JP7446136B2 - 制御システム、制御方法、及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
図1は、実施形態に係る制御システム1の構成例を示す図である。実施形態に係る制御システム1によれば、装置に対する操作を適切に行うことができる。以下では、制御システム1が、フラットパネルディスプレイ(Flat Panel Display:FPD)用の基板を処理する基板処理装置を制御する例について説明する。なお、開示の制御システム1は、各種の装置を制御できる。
メイン端末10A、及びサブ端末10Bは、例えば、基板処理装置30と同じ場所(現場、ローカル)に設置(配置)されてもよい。この場合、基板処理装置30と同じ場所として、例えば、メイン端末10A、及びサブ端末10Bは、例えば、基板処理装置30が設置される工場等の施設内に設定されてもよい。また、基板処理装置30と同じ場所として、メイン端末10A、及びサブ端末10Bは、例えば、基板処理装置30が設置されるクリーンルーム内に設定されてもよい。
サブ端末10Bは、例えば、当該施設内でメイン端末10Aとは離れた場所に設置されてもよい。サブ端末10Bは、コンピュータを有さず、タッチパネルディスプレイを有してもよい。この場合、サブ端末10Bのタッチパネルディスプレイと制御装置20とは、例えば、アナログRGBコンポーネント映像信号を伝送するVGAケーブルと、ユーザから入力された情報(入力信号)を伝送するRS-232Cケーブル、当該映像信号及び当該入力信号をIPネットワークに伝送する装置、及びLAN(Local Area Network)等により接続されてもよい。
ハンディ端末10Cは、例えば、基板処理装置30が設置される工場等の施設内で利用可能な可搬型の端末でもよい。ハンディ端末10Cは、例えば、LANケーブル、PLC(Power Line Communications)用ケーブル、及びRS-232Cケーブル等のケーブル(有線)により基板処理装置30に接続され、基板処理装置30を介して制御装置20と通信を行う。なお、ハンディ端末10Cは、無線LAN、BLE(Bluetooth(登録商標) Low Energy)及びNFC(Near field communication)等の近距離無線通信により、基板処理装置30に接続され、基板処理装置30を介して制御装置20と通信を行うようにしてもよい。
リモート端末10Dは、例えば、基板処理装置30とは異なる場所(リモート)に設置されてもよい。この場合、基板処理装置30とは異なる場所として、例えば、リモート端末10Dは、例えば、基板処理装置30が設置される工場等の施設外に設定されてもよい。この場合、リモート端末10Dは、例えば、ユーザのオフィス等に設置されてもよい。リモート端末10Dは、例えば、ノートPC(Personal Computer)等の情報処理装置でもよい。この場合、リモート端末10Dと制御装置20とは、例えば、アナログRGBコンポーネント映像信号を伝送するVGAケーブルと、キーボードとマウスによりユーザから入力された情報(入力信号)を伝送するUSBケーブル、当該映像信号及び当該入力信号をIPネットワークに伝送する装置、及びLAN(Local Area Network)等により接続されてもよい。
第1スイッチ40Aは、サブ端末10B及びリモート端末10Dによる基板処理装置30に対する制御を無効とするためのスイッチである。第1スイッチ40Aがオンに設定されている場合、メイン端末10Aのみから基板処理装置30を制御できるようになる。なお、第1スイッチ40Aがオンに設定されている場合であっても、ハンディ端末10Cが基板処理装置30に接続されている場合は、メイン端末10Aによる基板処理装置30の少なくとも一部に対する制御が無効となり、ハンディ端末10Cからのみ基板処理装置30の当該少なくとも一部を制御できる。また、第1スイッチ40Aがオフに設定されると、第2スイッチ40B若しくは第3スイッチ40Cをオンにすることにより、サブ端末10B若しくはリモート端末10Dによる基板処理装置30に対する制御を有効とすることができる。
制御装置20は、端末10から受信した情報(信号)に基づいて、基板処理装置30を制御する。また、基板処理装置30の各種センサにより測定された情報等を、各端末10に表示させる。これにより、基板処理装置30のユーザは、基板に対する処理状況、及び基板処理装置30の各部の異常の有無等、基板処理装置30の各種の状態を、リモート端末10Dによりオフィス等からも監視できる。
基板処理装置30は、FPD用の基板に対し、各種の処理を行う装置である。なお、FPDには、例えば、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display: LCD)、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence: EL)、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel;PDP)等が含まれてもよい。なお、FPDは、例えば、テレビ、モニタ、スマートフォン、及びタブレット端末に用いられてもよい。なお、FPD用の基板の材料としては、ガラス、または合成樹脂等が用いられてもよい。
《制御装置20》
図2Aは、実施形態に係る制御装置20のハードウェア構成例を示す図である。なお、端末10がコンピュータを有する場合は、当該コンピュータのハードウェア構成は、図2Aの制御装置20のハードウェア構成と同様でもよい。
図2Bは、実施形態に係る基板処理装置30の一例を示す図である。実施形態に係る基板処理装置30は、基板毎に各種の処理を行うプロセスモジュール(プロセスチャンバー、処理室)が複数結合されているクラスタツールでもよい。図2Bの例では、基板処理装置30は、複数のプロセスチャンバーを有するマルチチャンバー型である。
図3を参照し、実施形態に係る制御装置20の機能構成について説明する。図3は、実施形態に係る制御装置20の機能構成の一例を示す図である。
図4から図5Bを参照し、実施形態に係る制御システム1の処理の一例について説明する。図4は、実施形態に係る制御システム1の処理の一例を示すシーケンス図である。図5Aは、実施形態に係るメイン端末10A、サブ端末10B、及びリモート端末10Dの表示画面の一例について説明する図である。図5Bは、実施形態に係るハンディ端末10Cの表示画面の一例について説明する図である。
なお、ハンディ端末10Cが切断された場合、制御装置20の切替部24は、各端末10からの制御について、ハンディ端末10Cが接続される前の状態に戻す。この場合、ハンディ端末10Cのケーブルがポート301から抜かれる等によりハンディ端末10Cと基板処理装置30との接続が解除(切断)された場合、当該ポート301、ハンディ端末10Cと切断したことの通知(切断通知)を制御装置20に送信する。ここで、当該切断通知には、当該ポート301の識別情報(ポートID)と、ハンディ端末10Cと切断した旨を示す情報とが含まれてもよい。そして、制御装置20は、当該ポート301に応じた各部についても、ローカルの端末10であるメイン端末10A及びサブ端末10Bのいずれかからの操作のみを有効とする。
なお、基板処理装置30が復旧した場合、各端末10からの制御について、異常が発生するよりも前の状態に戻せるようにしてもよい。この場合、異常検知部21により異常が検知されなくなった場合、制御装置20の異常時切替部22は、第3スイッチ40Cを強制的にオフに設定する機能を停止(解除)してもよい。これにより、基板処理装置30が復旧した場合、ユーザにより第1スイッチ40A、及び第2スイッチ40Bがオフに設定され、第3スイッチ40Cがオンに設定されると、リモート端末10Dからの操作のみを有効(入力可能)とすることができる。
端末10、及び制御装置20の各機能部は、例えば1以上のコンピュータにより提供されるクラウドコンピューティングにより実現されていてもよい。また、端末10、制御装置20、及び基板処理装置30のうちの複数の装置を一体の装置としてもよい。この場合、例えば、制御装置20と基板処理装置30とは、一体の装置として構成されてもよい。また、例えば、メイン端末10Aまたはサブ端末10B(以下で、「メイン端末10A等」とも称する。)と制御装置20とは、一体の装置として構成されてもよい。また、例えば、メイン端末10A等と制御装置20と基板処理装置30とは、一体の装置として構成されてもよい。
10A メイン端末
10B サブ端末
10C ハンディ端末
10D リモート端末
20 制御装置
21 異常検知部
22 異常時切替部
23 受付部
24 切替部
25 制御部
30 基板処理装置
31 トランスファーモジュール
32 ロードロックモジュール
33A プロセスモジュール
33B プロセスモジュール
33C プロセスモジュール
40A 第1スイッチ
40B 第2スイッチ
40C 第3スイッチ
301A ポート
301B ポート
301C ポート
301D ポート
Claims (9)
- 基板を処理する基板処理装置を制御する制御システムであって、
前記基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、
前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末と、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする制御装置と、
前記第2端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第1スイッチと、
前記第1端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第2スイッチと、を有し、
前記制御装置は、
前記第1スイッチが前記第2スイッチよりも先に操作された場合、前記第1端末による前記基板処理装置に対する制御を有効とし、前記第2端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とし、前記第2スイッチが操作された場合、前記第1スイッチが先に操作されていることを示す情報をユーザに報知する、
制御システム。 - 基板を処理する基板処理装置を制御する制御システムであって、
前記基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、
前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末と、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする制御装置と、
前記第1端末及び前記第2端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第3スイッチと、
前記第3スイッチに対応付けられた報知装置と、を有し、
前記制御装置は、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3スイッチの操作を無効とし、
前記基板処理装置の異常が復旧された場合、前記第3スイッチの操作が有効となったことを前記報知装置によりユーザに報知する、
制御システム。 - 前記制御装置は、
前記基板処理装置の異常が復旧された場合、前記第3スイッチの操作が有効となったことを前記報知装置によりユーザに報知し、前記第3スイッチがユーザに操作された場合、前記報知装置による報知を停止する、
請求項2に記載の制御システム。 - 基板を処理する基板処理装置を制御する制御システムであって、
前記基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、
前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末と、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする制御装置と、
前記基板処理装置に有線及び近距離無線の少なくとも一方により接続され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第4端末と、を有し、
前記制御装置は、
前記基板処理装置に含まれる第1チャンバーの外側に設けられた第1ポートに前記第4端末が接続された場合、前記基板処理装置の各部のうち、前記第1ポートに応じた各部に対し、前記第4端末による制御のみを有効とし、前記第1ポートに応じた各部以外の各部に対し、前記第1端末若しくは前記第2端末のいずれかによる制御のみを有効とし、
前記基板処理装置に含まれる第2チャンバーの外側に設けられた第2ポートに前記第4端末が接続された場合、前記基板処理装置の各部のうち、前記第2ポートに応じた各部に対し、前記第4端末による制御のみを有効とし、前記第2ポートに応じた各部以外の各部に対し、前記第1端末若しくは前記第2端末のいずれかによる制御のみを有効とする、
制御システム。 - 前記制御装置は、
前記第1ポートに前記第4端末が接続された場合、前記基板処理装置の各部のうち、前記第4端末による制御のみが有効とされている、前記第1ポートに応じた各部を示す情報を、前記第1端末、前記第2端末、及び前記第3端末に表示させる、
請求項4に記載の制御システム。 - 前記制御装置は、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第1端末、及び前記第2端末のいずれか一方による前記基板処理装置に対する制御を有効とする、
請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の制御システム。 - 前記制御装置は、
前記第1端末、及び前記第2端末の少なくとも一方による前記基板処理装置に対する制御の結果を示す情報を前記第3端末に表示させる、
請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の制御システム。 - 基板を処理する基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末とのいずれかから入力された情報に基づいて前記基板処理装置を制御する制御システムが、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とし、
前記第2端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第1スイッチが前記第1端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第2スイッチよりも先に操作された場合、前記第1端末による前記基板処理装置に対する制御を有効とし、前記第2端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とし、前記第2スイッチが操作された場合、前記第1スイッチが先に操作されていることを示す情報をユーザに報知する、
制御方法。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
前記基板処理装置と同じ場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第1端末、及び第2端末と、前記基板処理装置とは異なる場所に配置され、前記基板処理装置に対する制御の指示をユーザから受け付ける第3端末とのいずれかから入力された情報に基づいて、前記基板処理装置の各部を制御し、
前記基板処理装置の異常が検知された場合、前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とし、
前記第2端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第1スイッチが前記第1端末及び前記第3端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とする第2スイッチよりも先に操作された場合、前記第1端末による前記基板処理装置に対する制御を有効とし、前記第2端末による前記基板処理装置に対する制御を無効とし、前記第2スイッチが操作された場合、前記第1スイッチが先に操作されていることを示す情報をユーザに報知する、
基板処理装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009260251A (ja) | 2008-03-18 | 2009-11-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び基板処理システム |
JP2010165831A (ja) | 2009-01-15 | 2010-07-29 | Canon Inc | デバイス製造装置、デバイス製造装置の制御方法、及び、デバイス製造方法 |
JP2020004866A (ja) | 2018-06-28 | 2020-01-09 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置のメンテナンス装置およびメンテナンス方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4886125B2 (ja) | 2001-07-24 | 2012-02-29 | キヤノン株式会社 | 半導体製造装置及びその制御方法 |
JP2003036111A (ja) | 2001-07-25 | 2003-02-07 | Canon Inc | 半導体製造システム、半導体製造装置の制御方法並びに半導体デバイスの製造方法 |
JP2004047837A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置のプログラム追加方法及び基板処理システム |
JP2013001053A (ja) | 2011-06-21 | 2013-01-07 | Seiko Epson Corp | 印刷装置とその制御方法 |
JP2014010745A (ja) | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | 加工装置 |
JP6263235B2 (ja) | 2016-06-30 | 2018-01-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 操作制限装置、操作制限方法及びコンピュータプログラム |
JP2018087931A (ja) | 2016-11-29 | 2018-06-07 | キヤノン株式会社 | 処理装置、処理システム、および物品製造方法 |
CN110731086B (zh) * | 2017-07-14 | 2022-04-01 | 大金工业株式会社 | 操作系统、信息处理装置、控制系统及红外线输出装置 |
JP6625098B2 (ja) * | 2017-07-20 | 2019-12-25 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理システム、半導体装置の製造方法およびプログラム |
JP6934407B2 (ja) * | 2017-11-27 | 2021-09-15 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
-
2020
- 2020-03-26 JP JP2020055704A patent/JP7446136B2/ja active Active
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JP2010165831A (ja) | 2009-01-15 | 2010-07-29 | Canon Inc | デバイス製造装置、デバイス製造装置の制御方法、及び、デバイス製造方法 |
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