップＳ１２０へ進む。

ステップＳ１１６では、主コントローラ１４は、外部表示装置３２に、「禁止(Inhibit)」に制限された操作に応じた画面を表示させる。具体的には、例えば、外部表示装置３２にユーザ設定画面３００に相当する画面を表示したままの状態として、レシピ等のファイルを編集及び参照をできなくする。

ステップＳ１１８では、主コントローラ１４は、外部表示装置３２に、「参照可(ReadOnly)」に制限された操作に応じた画面を表示させる。具体的には、例えば外部表示装置３２にメイン画面５００の相当する画面を表示し、レシピや基板を処理するための諸条件（例えば温度条件、圧力条件など）を、操作者が参照できるようにする。

ステップＳ１２０では、主コントローラ１４は、外部表示装置３２に、「編集可(Edit)」に制限された操作に応じた画面を表示させる。具体的には、例えば外部表示装置３２に、レシピ編集画面９００を表示させ、当該ユーザがプロセスレシピの編集（更新）をできるようにする。

以上のように、外部操作装置３０からの操作が、機能制限パラメータを設定することで制限されるため、生産に支障をきたす虞のある操作や、例えば、基板処理装置１０の状態を目視で確認できない位置から行なうと危険を生じさせる虞がある操作等を、外部操作装置３０から行なうことができないようにすることができる。

また、本実施の形態においては、ログインするユーザの属するグループを検索する方法について説明したが、この形態に限らない。外部操作装置３０について、ログインするユーザが決まっている場合は、ログインするユーザＩＤとパスワードを予め決めておき、該外部操作装置３０からの操作で固定のログイン情報（ユーザＩＤ、パスワード）を入力したときに、主コントローラ１４が外部操作装置３０からログインされたという判断をしても良い。但し、この場合、ユーザＩＤやパスワードを含むユーザ情報は、パラメータとして主コントローラ１４の記憶手段に予め記憶させておく必要がある。

また、本発明によれば、主表示装置１８、副表示装置５２、及び外部表示装置３２にそれぞれ異なる表示をさせることができ、主表示装置１８に表示される主操作画面１８ａ、副表示装置５２に表示される副操作画面５２ａ、及び外部表示装置３２に表示される外部操作画面３２ａから、基板処理装置１０等に、それぞれ異なる操作をさせることができる。

また、後述する実施例のように、各装置で異なる表示をさせると共に異なる操作を実施することができるので、種々の運用が可能となる。例えば、各装置で異なる操作を並行してセットアップ作業を進めることができるので、セットアップに要する時間を短縮することができる。操作として、副表示制御部２４２では、ＪＯＢの作成やプロセスの進捗状況の確認が実施され、主表示制御部２４０では、パラメータ編集や参照、生産や障害の状態、トレースロギングの確認、外部表示制御部２４４では、パラメータ参照、生産や障害の状態、トレースロギングの確認が実施される。

特に、外部表示制御部２４４を使用することにより、クリーンルーム内に極力入ることなく操作が可能となるので、作業効率が向上するだけでなく、クリーンルーム内の無人化に貢献できる。また、外部表示制御部２４４と主表示制御部２４０とは、画面構成を極力同じにしているため、クリーンルーム内と同様の操作ができ、操作性が向上する。

図２０に各操作装置で可能な操作を示す。尚、操作には、キャリアの搬入／搬出、ＪＯＢ作成、レシピ作成、パラメータ作成、テーブル作成、ログデータ参照、装置状態参照、生産情報参照、障害情報参照、トレースデータ参照、ファイルメンテナンス、リモートコマンド等が挙げられる。基本的には、上記の操作が各表示制御部で同時に操作可能となる。それにより、操作性の向上や作業効率の向上などの作用効果が得られる。ここで、装置情報とは、移載機の状態、ＪＯＢの進行具合、プロセスの状態（温度、圧力、ＭＦＣなどの状態）などであり、ファイルメンテナンスとは、ＨＤ（ハードディスク）からＨＤへのファイルのコピー／移動、ＨＤから外部記憶媒体であるＵＳＢメモリヘのファイルのコピー／移動、ＵＳＢメモリからＨＤへのファイルのコピー／移動、システムファイルのバックアップ／リストアなどである。リモートコマンドとは、ボートロード／アンロードなどの移戦機関連のコマンド、ＰＭ（プロセスモジュール）の状態を変更するコマンド、システＡの状態を変更するコマンドを示す。

次に本発明の実施例を説明する。
本発明の実施例１においては、副表示制御部２４２で搬送系のティーチングを実施するとともに他の各表示制御部２４０、２４２でファイルの参照作業が実施できる。従い、データの解析とティーチング作業が並行して実施されるため作業効率が向上し、セットアップに要する時間が短縮できる。また、基板の処理に支障をきたさない処理であれば、外部表示制御部２４４での装置に発生した異常の解析と、搬送系のセットアップを並行して実施することができる。ここで、解析とは、例えば、障害発生して異常停止した生産情報ファイルを参照し、操作画面上で画面を切り替えながら種々のファイルを参照し、障害発生要因を突き止めていく処理と定義する。また、生産に支障をきたさない処理とは、主にモニタ系の画面の操作である。例示すると、システムメイン画面とＰＭメイン画面から遷移可能な画面で、搬送、ジョブ、レシピ進捗、ガス流量、温度、圧力、特殊シーケンスなどのモニタ画面や障害情報、生産情報などの履歴情報、その他トレンド／トレース画面などが挙げられる。

実施例２では、ログインしたオペレータが、レシピ（ファイル）の編集する権限を有するレベルであれば、副表示制御部２４２で搬送系のティーチングを実施するとともに他の各表示制御部２４０、２４２でファイルの編集作業が実施できる。従い、レシピの編集とティーチング作業が並行して実施されるため作業効率が向上し、セットアップに要する時間が短縮できる。但し、ティーチング中なので、メンテナンス用や調整用のレシピ及びパラメータ類の編集である。調整用のレシピを実行し、処理結果を修正するため次の調整用のレシピを実行する前に、ティーチングのやり直しとレシピの修正作業を並行して実施することができる。よって、何度も繰り返して、調整用のレシピを実行せざるを得ない場合、ティーチングとレシピ編集との並行実施により、結果としてセットアップにかかる時間を抑えることができる。

実施例３では、実施例２と同様にログインしたオペレータの操作レベルが高い場合、異なるレシピであれば、各制御表示部で同時にレシピを作成することができる。従って、外部表示制御部２４４でレシピを作成することができるのでクリーンルーム内に入ることなく操作が可能になり作業効率が向上する。

実施例４では、実施例２と同様にログインしたオペレータの操作レベルが高い場合、副表示制御部２４２でのプロセスの進捗状況の確認と、主表示制御部２４０でのパラメータの編集と、外部表示制御部２４４での障害情報の参照とを同時に実施することができる。

実施例５では、外部表示制御部２４４でプロセスの進捗状況を確認しながら、主表示制御部２４０で搬送系の状態を参照することができる。又は、反対に、外部表示制御部２４４で搬送系の状態を参照しながら、主表示制御部２４０でプロセスの進捗状況を確認することができる。このように、各操作装置で異なる操作を行なうことができるため、例えば、搬送系で異常が発生しても迅速に対応が可能である。

実施例６では、副表示制御部２４２でプロセスの進捗状況を確認しながら、外部表示制御部２４４でパラメータの編集や参照、生産や障害の状態を参照することができる。これにより、レシピの実行中にクリーンルーム外で生産や障害などの履歴情報の解析を実施することができ、且つ、その解析結果に沿ってパラメータの修正が行なうことができる。従い、レシピの進捗状況を確認しながら、次のレシピの編集を行なうことができる。特にセットアップ時は、調整用のレシピを繰り返し実行する必要がある。前のレシピを実行しているときに解析を行うことで、前のレシピが終了しても次のレシピを直に実行でき、結果としてセットアップに要する時間を短縮できる。

実施例７では、副表示制御部２４２での操作についても、外部表示制御部２４４での操作と同様に機能制限パラメータによる操作制限をかけることができる。これにより、副表示制御部２４２でメンテナンス作業を実施する場合、主表示制御部２４０での誤ったレシピの編集を抑制できる。特に、外部表示制御部２４４側でセットアップやメンテナンス時に、調整用のレシピを複数回実行するためにレシピを編集する作業、搬送系の再ティーチングなどを行い所定のパラメータに設定する作業等が必要な場合でも、主表示制御部２４０側で不用なレシピ編集を行うことを防止できる。このように、基本的な操作（パラメータ参照、装置情報参照、トレースデータ参照等の参照操作）のみ可能とし、レシピ編集、パラメータ編集、ファイルメンテナンス、リモートコマンドなどの編集操作や装置状態を変更する操作などができなくして、装置の安全性を向上させる
こともできる。

実施例８では、実施例２と同様にログインしたオペレータの操作レベルが高くても、ログインをしていないオペレータの権限を変更できるようにする。そうすれば、ログインしていないオペレータには、リモートコマンドやファイル編集を実施させずに、情報（ファイル)参照のみ実施させることができる。具体的には、各表示制御部のうち、どこかの表示制御部でログインしていると他の表示制御部からはログインさせず、基本的な操作（パラメータ参照、装置情報参照、トレースデータ参照等の参照操作)のみ可能とし、レシピ編集、パラメータ編集、ファイルメンテナンス、リモートコマンドなどの編集操作や装置状態を変更する操作などができなくする。これにより、装置の安全性を向上させることもできる。

尚、ログインしたオペレータの操作レベルが低い場合、上記のメンテナンス用や調整用のレシピは参照しかできない場合があるので注意が必要である。そのときは、一度ログインしたオペレータがログアウトを行い、操作レベルの高いオペレータにログインしてもらう必要がある。また、ログインした操作レベルの高いオペレータが外部表示制御部２４４からログインした場合、機能制限パラメータによる制限を受けて基本的な操作（パラメータ参照、装置情報参照、トレースデータ参照等の参照操作）のみ可能であるときでも、ログインしていない他のオペレータは、主表示制御部２４０でレシピ編集、パラメータ編集、ファイルメンテナンス、リモートコマンドなどの編集操作を実施することができる。

つまり、ログインしていないオペレータは、副表示制御部２４２を操作するので、デフォルトユーザ（ログインしていないユーザ）の操作権限のみでレシピ編集が可能かどうかが決定され、デフォルトユーザの権限が２（Edit）の場合はレシピ編集が可能となり、１（Read Only）の場合はレシピが参照可能となり、０（Inhibit）の場合は参照不可となる。本実施の形態では、オペレータが、どこかの操作部でログインしているかどうかは関係なく、あくまでも主表示操作部２４０と副表示制御部２４２については、ログインするユーザ権限のみで決定され、外部表示制御部２４４についてはログインするユーザ権限と機能制限パラメータの論理積で決定する。

尚、本発明は、基板処理装置として、半導体製造装置だけでなくＬＣＤ装置のようなガラス基板を処理する装置でも適用することができる。成膜処理には、例えばＣＶＤ、ＰＶＤ、酸化膜、窒化膜を形成する処理、金属を含む膜を形成する処理等を含む。また、本実施形態では、縦型処理装置について記載したが、枚葉装置についても同様に適用することができ、さらに、露光装置、リソグラフィ装置、塗布装置等にも同様に適用することができる。

本発明は、特許請求の範囲に記載した事項を特徴とするが、さらに次に付記した事項も含まれる。

〔付記１〕
基板を処理する基板処理機構と、
少なくとも前記基板処理機構を制御する制御手段と、
前記基板処理機構を操作するユーザ情報（ユーザＩＤ、パスワード）が記憶される記憶手段と、
ユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたユーザ情報とを照らし合せ、該ユーザの操作レベル（操作権限）に応じた操作画面を表示させる表示部と、
を有することを特徴とする基板処理システム。

〔付記２〕
基板を処理する手順が記載された複数のレシピを含むファイルと、
前記ファイルを実行するユーザのユーザ情報が記憶される記憶手段と、
前記ファイルを実行することにより所定の処理を施すように制御する制御手段と、
前記制御手段に接続され、少なくとも前記ファイルを実行するための操作画面が表示される主表示部と、
を有し、
前記主表示部からユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたユーザ情報とを照らし合せ、前記主表示部に、該ユーザの操作レベル（操作権限）に応じた操作画面を表示させることを特徴とする基板処理装置。

〔付記３〕
基板を処理する手順が記載されたレシピを含むファイルと、
前記ファイルを実行するユーザのユーザ情報（ユーザＩＤ、パスワード）が記憶される記憶手段と、
前記ファイルを実行することにより所定の処理を施すように制御する制御手段と、
前記制御手段に接続され、少なくとも前記ファイルを実行するための操作画面が表示される主表示部と、
を有し、
前記制御手段から離間した位置に配置可能であって、少なくとも前記ファイルを実行するための操作画面が表示される外部表示部と通信ネットワークを介して接続可能であって、ユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたユーザ情報とを照らし合せ、該ユーザの操作レベル（操作権限）に応じた操作画面を表示させ、前記主操作画面及び前記外部操作画面に表示される表示画面を、それぞれ異なる表示とすることが可能であることを特徴とする基板処理装置。

〔付記４〕
基板を処理する手順が記載されたレシピを含むファイルと、
前記ファイルを実行するユーザのユーザ情報（ユーザＩＤ、パスワード）と、該ユーザが操作する機能を制限する機能制限パラメータとを記憶する記憶手段と、
前記ファイルを実行することにより所定の処理を施すように制御する制御手段と、
前記制御手段に接続され、少なくとも前記ファイルを実行するための操作画面が表示される主表示部と、
を有し、
前記制御手段から離間した位置に配置され、少なくとも前記ファイルを実行するための操作画面が表示される外部表示部が接続可能であって、
前記外部表示部からユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたユーザ情報とを照らし合せ、前記外部表示部に、前記操作画面として該ユーザの操作レベル（操作権限）に応じた操作画面を表示させることを特徴とする基板処理装置。

本発明は、半導体ウエハやガラス基板等の基板を処理する基板処理システム、基板処理装置、及び基板処理方法に適用することができる。

本発明の実施形態に係る基板処理装置を含む基板処理システムの概略構成を示す図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置を示す斜視図である。 図２に示される基板処理装置の左側面側の断面を示す断面図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の制御手段を中心とした構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置のプロセス制御部の構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の搬送制御部の構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主操作装置の構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の副操作装置の構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の外部操作装置の構成の一例を示すブロック図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主表示装置に操作表示画面として表示されるユーザ設定画面を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主表示装置に操作表示画面として表示される権限設定画面を例示する図である。 図１１に示す権限設定画面における所定レシピの権限の設定を説明する図である。 図１１に示す選択画面を介しての権限設定画面における所定コマンドの権限の設定を説明する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主表示装置に操作表示画面として表示されるログイン画面を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主表示装置に操作表示画面として表示される編集メニュー画面を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の主表示装置に操作表示画面として表示されるレシピ編集画面を例示する図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の外部表示装置に表示される機能制限設定画面を例示する図である、 本発明の実施形態に係る基板処理装置による制御処理であって、特に外部操作装置から操作がなされる際の制御処理を示すフローチャートである。 本発明の実施形態に係る基板処理装置における権限パラメータの値と機能制限パラメータの値との論理積を示す図である。 本発明の実施形態に係る基板処理装置の各操作装置で可能な操作を示す図である。

符号の説明

１ 基板処理システム
１０ 基板処理装置
１４ 主コントローラ
１６ 主操作装置
１８ 主表示装置
３０ 外部操作装置
３２ 外部表示装置
５０ 副操作装置
５２ 副表示装置
２００ ウエハ
２０２ 処理室
２４０ 主表示制御部
２４２ 副表示制御部
２４４ 外部表示制御部
３００ ユーザ設定画面
４００ 権限設定画面
４２０ 選択画面
５００ メイン画面
６００ ログイン画面
７００ 編集メニュー画面
９００ レシピ編集画面

Claims (3)

1. 基板を処理する基板処理機構と、
   少なくとも前記基板処理機構を制御する制御手段と、
   前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構に固定され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第１の操作画面が表示される第１の表示部と、
   前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構近傍に配置され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第２の操作画面が表示される第２の表示部と、
   を有し、
   前記制御手段は、前記第１の表示部と前記第２の表示部とに異なる表示をさせることができ、前記第１の表示部からの指示と前記第２の表示部からの指示に対して、異なる制御をすることを特徴とする基板処理装置。
2. 基板を処理する基板処理機構と、
   少なくとも前記基板処理機構を制御する制御手段と、
   少なくとも前記基板処理機構を操作するユーザが所属するグループを設定するグループパラメータと、前記ユーザが所属するグループに応じて予め設定された種々の操作権限を規定する権限パラメータと、前記ユーザが操作する機能を制限する機能制限パラメータと、を記憶する記憶手段と、
   前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構近傍に配置され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第１の操作画面が表示される第１の表示部と、
   前記制御手段に通信ネットワークを介して接続可能であって、前記基板処理機構から離間した位置に配置可能な、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第２の操作画面が表示される第２の表示部と、
   を有し、
   前記制御手段は、
   前記第１の表示部からユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたグループパラメータとを照らし合せ、前記第１の表示部に、前記権限パラメータを用いて該ユーザが所属するグループに応じた操作画面を表示させ、
   前記第２の表示部からユーザのログイン情報が入力されると、前記第２の表示部に予め設定された機能制限パラメータと前記ログイン情報に応じ特定された該ユーザが所属するグループに応じた操作権限を規定する前記権限パラメータとを比較して一致した操作権限に即した操作画面を表示させることを特徴とする基板処理システム。
3. 基板を処理する基板処理機構と、
   少なくとも前記基板処理機構を制御する制御手段と、
   前記基板処理機構を操作するユーザが所属するグループを設定するグループパラメータと、前記ユーザが所属するグループに応じて予め設定された種々の権限パラメータと、前記ユーザが操作する機能を制限する機能制限パラメータと、を記憶する記憶手段と、
   前記制御手段に接続されるとともに、前記基板処理機構近傍に配置され、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第１の操作画面が表示される第１の表示部と、
   前記制御手段に通信ネットワークを介して接続可能であって、前記基板処理機構から離間した位置に配置可能な、少なくとも前記基板処理機構を操作するための第２の操作画面が表示される第２の表示部と、
   を有し、
   前記制御手段は、
   前記第１の表示部からユーザのログイン情報が入力されると、そのログイン情報と、前記記憶手段に記憶されたグループパラメータとを照らし合せ、前記第１の表示部に、前記権限パラメータを用いて該ユーザが所属するグループに応じた操作画面を表示させ、前記第２の表示部からユーザのログイン情報が入力されると、前記第２の表示部に、予め設定される機能制限パラメータと前記ログイン情報に応じ特定された該ユーザが所属するグループに応じた操作権限を規定する前記権限パラメータとを比較して一致した操作権限に即した操作画面を表示させ、
   前記第１の表示部と前記第２の表示部とに異なる表示をさせることを特徴とする基板処理システム。

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