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WO2005055184A1 - トランジスタ回路、画素回路、表示装置及びこれらの駆動方法 - Google Patents

トランジスタ回路、画素回路、表示装置及びこれらの駆動方法 Download PDF

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Publication number
WO2005055184A1
WO2005055184A1 PCT/JP2004/018334 JP2004018334W WO2005055184A1 WO 2005055184 A1 WO2005055184 A1 WO 2005055184A1 JP 2004018334 W JP2004018334 W JP 2004018334W WO 2005055184 A1 WO2005055184 A1 WO 2005055184A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
film transistor
thin film
gate
transistor
thin
Prior art date
Application number
PCT/JP2004/018334
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Katsuhide Uchino
Junichi Yamashita
Original Assignee
Sony Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corporation filed Critical Sony Corporation
Priority to US10/580,686 priority Critical patent/US7605789B2/en
Priority to EP04801632A priority patent/EP1708162A4/en
Publication of WO2005055184A1 publication Critical patent/WO2005055184A1/ja

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    • G09G2320/043Preventing or counteracting the effects of ageing
    • H01L27/12

Definitions

  • Transistor circuit Transistor circuit, pixel circuit, display device, and driving method thereof
  • the present invention relates to a transistor circuit including a thin film transistor integrated and formed on a substrate.
  • the present invention relates to a pixel circuit which is one mode of a transistor circuit.
  • the present invention relates to a display device in which the pixel circuits are arranged in a matrix shape.
  • the active matrix type display device includes a flat display panel such as a liquid crystal display and an organic EL display.
  • a thin film transistor which is a kind of a field effect transistor, uses an amorphous silicon film or a polycrystalline silicon film formed over an insulating substrate such as glass as an element region.
  • this thin film transistor has been actively developed as a pixel switch of an active matrix type display device.
  • a thin film transistor has a gate, a drain, and a source, and flows a current between a source and a drain according to a voltage applied to the gate.
  • the drain current I ds is given by the following transistor characteristic equation.
  • I ds (1/2) ⁇ (W / L) C ox (V gs-V th) 2
  • V gs represents the gate voltage with respect to the source
  • V th represents the threshold voltage
  • Co x represents the gate capacitance
  • W represents the channel width
  • L represents the channel length
  • represents the mobility of the semiconductor thin film.
  • a transistor circuit having a predetermined function is formed by connecting several thin film transistors.
  • a transistor circuit is composed of a plurality of thin film transistors formed on a substrate and wiring connecting the gate, source or drain of each thin film transistor so as to perform a predetermined operation.
  • a pixel circuit is a typical example of such a transistor circuit.
  • the pixel circuits are formed at the intersections of the row-shaped scanning lines and the column-shaped signal lines, respectively, and constitute an active matrix display device as a whole.
  • the pixel circuit operates when selected by a scanning line, samples a video signal from a signal line, and drives a load element such as an organic EL light emitting element.
  • An active matrix type organic EL display device using such a thin-film transistor as an active element is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-234683.
  • the thin film transistor in the saturation region, the thin film transistor is turned on when the gate voltage exceeds the threshold voltage and a drain current flows, while the thin film transistor is cut off when the gate voltage falls below the threshold voltage.
  • the threshold voltage V th of the thin film transistor is not always constant and varies with time. There is a problem that the cutoff operation is disturbed by the fluctuation of the threshold voltage, which leads to a malfunction of the transistor circuit. Further, as is clear from the above-described transistor characteristic equation, if the threshold voltage fluctuates even if the gate voltage is constant, the drain current also fluctuates.
  • an object of the present invention is to provide a transistor circuit, a pixel circuit, and a display device having a function of correcting a fluctuation of a threshold voltage of a thin film transistor and a driving method thereof.
  • the following measures were taken in order to achieve these objectives. That is, a transistor circuit including a plurality of thin film transistors formed on a substrate and a wiring connecting the gate, source, or drain of each thin film transistor so as to perform a predetermined operation. And a thin-film transistor that is repeatedly or continuously forward-biased between the gate and the source, and a reverse bias is applied between the gate and the source of the thin-film transistor at a timing that does not hinder the operation of the thin-film transistor.
  • the thin film transistor further includes an additional thin film transistor connected in parallel to the thin film transistor, and complementary means for driving the additional thin film transistor complementarily with respect to the thin film transistor so as to generate timing that does not hinder the above-described operation.
  • the means applies a reverse bias to the thin film transistor at the created timing.
  • the thin film transistor is of an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin film transistor is also of the same N-channel type or P-channel type
  • the complementary means has a reverse phase relationship with a pulse applied to a gate of the thin film transistor. Is applied to the gate of the additional thin film transistor.
  • the thin film transistor is an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin-film transistor is an opposite P-channel type or an N-channel type
  • the complementing means has an in-phase relationship with a pulse applied to a gate of the thin film transistor. The following pulse is applied to the additional thin film transistor.
  • the present invention provides a load element disposed at each intersection of a row-shaped scanning line and a column-shaped scanning line, wherein when selected by the scanning line, a signal is sampled from the signal line and the load element is sampled according to the sampled signal.
  • a pixel circuit for driving the load element comprising a plurality of thin film transistors formed on the substrate and wiring for connecting the gate, source or drain of each thin film transistor, and driving at least one wiring while driving the load element.
  • a thin-film transistor that is repeatedly or continuously forward-biased between the gate and the source, and applying a reverse bias between the gate and the source of the thin-film transistor at a timing that does not hinder the driving of the load element.
  • a reverse bias applying means for suppressing the fluctuation of the threshold voltage.
  • an additional thin-film transistor connected in parallel to the thin-film transistor and complementary means for operating the additional thin-film transistor complementarily to the thin-film transistor so as to generate timing that does not hinder the driving of the load element described above.
  • the reverse bias applying means applies a reverse bias to the thin film transistor at the created timing.
  • the thin film transistor is an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin film transistor is also of the same N-channel type or P-channel type
  • the complementing means has a reverse phase relationship with a pulse applied to a gate of the thin film transistor. A pulse is applied to the gate of the additional thin film transistor.
  • the thin film transistor is an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin film transistor is an opposite P-channel type or an N-channel type
  • the complementing means is in phase with a pulse applied to a gate of the thin film transistor. The following pulse is applied to the additional thin film transistor.
  • the plurality of thin film transistors are turned on when selected by the scanning line, sample a signal from the signal line, and store the signal in a storage capacitor.
  • the reverse bias applying means applies a reverse bias to at least one of the driving thin film transistor and the switching thin film transistor.
  • a threshold voltage canceling means for adjusting the level of the signal potential applied to the gate of the driving thin film transistor so as to cancel the fluctuation of the threshold voltage of the driving thin film transistor is included.
  • a bootstrap means for automatically controlling the level of the signal potential applied to the gate of the drive thin film transistor so as to absorb the variation in the characteristics of the load element is included.
  • the present invention is a display device comprising a row-shaped scanning line, a column-shaped scanning line, and a pixel circuit arranged at an intersection thereof, wherein the pixel circuit is selected by the scanning line.
  • a video signal is sampled from the signal line, and a light emitting element is driven according to the sampled video signal.
  • the pixel circuit includes a plurality of thin film transistors formed on a substrate, and a gate and a source of each thin film transistor. Or a wiring that connects the drain, and includes a thin-film transistor that is repeatedly or continuously forward-biased between the gate and the source via at least one wiring during driving of the light-emitting element, and prevents driving of the light-emitting element.
  • a reverse bias is applied between the gate and the source of the thin film transistor at a timing that does not result in suppression of fluctuations in the threshold voltage of the thin film transistor. Characterized by comprising a bias applying means.
  • the thin-film transistor further includes an additional thin-film transistor connected in parallel to the thin-film transistor, and complementary means for operating the additional thin-film transistor complementarily to the thin-film transistor to create timing that does not hinder driving of the light-emitting element.
  • the reverse bias applying means includes a timer A reverse bias is applied to the thin-film transistor by ringing.
  • the thin film transistor is of an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin film transistor is also of the same N-channel type or P-channel type
  • the complementary means has a reverse phase relationship with a pulse applied to the gate of the thin film transistor. Is applied to the gate of the additional thin film transistor.
  • the thin film transistor is an N-channel type or a P-channel type
  • the additional thin-film transistor is an opposite P-channel type or an N-channel type
  • the complementing means is in phase with a pulse applied to a gate of the thin film transistor. The following pulse is applied to the additional thin film transistor.
  • the plurality of thin film transistors are conductive when selected by the scanning line, sample a video signal from the signal line and hold the sampling signal in a storage capacitor, and the signal held in the storage capacitor.
  • a drive thin film transistor for controlling the amount of current supplied to the light emitting element in accordance with the potential; and a switching thin film transistor for controlling on / off of current supplied to the light emitting element; A reverse bias is applied to at least one of the switching thin film transistor and the switching thin film transistor.
  • a threshold voltage canceling means for adjusting the level of the signal potential applied to the gate of the driving thin film transistor so as to cancel the fluctuation of the threshold voltage of the driving thin film transistor is included.
  • a bootstrap means for automatically controlling the level of the signal potential applied to the gate of the thin film transistor for driving so as to absorb the characteristic fluctuation of the load element is included.
  • the present invention is a method of driving a transistor circuit including a plurality of thin film transistors formed on a substrate and a wiring connecting a gate, a source, or a drain of each thin film transistor so as to perform a predetermined operation.
  • a forward bias application procedure for repeatedly or continuously applying a forward bias between a gate and a source via a wiring to at least one thin film transistor, and a gate and a source of the thin film transistor at a timing that does not hinder the operation; And applying a reverse bias to the thin film transistor to suppress a change in the threshold voltage of the thin film transistor.
  • a complementary procedure for driving the additional thin film transistor connected in parallel with the thin film transistor in a complementary manner with respect to the thin film transistor to create a timing that does not hinder the operation described above is included.
  • a reverse bias is applied to the thin film transistor at the created timing.
  • the present invention is arranged at an intersection of a row scanning line and a column scanning line, and when selected by the scanning line, samples a signal from the signal line and loads the signal in accordance with the sampled signal.
  • a method for driving a pixel circuit comprising a plurality of thin film transistors formed on a substrate and a wiring connecting a gate, a source, or a drain of each thin film transistor, in order to drive the element.
  • a forward bias application procedure for repeatedly or continuously applying a forward bias between the gate and the source via the wiring to both of the thin film transistors, and a timing of the thin film transistors that does not hinder the driving of the load element.
  • the method is characterized in that a reverse bias is applied between the gate and the source to suppress the fluctuation of the threshold voltage of the thin film transistor.
  • the method further includes a supplementary procedure of operating the additional thin film transistor connected in parallel to the thin film transistor in a complementary manner with respect to the thin film transistor to create a timing that does not hinder the driving of the load element. The procedure is to apply a reverse bias to the thin film transistor at the created timing.
  • a row-shaped scanning line, a column-shaped scanning line, The pixel circuit samples a video signal from the signal line when selected by the scanning line, and drives a light emitting element according to the sampled video signal;
  • An image forming circuit is a method of driving a display device including a plurality of thin film transistors formed on a substrate and a wiring connecting a gate, a source, or a drain of each thin film transistor.
  • a forward bias application procedure for repeatedly or continuously applying a forward bias between the gate and the source via a wiring to the thin film transistor of the present invention, and a gate and a source of the thin film transistor at a timing that does not hinder the driving of the light emitting element.
  • a reverse bias application procedure for applying a reverse bias during the process to suppress fluctuations in the threshold voltage of the thin film transistor is included.
  • a supplementary procedure of operating an additional thin-film transistor connected in parallel to the thin-film transistor with respect to the thin-film transistor to create a timing that does not hinder the driving of the light-emitting element is included.
  • a reverse bias is applied to the thin film transistor at the created timing.
  • FIGS. 1A to 1C are schematic diagrams showing a first embodiment of a transistor circuit according to the present invention.
  • FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the transistor circuit shown in FIG. 1A.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a second embodiment of the transistor circuit according to the present invention.
  • 4A and 4B are schematic views showing a third embodiment of the transistor circuit according to the present invention.
  • FIG. 5 shows an active matrix display device according to the present invention and the components included therein.
  • 1 is a block diagram illustrating an outline of a pixel circuit to be used.
  • FIG. 6 is a block diagram showing a reference example of the pixel circuit.
  • FIG. 7 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG.
  • 8A and 8B are schematic diagrams illustrating another reference example of the pixel circuit.
  • FIG. 9 is a circuit diagram showing a first embodiment of a pixel circuit according to the present invention.
  • FIG. 10 is a dimming chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG.
  • FIG. 11 is a circuit diagram showing a second embodiment of the pixel circuit according to the present invention.
  • FIG. 12 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • FIG. 1A to FIG. 1C show a first embodiment of a transistor circuit according to the present invention.
  • 1A is a circuit diagram showing a configuration
  • FIG. 1B is a timing chart showing an operation
  • FIG. 1C is a graph showing a principle.
  • the present transistor circuit is composed of two thin film transistors Tr 1 and Tr 2 formed on a substrate and each of the thin film transistors Tr 1 and Tr 2 so as to perform an skipper operation. It consists of a gate, a source or a drain connecting the drain. That is, this transistor circuit is one in which an inverter is configured using two N-channel transistors Tr 1 and Tr 2.
  • An N-channel thin film transistor is advantageous in terms of cost because it can be manufactured with an amorphous silicon film as an active layer.
  • the inverter is merely an example, and the transistor circuit according to the present invention is not limited as long as it is constituted by a thin film transistor, and its function and operation are not limited.
  • the specific circuit configuration is as follows. A predetermined gate voltage V 1 is applied to the gate of Tr 1, the drain is supplied with the power supply voltage V cc, and the source is output.
  • Vout is supplied.
  • the load capacitance C L is connected to the output terminal.
  • the output Vout is applied to one end of the load capacitance CL, and the other end is grounded to Vss. Since the gate voltage V1 is set to be larger than the sum of the threshold voltage of Tr1 and Vcc, Tr1 is always on.
  • the input signal V in is applied to the gate of Tr 2, the source is grounded to V s s, and the drain is connected to the source of Tr 1 to form an output node.
  • the present transistor circuit performs an inverter operation, and obtains an output signal Vout by inverting the input signal Vin. That is,
  • V in When V in is at low level (L), V out is at high level (H),
  • V out When V inn is H, V out is L. Focusing on Tr2, the transistor is turned off when V inn is at the triangular level, and the output node is disconnected from the ground potential V s s. At this time, since Tr1 is always on, the output node is pulled up to Vcc. As a result, Vout goes to a high level (Vcc). Conversely, when V in goes high, Tr 2 turns on and the output node is pulled down toward V s s. When the sum of the current discharged from the load capacitance CL- and the current supplied from Tr1 is balanced with the current flowing through Tr2, the low level of Vout is determined. Normally, Vout
  • the low level of Vin may be lower than the threshold voltage of Tr2, and is usually set to Vss.
  • the high level of Vin is sufficiently higher than the threshold voltage of Tr2.
  • a so-called reverse bias is periodically applied to Tr 2 as a negative potential lower than V ss, which is lower than the level of V in.
  • the supply source of the input signal Vin constitutes the reverse bias applying means, and the thin-film transistor Tr2 is switched at a timing that does not hinder the inverter operation (low-level timing in the illustrated example).
  • the thin-film transistor Tr2 is switched at a timing that does not hinder the inverter operation (low-level timing in the illustrated example).
  • FIG. 1C is a graph showing a change in the threshold voltage of the thin film transistor Tr2.
  • the horizontal axis shows the gate voltage Vgs with reference to the source potential, and the vertical axis shows the fighting voltage Vth.
  • Vth fluctuates upward, and when it becomes extreme, normal on-Z-off operation cannot be performed.
  • reverse bias reverse bias
  • the present invention utilizes this phenomenon, and corrects the upward shift of the fighting voltage due to the continuous application of the forward bias downward by applying a reverse bias at a timing that does not hinder the operation of the circuit. Thus, the fluctuation of the threshold voltage is suppressed.
  • FIG. 2 is a timing chart showing another embodiment of the input signal Vin and the output signal Vout in the transistor circuit shown in FIG. 1A.
  • the duty of the input pulse Vin is shifted from 50%, and the low-level period is short and the high-level period is long.
  • the output pulse Vout obtained by inverting the input pulse Vin has a shorter high-level period and a longer low-level period.
  • the circuit in which the inverter is incorporated Depending on the operating condition of the block, such an input signal Vin may be used. Conditions are possible.
  • a reverse bias (low level) is applied during a period when a forward bias is applied to the gut of the transistor Tr2.
  • a sufficient threshold voltage fluctuation suppressing effect may not always be obtained. That is, since the upward fluctuation of the threshold voltage due to the continuous change of the forward bias (high level) is severe, the downward correction effect of the reverse bias may not catch up.
  • a predetermined threshold voltage fluctuation suppressing effect can be obtained as compared with the case where no reverse bias is added.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a second embodiment of the transistor circuit according to the present invention.
  • FIG. 3 (A) is a circuit diagram showing the configuration
  • FIG. 3 (B) is a timing chart showing the operation.
  • parts corresponding to those of the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B are denoted by corresponding reference numerals.
  • the present embodiment is an improvement of the embodiment of FIG. 1, and aims at coping with a case where a sufficient reverse bias application time cannot be secured, as described with reference to FIG. 2 in particular.
  • an additional thin film transistor Tr3 is connected in parallel with the target transistor Tr2 (the transistor concerned).
  • the input signal V in 1 is applied to the gate of the transistor Tr 2.
  • the signal source of the input signal V in 1 simultaneously constitutes the reverse bias impressing means.
  • another input signal Vin2 is applied to the gate of the additional transistor Tr3.
  • the signal source of this input signal Vin2 constitutes a complementing means which is a characteristic element of the present embodiment. That is, this complementing means drives the additional transistor Tr3 complementarily with respect to the transistor Tr2 to forcibly create a timing that does not hinder the operation of the transistor Tr2.
  • the reverse bias applying means uses the forcibly created tie. A reverse bias is applied to the thin film transistor Tr2 during the timing, thereby suppressing the fluctuation of the threshold voltage of Tr2.
  • the transistor Tr 2 is an N-channel type
  • the additional transistor Tr 3 is the same N-channel type.
  • the complementing means applies a signal pulse V in 2 having a phase opposite to that of the signal pulse V in 1 applied to the transistor Tr 2 to the gate of the additional transistor Tr 3.
  • V inl and V in 2 have opposite phases to each other.
  • V in1 and V in2 have the same phase relationship.
  • Tr 3 turns on and becomes operational.
  • Tr3 By turning on Tr3 instead of Tr2, the output node is continuously pulled down to the Vss side, and the desired output signal Vout can be obtained.
  • the reverse bias applying means which is a signal source of Vin1, applies a reverse bias to the transistor Tr2 at the generated timing T3.
  • the period T2 in which the forward bias is applied and the period T1 + T3 in which the reverse bias is applied are almost balanced, and the upward fluctuation of the threshold voltage is reduced without excess and shortage. It will be possible to correct it.
  • FIG. 4A and 4B show a third embodiment of the transistor circuit, which is an improved example of the second embodiment shown in FIG.
  • FIG. 4A is a circuit diagram showing the configuration of the present embodiment
  • FIG. 4B is a timing chart showing the operation. If both inverter circuits are composed of N-channel type transistors Tr1 and Tr2, Tr1 is always in the operating state. In other words, Tr 1 is always in a state where a forward bias is applied, and the threshold voltage shifts upward with time. Excessive progress of this upward shift may interfere with normal operation. Therefore, in the present embodiment, a complementary transistor Tr 4 is also connected to Tr 1 in parallel.
  • the gate voltage V1 for Tr1 is at a high level, while the gate voltage V2 for Tr4 is at a low level.
  • V1 switches to low level while V2 goes high.
  • the transistors Tr1 and Tr4 operate complementarily to each other, and the switch composed of the pair of Tr1 and Tr4 is always kept on as a whole.
  • the gate voltage V 1 becomes low level at timings T 3 and T 4, and it is possible to apply a reverse bias for correcting the threshold voltage.
  • V 2 on the other hand Since the level becomes low at the times T1 and T2, a reverse bias for suppressing the threshold voltage fluctuation can be similarly applied to the transistor Tr4.
  • FIG. 5 is a schematic block diagram showing an active matrix display device which is an application example of the transistor circuit according to the present invention, and a pixel circuit included therein.
  • the active matrix display device includes a pixel array 1 as a main part and a peripheral circuit group.
  • the peripheral circuits include a water selector 2, a drive scanner 3, and a light scanner 4.
  • the pixel array 1 is composed of row-like scanning lines WS and column-like signal lines DL, and pixel circuits 5 arranged in a matrix at intersections of the scanning lines WS and the column-like signal lines DL.
  • the signal line DL is driven by the horizontal selector 2.
  • the scanning line WS is scanned by the light scanner 4.
  • each elementary circuit 5 samples a signal from the signal line DL when selected by the scanning line WS. Further, when selected by the scanning line DS, the load element is driven according to the sampled signal.
  • This load element is a current driven type light emitting element formed in each pixel circuit 5 or the like.
  • FIG. 6 is a reference diagram showing a basic configuration of the pixel circuit 5 shown in FIG.
  • the pixel circuit 5 includes a sampling thin film transistor (sampling transistor Tr 1), a driving thin film transistor (drive transistor Tr 2), a switching thin film transistor (switching transistor Tr 3), a storage capacitor C 1, and a load element. (Organic EL light-emitting element).
  • the sampling transistor Tr 1 conducts when selected by the scanning line WS, samples a video signal from the signal line DL, and stores it in the storage capacitor C 1.
  • the drive transistor Tr2 controls the amount of current to the light emitting element EL according to the signal potential held in the storage capacitor C1.
  • Switching The transistor Tr 3 is controlled by the scanning line DS, and turns on / off the energization to the light emitting element EL. That is, the drive transistor Tr2 controls the light emission luminance (brightness) of the light emitting element EL in accordance with the amount of electric power, while the switching transistor Tr3 controls the light emission time of the light emitting element EL. By these controls, the light emitting elements EL included in each pixel circuit 5 exhibit luminance according to the video signal, and a desired display is displayed on the pixel array 1.
  • FIG. 7 is a timing chart for explaining the operation of the pixel array 1 and the pixel circuit 5 shown in FIG.
  • a selection pulse ws [1] is applied to the pixel circuit 5 of the first row via the scanning line WS for one horizontal period (1H), and the sampling transistor Tr 1 Becomes conductive.
  • the video signal is sampled from the signal line DL and written to the storage capacitor C1.
  • One end of the storage capacitor C1 is connected to the gate of the drive transistor Tr2. Therefore, when a video signal is written to the storage capacitor C1, the gate potential of the drive transistor Tr2 rises according to the written signal potential.
  • the selection pulse ds [1] is applied to the switching transistor Tr3 via another scanning line DS.
  • the light emitting element EL continues to emit light.
  • d s [1] becomes low level, so that the light emitting element EL is in a non-light emitting state.
  • the duty of the pulse ds [1] By adjusting the duty of the pulse ds [1], the ratio between the light emitting period and the non-light emitting period can be adjusted, and a desired screen luminance can be obtained.
  • scanning signal pulses w s [2] and d s [2] are applied to the pixel circuits on the second row from the scanning lines WS and DS, respectively.
  • the pixel circuit 5 of the reference example in which Trl to Tr3 are all N-channel thin film transistors, has the advantage that an amorphous silicon film, which is advantageous in cost, can be used for the active layer.
  • Trl to Tr3 are all N-channel thin film transistors
  • the drive transition While the drain of the transistor Tr 2 is connected to the power supply voltage V cc, the source is connected to the node of the light emitting element EL via the switching transistor Tr 3, which is a so-called source follower. is there.
  • the signal voltage stored in the storage capacitor C1 is applied to the gate of the transistor Tr2, and is basically kept constant.
  • the source potential changes as the current / voltage characteristics of the light emitting element EL change over time.
  • the drive transistor Tr 2 operates in the saturation region, and the drain current I ds depends on the gate potential V gs with respect to the source potential as shown in the above-described transistor characteristic equation.
  • Tr 2 operates as a source follower, so the source potential fluctuates as the characteristics of the light-emitting element EL deteriorate, and V gs changes accordingly. I do. Therefore, there is a problem that the drain current I ds fluctuates, which leads to a deterioration in luminance of the light emitting element EL.
  • the drive transistor Tr 2 itself has a temporal variation of the threshold voltage V th.
  • V th the threshold voltage
  • the drain current IDS will also change, and the light emission
  • the brightness of the element EL also fluctuates.
  • a thin-film transistor using an amorphous silicon thin film as an active layer (channel region) has a noticeable variation in threshold voltage with time, so that it is impossible to accurately control the luminance of the light-emitting element without dealing with this.
  • FIG. 8A and 8B show a pixel circuit according to another reference example in which the pixel circuit shown in FIG. 6 is improved.
  • FIG. 8A is a circuit diagram showing the configuration
  • FIG. 8B is a timing diagram showing the operation.
  • this improved example has a configuration in which a bootstrap circuit 6 and a threshold voltage cancel circuit 7 are added to the pixel circuit of FIG. boot
  • the strap circuit 6 automatically controls the level of the signal potential applied to the gate (G) of the drive transistor Tr 2 so as to absorb the variation in the characteristics of the light emitting element EL.
  • r 4 is included.
  • the scanning line WS is connected to the gate of the switching transistor Tr 4, the source is connected to the power supply potential V ss, the drain is connected to the negative terminal of the storage capacitor C 1, and the source of the drive transistor Tr 2 (S ).
  • the sampling transistor Trl turns on and the switching transistor Tr4 also turns on.
  • the video signal V sig is written to the storage capacitor C1 via the coupling capacitor C2.
  • the switching transistor Tr4 is turned off, so that the storage capacitor C1 is disconnected from the power supply potential Vss and coupled to the source (S) of the drive transistor Tr2.
  • a selection pulse is applied to the scanning line DS
  • the switching transistor Tr 3 is turned on, and a drive current is supplied to the light emitting element EL through the drive transistor Tr 2.
  • the light-emitting element EL starts emitting light, and at the same time, the potential of the anode rises in accordance with the current-Z voltage characteristic, so that the source potential of the drive transistor Tr2 rises.
  • the drive transistor Tr 2 fcfs the light emitting element EL and can function as an accurate constant current source.
  • the threshold voltage cancel circuit 7 adjusts the level of the signal potential applied to the gate (G) of the drive transistor Tr 2 so as to cancel the change in the threshold voltage of the drive transistor Tr 2.
  • T r 5 and T r 6 are included.
  • the gate of the switching transistor Tr5 is connected to another scanning line AZ, and the drain Z source is connected between the gate and the drain of the drive transistor Tr2.
  • the gate of the switching transistor Tr 6 is also connected to the scanning line AZ, the source is connected to a predetermined offset voltage V ofs, and “F-rain is connected to one electrode of the coupling capacitance C 2.
  • the offset voltage V ofs, the power supply potential V ss, and the cathode voltage (GND) can have different potentials, respectively, but in some cases, they may all be adjusted to a common potential (eg, GND).
  • FIG. 8B is a timing chart showing the scan pulse waveform applied to each of the scanning lines WS, DS, and AZ and the potential waveforms of the gate (G) and source (S) of the drive transistor Tr2. As shown in the figure, when the Vth cancel period starts, a pulse is applied to the scanning line AZ, the switching transistor Tr5 conducts, and the gate potential of Tr2 rises.
  • the drive transistor Tr 2 supplies a drain current to the light emitting element EL according to the input gate signal Vin, and light emission starts.
  • the anode potential of the light emitting element EL increases by ⁇ V, but this AV is superimposed on the input signal Vin to the drive transistor Tr 2 due to the bootstrap effect.
  • FIG. 9 shows an embodiment of a pixel circuit according to the present invention.
  • a drive voltage is applied to each of the drive transistor Tr 2 and the switching transistor Tr 3. It is equipped with a reverse bias applying means for fluctuation suppression.
  • the reverse bias applying means for the drive transistor Tr 2 is constituted by a switching transistor Tr 7.
  • An additional scan line W S2 is connected to the gate of Tr 7, the source is connected to the negative power supply V mb, and the drain is connected to the gate (G) of the drive transistor Tr 2. Since the scanning line WS2 has a different scanning timing from the scanning line WS1 connected to the sampling transistor Tr1 and the switching transistor Tr4, the scanning line WS2 is separately divided into WS1 and WS2.
  • the potential of the negative power supply V mb is set lower than the ground potential G ND.
  • Tr 7 turns on and a reverse bias (V mb) is applied to the gate (G) of the drive transistor Tr 2 be able to.
  • V mb reverse bias
  • the reverse bias applying means for the switching transistor Tr 3 is incorporated in the drive scanner 3 (see FIG. 5) connected to the scanning line DS 1. Yes.
  • a forward bias is applied to the gate of the switching transistor Tr3 via the scanning line DS1, and a drain current flows from Vcc to GND.
  • the potential of the scanning line DS1 becomes equal to or lower than GND, and a reverse bias is applied to the switching transistor Tr3.
  • the upward fluctuation of the threshold voltage of Tr 3 can be corrected downward.
  • FIG. 10 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG.
  • the pulse applied to the scan line WS 1 is represented by ws1
  • the pulse applied to the scan line WS2 is represented by ws2
  • the pulse applied to the scan line AZ is represented by az
  • the pulse applied to the scan line DS1 is represented by az.
  • Pulse is represented by ds 1.
  • the fluctuations of the gate potential (G), drain potential (D) and source potential (S) of the drive transistor Tr 2 are shown superimposed on the level change of the pulse d s 1. Note that the drain potential (D) of the drive transistor Tr 2 is simultaneously the source potential of the switching transistor Tr 3.
  • V th cancel period a pulse az force is applied to the S transistors Tr 5 and Tr 6, and the fight voltage V th of the drive transistor Tr 2 is detected.
  • the detected V th is stored in the storage capacitor C 1 as a difference between the gate potential (G) and the source potential (S) of Tr 2.
  • the pulse ws1 is applied to the sampling transistor Tr1 and the switching transistor Tr4
  • the video signal Vsig is sampled and written to the storage capacitor C1 via the coupling capacitor C2.
  • the sum of V th and V sig written to the storage capacitor C 1 appears in the timing chart as the difference between the gate potential (G) and the source potential (S) of Tr 2.
  • the drain potential (D) of the drive transistor Tr 2 drops from the Vcc side to GND.
  • the reverse bias Vb is applied to the gut of the switching transistor Tr3.
  • a pulse ws 2 is applied to the gate of the transistor Tr 7.
  • Tr 7 conducts, and the reverse bias V mb is applied to the gate (G) of the drive transistor Tr 2.
  • the switching transistor Tr 3 has some room for improvement, and this point will be described.
  • the voltage level of the pulse ds1 and the drain voltage (D) of the drive transistor Since the switching transistor Tr3 is on during the light emission period, the H potential of the pulse ds1 is higher than the drain potential (D) by Vth of Tr3 or more, and the Va voltage is applied. That is, a forward bias is applied between the gate and the source of the transistor Tr 3 during the light emitting period. Thereafter, in the non-emission period, a reverse bias is applied since the L level of the pulse DS 1 becomes lower than GND. During this reverse bias period, the drain potential (D) increases Potential (GND) or its vicinity.
  • FIG. 11 shows an embodiment in which the pixel circuit shown in FIG. 9 is further improved.
  • the improvement is that an additional transistor Tr 8 is connected in parallel with the transistor Tr 3 in question, and a complement is connected to the gut via the scanning line DS 2.
  • This complementing means drives the follower transistor Tr8 complementarily with respect to the switching transistor Tr3, and creates timing that does not hinder the operation of Tr3.
  • the reverse bias applying means connected to the switching transistor Tr 3 via the scanning line DS 1 applies a reverse bias to the transistor Tr 3 at the generated timing.
  • FIG. 12 is a timing chart for explaining the operation of the pixel circuit shown in FIG. To facilitate understanding, the parts corresponding to the timing chart of the previous embodiment shown in FIG. 10 are denoted by the corresponding reference numerals.
  • the characteristic point is that the pulse DS1 applied to the gate of the switching transistor Tr3 and the pulse DS2 applied to the gate of the additional transistor Tr8 are different. That is, they are in opposite phases to each other.
  • a forward bias Va is applied to the gate of the switching transistor Tr3. This is similar to the embodiment of FIG.
  • the pulse DS1 falls below GND and goes to a low level, and the switching transistor Tr3 is turned off.
  • the drive transistor Tr 2 since the transistor Tr 8 operates complementarily and is turned on, the drive transistor Tr 2 is continuously supplied with current from the power supply V cc side. Therefore, the drain potential (D) of the drive transistor Tr 2 does not drop to the force source potential (GND), and can take the power supply potential V cc or a potential in the vicinity thereof. Therefore, during the reverse bias period included in the non-emission period, the gate-source voltage of the switching transistor Tr3 becomes Vcc + Vb in absolute value, and a very large reverse bias can be applied. Thus, it is possible to effectively correct the upward fluctuation of the threshold voltage downward without applying the large-amplitude pulse DS1 to the switching transistor Tr3.
  • the threshold voltage of the amorphous silicon thin film transistor or the polycrystalline silicon thin film transistor fluctuates, correction can be performed by the pixel circuit, so that the luminance degradation of the light emitting element EL can be prevented, and high quality can be achieved. It can provide an active matrix display. In particular, it is not necessary to increase the amplitude of the pulse applied to the gate of the transistor that controls on / off of light emission, so that the cost of the driver can be reduced. Then, while correcting the V th fluctuation of the drive transistor, the V th fluctuation of the switching transistor can be easily corrected. Industrial applicability
  • Thin film transistors tend to shift their threshold voltage in the positive direction when a positive gate voltage (forward bias) is applied repeatedly or continuously. Conversely, a negative gate voltage (reverse bias) is applied repeatedly or continuously. The threshold voltage tends to fluctuate in the negative direction.
  • a thin film transistor in which a forward bias is repeatedly or continuously applied between a gate and a source through a circuit wiring may be included. The threshold voltage of the thin film transistor shifts with time due to such a forward bias. If left unchecked, the transistor may malfunction due to disturbance of the cut-off operation of the transistor.
  • a reverse bias is applied at a timing that does not hinder the operation of a thin film transistor in which it is inevitable to apply a forward bias repeatedly or continuously in terms of the operation or function of the transistor circuit.
  • the threshold voltage shifted in the positive direction by the forward bias can be returned to the negative direction, and as a result, the fluctuation of the threshold voltage can be suppressed.
  • a thin film transistor in which forward bias is applied almost continuously may not have sufficient timing to apply a reverse bias.
  • an additional thin film transistor is connected in parallel, and by driving the additional transistor complementarily to the thin film transistor, a timing for applying a reverse bias is forcibly created.
  • the threshold voltage can be forcibly corrected downward by connecting an additional thin film transistor for complementation in parallel.

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Abstract

薄膜トランジスタの閾電圧の変動を補正する機能を自ら備えたトランジスタ回路を提供する。トランジスタ回路は、基板に形成された複数の薄膜トランジスタ(Tr1~Tr3)と、所定の動作を行なう様に各トランジスタのゲート、ソース又はドレインを接続する配線とを含む。動作中、薄膜トランジスタ(Tr2)には、配線を介してゲートとソースの間に反復的若しくは持続的に順バイアスがかかる。動作の妨げとならないタイミングでトランジスタ(Tr2)のゲートとソースの間に逆バイアスを印加してその閾電圧の変動を抑制する。具体的には、トランジスタ(Tr2)に並列接続した追加トランジスタ(Tr3)を補完的に駆動して上記した動作の妨げとならないタイミングを作り出し、該作り出されたタイミングでトランジスタ(Tr2)に逆バイアスを印加する。

Description

トランジスタ回路、 画素回路、 表示装置及びこれらの駆動方法 技術分野
本発明は基板上に集積形成さ明れた薄膜トランジスタで構成される トラ ンジスタ回路に関する。 又、 トランジスタ回路の一形態である画素回路 に関する。 更には、 この画素回路をマ ト書リ クス状に配列した表示装置に 関する。 このアクティブマ トリ クス型の表示装置は例えば液晶ディスプ レイや有機 E Lディスプレイなどのフラッ トディスプレイパネルを包含 する。 背景技術
電界効果型トランジスタの一種である薄膜トランジスタは、 ガラスな どの絶縁性基板の上に成膜された非晶質シリ コン膜若しくは多結晶シリ コン膜を素子領域とするものである。 近年この薄膜トランジスタはァク ティブマ ト リ クス型のディスプレイデバイスの画素スィ ツチとして開発 が盛んに行なわれている。 薄膜トランジスタはゲートと ドレインとソー スを備えており、 ゲー トに印加される電圧に応じて、 ソース/ ドレイ ン 間に電流を流す。 薄膜トランジスタが飽和領域で動作する時、 ドレイン 電流 I d s は以下の トランジスタ特性式によって与えられる。
I d s = ( 1 / 2 ) μ (W/ L ) C o x ( V g s - V t h ) 2 ここで V g s はソースを基準と したゲート電圧を表わし、 V t hは閾 電圧を表わし、 C o Xはゲート容量を表わし、 Wはチャネル幅を表わし、 Lはチャネル長を表わし、 μは半導体薄膜の移動度を表わしている。 こ のトランジスタ特性式から明らかな様に、 薄膜トランジスタ はゲート電 圧 V g sが閾電圧 V t hを超えると、 ドレイン電流 I d sを流す構造と なっている。
幾つかの薄膜トランジスタを結線して所定の機能を奏する トランジス タ回路が構成される。 一般にトランジスタ回路は、 基板に形成された複 数の薄膜トランジスタと、 所定の動作を行なう様に各薄膜ト ランジスタ のゲート、 ソース又はドレインを接続する配線とで構成されている。 こ の様なトランジスタ回路の典型例として画素回路が挙げられる。 画素回 路は行状の走査線と列状の信号線とが交差する部分に各々形成されてお り、 全体としてアクティブマ ト リ クス表示装置を構成する。 画素回路は 走査線によって選択された時動作し、 信号線から映像信号をサンプリン グして、 有機 E L発光素子などの負荷素子を駆動する。 この様な薄膜ト ランジスタを能動素子とするアクティブマトリクス型の有機 E Lデイス プレイデバイスは、 例えば特開平 8 - 2 3 4 6 8 3号公報に開示されて いる。
上述したトランジスタ特性式から明らかな様に、 飽和領域においては 薄膜トランジスタはゲート電圧が閾電圧を超えた時オンしドレイン電流 が流れる一方、 ゲート電圧が閾電圧を下回るとカッ トオフする。 しかし ながら、 薄膜トランジスタの閾電圧 V t hは必ずしも一定ではなく経時 的に変動する。 この閾電圧の変動によりカッ トオフ動作に乱れが生じ、 トランジスタ回路の誤動作につながるという問題がある。 又、 上述のト ランジスタ特性式から明らかな様に、 ゲート電圧が一定であつても閾電 圧が変動すると ドレイン電流も変動してしまう。 発光素子を電流駆動す る画素回路の場合、 閾電圧の変動がドレイン電流の変動をも たらし、 ひ いては発光素子の輝度の劣化となって現われるという課題がある。 発明の開示
上述した従来の技術の課題に鑑み、 本発明は薄膜トランジスタの閾電 圧の変動を補正する機能を自ら備えたトランジスタ回路、 画素回路及び 表示装置とこれらの駆動方法を提供することを目的とする。 係る目的を 達成する為に以下の手段を講じた。 即ち、 基板に形成された複数の薄膜 トランジスタと、所定の動作を行なう様に各薄膜トランジスタのゲート、 ソース又はドレインを接続する配線とを含むトランジスタ回路であって、 動作中少く とも 1個配線を介してゲートとソースの間に反復的若しくは 持続的に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとともに、 該動作 の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲートとソース の間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の変動を抑 制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする。
好ましくは、 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジ スタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完 的に駆動して上記した動作の妨げとならないタイミングを作り出す補完 手段とを備え、 前記逆バイアス印加手段は、 該作り出されたタイミング で当該薄膜トランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする。 例 えば、 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパルスと 逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタのゲートに印加す る。 或いは、 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型で あり、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は Nチャネル 型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加され るパルスと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタに印加 する。 又本発明は、 行状の走査線と列状の走査線との各交差部に配され、 該 走査線によって選択された時該信号線から信号をサンプリングし且つサ ンプリングした信号に応じて負荷素子を駆動する画素回路であつ て、 基 板に形成された複数の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジスタ のゲー ト、 ソース又はドレインを接続する配線とからなり、 負荷素子の駆動中 少く とも 1個配線を介してゲートとソースの間に反復的若しくは持続的 に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとともに、 負荷素子の駆 動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲート とソー スの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の変動を 抑制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする。
好ましくは、 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜ト ランジ スタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完 的に動作して上記した負荷素子の駆動の妨げとならないタイミングを作 り出す補完手段とを備え、 前記逆バイアス印加手段は、 該作り出 された タイ ミ ングで当該薄膜トランジスタに逆バイアスを印加すること を特徴 とする。 例えば当該薄膜トランジスタは Nチヤネル型又は Pチヤネル型 であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル 型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加され るパルスと逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタ のゲー トに印加する。 或いは当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチヤ ネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は N チャネル型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに 印加されるパルスと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トラ ンジス タに印加する。
好ましくは、 前記複数の薄膜トランジスタは、 該走査線によっ て選択 された時導通し該信号線から信号をサンプリングして保持容量に保持す るサンプリング用薄膜トランジスタと、 該保持容量に保持された信号電 位に応じて該負荷素子に対する通電量を制御する ドライブ用薄膜トラン ジスタと、 該負荷素子に対する通電をオン/オフ制御するスィツチング 用薄膜トランジスタとを含み、 前記逆バイアス印加手段は、 該ドライブ 用薄膜トランジスタ及び該スィツチング用薄膜トランジスタの少く とも 一方に逆バイアスをかける。 又、 該ドライブ用薄膜トランジスタの閾電 圧の変動をキャンセルする様に、 該ドライブ用薄膜トランジスタのゲー トに印加される信号電位のレベルを調整する閾電圧キャンセル手段を含 む。 更に、 該負荷素子の特性変動を吸収する様に、 該ドライ ブ用薄膜ト ランジスタのゲ一トに印加される信号電位のレベルを自動的に制御する ブートス トラップ手段を含む。
又本発明は、 行状の走査線と、 列状の走査線と、 これらが交差する部 分に配された画素回路とからなる表示装置であって、 該画素回路は、 該 走査線によって選択された時該信号線から映像信号をサンプリ ングし且 つサンプリングした映像信号に応じて発光素子を駆動し、該画素回路は、 基板に形成された複数の薄膜トランジスタ と、 各薄膜トランジスタのゲ ート、 ソース又はドレインを接続する配線とからなり、 発光素子の駆動 中少く とも 1個配線を介してゲートとソースの間に反復的若しくは持続 的に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとともに、 発光素子の 駆動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲートとソ ースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の変動 を抑制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする。
好ましくは、 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジ スタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完 的に動作して該発光素子の駆動の妨げとならないタイミ ングを作り出す 補完手段とを備え、 前記逆バイアス印加手段は、 該作り出されたタイミ ングで当該薄膜トランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする。 例えば当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲ一トに印加されるパルスと 逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタのゲ一トに印加す る。 或いは当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であ り、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は Nチャネル型 であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加される パルスと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタに印加す る。
好ましくは、 前記複数の薄膜トランジスタは、 該走査線によって選択 された時導通し該信号線から映像信号をサンプリ ングして保持容量に保 持するサンプリング用薄膜トランジスタと、 該保持容量に保持された信 号電位に応じて該発光素子に対する通電量を制御する ドライブ用薄膜ト ランジスタと、 該発光素子に対する通電をオン/オフ制御するスィ ッチ ング用薄膜トランジスタとを含み、 前記逆バイアス印加手段は、 該ドラ ィブ用薄膜トランジスタ及び該スィツチング用薄膜トランジスタの少く とも一方に逆バイアスをかける。 又、 該ドライブ用薄膜トランジスタの 閾電圧の変動をキャンセルする様に、 該ドライブ用薄膜トランジスタの ゲートに印加される信号電位のレベルを調整する閾電圧キャンセル手段 を含む。 更に、 該負荷素子の特性変動を吸収する様に、 該ドライブ用薄 膜トランジスタのゲ一トに印加される信号電位のレベルを自動的に制御 するブートス トラップ手段を含む。
又本発明は、 基板に形成された複数の薄膜トラ ンジスタ と、 所定の動 作を行なう様に各薄膜トランジスタのゲー ト、 ソース又はドレインを接 続する配線とを含むトランジスタ回路の駆動方法であって、 動作中少く とも 1個の薄膜トランジスタに対し配線を介してゲートとソースの間に 反復的若しくは持続的に順バイアスをかける順パイ ァス印加手順と、 該 動作の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲートとソ ースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の変動 を抑制する逆バイアス印加手順とを行なうことを特徴とする。 更に、 当 該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタを、 当該薄膜 トランジスタに対して補完的に駆動して、 上記した動作の妨げとならな いタイミングを作り出す補完手順を含み、 前記逆バイアス印加手順は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜トランジスタ に逆バイアスを印加 する。
又本発明は、 行状の走査線と列状の走査線との备交差部に配され、 該 走査線によって選択された時該信号線から信号をサンプリ ングし且つサ ンプリングした信号に応じて負荷素子を駆動するだめに、 基板に形成さ れた複数の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジス タのゲート、 ソース 又はドレインを接続する配線とからなる画素回路の駆動方法であって、 負荷素子の駆動中少く とも 1個の薄膜トランジスタ に対して、 配線を介 しゲートとソースの間に反復的若しくは持続的に順バイアスをかける順 バイアス印加手順と、 負荷素子の駆動の妨げとならないタイ ミングで当 該薄膜トランジスタのゲートとソースの間に逆バイ ァスを印加して当該 薄膜トランジスタの閾電圧の変動を抑制する逆パイ ァス印加手順とを行 なうことを特徴とする。 更に、 当該薄膜トランジスタに並列接続した追 加薄膜トランジスタを、 当該薄膜トランジスタに对して補完的に動作し て、 上記した負荷素子の駆動の妨げとならないタイ ミングを作り出す補 完手順を含み、 前記逆バイアス印加手順は、 該作り 出されたタイミング で当該薄膜トランジスタに逆バイアスを印加する。
又本発明は、 行状の走査線と、 列状の走査線と、 これらが交差する部 分に配された画素回路とからなり、 該画素回路は、 該走査線によって選 択された時該信号線から映像信号をサンプリングし且つサンプリングし た映像信号に応じて発光素子を駆動し、 該画泰回路は、 基板に形成され た複数の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジスタのゲート、 ソース又 はドレインを接続する配線とからなる表示装置の駆動方法であって、 発 光素子の駆動中少く とも 1個の薄膜トランジスタに対して、 配線を介し てゲートとソースの間に反復的若しくは持続的に順バイアスをかける順 バイアス印加手順と、 発光素子の駆動の妨げとならないタイミングで当 該薄膜トランジスタのゲートとソースの間に逆バイアスを印加して当該 薄膜トランジスタの閾電圧の変動を抑制する逆バイアス印加手順とを行 なうことを特徴とする。 更に、 当該薄膜トランジスタに並列接続した追 加薄膜トランジスタを、 当該薄膜トランジスタに対して補完的に動作し て、 該発光素子の駆動の妨げとならないタイミングを作り出す補完手順 を含み、 前記逆バイアス印加手順は、 該作り出されたタイミングで当該 薄膜トランジスタに逆バイアスを印加する。 図面の簡単な説明
図 1 A乃至図 1 Cは、 本発明に係る トランジスタ回路の第一実施形態 を示す模式図である。
図 2は、 図 1 Aに示したトランジスタ回路の動作説明に供するタイミ ングチヤ一トである。
図 3は、 本発明に係る トランジスタ回路の第二実施形態を示す模式図 である。
図 4 A及び図 4 Bは、 本発明に係る トランジスタ回路の第三実施形態 を示す模式図である。
図 5は、 本発明に係るアクティブマトリクス表示装置及びこれに含ま れる画素回路の概要を示すブロック図である。
図 6は、 画素回路の参考例を示すブロック図である。
図 7は、 図 6に示した画素回路の動作説明に供するタイ ミングチヤ一 トである。
図 8 A及び図 8 Bは、 画素回路の別の参考例を示す模式図である。
' 図 9は、 本発明に係る画素回路の第一実施形態を示す回路図である。
図 1 0は、 図 9に示した画素回路の動作説明に供するダィミングチヤ ートである。
図 1 1は、 本発明に係る画素回路の第二実施形態を示す回路図である。 図 1 2は、 図 1 1に示した画素回路の動作説明に供するタイミングチ ヤートである。 発明を実施するための最良の形態
以下図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。 図 1 A乃 至図 1 Cは本発明に係る トランジスタ回路の第一実施形態を表わしてい る。 図 1 Aは構成を表わす回路図、 図 1 Bは動作を表わすタイミングチ ヤート、 図 1 Cは原理を表わすグラフである。 図 1 Aに承す様に、 本ト ランジスタ回路は、'基板に形成された 2個の薄膜トランジスタ T r 1, T r 2と、 ィンパータ動作を行なう様に各薄膜トランジスタ T r 1, T r 2のゲー ト、ソース又はドレインを接続する配線とで構成されている。 すなわち、 本トランジスタ回路は 2個の Nチャネル型トラ ンジスタ T r 1, T r 2を用いてインパータを構成したものである。 Nチャネル型の 薄膜トランジスタは非晶質シリコン膜を活性層として安俯に製作できる ので、 コス ト的に有利である。 尚インバータは単なる例示であって、 本 発明に係る トランジスタ回路は薄膜トランジスタで構成されていればよ く、 その機能や動作を問わない。 具体的な回路構成であるが、 T r 1のゲートには所定のゲート電圧 V 1が印加され、 ドレインは電源電圧 V c cの供給を受け、 ソースは出力
V o u tを供給する様になつている。 図示の例では出力端子に負荷容量 C Lが接続されている。 負荷容量 C Lの一端には出力 V o u tが印加さ れ、 他端は V s sに接地されている。 ゲート電圧 V 1は T r 1の閾電圧 と V c c との和よりも大きく設定されている為、 T r 1 は常時オン状態 にある。 T r 2のゲートには入力信号 V i nが印加され、 ソースは V s sに接地され、 ドレインは T r 1のソースと接続して出力ノードを構成 している。
図 1 Bに示す様に、 本トランジスタ回路はインバータ動作を行なって おり、 入力信号 V i nを反転して出力信号 V o u tを得る。 すなわち、
V i nがローレベル (L) の時、 V o u tはハイレベル (H) になり、
V i nが Hの時 V o u tは Lとなる。 T r 2に着目する と、 V i nが口 一レベルの時オフ状態となって、 出力ノードは接地電位 V s sから切り 離される。 この時 T r 1は常時オン状態となっているので出力ノー ドは V c cにブルアップされる。 この結果 V o u tはハイ レベル (V c c ) になる。 逆に V i nがハイレベルになると T r 2がオン して、 出力ノー ドが V s sに向かってプルダウンされる。 負荷容量 C L-から放電される 電流と T r 1から供給される電流の和が、 T r 2を流れる電流と釣り合 つた時 V o u t のローレベルが確定する。 通常 V o u t のローレべノレは
V s s よりも若干高くなつている。
以上の説明から明らかな様に、 V i nのローレベルは T r 2の閾電圧 より低ければよく、 通常は V s sに設定される。 一方、 V i nのハイレ ベルは T r 2の閾電圧より十分高ければよい。 しかしながら、 この通常 の設定では、 T r 2のゲートにハイ レベルの順バイアス が反復的に印加 されることとなり、 T r 2の閾電圧の上方変動をもたらす。 これを放置 すると V i nのハイレベルが上方変動した閾電圧を下回ってしまう恐れ があり、 誤動作の原因となる。 そこで本発明では V i nの口 レベルを V s sを下回る負電位として、 いわゆる逆バイアスが定期的に T r 2に 印加される様にしている。 この逆バイアスにより上方シフトした閾電圧 が下方修正され、 結果として T r 2の闘電圧変動を抑制できる。 すなわ ち第一実施形態では入力信号 V i nの供給源自体が逆バイアス印加手段 を構成しており、 インバータ動作の妨げとならないタイミング (図示の 例ではローレベルのタイミング) で薄膜トランジスタ T r 2のゲートと ソースの間に逆バイアスを印加して薄膜トランジスタ T r 2の閾電圧の 変動を抑制している。
図 1 Cは薄膜トランジスタ T r 2の閾電圧の変化を示すダラ フである。 横軸にソース電位を基準としたゲート電圧 V g sを取り、 縦軸に闘電圧 V t hを取ってある。反復的若しくは持続的に絶えず正のゲー 電圧(順 バイアス) が印加されると、 V t hは上方変動し、 極端になる と正常な オン Zオフ動作が行なえない。 逆に負のゲート電圧 (逆バイァス) を印 加し続けると、 V t hは下方変動する。 本発明はこの現象を利用してお り、 順バイアスの継続的な印加による闘電圧の上方シフ トを、 回路の動 作の支障とならないタイミングで逆バイアスを印加することに より下方 修正し、 以つて閾電圧の変動を抑制するものである。
図 2は、 図 1 Aに示したトランジスタ回路における入力信号 V i nと 出力信号 V o u tの他の実施例を示すタイミングチヤ一トであ る。 本実 施例では入力パルス V i nのデューティが 5 0 %からずれてお り、 ロー レベルの期間が短くハイレベルの期間が長くなっている。 この入力パル ス V i nを反転した出力パルス V o u tは、 逆にハイレベルの期間が短 く ローレベルの期間が長くなつている。 インバータが組み込まれる回路 プロックの動作状況によっては、 この様な入力信号 V i nが使われる状 況も有り得る。
本実施例においても、 トランジスタ T r 2のグートに順バイァスが印 加される合間を縫って逆バイアス (ローレベル) が印加されてい る。 し かしながら、 逆バイアス印加時間が短い為、 必ずしも十分な閾電压変動 抑制効果が得られない場合がある。 すなわち、 順バイアス (ハイ レベル) の継続的な変化による閾電圧の上方変動が激しい為、 逆バイアス による 下方修正効果が追いつかない場合もある。 しかしながら、 逆バイ アスを 加えない場合に比べ、 所定の閾電圧変動抑制効果が得られること は明ら かである。
図 3は、 本発明に係る トランジスタ回路の第二実施形態を示す模式図 である。 図 3 ( A ) は構成を表わす回路図であり、 図 3 ( B ) は動作を 表わすタイミングチャートである。 理解を容易にする為、 図 1 A及ぴ図 1 Bに示した第一実施形態と対応する部分には対応する参照番号を付し てある。 本実施形態は図 1 の実施形態を改良したものであり、 特に図 2 を参照して説明した様に、 十分な逆バイアス印加時間を確保でき ない場 合に対処することを目的とする。
図 3 ( A ) に示す様に、 対象となる トランジスタ T r 2 (当該 トラン ジスタ) と並列に追加の薄膜トランジスタ T r 3が接続されている。 当 該トランジスタ T r 2のゲートには入力信号 V i n 1が印加されている 前述した様に、 入力信号 V i n 1の信号源が同時に逆バイアス印力 Π手段 を構成している。 一方追加トランジスタ T r 3 のゲートには他の入力信 号 V i n 2が印加されている。 この入力信号 V i n 2の信号源は本実施 形態の特徴要素である補完手段を構成している。 すなわちこの補完手段 は、 追加トランジスタ T r 3を当該トランジスタ T r 2に対して補完的 に駆動して T r 2に関し動作の妨げとならないタイミングを強制的に作 り出している。 逆バイアス印加手段は、 この強制的に作り出されたタイ ミングで当該薄膜トランジスタ T r 2に逆バイアスを印加し、 T r 2の 閾電圧の変動を抑制している。
本実施形態では、 当該トランジスタ T r 2は Nチャネル型であり、 追 加トランジスタ T r 3も同じ Nチャネル型である。 この場合、 補完手段 は当該トランジスタ T r 2に印加される信号パルス V i n 1 と逆相の関 係になる信号パルス V i n 2を追加トランジスタ T r 3のゲートに印カロ する。 丁 2 と丁 3カ Pチャネル型の場合も、 V i n l と V i n 2は 互いに逆相の関係になる。 一方 T r 2と T r 3の片方が Nチャネル型で 他方が Pチャネル型の場合、 V i n 1 と V i n 2は同相の関係にする。 引続き図 3 ( B ) を参照して図 3 ( A ) に示したトランジスタ回路の 動作を説明する。 タイ ミング T 1では V i n 1がローレベルとなり V i n 2もローレベルとなる。 この時互いに並行接続したトランジスタ T r 2, T r 3は両方ともオフ状態になるので、 出力ノードは T r 1 〖こよつ て V c c側にブルアップされる。 この結果出力信号 V o u t はノヽィレべ ルとなる。 次のタイ ミング T 2では、 V i n 1がハイレベルに切り替わ る一方、 V i n 2はローレベルを維持する。互いに並行接続した T r 2, T r 3のうち片方の T r 2がオンするので、 出力ノードは V s s 側にプ ルダウンされる。 この結果 V o u t はローレベルに切り替わる。 次のタ イミング T 3では逆に V i n 1がローレベルに遷移する一方、 V i n 2 がハイレベルに遷移する。 これにより互いに並行接続したトランジスタ T r 2 , T r 3のうち片方の T r 3がオン状態になる為、 出力ノ ードは 引続き V s s側にプルダウンされる。 従って V o u t はローレベルを維 持する。これにより入出力信号の一周期が終了し、次の周期に移行する。
V i n 1 と V i n 2を比較すれば明らかな様に、 タイミング T 2, T 3で両者は互いに逆相の関係にある。特にタイ ミング T 3に着目すると、 T r 2がオフして非動作状態に置かれる一方、 これを補完する為に T r 3がオンして動作状態になる。 T r 2の代わりに T r 3がオン状態とな ることで、 出力ノードは引続き V s s側にプルダウンされ、 目的とする 出力信号 V o u t を得ることができる。 T r 3の補完機能により、 T r 2に関し動作の妨げとならないタイミング T 3が作り出されている。 V i n 1 の信号源である逆バイアス印加手段は、 この作り出されたタイミ ング T 3で当該トランジスタ T r 2に逆バイアスを印加している。 タイ ミングチヤ一トから明らかな様に、 順バイアスの印加される期間 T 2と 逆バイアスが印加される期間 T 1 + T 3はほぼバランスが取れており、 閾電圧の上方変動を過不足なく下方修正することが可能になる。
図 4 A及び図 4 Bはトランジスタ回路の第三実施形態を示しており、 図 3に示した第二実施形態の改良例である。 図 4 Aは本実施形態の構成 を示す回路図であり、 図 4 Bは動作を示すタイミングチャートである。 ィンバータ回路を両方とも Nチャネル型のトランジスタ T r l, T r 2で構成した場合、 T r 1は常に動作状態に置かれる。 換言すると T r 1は常時順バイアスが印加された状態にあり、 閾電圧は経時的に上方シ フトする。 この上方シフトが極端に進行すると、 正常な動作を妨げる場 合がある。 そこで本実施形態は、 T r 1に対しても補完用のトランジス タ T r 4を並行接続している。
図 4 Bに示す様に、 タイミング T 1及び T 2では、 T r 1に対するゲ ート電圧 V 1がハイ レベルにある一方、 T r 4に対するゲート電圧 V 2 がローレベルにある。 逆にタイミ ング T 3及ぴ T 4では、 V 1がローレ ベルに切り替わる一方、 V 2がハイレベルになる。 これにより、 トラン ジスタ T r 1及び T r 4は互いに補完的に動作し、 T r 1 と T r 4の組 からなるスィッチは全体として常にオン状態に維持される。 その際、 一 方のゲート電圧 V 1はタイミング T 3, T 4でローレベルとなり閾電圧 修正用の逆バイアスを印加することが可能である。 一方 V 2はタイミン グ T 1及ぴ Τ 2でローレベルとなる為、 同様にトランジスタ T r 4に对 し閾電圧変動抑制用の逆バイアスを印加することができる。
図 5は、 本発明に係る トランジスタ回路の応用例であるアクティブマ トリタス表示装置及ぴこれに含まれる画素回路を示す概略のプロック図 である。 図示する様に、 アクティブマトリクス表示装置は主要部となる 画素アレイ 1 と周辺の回路群とで構成されている。 周辺の回路群は水 セレクタ 2、ドライブスキャナ 3、ライ トスキャナ 4などを含んでいる。 画素アレイ 1は行状の走査線 W Sと列状の信号線 D Lと両者の交差す る部分にマトリタス状に配列した画素回路 5 とで構成されている。 信号 線 D Lは水平セレクタ 2によって駆動される。 走査線 W Sはライ トスキ ャナ 4によって走査される。 尚、 走査線 W Sと平行に別の走査線 D S 配線されており、 これはドライブスキャナ 3によって走査される。 各面 素回路 5は、 走査線 W Sによって選択された時信号線 D Lから信号をナ ンプリングする。 更に走査線 D Sによって選択された時、 該サンプリ ン グされた信号に応じて負荷素子を駆動する。 この負荷素子は各画素回路 5に形成された電流駆動型の発光素子などである。
図 6は、図 5に示した画素回路 5の基本的な構成を示す参考図である。 本画素回路 5は、 サンプリ ング用薄膜トランジスタ (サンプリ ングトヲ ンジスタ T r 1 ) 、 ドライブ用薄膜トランジスタ (ドライブトランジス タ T r 2 ) 、 スイッチング用薄膜トランジスタ (スイッチングトランジ スタ T r 3 ) 、 保持容量 C 1、 負荷素子 (有機 E L発光素子) などで構 成されている。
サンプリングトランジスタ T r 1は走査線 W Sによって選択された時 導通し、 信号線 D Lから映像信号をサンプリングして保持容量 C 1に保 持する。 ドライブトランジスタ T r 2は保持容量 C 1に保持された信 電位に応じて発光素子 E Lに対する通電量を制御する。 スイッチング卜 ランジスタ T r 3は走査線 D Sによって制御され、 発光素子 E Lに対す る通電をオン _ オフする。 すなわち、 ドライブトランジスタ T r 2は通 電量に応じて発光素子 E Lの発光輝度 (明るさ) を制御する一方、 スィ ツチングトランジスタ T r 3は発光素子 E Lの発光時間を制御している。 これらの制御により、 各画素回路 5に含まれる発光素子 E Lは映像信号 に応じた輝度を呈し、 画素アレイ 1に所望の表示が映し出される。
図 7は、 図 6に示した画素ァレイ 1及び画素回路 5の動作説明に供す るタイミングチャートである。 1フィールド期間 ( 1 f ) の先頭で、 1 水平期間 ( 1 H) の間 1行目の画素回路 5に走査線 WSを介して選択パ ルス w s [ 1 ] が印加され、 サンプリングトランジスタ T r 1が導通す る。 これにより信号線 D Lから映像信号がサンプリングされ、 保持容量 C 1に書き込まれる。 保持容量 C 1の一端はドライブトランジスタ T r 2のゲートに接続している。 従って、 映像信号が保持容量 C 1に書き込 まれると、 ドライブトランジスタ T r 2のゲート電位が、 書き込まれた 信号電位に応じて上昇する。 この時、 他の走査線 D Sを介してスィッチ ングトランジスタ T r 3に選択パルス d s [ 1 ] が印加される。 この間 発光素子 E Lは発光を続ける。 1フィールド期間 1 f の後半は d s [ 1 ] がローレベルになるので発光素子 E Lは非発光状態となる。 パルス d s [ 1 ] のデューティを調整することで、 発光期間と非発光期間の割合を 調整でき、 所望の画面輝度が得られる。 次の水平期間に移行すると、 2 行目の画素回路に対し、 各走査線 WS, D Sからそれぞれ走查用の信号 パルス w s [ 2] , d s [ 2 ] が印加される。
ここで図 6に戻り参考例として示した画素回路 5の問題点につき説明 する。 参考例の画素回路 5は、 T r l〜T r 3が全て Nチャネル型の薄 膜トランジスタで構成されており、 コス ト的に有利な非晶質シリ コン膜 を活性層に使えるという利点がある。 しかしながら、 ドライブトランジ スタ T r 2の ドレインが電源電圧 V c c に接続される一方、 ソースがス イッチングトランジスタ T r 3を介して発光素子 E Lのァノードに接続 されており、 いわゆるソースフォロワとなっていることで問題がある。 トランジスタ T r 2のゲートには保持容量 C 1に保持された信号電圧が 印加されており、 基本的には一定に維持されている。 しかしながら、 ソ ース電位は発光素子 E Lの電流/電圧特性の経時的な変化に伴い変動す る。 一般には発光素子 E Lの経時劣化に伴いァノード電位は上昇しその 結果ソース電位も上昇する。 ドライブトランジスタ T r 2は飽和領域で 動作しており、 前述したトランジスタ特性式で示す様に、 ドレイン電流 I d sはソース電位を基準にしたゲート電位 V g sに依存している。 ゲ 一ト電圧自体は一定に保たれているにも関わらず、 T r 2はソースフォ ロワとして動作するのでソース電位が発光素子 E Lの特性劣化に伴い変 動し、 これに応じて V g s も変化する。 従ってドレイ ン電流 I d sが変 動し発光素子 E Lの輝度劣化につながるという問題がある。
更にドライブトランジスタ T r 2はそれ自身閾電圧 V t hの経時変動 がある。 前述のトランジスタ特性式から明らかな様に、 飽和領域で動作 する場合仮に V g sを一定に保っても、 閾電圧 V t hが変動すると、 ド レイン電流 I D Sも変化してしまい、 これに伴って発光素子 E Lの輝度 も変動してしまう。 特に、 非晶質シリ コン薄膜を活性層 (チャネル領域) とする薄膜トランジスタは閾電圧の経時的な変動が目立つ為、 これに対 処しないと発光素子の輝度を正確に制御することはできない。
図 8 A及ぴ図 8 Bは図 6に示した画素回路に改良を加えた別の参考例 に係る画素回路を表わしている。 図 8 Aは構成を表わした回路図、 図 8 Bは動作を表わしたタイミ、ノグチヤートである。
図 8 Aに示す様にこの改良例は、 図 6 の画素回路に、 ブートス トラッ プ回路 6 と閾電圧キャンセル回路 7を加えた構成となっている。 ブート ス トラップ回路 6は発光素子 E Lの特性変動を吸収する様に、 ドライブ トランジスタ T r 2のゲート (G) に印加される信号電位のレベルを自 動的に制御するものであり、 スィツチングトランジスタ T r 4を含んで いる。 このスイッチングトランジスタ T r 4のゲートには走査線 WSが 接続し、 ソースは電源電位 V s sに接続し、 ドレイ ンは保持容量 C 1の —端に接続すると ともにドライブトランジスタ T r 2のソース (S) に 接続している。 走査線 WSに選択パルスが印加されると、 サンプリング トランジスタ T r lがオンするとともにスイッチングトランジスタ T r 4もオンする。 これにより、 結合容量 C 2を介して保持容量 C 1に映像 信号 V s i gが書き込まれる。 この後走査線 WSから選択パルスが解除 されるとスイッチングトランジスタ T r 4がオフする為、 保持容量 C 1 は電源電位 V s sから切り離され、 ドライブトランジスタ T r 2のソー ス (S) に結合される。 この後走査線 D Sに選択パルスが印加されると スィツチングトランジスタ T r 3がオンしドライブトランジスタ T r 2 を通って駆動電流が発光素子 E Lに供給される。 発光素子 E Lは発光を 開始するとともにその電流 Z電圧特性に応じァノード電位が上昇しドラ イブトランジスタ T r 2のソース電位の上昇をもたらす。 この時保持容 量 C 1は V s sから切り離されている為ソース電位の上昇とと'もに保持 された信号電位も上昇 (ブートス トラップ) し、 ドライブトランジスタ T r 2のゲート (G) の電位上昇をもたらす。 すなわち、 発光素子 E L の特性変動があっても、 ドライブトランジスタ T r 2のゲート電圧 V g sは常に保持容量 C 1に保持された正味の信号電位と一致する様になつ ている。 この様なブートス トラップ動作により、 発光素子 E Lの特性変 動があっても、 常にドライブトランジスタ T r 2の ドレイン電流は保持 容量 C 1に保持された信号電位によって一定に保たれ、 発光素子 Eしの 輝度の変化が生じない。 この様なブートス トラップ手段 6を追加するこ とで、 ドライブトランジスタ T r 2は発光素子 E Lに fcf し正確な定電流 源として機能できる。
閾電圧キャンセル回路 7はドライブトランジスタ T r 2の閾電圧の変 動をキャンセルする様にドライブトランジスタ T r 2のゲート ( G ) に 印加される信号電位のレベルを調節するものであり、 スイッチングトラ ンジスタ T r 5 , T r 6を含んでいる。 スイッチングトランジスタ T r 5のゲートは別の走査線 A Zに接続され、 ドレイン Zソースはドライブ トランジスタ T r 2のゲートと ドレインとの間に接続されている。 スィ ツチングトランジスタ T r 6のゲートは同じく走査線 A Zに接続され、 ソースは所定のオフセッ ト電圧 V o f sに接続され、 "Fレインは結合容 量 C 2の一方の電極に接続されている。 尚、 図示の例ではオフセッ ト電 圧 V o f s、 電源電位 V s s、 カソード電圧 (G N D ) はそれぞれ異な つた電位を取り得るが、 場合により全て共通の電位 (例えば G N D ) に 合わせてもよい。
走査線 A Zに制御パルスが印加されるとスィ ツチングトランジスタ T r 5が導通し、 V c c側から ドライブトランジスタ T r 2のゲー トに向 かって電流が流れる為、 ゲート (G ) 電位が上昇する。 これにより ドラ イブトランジスタ T r 2にドレイン電流が流れ出し、 ソース ( S ) の電 位が上昇する。 ちょ う どゲート電位 (G ) とソース電位 (S ) の電位差 V g sがドライブトランジスタ r 2の閾電圧 V t hと一致したところ で、前述のトランジスタ特性式に従って、ドレイン電流 流れなく なる。 この時のソース Zゲート間電圧 V g sがトランジスタ了 r 2の閾電圧 V t hと して保持容量 C 1に書き込まれる。 この保持容量 C 1に書き込ま れた V t hは信号電位 V s i gに上載せしてドライブ ランジスタ T r 2のゲートに印加されるので、閾電圧 V t hの効果は ャンセルされる。 従ってドライブトランジスタ T r 2の閾電圧 V t hが錢時的に変動して も、閾電圧キヤンセル回路 7はこの変動をキャンセルすることができる。 図 8 Bは各走査線 W S, D S, A Zに印加される走查パルス波形と ド ライブトランジスタ T r 2のゲート (G ) 及びソース (S ) の電位波形 を表わすタイミングチャー トである。 図示する様に V t hキャンセル期 間に入ると走査線 A Zにパルスが印加され、 スイッチングトランジスタ T r 5が導通して、 T r 2のゲート電位が上昇する。 その後走査線 D S のパルスが立ち下がる為電源 V c c側からの電流供給が断たれる。 これ によりゲート電位とソース電位の差が縮小しちょう ど V t hとなったと ころで電流が 0になる。 この結果、 V t hが T r 2のゲー ト/ソース間 に接続された保持容量 C 1に書き込まれる。 次に走査線 W Sに選択パル スが印加されるとサンプリングトランジスタ T r lがオンし、 結合容量 C 2を介して保持容量 C 1に信号 V s i gが書き込まれる。これにより、 ドライブトランジスタ T r 2のゲートに入力される信号 V i nは先に書 き込まれた V t hと所定のゲインで保持された V s i gの和となる。 更 に走査線 D Sにパルスが印加され、 スイ ッチング トランジスタ T r 3が オンする。 これにより ドライブトランジスタ T r 2が入力ゲート信号 V i nに応じてドレイン電流を発光素子 E Lに供給し、 発光が開始する。 これにより発光素子 E Lのァノード電位が Δ Vだけ上昇するが、 ブート ス トラップ効果によりこの A Vがドライブトランジスタ T r 2に対する 入力信号 V i nに上載せされる。 以上の閾電圧キャンセル機能及びブー トス トラップ機能により、 ドライブトランジスタ T r 2の閾電圧変動や 発光素子 E Lの特性変動があっても、 これらをキャンセルして発光輝度 を一定に保つことが可能である。
ところでドライブトランジスタ T r 2のゲートには 1フィールド期間 I f を通してソースよ りも高い電圧が印加されており、 常時順バイアス がかかった状態となっている。 ゲートに対する順バイアスの継続的な印 加により、ドライブトランジスタ T r 2の閾電圧 V t hは上方変動する。 この変動は閾電圧キャンセル回路 7によりキャンセル可能であるが、 変 動が程度を超えるとキャンセル機能が追いつかず発光素子 E Lの輝度変 化をもたらす恐れがある。 又スイッチングトランジスタ T r 3は発光期 間中オン状態となり順バイアスがかかっている。 これによりスィッチン グトランジスタ T r 3の閾電圧は上方変動し、 最悪の場合にはスィツチ ングトランジスタ T r 3が常時カッ トォフ状態に陥ることも有り得る。 図 9は本発明に係る画素回路の一実施形態を示しており、 図 8 Aの画 素回路の問題点に対処する為、 ドライブトランジスタ T r 2及ぴスィッ チングトランジスタ T r 3にそれぞれ闘電圧変動抑制用の逆バイアス印 加手段を付けたものである。
ドライブトランジスタ T r 2に対する逆バイアス印加手段は、 スィッ チングトランジスタ T r 7で構成されている。 T r 7のゲートには追加 の走査線 W S 2が接続し、 ソースには負電源 V m bが接続し、 ドレイン はドライブトランジスタ T r 2のゲート (G ) に接続している。 この走 査線 W S 2はサンプリングトランジスタ T r 1やスイッチングトランジ スタ T r 4に接続する走査線 W S 1 と走査タイミングが異なる為、 両者 を別々に分けて、 W S 1 と W S 2にしている。 ここで負電源 V m bの電 位は接地電位 G N Dよりも低く設定されている。 従って画素回路の動作 に影響を与えないタイミングで W S 2に選択パルスが印加されると、 T r 7がオンしドライブトランジスタ T r 2のゲー ト ( G ) に逆バイアス ( V m b ) を印加することができる。 これにより順バイアスの継続的な 印加で上方シフ トしたトランジスタ T r 2の閾電圧 V t hを下方修正す ることができる。
スイッチングトランジスタ T r 3に対する逆バイアス印加手段は、 走 查線 D S 1に接続したドライブスキャナ 3 (図 5参照) に組み込まれて いる。 発光期間ではスィツチングトランジスタ T r 3のゲートに走査線 D S 1を介して順バイアスが印加され、 ドレイン電流が V c cから G N Dに向かって流れる。 非発光期間に入ると走査線 D S 1の電位が G N D 以下となり、 スイ ッチング トランジスタ T r 3に逆バイァスが印加され る。 これにより T r 3の閾電圧の上方変動を下方修正できる。
図 1 0は、 図 9に示した画素回路の動作説明に供するタイミングチヤ ートである。 走査線 W S 1に印加されるパルスを w s 1で表わし、 走査 線 W S 2に印加されるパルスを w s 2で表わし、 走査線 A Zに印加され るパルスを a zで表わし、 走査線 D S 1に印加されるパルスを d s 1で 表わしている。 更に、 ドライブトランジスタ T r 2のゲート電位(G ) 、 ドレイン電位 (D ) 及びソース電位 (S ) の変動をパルス d s 1 のレべ ル変化と重ねて表わしてある。 尚、 ドライブトランジスタ T r 2のドレ ィン電位 (D ) は同時にスイ ッチング トランジスタ T r 3のソース電位 となっている。
V t hキヤンセル期間ではパルス a z力 Sトランジスタ T r 5及ぴ T r 6に印加され、 ドライブトランジスタ T r 2の闘電圧 V t hが検知され る。この検知された V t hは T r 2のゲート電位(G ) とソース電位(S ) との間の差として保持容量 C 1に保持される。 次にパルス w s 1がサン プリングトランジスタ T r 1及ぴスィツチングトランジスタ T r 4に印 加されると、 映像信号 V s i gがサンプリングされ、 結合容量 C 2を介 して保持容量 C 1に書き込まれる。 保持容量 C 1に書き込まれた V t h 及び V s i gの和が、 T r 2のゲート電位 ( G ) とソース電位 ( S ) の 差としてタイミングチャートに表われている。 更に発光期間に入ってス イッチングトランジスタ T r 3にパルス d s 1が印加されると、 ドライ ブトランジスタ T r 2を通してドレイン電流が発光素子 E Lに流れる。 これによりソース電位 (S ) が上昇するが、 ブートス トラップ機能によ りゲート電位 (G) との電位差は一定に保たれる。 ソース電位 (S) の 上昇に伴ってドレイン電位 (D) も上昇する。 このドレイン電位 (D) はスィツチングトランジスタ T r 3のソース電位となっているが、 パル ス D S 1の振幅はこのドレイン電位 (D) よりも十分高く設定されてい るので、 トランジスタ T r 3のオン動作に必要な順バイアス V aが印加 できる。 その後非発光期間に入るとパルス D S 1がローレベルに切り替 わり、 トランジスタ T r 3はカッ トオフする。 ドレイン電流の遮断によ り ドライブトランジスタ T r 2のドレイン電位 (D) は V c c側から G NDまで下がる。 この時パルス D S 1のローレベルは GNDよりも低く 設定されている為、 スイッチングトランジスタ T r 3のグートには逆バ ィァス V bが印加される。 又非発光期間にはトランジスタ T r 7のゲー トにパルス w s 2が印加される。 これにより T r 7が導通し逆バイァス V m bがドライブトランジスタ T r 2のゲート (G) に印加される。 以上の説明から明らかな様に、 ドライブトランジスタ T r 2及ぴスィ ツチングトランジスタ T r 3にそれぞれ適切なタイミングで逆バイアス が印加される為、それぞれの閾電圧の変動を抑制できる。しかしながら、 スイッチングトランジスタ T r 3については若干改善すべき余地がある ので、 この点につき説明を加える。 トランジスタ T r 3の動作点を考え る場合、 パルス d s 1の電圧レベルと ドライブトランジスタのドレイン 電圧 (D) を考えればよいことは上述の通りである。 発光期間中スイツ チングトランジスタ T r 3はオンしているので、 パルス d s 1の H電位 はドレイン電位 (D) よりも T r 3の V t h以上高くなっており、 V a 電圧がかかっている。 つまり発光期間ではトランジスタ T r 3のゲート /ソース間に順バイアスがかかる。 この後非発光期間になるとパルス D S 1の Lレベルが GND以下となるので逆バイアスが印加される。 この 逆バイアス期間では、 ドレイン電位 (D) がリークなどの原因でカソー ド電位 (G N D ) 若しくはその付近まで低下してしまう。 この期間トラ ンジスタ T r 3はオフ状態である為、 結局トランジスタ T r 3のゲート /ソース間には V bだけ逆バイアスがかかる。 よってトランジスタ T r 3には順バイアス及ぴ逆バイアスの両者がかかる為、 T r 3の V t h変 動はある程度防ぐことができる。 しかしながら、 1フィールド期間 ( 1 f ) に占める発光時間を長くすると非発光時間は圧迫を受け短くなる。 よって逆バイアス印加時間も短くなるが、 その分閾電圧の下方修正を効 果的に行なう必要があり、 V b の絶対値を大きく設定する必要がある。 しかしながら、 V b の絶対値を大きくするとパルス d s 1 の振幅が増え、 コス ト増につながる。 又トランジスタ T r 3の耐圧にも大きく影響して しまい、 コス トのみならず歩留りにも影響がある。
図 1 1は、 図 9に示した画素回路を更に改良した実施形態を表わして おり、 理解を容易にする為図 9 の画素回路と対応する部分には対応する 参照番号を付してある。 改良点は、 問題となったトランジスタ T r 3と 並列に追加のトランジスタ T r 8を接続するとともに、 そのグートに走 查線 D S 2を介して補完手段を接続したことである。 この補完手段は追 カロトランジスタ T r 8をスイッチングトランジスタ T r 3に対して補完 的に駆動して、 T r 3に関し動作の妨げとならないタイミングを作り出 している。 走査線 D S 1を介してスイッチングトランジスタ T r 3に接 続した逆バイアス印加手段は、 この作り出されたタイミングでトランジ スタ T r 3に逆パイァスを印加する様にしている。
図 1 2は、 図 1 1に示した画素回路の動作説明に供するタイミングチ ヤートである。 理解を容易にする為図 1 0に示した先の実施形態のタイ ミングチヤ一トと対応する部分には対応する参照符号を使っている。 特 徴点は、 スィツチングトランジスタ T r 3のゲートに印加されるパルス D S 1 と追加トランジスタ T r 8のゲートに印加されるパルス D S 2が 互いに逆相の関係にあることである。 発光期間中スィツチングトランジ スタ T r 3のゲートには順バイアス V aが印加される。 これは図 9の実 施形態と同様である。 次に非発光期間に入るとパルス D S 1が G N Dを 下回ってローレベルとなり、 スイッチングトランジスタ T r 3がオフに なる。この時トランジスタ T r 8が補完的に動作してオン状態となる為、 ドライブトランジスタ T r 2には引続き電源 V c c側から電流が供給さ れる。 従ってドライブトランジスタ T r 2の ドレイン電位 ( D ) は力ソ ード電位 (G N D ) まで落ちず、 電源電位 V c c若しく はその近辺の電 位を取ることができる。この為非発光期間に含まれる逆バイアス期間中、 スイ ッチングトランジスタ T r 3のゲート ソース間電圧は絶対値で V c c + V b となり、 非常に大きな逆バイアスを印加することができる。 これにより、 スィツチングトランジスタ T r 3に大振幅のパルス D S 1 を印加しなくても、 閾電圧の上方変動を効果的に下方修正することが可 能である。 この様に、 非晶質シリ コン薄膜トランジスタや多結晶シリ コ ン薄膜トランジスタの閾電圧が変動しても画素回路で補正をかけること ができる為、 発光素子 E Lの輝度劣化を防ぐことができ、 高品質なァク ティブマ トリ タス型ディスプレイを提供できる。 特に発光のオンオフ制 御を行なう トランジスタのゲ一トに印加されるパルスの振幅を大きくす る必要がない為、 ドライバの低コス ト化が実現できる。 そして ドライブ トランジスタの V t h変動を補正しながら、 スイッチングトランジ スタの V t h変動も容易に補正できる。 産業上の利用可能性
薄膜トランジスタは、 正のゲート電圧 (順バイアス) が反復的若しく は持続的に印加されると、 閾電圧が正方向にシフ トする傾向がある。 逆 に負のゲート電圧 (逆バイアス) が反復的若しくは持続的に印加される と、 閾電圧は負方向に変動する傾向がある。 トランジスタ回路の機能や 動作条件によっては、 回路配線を介してゲートとソースの間に反復的若 しくは持続的に順バイアスが係る薄膜トランジスタが含まれることがあ る。 当該薄膜トランジスタはこの様な順バイアスにより閾電圧が経時的 にシフ トする。 これを放置すると当該トランジスタのカッ トオフ動作の 乱れなどにより、トランジスタ回路の誤動作を招く恐れがある。そこで、 本発明では、 トランジスタ回路の動作上若しくは機能上、 反復的若しく は持続的に順バイアスの印加が避けられない薄膜トランジスタについて は、 動作の妨げとならないタイミングで逆バイアスを印加している。 こ れにより、 順バイアスで正方向にシフ トした閾電圧を負方向に戻すこと ができ、 結果的に閾電圧の変動を抑制できる。
場合によっては順バイアスの印加がほとんど継続的に行なわれる様な 薄膜トランジスタでは、 逆バイアスを印加する為に十分なタイミ ングを 取れない場合がある。 この様な薄膜トランジスタに対しては、 追加薄膜 トランジスタを並列接続し、 当該薄膜トランジスタに対して追加トラン ジスタを補完的に駆動することで、 逆バイアスを印加するタイミングを 強制的に作り出す様にしている。 これにより、 継続的な順バイアスの印 加で閾電圧の上方シフトが避けられない薄膜トランジスタについても、 補完用の追加薄膜トランジスタを並列接続することで、 強制的に閾電圧 を下方修正することができる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 基板に形成された複数の薄膜トランジスタと、 所定の動作を行な う様に各薄膜トランジスタのゲー ト、 ソース又はドレインを接続する配 線とを含むトランジスタ回路であって、
動作中少く とも 1個配線を介してゲートとソースの間に反復的若しく は持続的に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとともに、
該動作の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲート とソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の 変動を抑制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする トランジ スタ回路。
2 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完的に駆動 して上記した動作の妨げとならないタイミングを作り出す補完手段とを 備え、
前記逆バイアス印加手段は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 1記載のト ランジスタ回路。
3 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパルスと 逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタのゲ一トに印加す ることを特徴とする請求項 2記載のトランジスタ回路。
4 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は Nチャネル型であ り、 前記捕完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパル スと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタに印加するこ とを特徴とする請求項 2記載のトランジスタ回路。
5 . 行状の走査線と列状の走査線との各交差部に配され、 該走査線に よって選択された時該信号線から信号をサンプリングし且つサンプリン グした信号に応じて負荷素子を駆動する画素回路であって、
基板に形成された複数の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジスタの ゲート、 ソース又はドレインを接続する配線とからなり、
負荷素子の駆動中少く とも 1個配線を介してゲートとソースの間に反 復的若しくは持続的に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとと もに、
負荷素子の駆動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタ のゲートとソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの 閾電圧の変動を抑制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする 画素回路。
6 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完的に動作 して上記した負荷素子の駆動の妨げとならないタイミングを作り出す補 完手段とを備え、
前記逆バイアス印加手段は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 5記載の画 素回路。
7 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記捕完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパルスと 逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタのゲ一トに印加す ることを特徴とする請求項 6記載の画素回路。
8 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は Nチャネル型であ り、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパル スと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタに印加するこ とを特徴とする請求項 6記載の画素回路。
9 . 前記複数の薄膜トランジスタは、 該走査線によって選択された時 導通し該信号線から信号をサンプリングして保持容量に保持するサンプ リング用薄膜トランジスタと、 該保持容量に保持された信号電位に応じ て該負荷素子に対する通電量を制御する ドライブ用薄膜トランジスタと、 該負荷素子に対する通電をオン/オフ制御するスィツチング用薄膜トラ ンジスタとを含み、 前記逆バイアス印加手段は、 該ドライブ用薄膜トラ ンジスタ及ぴ該スィツチング用薄膜トランジスタの少く とも一方に逆バ ィァスをかけることを特徴とする請求項 5記載の画素回路。
1 0 . 該ドライブ用薄膜トランジスタの閾電圧の変動をキャンセルす る様に、 該ドライブ用薄膜トランジスタのゲートに印加される信号電位 のレベルを調整する閾電圧キャンセル手段を含むことを特徴とする請求 項 9記載の画素回路。
1 1 . 該負荷素子の特性変動を吸収する.様に、 該ドライブ用薄膜トラ ンジスタのゲ一トに印加される信号電位のレベルを自動的に制御するブ 一トストラップ手段を含むことを特徴とする請求項 9記載の画素回路。
1 2 . 行状の走査線と、 列状の走査線と、 これらが交差する部分に配 された画素回路とからなる表示装置であって、
該画素回路は、 該走査線によって選択された時該信号線から映像信号 をサンプリングし且つサンプリングした映像信号に応じて発光素子を駆 動し、
該画素回路は、 基板に形成された複数の薄膜トランジスタと、 各薄膜 トランジスタのゲート、ソース又はドレインを接続する配線とからなり、 発光素子の駆動中少く とも 1個配線を介してグートとソースの間に反 復的若しくは持続的に順バイアスがかかる薄膜トランジスタを含むとと もに、
発光素子の駆動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタ のゲートとソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの 閾電圧の変動を抑制する逆バイアス印加手段を備えたことを特徴とする 表示装置。
1 3 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタと、 該追加薄膜トランジスタを当該薄膜トランジスタに対して補完的に動作 して該発光素子の駆動の妨げとならないタイミングを作り出す補完手段 とを備え、
前記逆バイアス印加手段は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 1 2記載の 表示装置。
1 4 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタも同じ Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパルスと 逆相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタのゲートに印加す ることを特徴とする請求項 1 3記載の表示装置。
1 5 . 当該薄膜トランジスタは Nチャネル型又は Pチャネル型であり、 前記追加薄膜トランジスタは反対の Pチャネル型又は Nチャネル型であ り、 前記補完手段は、 当該薄膜トランジスタのゲートに印加されるパル スと同相の関係になるパルスを前記追加薄膜トランジスタに印加するこ とを特徴とする請求項 1 3記載の表示装置。
1 6 . 前記複数の薄膜トランジスタは、 該走査線によって選択された 時導通し該信号線から映像信号をサンプリングして保持容量に保持する サンプリング用薄膜トランジスタと、 該保持容量に保持された信号電位 に応じて該発光素子に対する通電量を制御する ドライブ用薄膜トランジ スタと、 該発光素子に対する通電をオン/オフ制御するスィツチング用 薄膜トランジスタ とを含み、 前記逆バイアス印加手段は、 該ドライブ用 薄膜トランジスタ及ぴ該スィツチング用薄膜トランジスタの少く とも一 方に逆バイアスをかけることを特徴とする請求項 1 2記載の表示装置。
1 7 . 該ドライブ用薄膜トランジスタの閾電圧の変動をキャンセルす る様に、 該ドライブ用薄膜トランジスタのゲ一トに印加される信号電位 のレベルを調整する閾電圧キャンセル手段を含むことを特徴とする請求 項 1 6記載の表示装置。
1 8 . 該負荷素子の特性変動を吸収する様に、 該ドライブ用薄膜トラ ンジスタのゲ一トに印加される信号電位のレベルを自動的に制御するプ 一トス トラップ手段を含むことを特徴とする請求項 1 6記載の表示装置。
1 9 . 基板に形成された複数の薄膜トランジスタと、 所定の動作を行 なう様に各薄膜トランジスタのゲ一ト、 ソース又はドレインを接続する 配線とを含むトランジスタ回路の駆動方法であって、
動作中少く とも 1個の薄膜トランジスタに対し配線を介してゲートと ソースの間に反復的若しくは持続的に順バイアスをかける順バイアス印 加手順と、
該動作の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタのゲート とソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの閾電圧の 変動を抑制する逆バイアス印加手順とを行なうことを特徴とする トラン ジスタ回路の駆動方法。
2 0 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタを、 当該薄膜トランジスタに対して補完的に駆動して、 上記した動作の妨げ とならないタイミングを作り出す補完手順を含み、
前記逆バイアス印加手順は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 1 9記載の トランジスタ回路の駆動方法。
2 1 . 行状の走査線と列状の走査線との各交差部に配され、 該走査線 によって選択された時該信号線から信号をサンプリングし且つサンプリ ングした信号に応じて負荷素子を駆動するために、 基板に形成された複 数の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジスタのゲート、 ソース又はド レインを接続する配線とからなる画素回路の駆動方法であって、
負荷素子の駆動中少く とも 1個の薄膜トランジスタに対して、 配線を 介しゲートとソースの間に反復的若しぐは持続的に順バイアスをかける 順バイアス印加手順と、
負荷素子の駆動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタ のゲートとソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの 閾電圧の変動を抑制する逆バイアス印加手順とを行なうことを特徴とす る画素回路の駆動方法。
2 2 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタを、 当該薄膜トランジスタに対して補完的に動作して、 上記した負荷素子の 駆動の妨げとならないタイミングを作り出す補完手順を含み、
前記逆バイアス印加手順は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 2 1記載の 画素回路の駆動方法。
2 3 . 行状の走査線と、 列状の走査線と、 これらが交差する部分に配 された画素回路とからなり、 該画素回路は、 該走査線によって選択され た時該信号線から映像信号をサンプリングし且つサンプリングした映像 信号に応じて発光素子を駆動し、 該画素回路は、 基板に形成された複数 の薄膜トランジスタと、 各薄膜トランジスタのゲー ト、 ソース又はドレ ィンを接続する配線とからなる表示装置の駆動方法であって、
発光素子の駆動中少く とも 1個の薄膜トランジスタに対して、 配線を 介してゲートとソースの間に反復的若しくは持続的に順バイアスをかけ る順バイアス印加手順と、
発光素子の駆動の妨げとならないタイミングで当該薄膜トランジスタ のゲートとソースの間に逆バイアスを印加して当該薄膜トランジスタの 閾電圧の変動を抑制する逆バイアス印加手順とを行なうことを特徴とす る表示装置の駆動方法。
2 4 . 当該薄膜トランジスタに並列接続した追加薄膜トランジスタを、 当該薄膜トランジスタに対して補完的に動作して、 該発光素子の駆動の 妨げとならないタイミングを作り出す補完手順を含み、
前記逆バイアス印加手順は、 該作り出されたタイミングで当該薄膜ト ランジスタに逆バイアスを印加することを特徴とする請求項 2 3記載の 表示装置の駆動方法。
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