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TW561522B - Wafer handling system and method for use in lithography patterning - Google Patents

Wafer handling system and method for use in lithography patterning Download PDF

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TW561522B
TW561522B TW091122530A TW91122530A TW561522B TW 561522 B TW561522 B TW 561522B TW 091122530 A TW091122530 A TW 091122530A TW 91122530 A TW91122530 A TW 91122530A TW 561522 B TW561522 B TW 561522B
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TW
Taiwan
Prior art keywords
wafer
chuck
alignment
scope
item
Prior art date
Application number
TW091122530A
Other languages
English (en)
Inventor
Puerto Santiago E Del
Stephen Roux
Justin L Kreuzer
Original Assignee
Asml Us Inc
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Description

561522 A 7 B7 五、發明説明（1) 發明背景 發明部份 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 發明係有關用於製版系統內之晶圓處理系統及方法。 更明確言之，本發明係有關晶圓處理系統及方法，其中， 晶圓在製版系統內輸送，同時固定並對齊卡盤，從而使產 出最大。 有關技藝 經濟部智慧財產局g(工消費合作社印製 製版術爲用以製造基體之表面上之特色之一種方法。 基體可包含用以製造平板顯示器，電路板，各種積體電路 等者。此應用之常用基體爲半導體晶圓。雖本說明以半導 體晶圓提出，供圖解之用，但精於本藝之人士明瞭此說明 亦適用於精於本藝之人士所知之其他型式之基體。在製版 期間中，置於晶圓平台上之晶圓由製版裝置內所置之曝光 光學裝置投射於晶圓表面上之影像曝光。雖曝光光學裝置 使用於製版之情形中，但可使用不同型式之曝光裝置，視 特定應用而定。例如，X射線，電子，或光子製版各可需 要不同之曝光裝置，如精於本藝之人士所知。此處討論特 定之製版實例，僅用於圖解。 投射之影像對例如沉積於晶圓之表面上之光阻層產生 特性改變。此改變相當於在曝光期間中投射於晶圓上之特 色。在曝光後，可蝕刻該層，以產生圖案層。圓案相當於 曝光期間中投射於晶圓上之特色。然後使用此圖案層，以 移去晶圓內之下結構層，諸如導電，半導電，或絕緣層之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（2丨0X297公釐） -4- 561522 A7 B7 五、發明説明（2) 曝光部份。然後重複此方法以及其他步驟，直至在晶圓表 面上製造所需之特色爲止。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 步進及掃描技術使用於投影光學系統，此具有一窄造 像槽。並非一次曝光整個晶圓，而是一次掃描一個別場於 晶圓上。此由同時移動晶圓及網模執行，俾在掃描期間中 ，移動造像槽橫過該場。晶圓平台故此必需步進於各場曝 光之間，俾多本網模圖案可曝光於晶圓表面上。如此，投 射於晶圓上之影像之明銳度可最大。經由增加對齊精確度 及投影精確度，目前之製版工具能產生具有更爲最小特色 大小之裝置。然而，最小特色大小僅爲製版工具使用之一 量度。另一重要量度爲產出。 產出指每小時可由製版系統刻圖之晶圓數。在製版系 統內需在晶圓上執行之每一工作均構成晶圓刻圖所需之總 時間，隨帶減少產出。在製版系統內需重複執行之一重要 工作爲晶圓對齊。晶圓需在製版系統精確對齊，以達成高 度之重疊精確度。不幸，每當晶圓在普通製版系統內由機 器人移動時，對齊精確度常喪失。 經濟部智慈財產局K工消費合作社印製 需要一種系統及方法，用以處理製版系統內之晶圓， 以避免由普通機器人所引起之對齊喪失，同時提高系統產 出。 發明槪要 在一實施例，本發明包含一種製版系統，具有一微影 定圖形室，一晶圓交換室由一第一閘閥與微影定圖形室隔 本紙張尺度適用中國國家樣準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -5- 561522 A7 B7 五、發明説明（3) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 開，及至少一對齊裝載閘由一第二閘閥與晶圓交換室隔開 。對齊裝載聞包含一對齊平台，此在抽氣期間中對齊一晶 圓。本發明之對齊裝載閘可爲單向或雙向。同樣，本發明 之製版系統可包含一或多個對齊裝載閘。 本發明之製版系統亦可包含一保持裝載閘，與晶圓交 換室分開。 本發明之製版系統另可包含一照明源，此發射具有檢 查波長之光，及一攝影機對該檢查波長敏感。對齊裝載閘 之頂板對檢查波長透明，俾可觀察對齊裝載閘內所置之晶 圓。 本發明之實施例之對齊裝載閘內亦包含支持件用以保 持晶圓。支持壁可爲鉤，銷等。另置對齊平台於對齊裝載 閘內。對齊平台由延伸穿過對齊裝載閘之底板之一柱與置 於對齊裝載閘外部之一對齊副平台分開。而且，對齊裝載 閘之底板可包含一移動饋通口密封件，此使該柱可對底板 移動，同時防止氣體流進對齊裝載閘中。此一移動饋通口 密封件可包含伸縮囊及旋轉密封件，諸如鐵磁密封件。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明之實施例並包含多個卡盤。卡盤可爲靜電卡盤 或真空卡盤。卡盤可包含切口，用以容納對齊裝載閘內之 晶圓支持件。卡盤另可包含卡盤接合機構，用以運動安裝 卡盤於對齊平台或置於微影定圖形室內之平台上。在重要 區域，卡盤接合機構可爲運動半球體，以避免應力及應變 ，含有例如半球體，用以接合製版系統內各平台上所置之 V形塊。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -6 - 561522 A7 _ B7_ 五、發明説明（4) 在本發明之一實施例，微影定圖形室可包含多個曝光 平台。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 並δ兌明製版系統內晶圓之一刻圖方法。在一實施例， 該方法包括置晶圓於對齊裝載閘內之支持件上之第一步驟 。在次步驟，晶圓對齊於一卡盤，同時支持晶圓於對齊裝 載閘內之支持件上。在另一步驟，晶圓固定於卡盤。及在 又另一步驟，執行抽氣，以製造真空於對齊裝載閘內。 在本發明之一方法，抽氣可與晶圓對齊於卡盤同時執 行。同樣，抽氣可與對齊步驟後固定晶圓於卡盤上同時執 行。 本發明之實施例之一方法可另包含輸送卡盤及晶圓至 微影定圖形室之步驟。在微影定圖形室中可能需要進一步 細對齊。其次，執行晶圓上微影定圖形之步驟。一旦完成 微影定圖形，晶圓及卡盤回至對齊裝載閘區域。一旦回至 對齊裝載閘，卡盤可移離晶圓，且可執行通氣。在晶圓移 離卡盤之期間中，可執行通氣。 經濟部智慈財產局8工消費合作社印製 此處並說明一種對齊裝載閘內對齊晶圓之方法。在一 實施例，該方法包括置晶圓於對齊裝載閘內之支持件上第 一步驟。其次，觀察對齊裝載閘內支持件上之晶圓之位置 及朝向之步驟。並執行移動卡盤，以使晶圓對齊卡盤之步 驟。一旦對齊，使卡盤接觸及固定於晶圓。觀察晶圓之位 置及朝向之步驟可由置於對齊裝載閘外部之攝影機執行。 附圖簡述 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210Χ 297公釐） -7- 561522 A7 B7 五、發明説明（5) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 附於此處並構成本說明之一部份之附圖顯示本發明， 並與本說明一起另用以說明本發明之原理，並使精於有關 技藝之人士能製造及使用本發明。各圖中相同之參考編號 指相同元件。 圖1顯示本發明之製版系統。 圖2A爲本發明之對齊裝載閘內之上元件之分解圖。 圖2B爲本發明之對齊裝載閘內之下元件之分解圖。 圖3A顯示本發明之製版系統內之底板安裝之移動饋 通口 300 。 圖3B顯示本發明之製版系統內之壁安裝之移動饋通 □ 3 50。 圖4A顯示使用本發明之雙向裝載閘之製版系統內之 一晶圓之刻圖方法。 圖4B顯示使用本發明之單向裝載閘之製版系統內之 一晶圓之刻圖方法。 圖5顯示本發明之對齊裝載閘內之晶圓對齊方法。 經濟部智慧財產局：一貝工消費合作社印製 主要元件對照表 100製版系統 101軌道 102閘閥 104對齊裝載閘 106晶圓交換室 111微影定圖形室 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -8 - 561522 A7 B7 經濟部智慈財產局貸工消費合作社印製 五、發明説明（6) 11 2晶圓平台 114保持裝載閘 201對齊裝載閘頂板 202攝影機 203照明源 204晶圓支持件 208 刻口 209視場 210照明場 21 1卡盤 212卡盤切口 216對齊裝載閘底板 2 1 7移動饋通口密封件 218對齊平台 219平台接合機構 222卡盤接合機構 226接觸腿 228接觸墊 230柱 231對齊副平台 23 2對齊副平台基座 300底板安裝移動饋通口 3 02伸縮囊 304旋轉密封件 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（21〇X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -9- 561522 A7 B7 五、發明説明（7) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 3 0 6軸承 3 54室壁 3 56中心線 較佳實施例之詳細說明 如此處所用，晶圓意爲半導體晶圓，或適用於微影定 圖形之任何其他基體。 對齊，抽氣，及充電於靜電卡盤爲微影定圖形製程內 花費寶貴時間之所有程序。本發明者等發現所有此三功能 可合倂於一單個對齊裝載閘站。此一單個對齊裝載閘站可 對齊晶圓於卡盤，及然後固定晶圓於卡盤，所有均在裝載 閘抽氣之期間中。由裝置一個以上之卡盤於此一製版系統 中，在微影定圖形之期間中，晶圓可固定其各別卡盤上， 從而使產出最大。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 圖1顯示本發明之製版系統1〇〇。製版系統1〇〇對 晶圓蝕刻圖案，由圖內之虛線圓表示，此等自軌道10 1獲 得。自軌道1 0 1所獲得之晶圓進行多種所需之處理，然後 微影定圖形。例如，在晶圓上執行光阻劑施敷，預烤，及 精於有關技藝之人士所知之其他處理，然後微影定圖形。 在微影定圖形後，晶圓回至軌道上，供進一步處理步驟， 諸如顯影，後烤等。軌道101經由二閘閥102，103連 接至製版系統100。 閘閥1 02, 1 03爲精於有關技藝之 人士所知之型式，能維持不同之大氣壓力於閘閥之二側。 閘閥102，103由二對齊裝載閘104，105分開軌道101 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -10- 561522 A7 _ _B7____ 五、發明説明（8) 〇 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 對齊裝載閘104，105由閘閥107，108與晶片交換 室106分開。閘閥107 ，108類似閘閥102，1〇3，此 等連接對齊裝載閘104，105至軌道101。 每一對齊裝 載閘104，105故此爲一室，由各別閘閥與軌道1〇1及 晶圓交換室106隔開。對齊裝載閘1 04, 1 05另連接至 真空及通氣元件（未顯示），此使對齊裝載閘可自大氣壓 力過渡至真空（抽氣），及再回至大氣壓力（通氣）。 如此，晶圓交換室1 06可保持於高真空，同時軌道保持於 大氣壓力。對齊裝載閘104， 105如此用以移入及移出 晶圓於晶圓交換室，同時自大氣壓力過渡至高真空。本發 明者等發現由裝置對齊及卡盤特色於對齊裝載閘104，105 內，整個系統產出可大爲提高。對齊裝載閘104，105在 以下有關圖2A及2B中更詳細討論。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 晶圓交換室106包含一機器人109，具有雙端執行 具。機器人109爲真空可相容，並能由其雙端執行具一次 搬動二卡盤。或且，可使用其他結構，以輸送帶有對齊之 晶圓自對齊裝載閘至微影定圖形室，如精於有關此說明所 提之技藝之人士所明瞭。例如，具有單端執行具之機器人 ，或雙，非機器人，輸送機構亦可使用，並不脫離本發明 之範圍。 晶圓交換室106由閘閥110連接至微影定圖形室 111。閘閥1 1 0與此處所述之其他閘閥相似。微影定圖 形室1 1 1包含晶圓平台11 2，1 1 3。晶圓平台1 1 2，11 3 本紙張尺度適用中國國家標準（~CNS ) A4規格（210X297公釐） -11 - 561522 Α7 Β7 五、發明説明（9) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 能在所示之方向上移動，用於精細對齊及曝光處理。微影 定圖形室111故此另包含投影光學裝置或其他元件，需用 於執行微影定圖形。雖微影定圖形室1 11包含二晶圓zp台 1 1 2，1 1 3，但微影定圖形室亦可包含一個晶圓平台。所示 之雙晶圓平台結構更詳細說明於同待核定之共同擁有之美 專利申請書09 /449,630號，題爲M雙平台製版裝置及 方法π，於1999年11月30日提出，其整個列作參 考。 製版系統100另包含一保持裝載閘114。保持裝載 閘11 4用以保持一備份卡盤，或交換卡盤於製版系統內， 同時維持微影定圖形。如此可進出保持於保持裝載閘中之 卡盤，俾便例如淸洗。保持裝載閘114亦包含閘閥115 及11 6。雖宜有保持裝載閘，因爲如此可交換卡盤，而不 停止微影定圖形，但此可省略，而不脫離本發明之範圍。 雖對齊裝載閘104， 105及保持裝載閘114均宜爲 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 雙向裝載閘，但單向裝載閘亦可使用，而不脫離本發明之 範圍。單向裝載閘僅能輸入或輸出晶圓。然而，雙向裝載 閘則能輸入及輸出晶圓二者。 例如，如晶圓自軌道1 0 1轉移至單向對齊裝載閘及 然後至刻圖室111，則然後在其已刻圖後，此不能轉移至 同一單向對齊裝載閘。而是，在微影定圖形室中完成刻圖 處理後，晶圓應轉回至另一對齊裝載閘，及然後至軌道 101° 反之，如晶圓自軌道101轉移至雙向對齊裝載閘， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（2】0X297公釐） -12- 561522 A7 _____B7_ 五、發明説明（1¾ 及然後至微影定圖形室1 1 1，在刻圖後，晶圓可通過同一 雙向對齊裝載閘轉移回至軌道1 0 1。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 雖使用二雙向對齊裝載閘有利，因爲此可加大系統產 出，但亦可使用二單向裝載閘。同樣，亦可使用一單個單 向對齊裝載閘，而不脫離本發明之範圍。現說明有關圖 2A及2B之每一對齊裝載閘104, 105之精確結構及功能 〇 圖2A及2B —起構成本發明之對齊裝載閘內之元件 之分解圖。圖2A相當於本發明之對齊裝載閘之上部，而 圖2B則相當於本發明之對齊裝載閘之下部。圖2A及 2B中未顯示對齊裝載閘之壁。 經濟部智慧財產局g(工消費合作社印製 對齊裝載閘頂板201爲氣密透明或半透明窗。一攝 影機 202及一照明源203置於對齊裝載閘頂板201上 。M半透明"意爲對齊裝載閘頂板201對自照明源 203發射之檢查波長至少爲透明，攝影機 202對此敏感 。 在對齊裝載閘內爲晶圓支持件204，205，206。 晶圓 支持件 204 - 206用以支持晶圓207。晶圓支持件 204 -206在圖中顯示爲鉤，但亦可包含銷或其他支持機構，如 精於有關技藝之人士所明暸。晶圓207可由另一機器人 自軌道1 0 1置於晶圓支持件2 0 4 - 2 0 6上，此普通爲軌 道系統（未顯示）之一部份。而且，晶圓可先進行粗對 齊，俾刻口 208或其他所需特色置於攝影機202之視場 內，此在照明源203之照明場2 1 0內。此先期粗對齊可 依精於有關技藝之人士所知之方式達成。例如，此可由軌 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -13- 561522 A7 B7 五、發明説明（1) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 道中之一模組執行，此使用光電感測器轉動晶圓，並定置 刻口。所示之對齊裝載閘內亦包含一卡盤211,具有卡盤 切口 212，213，及 214。 卡盤切口 212-214足夠大，以 配合卡盤之移動範圍，俾晶圓支持件204- 206可容納於卡 盤切口 2 1 2 - 2 1 4內。如此，卡盤切口 2 1 2 - 2 1 4約對齊晶 圓支持件 204 - 206 。 圖2B相當於對齊裝載閘之下部。明確言之，具有 移動饋通口密封件2 1 7之對齊裝載閘底板 2 1 6置於對齊 裝載閘之底部。移動饋通口密封件 217使柱 230(其上 置一對齊平台218)可對裝載閘底板移動，同時防止氣體 流進裝載閘中。在所示之特定實施例中，移動饋通口密封 件 217包含伸縮囊，此在以下就圖3更詳細說明。或且 ，可使用其他型式之移動饋通口密封件，諸如可移動密封 件或鐵流體密封件，而不脫離本發明之範圍。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對齊平台218包含平台接合機構219，220,及221 。平台接合機構用於運動安裝卡盤211,卡盤接合機構 222 - 224置於卡盤211之下表面上。在重要區域中，卡 盤接合機構可爲運動半球，以避免應力及應變，包含例如 半球，用以接合置於製版系統內之各種平台上之V形塊 219-221。 在所示之實施例中，平台接合機構219-221包 含V形塊2 1 9 - 22 1，此等構成運動基座之下半部。同樣， 在所示之實施例中，卡盤接合機構222-224包含半球，此 等構成運動基座之上半部。如精於有關此說明所提之技藝 之人士所明瞭，可使用其他型式之運動基座，而不脫離本 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公楚） -14- 561522 A7 __B7_ 五、發明説明（1全 發明之範圍。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在所示之實施例中，卡盤21 1爲靜電卡盤，能維持 電荷，足以長時間保持晶圓固定。然而，在一實施例，卡 盤211爲真空卡盤。對齊平台218另包含接觸塊225, 具有接觸腿 226及 227。 接觸腿 226，227用以電接 觸卡盤211之底面上所置之接觸墊228及229。 在一 實施例，接觸腿226及227爲金屬管所製之彈簧負齓之 接觸件。金屬管包含具有金屬桿之一彈簧。金屬桿接觸接 觸墊228及229。當連接於接觸腿226及227時，卡 盤 211經由接觸墊 228及 229充電及放電。雖本發 明以靜電卡盤來說明，但可使用其卡盤，而不脫離本發明 之範圍。可使用例如真空卡盤，機械夾具，及其他固定晶 圓於卡盤上之裝置，如精於有關技藝之人士所明瞭。由於 在極端紫外光處理發生之高度真空環境，靜電卡盤較宜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對齊平台2 1 8置於柱2 3 0上。柱2 3 0置於對齊副 平台231上，此由對齊副平台基座232保持。其他馬達 及控憲元件（未顯示）用以移動對齊平台於四自由度（ 轉動，二水平位移及垂直位移），且如圖中箭頭所示，如 精於此說明所提之有關技藝之人士所明瞭。運動饋通口密 封件2 1 7用以分隔對齊裝載閘內之高真空環境及對齊副平 台23 1 , 對齊副平台基座，及製版系統之其餘部份。 現說明對齊裝載閘內之元件之操作。應注意卡盤2 1 1 及晶圓207並非對齊裝載閘整體之部份。而是，卡盤 211爲製版系統100內所用之若干同樣卡盤之一。同樣 本紙張尺度適用中國國家丨票準（CNS ) A4規格（210X297公釐1 " -15- 561522 A7 B7 五、發明説明（ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ，已自軌道101上獲得晶圓207，用於圖1所示系統之 微影定圖形室111內微影定圖形。如上述，晶圓207在 置於晶圓支持件204- 206上之前，可進行粗對齊。可 執行此粗對齊，以置刻口 208於攝影機202之視場 209內。由於攝影機202可見及刻口 208，故攝影機 202可由在視場209內可看見之曲率半徑決定晶圓之中 心，及由刻口 208之位置決定晶圓之朝向。在此方面，應 注意雖圖2A中顯示一個攝影機202，但可使用多個此種 攝影機，而不脫離本發明之範圍。由於使用攝影機202 來決定刻口 208之位置以及晶圓206之曲率半徑，故使 用一個以上攝影機可增加觀察之精確度，如精於此說明所 提之有關技藝之人士所明瞭。由二對稱設置之攝影機（或 對晶圓等距離之攝影機）可獲得最佳結果。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 攝影機202觀察視場209，以決定晶圓位置207。 此晶圓位置然後由攝影機202輸出至圖案辨認單位233 ( 未顯示）。圖案辨認單位發送位置資訊至對齊副平台 232 。由於圖案辨認單位知道晶圓207之精確朝向及位置，故 能經由對齊副平台231及對齊副平台基座 232，控制對 齊平台 218之位置。一旦卡盤211已對齊晶圓 207， 卡盤 211向上移動至並接觸晶圓207。一旦接觸晶圓 207，卡盤 211經由接觸墊 228及229 (此等接觸對齊 平台 218之接觸塊225上之接觸腿 226及227)充電 。由於卡盤211在充電前已對齊晶圓207，故晶圓207 由電荷固定保持接觸卡盤211。由於在微影定圖形室111 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -16- 561522 A7 B7
五、發明説明（U (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 內之每一晶圓平台112，113包含運動基座，故微影定圖 形室內之晶圓平台1 1 2，1 1 3上之卡盤位置之可重複性限 制於運動基座之精確度。使用V形塊及半球之所示之運 動基座具有可重複性約爲二微米。由於卡盤2 1 1在製版系 統100內可維持其靜電電荷，故晶圓，例如晶圓207之 對齊恆在所用之運動基座之可重複性內。 轉至圖1， 自以上有關圖2A及2B之討論應明瞭 ，在晶圓在對齊裝載閘104或105內之期間中，可執行 對齊及卡住操作，同時對齊裝載閘進行抽氣。一旦對齊裝 載閘104或對齊裝載閘105內之晶圓已對齊卡盤並附著 於卡盤上，及抽氣降壓完成時，閘閥107或108可打開 ，此時，機器人1 09可自任一對齊裝載閘內舉起卡盤及晶 圓一起，並移動其至微影定圖形室111。由於機器人 1 08包含握持具，此可一次保持二卡盤。如此，機器人 109可迅速交換卡盤於任一對齊裝載閘站及任一晶圓平台 之間。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖3 A顯示本發明之製版系統內之一底板安裝之運動 饋通口 300。 伸縮囊302使軸230可對裝載閘底板216 垂直及水平位移，同時維持裝載閘內真空。伸縮囊302包 含多個金屬，宜爲不銹鋼盤，在其周邊及內邊緣處熔接。 此等伸縮囊使柱230可在六自由度中移動，同時維持真空 密封。轉動密封件304使軸230可轉動，同時維持真 空。軸承306捕捉軸凸緣308，防止伸縮囊由於大氣壓 力而塌陷。精於本藝之人士明瞭密封件304可爲彈性體密 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -17- 561522 A7 __ _ B7_ 五、發明説明（1备 封件，預載鐵弗隆密封件，或鐵流體密封件。顯然，由 3 04 - 3 08所達成之轉動之轉移亦可經由磁交連達成。 圖3B顯示本發明之製版系統內之一壁裝移動饋通口 350。 連接於室壁354上之伸縮囊 352使對齊平台 218可垂直及水平位移。伸縮囊352亦使對齊平台218 可繞其中心356有限量轉動。此安排無需轉動密封件，且 故此，較之圖3A之裝置不易漏氣。然而，圖3A之轉動 密封件可無限制轉動，但伸縮囊3 52僅可自由轉動幾度。 如在引進晶圓於裝載閘中之前，在晶圓上（由軌道）執 行粗對齊步驟，則有限之轉動量即夠。應明瞭一第二壁裝 之饋通機構可通過一相對壁裝於與所示者正相對處，以提 高裝置之機械穩定性，並不脫離本發明。 圖4 A顯示有關使用本發明之至少一雙向對齊裝載閘 之製版系統內之晶圓之刻圖方法。應注意此一系統可包含 僅一個雙向對齊裝載閘，或多個雙向對齊裝載閘，以增加 效率及產出。在使用一雙向對齊裝載閘系統之實施例中， 與使用一單向對齊裝載閘系統不同，雙向對齊裝載聞能接 受軌道上進入製版系統（輸入）中之晶圓，並使晶圓在 刻圖後進入其中，並驅迫其回至軌道（輸出）上。換言 之，晶圓可自軌道1 〇 1轉移至雙向對齊裝載閘，自雙向對 齊裝載聞轉移至刻圖室，在刻圖後，自刻圖室轉移至同— 雙向對齊裝載閘中，及然後自該雙向對齊裝載閘轉移至軌 道。 在圖4A之方法400之第一步驟410， 置一晶圓 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） "' -- -18- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -、1Τ 經濟部智慈財1局員工消費合作社印製 561522 A7 B7 五、發明説明（傕 ^^ 於雙向對齊裝載閘內之晶圓支持件上。如有關以上圖1 所述，可自軌道上取出晶圓，然後置於雙向對齊裝載閘內 之支持件上。置晶圓於雙向對齊裝載閘內之支持件上可由 例如機器人達成。如以上有關圖2A所述，雙向對齊裝載 閘內之晶圓支持件可包含鉤，銷等。而且，如以上有關圖 1所述，雙向對齊裝載閘可包含普通裝載閘室，具有閘閥 分隔軌道及晶圓輸送室。在操作於高真空之製版系統中， 此一晶圓輸送室保持於高真空，同時軌道保持於大氣壓力 。如此，使用雙向對齊裝載閘，以轉移晶圓進出製版裝置 本身內之高真空環境，而不曝整個裝置於大氣壓力。 在次步驟420，晶圓對齊卡盤，如此處其他所在所述 ，卡盤可爲靜電卡盤，真空卡盤，或具有其他機械夾定特 色之卡盤。在次步驟 421，對齊之晶圓固定於卡盤。對齊 晶圓之固定於卡盤421可由向上移動卡盤並接觸晶圓，及 然後，在靜電卡盤之情形，充電靜電卡盤，從而固定晶圓 於卡盤。此充電可經由使用對齊平台上之接觸腿達成，此 接觸靜電卡盤之底表面上之墊。而且，步驟 420及421 在以下有關圖5中更詳細說明。 在步驟 425,與步驟420及 421之至少之一或二者 同時，在雙向對齊裝載閘內執行抽氣。如精於有關技藝之 人士所知，抽氣爲一程序，由此抽出裝載閘中之氣體，從 而使其自大氣壓力變爲高真空。如此處其他所在所述，本 發明者等發現由與晶圓對齊於卡盤及固定晶圓於卡盤上同 時，執行抽氣操作，可在本發明之製版系統內達成更大之 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝-
、1T 經濟部智慧財產局Μ工消費合作社印製 -19- 561522 A7 _B7_ 五、發明説明（ 產出。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在次步驟430，帶有對齊之晶圓之卡盤輸送至微影定 圖形室。如以上有關圖1所述，卡盤之自雙向對齊裝載 閘輸送至微影定圖形室可由置於晶圓交換室（置於雙向對 齊裝載閘及微影定圖形室之間）內之機器人執行。此機 器人可具有雙端執行具，以達成輸送卡盤於雙向對齊裝載 閘及微影定圖形室間之更大效率。或且，可使用其他結構 ，以輸送帶有對齊之晶圓之卡盤自雙向對齊裝載閘至微影 定圖形室，如精於說明所提之有關技藝之人士所明瞭。例 如，卡盤及晶圓可置於曝光平台之運動基座上。 一旦帶有對齊之晶圓之卡盤置於微影定圖形室中時， 即在次步驟440中執行微影定圖形。此微影定圖形可包括 最後對齊步驟以及微影定圖形內所用之另外步驟，如精於 有關技藝之人士所知。 經濟部智慧財產苟員工消費合作社印製 在次步驟450，帶有經處理之晶圓之卡盤移出曝光平 台之運動基座，自微影定圖形室至雙向對齊裝載閘。如以 上有關步驟430所述，帶有經處理之晶圓之卡盤之自微影 定圖形室輸送至雙向對齊裝載閘可由置於晶圓交換室中之 機器人執行。而且，帶有經刻圖之晶圓之卡盤可移送回至 (通過此而進入系統中之）同一雙向對齊裝載閘。 在次步驟460，自雙向對齊裝載閘內之卡盤上移出經 處理之晶圓。此步驟大致與上述處理步驟42 1相反。故 此，一旦帶有經刻圖之晶圓之卡盤回至雙向對齊裝載閘時 ，卡盤可放電。一旦放電，卡盤可下降離開晶圓，留下晶 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -20- 561522 A 7 B7
五、發明説明（A (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 圓由晶圓支持件保持。與步驟4 6 0同時，在同時步驟 465中執行通氣操作。通氣使雙向對齊裝載聞內之壓力自 咼真空降回至大氣壓力。與步驟420，421，及425同樣 ，通氣步驟465與步驟460同時執行。與抽氣過程同樣 ，執行通氣，同時自卡盤上移出晶圓，更增加本發明之製 版系統之產出。 在最後步驟4 7 0 ,現經刻圖之晶圓移出雙向對齊裝載 閘，並放回於軌道上。或且，晶圓可置於另一結構上，用 以移動晶圓離開製版裝置。如精於有關技藝之人士所明瞭 ，在已執行圖4之方法之最後步驟470後，製版系統已 回至第一步驟前所存在之情況。故此，方法400可無限重 覆，對多個晶圓執行微影定圖形。 經濟部智慧財產局8工消費合作社印製 圖4Β顯示使用本發明之單向對齊裝載閘之製版系統 內之晶圓刻圖之方法472。 在圖4Β之方法472之第一 步驟4 7 4，置一晶圓於輸入對齊裝載閘內之晶圓支持件上 。輸入對齊裝載閘爲單向，因爲晶圓並不通過其進入該系 統中所通過之同一對齊裝載閘出去。而是，在刻圖室中進 行刻圖後，晶圓回至另一對齊裝載閘（輸出對齊裝載閘） ，及通過輸出對齊裝載閘離開該系統（即轉移至軌道） 。如以上有關圖1所述，可自軌道上取出晶圓，然後置於 輸入對齊裝載閘內之支持件上。置晶圓於輸入對齊裝載閘 內之支持件上可由例如機器人執行。 如以上有關圖2Α所述，輸入對齊裝載閘內之支持件 可包含鉤，銷等。而且，如以上有關圖1所述，輸入對齊 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -21 - 561522 A7 B7 五、發明説明（1备 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝載閘可包含普通之輸入裝載閘室，具有閘閥分隔軌道及 晶圓輸送室。在操作於高真空之製版系統中，此一晶圓輸 送室保持於高真空，同時軌道保持於大氣壓力。輸入對齊 裝載閘故此用以轉移晶圓至製版裝置本身內之高真空環境 中，而不曝露整個裝置於大氣壓力。 在次步驟476，晶圓對齊於卡盤。如此處其他所在所 述，卡盤可爲靜電卡盤，真空卡盤，或具有其他機械夾定 特色之卡盤。在次步驟478中，對齊之晶圓固定於卡盤 。對齊之晶圓之固定於卡盤可由向上移動卡盤至並接觸晶 圓達成，及然後，在靜電卡盤之情形，卡盤靜電充電，從 而固定晶圓於卡盤。此充電可經由使用對齊平台上之接觸 腿達成，此等與靜電卡盤之底表面上之墊接觸。步驟476 及478在以下有關圖5中更詳細說明。 在步驟 480，與步驟 476及 478至少之一或二者同 時，輸入對齊裝載閘內執行抽氣。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在次步驟480，帶有對齊之晶圓之卡盤輸送至微影定 圖形室。如以上有關圖1所述，卡盤之自輸入對齊裝載 閘輸送至微影定圖形室可由輸入對齊裝載閘及微影定圖形 室間所置之一晶圓交換室內所置之機器人執行。或且，可 使用其他結構，以輸送帶有對齊之晶圓之卡盤自輸入對齊 裝載閘至微影定圖形室，如精於本說明所提之有關技藝之 人士所明瞭。例如，卡盤及晶圓可置於曝光平台之運動基 座上。 一旦帶有對齊之晶圓之卡盤置於微影定圖形室中，在 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐)~— -22- 561522 A7 _____B7 __ 五、發明説明（2¾ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 次步驟484中執行微影定圖形。此微影定圖形可包括最 後對齊以及精於有關技藝之人士所知之微影定圖形內所用 之其他步驟。 在次步驟486，帶有經處理之晶圓之卡盤自曝光平台 之運動基座移至微影定圖形室之輸出對齊裝載閘。應注意 輸出對齊裝載閘並非與輸入對齊裝載閘同一之對齊裝載閘 。晶圓僅在其已離開微影定圖形室，並需要轉移回至軌道 後，方轉移通過輸出對齊裝載閘。如以上有關步驟482所 述，帶有經處理之晶圓之卡盤之自微影定圖形室輸送至輸 出對齊裝載閘可由晶圓交換室內所置之機器人執行。 在次步驟488，經處理之晶圓自輸出對齊裝載閘內之 卡盤上移出。此步驟大致與上述處理步驟478相反。故 此，一旦帶有經處理之晶圓之卡盤轉移至輸出對齊裝載閘 ，卡盤可放電。一旦放電，卡盤可下降離開晶圓，留下晶 圓由晶圓支持件保持。與步驟488同時，在同時步驟 490中執行通氣操作。與步驟420，421，及425同樣 ，通氣步驟480與步驟476同時執行。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 在最後步驟470，現經刻圖之晶圓移出輸出對齊裝載 閘，並放回於軌道上。或且，晶圓可置於另一結構上，用 以移動晶圓離開製版裝置。如精於有關技藝之人士所明瞭 ，在已執行圖4B之方法472之最後步驟492後，製 版系統回至第一步驟474前所存在之情況。故此，方法 472可無限重覆對多個晶圓執行微影定圖形。 圖5顯示依本發明對齊對齊裝載閘內之晶圓之〜方法 i紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（21〇>< 297公釐） ' -23- 561522 A7 ____ B7 五、發明説明（2) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 。在第一步驟510。 置一晶圓於晶圓支持件上，如此處其 他所在所述，此晶圓支持件可包含鉤，銷等。且如此處其 他所在所述，晶圓可經由使用機器人或其他晶圓輸送機構 置於晶圓支持件上，如精於有關藝之人士所明瞭。 在次步驟520，觀察晶圓之朝向及位置。此觀察可例 如由置於對齊裝載閘外部之攝影機及照明源執行，如以上 有關圖2A所述。由攝影機分析在攝影機之視場內所觀察 之晶圓之曲率半徑，觀察晶圓之位置。如此處所用，有關 晶圓位置之一辭意爲在XY平面內之晶圓位置。如此，由 觀察晶圓之曲率半徑，可由一圖案辨認單位決定晶圓之中 心位置。此圖案辨認單位及其與此處所述型式之攝影機及 照明源關聯之操作爲精於有關技藝之人士所知。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 由記下晶圓內之刻口 （此亦在攝影機之視場內）之 位置，決定晶圓之特別朝向（即其中心周圍之其角度朝向 )。 在開始觀察時，爲確保刻口在攝影機之視場內，可在 圖5所示方法之前，執行粗對齊。此粗對齊可包括例如使 用晶圓轉動模組，具有一邊緣感測器可置於軌道內。此一 粗預對齊技術爲精於有關技藝之人士所知，且故此不在此 處更詳細討論。雖晶圓位置及朝向之觀察以單個攝影機來 說明，但可使用具有窄視場之多個攝影機，以提高對齊之 精確度。由使用多個攝影機朝向晶圓圓周上不同之視點， 可較之使用單個攝影機更精確決定中心位置及刻口朝向。 在步驟525，此可與步驟520同時執行，移動卡盤 ，俾對齊晶圓於卡盤。如此處其他所在所述，此卡盤可爲 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -24- 561522 A7 B7 五、發明説明（2全 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 靜電卡盤，真空卡盤等。經由使用諸如有關圖2B所述之 對齊平台，使卡盤對晶圓移動。對齊平台之移動由接收來 自攝影機（用以觀察晶圓）之資料之同一圖案辨認單位 控制。圖案辨認單位知道晶圓之精確位置。圖案辨認單位 經由自對齊平台反饋之位置，亦知道對齊平台之精確位置 。由攝影機直接觀察卡盤，圖案辨認單位可導致對齊平台 使卡盤對晶圓移動，直至晶圓對齊卡盤爲止（卡盤之直徑 刻意稍大於晶圓之値徑）。 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 一旦卡盤及晶圓相互對齊，其後執行步驟530,使卡 盤接觸晶圓。此可例如向上移動卡盤，直至其實際接觸晶 圓底表面而達成。如以上有關圖2A所述，卡盤可例如具 有切口，以容納支持晶圓之晶圓支持件。如此，當卡盤向 上移動而接觸晶圓之底表面時，晶圓支持件不干涉卡盤， 因爲此等置於卡盤切口內。一旦卡盤與晶圓接觸，卡盤在 次步驟540中固定於晶圓。在靜電卡盤之情形，卡盤之固 定於晶圓可由充電於卡盤達成。或且，卡盤之固定於晶圓 可由啓動真空卡盤內之真空執行。可執行卡盤固定於晶圓 之其他方法，而不脫離本發明之範圍。 一旦晶圓已在步驟540中固定於卡盤上時，卡盤在本 發明之製版系統內移動，同時保持對齊晶圓。由於卡盤裝 有運動基座特色，晶圓之對齊於曝光平台恆在製版系統內 所用之運動基座之可重複性之內。此運動基座之可重複性 普通約在二微米之內。另一方面，機器人及夾具之可重複 性普通在數百微米。故此，可由移動附著於卡盤上之晶圓 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） •25- 561522 A7 B7 五、發明説明（2全 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ，避免在機器人移動後執行細對齊之普通步驟。細對齊仍 需要。然而，在機器人移動後執行細對齊方便細對齊過程 °如此，如以上有關圖1所述，由使用系統內之多個卡 盤，本發明之製版系統可達成高度之產出，例如每小時 120晶圓。 雖已以製版系統工作於真空內來說明本發明，但本發 明可作爲非真空系統實施，而不脫離本發明之範圍。在此 一系統中，以上所述對齊裝載閘可爲一對齊卡定站，而無 裝載閘之抽氣及通氣特性。而且，可依本發明實施一方法 ，而無所述之抽氣及通氣步驟。 結論 經濟部智慈財產局員工消費合作社印製 雖以上已說明本發明之各種實施例，但應明瞭此等僅 以實例提出，且非限制。精於本藝之人士明瞭其中之形態 及細節可作各種更改，而不脫離後附申請專利所定之本發 明之精神及範圍。故此，本發明之寬度及範圍不應由上述 任何示範實施例限制，而是應僅依以下申請專利及其等效 者界定。 本紙張尺度適用中國國家ί票準（CNS ) A4規格（2K)X297公釐） -26-

Claims (1)

  1. 561522 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 1 . 一種製版系統，包含： 一微影定圖形室； (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) —晶圓交換室，連接至微影定圖形室；及 至少一對齊裝載閘，由一第二閘閥與晶圓交換室隔開 ，該至少一對齊裝載閘包含一對齊平台，此對齊一晶圓。 2·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中， 該晶圓交換室由一第一閘閥與微影定圖形室隔開。 3 .如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中， 該對齊平台在抽氣階段之期間中對齊晶圓。 4 ·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中， 該至少一對齊裝載閘爲雙向對齊裝載閘，由一第三閘閥與 一軌道隔開。 5 ·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中， 該至少一對齊裝載閘爲單向對齊裝載閘，由一第三閘閥與 一軌道隔開。 6 .如申請專利範圍第3項所述之製版系統，其中， 該至少一對齊裝載閘包含多個對齊裝載閘。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 ·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中， 該至少一對齊裝載閘包含一第一壁及與第一壁正相對之一 第二壁，其中，第一壁具有一開口，包含一移動饋通口密 封件，此容許一柱移動，而無需旋轉密封件。 8 .如申請專利範圍第7項所述之製版系統，其中， 該第二壁具有一開口，包含一移動饋通口密封件，此容許 一柱移動，並可增加製版系統之穩定性。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） ~07 [ ： 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 561522 A8 B8 C8 ___ _D8 々、申請專利範圍 2 9 ·如申請專利範圍第6項所述之製版系統，其中， 多個對齊裝載閘包含單向對齊裝載閘。 1 0 ·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中 ，另包含一備份卡盤保持裝載閘，由一第三閘閥與晶圓交 換室隔開。 11.如申請專利範圍第1項所述之製版系統，另包 含一照明源，此發射具有檢查波長之光，及一攝影機對檢 查波長敏感。 1 2 ·如申請專利範圍第9項所述之製版系統，其中 ’該至少一對齊裝載閘另包含一裝載閘頂板，對檢查波長 透明。 1 3 .如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中 ， 該至少一對齊裝載閘另包含晶圓支持件，用以保持晶圓 於該至少一對齊裝載閘內。 1 4 ·如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其中 ， 該至少一對齊裝載閘另包含一對齊平台，與置於該至少 一對齊裝載閘之外部之一對齊副平台由延伸穿過該至少一. 對齊裝載閘之底板之一柱分開。 15.如申請專利範圍第14項所述之製版系統，其中 ，對齊平台包含多個平台接合機構，用於運動安裝一卡盤 〇 1 6 .如申請專利範圍第1 5項所述之製版系統，其中 ，平台接合機構包含V形塊。 1 7 .如申請專利範圍第1 4項所述之製版系統，其中 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -28 - (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁)
    561522 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 3 ，該至少一對齊裝載閘之底板包含一移動饋通口密封件， (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 此使該柱可對底板移動，同時防止氣體流進該至少一對齊 裝載閘。 1 8 .如申請專利範圍第1 7項所述之製版系統，其中 ，該移動饋通口密封件包含選自以下各群中之元件：伸縮 囊，彈性體密封件，鐵弗隆密封件，鐵流體密封件，及磁 交連。 19.如申請專利範圍第1項所述之製版系統，另包 含至少一卡盤。 20 .如申請專利範圍第1 9項所述之製版系統，其中 ，該至少一卡盤爲靜電卡盤。 2 1 .如申請專利範圍第1 9項所述之製版系統，其中 ，該至少一卡盤爲真空卡盤。 22. 如申請專利範圍第1 9項所述之製版系統，其中 ，該至少一卡盤包含多個卡盤。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 23. 如申請專利範圍第19項所述之製版系統，其中 ，該至少一卡盤包含多個切口，俾該至少一盤可移動至與 多個晶圓支持件所保持之一晶圓接觸，而不接觸該多個晶 圓支持件。 24. 如申請專利範圍第19項所述之製版系統，其中 ，該至少--^盤包含多個卡盤接合機構在下表面上，用以 運動安裝該至少一卡盤。 25. 如申請專利範圍第24項所述之製版系·統，其中 ，卡盤接合機構爲半球體。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） 「29 - 一 561522 A8 B8 C8 D8 々、申請專利範圍 4 26. 如申請專利範圍第1項所述之製版系統，其ψ ， 微影定圖形室包含至少一曝光平台，此在微影定圖形$ 期間中保持帶有晶圓之一卡盤。 27. 如申請專利範圍第26項所述之製版系統，其;ψ ，該至少一曝光平台包含多個曝光平台。 28. —種在製版系統內處理晶圓之方法，包含： (a )置晶圓於對齊裝載閘內之支持件上； (b )對齊晶圓於一卡盤，同時支持晶圓於對齊裝載冑 內之支持件上； (c)固定晶圓於卡盤；及 (d )執行抽氣，以製造真空於對齊裝載閘內。 29. 如申請專利範圍第28項所述之方法，其中， 步驟（d)與步驟（b)及（c)之至少之一同時執行。 30·如申請專利範圍第28項所述之方法，其中， 步驟（d )與步驟（b )及步驟（c )同時執行。 3 1 ·如申請專利範圍第29項所述之方法，另包含： (e )輸送卡盤及晶圓至微影定圖形室； (f )在晶圓上執行微影定圖形； (g )送回晶圓及卡盤至對齊裝載閘； (h)自晶圓上移開卡盤；及 (i )使對齊裝載閘通氣。 32.如申請專利範圍第31項所述之方法，其中，步 驟（h )與（i )同時執行。 33· —種在對齊裝載閘內對齊晶圓之方法，包括： (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) -訂--- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用十國國家標準（〇奶）八4規格（210\297公釐） -30- 561522 A8 B8 C8 D8 $、申請專利範圍 5 (a )置晶圓於對齊裝載閘內之支持件上； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (b )觀察對齊裝載閘內支持件上之晶圓之位置及朝向； (c )移動卡盤，俾使晶圓對齊卡盤； (d )使卡盤與晶圓接觸；及 (e )固定晶圓於卡盤。 34. 如申請專利範圍第33項所述之方法，其中， 涉·驟（b )另包括由置於對齊裝載閘之外部之攝影機觀察對 齊裝載閘內支持件上之晶圓之位置及朝向。 35. 如申請專利範圍第33項所述之方法，其中， 步驟（d)另包含向上移動卡盤，直至其將晶圓舉離支持件 爲止。 ， 36. 如申請專利範圍第33項所述之方法，其中， 卡盤爲靜電卡盤，及步驟（e)另包含充電該靜電卡盤。 37. —種製版系統，包含： 一微影定圖形室； 一晶圓交換室，鄰接微影定圖形室； 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 至少一對齊卡住站，鄰接晶圓交換室；及 多個卡盤； 其中，晶圓移進及移出微影定圖形室，同時各固定於 多個卡盤之各別一個上。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） _ 31 -
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