KR930010062B1 - 수평 안내 회로 기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법 및 장치 - Google Patents
수평 안내 회로 기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법 및 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR930010062B1 KR930010062B1 KR1019860006487A KR860006487A KR930010062B1 KR 930010062 B1 KR930010062 B1 KR 930010062B1 KR 1019860006487 A KR1019860006487 A KR 1019860006487A KR 860006487 A KR860006487 A KR 860006487A KR 930010062 B1 KR930010062 B1 KR 930010062B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- nozzle
- circuit board
- hole
- cleaning
- activating
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 7
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 title claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0085—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor
- H05K3/0088—Apparatus for treatments of printed circuits with liquids not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46; conveyors and holding means therefor for treatment of holes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/02—Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
- H05K2203/0285—Using ultrasound, e.g. for cleaning, soldering or wet treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0736—Methods for applying liquids, e.g. spraying
- H05K2203/0746—Local treatment using a fluid jet, e.g. for removing or cleaning material; Providing mechanical pressure using a fluid jet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S239/00—Fluid sprinkling, spraying, and diffusing
- Y10S239/19—Nozzle materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S239/00—Fluid sprinkling, spraying, and diffusing
- Y10S239/22—Safety air nozzles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
제 1 도는 본 발명에 의한 장치의 단면도.
제 2 도는 본 발명에 의한 장치의 사시도.
제 3 도는 처리단계의 개략도.
제 4 도는 천공된 마스크의 평면도 및 측면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 노즐 하우징 2 : 예비실
3 : 천공된 마스크 4 : 노즐 내부 공간
5 : 노즐 6 : 양극
7 : 노즐 하우징과 회로 기판 사이의 간극
8 : 회로 기판 9 : 초음파 진동기
10 : 입구 노즐 11 : 슬라이딩 접점
12 : 처리용액 13 : 펌프
14 : 탱크 15 : 안내롤러
A : 회로 기판 하방의 노즐 A+B : 초음파 진동기(9)를 가진 노즐
A+B : 서로 수직으로 또는 엇갈리게 배치된 두 노즐
A+B+C : 초음파 진공기(9)와 서로 대향 배치된 두 노즐
A+D : 전해 노즐(D)(양극+음극)
A+C+D : 서로 대향된 전해 노즐(D)(양극+음극)
본 발명은 수평으로 안내되는 회로기판내에 천공된 구멍들을 청소, 활성화 또는 금속 피복하는 방법 및 이 방법을 실시하기 위한 장치에 관한 것이다.
활성화 및 금속 피복등 이른바 관통 도금 과정이 종료된 후 양 표면이나 절연 재료 내부에 있는 층이 천공된 구멍에 연결되는 프린트된 기판용 회로 기판의 기능은 그 접속시에 발생하는 불순물을 완전히 제거할 수 있는가에 따라 크게 좌우된다.
이와같은 회로 기판내의 공급 구멍을 청소하는 방법 및 장치는 이미 공지된 바 있다(독일연방공화국 특허 제 26 06 984 호). 그러나, 이 방법과 장치는 처리 속도가 비교적 느리고, 처리 시간도 비교적 길기 때문에 개선이 필요하다.
본 발명의 목적은 회로 기판내에 천공된 구멍들을 고속으로 짧은 처리 시간내에 깨끗이 청소하고 처리할 수 있는 방법 및 장치를 제공하는 것이다.
이런 목적은 본 발명의 특허청구범위 제 1 항에 기술된 바에 의하여 해결된다.
본 발명의 또 다른 적합한 실시예는 특허청구범위의 종속항에 기술되어 있다.
본 발명의 방법에 의하면 이제까지 달성하지 못하던 방식으로 회로기판내에 천공된 구멍의 내벽을 매우 짧은 처리 시간내에 깨끗이 청소할 수 있다.
이 방법은 그외에도, 종래의 활성화 및 금속 피복 용액을 사용한 것보다 천공된 구멍들을 활성화시키고, 금속 피복하는데 적합하다.
본 발명의 장점은 0.15mm 정도의 매우 작은 직경의 구멍도 확실하게 컨디셔닝 하고, 활성화 시키거나 금속 피복할 수 있다는 점이다.
또 다른 장점은 접착성 수소기포가 없기 때문에 예를들면 화학적 동 도금과 같은 금속 피복화를 매우 원만하게 수행할 수 있고, 대부분의 공정단계들을 가열않고 수행할 수 있으며, 프레임의 금속 박리가 일어나지 않는다는 것이다.
노즐은 홈구멍 형태 또는 구멍이 뚫린 상태 또는 대칭, 비대칭적으로 관통되어 있는 천공 평면의 형태로 할 수 있다.
청소액으로는 예를들면, 물, 황산과 같은 산 또는 염기를 사용할 수 있다. 활성화를 위하여는 예를 들면, 필라듐염 용액과 같은 귀금속 용해액 같은 종래의 활성화 용액을 사용할 수 있다.
화학적 도금 및 경우에 따라서는 전기 도금에 있어서도 통상적 전해액을 사용할 수 있다.
본 발명의 실시예를 첨부 도면에 의하여 더 상세히 설명하면 다음과 같다.
처리 용액(예룰들어 물)은 다수의 입구 노즐(10)을 통하여 예비실(2)내로 주입된다. 노즐 내부 공간은 구멍마스크(3)에 의하여 분할되고, 이 천공된 마스크에 의하여 노즐로의 흐름이 분배된다. 홈 구멍 노즐 앞에 있는 노즐 내부공간(4)은 용액이 노즐(5)을 통과한 후 균일한 파를 형성하기 위한 유지 공간으로 이용된다.
이렇게 되면 노즐 하우징(1)과 회로 기판(8) 사이의 공간(7)에는 과도압력이 생기고, 이러한 과도압력은 용액을 고속 유동 영역을 거쳐 천공구멍으로 통과하게 한다. 회로기판을 화학적으로 처리하는 경우에는 하부파 형성 노즐만이 작동된다. 초음파 및 전기 화학적 공정에 의하여 청소가 끝나면 회로기판의 상, 하측에 각각 위치되고 서로에 대해 운동하는 2개의 노즐로써 작업을 한다. 이러한 경우에는 파 형성 노즐, 즉 상기 회로 기판위에 초음파 진공기(3)을 설치한다. 전기 분해를 위하여 양극(6)을 내부 공간에 고정시킨다. 회로기판(8)은 습윤 영역 밖의 노즐뒤에 배치된 슬라이딩 접점(11)에 의해 음극성을 띠게 된다.
본 발명에 의한 방법은 특히 전기공학에서 사용하는 프린트 회로용 회로기판을 처리하는데 특히 접합하다.
Claims (8)
- 수평으로 안내되는 회로기판에 천공된 구멍을 청소, 활성화 또는 금속 피복하는 방법에 있어서, 회로기판이 일정한 속도로 운반방향에 수직인 콘베이어 통로 하방에 위치된 노즐로 형성되어 있는 파 형성부위를 횡단하여 이동하고, 이 노즐로부터 처리 용액이 일정한 파형으로 회로 기판 하부로 흐르는 것을 특징으로 하는 수평 안내 회로기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 회로기판이 노즐 위쪽 1mm 거리에 배치되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제 1 항 또는 제 2 항중 어느 하나에 의한 방법을 실시하기 위한 장치에 있어서, 노즐이 입구 노즐을 가진 예비실에 의해 형성된 노즐 하우징의 상부에 배치되어 있고, 그 예비실은 천공된 마스크에 의하여 노즐 내부공간의 상부와 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 노즐이 홈구멍이 천공되거나, 구멍이 대칭 또는 비대칭으로 천공 또는 제공되어 있는 천공 평면의 형태로 되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 노즐 하우징의 상부가 노즐에 대하여 경사진 평면을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 노즐 하우징의 내부, 특히 그 상부에 초음파 진동기가 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 회로기판의 상, 하부측에 엇갈리게 배치된 2개의 노즐이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제 3 항에 있어서, 노즐 하우징내에, 특히 그 하부에 양극이 고정되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP3528575.3 | 1985-08-06 | ||
DE19853528575 DE3528575A1 (de) | 1985-08-06 | 1985-08-06 | Verfahren und einrichtung zur reinigung, aktivierung und/oder metallisierung von bohrloechern in horizontal gefuehrten leiterplatten |
DE3528575.3 | 1985-08-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR870002752A KR870002752A (ko) | 1987-04-06 |
KR930010062B1 true KR930010062B1 (ko) | 1993-10-14 |
Family
ID=6278093
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019860006487A KR930010062B1 (ko) | 1985-08-06 | 1986-08-06 | 수평 안내 회로 기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법 및 장치 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4789405A (ko) |
EP (1) | EP0212253B2 (ko) |
JP (1) | JPS6297396A (ko) |
KR (1) | KR930010062B1 (ko) |
CN (1) | CN1016483B (ko) |
AT (1) | AT397011B (ko) |
BG (1) | BG49390A3 (ko) |
CA (1) | CA1276528C (ko) |
CZ (1) | CZ278956B6 (ko) |
DE (2) | DE3528575A1 (ko) |
SK (1) | SK278074B6 (ko) |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3638630A1 (de) * | 1986-11-11 | 1988-05-26 | Schering Ag | Verfahren zur entfernung von harzverschmutzungen in bohrloechern von leiterplatten |
DE8703114U1 (de) * | 1987-02-25 | 1987-04-09 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Einrichtung zur Reinigung oder chemischen Behandlung von Werkstücken |
DE3879929D1 (de) * | 1988-02-25 | 1993-05-06 | Schmid Gmbh & Co Geb | Vorrichtung zur behandlung von elektrischen leiterplatten. |
DE3821980A1 (de) * | 1988-06-29 | 1990-01-11 | Schering Ag | Vorrichtung und verfahren zur reinigung und behandlung von horizontal bewegten leiterplatten |
DE3916694A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur chemischen behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten, sowie dazugehoeriges verfahren |
DE3916693A1 (de) * | 1989-05-23 | 1990-11-29 | Schering Ag | Anordnung zur behandlung und/oder reinigung von gut, insbesondere von mit bohrungen versehenen leiterplatten |
DE3932779A1 (de) * | 1989-09-30 | 1991-04-11 | Schering Ag | Verfahren zum behandeln von gegenstaenden mit einer fluessigkeit, sowie vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE3935831A1 (de) * | 1989-10-27 | 1991-05-02 | Hoellmueller Maschbau H | Anlage zur herstellung von durchkontaktierten leiterplatten und multilayern |
DE4040119A1 (de) * | 1990-12-13 | 1992-06-17 | Schering Ag | Verfahren zum durchfluten von bohrungen in plattenfoermigen werkstuecken, insbesondere leiterplatten, und vorrichtung hierfuer |
IT1252381B (it) * | 1991-11-12 | 1995-06-12 | Occleppo Di Francesco Occleppo | Dispositivo per la formazione d'una pellicola sulle pareti dei forellini nelle piastre per circuiti stampati |
US5289639A (en) * | 1992-07-10 | 1994-03-01 | International Business Machines Corp. | Fluid treatment apparatus and method |
IT1256443B (it) * | 1992-11-23 | 1995-12-05 | Impianto galvanico a celle elettrolitiche contrapposte con alimentazione in continuo delle superfici da trattare | |
US5378307A (en) * | 1993-04-28 | 1995-01-03 | International Business Machines Corporation | Fluid treatment apparatus |
DE4402596C2 (de) * | 1994-01-28 | 1997-03-27 | Atotech Deutschland Gmbh | Elektrolytisches Verfahren in horizontalen Durchlaufanlagen und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
EP0801883B1 (de) * | 1995-01-05 | 1999-03-03 | Hübel, Egon | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von mit feinsten löchern versehenen plattenförmigen werkstücken |
US5720813A (en) | 1995-06-07 | 1998-02-24 | Eamon P. McDonald | Thin sheet handling system |
DE19524523A1 (de) * | 1995-07-05 | 1997-01-09 | Atotech Deutschland Gmbh | Anwendung eines Verfahrens und einer Vorrichtung zum Behandeln von Fluiden in der Leiterplattentechnik |
US5741361A (en) * | 1995-07-06 | 1998-04-21 | Allan H. McKinnon | Method for fluid transport |
US5904773A (en) | 1995-08-11 | 1999-05-18 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus |
US5614264A (en) * | 1995-08-11 | 1997-03-25 | Atotech Usa, Inc. | Fluid delivery apparatus and method |
DE19530989C1 (de) * | 1995-08-23 | 1997-03-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren zum Filmstrippen |
DE19534521C1 (de) | 1995-09-06 | 1996-11-21 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von sich in Werkstücke erstreckende Löcher oder Vertiefungen mit flüssigen Behandlungsmitteln und Anwendung des Verfahrens zur Behandlung von Leiterplatten |
JP3005898B2 (ja) * | 1998-04-30 | 2000-02-07 | 東京化工機株式会社 | 液体噴射装置 |
US6336976B1 (en) * | 1999-01-04 | 2002-01-08 | Kabushiki Kaisha Sankyo Seiki Seisakusho | Hole processing apparatus and method thereof and dynamic pressure bearings cleaning method |
JP3120073B2 (ja) * | 1999-02-22 | 2000-12-25 | 東京化工機株式会社 | 薬液処理装置 |
DE10015349A1 (de) | 2000-03-23 | 2001-10-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von durchgehende Löcher und/oder Vertiefungen aufweisenden Schaltungsträgern sowie Anwendung des Verfahrens und Verwendung der Vorrichtung |
DE10110823A1 (de) * | 2001-03-07 | 2002-10-02 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zum Abtragen von Materialablagerungen, die bei einer Laserbearbeitung entstehen |
DE10255884B4 (de) | 2002-11-29 | 2006-05-11 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
DE10323658A1 (de) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Gebr. Schmid Gmbh & Co. | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung eines Substrats |
DE102004002421A1 (de) * | 2004-01-16 | 2005-08-18 | Atotech Deutschland Gmbh | Düsenanordnung |
GB2459055B (en) * | 2007-01-11 | 2012-05-23 | Peter Philip Andrew Lymn | Liquid treatment apparatus |
CN102950127A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-03-06 | 大连太平洋电子有限公司 | 一种线路板钻孔刀具的清洗方法 |
JP6160147B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2017-07-12 | Tdk株式会社 | 電子部品モジュールの製造方法、無電解メッキ方法及び無電解メッキ装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3868272A (en) * | 1973-03-05 | 1975-02-25 | Electrovert Mfg Co Ltd | Cleaning of printed circuit boards by solid and coherent jets of cleaning liquid |
FR2301307A1 (fr) * | 1975-02-24 | 1976-09-17 | Applic Meca Pour Ind Labo | Installation pour le traitement de produits par passage dans un liquide |
DE2606984C3 (de) * | 1976-02-20 | 1978-08-24 | Siemens Ag | Verfahren und Einrichtung zum chemischen Reinigen von Kontaktierungslöchern in Leiterplatten |
US4131483A (en) * | 1976-05-28 | 1978-12-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Methods for cleaning articles with upward flowing liquids |
US4076222A (en) * | 1976-07-19 | 1978-02-28 | Schaming Edward J | Runout cooling method and apparatus for metal rolling mills |
US4132567A (en) * | 1977-10-13 | 1979-01-02 | Fsi Corporation | Apparatus for and method of cleaning and removing static charges from substrates |
JPS5621147A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-27 | Xerox Corp | Sheet collector and sorter |
DE3006045A1 (de) * | 1980-02-18 | 1981-08-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zur behandlung, insbesondere reinigung, von flachen objekten |
DE3011061C2 (de) * | 1980-03-21 | 1983-12-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Intensivierung von Spül- und Reinigungsprozessen für Perforationen in Formstücken in Spül- und Reinigungsautomaten |
JPS5858292A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-06 | Electroplating Eng Of Japan Co | 微小孔を有するメツキ物のメツキ装置 |
DE3305564C1 (de) * | 1983-02-15 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zum Aufbau von metallisierten Leiterbahnen und Durchkontaktierungen an gelochten Leiterplatten |
SE440719B (sv) * | 1983-06-17 | 1985-08-12 | Holmstrands Plaatindustri Ab | Sett och anordning vid rengoring av kretskort, som tidigare underkastats en lodningsoperation med flussmedel |
US4543130A (en) * | 1984-08-28 | 1985-09-24 | Rca Corporation | Megasonic cleaning apparatus and method |
-
1985
- 1985-08-06 DE DE19853528575 patent/DE3528575A1/de not_active Ceased
-
1986
- 1986-07-16 EP EP86109731A patent/EP0212253B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-07-16 DE DE8686109731T patent/DE3669256D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-01 BG BG076053A patent/BG49390A3/xx unknown
- 1986-08-04 AT AT0209586A patent/AT397011B/de not_active IP Right Cessation
- 1986-08-04 US US06/893,563 patent/US4789405A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-05 CN CN86105385A patent/CN1016483B/zh not_active Expired
- 1986-08-06 CZ CS865884A patent/CZ278956B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1986-08-06 KR KR1019860006487A patent/KR930010062B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1986-08-06 SK SK5884-86A patent/SK278074B6/sk unknown
- 1986-08-06 CA CA000515424A patent/CA1276528C/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-08-06 JP JP61183566A patent/JPS6297396A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN86105385A (zh) | 1987-04-01 |
ATA209586A (de) | 1993-05-15 |
BG49390A3 (en) | 1991-10-15 |
AT397011B (de) | 1994-01-25 |
CZ278956B6 (en) | 1994-10-19 |
CN1016483B (zh) | 1992-04-29 |
CA1276528C (en) | 1990-11-20 |
EP0212253B1 (de) | 1990-02-28 |
EP0212253A3 (en) | 1987-08-12 |
KR870002752A (ko) | 1987-04-06 |
SK278074B6 (en) | 1995-12-06 |
US4789405A (en) | 1988-12-06 |
JPS6297396A (ja) | 1987-05-06 |
EP0212253B2 (de) | 1998-11-11 |
DE3528575A1 (de) | 1987-02-19 |
JPH0445996B2 (ko) | 1992-07-28 |
DE3669256D1 (de) | 1990-04-05 |
EP0212253A2 (de) | 1987-03-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR930010062B1 (ko) | 수평 안내 회로 기판내에 천공된 구멍을 청소, 활성화, 금속 피복하는 방법 및 장치 | |
US6238529B1 (en) | Device for electrolytic treatment of printed circuit boards and conductive films | |
KR100297311B1 (ko) | 천공구멍을구비한인쇄회로기판의전해처리방법및그방법을수행하는장치 | |
CA2191339C (en) | Method and device for continuous uniform electrolytic metallising or etching | |
JP3357473B2 (ja) | 電気鍍金方法 | |
US5741361A (en) | Method for fluid transport | |
US4846202A (en) | Device for cleaning or chemical treatment or workpieces | |
US4155775A (en) | Cleaning of high aspect ratio through holes in multilayer printed circuit boards | |
KR20010030099A (ko) | 전자 디바이스 제조용 유체 운반 시스템 | |
US4875982A (en) | Plating high aspect ratio holes in circuit boards | |
US5556532A (en) | Manufacture of a multilayer laminate | |
JPH0354887A (ja) | プリント基板の微小孔処理方法及びその装置 | |
JPH05209298A (ja) | プリント配線板用電気めっき装置 | |
GB2111530A (en) | Selective electro plating or etching process | |
CA2156644C (en) | Method and apparatus for continuous galvanic or chemical application of metallic layers on a body | |
EP0114216B1 (en) | Method for selective electroplating | |
KR102575905B1 (ko) | 도금 장치 | |
KR100203328B1 (ko) | 리드프레임 스트라이크 도금장치 | |
JPS6277494A (ja) | プリント基板のメツキ装置 | |
JPS57200598A (en) | Plating apparatus | |
JPH06192894A (ja) | 可溶性電極 | |
JPS6277495A (ja) | プリント基板のメツキ装置 | |
SU1045419A1 (ru) | Устройство дл гальванической металлизации печатных плат | |
JPS62109992A (ja) | 部分メツキ方法 | |
JPH05239697A (ja) | エンドレスワイヤーを有するメッキ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20000926 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |