[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

KR950013107B1 - 제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법 - Google Patents

제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR950013107B1
KR950013107B1 KR1019870013291A KR870013291A KR950013107B1 KR 950013107 B1 KR950013107 B1 KR 950013107B1 KR 1019870013291 A KR1019870013291 A KR 1019870013291A KR 870013291 A KR870013291 A KR 870013291A KR 950013107 B1 KR950013107 B1 KR 950013107B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
compound
nitriding
hydrogen
fluorine
Prior art date
Application number
KR1019870013291A
Other languages
English (en)
Other versions
KR880006179A (ko
Inventor
하디 콜린
레빈 다니엘
자이쥬스키 제르지
로날드 마틴 토니
Original Assignee
임페리알 케미칼 인더스트리스 피엘씨
알란 브라이안 벡
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 임페리알 케미칼 인더스트리스 피엘씨, 알란 브라이안 벡 filed Critical 임페리알 케미칼 인더스트리스 피엘씨
Publication of KR880006179A publication Critical patent/KR880006179A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950013107B1 publication Critical patent/KR950013107B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C311/03—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton having the nitrogen atoms of the sulfonamide groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00—Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02—Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법
본 발명은 흑종의 제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법에 관한 것이다.
2-니트로-5-(치환된 페녹시)안식향산을 제조하기 위한, 당해 5-(치환된 페녹시)안식향산을 질화(nitration)하는 것을 포함하는 여러단계 공정이 EP-A-22610호에 기재되었다.
다음 일반식(I)의 디페닐 에테르 화합물 및 이들의 호변체와 염이 유럽특허 제 3416호에 기재되었다.
Figure kpo00001
식중, R1은 임의로 하나이상의 할로겐원자로 치환된 C1-6알킬, R2는 수소, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드 또는 니트로그룹, R3는 수소, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드, C1-6알킬, 트리플루오로메틸 또는 시아노그룹 R4는 수소, 불소, 염소, 브롬, 요오드 또는 트리플루오로메틸, R5는 불소, 염소, 브롬, 요오드 또는 트리플루오로메틸, R6는 수소 또는 C1-4알킬.
일반식(I)의 염은 EP 3416에 기재된 바와 같이 R6가 수소인 일반식(II) 화합물을 염기와 반응시켜 형성된 것이다. 이러한 화합물의 제조방법이 또한 기재되었다.
본 출원인은 실제로 순수한 생성물을 얻기 위해 필요한 보다 효율적인 여러가지 공정단계의 -일반식(I)화합물을 제조하기 위한-개선된 방법을 발견하였다.
본 발명은 일반식(III)의 화합물 또는 이의 염을
Figure kpo00002
식중, R1,R3,R4,R5및 R6는 일반식(I)에서와 동일 일반식(II)의 생성물을 정제하기에 적합한 반응조건의 질화에 견디는 용매내에서 질화시키고 결과의 용액을 원하는 생성물과 블순물의 최소한 부분적으로 용해되기에 충분한 온도로 가열한뒤 순수한 형태의 일반식(II) 화합물을 침전시키기 위해 용액을 냉각시키는 것으로 구성된 일반식(II) 화합물 또는 이의 호변체 또는 염의 제조방법을 제공한다.
Figure kpo00003
식중, R1,R2,R3,R4,R5및 R6는 일반식(I)에서와 동일 본문에서 사용된 일반식(II) 또는 (III)의 "염"이라함은 나트륨 또는 칼륨염과 같은 염을 형성하기 위하여 R6가 수소인 적당한 화합물과 염기를 반응시켜 얻은 화합물을 지칭하는 것이다.
만일 필요하다면 반응하지 않고 존재하는 산을 희석하기 위하여 최종 정제단계 도중에 반응혼합물에 물을 부가할 수 있다.
이에 더하여, 최종 냉각 단계에 들어가기전에 용해되지 않은 불순물을 여과시켜 제거할 필요가 있다.
질산, 질산소다, 진한 황산과 질산소다의 혼합물, 또는 진한 질산과 진한 황산의 혼합물 같은 표준 질화제(standard nitrating agent)로 반응시키므로서 적합한 질화가 실행된다.
칼륨염과 같은 일반식(III) 화합물의 염이 바람직하게 반응에 이용된다.
이 방법에 이용하기에 적합한 용매에는 할로겐화 알칸 특히 디클로로메탄, 디클로로에탄, 디클로로프로판같은 염소처리한 탄화수소 및 이들의 다양한 이성체적 형태의 Arcton 같은 클로로플루오로하이드로카본, 니트로벤젠같은 질화에 대해 불활성화되는 방향족 용매가 포함된다. 사용되는 특정한 용매는 제조되는 특정한 일반식(I) 화합물의 용해도에 따라 달라진다. 숙련된 화학자는 반복된 방법으로 인하여 질화와 정제단계에 어떤 특정한 용매가 적합한가를 결정할 수 있을 것이다.
공정중의 질화단계는 0°-40℃의 온도에서 실행되는데, 상온으로 하는 것이 바람직하다. 정제단계(가열, 냉각 및 여과)는 제조될 일반식(I) 화합물과 용매에 따라 달라진다.
용액을 일정온도로 가열하여 일정한 부분 예컨대 70% w/w 이상의 불순물을 용해시키는 것이 바람직하다. 최소한 얼마간의 생성물이 또한 용해될 것이다.
반응 혼합물의 물 함량을 허용가능한 수준까지 조절하는 적이 적합하다. 최적의 결과를 얻기 위해 필요한 정확한 함량은 예컨대 질화체내에 존재하는 황산의 함량등이 포함되는 여러가지 인자에 따라 달라진다. 일반적으로 물 함량이 1-3% w/w인 것이 바람직하다고 알려졌다. 물 함량을 조절하는 통상적인 방법은 용액을 적당한 온도까지 가열하고난뒤 질화제를 부가하기 전에 물을 증발시켜 제거하는 것이다.
본문에서 쓰이는 "실제적으로 순수한 형태"라는 표현은 생성물이 10% 미만, 바람직하게는 5% 미만의 불순물을 함유한다는 의미이다. 실제로 불순물이 전혀없는 생성물이 가장 바람직한 것이다.
탄산칼륨같은 염기 존재하에서 일반식(IV) 화합물을
Figure kpo00004
식중, R3,R4및 R5는 일반식(I)에서와 동일하고 R7는 할로겐, 특히 염소같은 이탈기 일반식(V)의 화합물과 반응시켜
Figure kpo00005
식중, R1과 R6는 일반식(I)에서와 동일 일반식(III)의 화합물과 이의 염을 제조할 수 있다.
바람직한 구체예로 질화 및 정제 단계에서 이용되었던 동일한 용매내에서 일반식(IV) 화합물과 일반식(V) 화합들의 반응이 실행된다. 일반식(III) 화합물염이 용액으로부터 처음 분리되지 않고 직접 반응할 수 있다.
일반식(IV) 및 (V) 화합물은 공지된 화합물이거나 또는 통상적인 방법으로 공지된 화합물로부터 제조할 수 있다.
본 발명의 방법은 바람직하게 일반식(VI) 화합물을 제조하는데 이용된다.
Figure kpo00006
식중, R8은 수소 또는 불소 R9은 메틸 또는 에틸 R8이 수소이고 R9가 메틸인 경우 상기한 공정단계에 이용하기 바람직하기 용매는 1,2-디클로로에탄이다. R8이 불소이고 R9이 에틸일때의 바람직한 용매는 1,2-디클로로프로판이다.
용액내에서의 반응혼합물의 농도는 공정의 각 단계마다 최적화하기 위한 용매를 부가하기 때문에 각 단계마다 다르다. 예컨대 R8이 수소이고 R9이 메틸인 일반식(VI) 화합물을 제조하기 위한 경우, 용매가 1,2-디클로로에탄일때 적당한 일반식(IV) 및 (V) 화합들의 반응은 약 28% w/w 정도의 농도로 실행된다. 결과의 용액을 질화 반응을 실행하기 위하여 1,2-디클로로에탄을 더 부가하여 약 21% w/w 정도로 희석시키는 것이 바람직하다. 이 경우에, 존재하는 일반식(III) 화합물 각 1몰에 대해 약 1.4몰의 진한 질산에서 약 5몰의 진한 황산으로 구성된 질화제를 용액에 부가한다. 정제 단계에서 1,2-디클로로에탄을 더욱 부가하여 용액을 약 15% w/w(부가한 물을 제외하고) 정도로 희석하는 것이 바람직하다. 이러한 특별한 경우에 있어서 정제 단계는 용액을 약 70-72℃까지 가열한 다음 잘 조절하여 20℃까지 냉각시키는 것으로 이루어진다.
비록, 한 반응기 내에 있는 용액을 다른 반응기로 옮겨 가는 것과 같이 분리된 반응기로 각각의 단계로 반응을 진행시키는 것이 더욱 효과적이나 상기한 것과 같이 동일한 한 반응기내에서 각 단계별 반응을 실행할 수도 있다.
다음의 실시예가 본 발명을 예시한다.
[실시예 1]
본 실시예는 다음 일반식 화합물의 제조방법을 예시한다.
Figure kpo00007
[실시예 1A]
자켓으로 둘러싸인 21 유리 반응기에 1,2-디클로로에탄(360ml)을 충진시키고 이어서 메탄 술폰아미드(74.2g)를 넣은 다음 50℃까지 온도를 증가시켰다. 무수 탄산칼륨(210g)을 교반하면서 부가한 다음 반응 혼합물을 환류온도(83℃)까지 가열하였다. 환류하에서 5-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페녹시)-벤조일클로라이드(189.73g)을 11/2시간에 걸쳐 부가하였다. 혼합물을 30분간 더 환류시킨뒤 물을 붓고 70℃까지 온도를 증가시킨뒤 30분간 더 유지하게 하였다. 하층의 수성층을 분리해 낸뒤 남아있는 상층(Upper layer)을 물 함량을 약 3% w/w로 줄이는 뱃취(batch) 온도가 77.5℃ 될때까지 공비증류하였다. 1,2-디클로로에탄(230ml)을 더 부가하고 결과의 용액을 분석하니 21% w/w의 5-(2-클로로-4-트리플루오로메틸-페녹시)-N-메탄설포닐벤조아미드와 2% w/w 물을 함유하는 것으로 나타났다.
[실시예 1B]
실시예 1A에서 얻은 용액의 샘플(468.5g)을 500ml 플라스크에 넣고 35℃로 유지하면서 진한 황산 혼합물(86.4g) 및 진한 질산(23.7g)과 진한 황산(48.1g)의 혼합물을 교반하면서 2시간에 결쳐 부가하였다. 반응 혼합들을 90분동안 실온까지 냉각되도록 방치한뒤 물(370ml)과 1,2-디클로로에탄(100ml)을 부가하였다. 혼합물을 환류(75℃)에서 30분동안 가열하고 난 뒤 20℃까지 냉각되도록 방치하고 고체생성물의 침전이 생기도록 밤새 방치하였다. 고체를 여과하여 물로 세척한뒤 80℃로 건조시켜 원하는 생성물을 얻었다(순도 93%,72g).
[실시예 2]
본 실시예는 다음 일반식 화합물의 제조방법을 예시한다.
Figure kpo00008
5-(2-클로로-6-플루오로-4-트리플루오로메틸페녹시)-N-에탄술포닐벤즈아미드 칼륨염(34.3g)의 수성용액(145.8g)을 유리 용기에 넣고 1,2-디클로로프로판(92.5g)을 부가하였다. 혼합물을 저어주면서 점차적으로 70-75℃까지 가열하고 수성상의 pH가 1이 될때까지 50% 수성 황산을 적가하였다. 혼합물을 가라앉도록 한뒤 유기상을 분리해냈다.
용액의 샘플(130.6g)을 500ml 플라스크에 넣고 물(2.0g)을 부가하였다. 1 : 2 비율의 진한 질산과 황산의 혼합물(35.7g)과 진한 황산(17.85g)을 저어가면서 2시간동안 부가하고 처리하는 동안의 온도를 25-30℃로 유지하도록 하였다. 25-30℃에서 30분간 더 교반하고 난뒤 물(338g)을 부가하고 혼합물을 환류하에서 35분간 가열하였다. 스스로 20℃가 되게한 뒤 혼합물을 주변온도에서 이틀간 방치하였다. 이렇게 하여 형성된 고체 침전물을 재부유시켜 여과하여 물로 세척한뒤 60℃로 건조시켜 원하는 생성물(26.9g)을 얻었다.
[실시예 3]
본 실시예는 실시예 1에서의 화합물의 제조방법을 예시한다. 5-(2-클로로-4-트리플루오로메틸페녹시)-N-메탄술포닐벤즈아미드 칼륨염의 25% w/w 수성 용액(400g), 1,2-디클로로에탄(614g), 진한 질산과 진한 황산의 1 : 2 혼합물(21.2g)을 반응용기에 넣고 pH가 1.6이 될때까지 오르토-인산(40g)을 적가하였다. 혼합물을 70℃까지 가열한뒤 가라앉히고 유기상을 분리해냈다. 유기상을 86℃까지 가열, 공비증류하여 물을 제거하였다.
이 용액(532.1g)을 반응용기에 넣고 진한 질산과 진한 황산의 1 : 2 혼합물(52.35g)과 진한 황산(54g)을 35℃로 유지하면서 1시간 50분간 적가하였다. 혼합물을 분리 용기로 옮긴 다음 1,2-디클로로에탄(12ml)을 부가하고 35℃에서 2시간 교반한뒤 물(363g)을 부가하였다. 73℃까지 가열한뒤 혼합물을 27℃로 서서히 냉각시켜 원하는 고체 첨전물을 얻었다.

Claims (10)

  1. 하기식(II)의 생성물을 정제하기 위한 반응조건하에 질화에 견디는 용매내에서 질화제로 하기식(III)의 화합물 또는 이의 염을 질화시키는 단계 ; 여기서 얻어진 용액을 충분한 온도까지 가열하여 목적하는 생성물 및 불순물을 최소한 부분적으로 용해시키는 단계 ; 용액을 냉각시켜 실질적으로 순수한 형태의 식(II) 화합물을 침전시키는 단계로 구성되는 실질적으로 순수한 형태의 하기식(II) 화합물 및 이의 호변체 및 염의 제조방법.
    Figure kpo00009
    [식중, R1은 임의로 하나이상의 할로겐원자로 치환된 C1-6알킬, R3는 수소, 불소, 염소, 브롬 또는 요오드, C1-6알킬, 트리플루오로메틸 또는 시아노그룹, R4는 수소, 불소, 염소, 브롬, 요오드 또는 트리플루오로메틸, 및 R5는 불소, 염소, 브롬, 요오드 또는 트리플루오로메틸, R6는 수소 또는 C1-4알킬임].
    Figure kpo00010
    [식중, R1,R3,R4,R5및 R6는 일반식(III)에서와 동일함.]
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 용매가 질화에 대하여 불활성인 할로겐화된 알칸, 플루오로하이드로카본 및 방향족 용매에서 선택된 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 식(III) 화합물의 염이 사용된 방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 전기한 항중 어느 한 항에 있어서, 진한 질산, 질산소다, 진한 황산과 질산소다의 혼합물, 또는 진한 질산과 진한 황산의 혼합물에서 선택된 질화제와 반응시킴으로써 질화가 행해지는 방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 하기식(VI) 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00011
    식중, R8은 수소 또는 불소, R9은 메틸 또는 에틸임.
  6. 제 5 항에 있어서, 식(VI) 화합물의 R8이 수소, R9가 메틸이고 용매가 1,2-디클로로에탄인 방법.
  7. 제 5 항에 있어서, 식(VI) 화합물의 R8이 불소, R9이 에틸이고 용매가 1,2-디클로로프로판인 방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 염기 존재하에 상기 용매내에서 하기식(IV) 화합물을 하기식(V) 화합물과 반응시켜 하기식(III) 화합물을 제조하는 방법.
    Figure kpo00012
    [식중, R3, R4및 R5는 제 1 항에서 정의한 바와같고, R7는 이탈기임].
    Figure kpo00013
    [식중, R6과 R6는 제 1 항에서 정의한 바와같음.]
  9. 제 1 항에 있어서, 초기 반응 혼합물의 물 함량이 1-3% w/w로 조정된 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, 반응 혼합물을 적당한 온도로 가열한 다음 질화제를 가하기전에 증류시켜 물을 제거함으로써 물 함량을 조절하는 방법.
KR1019870013291A 1986-11-25 1987-11-25 제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법 KR950013107B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB86-28109 1986-11-25
GB8628109 1986-11-25
GB868628109A GB8628109D0 (en) 1986-11-25 1986-11-25 Chemical process

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR880006179A KR880006179A (ko) 1988-07-21
KR950013107B1 true KR950013107B1 (ko) 1995-10-24

Family

ID=10607873

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019870013291A KR950013107B1 (ko) 1986-11-25 1987-11-25 제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법

Country Status (13)

Country Link
US (1) US4845285A (ko)
EP (1) EP0274194B1 (ko)
JP (1) JP2502327B2 (ko)
KR (1) KR950013107B1 (ko)
AR (1) AR243867A1 (ko)
AT (1) ATE73765T1 (ko)
AU (1) AU620022B2 (ko)
BR (1) BR8706322A (ko)
DE (1) DE3777596D1 (ko)
GB (2) GB8628109D0 (ko)
HU (1) HU203714B (ko)
IL (1) IL84403A (ko)
ZA (1) ZA878326B (ko)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9518704D0 (en) 1995-09-13 1995-11-15 Zeneca Ltd Chemical process
US6028219A (en) * 1995-09-13 2000-02-22 Zeneca Limited Process for the nitration of diphenylethers
US5910604A (en) * 1995-09-13 1999-06-08 Zeneca Limited Purification process
GB9930369D0 (en) * 1999-12-22 2000-02-09 Zeneca Ltd Chemical process
CN102030655B (zh) * 2010-10-21 2013-03-27 上虞颖泰精细化工有限公司 二苯醚衍生物的合成方法以及乙氧氟草醚的合成方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3856895A (en) * 1968-10-04 1974-12-24 F Eiseman Phosphonamides
US4005102A (en) * 1974-07-08 1977-01-25 General Electric Company Process for making 4-nitro-n-methylphthalimide
EP0003416B1 (en) * 1978-01-19 1981-08-26 Imperial Chemical Industries Plc Diphenyl ether compounds useful as herbicides; methods of using them, processes for preparing them, and herbicidal compositions containing them
GR65995B (ko) * 1978-01-19 1981-01-13 Ici Ltd
DE3071736D1 (en) * 1979-06-22 1986-10-09 Rhone Poulenc Agrochimie Process for preparing 2-nitro-5-(substituted-phenoxy) benzoic acids and salts thereof
US4388472A (en) * 1979-07-18 1983-06-14 Imperial Chemical Industries Plc Substituted diphenyl ethers
US4465508A (en) * 1979-07-18 1984-08-14 Imperial Chemical Industries Plc Diphenyl ether herbicides
DE3165721D1 (en) * 1980-02-05 1984-10-04 Ici Plc Method of preparing fluorine-substituted diphenyl ether derivatives and fluorine-substituted halogeno benzene derivatives for use therein
FR2510105A1 (fr) * 1981-07-27 1983-01-28 Rhone Poulenc Agrochimie Procede de preparation d'acides phenoxybenzoiques
FR2524465A1 (fr) * 1982-04-01 1983-10-07 Rhone Poulenc Agrochimie Nouveaux herbicides derives d'acides phenoxybenzoiques a groupe sulfonimide
GB8309648D0 (en) * 1983-04-08 1983-05-11 Ici Plc Herbicidal compounds

Also Published As

Publication number Publication date
KR880006179A (ko) 1988-07-21
IL84403A (en) 1992-05-25
EP0274194B1 (en) 1992-03-18
JP2502327B2 (ja) 1996-05-29
BR8706322A (pt) 1988-07-19
US4845285A (en) 1989-07-04
EP0274194A1 (en) 1988-07-13
AU8133487A (en) 1988-05-26
GB8725672D0 (en) 1987-12-09
ATE73765T1 (de) 1992-04-15
AU620022B2 (en) 1992-02-13
HUT45957A (en) 1988-09-28
AR243867A1 (es) 1993-09-30
DE3777596D1 (de) 1992-04-23
ZA878326B (en) 1988-05-25
HU203714B (en) 1991-09-30
GB8628109D0 (en) 1986-12-31
JPS63141958A (ja) 1988-06-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0055951B1 (fr) Procédé pour la préparation de l'anthraquinone et de ses dérivés substitués
JP2001518904A (ja) ４−ブロモメチルジフェニル化合物の調製方法
CA2006464C (fr) Procede de preparation du phenyl-1 diethylaminocarbonyl-1 phtalimidomethyl-2 cyclopropane z
KR950013107B1 (ko) 제초성 디페닐 에테르 유도체의 제조방법
JP2688657B2 (ja) 芳香核に結合するメチル基の臭素化方法
EP1000010B1 (en) Nitration process for diphenyl ethers
JP2005532406A (ja) ニトロフェノールの製造方法
JPH07233106A (ja) モノヨウ素化芳香族化合物の製造方法
JPS5838235A (ja) フエノキシ安息香酸誘導体の精製方法
JP2574667B2 (ja) 新規なフルオル化されたｏ−ジアミノベンゾ−１，４−ジオキセン
JPH05194341A (ja) ３−クロロアントラニル酸アルキルの製造方法
KR0152518B1 (ko) 히드록실아민 유도체
JP2965755B2 (ja) ２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メルカプト−フェノールの製造方法
JPH0549654B2 (ko)
JPH10158206A (ja) １，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）アルカンの精製法
JP2003518088A (ja) ジフェニルエーテル化合物の製造方法
JPS604149A (ja) ２−アシルフエノ−ル類の製造方法
FR2505327A1 (fr) Procede d'halogenation en meta de n-(o,o'-dialkyl phenyl) alaninates et homologues
JP3001626B2 (ja) ２―クロロプロピオンアルデヒド三量体およびその製造方法
US5440045A (en) Triazolinone ring formation in tert-butanol
FR2522652A1 (fr) Procede pour la fabrication d'ortho- ou de para-nitrophenetole pratiquement pur
JPH0586042A (ja) ２−メルカプト−フエノチアジンの製造方法
SU1525145A1 (ru) Способ получени смесей изомеров нитроалкилбензола
JPH05178833A (ja) Ｎ−シアノアセトアミジン誘導体の製造方法
JPS6256149B2 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19991008

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee