JP2009249268A - 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル - Google Patents
金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009249268A JP2009249268A JP2008102830A JP2008102830A JP2009249268A JP 2009249268 A JP2009249268 A JP 2009249268A JP 2008102830 A JP2008102830 A JP 2008102830A JP 2008102830 A JP2008102830 A JP 2008102830A JP 2009249268 A JP2009249268 A JP 2009249268A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- metal oxide
- mesoporous silica
- silica
- hollow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 326
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 156
- 239000002775 capsule Substances 0.000 title claims abstract description 51
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 51
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title claims abstract description 51
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 218
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000012702 metal oxide precursor Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 32
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 claims description 3
- 239000002088 nanocapsule Substances 0.000 claims 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 110
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 36
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 32
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 31
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 23
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 20
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 17
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 17
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 15
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 13
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 12
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 12
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 10
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 9
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 125000005113 hydroxyalkoxy group Chemical group 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 7
- 238000002149 energy-dispersive X-ray emission spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M methyl orange Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-GEEYTBSJSA-M 0.000 description 6
- 229940012189 methyl orange Drugs 0.000 description 6
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 6
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 6
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 5
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000003937 drug carrier Substances 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000002524 electron diffraction data Methods 0.000 description 3
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N furfuryl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CO1 XPFVYQJUAUNWIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000000851 scanning transmission electron micrograph Methods 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-M sodium;4-[[4-(dimethylamino)phenyl]diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 STZCRXQWRGQSJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 125000005211 alkyl trimethyl ammonium group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M cetyltrimethylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C WOWHHFRSBJGXCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].CCO.CCO.CCO.CCO UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- PMYUVOOOQDGQNW-UHFFFAOYSA-N hexasodium;trioxido(trioxidosilyloxy)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])([O-])[O-] PMYUVOOOQDGQNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N neodymium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Nd+3].[Nd+3] PLDDOISOJJCEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940110728 nitrogen / oxygen Drugs 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002336 sorption--desorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- GPWNWKWQOLEVEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminopyrimidine-5-carbaldehyde Chemical compound NC1=NC=C(C=O)C(N)=N1 GPWNWKWQOLEVEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATPMZKXQEMTKOK-UHFFFAOYSA-N 2-[3-aminopropyl-bis(2-hydroxyethoxy)silyl]oxyethanol Chemical compound NCCC[Si](OCCO)(OCCO)OCCO ATPMZKXQEMTKOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPYBPBCWSSMPV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-chloropropyl-bis(2-hydroxyethoxy)silyl]oxyethanol Chemical compound OCCO[Si](CCCCl)(OCCO)OCCO SAPYBPBCWSSMPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPEXYIQWFIKBAV-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethoxy)-(3-sulfanylpropyl)silyl]oxyethanol Chemical compound OCCO[Si](CCCS)(OCCO)OCCO WPEXYIQWFIKBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNIXXVZTTJAMCJ-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethoxy)-methylsilyl]oxyethanol Chemical compound OCCO[Si](C)(OCCO)OCCO GNIXXVZTTJAMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGMXYVLIXIMOL-UHFFFAOYSA-N 2-[bis(2-hydroxyethoxy)-phenylsilyl]oxyethanol Chemical compound OCCO[Si](OCCO)(OCCO)C1=CC=CC=C1 FRGMXYVLIXIMOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMTJNNZNFRRGTC-UHFFFAOYSA-N 2-[ethyl-bis(2-hydroxyethoxy)silyl]oxyethanol Chemical compound OCCO[Si](CC)(OCCO)OCCO DMTJNNZNFRRGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001137 3-hydroxypropoxy group Chemical group [H]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 5-tert-butylthiophene-2-carbonyl chloride Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(Cl)=O)S1 RVDLHGSZWAELAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHBIKXOBLZWFKM-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxy-2-quinolinecarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C(O)C2=NC(C(=O)O)=CC=C21 UHBIKXOBLZWFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZWRRZSDLAKWJG-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyquinoline-2-carboxylic acid zinc Chemical compound [Zn].OC(=O)c1ccc2cccc(O)c2n1.OC(=O)c1ccc2cccc(O)c2n1 KZWRRZSDLAKWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);triacetate Chemical compound [Ce+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001860 citric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000011246 composite particle Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001940 europium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N europium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Eu+3].[Eu+3] AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound O=C.NC1=NC(N)=NC(N)=N1 IVJISJACKSSFGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXJCGWRIPCFWIB-UHFFFAOYSA-N hexadecasodium tetrasilicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] VXJCGWRIPCFWIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N hydroxy(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](O)(OC)OC NDJGGFVLWCNXSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N iron(2+);dinitrate Chemical compound [Fe+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MVFCKEFYUDZOCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012705 liquid precursor Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- CRGZYKWWYNQGEC-UHFFFAOYSA-N magnesium;methanolate Chemical compound [Mg+2].[O-]C.[O-]C CRGZYKWWYNQGEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000693 micelle Substances 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004045 organic chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 238000013033 photocatalytic degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000001144 powder X-ray diffraction data Methods 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K ruthenium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Ru+3] YBCAZPLXEGKKFM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001954 samarium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075630 samarium oxide Drugs 0.000 description 1
- FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N samarium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sm+3].[Sm+3] FKTOIHSPIPYAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000013268 sustained release Methods 0.000 description 1
- 239000012730 sustained-release form Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 229910003451 terbium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N terbium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Tb+3].[Tb+3] SCRZPWWVSXWCMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDZPOWYSNYUMMD-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2,3-dihydroxypropyl) silicate Chemical compound OCC(O)CO[Si](OCC(O)CO)(OCC(O)CO)OCC(O)CO DDZPOWYSNYUMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URFIZJRFOOZIBS-UHFFFAOYSA-N tetrakis(2-hydroxyethyl) silicate Chemical compound OCCO[Si](OCCO)(OCCO)OCCO URFIZJRFOOZIBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLXDXZPQASBRG-UHFFFAOYSA-N tetrakis(3-hydroxypropyl) silicate Chemical compound OCCCO[Si](OCCCO)(OCCCO)OCCCO ORLXDXZPQASBRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N tetrapropan-2-yl silicate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C ZUEKXCXHTXJYAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N tetrasodium;silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] POWFTOSLLWLEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J triacetyloxystannyl acetate Chemical compound [Sn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- FYUZFGQCEXHZQV-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hydroxy)silane Chemical compound CCO[Si](O)(OCC)OCC FYUZFGQCEXHZQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQLLQQWSNWKCF-UHFFFAOYSA-N trimethoxymethylsilane Chemical compound COC([SiH3])(OC)OC TUQLLQQWSNWKCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Micro-Capsules (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子と、前記単分散球状中空粒子の空洞部分に保持された金属酸化物粒子とを備えた金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル。金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルは、メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子を作製し、前記単分散球状中空粒子のメソ孔内及び/又は空洞内に金属酸化物前駆体を吸着させ、前記金属酸化物前駆体を金属酸化物粒子に変換することにより得られる。
【選択図】図19
Description
しかしながら、有機系バインダーを使用して光触媒微粒子を担体上に担持させると、光触媒作用によって有機系バインダーが劣化するという問題がある。また、近年では、光触媒粒子を衣服やカーテンなどに練り込んで用いる場合もあり、光触媒作用によって衣服やカーテンの繊維が劣化するという問題がある。一方、これを避けるために、二酸化チタン粒子の表面を他の材料で完全に被覆すると、ガスや液体が二酸化チタン粒子と接触しにくくなるために、触媒としての活性が著しく低下する懸念がある。
(1)金属、セラミックス等の無機質の難分解性物質に光触媒を担持させたもの、
(2)中空バルーン状の担体に光触媒を担持させたもの、
(3)ガラス繊維に光触媒を担持させたもの、
などが知られている。
また、ポンプで循環させた被処理水内にこれらの光触媒担持体を浸漬し、有害物質の分解又は除去を行う水質浄化装置も提案されている。
例えば、このような中空粒子の空洞部分に光触媒を内包させると、光触媒作用による有機系バインダーの劣化を抑制することができるので、有機系バインダーを用いて光触媒内包中空粒子を担体表面に固定することができる。同様に、光触媒作用による繊維の劣化を抑制することができるので、光触媒内包中空粒子を直接、衣服やカーテンに練り込むことができる。さらに、光触媒内包中空粒子のシェル部分に適当な大きさの細孔を導入すると、反応物質を選択的にシェル部分に吸着させることができるので、反応物質の分解効率を向上させることができる。
そのため、近年では、光触媒だけでなく、薬剤運搬体、制限空間での触媒反応用担体、分離材、バイオ分子の固定材等として、高分子、金属、セラミックスなどの多様な材料からなる中空粒子の使用が検討されている。中でも、シリカ中空粒子は、化学的な安定性が高く、人体に無害であることから、多くの報告例がある。
同文献には、
(1)このような方法により、アナターゼ型酸化チタンの表面が多孔質シリカにより被覆されたマイクロカプセル状光触媒体が得られる点、及び、
(2)アナターゼ型酸化チタンの表面が多孔質シリカにより被覆されているので、光触媒性能の持続性に優れ、担体や基材等を劣化させ難い点
が記載されている。
同文献には、このようにして得られた複合粒子は、メタノールの脱水素や酢酸の分解のように、相対的に小さな基質に対しては高い光触媒活性を示すが、メチレンブルーやポリビニルアルコールのような相対的に大きな基質に対しては高い光触媒活性を示さない点が記載されている。
同文献には、
(1)溶液中へのTEOSの添加量を変えることにより、シェルの厚さを制御できる点、
(2)メチレンブルーの吸着量は、シリカシェルの厚さが厚くなるほど増大するが、メチレンブルーの光触媒分解は、シリカシェルで被覆することにより抑制される点、及び、
(3)TiO2共存下では、球状粒子が得られない点、
が記載されている。
同文献には、
(1)このようにして得られた光触媒体粒子は、チタニア粒子が微粒子セラミックスの壁材に包まれているので、耐光性が大幅に改良される点、及び、
(2)チタニア粒子と壁材との間には隙間が存在するので、被分解ガスの吸着と反応生成ガスの脱離が容易となる点、
が記載されている。
同文献には、
(1)メチレンブルー水溶液にTiO2含有球状メソポーラスシリカ粒子を分散させると、ほとんどすべてのメチレンブルーがメソポーラスシリカ粒子に吸着され、粒子が青色になる点、及び、
(2)TiO2含有球状メソポーラスシリカ粒子に含まれるTiO2と同量のTiO2粒子を分散させたメチレンブルー水溶液に紫外線を照射しても溶液の青色が残るのに対し、TiO2含有球状メソポーラスシリカ粒子を分散させたメチレンブルー水溶液に紫外線を照射すると、懸濁液の色が白に戻る点、
が記載されている。
同文献には、シリカ層で被覆された核粒子分散液に酸を加えることによって、核粒子を構成する元素の全部又は一部が除去され、外殻の内部に空洞を形成することができる点が記載されている。
しかしながら、このような方法では、真球に近い球状粒子、あるいは、コロイド結晶を作製可能な程度の単分散性を備えた球状粒子は得られない。また、内部の空洞部分に粒子径の揃った金属酸化物を内包し、シェル部分に規則的なメソ孔をもつ粒子も得られない。
しかしながら、この方法は、酸による化学エッチングを行うために、空洞部分に残存する成分は多孔質となり、粒子の大きさの制御も難しい。また、酸によるエッチングが必須であるので、空洞部分に保持可能な金属酸化物の種類も限られる。さらに、このような方法でもシェル部分に細孔を導入することはできるが、配向性を備えた細孔は得らない。そのため、ターゲット物質の吸収放出特性の向上は望めない。
また、本発明が解決しようとする他の課題は、空洞部分に保持可能な酸化物の種類に制限がなく、しかも、空洞部分に保持された酸化物の粒径が揃っている金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルを提供することにある。
メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子と、
前記単分散球状中空粒子の空洞部分に保持された金属酸化物粒子と
を備えている。
従って、単分散球状でシェル部分に規則配列したメソ細孔を有する中空粒子を出発原料に用いると、シェル部分の構造がそのまま保持された金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルが得られる。また、メソ孔内及び/又は空洞内に吸着可能な前駆体が得られる限りにおいて、空洞部分に保持可能な酸化物の種類に制限がない。さらに、空洞部分に保持される酸化物の粒径も均一化することができる。
[1. 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル]
本発明に係る金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルは、
メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子と、
前記単分散球状中空粒子の空洞部分に保持された金属酸化物粒子と
を備えている。
[1.1.1 組成]
中空粒子は、シリカのみからなるものでも良く、あるいは、シリカを主成分とし、シリカ以外の金属元素M1の酸化物を含んでいても良い。金属元素M1は、特に限定されるものではないが、2価以上の金属アルコキシドを製造可能なものが好ましい。金属元素M1が2価以上の金属アルコキシドを製造可能なものである場合、金属元素M1の酸化物を含む中空粒子を容易に製造することができる。このような金属元素M1としては、具体的には、Al、Ti、Mg、Zrなどがある。
中空粒子中のシリカの含有量は、50wt%以上が好ましく、さらに好ましくは、80wt%以上である。
中空粒子は、単分散で、かつ球状の粒子からなる。
本発明において、「単分散」とは、(1)式で表される単分散度が10%以下であることをいう。
単分散度=(粒子径の標準偏差)×100/(粒子径の平均値) ・・・(1)
後述する方法を用いると、単分散度が10%以下、あるいは、5%以下である中空粒子が得られる。
中空粒子は、シェル部分にメソ細孔を持つ。後述する方法を用いて中空粒子を製造する場合において、界面活性剤の種類、添加量などを最適化すると、メソ細孔を規則配列させることができる。
また、メソ細孔の大きさは、界面活性剤の分子長を最適化することにより制御(1〜50nmまで)することができる。
中空粒子は、メソ細孔を有するため、比表面積が極めて大きい。後述する方法を用いると、BET比表面積が800m2/g以上、あるいは、1000m2/g以上である中空粒子が得られる。金属酸化物粒子は中空粒子の空洞部分に導入されるので、金属酸化物粒子導入後も、シェル部分の細孔構造はほとんどそのまま維持される。
中空粒子の平均粒子径及びシェル厚さは、特に限定されるものではなく、目的に応じて最適なものを選択することができる。後述する方法を用いると、平均粒子径が0.1〜1.5μmである中空粒子、あるいは、シェル厚さが0.01〜1μmである中空粒子が得られる。
[1.2.1 組成]
金属酸化物粒子の組成は、特に限定されるものではなく、目的に応じて任意に選択することができる。金属酸化物粒子として、種々の機能を備えたものを用いると、金属酸化物が持つ機能をそのまま備えた金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルが得られる。
金属酸化物粒子としては、具体的には、
(1)二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ニッケル、酸化銅などの光触媒粒子、
(2)酸化鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化ネオジウム、酸化サマリウム、あるいは複合体(フェライト構造)などの磁性体粒子、
(3)酸化スズ、酸化インジウムスズなどの導電性粒子、
(4)酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸化テルビウムなどの蛍光体粒子、
などがある。
その他の金属酸化物としては、具体的には、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、あるいは二種類以上の酸化物を含む複合酸化物(例えば、磁性体粒子のフェライト構造など)などがある。
金属酸化物粒子の含有量は、特に限定されるものではなく、目的に応じて任意に選択することができる。一般に、金属酸化物粒子の含有量が多くなるほど、金属酸化物粒子が持つ機能を強く発現する金属酸化物内包メソポーラスシリカが得られる。
本発明においては、金属酸化物の大半が単分散中空粒子の空洞部分(特に、シェルの内壁部分)に保持されるので、シェル部分のメソ細孔の規則配列性や、中空粒子の真球度・単分散性を損なうことなく、相対的に多量の金属酸化物粒子を保持することができる。
後述する方法を用いると、少量の金属酸化物粒子を含有するメソポーラスシリカカプセルだけでなく、従来の方法よりも多量(例えば、30wt%以上、あるいは、40wt%以上)の金属酸化物粒子を含有するメソポーラスシリカカプセルであっても合成することができる。
後述する方法を用いると、金属酸化物微粒子は、均一かつ微細な状態で空洞部分に保持される。製造条件を最適化すると、金属酸化物粒子の粒子径及び標準偏差を制御することができる。
本発明に係る金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルの製造方法は、単分散球状中空粒子作製工程と、前駆体吸着工程と、金属酸化物生成工程とを備えている。
単分散球状中空粒子製造工程は、メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子を作製する工程である。
単分散球状中空粒子は、
(1)シリカ原料と、界面活性剤と、空洞形成用粒子とを含む原料を溶媒中で混合し、空洞形成用粒子粒子の周囲が界面活性剤を含むシリカからなるシェルで被覆された前駆体粒子を作製し、
(2)前駆体粒子から界面活性剤及び空洞形成用粒子を除去する、
ことにより得られる。
シリカ原料には、
(1) テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等のテトラアルコキシシラン(シラン化合物)、
(2) トリメトキシシラノール、トリエトキシシラノール、トリメトキシメチルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、トリエトキシ−3−グリシドキシプロピルシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のトリアルコキシシラン(シラン化合物)、
(3) ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジエトキシ−3−グリシドキシプロピルメチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン等のジアルコキシシラン(シラン化合物)、
(4) メタケイ酸ナトリウム(Na2SiO3)、オルトケイ酸ナトリウム(Na4SiO4)、二ケイ酸ナトリウム(Na2Si2O5)、四ケイ酸ナトリウム(Na2Si4O9)、水ガラス(Na2O・nSiO2、n=2〜4)等のケイ酸ナトリウム、
(5) カネマイト(NaHSi2O5・3H2O)、二ケイ酸ナトリウム結晶(α、β、γ、δ−Na2Si2O5)、マカタイト(Na2Si4O9)、アイアライト(Na2Si8O17・xH2O)、マガディアイト(Na2Si14O17・xH2O)、ケニヤイト(Na2Si20O41・xH2O)等の層状シリケート、
(6) Ultrasil(Ultrasil社)、Cab−O−Sil(Cabot社)、HiSil(Pittsburgh Plate Glass社)等の沈降性シリカ、コロイダルシリカ、Aerosil(Degussa−Huls社)等のフュームドシリカ、
などを用いることができる。
ヒドロキシアルコキシ基の種類及びヒドロキシ基の数は特に制限されないが、2−ヒドロキシエトキシ基、3−ヒドロキシプロポキシ基、2−ヒドロキシプロポキシ基、2,3−ジヒドロキシプロキシ基等のように、ヒドロキシアルコキシ基中の炭素原子の数が比較的少ないもの(炭素数が1〜3程度のもの)が反応性の点から有利である。
トリス(ヒドロキシアルコキシ)シランとしては、メチルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、エチルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、フェニルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、3−メルカプトプロピルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、3−アミノプロピルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、3−クロロプロピルトリス(2−ヒドロキシエトキシ)シラン、などがある。
これらのヒドロキシアルコキシシランは、アルコキシシランとエチレングリコールやグリセリンなどの多価アルコールとを反応させることにより合成することができる(例えば、Doris Brandhuber et al., Chem.Mater. 2005, 17, 4262参照)。
なお、これらのシリカ原料は、単独で用いても良く、あるいは、2種以上を組み合わせて用いても良い。但し、2種以上のシリカ原料を用いると、前駆体粒子の製造時の反応条件が複雑化する場合がある。このような場合には、シリカ原料は、単独で使用するのが好ましい。
金属元素M1を含む原料には、
(1) アルミニウムブトキシド(Al(OC4H9)3)、アルミニウムエトキシド(Al(OC2H5)3)、アルミニウムイソプロポキシド(Al(OC3H7)3)等のAlを含むアルコキシド類、及び、アルミン酸ナトリウム、塩化アルミニウム等の塩類、
(2) チタンイソプロポキシド(Ti(Oi−C3H7)4)、チタンブトキシド(Ti(OC4H9)4)、チタンエトキシド(Ti(OC2H5)4)等のTiを含むアルコキシド、
(3) マグネシウムメトキシド(Mg(OCH3)2)、マグネシウムエトキシド(Mg(OC2H5)2)等のMgを含むアルコキシド、
(4) ジルコニウムイソプロポキシド(Zr(Oi−C3H7)4)、ジルコニウムブトキシド(Zr(OC4H9)4)、ジルコニウムエトキシド(Zr(OC2H5)4)等のZrを含むアルコキシド、
などを用いることができる。
界面活性剤は、シェルにメソ細孔を形成するための鋳型となる。界面活性剤の種類は、特に限定されるものではなく、種々の界面活性剤を用いることができる。使用する界面活性剤の種類、添加量などに応じて、シェル内の細孔構造を制御することができる。
CH3−(CH2)n−N+(R1)(R2)(R3)X- ・・・(a)
(a)式中、R1、R2、R3は、それぞれ、炭素数が1〜3のアルキル基を表す。R1、R2、及び、R3は、互いに同一であっても良く、あるいは、異なっていても良い。アルキル4級アンモニウム塩同士の凝集(ミセルの形成)を容易化するためには、R1、R2、及び、R3は、すべて同一であることが好ましい。さらに、R1、R2、及び、R3の少なくとも1つは、メチル基が好ましく、すべてがメチル基であることが好ましい。
(a)式中、Xはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子の種類は特に限定されないが、入手の容易さからXは、Cl又はBrが好ましい。
(a)式中、nは7〜21の整数を表す。一般に、nが小さくなるほど、メソ孔の中心細孔径が小さい球状シリカマトリックスが得られる。一方、nが大きくなるほど、中心細孔径は大きくなるが、nが大きくなりすぎると、アルキル4級アンモニウム塩の疎水性相互作用が過剰となる。その結果、層状の化合物が生成し、球状の多孔体が得られない。nは、好ましくは、9〜17、さらに好ましくは、13〜17である。
これらの中でも、特に、アルキルトリメチルアンモニウムブロミド又はアルキルトリメチルアンモニウムクロリドが好ましい。
空洞形成用粒子は、空洞を形成するための鋳型となるものである。空洞形成用粒子は、その周囲にシリカを主成分とするシェルを形成することができ、かつ、シェル形成後に容易に除去できるものであれば良い。また、単分散球状の中空粒子を得るためには、空洞形成用粒子もまた単分散球状である必要がある。
空洞形成用粒子としては、例えば、
(1)焼成による分解又は有機溶媒による除去が可能なポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレン、メラミンホルムアルデヒドなどの高分子コロイド粒子、
(2)塩酸などの酸によって除去可能な炭酸カルシウム、炭酸マグネシウムなどの塩基性化合物粒子、
などがある。
空洞形成用粒子として高分子コロイド粒子を用いる場合、粒子表面に、シリカ原料の重縮合を促進する機能を有する塩基性の官能基(例えば、アミノ基)を備えたものを用いる。粒子表面にこのような官能基がない場合、粒子表面以外の領域においてシリカが単独で重縮合し、副生成物が得られる。これに対し、表面がこのような官能基で修飾された高分子コロイド粒子を用いると、粒子表面において優先的にシリカ原料の重縮合が進行してシェルとなり、副生成物の生成を抑制することができる。
溶媒には、水、アルコールなどの有機溶媒、水と有機溶媒の混合溶媒などを用いる。アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール等の1価のアルコール、エチレングリコール等の2価のアルコール、グリセリン等の3価のアルコールのいずれでも良い。
水と有機溶媒の混合溶媒を用いる場合、混合溶媒中の有機溶媒の含有量は、目的に応じて任意に選択することができる。一般に、溶媒中に適量の有機溶媒を添加すると、粒径や粒度分布の制御が容易化する。
一般に、シリカ原料及び必要に応じて添加される金属元素M1を含む原料(以下、「シェル源」という)の濃度が低すぎると、中空粒子を高収率で得ることができない。また、粒径及び粒度分布の制御が困難となり、粒径の均一性が低下する。従って、シェル源の濃度は、0.005mol/L以上が好ましい。シェル源の濃度は、さらに好ましくは、0.008mol/L以上である。
一方、シェル源の濃度が高すぎると、メソ孔を形成するためのテンプレートとして機能する界面活性剤が相対的に不足し、規則配列したメソ孔が得られない。従って、シェル源の濃度は、0.03mol/L以下が好ましい。シェル源の濃度は、さらに好ましくは、0.015mol/L以下である。
一方、界面活性剤の濃度が高すぎると、中空粒子を高収率で得ることができない。従って、界面活性剤の濃度は、0.03mol/L以下が好ましい。界面活性剤の濃度は、さらに好ましくは、0.02mol/L以下である。
シリカ原料として、アルコキシシラン、ヒドロキシアルコキシシラン等のシラン化合物を用いる場合には、これをそのまま出発原料として用いる。
一方、シリカ原料としてシラン化合物以外の化合物を用いる場合には、予め、水(又は、必要に応じてアルコールが添加されたアルコール水溶液)にシリカ原料を加えて、水酸化ナトリウム等の塩基性物質を加える。塩基性物質の添加量は、シリカ原料中のケイ素原子と等モル程度の量とするのが好ましい。シラン化合物以外のシリカ原料を含む溶液に塩基性物質を加えると、シリカ原料中に既に形成されているSi−(O−Si)4結合の一部が切断され、均一な溶液が得られる。溶液中に含まれる塩基性物質の量は、中空粒子の収量や気孔率に影響を及ぼすので、均一な溶液が得られた後、溶液に希薄酸溶液を加え、溶液中に存在する過剰の塩基性物質を中和させる。希薄酸溶液の添加量は、シリカ原料中のケイ素原子に対して1/2〜3/4倍モルに相当する量が好ましい。
乾燥後、前駆体粒子から界面活性剤及び空洞形成用粒子を除去すると、単分散球状中空粒子が得られる。界面活性剤の除去方法としては、
(1) 前駆体粒子を大気中又は不活性雰囲気下において、300〜1000℃(好ましくは、300〜600℃)で、30分以上(好ましくは、1時間以上)焼成する焼成方法、
(2) 前駆体粒子を界面活性剤の良溶媒(例えば、少量の塩酸を含むメタノール)中に浸漬し、所定の温度(例えば、50〜70℃)で加熱しながら攪拌し、薄膜中の界面活性剤を抽出するイオン交換法、
などがある。
空洞形成用粒子が高分子コロイド粒子からなる場合、空洞形成用粒子も、界面活性剤と同様の方法により除去することができる。あるいは、有機溶媒(トルエン、クロロホルム、ベンゼンなど)に浸漬することで除去することもできる。一方、空洞形成用粒子が塩基性化合物からなる場合、塩酸などの酸により空洞形成用粒子を除去することができる。
前駆体吸着工程は、単分散球状中空粒子のメソ孔内及び/又は空洞内に金属酸化物の前駆体を吸着させる工程である。
前駆体は、金属酸化物の種類に応じて最適なものを選択する。
前駆体としては、具体的には、
(1)硝酸塩(例えば、硝酸鉄、硝酸亜鉛など)、塩化物(例えば、塩化鉄、塩化ルテニウムなど)、アンモニウム塩、硫酸塩、炭酸塩等の無機塩、
(2)酢酸塩(例えば、酢酸スズ、酢酸セリウムなど)、クエン酸塩等の有機塩、
(3)メトキシド、エトキシド(例えば、ジルコニウムエトキシド)、プロポキシド(例えば、チタンイソプロポキシド)、ブトキシド(例えば、チタンブトキシド、アルミニウムブトキシドなど)等のアルコキシド、
(4)フェロセンカルバデヒド、コバルトセンカルバデヒド、ニッケロセンカルバデヒドなどのメタロセン、
(5)ビス(8−ヒドロキシキノレート)亜鉛、トリス(8−ヒドロキシキノレート)ガリウムなどの金属錯体、
などがある。
金属酸化物生成工程は、メソ孔内及び/又は空洞内に吸着させた金属酸化物前駆体を金属酸化物粒子に変換する工程である。
前駆体の金属酸化物への変換は、前駆体を吸着させた単分散球状中空粒子を酸化雰囲気下で加熱することにより行う。加熱温度は、前駆体の種類に応じて最適な温度を選択する。加熱温度は、通常、300〜1000℃程度である。加熱温度は、好ましくは、450〜800℃である。
1回の吸着・焼成で必要量の金属酸化物を担持できない場合には、吸着及び焼成を複数回繰り返す。
メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子を作製し、単分散球状中空粒子のメソ孔内及び/又は空洞内に金属酸化物前駆体を吸着させ、熱分解等によって金属酸化物前駆体を金属酸化物粒子に変換すると、金属酸化物粒子は、メソ孔内やシェルの外壁部分に析出せず、ほとんどがシェルの内壁部分(中空粒子の空洞部分)に析出する。
従って、単分散球状でシェル部分に規則配列したメソ細孔を有する中空粒子を出発原料に用いると、シェル部分の構造がそのまま保持された金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセルが得られる。また、メソ孔内及び/又は空洞内に吸着可能な前駆体が得られる限りにおいて、空洞部分に保持可能な酸化物の種類に制限がない。さらに、空洞部分に保持される酸化物の粒径も均一化することができる。
また、金属酸化物が磁性体であるメソポーラスシリカカプセルは、メソ孔内に薬剤を吸着させ、患部まで運搬する薬剤運搬体として用いることができる。
[1. 試料の作製]
[1.1 チタニア内包メソポーラスシリカカプセル(実施例1)]
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド(界面活性剤)0.352g、水40g、メタノール40gを室温で混合し、攪拌を行った。この溶液に、表面をアミノ基で修飾したポリスチレン粒子の水溶液(粒子濃度:2.57wt%、粒子径:200nm)2.84L、及びテトラメトキシシラン0.132gを添加し、さらに攪拌を続けた。室温でさらに8時間攪拌し、一晩放置した後、ろ過と脱イオン水による洗浄を3回繰り返した。乾燥後、焼成することによりポリスチレン及び界面活性剤を除去し、白色粉末(中空メソポーラスシリカ)を得た。
窒素/酸素混合気体中(体積比:4/1)で、酸素をバブリングにより供給しながら500℃で6時間焼成を行った。前駆体溶液の含浸と焼成を複数回繰り返し、チタニア内包メソポーラスシリカカプセルを得た。
テトラメトキシシランの添加量を0.246gとした以外は、実施例1と同様の手順に従い、白色粉末(中空メソポーラスシリカ)を得た。
次に、中空メソポーラスシリカ0.0094gに対して、実施例1と同様のチタニア前駆体溶液を13.2μL加えて、中空メソポーラスシリカに溶液を均一に浸み込ませた。以下、実施例1と同様の手順に従い、チタニア内包メソポーラスシリカカプセルを得た。
フルフリルアルコール1mLにフェロセンカルバデヒド2.14gを溶解させて、酸化鉄前駆体溶液とした。実施例1で得られた中空メソポーラスシリカ0.0129gに対して、酸化鉄前駆体溶液19.1μLを加えて、中空メソポーラスシリカに溶液を均一に浸み込ませた。処理後の粉末を500℃で3時間焼成し、酸化鉄内包メソポーラスシリカカプセルを得た。
水795gとメタノール800gの混合溶液に対して、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロリド(界面活性剤)7.04g及び1規定水酸化ナトリウム6.84gを添加し、室温で攪拌を行った。これにテトラメトキシシラン5.28gを加えて、さらに攪拌を続けたところ、テトラメトキシシランは完全に溶解し、白色粉末が析出してきた。室温でさらに8時間攪拌して、一晩放置した後、ろ過と脱イオン水による洗浄を3回繰り返した。乾燥後、焼成することにより界面活性剤を除去し、白色粉末(中実メソポーラスシリカ)を得た。
窒素/酸素混合気体中(体積比:4/1)で、酸素をバブリングにより供給しながら、500℃で6時間焼成を行った。前駆体溶液の含浸と焼成を複数回繰り返し、チタニア内包中実メソポーラスシリカを得た。
市販のチタニア粉末(P25、石原産業製)をそのまま試験に供した。
[2.1 中空メソポーラスシリカ(実施例1、2)]
図1(a)及び図1(b)に、それぞれ、実施例1及び実施例2で得られた中空メソポーラスシリカのSEM像を示す。また、図2及び図3に、それぞれ、実施例1で得られた中空メソポーラスシリカのTEM像及びSTEM像を示す。さらに、図4に、実施例2で得られた中空メソポーラスシリカのTEM像を示す。
これらの観察により、実施例1、2で得られた中空メソポーラスシリカは、均一なシリカシェルで覆われており、粒子表面には余分な析出物(余剰のシリカなど)のない、非常に単分散性に優れる球状粒子であることがわかる。
さらに、加えるテトラメトキシシラン量により、シリカシェルの厚みをコントロール可能であった。つまり、実施例1のシェル厚は33nmであるのに対し、実施例2のシェル厚は54nmに増加した。シェル厚を増加させても、余分なシリカ成分が析出することはなく、粒子の単分散性も保持された。
STEM像(図3)では、粒子1個を拡大して観察しており、実施例1で得られたシリカ粒子が中空であること、及び、シェル部分には規則的なメソ細孔が存在すること、がよく示されている。
図6及び図7に、それぞれ、実施例1で得られたチタニア内包メソポーラスシリカカプセルのSEM像及びEDXによる元素分析結果を示す。
SEM写真では、粒子表面にチタニア粒子の析出が認められず、担持前(図1)に比べて、見かけ上は粒子に変化は見られなかった。EDXでは、SiのピークとともにTiのピークも明瞭に観察された。グラフ中でCuのピークが最も強く検出されているが、これはSEM観察において、少量の粉末サンプルをCu製SEMプレート上に担持する方法で行っていることによる。
図8に、実施例2で得られたチタニア内包メソポーラスシリカのSEM像を示す。実施例1と同様に、粒子表面に析出する余分なチタニアは見られなかった。
TEM像においても、粒子表面にはチタニア粒子が存在しないことが良くわかる。さらに、導入したチタニアの大部分は、中空のシリカシェル壁面に10nm程度の大きさで高分散な状態で存在している様子が確認された。TEM像を拡大し、メソ細孔の仔細な観察を行ったが、メソ孔内にはほとんどチタニア粒子は認められなかった。つまり、実施例1の方法では、規則的なメソ細孔を持つシリカシェル壁面に10nm程度の大きさのチタニア粒子が張り付いており、その導入量は50wt%に近い非常に特殊な構造体であることがわかった。
このチタニアの粒径は10nm程度と細かく、さらにシリカとの接触面積が少なく、従来技術のようにチタニアは完全に被覆されていない。そのため、高い触媒活性を持つことが期待できる。
TEMの電子線回折パターンは、アナターゼに帰属された。結晶構造については、粉末XRD測定でも明瞭なアナターゼのピークが観察された。
図11、図12及び図13に、それぞれ、実施例3で得られた酸化鉄内包メソポーラスシリカカプセルのSEM像、EDXによる元素分析結果、及びTEM像を示す。なお、図12において、グラフ中の表は、分析値である。分析は、観察場所を変えて3回繰り返し、その平均値を求めた。
酸化鉄導入の場合もチタニアと同様に、非常に多量の酸化鉄量(Si/Fe=54/46)であるにもかかわらず、酸化鉄は、粒子中(主に、粒子の中空部分)に高分散な状態で担持されることがわかった。
図15に、比較例1で合成した中実メソポーラスシリカのSEM像を示す。粒子は、非常に単分散性の高い球状粒子であった。
図16に、チタニア担持量の異なるチタニア内包中実メソポーラスシリカ(比較例1)のSEM像を示す。図16中のチタニア量は、EDXによる元素分析値である。
SEM観察の結果より、Si/Ti=74/26(wt%)程度までは、若干量のチタニアは表面に析出しているが、大部分はメソ孔内に導入可能であった。Si/Ti=72/28(wt%)までチタニア量を増加させると、粒子表面でのチタニア成長が顕著になった。Si/Ti=69/31(wt%)では、粒子表面での析出がさらに増加した。
本検討により、通常のアルコキシド含浸法では、Ti成分を粒子表面に析出させることなく、28wt%以上のTi成分を中実メソポーラスシリカに導入することは困難であり、その限界導入量は、実施例1、2で達成された50w%よりも非常に少量であることがわかった。
以下に、実施例1で得られたチタニア内包メソポーラスシリカカプセルの紫外線照射による触媒特性を示す。実施例1で得られたカプセルは、10nm程度の高活性なチタニア粒子を多量に内包し、かつ反応物質の拡散をスムーズに進行させる規則性の高いメソ細孔をシリカシェルに備えている。また、高比表面積はメソポーラスシリカの高い吸着特性が期待されるために、特に流動槽中での水質浄化触媒として優れた性能を発揮することが期待される。
実施例1で得られたカプセルは、メソポーラスシリカに由来する非常に高い吸着特性を持つために、汚染物質を吸着により水中から除去することができる。さらに、この状態で光照射を行うことにより、吸着された汚染物質は、空洞内部に存在する微細なチタニア粒子により分解される。これと同時に、シリカの吸着特性は再生されるために、非常に簡便な方法で半永久的に光触媒能を発揮させることが可能である。
一方、チタニア粒子単独では、優れた触媒作用を備えているにもかかわらず、汚染物質を吸着できないために、流動状態になる反応系の水質浄化を行うことはできない。
この流動槽中での汚染物質除去のモデル実験として、次のような反応を行った。
メチレンブルーの0.05mM水溶液60mLに対して、実施例1で得られたチタニア内包メソポーラスシリカカプセル及び市販のチタニア粉末(P25、石原産業製)(比較例2)を、各々0.11g添加して、darkで3時間攪拌を行った。ろ過により粉末と濾液に分離して、濾液の吸収スペクトルの測定を行った。
次に、ろ紙上の青く着色した実施例1の粒子に、そのままの状態で紫外線を3時間照射したところ、3時間後には粉末は白色に戻った。この粉末を再びメチレンブルーの溶液に添加して、同様な反応を繰り返した。3時間後に再びろ過により、粉末とろ液を分離した。前述同様に、濾液はほとんど透明であり、ろ紙上の粉末はメチレンブルー由来の青色を呈した。ろ液の吸収スペクトルの測定を行ったところ、スペクトルは測定領域においてはほぼゼロであり、664nmにはピークは認められなかった。
一方、汚染物質の中には、全くシリカに吸着しない物質も存在する。次の実験においては、実施例1の粒子がそのような汚染物質に対しても優れた光触媒活性を持つことを証明する。
メチルオレンジの0.2mM水溶液50mLに対して、実施例1の粒子及び比較例1の粒子(図16(a)の粒子(Si/Ti=74/26))を、各々0.125g添加して、darkで3時間攪拌を行った。3時間後に遠心分離により粉末と上澄み液を分離し、上澄み液の吸収スペクトルの測定を行った。この時、粉末は白色のままであり、上澄み液はメチルオレンジ由来の鮮やかなオレンジ色であった。つまり、メチルオレンジは、シリカに吸着しないことが分かった。
図18に、得られた吸収スペクトルを示す。メチルオレンジは、460nmに吸収スペクトルを示す。実施例1の粒子では、紫外線照射30分後には吸収スペクトルのピーク高さが1/3程度に減少し、照射時間とともに460nmのピークは段階的に減少し、150分後には元のピークの1/10近くまで減少した。150分後には、溶液はほぼ透明になり、実施例1の粒子は、吸着によらず、光触媒作用のみでも、汚染物質を除去できることがわかった。
図19に、この光分解反応効率を時間に対してプロットしたグラフを示す。比較例1の粒子の光分解特性は時間とともに一定であり、反応は非常にゆっくり進行した。一方、実施例1の粒子は、初期段階の反応速度が非常に早く、光触媒反応が素早く進行していることがわかった。これは、粒子内に非常に微細なチタニア粒子が、高分散かつ多量に存在し、かつ規則的なメソ孔により反応基質の拡散が速やかに起きていることに対応すると考えられる。
Claims (4)
- メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子と、
前記単分散球状中空粒子の空洞部分に保持された金属酸化物粒子と
を備えた金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル。 - 前記金属酸化物粒子は、光触媒粒子及び磁性体粒子から選ばれるいずれか1種以上である請求項1に記載の金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル。
- 平均粒子径が0.1〜1.5μmである請求項1又は2に記載の金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル。
- メソポーラスシリカからなる単分散球状中空粒子を作製し、前記単分散球状中空粒子のメソ孔内及び/又は空洞内に金属酸化物前駆体を吸着させ、前記金属酸化物前駆体を金属酸化物粒子に変換することにより得られる請求項1から3までのいずれかに記載の金属酸化物内包メソポーラスシリカナノカプセル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008102830A JP5499442B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008102830A JP5499442B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009249268A true JP2009249268A (ja) | 2009-10-29 |
JP5499442B2 JP5499442B2 (ja) | 2014-05-21 |
Family
ID=41310305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008102830A Expired - Fee Related JP5499442B2 (ja) | 2008-04-10 | 2008-04-10 | 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5499442B2 (ja) |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001258A (ja) * | 2009-05-19 | 2011-01-06 | Sekisui Chem Co Ltd | 鈴構造粒子及び鈴構造粒子の製造方法 |
WO2011034023A1 (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-24 | 国立大学法人広島大学 | 微粒子複合体の製造方法 |
CN102628188A (zh) * | 2012-04-18 | 2012-08-08 | 上海应用技术学院 | 一种磁场导向下形貌各向异性的椭球状介孔二氧化硅光子晶体有序薄膜的组装方法 |
JP2012162438A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Tokuyama Corp | 球状シリカ−チタニア複合酸化物粒子及びその製造方法 |
JP2016503376A (ja) * | 2012-11-01 | 2016-02-04 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 封入ナノ粒子 |
WO2017014186A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及びそれを含む消臭剤 |
JP2017023292A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及びそれを含む消臭剤 |
JP2017515785A (ja) * | 2014-04-10 | 2017-06-15 | ダンマークス・テクニスケ・ユニヴェルシテット | ゼオライト及びゼオタイプに金属ナノ粒子を組み入れる一般的方法 |
JP2017128484A (ja) * | 2016-01-21 | 2017-07-27 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカの製造方法、及び、多孔質シリカ、消臭剤 |
JP2017132687A (ja) * | 2016-01-21 | 2017-08-03 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及び、消臭剤 |
JP2018141902A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | ゲッター粒状体及び表示装置 |
CN112028184A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-04 | 赵玉平 | 一种介孔氧化钛中空微球电极材料的制备方法 |
WO2021192960A1 (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 積水化学工業株式会社 | 触媒及びジエン化合物の製造方法 |
JP7498582B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-06-12 | 日揮触媒化成株式会社 | 外殻の内側に空洞と内部粒子とを有する粒子、該粒子を含む塗布液、及び該粒子を含む透明被膜付基材 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07173452A (ja) * | 1993-12-18 | 1995-07-11 | Suzuki Yushi Kogyo Kk | 無機多孔質微粒子 |
JP2001342010A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Kyocera Corp | 無機質中空粉体とその製造方法 |
JP2006102592A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Shiga Pref Gov | メソ細孔壁を有する中空シリカマイクロカプセル及びその製造方法 |
JP2007044610A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Nissan Motor Co Ltd | 多孔質中空粒子及びその製造方法 |
JP2008174435A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Kao Corp | メソポーラスシリカ粒子 |
JP2009067614A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Kao Corp | 複合中空メソポーラスシリカ粒子 |
-
2008
- 2008-04-10 JP JP2008102830A patent/JP5499442B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07173452A (ja) * | 1993-12-18 | 1995-07-11 | Suzuki Yushi Kogyo Kk | 無機多孔質微粒子 |
JP2001342010A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-11 | Kyocera Corp | 無機質中空粉体とその製造方法 |
JP2006102592A (ja) * | 2004-10-01 | 2006-04-20 | Shiga Pref Gov | メソ細孔壁を有する中空シリカマイクロカプセル及びその製造方法 |
JP2007044610A (ja) * | 2005-08-09 | 2007-02-22 | Nissan Motor Co Ltd | 多孔質中空粒子及びその製造方法 |
JP2008174435A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Kao Corp | メソポーラスシリカ粒子 |
JP2009067614A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Kao Corp | 複合中空メソポーラスシリカ粒子 |
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011001258A (ja) * | 2009-05-19 | 2011-01-06 | Sekisui Chem Co Ltd | 鈴構造粒子及び鈴構造粒子の製造方法 |
WO2011034023A1 (ja) * | 2009-09-15 | 2011-03-24 | 国立大学法人広島大学 | 微粒子複合体の製造方法 |
JP2012162438A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-08-30 | Tokuyama Corp | 球状シリカ−チタニア複合酸化物粒子及びその製造方法 |
CN102628188A (zh) * | 2012-04-18 | 2012-08-08 | 上海应用技术学院 | 一种磁场导向下形貌各向异性的椭球状介孔二氧化硅光子晶体有序薄膜的组装方法 |
JP2016503376A (ja) * | 2012-11-01 | 2016-02-04 | エージェンシー フォー サイエンス,テクノロジー アンド リサーチ | 封入ナノ粒子 |
JP2017515785A (ja) * | 2014-04-10 | 2017-06-15 | ダンマークス・テクニスケ・ユニヴェルシテット | ゼオライト及びゼオタイプに金属ナノ粒子を組み入れる一般的方法 |
KR20180022974A (ko) * | 2015-07-17 | 2018-03-06 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 다공질 실리카 및 이를 포함하는 탈취제 |
KR102144093B1 (ko) * | 2015-07-17 | 2020-08-12 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 다공질 실리카 및 이를 포함하는 탈취제 |
KR102340549B1 (ko) * | 2015-07-17 | 2021-12-20 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 다공질 실리카 및 이를 포함하는 탈취제 |
US11090403B2 (en) | 2015-07-17 | 2021-08-17 | Toyo Seikan Group Holdings, Ltd. | Porous silica and deodorant comprising the same |
WO2017014186A1 (ja) * | 2015-07-17 | 2017-01-26 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及びそれを含む消臭剤 |
CN107848818A (zh) * | 2015-07-17 | 2018-03-27 | 东洋制罐集团控股株式会社 | 多孔质二氧化硅和包含该多孔质二氧化硅的除臭剂 |
KR20200097001A (ko) * | 2015-07-17 | 2020-08-14 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 다공질 실리카 및 이를 포함하는 탈취제 |
JP2017023292A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及びそれを含む消臭剤 |
JP2017132687A (ja) * | 2016-01-21 | 2017-08-03 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカ、及び、消臭剤 |
JP2017128484A (ja) * | 2016-01-21 | 2017-07-27 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 多孔質シリカの製造方法、及び、多孔質シリカ、消臭剤 |
JP2018141902A (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-13 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | ゲッター粒状体及び表示装置 |
WO2021192960A1 (ja) * | 2020-03-23 | 2021-09-30 | 積水化学工業株式会社 | 触媒及びジエン化合物の製造方法 |
JP7498582B2 (ja) | 2020-03-27 | 2024-06-12 | 日揮触媒化成株式会社 | 外殻の内側に空洞と内部粒子とを有する粒子、該粒子を含む塗布液、及び該粒子を含む透明被膜付基材 |
CN112028184A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-04 | 赵玉平 | 一种介孔氧化钛中空微球电极材料的制备方法 |
CN112028184B (zh) * | 2020-09-15 | 2022-11-01 | 江苏恒湾环保科技有限公司 | 一种介孔氧化钛中空微球电极材料的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5499442B2 (ja) | 2014-05-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5499442B2 (ja) | 金属酸化物内包メソポーラスシリカカプセル | |
Ruiz-Hitzky et al. | Photoactive nanoarchitectures based on clays incorporating TiO2 and ZnO nanoparticles | |
Ismail et al. | Mesoporous titania photocatalysts: preparation, characterization and reaction mechanisms | |
JP5034264B2 (ja) | 酸化物複合体及びその製造方法 | |
TWI651269B (zh) | 二氧化鈦粒子及其製備方法 | |
Kim et al. | Sol–gel synthesis of sodium silicate and titanium oxychloride based TiO2–SiO2 aerogels and their photocatalytic property under UV irradiation | |
Wang et al. | Preparation and photocatalytic activity of magnetic Fe3O4/SiO2/TiO2 composites | |
JP4975050B2 (ja) | シリカ構造体の製造方法 | |
JP4296307B2 (ja) | 球状シリカ系メソ多孔体の製造方法 | |
WO2007063615A1 (ja) | 中空層多孔質カプセルに包接された触媒及びその製造方法 | |
Bodson et al. | Efficient P-and Ag-doped titania for the photocatalytic degradation of waste water organic pollutants | |
EP1857181A1 (en) | Photocatalyst, method for producing same, liquid dispersion containing photocatalyst and photocatalyst coating composition | |
JP4646077B2 (ja) | 多孔性炭素支持体に埋設させたナノ粒子系触媒及びその作製方法 | |
JP4936208B2 (ja) | コアシェル型球状シリカ系メソ多孔体及びコアシェル型球状シリカ系メソ多孔体の製造方法 | |
JP5603566B2 (ja) | 球状メソポーラスカーボン及びその製造方法 | |
JP4540971B2 (ja) | 中性酸化チタンゾルおよびその製造方法 | |
JP2011005389A (ja) | 光触媒粒子 | |
JP4692921B2 (ja) | 単分散球状カーボン多孔体 | |
Liu et al. | Fabrication of multilayer porous structured TiO2–ZrTiO4–SiO2 heterostructure towards enhanced photo-degradation activities | |
KR101677842B1 (ko) | 광촉매와 흡착제의 기능을 모두 가지는 다기능 구리-이산화티타늄-폴리우레탄 및 이의 제조 방법 | |
KR100488100B1 (ko) | 메조다공성 전이금속 산화물 박막 및 분말, 및 이의제조방법 | |
Cui et al. | Layer‐by‐Layer Assembly and Photocatalytic Activity of Titania Nanosheets on Coal Fly Ash Microspheres | |
JP2006096651A (ja) | 無機酸化物材料の製造方法、無機酸化物材料、および炭素−金属複合酸化物材料 | |
Matsuda | Functionalities and modification of sol–gel derived SiO2–TiO2 systems for advanced coatings and powders | |
US8852548B2 (en) | Method of preparing high crystalline nanoporous titanium dioxide at room temperature |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121012 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121120 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130723 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140225 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |