JPS5917552A - 画像形成用積層体の処理方法 - Google Patents
画像形成用積層体の処理方法Info
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- JPS5917552A JPS5917552A JP57125757A JP12575782A JPS5917552A JP S5917552 A JPS5917552 A JP S5917552A JP 57125757 A JP57125757 A JP 57125757A JP 12575782 A JP12575782 A JP 12575782A JP S5917552 A JPS5917552 A JP S5917552A
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- photosensitive layer
- exposed
- carboxylic acid
- forming laminate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/38—Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は画像形成用積層体の処理方法に関するものであ
り、更に詳しくは特に選ばれた感光層とシリコーンゴム
層からなる画像形成用積層体の画像形成法に関するもの
である。
り、更に詳しくは特に選ばれた感光層とシリコーンゴム
層からなる画像形成用積層体の画像形成法に関するもの
である。
感光層、シリコーンゴム層からなる画像形成用積層体と
しては1種々のものが知られているが。
しては1種々のものが知られているが。
なかでも支持体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴ
ム層を設けてなる画像形成用積層体としての湿し水不要
平版印刷版については、過去にいくつか提案されている
。
ム層を設けてなる画像形成用積層体としての湿し水不要
平版印刷版については、過去にいくつか提案されている
。
例えば、ポジ型用印刷版としてUSP 367718
にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層の上
にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版にポジフィ
ルムを通して露光し、未露光部の可溶性ジアゾ感光層と
シリコーンゴム層を現像液を用いて洗い出し、アルミ板
を露出せしめて画像部とするととが提案されている。
にはアルミ板に裏打ちされた光硬化型ジアゾ感光層の上
にシリコーンゴム層を設けた平版印刷版原版にポジフィ
ルムを通して露光し、未露光部の可溶性ジアゾ感光層と
シリコーンゴム層を現像液を用いて洗い出し、アルミ板
を露出せしめて画像部とするととが提案されている。
またrysp 3894873 には支持体に裏打
ちされた光重合性層の上にシリコーンゴム層を設けた平
版印刷版原版にポジフィルムを通して露光すると露光部
の光接着層が重合して、その上のシリコーンゴム層をし
っかりと接着させるが、未露光部の光接着層は、その上
のシリコーンゴム層に対して、もとの弱い接着のまま残
っているので、現像液で処理するとシリコーンゴム層の
みが容易に除去され、その下の親油性の光接着層が露出
するが。
ちされた光重合性層の上にシリコーンゴム層を設けた平
版印刷版原版にポジフィルムを通して露光すると露光部
の光接着層が重合して、その上のシリコーンゴム層をし
っかりと接着させるが、未露光部の光接着層は、その上
のシリコーンゴム層に対して、もとの弱い接着のまま残
っているので、現像液で処理するとシリコーンゴム層の
みが容易に除去され、その下の親油性の光接着層が露出
するが。
露光部のシリコーンゴム層はその下の光接着層へ9−
接着したまま残る。印刷版としては光接着層の未露光表
面がインキ受容部(画像部)となり、シリコーンゴム層
がインキ反撥部(非画像部)となることが提案されてい
る。
面がインキ受容部(画像部)となり、シリコーンゴム層
がインキ反撥部(非画像部)となることが提案されてい
る。
さらにネガ型用印刷版としてUSP 551117B
にはアルミ板に裏打ちされた先回溶化型ジアゾ感光層の
上に接着層を介してシリコーンゴム層を設けた平版印刷
版原版にネガフィルムを通して露光した後、現像液を用
いて可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上
にあるシリコーンゴム層も除去し、支持体であるアルミ
板を露出せしめ画像部とすることが提案されている。
にはアルミ板に裏打ちされた先回溶化型ジアゾ感光層の
上に接着層を介してシリコーンゴム層を設けた平版印刷
版原版にネガフィルムを通して露光した後、現像液を用
いて可溶化した感光層を溶解除去すると同時に、その上
にあるシリコーンゴム層も除去し、支持体であるアルミ
板を露出せしめ画像部とすることが提案されている。
壕だ、英国特許G、B 2064803A や英国特
許G B 2034911には支持体に裏打ちされた
キノンジアジドからなる光分解型感光層の上にシリコー
ンゴム層を設けた平版印刷版原版にネガフィルムを通し
て露光し、露光部のシリコーンゴム層。
許G B 2034911には支持体に裏打ちされた
キノンジアジドからなる光分解型感光層の上にシリコー
ンゴム層を設けた平版印刷版原版にネガフィルムを通し
て露光し、露光部のシリコーンゴム層。
場合によっては、感光層も一緒に現像液を用いて除去し
、感光層場合によっては支持体を露出せしめて画像部と
することが提案されている。
、感光層場合によっては支持体を露出せしめて画像部と
することが提案されている。
10−
上記のような画像形成用積層体の処理方法、すなわち画
像形成用積層体を印刷版とする画像形成処理においてシ
リコーンゴム層と感光層の接着が重要なポイントであり
、ただ単に接着が強ければよいというものではなく、い
かにして露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着力と
未露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着力の間に大
きな差をつけるかが重要なことである。
像形成用積層体を印刷版とする画像形成処理においてシ
リコーンゴム層と感光層の接着が重要なポイントであり
、ただ単に接着が強ければよいというものではなく、い
かにして露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着力と
未露光部の感光層とシリコーンゴム層の接着力の間に大
きな差をつけるかが重要なことである。
またこれらの画像形成用積層体は同様にして感光層の膨
潤性、溶解性も重要なポイントであり。
潤性、溶解性も重要なポイントであり。
ただ単に溶解性や膨潤性がよければよいというものでは
なく、いかにして露光部感光層と未露光部感光層の現像
液に対する膨潤性、溶解性に大きな差を生じせしめるか
どうかも重要なことである。
なく、いかにして露光部感光層と未露光部感光層の現像
液に対する膨潤性、溶解性に大きな差を生じせしめるか
どうかも重要なことである。
かかる点において従来技術では種々の方法が提案されて
おり1例えばジアゾ基の光架橋によって感光層を現像液
に不溶にすること(?sp 667717B)、光重
合性の光接着層を利用して露光部の光接着層とシリコー
ンゴム層の間の接着を強固にすること(USP 38
94873など)、露光によって現像液に可溶化するジ
アゾ感光層を用いること(USP 351117B)
、キノンジアジド系感光層を光によって現像液に可溶化
するということ(英国特許GB 2034911)
露光によりシリコーンゴム層と感光層の接着力を低下
させ、現像液によってシリコーンゴム層を剥ぎとるとい
うこと(英国特許GB 2064803A)が挙げら
れる。
おり1例えばジアゾ基の光架橋によって感光層を現像液
に不溶にすること(?sp 667717B)、光重
合性の光接着層を利用して露光部の光接着層とシリコー
ンゴム層の間の接着を強固にすること(USP 38
94873など)、露光によって現像液に可溶化するジ
アゾ感光層を用いること(USP 351117B)
、キノンジアジド系感光層を光によって現像液に可溶化
するということ(英国特許GB 2034911)
露光によりシリコーンゴム層と感光層の接着力を低下
させ、現像液によってシリコーンゴム層を剥ぎとるとい
うこと(英国特許GB 2064803A)が挙げら
れる。
これらを含めて今まで提案された画像形成しうる積層体
としては、露光によってシリコーンゴム層と感光層の接
着を強くしたり、あるいは逆に弱くしたり、−!たけ露
光によって感光層を現像液に不溶にしたり、あるいは逆
に可溶にするという光によって直接的な変化(接着力、
耐溶剤性の点で)を生じせしめたものである。かかる従
来技術の画像形成法では未露光部と露光部のシリコーン
ゴム層と感光層の接着力の差や、未露光部と露光部の感
光層の膨潤性や溶解性の差が充分大きくない。
としては、露光によってシリコーンゴム層と感光層の接
着を強くしたり、あるいは逆に弱くしたり、−!たけ露
光によって感光層を現像液に不溶にしたり、あるいは逆
に可溶にするという光によって直接的な変化(接着力、
耐溶剤性の点で)を生じせしめたものである。かかる従
来技術の画像形成法では未露光部と露光部のシリコーン
ゴム層と感光層の接着力の差や、未露光部と露光部の感
光層の膨潤性や溶解性の差が充分大きくない。
そのため、現像条件のわずかな変化によって版面に残る
べき部分(シリコーン上層の湿し水不要平版印刷版にお
いては、非画像部を形成すべきシリコーンゴム層)が全
面あるいは部分的に除去されたり(非画像部のハガレ、
ツブレとなる)、または逆に版面から除去されるべき部
分(シリコーン上層の温し水不要平版印刷版においては
画像部となる感光層」二にあるシリコーンゴム層)が全
面あるいは部分的に残ったりすること(現像不能、現像
不良となる)が多々生じるなど満足のいくものではない
。
べき部分(シリコーン上層の湿し水不要平版印刷版にお
いては、非画像部を形成すべきシリコーンゴム層)が全
面あるいは部分的に除去されたり(非画像部のハガレ、
ツブレとなる)、または逆に版面から除去されるべき部
分(シリコーン上層の温し水不要平版印刷版においては
画像部となる感光層」二にあるシリコーンゴム層)が全
面あるいは部分的に残ったりすること(現像不能、現像
不良となる)が多々生じるなど満足のいくものではない
。
このように非画像部のハガレ、ツプレと現像不能、現像
不良が接近していて完全に画像が形成されうるラチチュ
ード(現像のラチチュード)が狭いこと、さらに現像液
の組成が少し変化しただけで、上層のハガレが生じたり
、あるいは現像不能になったりして像形成ができなくな
る。
不良が接近していて完全に画像が形成されうるラチチュ
ード(現像のラチチュード)が狭いこと、さらに現像液
の組成が少し変化しただけで、上層のハガレが生じたり
、あるいは現像不能になったりして像形成ができなくな
る。
さらに現像時の温度依存性、湿度依存性が大きく9例え
ば実用的温度、湿度の範囲内での高温または高湿下、非
画像部のハガレが生じたり、低温または低温下現像不能
が生じたシする。
ば実用的温度、湿度の範囲内での高温または高湿下、非
画像部のハガレが生じたり、低温または低温下現像不能
が生じたシする。
また、上述のようなもの以外に現像時間(または現像液
への浸漬時間)依存性が大きく1例えば16− 印刷版面を現像ブラシで長時間こすったり、あるいは長
時間現像液に印刷版を浸漬したりすると。
への浸漬時間)依存性が大きく1例えば16− 印刷版面を現像ブラシで長時間こすったり、あるいは長
時間現像液に印刷版を浸漬したりすると。
本来強固に接着して印刷版を形成すべき感光層とシリコ
ーンゴム層の接着が現像液によっておかされ、積層体の
一部が除去されたり、または残るべき感光層が現像液に
よって膨潤、溶解されて、現像時に除去されてしまった
りして、現像時間の長短によって画像再現性に差がみら
れる。
ーンゴム層の接着が現像液によっておかされ、積層体の
一部が除去されたり、または残るべき感光層が現像液に
よって膨潤、溶解されて、現像時に除去されてしまった
りして、現像時間の長短によって画像再現性に差がみら
れる。
さらに現像時のコスリ強度の点で、荷重とコスリ回数依
存性が大きく、かつその範囲は狭い。例えば1強くこす
る(大きな荷重、コスリ回数が犬)と、接着が破壊され
、非画像部のノ1ガレを生じ。
存性が大きく、かつその範囲は狭い。例えば1強くこす
る(大きな荷重、コスリ回数が犬)と、接着が破壊され
、非画像部のノ1ガレを生じ。
一方弱くこすると画像再現性が悪く微小網点まで充分再
現しにくいこと(画像再現性のラチチュードが狭い)、
キノンジアジドを感光性物質とすることによる。露光に
よって発生する窒素ガスにもとづく焼きぼけが、もう一
つの大きな欠点であること、現像された印刷版において
感光性がそのまま保持されていること(定着されていな
いこと)による版面洗浄時などの印刷版の損傷の恐れな
ど14− いろいろ問題を含んでいる。
現しにくいこと(画像再現性のラチチュードが狭い)、
キノンジアジドを感光性物質とすることによる。露光に
よって発生する窒素ガスにもとづく焼きぼけが、もう一
つの大きな欠点であること、現像された印刷版において
感光性がそのまま保持されていること(定着されていな
いこと)による版面洗浄時などの印刷版の損傷の恐れな
ど14− いろいろ問題を含んでいる。
かかる意味において従来の技術による画像形成用積層体
およびそれを用いた画像形成法においてなかんづくシリ
コーンゴム層と感光層からなる画像形成用積層体として
の湿し水不要平版印刷版原版は画像再現性、耐溶剤性、
現像性などを含めてラチチュードが非常に狭いことが解
決すべき最大の問題の一つであり、これは画像形成用積
層体の積層間の接着力および感光層の耐現像液性で露光
部と未露光部の差が小さいことに主として起因しており
、このような問題を解決するために種々検討がされてい
るが、いまだ充分とは言えない。
およびそれを用いた画像形成法においてなかんづくシリ
コーンゴム層と感光層からなる画像形成用積層体として
の湿し水不要平版印刷版原版は画像再現性、耐溶剤性、
現像性などを含めてラチチュードが非常に狭いことが解
決すべき最大の問題の一つであり、これは画像形成用積
層体の積層間の接着力および感光層の耐現像液性で露光
部と未露光部の差が小さいことに主として起因しており
、このような問題を解決するために種々検討がされてい
るが、いまだ充分とは言えない。
本発明者らは、上記のような問題点を解決すべく鋭意検
討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
すなわち本発明は、支持体上にオルトキノンジアジド構
造を含む物質を構成成分とする感光層で。
造を含む物質を構成成分とする感光層で。
かつカルボン酸成分を含有する感光層およびシリコーン
ゴム層をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することを特徴とする画像形成用積層体の処理方法に
関するものである。
ゴム層をこの順に設けてなる画像形成用積層体を塩基処
理することを特徴とする画像形成用積層体の処理方法に
関するものである。
本発明の画像形成用積層体は湿し水不要平版印刷版原版
、特にネガ、ポジ両性タイプの湿し水不要平版印刷版原
版として用いられるものである。
、特にネガ、ポジ両性タイプの湿し水不要平版印刷版原
版として用いられるものである。
画像形成用積層体の構成は、支持体に裏打ちされた感光
層、さらにその上にシリコーンゴム層を設けてなるもの
である。
層、さらにその上にシリコーンゴム層を設けてなるもの
である。
このような積層体からネガ型湿し水不要平版印刷版を作
成するには、たとえば前記の感光層に特定量(感光層中
のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位
の5〜60モル係が光分解して生成する量をいい1以下
特定量とあれば全てこの定義に基づくものである)のカ
ルボン酸成分を全面に生成あるいは含有させた画像形成
用積層体にネガフィルムまたはネガ原画を用いて画像露
光(画像露光部の感光層中のキノンジアジド構造を含む
物質のキノンジアジド単位の少なくとも七 70f#%以上を光分解するに足る量の露光)を施すか
、あるいは逆に画像露光してから特定量のカルボン酸成
分を非画像部に生成させるために。
成するには、たとえば前記の感光層に特定量(感光層中
のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位
の5〜60モル係が光分解して生成する量をいい1以下
特定量とあれば全てこの定義に基づくものである)のカ
ルボン酸成分を全面に生成あるいは含有させた画像形成
用積層体にネガフィルムまたはネガ原画を用いて画像露
光(画像露光部の感光層中のキノンジアジド構造を含む
物質のキノンジアジド単位の少なくとも七 70f#%以上を光分解するに足る量の露光)を施すか
、あるいは逆に画像露光してから特定量のカルボン酸成
分を非画像部に生成させるために。
非画像部を含む感光層の全面に露光し1次いで画像形成
用積層体を塩基処理した後現像するあるいは塩基処理と
同時に現像することによって、ネガ型湿し水不要平版印
刷版が得られる。
用積層体を塩基処理した後現像するあるいは塩基処理と
同時に現像することによって、ネガ型湿し水不要平版印
刷版が得られる。
また、ポジ型湿し水不要平版印刷版を作成するには、た
とえば前記構成の画像形成用積層体の該感光層に特定量
のカルボン酸成分をポジフィルムまたはポジ原画を用い
て露光によシ画像状に生成させた画像形成用p積層体を
塩基処理した後現像するかあるいは塩基処理と同時に現
像することによって、ポジ型湿し水不要平版印刷版が得
られる。
とえば前記構成の画像形成用積層体の該感光層に特定量
のカルボン酸成分をポジフィルムまたはポジ原画を用い
て露光によシ画像状に生成させた画像形成用p積層体を
塩基処理した後現像するかあるいは塩基処理と同時に現
像することによって、ポジ型湿し水不要平版印刷版が得
られる。
本発明の画像形成用積層体の処理方法を図面によシ説明
するに、第1図は画像形成用積層体、第2図および第6
図は画像形成用積体を処理することによってネガ型〆湿
し水不要平版印刷版を製造する手順の一例を示す概略図
、また第4図は同じくポジ型〆湿し水不要平版印刷版を
製版する手順の一例を示す概略図である。
するに、第1図は画像形成用積層体、第2図および第6
図は画像形成用積体を処理することによってネガ型〆湿
し水不要平版印刷版を製造する手順の一例を示す概略図
、また第4図は同じくポジ型〆湿し水不要平版印刷版を
製版する手順の一例を示す概略図である。
本発明の画像形成用積層体1は第1図に示すように支持
体1a、キノンジアジド構造を含む物質17− を構成成分とする感光層(以下感光層という)1bおよ
びシリコーンゴム層1Cからなるものである。
体1a、キノンジアジド構造を含む物質17− を構成成分とする感光層(以下感光層という)1bおよ
びシリコーンゴム層1Cからなるものである。
この積層体1にネガフィルム2を密着し9画像露光を施
すことにより感光層上に画像露光された部分1b’が生
成する〔第2図(A)参照〕。次いで。
すことにより感光層上に画像露光された部分1b’が生
成する〔第2図(A)参照〕。次いで。
ネガフィルム2を取り除いて感光層1bの全面に特定量
のカルボン酸成分が生成するように露光し。
のカルボン酸成分が生成するように露光し。
〔第2図f (B)参照〕塩基処理および現像すること
によって画像露光部分1b’のシリコーンゴム層1Cを
除去することにより、ネガ型湿し水不要平版印刷版6と
なる〔第2図(C)参照〕。この手順を第身図七→に示
す。
によって画像露光部分1b’のシリコーンゴム層1Cを
除去することにより、ネガ型湿し水不要平版印刷版6と
なる〔第2図(C)参照〕。この手順を第身図七→に示
す。
また、上記の手順のうち、たとえばまず感光層1bの全
面に特定量のカルボン酸成分を露光により生成させた後
、ネガフィルム2を密着し1画像露光を施し9次いで以
下第2図と同じ手順によっでもネガ型湿し水不要平版印
刷版3が得られる。
面に特定量のカルボン酸成分を露光により生成させた後
、ネガフィルム2を密着し1画像露光を施し9次いで以
下第2図と同じ手順によっでもネガ型湿し水不要平版印
刷版3が得られる。
この手順を第3図に示す。
さらに第4図に示すように積層体1にまずポジ18−
フィルム4を密着して、%定量のカルボン酸成分を露光
により画像状に生成させ(生成部を1b に示す)〔第
4図f (A)参照31次いで塩基処理および現像する
ことにより未露光部の感光層上のシリコーンゴム層を除
去して、ポジ型湿し水不要平版印刷版5となる〔第4図
(B)参照〕。
により画像状に生成させ(生成部を1b に示す)〔第
4図f (A)参照31次いで塩基処理および現像する
ことにより未露光部の感光層上のシリコーンゴム層を除
去して、ポジ型湿し水不要平版印刷版5となる〔第4図
(B)参照〕。
以上の説明は画像部を形成する際にシリコーンゴム層の
みが除去きれるケースであるがシリコーンゴム層と共に
感光層も除去されるケースも同じく説明できる。
みが除去きれるケースであるがシリコーンゴム層と共に
感光層も除去されるケースも同じく説明できる。
かかる画像形成用積層体から湿し水不要平版印刷版を作
成するうえで塩基処理は重要な役割をはたす。すなわち
、キノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする感光
層に特定量のカルボン酸成分を生成または含有させた部
分は、塩基処理を行うとその上部にあるシリコーンゴム
層との接着力が向上し、かつその耐溶剤性も著しく向上
するだに支持体上に残存して非画像部を形成するという
重要な役割を果たすのである。
成するうえで塩基処理は重要な役割をはたす。すなわち
、キノンジアジド構造を含む物質を構成成分とする感光
層に特定量のカルボン酸成分を生成または含有させた部
分は、塩基処理を行うとその上部にあるシリコーンゴム
層との接着力が向上し、かつその耐溶剤性も著しく向上
するだに支持体上に残存して非画像部を形成するという
重要な役割を果たすのである。
本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造を
含む物質から構成されるものであり、キノンジアジド構
造を含む物質とは2通常ポジ型PS版、ワイポン版、フ
ォトレジストなどに用いられているキノンジアジド類で
ある。
含む物質から構成されるものであり、キノンジアジド構
造を含む物質とは2通常ポジ型PS版、ワイポン版、フ
ォトレジストなどに用いられているキノンジアジド類で
ある。
かかるキノンジアジド類はポリマ、オリゴマまたはモノ
マとしてでもよく、水酸基をもつ化合物と縮合して得ら
れるキノンジアジドスルホン酸エステルまたはアミン類
と縮合させて得られるキノンジアジドスルホン酸アミド
である。
マとしてでもよく、水酸基をもつ化合物と縮合して得ら
れるキノンジアジドスルホン酸エステルまたはアミン類
と縮合させて得られるキノンジアジドスルホン酸アミド
である。
これらの例としては、ベンゾキノン−1,2−ジアジド
スルホン酸、ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン
酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下エステ
ルとは部分エステルも含める)。
スルホン酸、ナフトキノン−1,2−ジアジドスルホン
酸とポリヒドロキシフェニルとのエステル(以下エステ
ルとは部分エステルも含める)。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸また
はナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
ピロガロールアセトン樹脂とのエステル。
はナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
ピロガロールアセトン樹脂とのエステル。
ベンゾキノン−1,2−ジアジドスルホン酸またはナフ
トキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とノボラック型
フェノールホルムアルデヒド樹脂またはノボラック型ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂のエステル、ポリ(p−
アミノスチレン)とナフトキノン−1,2−ジアジド−
4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸のアミド、ポリp−ヒドロキシスチレ
ンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸
またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸のエステル、ポリエチレングリコールとナフトキノン
−1,2−ジアジド−4−スルホン酸またはナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステル。重
合体アミンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のアミド、ポリメタクリル酸p−ヒドロキシ
アニリドとナフトキノy −1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のエステル、天然樹脂ロジンをアミン変性し
たものとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸のアミド、ビスフェノールAとプロピレンオキ21
− シトからのエポキシ樹脂とナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸のエステル、(メタ)アクリル酸
トジヒドロキシフェニルのモノエステルのポリマとナフ
トキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸またはナ
フトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエス
テル、アミノイソフタル酸ジアリルエステルとナフトキ
ノンジアジドスルホン酸の縮合物を重合させたもの、ポ
リカルボナートとのキノンジアジドスルホン酸エステル
またはキノンジアジド類をイソシアネート等で架橋した
もの、ビスフェノールAとナフトキノン−1゜2−ジア
ジド−4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸のエステル。
トキノン−1,2−ジアジドスルホン酸とノボラック型
フェノールホルムアルデヒド樹脂またはノボラック型ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂のエステル、ポリ(p−
アミノスチレン)とナフトキノン−1,2−ジアジド−
4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド
−5−スルホン酸のアミド、ポリp−ヒドロキシスチレ
ンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸
またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸のエステル、ポリエチレングリコールとナフトキノン
−1,2−ジアジド−4−スルホン酸またはナフトキノ
ン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエステル。重
合体アミンとナフトキノン−1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のアミド、ポリメタクリル酸p−ヒドロキシ
アニリドとナフトキノy −1,2−ジアジド−4−ス
ルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジアジド−5−
スルホン酸のエステル、天然樹脂ロジンをアミン変性し
たものとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸のアミド、ビスフェノールAとプロピレンオキ21
− シトからのエポキシ樹脂とナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホン酸のエステル、(メタ)アクリル酸
トジヒドロキシフェニルのモノエステルのポリマとナフ
トキノン−1,2−ジアジド−4−スルホン酸またはナ
フトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸のエス
テル、アミノイソフタル酸ジアリルエステルとナフトキ
ノンジアジドスルホン酸の縮合物を重合させたもの、ポ
リカルボナートとのキノンジアジドスルホン酸エステル
またはキノンジアジド類をイソシアネート等で架橋した
もの、ビスフェノールAとナフトキノン−1゜2−ジア
ジド−4−スルホン酸またはナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸のエステル。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸と7
エノール、p−クレゾールなどのフェノール類、エチル
、プロピル、フチルウアミルアルコールなどのアルコー
ル類とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸ドアニリン。
エノール、p−クレゾールなどのフェノール類、エチル
、プロピル、フチルウアミルアルコールなどのアルコー
ル類とのエステル、ナフトキノン−1,2−ジアジド−
5−スルホン酸ドアニリン。
p−ヒドロキシアニリンなどのアミン類との酸アミドな
どがあげられる。特に好ましくはキノンジ22− アジド系感光性樹脂が用いられる。
どがあげられる。特に好ましくはキノンジ22− アジド系感光性樹脂が用いられる。
本発明において感光層中に含まれるカルバ(ン酸成分は
、画像形成用積層体に露光を与えてキノンジアジド構造
を含む物質からなる感光層の全面または画像状に生成さ
せたもの、あるいはあらかじめ感光層全面にカルボン酸
成分を加えておいたものでもよい。この際含有されるカ
ルボン酸成分の量は画像形成用積層体の露光などを受け
る感光層中に含まれるキノンジアジド構造を含む物質の
キノ/ジアジド単位の5〜60モル係の範囲で光分解し
て生成した量、より好ましくは10〜50モル係の変化
量に相当する量、すなわち未反応で感光層中に残るキノ
ンジアジド/キノンジアジドの光分解で生成したカルボ
ン酸(モル比)=9515〜40/60.よシ好ましく
は90/10〜50150に相当する量である。上述し
た如く、これはキノンジアジドの勢妾呑光分解によって
この特定量のカルボン酸成分を生成させてもよいし、あ
るいはあらかじめこの量に相当するカルボン酸成分を添
加して使用することもできる。
、画像形成用積層体に露光を与えてキノンジアジド構造
を含む物質からなる感光層の全面または画像状に生成さ
せたもの、あるいはあらかじめ感光層全面にカルボン酸
成分を加えておいたものでもよい。この際含有されるカ
ルボン酸成分の量は画像形成用積層体の露光などを受け
る感光層中に含まれるキノンジアジド構造を含む物質の
キノ/ジアジド単位の5〜60モル係の範囲で光分解し
て生成した量、より好ましくは10〜50モル係の変化
量に相当する量、すなわち未反応で感光層中に残るキノ
ンジアジド/キノンジアジドの光分解で生成したカルボ
ン酸(モル比)=9515〜40/60.よシ好ましく
は90/10〜50150に相当する量である。上述し
た如く、これはキノンジアジドの勢妾呑光分解によって
この特定量のカルボン酸成分を生成させてもよいし、あ
るいはあらかじめこの量に相当するカルボン酸成分を添
加して使用することもできる。
ここで言うカルボン酸成分の量とは、赤外線吸収スペク
トル(FT−工R−A T R法)でキノンジアジドの
ジアジド基に由来する2200〜2000唾 領域の吸
収強度(吸収スペクトルの面積強度)の露光による変化
量、即ち、ジアジド基の光分解量を未露光の感光層の値
を基準にして求めたものである。
トル(FT−工R−A T R法)でキノンジアジドの
ジアジド基に由来する2200〜2000唾 領域の吸
収強度(吸収スペクトルの面積強度)の露光による変化
量、即ち、ジアジド基の光分解量を未露光の感光層の値
を基準にして求めたものである。
露光によるキノンジアジドからカルボン酸への変化は一
般的にキノンジアジド類についていわれているものであ
り、たとえばナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸とフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
を例にとると、インデンカルボン酸であり本発明におけ
るそのカルボ/酸成分の量はおよそ次のような関係にあ
る。
般的にキノンジアジド類についていわれているものであ
り、たとえばナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸とフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂
を例にとると、インデンカルボン酸であり本発明におけ
るそのカルボ/酸成分の量はおよそ次のような関係にあ
る。
ただし m+n+!=1
m / n = 9575〜40/60露光によってカ
ルボン酸成分を生成する場合。
ルボン酸成分を生成する場合。
露光量は一義的に規定することはむずかしくキノ/ジア
ジドの量、照射光などによって異なる。例えば」二連の
キノンジアジド類(エステル価40〜50%)では*
2g/cm’″の膜厚で、 420r+:mを中心とす
る波長領域の光量計(例えば、■オーク製作所製ライト
メシャークイブUV−402A)で印刷版原版面上で6
mW/l−の光量なら2〜20秒程度の露光である。
ジドの量、照射光などによって異なる。例えば」二連の
キノンジアジド類(エステル価40〜50%)では*
2g/cm’″の膜厚で、 420r+:mを中心とす
る波長領域の光量計(例えば、■オーク製作所製ライト
メシャークイブUV−402A)で印刷版原版面上で6
mW/l−の光量なら2〜20秒程度の露光である。
本発明の塩基処理に用いられる塩基とは9通常の化学分
野で用いられている塩基を意味し、陽子受容体あるいは
電子供与体と定義されるものである。塩基として無機ま
たは有機のいずれでもよく。
野で用いられている塩基を意味し、陽子受容体あるいは
電子供与体と定義されるものである。塩基として無機ま
たは有機のいずれでもよく。
−例をあげると次のようなものである。
有機塩基としては、炭素数1から60の有機塩基(ただ
し、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシアミンは例外
)が好ましく、これらの例としてはたとえば、アンモニ
ア(アンモニウムハイドロ25− キサイド)、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルア
ミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン。
し、アンモニア、ヒドラジン、ヒドロキシアミンは例外
)が好ましく、これらの例としてはたとえば、アンモニ
ア(アンモニウムハイドロ25− キサイド)、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルア
ミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン。
トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ア
ミルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、シア
ミルアミン、トリプロピルアミン。
ミルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、シア
ミルアミン、トリプロピルアミン。
トリブチルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジ
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、N、N−ジ
メチルベンジルアミン、N。
アミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、N、N−ジ
メチルベンジルアミン、N。
N −ジエチルベンジルアミン、N、N−ジプロピルベ
ンジルアミン、0−またはm−またはp−メトキシまた
はメチルベンジルアミン、N、N−ジ(メトキシベンジ
ル)アミン、β−フェニルエチルアミン、ε、δ−フェ
ニルアミルアミン、γ−フェニルプロピルアミン、シク
ロヘキシルアミン。
ンジルアミン、0−またはm−またはp−メトキシまた
はメチルベンジルアミン、N、N−ジ(メトキシベンジ
ル)アミン、β−フェニルエチルアミン、ε、δ−フェ
ニルアミルアミン、γ−フェニルプロピルアミン、シク
ロヘキシルアミン。
アニリン、モノメチルアニリン、ジメテルアニリ/、ト
ルイジン、ベンジジン、αまたはβ−ナフチルアミン、
0またはm−またはp−フェニレンジアミン、ピロリジ
ン、ピペリジン、ピペラジン。
ルイジン、ベンジジン、αまたはβ−ナフチルアミン、
0またはm−またはp−フェニレンジアミン、ピロリジ
ン、ピペリジン、ピペラジン。
モルホリン、ウロトロビン、ジアザビシクロウン26−
デカン、ビロール、ピリジン、キノリン、ヒドラジン、
フェニルヒドラジン、N、N’−ジフエ、ニルヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ
尿素、リジン、ヒスチジン、キニン、ブルシ/、カフェ
イン、シンコニン、コカイン、メトリキニン。水酸化テ
トラアルキルアンモニウム、アミノ安息香酸、ホルムア
ミド、アセタミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N
、N−ジメチルアセタミド、アセタニリド、モノエタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、2−(2−アミノエチル)エタノール。
フェニルヒドラジン、N、N’−ジフエ、ニルヒドラジ
ン、ヒドロキシルアミン、尿素、セミカルバジド、チオ
尿素、リジン、ヒスチジン、キニン、ブルシ/、カフェ
イン、シンコニン、コカイン、メトリキニン。水酸化テ
トラアルキルアンモニウム、アミノ安息香酸、ホルムア
ミド、アセタミド、N、N−ジメチルホルムアミド、N
、N−ジメチルアセタミド、アセタニリド、モノエタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、2−(2−アミノエチル)エタノール。
2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、
2−アミノ−1,3−プロパンジオール。
2−アミノ−1,3−プロパンジオール。
2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,5−プロパン
ジオールなどのアミン化合物(1級、2級。
ジオールなどのアミン化合物(1級、2級。
6級アミン、モノアミン、ジアミン、トリアミン。
テトラアミンからポリアミ/まで、脂肪族鎖式アミン、
脂肪族環式アミン、芳香族アミン、ペテロ酸などとモノ
エタノールアミン、ジェタノールアミンなどとの塩)な
どが用いられる。
脂肪族環式アミン、芳香族アミン、ペテロ酸などとモノ
エタノールアミン、ジェタノールアミンなどとの塩)な
どが用いられる。
また、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、
ナトリウムプロピラード、カリウムメチラート、カリウ
ムエチラート、カリウムプロピラード、リチウムメチラ
ート、リチウムエチラートなどのアルカリ金属アルコラ
ード、ナトリウム。
ナトリウムプロピラード、カリウムメチラート、カリウ
ムエチラート、カリウムプロピラード、リチウムメチラ
ート、リチウムエチラートなどのアルカリ金属アルコラ
ード、ナトリウム。
カリウム、リチウムのアミド、エテルアミド、ジプロピ
ルアミドなどのアルカリ金属アミドなどが用いられる。
ルアミドなどのアルカリ金属アミドなどが用いられる。
無機塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸イビバリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム。
水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸イビバリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム。
炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム。
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、シアン化カリ
、シアン化ナトリウム、リン酸ナトリウム。
、シアン化ナトリウム、リン酸ナトリウム。
リン酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリ。
ナトリウムメタシリケートなどのアルカリ金属。
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩などが用いられる
。
。
また、塩基としてはマスクされているような形。
たとえばカルボン酸、リン酸などの酸とアルカリ金属、
アルカリ土類金属との塩でも使用可能である。
アルカリ土類金属との塩でも使用可能である。
これらの塩基のなかで特に好ましいものは有機塩基であ
り、さらにその中でも特にアミン化合物が好ましい。こ
れらの塩基は単独あるいは混合して、液状あるいは気相
状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものある
いは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合、溶媒は
水または有機溶剤または両者混合のいずれでもよい。ま
た現像液と一緒にしたものでもよい。
り、さらにその中でも特にアミン化合物が好ましい。こ
れらの塩基は単独あるいは混合して、液状あるいは気相
状で用いられる。液状の場合は例えば塩基そのものある
いは溶液の形で用いる。溶液として用いる場合、溶媒は
水または有機溶剤または両者混合のいずれでもよい。ま
た現像液と一緒にしたものでもよい。
気相、液相いずれで処理する場合でも用いる塩基の量と
しては、いちがいに決められない。効果を出す最小量(
絶対量)は明らかに必要であるが。
しては、いちがいに決められない。効果を出す最小量(
絶対量)は明らかに必要であるが。
多い場合でも何ら効果音そこなうものではない。
その効果の発現には塩基の濃度が低い場合、必要量の塩
基が供給されるという条件下9時間をかけて処理さえす
ればよく、濃い場合は短時間でよい。
基が供給されるという条件下9時間をかけて処理さえす
ればよく、濃い場合は短時間でよい。
かかる意味において溶液として用いる場合の濃度−29
= は特に限定されなく、塩基の強さ、あるいは操作のしや
すさ、安全上および実用的な処理時間から。
= は特に限定されなく、塩基の強さ、あるいは操作のしや
すさ、安全上および実用的な処理時間から。
気相では50%以下0.01以上、好ましくは60〜4
0%以下01%以上、液相では100チ以下0001%
以上、好ましくは50%以下001チ以上の濃度範囲で
充分効果が得られる。
0%以下01%以上、液相では100チ以下0001%
以上、好ましくは50%以下001チ以上の濃度範囲で
充分効果が得られる。
塩基で処理する時間は特に限定されなく、塩基の強さと
濃度によって適宜選択できるが2通常処理液に触れると
即時に効果があられれ、かつ長時間接触させても何ら効
果に変化はない。通常約2゜3秒〜60分間程度でよい
。
濃度によって適宜選択できるが2通常処理液に触れると
即時に効果があられれ、かつ長時間接触させても何ら効
果に変化はない。通常約2゜3秒〜60分間程度でよい
。
液状で処理する場合は印刷版原版を塩基または塩基溶液
に浸漬するか、あるいは塩基または塩基溶液で版面をぬ
らす程度でよい。また気相で処理する場合は、該塩基を
含む気相に版面を曝露すればよい。
に浸漬するか、あるいは塩基または塩基溶液で版面をぬ
らす程度でよい。また気相で処理する場合は、該塩基を
含む気相に版面を曝露すればよい。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形
成性向上や支持体との接着性向上などの目的で他成分を
加えたり9画像部感光層の全部または一部を残存させる
ために現像液に不溶なポリ−30= マまたはモノマ成分を感光層にブレンドすると。
成性向上や支持体との接着性向上などの目的で他成分を
加えたり9画像部感光層の全部または一部を残存させる
ために現像液に不溶なポリ−30= マまたはモノマ成分を感光層にブレンドすると。
また現像時あるいは露光時に画像を可視化するために染
料などを加えたりすることは可能である。
料などを加えたりすることは可能である。
本発明で用いられる感光層の厚さは約ohio。
μ、好ましくは約05〜30μが適当で、薄すぎると塗
工時にピンホール等の欠陥が生じ易くなり。
工時にピンホール等の欠陥が生じ易くなり。
−刃厚すぎると経済的見地から不利である。
本発明に用いられるシリコーンゴム層ハ1次のようなく
り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリ
シロキサンを主成分とするものである。
り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリ
シロキサンを主成分とするものである。
このような線状有機ポリシロキサンをまばらに架橋する
ことによりシリコーンゴムが得られる。
ことによりシリコーンゴムが得られる。
る室温(低温)硬化型のシリコーンゴムに使われている
アセトキシシラン、ケトオキシムシラン。
アセトキシシラン、ケトオキシムシラン。
アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシラン。
アルケニロキシシランなどであり1通常線状有機ポリシ
ロキサンとして末端が水酸基であるものとくみ合わせて
、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミン型、脱アミド型、脱ケトン型(脱アセトン型)のシ
リコーンゴムとなる。
ロキサンとして末端が水酸基であるものとくみ合わせて
、各々脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱ア
ミン型、脱アミド型、脱ケトン型(脱アセトン型)のシ
リコーンゴムとなる。
特に好ましくは9次にあげるシリコーン架橋剤が用いち
れる。
れる。
fll R−Si (OR) 、 (脱アルコール型
)+21 R−8i (OAc ) 、 (脱酢酸
型)f3) R−8i(ON = CR,)、 (脱
オキシム型)+41 R−3i(QC(R)CH=
CH,)、 (脱ケトン型)ここで、Rは上で説明し
たRと同じ意味であり。
)+21 R−8i (OAc ) 、 (脱酢酸
型)f3) R−8i(ON = CR,)、 (脱
オキシム型)+41 R−3i(QC(R)CH=
CH,)、 (脱ケトン型)ここで、Rは上で説明し
たRと同じ意味であり。
R′はメチル、エチルなどのアルキル基であり、Acは
アセチル基である。
アセチル基である。
また、シリコーンゴムには、更に触媒として少量の有機
スズ化合物等が添加されるのが一般的である。シリコー
ンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ましくは約
05〜50μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷力の点
で問題を生じることがあり、−刃厚すぎる場合は経済的
に不利であるばかりでなく現像時シリコーンゴム層を除
去するのが困難となり画像再現性の低下をもたらす。
スズ化合物等が添加されるのが一般的である。シリコー
ンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ましくは約
05〜50μが適当であり、薄すぎる場合は耐刷力の点
で問題を生じることがあり、−刃厚すぎる場合は経済的
に不利であるばかりでなく現像時シリコーンゴム層を除
去するのが困難となり画像再現性の低下をもたらす。
本発明の画像形成用積層体において、支持体と感光層、
感光層とシリコーンゴム層との接着は。
感光層とシリコーンゴム層との接着は。
画像再現性、耐刷力などの基本的な印刷版性能にとり、
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着層を
設けたり、各層に接着改良性成分を添加したりすること
が可能である。
非常に重要であるので、必要に応じて各層間に接着層を
設けたり、各層に接着改良性成分を添加したりすること
が可能である。
特に感光層とシリコーンゴム層間の接着のため層間に接
着層として種々のものが用いられているが、なかでもア
ミノシラン層が好ましい。ここで言うアミノシラ/とは
一般に次式で表わされるものを言う。
着層として種々のものが用いられているが、なかでもア
ミノシラン層が好ましい。ここで言うアミノシラ/とは
一般に次式で表わされるものを言う。
66−
RmR′oS1(OI:P′)4−m−n代表的なもの
としては1例えば、6−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)−5−アミノプロピル
トリメトキシシラン。
としては1例えば、6−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)−5−アミノプロピル
トリメトキシシラン。
6−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス〔3−(
)リメトキシシリル)プロピル〕アミン。
)リメトキシシリル)プロピル〕アミン。
ビス[3−()リメトキシシリル)プロピル〕エチレン
ジアミンIN−(6−)リメトキシシリルプロピル)モ
ルホリン、トリメトキシシリルグロビルジエテレントリ
アミン、ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノプロピル
トリエトキシシラン。
ジアミンIN−(6−)リメトキシシリルプロピル)モ
ルホリン、トリメトキシシリルグロビルジエテレントリ
アミン、ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノプロピル
トリエトキシシラン。
6−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、(N、N
−ジエチル−6−アミノ)プロピルトリノ〜54− トキシシラン、(N、N−ジメチル−ろ−アミノ)プロ
ピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルト
リメトキシシラン、N−7エニルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、1−トリメトキシシリル−2−(p −
m−アミノメチル)−フェ=ルエタy、) ’Jメトキ
シシリルプロピルアリルアミンなどが挙げられる。
−ジエチル−6−アミノ)プロピルトリノ〜54− トキシシラン、(N、N−ジメチル−ろ−アミノ)プロ
ピルトリメトキシシラン、N−メチルアミノプロピルト
リメトキシシラン、N−7エニルアミノプロピルトリメ
トキシシラン、1−トリメトキシシリル−2−(p −
m−アミノメチル)−フェ=ルエタy、) ’Jメトキ
シシリルプロピルアリルアミンなどが挙げられる。
同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のために、有
機チタネート層が好ましい。ここでいう有機チタネート
とは、一般に次式で表わされるようなチタン系プライマ
を言う。
機チタネート層が好ましい。ここでいう有機チタネート
とは、一般に次式で表わされるようなチタン系プライマ
を言う。
Ti(OR)、 、もしくはTt (OCOR’ )
(OR) 、もし4−11 m これらの代表的なものとしては1例えばテトラヤ ーイソプログキンチタン、テトラ−n−ブトキシチタン
、テトラステアロキシチタン、テトラキス−(2−エチ
ルヘキシル)チタネートなどのテトラアルキルチタイー
ト。
(OR) 、もし4−11 m これらの代表的なものとしては1例えばテトラヤ ーイソプログキンチタン、テトラ−n−ブトキシチタン
、テトラステアロキシチタン、テトラキス−(2−エチ
ルヘキシル)チタネートなどのテトラアルキルチタイー
ト。
ジヒロキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブ
トキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブトキ
シ・ビス(トリエタノールアミナト)テタ/、ジヒドロ
キシ・ビス【ラクタト)チタン、テトラキス(2−エチ
ルヘキサンジオラド)チタンなどのチタニウムキレ−1
−。
トキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタン、ジブトキ
シ・ビス(トリエタノールアミナト)テタ/、ジヒドロ
キシ・ビス【ラクタト)チタン、テトラキス(2−エチ
ルヘキサンジオラド)チタンなどのチタニウムキレ−1
−。
トリーn−ブトキシチタンモノステアレート。
チタニウムテトラベンゾエートなどのチタニウムアシレ
ート、もしくはこれらの会合体および重合体等が挙げら
れる。
ート、もしくはこれらの会合体および重合体等が挙げら
れる。
接着層の厚みは原理的には単分子層以上あればよいが実
際の塗布操作上10mμ〜2μの範囲が選ばれる。厚く
なりすぎると経済的に不利であるばかりでなく、感光層
への現像液の浸透に悪影響を及ぼす。
際の塗布操作上10mμ〜2μの範囲が選ばれる。厚く
なりすぎると経済的に不利であるばかりでなく、感光層
への現像液の浸透に悪影響を及ぼす。
同様に感光層とシリコーンゴム層間の接着のために、シ
リコーンゴム層に接着成分として1種々のものが添加さ
れているが、なかでもアミノシランまたは有機チタイー
トが好ましい。ここでいうアミノシランまたは有機チタ
ネートは先に説明したものと同じである。
リコーンゴム層に接着成分として1種々のものが添加さ
れているが、なかでもアミノシランまたは有機チタイー
トが好ましい。ここでいうアミノシランまたは有機チタ
ネートは先に説明したものと同じである。
シリコーンゴム層中に含まれるアミノシランまたは有機
チタネートの量は好ましくは0.05〜10重量襲、よ
り好ましくは01〜5重量%が選ばれる。
チタネートの量は好ましくは0.05〜10重量襲、よ
り好ましくは01〜5重量%が選ばれる。
またアミノシランと有機チタネートの混合、または他の
接着成分と混合しても用いられる。
接着成分と混合しても用いられる。
支持体としては1通常の平版印刷機等にセットできるた
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものでなければ
ならない。代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチッ
クフィルムもしくはシートあるいはコート紙、ゴム等が
あげられる。
わみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるものでなければ
ならない。代表的なものとしてはアルミ、銅、鋼等の金
属板、ポリエチレンテレフタレートのようなプラスチッ
クフィルムもしくはシートあるいはコート紙、ゴム等が
あげられる。
67−
上記のシート状物の上にハレーション防止その他の目的
でさらにコーティングを施して支持体とすることも可能
である。
でさらにコーティングを施して支持体とすることも可能
である。
以上説明したようにして構成された画像形成用積層体の
表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目的
で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹凸処理
が施されたポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン。
表面を形成するシリコーンゴム層を保護するなどの目的
で、シリコーンゴム層の表面にプレーンまたは凹凸処理
が施されたポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン。
ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
セロファンなどの薄い保護フィルムまたはシートをラミ
ネートすることもできる。かかる保護フィルムは特に限
定されなく1画像露光(ネガ型、ポジ型とも)前に除去
すればよい。画像露光(ネガ型、ポジ型とも)時にも使
用できるような保護フィルムとしては上記のような材質
のフィルムで紫外線を透過しうる透明性と露光時の焼き
ぼけを防ぐために100μ以下、好ましくは60μ以下
の厚みを有するものである。
セロファンなどの薄い保護フィルムまたはシートをラミ
ネートすることもできる。かかる保護フィルムは特に限
定されなく1画像露光(ネガ型、ポジ型とも)前に除去
すればよい。画像露光(ネガ型、ポジ型とも)時にも使
用できるような保護フィルムとしては上記のような材質
のフィルムで紫外線を透過しうる透明性と露光時の焼き
ぼけを防ぐために100μ以下、好ましくは60μ以下
の厚みを有するものである。
かかる画像形成用積層体の層構成としては9次のように
なる。
なる。
6g−
順に支持体、必要なら接着層またはプライマ層をはさん
で感光層、さらに必要なら接着層をはさんでシリコーン
ゴム層、最後に必要なら保護層からなるものである。
で感光層、さらに必要なら接着層をはさんでシリコーン
ゴム層、最後に必要なら保護層からなるものである。
本発明をなす、感光層中に特定量のカルボン酸成分を露
光により全面にわたって生成させる場合製造ライン上ま
たはライン外にて感光層または感光層とシリコーン層を
塗設した状態、場合によっては保護層までつけた印刷版
原版形態で必要量の露光を与えることが必要である。ま
たは、あらかじめ感光液中にカルボン酸成分を特定量加
えておく必要がある。
光により全面にわたって生成させる場合製造ライン上ま
たはライン外にて感光層または感光層とシリコーン層を
塗設した状態、場合によっては保護層までつけた印刷版
原版形態で必要量の露光を与えることが必要である。ま
たは、あらかじめ感光液中にカルボン酸成分を特定量加
えておく必要がある。
特定量のカルボン酸成分を画像状に生成させる場合は、
製版時通常の露光操作で画像形成用積層体に必要量の露
光全力えることが必要である。特定量のカルボン酸を生
成させるだめの露光として短時間に露光を与えうるフラ
ッシュ露光も利用できる。かかる意味において1画像形
成用積層体の全面にフラッシュ露光した後1画像露光を
する方法あるいは画像露光をしてから全面にフラッシュ
露光する方法などの後に塩基処理した後現像するかまた
は塩基処理と同時に現像することによってネガ型湿し水
不要平版印刷版が得られる。
製版時通常の露光操作で画像形成用積層体に必要量の露
光全力えることが必要である。特定量のカルボン酸を生
成させるだめの露光として短時間に露光を与えうるフラ
ッシュ露光も利用できる。かかる意味において1画像形
成用積層体の全面にフラッシュ露光した後1画像露光を
する方法あるいは画像露光をしてから全面にフラッシュ
露光する方法などの後に塩基処理した後現像するかまた
は塩基処理と同時に現像することによってネガ型湿し水
不要平版印刷版が得られる。
同様にして画像形成用積層体に画像状にフラッシュ露光
して塩基処理したあと現像するかまたは塩基処理と同時
に現像するとポジ型湿し水不要平版印刷版が得られる。
して塩基処理したあと現像するかまたは塩基処理と同時
に現像するとポジ型湿し水不要平版印刷版が得られる。
以上述べた場合のように特定量のカルボン酸成分を感光
層中に生成させるだめの露光に用いられる光源は、特に
限定されるものではなく、キノンジアジドをカルボン酸
に変化させる波長領域の光を発生するものであればいず
れでもよい。例えば超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、
メタルノ1ライドラ/プ、キセノンランプ、ケミカル灯
、けい光灯、太陽光などが用いられる。
層中に生成させるだめの露光に用いられる光源は、特に
限定されるものではなく、キノンジアジドをカルボン酸
に変化させる波長領域の光を発生するものであればいず
れでもよい。例えば超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、
メタルノ1ライドラ/プ、キセノンランプ、ケミカル灯
、けい光灯、太陽光などが用いられる。
以上説明したような本発明にもとづく画像形成用積層体
は1例えば次のようにして製造される。
は1例えば次のようにして製造される。
まず支持体のうえに、リバースロールコータ、エアーナ
イフコータ、メーヤバーコータなどの通常のコータある
いはホエラーのような回転塗布装置を用い感光層を構成
すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応じて熱キ
ュア後、必要ならば該感光層のうえに同様な方法で接着
層を塗布、乾燥してからシリコーンガム溶液を感光層ま
たは接着層上に同様の方法で塗布し9通常100〜16
0 °0の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめ
てシリコーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フィ
ルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター等を用いカ
バーする。このようにして得られる画像形成用積層体を
ネガ型湿し水不要平版印刷版原版として使用する場合は
、感光層を塗設した後。
イフコータ、メーヤバーコータなどの通常のコータある
いはホエラーのような回転塗布装置を用い感光層を構成
すべき組成物溶液を塗布、乾燥および必要に応じて熱キ
ュア後、必要ならば該感光層のうえに同様な方法で接着
層を塗布、乾燥してからシリコーンガム溶液を感光層ま
たは接着層上に同様の方法で塗布し9通常100〜16
0 °0の温度で数分間熱処理して、十分に硬化せしめ
てシリコーンゴム層を形成する。必要ならば、保護フィ
ルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター等を用いカ
バーする。このようにして得られる画像形成用積層体を
ネガ型湿し水不要平版印刷版原版として使用する場合は
、感光層を塗設した後。
またはシリコーン層を塗設した後または保護フィルムを
ラミネートした後に全面露光を施して、特定量のカルボ
ン酸成分をキノンジアジドから生成させるかあるいは感
光層中に予め特定量のカルボン酸成分を加えておくか、
いずれかの操作を施すことによって製造されたものでな
ければならない。
ラミネートした後に全面露光を施して、特定量のカルボ
ン酸成分をキノンジアジドから生成させるかあるいは感
光層中に予め特定量のカルボン酸成分を加えておくか、
いずれかの操作を施すことによって製造されたものでな
ければならない。
もしくは製版工程で、すなわち画像露光の前か後で非画
像部に特定量のカルボン酸成分を生成させるため、非画
像部を含めて全面露光を与えなけれ41− ばならない。
像部に特定量のカルボン酸成分を生成させるため、非画
像部を含めて全面露光を与えなけれ41− ばならない。
一方、ポジ型湿し水不要平版印刷版原版として使用する
場合には、特にかかる操作は必要としない。
場合には、特にかかる操作は必要としない。
かかる意味において同一の画像形成用積層体から画像を
得るため露光秒数の変更によって、即ちポジフィルム捷
たはポジ原画を用いる場合には特定量のカルボン酸成分
が生成するように画像状に露光を与えて、塩基処理と現
像を行なう、一方ネガフイルムまたはネガ原画を用いる
場合には9通常の画像露光を与えるが、その露光の前か
後に特定量のカルボン酸成分が非画像部に生成するよう
に非画像部を含めて全面に露光を与えてから、塩基処理
と現像を行なうと、ポジ型、ネガ型のいずれの型式から
でも同一の画像の印刷版が出来る。
得るため露光秒数の変更によって、即ちポジフィルム捷
たはポジ原画を用いる場合には特定量のカルボン酸成分
が生成するように画像状に露光を与えて、塩基処理と現
像を行なう、一方ネガフイルムまたはネガ原画を用いる
場合には9通常の画像露光を与えるが、その露光の前か
後に特定量のカルボン酸成分が非画像部に生成するよう
に非画像部を含めて全面に露光を与えてから、塩基処理
と現像を行なうと、ポジ型、ネガ型のいずれの型式から
でも同一の画像の印刷版が出来る。
かかる画像形成用積層体から画像形成のための露光とし
ては次のようなものが挙げられる。例えば真空密着され
たネガまたはポジフィルムを通して活性光線で露光する
こと(密着露光)、あるいは、ネガまたはポジフィルム
通して活性光線(透−4Z〜 過光)で投影露光すること(投影製版)、ネガまたはポ
ジ原画からの反射光で露光すること(直接製版)などで
ある。露光に際しては保護層、特にカバーフィルムの有
無による大きな影響はない。
ては次のようなものが挙げられる。例えば真空密着され
たネガまたはポジフィルムを通して活性光線で露光する
こと(密着露光)、あるいは、ネガまたはポジフィルム
通して活性光線(透−4Z〜 過光)で投影露光すること(投影製版)、ネガまたはポ
ジ原画からの反射光で露光すること(直接製版)などで
ある。露光に際しては保護層、特にカバーフィルムの有
無による大きな影響はない。
この露光工程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生
するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ。
するものであり、水銀灯、カーボンアーク灯、キセノン
ランプ、メタルハライドランプ。
螢光灯などを使うことができる。さらに紫外線以外にも
レーザー光、遠紫外光、電子線等を用いられる。
レーザー光、遠紫外光、電子線等を用いられる。
塩基処理は露光ずみの画像形成用積層体を現像すること
なく、すなわち現像の前にあるいは現像と同時に行なわ
れる。ここでいう現像と同時には塩基を加えた現像液で
現像操作を行なうことである。現像で版面を現像液を含
んだ現像用バットでこするとネガ型湿し水不要平版印刷
版の場合9画像露光されたシリコーンゴム層が場合によ
っては感光層も共に除去され、インキ受容部となる感光
層または支持体表面が露出する。
なく、すなわち現像の前にあるいは現像と同時に行なわ
れる。ここでいう現像と同時には塩基を加えた現像液で
現像操作を行なうことである。現像で版面を現像液を含
んだ現像用バットでこするとネガ型湿し水不要平版印刷
版の場合9画像露光されたシリコーンゴム層が場合によ
っては感光層も共に除去され、インキ受容部となる感光
層または支持体表面が露出する。
ポジ型湿し水不要平版印刷版の場合、未露光部のシリコ
ーンゴム層が、場合によっては感光層も共に除去され、
インキ受容部となる感光層または支持体表面が露出する
。
ーンゴム層が、場合によっては感光層も共に除去され、
インキ受容部となる感光層または支持体表面が露出する
。
本発明において用いられる現像液としては湿し水不要平
版印刷版の現像液として公知のものが使用できる。たと
えば脂肪族炭化水素類(ヘキサン。
版印刷版の現像液として公知のものが使用できる。たと
えば脂肪族炭化水素類(ヘキサン。
ヘプタン、”アイソパーBC,H,G”(エッソ化学製
脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソリン、灯油な
ど)、芳香族炭化水素類(トルエン。
脂肪族炭化水素類の商標名)あるいはガソリン、灯油な
ど)、芳香族炭化水素類(トルエン。
キシレンなど)あるいはハロゲン化炭化水素類(トリク
レンなど)に下記の極性溶媒を添加したものが好適であ
る。
レンなど)に下記の極性溶媒を添加したものが好適であ
る。
アルコール類(メタノール、エタノール、水など)
エーテル類(メチルセロソルブ、エチルセロンルブ、ブ
ナルセロソルブ、メチルカルピトール。
ナルセロソルブ、メチルカルピトール。
エテルカルピトール、ブチルカルピトール、ジオキサン
など) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類<r’eeエチル、メチルセロソルブアセテート、
セロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど) またcy、アセドラシンレッドなどの染料を現像液に加
えて現像と感光層の染色化を同時に行なうこともできる
。
など) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類<r’eeエチル、メチルセロソルブアセテート、
セロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど) またcy、アセドラシンレッドなどの染料を現像液に加
えて現像と感光層の染色化を同時に行なうこともできる
。
以上において詳細に説明してきた画像形成用積層体の処
理方法、とりわけ選ばれた感光層とシリコーンゴム層か
らなる画像形成用積層体を湿し水不要平版印刷版とする
画像形成法において、得られる印刷版は1次のような形
のものである。
理方法、とりわけ選ばれた感光層とシリコーンゴム層か
らなる画像形成用積層体を湿し水不要平版印刷版とする
画像形成法において、得られる印刷版は1次のような形
のものである。
すなわち、非画像部は塩基処理する前の感光層中のキノ
ンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位とカル
ボン酸成分のモル比が10010〜0/100において
9515〜40/60.より好ましくは90/10〜5
0150の範囲に相当する部分であり。このカルボン酸
成分を露光によって画像状に生成させた場合にポジ型の
非画像部を形成しくポジ型とはポジ原画またはポジフィ
ルムを用いて画像を形成し1画像状の露光部が非画像部
を形成するタイプ)、露光によって全面に生成または予
−4号− め添加して含有させた場合にネガ型の非画像部を形成す
る(ネガ型とはネガ原画またはネガフィルムを用いて画
像を形成し1画像露光部が画像部を形成するタイプ)。
ンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド単位とカル
ボン酸成分のモル比が10010〜0/100において
9515〜40/60.より好ましくは90/10〜5
0150の範囲に相当する部分であり。このカルボン酸
成分を露光によって画像状に生成させた場合にポジ型の
非画像部を形成しくポジ型とはポジ原画またはポジフィ
ルムを用いて画像を形成し1画像状の露光部が非画像部
を形成するタイプ)、露光によって全面に生成または予
−4号− め添加して含有させた場合にネガ型の非画像部を形成す
る(ネガ型とはネガ原画またはネガフィルムを用いて画
像を形成し1画像露光部が画像部を形成するタイプ)。
一方2画像部は感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位とカルボン酸成分のfル比が非
画像部相当以外の範囲、より好ましくは10010また
は50/70〜0/100の範囲に相当する部分であり
、実質的にカルボン酸成分を含まない未露光部(100
10部分)がポジ型の画像部を形成し、該当部分の感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド
単位の70モルチ以上が光分解するに足る露光を受けた
部分(30/70〜0/100部分に相当する画像露光
部)がネガ型の画像部を形成する。
質のキノンジアジド単位とカルボン酸成分のfル比が非
画像部相当以外の範囲、より好ましくは10010また
は50/70〜0/100の範囲に相当する部分であり
、実質的にカルボン酸成分を含まない未露光部(100
10部分)がポジ型の画像部を形成し、該当部分の感光
層中のキノンジアジド構造を含む物質のキノンジアジド
単位の70モルチ以上が光分解するに足る露光を受けた
部分(30/70〜0/100部分に相当する画像露光
部)がネガ型の画像部を形成する。
本発明による作像の原理の詳細は不明であるが。
露光による感光層の変化を塩基処理によって増幅するこ
とによる感光層の耐溶剤性の変化、感光層とシリコーン
ゴム層との接着性の変化としてとらえたことにあると考
えられる。
とによる感光層の耐溶剤性の変化、感光層とシリコーン
ゴム層との接着性の変化としてとらえたことにあると考
えられる。
4−G−
かかる変化において特定量のカルボン酸成分。
好ましくはキノンジアジドから生成したカルボン酸成分
が感光層に存在する場合のみ、塩基処理による感光層と
シリコーンゴム層の接着と感光層の耐溶剤性の著しい向
上が1本発明にもとづく画像形成用積層体において実現
される。特定量以上に例えば露光によってカルボン酸成
分が生成されたところ、あるいは全くカルボン酸成分が
形成されていないところ(未露光部)は、かかる効果が
期待できないため、感光層とシリコーンゴム層の接着が
弱く、かつ感光層の耐溶剤性も劣るため、現像操作によ
り相当するシリコーンゴム層または感光層を含めて除去
されることになる。
が感光層に存在する場合のみ、塩基処理による感光層と
シリコーンゴム層の接着と感光層の耐溶剤性の著しい向
上が1本発明にもとづく画像形成用積層体において実現
される。特定量以上に例えば露光によってカルボン酸成
分が生成されたところ、あるいは全くカルボン酸成分が
形成されていないところ(未露光部)は、かかる効果が
期待できないため、感光層とシリコーンゴム層の接着が
弱く、かつ感光層の耐溶剤性も劣るため、現像操作によ
り相当するシリコーンゴム層または感光層を含めて除去
されることになる。
すなわち9本発明のポイントは従来の概念による露光部
と未露光部の現像にかかわる接着力、溶解性の差を利用
して、即ち、露光によってひきおこされた直接的な変化
を現像で感知して画像を形成しているのではなく、露光
部(通常の画像露光部で特定量以上のカルボン酸成分が
生成するように画像露光した部分)と特定量のカルボン
酸成分を生成するように露光して、または特定量のカル
ボン酸成分を含有させて塩基処理した部分あるいは未露
光部と特定量のカルボン酸成分を生成するように露光し
て塩基処理した部分の現像にかかわる接着力、溶解性の
差を利用して、即ち、特定量のカルボン酸成分を含有す
るかしないかのわずかな感光層の違いを塩基処理によっ
て増幅してから現像で感知して画像を形成するものであ
り1画像部と非画像部のオン−オフが従来より大きいと
いう新しい概念による画像部9非画像部の形成である。
と未露光部の現像にかかわる接着力、溶解性の差を利用
して、即ち、露光によってひきおこされた直接的な変化
を現像で感知して画像を形成しているのではなく、露光
部(通常の画像露光部で特定量以上のカルボン酸成分が
生成するように画像露光した部分)と特定量のカルボン
酸成分を生成するように露光して、または特定量のカル
ボン酸成分を含有させて塩基処理した部分あるいは未露
光部と特定量のカルボン酸成分を生成するように露光し
て塩基処理した部分の現像にかかわる接着力、溶解性の
差を利用して、即ち、特定量のカルボン酸成分を含有す
るかしないかのわずかな感光層の違いを塩基処理によっ
て増幅してから現像で感知して画像を形成するものであ
り1画像部と非画像部のオン−オフが従来より大きいと
いう新しい概念による画像部9非画像部の形成である。
このようにして得られた画像形成用積層体およびその画
像形成法によれば。
像形成法によれば。
(1) 特に感光層とシリコーンゴム層との接着が著
しく向上すること。
しく向上すること。
(2) 感光層の耐溶剤性ひいては画像形成用積層体
の耐溶剤性が著しく向上すること。
の耐溶剤性が著しく向上すること。
(3) 画像形成においてネガ型とポジ型版が同一版
材からできること。
材からできること。
(4) 露光部と未露光部の差(感光層とシリコーン
ゴム層との接着、感光層の耐溶剤性)が大きいので現像
のラチチュードが著しく拡大し、温湿度。
ゴム層との接着、感光層の耐溶剤性)が大きいので現像
のラチチュードが著しく拡大し、温湿度。
現像時間等の外的因子の影響をうけにくくなること。
(5)版製造条件を広くとっても一定条件の品質の印刷
版を与えること(製造ラチチュードの拡大)。
版を与えること(製造ラチチュードの拡大)。
(6) 高感度ポジ型湿し水不要平版印刷版材が得ら
れること。
れること。
(力 露光で発生する窒素による焼きぼけが著しく防止
されること。
されること。
(8) 感光層の染色化ができるため1画像部はも一
す− ちろん非画像部のシリコーン層のハガレも検出でき、検
版性が著しく向上すること。
す− ちろん非画像部のシリコーン層のハガレも検出でき、検
版性が著しく向上すること。
(9)塩基処理によって非画像部は褐色に発色するので
、現像操作および印刷版等において画像部と非画像部の
識別が容易であること。
、現像操作および印刷版等において画像部と非画像部の
識別が容易であること。
a〔印刷版の非画像部は塩基処理により、感光性を失っ
ているため明室下の印刷版の取扱いに何んら注意を必要
とすることがない。そのための特別な定着も不要である
こと などの効果が発現される。
ているため明室下の印刷版の取扱いに何んら注意を必要
とすることがない。そのための特別な定着も不要である
こと などの効果が発現される。
以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。な
お実施例中に用いられる部は全て重量部である。
お実施例中に用いられる部は全て重量部である。
実施例1
厚み0.24 nunのアルミ板(住友軽金属製)にフ
ェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレ
ジンpC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し
、190℃、6分間キュアしたものを支持体として、こ
の上に下記の感光性組成物を塗布し、120°0,2分
間加熱処理して厚さ2μ−車字一 の感光層を設けた。
ェノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレ
ジンpC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し
、190℃、6分間キュアしたものを支持体として、こ
の上に下記の感光性組成物を塗布し、120°0,2分
間加熱処理して厚さ2μ−車字一 の感光層を設けた。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸トフ
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂の部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47%)
1oo重量部4.4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート60重量部 ジブチル錫ジラウレート0,2重量部 ジオキザン 740重量部続いてこ
の上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を回転塗布後
、120’o、露点30°、2分間湿熱硬化させて2μ
のシリコ−/ゴム層を設けて。
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂の部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47%)
1oo重量部4.4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート60重量部 ジブチル錫ジラウレート0,2重量部 ジオキザン 740重量部続いてこ
の上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を回転塗布後
、120’o、露点30°、2分間湿熱硬化させて2μ
のシリコ−/ゴム層を設けて。
画像形成用積層体を作成した。
ジメテルポリシロキザン(分子量約25,000゜末端
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエテルケトキシム)シラン
8重量部ジプチル錫ジアセテート
0.2重量部γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン1重量部 アイソパーEl!(エッソ化学製、脂肪族炭化水素系溶
剤) 1 soo重量部かか
る画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩崎電気
■製アイドルフィン2000 ) (i7用い、1mの
距離でU Vメーター(■オーク製作所ライトメジャア
タイプUV−402A)で6 mW/(2)′の光量で
全面露光を6秒施した。この露光により感光層中のキノ
ンジアジドの18モルチが光分解してカルボン酸成分を
生成したことが赤外スペクトルで確認された。
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエテルケトキシム)シラン
8重量部ジプチル錫ジアセテート
0.2重量部γ−アミノプロピルトリメトキ
シシラン1重量部 アイソパーEl!(エッソ化学製、脂肪族炭化水素系溶
剤) 1 soo重量部かか
る画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩崎電気
■製アイドルフィン2000 ) (i7用い、1mの
距離でU Vメーター(■オーク製作所ライトメジャア
タイプUV−402A)で6 mW/(2)′の光量で
全面露光を6秒施した。この露光により感光層中のキノ
ンジアジドの18モルチが光分解してカルボン酸成分を
生成したことが赤外スペクトルで確認された。
上記のように全面露光をして得られた画像形成用積層体
に真空密着した150線の網点画像を持ツ坏i−y イ
ルムを通して上記のメタルハライドランプを用い、1m
の距離から60秒画像露光した。
に真空密着した150線の網点画像を持ツ坏i−y イ
ルムを通して上記のメタルハライドランプを用い、1m
の距離から60秒画像露光した。
次いで、ソフパッド(3M社製現像パッド)゛を塩基処
理液(アイソパーH/ブチルカルピトール/エテルセロ
ノルフ/エタノールアミン−901515101重量比
)にひたし、露光ずみの版面を完廃にぬらす。1分間す
ると全面露光のみをした部分が褐色に着色する。ゴムス
キージ−で版面上の塩基処理液を除去し0次いで版面と
現像パッドに現像液(アイソパーH/ブチルカルピトー
ル/エチルカルピトール= 20/40/40重量比)
を注ぎ。
理液(アイソパーH/ブチルカルピトール/エテルセロ
ノルフ/エタノールアミン−901515101重量比
)にひたし、露光ずみの版面を完廃にぬらす。1分間す
ると全面露光のみをした部分が褐色に着色する。ゴムス
キージ−で版面上の塩基処理液を除去し0次いで版面と
現像パッドに現像液(アイソパーH/ブチルカルピトー
ル/エチルカルピトール= 20/40/40重量比)
を注ぎ。
現像パッドで版面を軽くこすると画像状に露光された部
分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみをされた部分にはシリコーンゴ
ム層が強固に残存しており。
分のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し
た。一方、全面露光のみをされた部分にはシリコーンゴ
ム層が強固に残存しており。
ネガフィルムを忠実に再現した画像が得られた。
この印刷版をオフセット印刷機(小森スプリント2カラ
ー)に取り付け、東洋インキ製“アクワレスST藍”を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線の
網点5チ〜95チが再現された極めて良好な画像を持つ
印刷物が得られた。
ー)に取り付け、東洋インキ製“アクワレスST藍”を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線の
網点5チ〜95チが再現された極めて良好な画像を持つ
印刷物が得られた。
5万部刷了後も地汚れおよび版面の損傷は全□く見られ
ず、さらに印刷を継続できる状態であった。
ず、さらに印刷を継続できる状態であった。
印刷物画像再現性も印刷期間を通じ全く変化がなかった
。
。
一方、上記のようにして製造された画像形成用積層体に
先と同じメタルハライドランプとUVメーターを用い、
1mの距離で6mW/an” の光量で一辷一 全面露光を600秒施た。この露光により感光層中のキ
ノンジアジドの95モル係が光分解していることが赤外
スペクトルから判った。以下、前記と同様に画像露光、
塩基処理、現像をしたところシリコーンゴム層が全面に
わたってハガレ1画像は形成されなかった。
先と同じメタルハライドランプとUVメーターを用い、
1mの距離で6mW/an” の光量で一辷一 全面露光を600秒施た。この露光により感光層中のキ
ノンジアジドの95モル係が光分解していることが赤外
スペクトルから判った。以下、前記と同様に画像露光、
塩基処理、現像をしたところシリコーンゴム層が全面に
わたってハガレ1画像は形成されなかった。
実施例2
実施例1に記載の通りに製造し、かつ露光して得られた
画像形成用積層体と現像パッドに塩基入りの現像液(ア
イソパーH/ブチルカルピトール/エテルセロソルブ/
モノエタノールアミン=90151510.2重量比)
を注ぎ、現像パッドで版面を均一にぬらすと全面露光の
みをうけた部分が褐色に着色する。そこで、軽く現像パ
ッドでこすると画像状に露光された部分のシリコ−yゴ
ム層が除去されて感光層表面が露出した。一方、全面露
光のみを受けた部分はシリコーンゴム層が強固に残存し
ており、実施例1と同じく、ネガフィルムに忠実な画像
を再現した印刷版が得られた。
画像形成用積層体と現像パッドに塩基入りの現像液(ア
イソパーH/ブチルカルピトール/エテルセロソルブ/
モノエタノールアミン=90151510.2重量比)
を注ぎ、現像パッドで版面を均一にぬらすと全面露光の
みをうけた部分が褐色に着色する。そこで、軽く現像パ
ッドでこすると画像状に露光された部分のシリコ−yゴ
ム層が除去されて感光層表面が露出した。一方、全面露
光のみを受けた部分はシリコーンゴム層が強固に残存し
ており、実施例1と同じく、ネガフィルムに忠実な画像
を再現した印刷版が得られた。
実施例5
−ミツー
ィ・ガフイルムを通して画像露光を行なってから、メタ
ルハライドランプによる全面露光を実施した以外d1.
すべて実施例1に記載の通りに行なったととる。実施例
1で得られた印刷版と何ら変わるどころのないものが得
られた。
ルハライドランプによる全面露光を実施した以外d1.
すべて実施例1に記載の通りに行なったととる。実施例
1で得られた印刷版と何ら変わるどころのないものが得
られた。
実施例4
厚み0.24 mmのアルミ板(住友軽金属製)にフェ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジ
ンpc−1.住友デュレズ製)を1.7μの厚みに塗布
し、180°a、5分間キヱアして支持体とした。この
支持体上に下記の感光層組成物を回転塗布、120°0
,2分間加熱硬化させ、厚み2.6μの感光層を設けた
。
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジ
ンpc−1.住友デュレズ製)を1.7μの厚みに塗布
し、180°a、5分間キヱアして支持体とした。この
支持体上に下記の感光層組成物を回転塗布、120°0
,2分間加熱硬化させ、厚み2.6μの感光層を設けた
。
(a) エステル化度48%のフェノールホルムアル
デヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR5023
5,住友デュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル
100部(b) 4.4’−ジフェニルメタンジ
イソシアナート60部 (c) ジブチル錫ジラウレート D2部(
d) ジオキサン 2,0(110
部続いてこの上に下記の組成のシリコーン−f ムIJ
I成物をメーヤバーコータで塗布後、120’0.Dp
50 ’a。4分で加熱硬化して厚み23μのシリコ
ーンゴム層を設けた。
デヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR5023
5,住友デュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸エステル
100部(b) 4.4’−ジフェニルメタンジ
イソシアナート60部 (c) ジブチル錫ジラウレート D2部(
d) ジオキサン 2,0(110
部続いてこの上に下記の組成のシリコーン−f ムIJ
I成物をメーヤバーコータで塗布後、120’0.Dp
50 ’a。4分で加熱硬化して厚み23μのシリコ
ーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約25.0
00、末端水酸基) 100部(b)
ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラ7
8部(C) ジブチル錫ジア
セテート0.1部(d) γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン0.5部 (θ) アイソバー11!(エッソ化学製) 440
部上記のようにして得られた画像形成用積層体に。
00、末端水酸基) 100部(b)
ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラ7
8部(C) ジブチル錫ジア
セテート0.1部(d) γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン0.5部 (θ) アイソバー11!(エッソ化学製) 440
部上記のようにして得られた画像形成用積層体に。
150線の網点画像を有するポジフィルムを、常法に従
って真空密着し、実施例1で用いたメタルハライドラン
プを用いて1mの距離で実施例1で用いたUVメーター
で6 m W /an ”の光量で9秒露光を施した。
って真空密着し、実施例1で用いたメタルハライドラン
プを用いて1mの距離で実施例1で用いたUVメーター
で6 m W /an ”の光量で9秒露光を施した。
続いてこの版全アインパーH/プロピレングリコール七
ツメチルエーテル/エテルセロソルブ/モノエタノール
アミン−90151510,3重量比)からなる塩基入
り現像液に浸し、現像パッドで軽くこすると、未露光部
のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し画
像部を形成するが、露光部シリコーンゴム層は現像液に
侵されずに残り、非画像部となり、原画フィルムに忠実
な画像の印刷版が得られた。
ツメチルエーテル/エテルセロソルブ/モノエタノール
アミン−90151510,3重量比)からなる塩基入
り現像液に浸し、現像パッドで軽くこすると、未露光部
のシリコーンゴム層が除去されて感光層表面が露出し画
像部を形成するが、露光部シリコーンゴム層は現像液に
侵されずに残り、非画像部となり、原画フィルムに忠実
な画像の印刷版が得られた。
この印刷版をオフセット印刷機(小森スプリント2カラ
ー)に取シ付け、東洋インキ製”アクワレスBT藍”を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線の
網点5〜95俤が再現された極めて良好な画像を持つ印
刷物が得られた。1万部刷了後も地汚れおよび版面の損
傷は全く見られず、さらに印刷を継続できる状態であっ
た。
ー)に取シ付け、東洋インキ製”アクワレスBT藍”を
用いて、湿し水を用いないで印刷したところ150線の
網点5〜95俤が再現された極めて良好な画像を持つ印
刷物が得られた。1万部刷了後も地汚れおよび版面の損
傷は全く見られず、さらに印刷を継続できる状態であっ
た。
実施例5
実施例4で得られた画像形成用積層体に、拡大投影殖版
機(大日本スクリーン製)を用い、原画ポジフィルムの
5倍の拡大サイズで実施例1のUVメーターで3.6
m W/an ”の光量下、15秒投影−#呑− 露光した。かかる露光の後、実施例4で実施したように
現像を行なうと、ポジ原画の5倍の画像を忠実に再現し
た印刷版が得られた。
機(大日本スクリーン製)を用い、原画ポジフィルムの
5倍の拡大サイズで実施例1のUVメーターで3.6
m W/an ”の光量下、15秒投影−#呑− 露光した。かかる露光の後、実施例4で実施したように
現像を行なうと、ポジ原画の5倍の画像を忠実に再現し
た印刷版が得られた。
実施例6
実施例4で得られた画像形成用積層体を用いて反射原稿
によるダイレクト製版を以下のように行なった。2本の
2kWメタルハライドランプ(岩崎電気■製)から20
(2)の距離にあるポジ原画を製版カメラを通してその
反射光でもって画像形成用積層体上に画像を結ばせ9画
像形成用積層体上の光量が1 mW/(2)2(実施例
1で用いたUVメーターで測定)の条件下でシャッター
スピード66秒の露光をした。かかる露光の後、実施例
4で実施したように現像を行なうと、ポジ原画を忠実に
再現した印刷版が得られた。
によるダイレクト製版を以下のように行なった。2本の
2kWメタルハライドランプ(岩崎電気■製)から20
(2)の距離にあるポジ原画を製版カメラを通してその
反射光でもって画像形成用積層体上に画像を結ばせ9画
像形成用積層体上の光量が1 mW/(2)2(実施例
1で用いたUVメーターで測定)の条件下でシャッター
スピード66秒の露光をした。かかる露光の後、実施例
4で実施したように現像を行なうと、ポジ原画を忠実に
再現した印刷版が得られた。
実施例7
化成処理アルミ板(住友軽金属製)にエステル化114
4%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住
友ベークライト製;スミライトレジンPR50235)
のナフトキノン−1,2−ジアジ−ぢし ドー5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分9
7重量%、エステル化度は工Rスペクトルから定量)の
6重量係ジオキサン溶液をホエラーで回転塗布後60°
0,6分間乾燥させて1.2μの感光層を形成した。こ
の上に次の組成を持つシリコーンガム組成物の7チアイ
ソパーE溶液に、シリコーン組成物に対し4重量襲のγ
−アミノプロピルトリエトキシシラン(UCC製; A
1100)を添加し、均一に攪拌後ホエラーで回転塗布
した。
4%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住
友ベークライト製;スミライトレジンPR50235)
のナフトキノン−1,2−ジアジ−ぢし ドー5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成分9
7重量%、エステル化度は工Rスペクトルから定量)の
6重量係ジオキサン溶液をホエラーで回転塗布後60°
0,6分間乾燥させて1.2μの感光層を形成した。こ
の上に次の組成を持つシリコーンガム組成物の7チアイ
ソパーE溶液に、シリコーン組成物に対し4重量襲のγ
−アミノプロピルトリエトキシシラン(UCC製; A
1100)を添加し、均一に攪拌後ホエラーで回転塗布
した。
乾燥後120’O,DP25°4分間加熱硬化し2.2
μのシリコーンゴム層をmi。
μのシリコーンゴム層をmi。
(a) ジメチルポリシロキサン
(分子量約so、ooo、両末端OH基)100部
(b) エチルトリアセトキシシラン 5部(
c) ジブチル錫ジアセテート 02部」−
記のようにして得られた画像形成用積層体にメタルハラ
イドランプ(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離で実施例1のUVメーターで6mW/
an”の光量下、10秒間の全面露光(感光層中のキノ
ンジアジドの25モル係が光分解してカルボン酸成分を
生成する光量)した。
c) ジブチル錫ジアセテート 02部」−
記のようにして得られた画像形成用積層体にメタルハラ
イドランプ(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離で実施例1のUVメーターで6mW/
an”の光量下、10秒間の全面露光(感光層中のキノ
ンジアジドの25モル係が光分解してカルボン酸成分を
生成する光量)した。
かかる全面露光を施して得られた積層体に、真空密着し
た150線の網点画像を持つネガフィルムを通してメタ
ルハライドランプ(岩崎電気製アイドルフィン2000
)を用い、1mの距離から60秒照射した。露光された
版の版面をエタノール8部、アイソパーE2部、ベンジ
ルアミン0.3 部カらなる塩基入り現像液に浸漬し現
像パッドで軽くこすると9画像露光した部分はシリコー
ンゴム層と感光層の両方が容易に除去されて化成処理ア
ルミ表面が露出し、−万全面露光のみをした部分にはシ
リコーンゴム層と感光層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
た150線の網点画像を持つネガフィルムを通してメタ
ルハライドランプ(岩崎電気製アイドルフィン2000
)を用い、1mの距離から60秒照射した。露光された
版の版面をエタノール8部、アイソパーE2部、ベンジ
ルアミン0.3 部カらなる塩基入り現像液に浸漬し現
像パッドで軽くこすると9画像露光した部分はシリコー
ンゴム層と感光層の両方が容易に除去されて化成処理ア
ルミ表面が露出し、−万全面露光のみをした部分にはシ
リコーンゴム層と感光層が強固に残存しており、ネガフ
ィルムを忠実に再現した画像が得られた。
この印刷版を実施例1と同じようにオフセット印刷機(
小春スプリント2カラー)に取り付け。
小春スプリント2カラー)に取り付け。
東洋インキ製“アクアレスST藍”を用いて、湿し水を
用いないで印刷したところ150線の網点5%〜95チ
が再現された極めて良好な画像を持つ印刷物が2万部印
刷できた。
用いないで印刷したところ150線の網点5%〜95チ
が再現された極めて良好な画像を持つ印刷物が2万部印
刷できた。
実施例8
実施例7で得られた画像形成用積層体(いかなる露光も
されていない)に、真空密着した150線の網点画像を
持つポジフィルムを通してメタルハライドランプ(岩崎
電機■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離
から実施例1で用いたUVメーターで6 m W/an
”の光量で10秒照射した。版面をアイソバー W
’/エタノール/ベンジルアミンー5015015(重
量比)からなる塩基入り現像液に浸漬してから、ンフパ
ツド(大日本スクリーン製)で軽くこすると未露光部の
シリコーンゴム層が容易に除去され画線部となるが、露
光部のシリコーンゴム層は強固に接着して残存し非画線
部となる。このようにして得られた印刷版はポジフィル
ムを忠実に再現した画像を用しており平版印刷で湿し水
を用いずに良好な印刷物を与える。
されていない)に、真空密着した150線の網点画像を
持つポジフィルムを通してメタルハライドランプ(岩崎
電機■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離
から実施例1で用いたUVメーターで6 m W/an
”の光量で10秒照射した。版面をアイソバー W
’/エタノール/ベンジルアミンー5015015(重
量比)からなる塩基入り現像液に浸漬してから、ンフパ
ツド(大日本スクリーン製)で軽くこすると未露光部の
シリコーンゴム層が容易に除去され画線部となるが、露
光部のシリコーンゴム層は強固に接着して残存し非画線
部となる。このようにして得られた印刷版はポジフィル
ムを忠実に再現した画像を用しており平版印刷で湿し水
を用いずに良好な印刷物を与える。
実施例9
一枳ト
住友軽金属製、化成処理アルミ板(厚さ0.3 mm
)に下記の感光層組成物を回転塗布し、120°0゜2
分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。
)に下記の感光層組成物を回転塗布し、120°0゜2
分加熱処理して厚さ2.6μの感光層を設けた。
(a) エステル化度44%のフェノールホルムアルデ
ヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR502,!
15. 住人デュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル
ioo部(b) 4.4’−ジフェニルメタン
ジイソシアナート20部 (C) ジブチル錫ジラウレート 02部(
d) メチルセロソルブアセテ−) 2000部こ
の上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(UCC
製:A1100)の0.5重量饅アイソパーIil!(
エッソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、110℃
、60秒間乾燥した。
ヒドノボラック樹脂(スミライトレジンPR502,!
15. 住人デュレズ製)のナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル
ioo部(b) 4.4’−ジフェニルメタン
ジイソシアナート20部 (C) ジブチル錫ジラウレート 02部(
d) メチルセロソルブアセテ−) 2000部こ
の上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラン(UCC
製:A1100)の0.5重量饅アイソパーIil!(
エッソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、110℃
、60秒間乾燥した。
続いてこの上に下記の組成物を回転塗布後。
120°O,DP30°、2分で加熱硬化して厚み2゜
2μのシリコーンゴム層を設けた。
2μのシリコーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約80,0
00゜−#− 両末端水酸基) 100部(b)
エチルトリアセトキシシラン 5部(C)
ジブチル錫ジアセテート 02部(d、)
アイソパーE 1650部」二記のよう
にして得られた画像形成用積層体に超高圧水銀灯(オー
ク製作所製ジェットライト3300.2kW )を用い
、inの距離で実施例1のUVメーターで6 mW/c
fn”の光量で12秒全面露光した。この露光により感
光層中のキノンジアジドの38モルチが光分解したこと
を赤外スペクトルで確認した。
00゜−#− 両末端水酸基) 100部(b)
エチルトリアセトキシシラン 5部(C)
ジブチル錫ジアセテート 02部(d、)
アイソパーE 1650部」二記のよう
にして得られた画像形成用積層体に超高圧水銀灯(オー
ク製作所製ジェットライト3300.2kW )を用い
、inの距離で実施例1のUVメーターで6 mW/c
fn”の光量で12秒全面露光した。この露光により感
光層中のキノンジアジドの38モルチが光分解したこと
を赤外スペクトルで確認した。
このようにして特定量のカルボン酸成分を感光層に生成
させた画像形成用積層体に真空密着した150線の網点
画像を持つネガフィルムを通して」二記水銀灯を用い、
1mの距離から60秒画像露光した。
させた画像形成用積層体に真空密着した150線の網点
画像を持つネガフィルムを通して」二記水銀灯を用い、
1mの距離から60秒画像露光した。
次いで、現像パッドに塩基入りの現像液(アイソパーH
/ フロピレンゲリコールモノメチルエーテル/エチル
セロソルブ/モノエタノールアミンe== 80/10
/10/1 重量比)をひたし1版面を均一にごく軽く
ぬらして全面露光のみをうけた部分が褐色に変化したら
、現像パッドでこすると1画像状に露光を受けた部分の
シリコーンゴA 層カ除去されて感光層表面が露出し画
像部を形成するが。
/ フロピレンゲリコールモノメチルエーテル/エチル
セロソルブ/モノエタノールアミンe== 80/10
/10/1 重量比)をひたし1版面を均一にごく軽く
ぬらして全面露光のみをうけた部分が褐色に変化したら
、現像パッドでこすると1画像状に露光を受けた部分の
シリコーンゴA 層カ除去されて感光層表面が露出し画
像部を形成するが。
一方今面露光のみを受けた部分のシリコーンゴム層は強
固に残存し、非画像部を形成する。かくしてネガフィル
ムに忠実な画像を再現した印刷版が得られ、湿し水を用
いずに平版印刷すると良好な印刷物が25万枚印刷でき
た。
固に残存し、非画像部を形成する。かくしてネガフィル
ムに忠実な画像を再現した印刷版が得られ、湿し水を用
いずに平版印刷すると良好な印刷物が25万枚印刷でき
た。
実施例10
実施例9で得られた画像形成用積層体(全面露光1画像
露光とも未実施)に、真空密着した150線の網点画像
を持つポジフィルムを通してメタルハライドラング(岩
崎電機■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距
離から実施例1で用いたUVメーターで6 m W /
an ”の光量で15秒露光した。
露光とも未実施)に、真空密着した150線の網点画像
を持つポジフィルムを通してメタルハライドラング(岩
崎電機■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距
離から実施例1で用いたUVメーターで6 m W /
an ”の光量で15秒露光した。
次いで現像パッドに塩基入り現像液(アイソパーH/プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル/エチルセロソ
ルフ/モノエタノールアミン−90151510,2重
量比)をしみこませ1版面を均一にぬらして露光部が褐
色に変化したら、そのままで現像パッドでこすると、未
露光部のシリコーンゴム層が除去され感光層が露出し、
露光部のシリコーンゴム層はしっかりと感光層共に残存
しており、ポジフィルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
ロピレングリコールモノメチルエーテル/エチルセロソ
ルフ/モノエタノールアミン−90151510,2重
量比)をしみこませ1版面を均一にぬらして露光部が褐
色に変化したら、そのままで現像パッドでこすると、未
露光部のシリコーンゴム層が除去され感光層が露出し、
露光部のシリコーンゴム層はしっかりと感光層共に残存
しており、ポジフィルムを忠実に再現した画像が得られ
た。
実施例11
厚み0.24 mmのアルミ板(住人軽金属製)にフェ
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジ
ンPC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、
200°0,6分間キュアしたものを支持体として、こ
の上にエステル化度44%のフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂(住人ベークライト製ニスミライトレ
ジy PR,50235)のす7トキノンー1.2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成
分97重量%。
ノールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジ
ンPC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、
200°0,6分間キュアしたものを支持体として、こ
の上にエステル化度44%のフェノールホルムアルデヒ
ドノボラック樹脂(住人ベークライト製ニスミライトレ
ジy PR,50235)のす7トキノンー1.2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル(エタノール可溶性成
分97重量%。
エステル化度は工Rスペクトルから定量)の7重量%ジ
オキサン溶液をホエラーで回転塗布後60゛0.3分間
乾燥させて2.7μの感光層を形成した。
オキサン溶液をホエラーで回転塗布後60゛0.3分間
乾燥させて2.7μの感光層を形成した。
−棒一
この上にγ−アミノプロピルトリメトキシシラン(チッ
ソ■製: A 0800)の05重量係アイソパーg
(エッソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、120
’o、30秒間乾燥した。この上に次の組成を持つシリ
コーン組成物の7チアイソノよ−E溶液をホエラーで回
転塗布後、120°0.DP30゜4分加熱硬化した。
ソ■製: A 0800)の05重量係アイソパーg
(エッソ化学製)溶液をホエラーで回転塗布後、120
’o、30秒間乾燥した。この上に次の組成を持つシリ
コーン組成物の7チアイソノよ−E溶液をホエラーで回
転塗布後、120°0.DP30゜4分加熱硬化した。
この場合得られたシリコ−/ゴム層の厚みは2.2μで
あった。
あった。
(a) ジメチルポリシロキサン
(分子量約80,000末端OH基) 100部(b)
ビニル、トリス(エチルメチルケトオキシム)シラ
ン 6部(C) ジブチル錫
ジアセテート0.2部上記のようにして得られた画像形
成用積層体にケミカル灯(トーコー、マスタープリンタ
ーA3)を用い、5山の距離で実施例1のU()メータ
ーで2.5mW/■3の強度で10秒全面露光した。こ
の露光量は予め検量線より求めておいた感光層のキノン
ジアジドの15モルチが光分解する量に相当するもので
ある。
ビニル、トリス(エチルメチルケトオキシム)シラ
ン 6部(C) ジブチル錫
ジアセテート0.2部上記のようにして得られた画像形
成用積層体にケミカル灯(トーコー、マスタープリンタ
ーA3)を用い、5山の距離で実施例1のU()メータ
ーで2.5mW/■3の強度で10秒全面露光した。こ
の露光量は予め検量線より求めておいた感光層のキノン
ジアジドの15モルチが光分解する量に相当するもので
ある。
E−
このようにして特定量のキノンジアジドをカルボン酸に
変化きせた画像形成用積層体に真空密着した150線の
網点画像を持つネガフィルムを通して超高圧水銀灯(オ
ーク製作所製ジェットライ)e 2部w)を用い、1m
の距離から70秒画像露光した。
変化きせた画像形成用積層体に真空密着した150線の
網点画像を持つネガフィルムを通して超高圧水銀灯(オ
ーク製作所製ジェットライ)e 2部w)を用い、1m
の距離から70秒画像露光した。
次いで現像パッドと露光板を塩基入り現像液(アイソバ
ーrv/エタノール/水/2−アミノ−2−メチル−1
,3−プロパンジオール=35/65/310.5重量
比)につけて、全面露光のみがされている部分が褐色に
変化してから1版面を現像液をふくませた現像パッドで
軽くこすると1画像露光の部分はシリコーンゴム層と感
光層が容易に除去されて支持体表面が露出し、−万全面
露光のみの部分はシリコーンゴム層と感光層はしつかり
残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した画像をも
つ印刷版が得られた。
ーrv/エタノール/水/2−アミノ−2−メチル−1
,3−プロパンジオール=35/65/310.5重量
比)につけて、全面露光のみがされている部分が褐色に
変化してから1版面を現像液をふくませた現像パッドで
軽くこすると1画像露光の部分はシリコーンゴム層と感
光層が容易に除去されて支持体表面が露出し、−万全面
露光のみの部分はシリコーンゴム層と感光層はしつかり
残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した画像をも
つ印刷版が得られた。
実施例12
厚み0.3mmのアルミ板上に、厚み0.6皿、ゴム硬
度60(ショアA)のクロロプレンゴム層ヲ設−θ佇− 6ワ けた複合基板上に、エステル化度44%の7エノールホ
ルムアルデヒドノボラツク樹脂(住人ベークライト製;
スミライトレジ7PR50235)・のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステルの10重量
係ジオキサン溶液を塗布し。
度60(ショアA)のクロロプレンゴム層ヲ設−θ佇− 6ワ けた複合基板上に、エステル化度44%の7エノールホ
ルムアルデヒドノボラツク樹脂(住人ベークライト製;
スミライトレジ7PR50235)・のナフトキノン−
1,2−ジアジド−5−スルホン酸エステルの10重量
係ジオキサン溶液を塗布し。
60°C熱風中で乾燥し、厚さ6μの感光層を設けた。
この上に次の組成を持つシリコーンゴム組成物の10重
量%n−ヘキサン溶液を塗布し、120’0.DP30
熱風中で4分間加熱硬化して、厚さ25μのシリコーン
ゴム層を設けた。
量%n−ヘキサン溶液を塗布し、120’0.DP30
熱風中で4分間加熱硬化して、厚さ25μのシリコーン
ゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量30.00
0末端水酸基) 100部(1))
メチルトリアセトキシシラン 6部(c)
酢酸ジブチルスズ 0.2部(d)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン05部 (θ) ジブトキシ、ビス(エチルアセトアセテート)
チタン 6部上記のようにし
て得られた画像形成用積層体を真空密着したネガフィル
ムを通して超高圧水銀灯(オーク製作所製ジェットライ
ト2 kw)を用い。
0末端水酸基) 100部(1))
メチルトリアセトキシシラン 6部(c)
酢酸ジブチルスズ 0.2部(d)
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン05部 (θ) ジブトキシ、ビス(エチルアセトアセテート)
チタン 6部上記のようにし
て得られた画像形成用積層体を真空密着したネガフィル
ムを通して超高圧水銀灯(オーク製作所製ジェットライ
ト2 kw)を用い。
47−
醇
1mの距離から90秒画像露光した。次いでメタルハラ
イドランプ(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離でUVメーター(■オーク製作所ライ
トメジャアタイプUV−302人)で0.6mW/am
”の強度で全面露光を7秒した。
イドランプ(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を
用い、1mの距離でUVメーター(■オーク製作所ライ
トメジャアタイプUV−302人)で0.6mW/am
”の強度で全面露光を7秒した。
露光ずみの版は、エタノール65部/アイソバール65
部/水6部/モノエタノールアミン0.2部からなる現
像液で版面をぬらし、全面露光のみした部分が変色して
から現像パッドで軽くこすると0画像露光部分は容易に
除去されて基板のゴム層が露出し、−万全面露光のみの
部分にはシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガ
フィルムを忠実に再現した印刷版を得た。
部/水6部/モノエタノールアミン0.2部からなる現
像液で版面をぬらし、全面露光のみした部分が変色して
から現像パッドで軽くこすると0画像露光部分は容易に
除去されて基板のゴム層が露出し、−万全面露光のみの
部分にはシリコーンゴム層が強固に残存しており、ネガ
フィルムを忠実に再現した印刷版を得た。
実施例13
厚み0.2 InInのポリエステルフィルム(東し■
製ルミラー)の上に、厚み0.25 nun、ゴム硬度
(ショアA)70のニトリルゴム層を設けた複合基板上
ニ、エステル化度44%のフェノールホルムアルデヒド
ノボラック樹脂(住人ベークライト製ニスミライトレジ
ンPR50235)のナフトキノン−苓割− 一1.2−シy シト−5−スルホン酸エステル(エタ
ノール可溶性成分9.7重量%、エステル化度は工Rス
ペクトルから定量)の7重量係ジオキサン溶液をホエラ
ーで回転塗布後60’o、3分間乾燥させて27μの感
光層を形成した。この上にγ−アミノプロピルトリメト
キシシラン(チッソ■製; A 0800) の0
.5重量%アイソパーE(エッソ化学製)溶液をホエラ
ーで回転塗布後、120’o、30秒間乾燥した。この
上に次の組成を持つシリコーン組成物の7%アイソパー
E溶液をホエラーで回転塗布後、120°O,D、P、
30部4分加熱硬化した。この場合得られたシリコーン
ゴム層の厚みは2.2μであった。
製ルミラー)の上に、厚み0.25 nun、ゴム硬度
(ショアA)70のニトリルゴム層を設けた複合基板上
ニ、エステル化度44%のフェノールホルムアルデヒド
ノボラック樹脂(住人ベークライト製ニスミライトレジ
ンPR50235)のナフトキノン−苓割− 一1.2−シy シト−5−スルホン酸エステル(エタ
ノール可溶性成分9.7重量%、エステル化度は工Rス
ペクトルから定量)の7重量係ジオキサン溶液をホエラ
ーで回転塗布後60’o、3分間乾燥させて27μの感
光層を形成した。この上にγ−アミノプロピルトリメト
キシシラン(チッソ■製; A 0800) の0
.5重量%アイソパーE(エッソ化学製)溶液をホエラ
ーで回転塗布後、120’o、30秒間乾燥した。この
上に次の組成を持つシリコーン組成物の7%アイソパー
E溶液をホエラーで回転塗布後、120°O,D、P、
30部4分加熱硬化した。この場合得られたシリコーン
ゴム層の厚みは2.2μであった。
(a) ジメチルポリシロキサン
(分子量約so、ooo未満OH基) 100部(b)
エチルトリアセトキシシラン 5部(c)
ジブチル錫ジアセテート 02部このように
して得られた画像形成用積層体にメタルハライドランプ
(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を用い、1m
の距離で、実施例1で用一本r− いたIs vメーターで6 m W/an ”の光量で
9秒間全面露光した。次いで真空密着した150線の網
点画像を持つネガフィルムを通して上記メタルパライト
ランプを用い、1mの距離から90秒画像露に現像する
ことにより良好な画像を有する印刷版が得られた。
エチルトリアセトキシシラン 5部(c)
ジブチル錫ジアセテート 02部このように
して得られた画像形成用積層体にメタルハライドランプ
(岩崎電気■製アイドルフィン2000)を用い、1m
の距離で、実施例1で用一本r− いたIs vメーターで6 m W/an ”の光量で
9秒間全面露光した。次いで真空密着した150線の網
点画像を持つネガフィルムを通して上記メタルパライト
ランプを用い、1mの距離から90秒画像露に現像する
ことにより良好な画像を有する印刷版が得られた。
実施例14
厚み0.3 mmのアルミ板上に、厚み0.3 mm
、ゴム硬度60(ショアA)のクロロプレンゴム層ヲ設
けた複合基板上に下記の感光性組成物を塗布し。
、ゴム硬度60(ショアA)のクロロプレンゴム層ヲ設
けた複合基板上に下記の感光性組成物を塗布し。
120’o、2分間加熱処理して厚さ2μの感光層を設
けた。
けた。
ナフト上ノー−1,2−ジアジド−5−スルホン酸トフ
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂ノ部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47チ)
ioo重量部ポリ(フェニレンメチレ
ン)ポリイソシアネート(日本ポリウレタン製MR20
o)5o重量部−讐一 1 ジプチル錫ジラウレート0.2重量部 ジオキサン 740重量部続いてこ
の上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を回転塗布後
、120°0.露点30°、2分間加熱硬化させて2μ
のシリコーンゴム層を設けて。
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂ノ部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47チ)
ioo重量部ポリ(フェニレンメチレ
ン)ポリイソシアネート(日本ポリウレタン製MR20
o)5o重量部−讐一 1 ジプチル錫ジラウレート0.2重量部 ジオキサン 740重量部続いてこ
の上に下記の組成のシリコーンゴム組成物を回転塗布後
、120°0.露点30°、2分間加熱硬化させて2μ
のシリコーンゴム層を設けて。
画像形成用積層体を作成した。
ジメチルポリシロキサン(分子量約25,000゜末端
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエチルケトキシム)□シラ/
8重量部ジプチル錫ジアセテー
ト 02重量部γ−〔N−アミノエテルアミノ
プロビル〕トリメトキシシラン
1重量部アイソパーB 1800重量
部かかる画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩
崎電気■製アイドルフィy2000)を用い、1mの距
離でUVメーター(■オーク製作所ライトメジャアタイ
ブUV−4θ2A)で6mW/訓′り光量で全面露光を
13秒施した。
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエチルケトキシム)□シラ/
8重量部ジプチル錫ジアセテー
ト 02重量部γ−〔N−アミノエテルアミノ
プロビル〕トリメトキシシラン
1重量部アイソパーB 1800重量
部かかる画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩
崎電気■製アイドルフィy2000)を用い、1mの距
離でUVメーター(■オーク製作所ライトメジャアタイ
ブUV−4θ2A)で6mW/訓′り光量で全面露光を
13秒施した。
引き続き常法通り、真空密着したion線の網z
点画像を持つネガフィルムを通して上記メタルハライド
ランプを用い、1mの距離から75秒露光した。次いで
、ソフバツド(3M社製現像パッド)を塩基処理液(ア
イソパーH/ブチルカルピトール/エチルセロソルフ/
モノエタ、ノールアミン;90151510.1重量比
)にひたし1版面を完全にぬらす。1分間程度で全面露
光のみをした部分が黒褐色に着色する。その後1版面の
塩基処理液を除去し、現像パッドに現像液(アイソパー
H/ブチルカルピトール/エチルカルピトール、−,2
0/40/40重量比)を充分しみこませ、現像パッド
で版面をこすると画像状に露光された部分のシリコーン
ゴム層が除去され、感光層表面が露出する。
ランプを用い、1mの距離から75秒露光した。次いで
、ソフバツド(3M社製現像パッド)を塩基処理液(ア
イソパーH/ブチルカルピトール/エチルセロソルフ/
モノエタ、ノールアミン;90151510.1重量比
)にひたし1版面を完全にぬらす。1分間程度で全面露
光のみをした部分が黒褐色に着色する。その後1版面の
塩基処理液を除去し、現像パッドに現像液(アイソパー
H/ブチルカルピトール/エチルカルピトール、−,2
0/40/40重量比)を充分しみこませ、現像パッド
で版面をこすると画像状に露光された部分のシリコーン
ゴム層が除去され、感光層表面が露出する。
一方、全面露出のみの部分はシリコーン層が感光層に強
固に接着して残っている。
固に接着して残っている。
かくして画像露光部の露出した感光層が画線部。
全面露光のみの部分の残ったシリコ−/ゴム層が非画線
部となる。ネガフィルムに忠実な画像を再現した印刷版
が得られた。
部となる。ネガフィルムに忠実な画像を再現した印刷版
が得られた。
実施例15
一冷一
実施例1において、メタルハシイドランプによる全面露
光を感光性組成物を塗布、熱処理した後。
光を感光性組成物を塗布、熱処理した後。
すなわち、この上にシリコーンゴム層を塗設する前に実
施して、しかる後にシリコーンゴム層ta設して得られ
た画像形成用積層体に実施例1と同様にネガフィルムを
用いて画像露光して、塩基処理と現像を施しても何ら変
わるところのない良好な画像の印刷版が得られた。
施して、しかる後にシリコーンゴム層ta設して得られ
た画像形成用積層体に実施例1と同様にネガフィルムを
用いて画像露光して、塩基処理と現像を施しても何ら変
わるところのない良好な画像の印刷版が得られた。
実施例16
実施例1で得られた画像形成用積層体に版面保護、真空
密着性向上のためのカバーフィルムとしセ て/リプロピレンフイルム(厚さ8μ)をラミネーター
でラミネートする。然る後、この上から実施例1に記載
の通りに全面露光1画像露光あるいは逆に画像露光、全
面露光の順にしてから、カバーフィルムをはぎとって実
施例1または2の記載通りに塩基処理と現像をしても、
焼きぼけのない。
密着性向上のためのカバーフィルムとしセ て/リプロピレンフイルム(厚さ8μ)をラミネーター
でラミネートする。然る後、この上から実施例1に記載
の通りに全面露光1画像露光あるいは逆に画像露光、全
面露光の順にしてから、カバーフィルムをはぎとって実
施例1または2の記載通りに塩基処理と現像をしても、
焼きぼけのない。
良好な画像の印刷版が得られた。
実施例17
(A) 化成処理アルミ板(住人軽金属製)にエスー
ハy− チル化度44俤のフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂(スミライトレジンPR50235゜住人デュレ
ズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル6部、塩素化ポリプロプレン(1スーパー
クロン606”、 山陽国策パルプ製)7部、ジオキザ
ン133部からなる組成物をパーコーター(讐24)を
用いて塗布60゜で乾燥し。厚み2.8μの感光層を形
成した。この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(A10°0で1分間乾燥した。この上に次の組成を
持つシリコーン組成物の7重量%アイソパーE溶液をホ
エラーで回転塗布し、100°0,2分間加熱硬化した
。この場合得られたシリコーンゴム層の厚みは2.2μ
であった。
ハy− チル化度44俤のフェノールホルムアルデヒドノボラッ
ク樹脂(スミライトレジンPR50235゜住人デュレ
ズ製)のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル6部、塩素化ポリプロプレン(1スーパー
クロン606”、 山陽国策パルプ製)7部、ジオキザ
ン133部からなる組成物をパーコーター(讐24)を
用いて塗布60゜で乾燥し。厚み2.8μの感光層を形
成した。この上にγ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン(A10°0で1分間乾燥した。この上に次の組成を
持つシリコーン組成物の7重量%アイソパーE溶液をホ
エラーで回転塗布し、100°0,2分間加熱硬化した
。この場合得られたシリコーンゴム層の厚みは2.2μ
であった。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部(
分子量約80,000.末端OH基)(b)エチルトリ
アセトキシシラン 5部(c) ジプチル錫ジ
アセテート0,2部上記のようにして得られた画像形成
用積層体に、メタルハライドランプ(岩崎電気■製アイ
ドルフィン2000)を用い、1mの距離で実施例1で
用いたUVメーターで6 m W /an ”の光量で
5秒間全面露光した。次いで、この全面露光した画像形
成用積層体に真空密着した100線の網点画像を持つネ
ガフィルムを通してメタルハライドランプを用い1mの
距離から60秒照射した。版面をエタノール/アインパ
ーE/ベンジルアミン(51510,5)混合液に浸漬
して全面露光のみの部分が茶色に変化してから現像パッ
ドで軽くこすると画像露光部のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。
分子量約80,000.末端OH基)(b)エチルトリ
アセトキシシラン 5部(c) ジプチル錫ジ
アセテート0,2部上記のようにして得られた画像形成
用積層体に、メタルハライドランプ(岩崎電気■製アイ
ドルフィン2000)を用い、1mの距離で実施例1で
用いたUVメーターで6 m W /an ”の光量で
5秒間全面露光した。次いで、この全面露光した画像形
成用積層体に真空密着した100線の網点画像を持つネ
ガフィルムを通してメタルハライドランプを用い1mの
距離から60秒照射した。版面をエタノール/アインパ
ーE/ベンジルアミン(51510,5)混合液に浸漬
して全面露光のみの部分が茶色に変化してから現像パッ
ドで軽くこすると画像露光部のシリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。
一方、全面露光のみの部分にはシリコーンゴム層が強固
に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した画像が
得られた。
に残存しており、ネガフィルムを忠実に再現した画像が
得られた。
実施例18
厚み0.24mmのアルミ板(住人軽金属製)にフェノ
ールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジン
pC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、1
90°0,3分間キュアしたものを支持体として、この
上に、下記の感光性組成物を塗布し、120°0,2分
間加熱処理して厚さ2μの感光層を設けた。
ールホルムアルデヒドレゾール樹脂(スミライトレジン
pC−1.住友デュレズ製)を2μの厚みに塗布し、1
90°0,3分間キュアしたものを支持体として、この
上に、下記の感光性組成物を塗布し、120°0,2分
間加熱処理して厚さ2μの感光層を設けた。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸トフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂ノ部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47qb)
100重量部4.4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート30重量部 ジプチル錫ジラウレート 02重量部p−トル
エンスルホン酸0.8重!一部ジオキザン
740重量部続いてこの上に下記の組成のシリ
コーンゴム組成物を回転塗布後、120°G、露点30
3分間加熱硬化させて2μのシリコ−/ゴム層を設けて
8画像形成用積層体を作成した。
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂ノ部分エステ
ル(IR法によるエステル化度47qb)
100重量部4.4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート30重量部 ジプチル錫ジラウレート 02重量部p−トル
エンスルホン酸0.8重!一部ジオキザン
740重量部続いてこの上に下記の組成のシリ
コーンゴム組成物を回転塗布後、120°G、露点30
3分間加熱硬化させて2μのシリコ−/ゴム層を設けて
8画像形成用積層体を作成した。
ジメチルポリシロキサン(分子量約25,000゜末端
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエチルケトキシム)シラー1−$− ン 8重量部ジプチ
ル錫ジアセテート 0.1重量部γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン0.5重量部 アイソバー B (エッソ化学製) 1800重量部
かかる画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩崎
電気■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離
でUVメーター(■オーク製作所ライトメジャアタイプ
UV−402A)で6mW/an ”の光量で全面露光
を10秒施した。
水酸基) 100重量部ビニルト
リス(メチルエチルケトキシム)シラー1−$− ン 8重量部ジプチ
ル錫ジアセテート 0.1重量部γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン0.5重量部 アイソバー B (エッソ化学製) 1800重量部
かかる画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩崎
電気■製アイドルフィン2000)を用い、1mの距離
でUVメーター(■オーク製作所ライトメジャアタイプ
UV−402A)で6mW/an ”の光量で全面露光
を10秒施した。
しかる後にカバーフィルムとして、厚さ13μのプロピ
レンフィルム(束し■製)をラミネーターで版面上にラ
ミネートする。
レンフィルム(束し■製)をラミネーターで版面上にラ
ミネートする。
引き続きカバーフィルムをかけたまま常法通シ。
真空密着した150線の網点画像を持つネガフィルムを
通してメタルハライドランプを用い、1mの距離から6
0秒画像露光した。次いで、カバーフィルムをはぎとり
ソフパッド(3M製現像パッド)を実施例1の塩基処理
液にひたし1版面を完全にぬらす。画像状に版面が褐色
に着色したら。
通してメタルハライドランプを用い、1mの距離から6
0秒画像露光した。次いで、カバーフィルムをはぎとり
ソフパッド(3M製現像パッド)を実施例1の塩基処理
液にひたし1版面を完全にぬらす。画像状に版面が褐色
に着色したら。
−±;−
塩基処理液を版面から拭きとって、現像バットで現像液
(アイソバー H/ブチルカルピトール/エチルカルピ
トール/2−エチルヘキサンe/” !jスタルバイオ
レットー20/40/40/210.2重量比)を用い
版面を軽くこすると画像状に露光された部分のシリコー
ンゴム層が除去され、紫色に染色された感光層表面が露
出した。一方、全面露光のみをされた部分のシリコーン
ゴム層は染色されないで強固に接着して残存した。しか
る後に常法通り版面を水洗、乾燥して得られた印刷版は
ネガフィルムを忠実に再現し、かつ非画線部(未染色化
)と画像部(染色化)の区別がはっきりしており、良好
なものであった。なお画線部の染色化は現像と同時にで
なくとも、即ち実施例1で用いた現像液で現像して、し
かる後、染色液(#−酸酸層ルビトール/エチレングリ
コール/クリスタルバイオレット30/70/3重量比
)を用いて染色しても何らかわるところはない。
(アイソバー H/ブチルカルピトール/エチルカルピ
トール/2−エチルヘキサンe/” !jスタルバイオ
レットー20/40/40/210.2重量比)を用い
版面を軽くこすると画像状に露光された部分のシリコー
ンゴム層が除去され、紫色に染色された感光層表面が露
出した。一方、全面露光のみをされた部分のシリコーン
ゴム層は染色されないで強固に接着して残存した。しか
る後に常法通り版面を水洗、乾燥して得られた印刷版は
ネガフィルムを忠実に再現し、かつ非画線部(未染色化
)と画像部(染色化)の区別がはっきりしており、良好
なものであった。なお画線部の染色化は現像と同時にで
なくとも、即ち実施例1で用いた現像液で現像して、し
かる後、染色液(#−酸酸層ルビトール/エチレングリ
コール/クリスタルバイオレット30/70/3重量比
)を用いて染色しても何らかわるところはない。
実施例19
実施例1で得られた画像形成用積層体に実施例1と同様
な全面露光およびネガフィルムを通して画像露光して得
られた版を次表に示した塩基入り現像液で現像したとこ
ろ、良好ないしは適度の画像の印刷版が得られた。
な全面露光およびネガフィルムを通して画像露光して得
られた版を次表に示した塩基入り現像液で現像したとこ
ろ、良好ないしは適度の画像の印刷版が得られた。
一含α一
実施例20
実施例1の支持体へ下記の感光性組成物を塗布し、12
0°0,2分間加熱処理して厚さ2μの感光層を設けた
。
0°0,2分間加熱処理して厚さ2μの感光層を設けた
。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸トフ
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂の部分エステ
ル 70重量部同上の部分エステル
を露光して完全にキノンジアジド成分を光分解してイン
デンカルボン酸成分としたもの
ろ0重量部4.4′−ジフェニルメタンジインシアネ
ート30重量部 ジブチル錫ジラウレート 02重量部p−)ル
エンスルホン酸 0.8重i部ジオキサ7
740重量部続いてこの上に実施例1と
同じシリコーンゴム組成物を塗布キュアして1画像形成
用積層体を作成した。
ェノールホルムアルデヒドノボラツク樹脂の部分エステ
ル 70重量部同上の部分エステル
を露光して完全にキノンジアジド成分を光分解してイン
デンカルボン酸成分としたもの
ろ0重量部4.4′−ジフェニルメタンジインシアネ
ート30重量部 ジブチル錫ジラウレート 02重量部p−)ル
エンスルホン酸 0.8重i部ジオキサ7
740重量部続いてこの上に実施例1と
同じシリコーンゴム組成物を塗布キュアして1画像形成
用積層体を作成した。
かかる画像形成用積層体にメタルハライドランプ(岩崎
電気製アイドルフィン2000)を用い。
電気製アイドルフィン2000)を用い。
−駄一
1mの距離で真空密着させたネガフィルムを通[7て6
0秒画像露光してから、実施例1と同様に塩基処理、現
像を行なったところ、露光部のシリコーンゴム層が除去
され、感光層が露出して忠実に画像が形成された印刷版
が得られた。
0秒画像露光してから、実施例1と同様に塩基処理、現
像を行なったところ、露光部のシリコーンゴム層が除去
され、感光層が露出して忠実に画像が形成された印刷版
が得られた。
実施例21
厚み200μの“ルミシー”(東し■製ポリエステルフ
ィルム)上に厚み300μのゴム硬度70のNBR層を
設けた複合基板を支持体として、この上にエステル化度
50%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(
スミライトレジンPR50235、住人デュレズ製)の
ナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステルの4重量多ジオキサン溶液をホエラで回転
塗布し。
ィルム)上に厚み300μのゴム硬度70のNBR層を
設けた複合基板を支持体として、この上にエステル化度
50%のフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(
スミライトレジンPR50235、住人デュレズ製)の
ナフトキノンジアジド−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステルの4重量多ジオキサン溶液をホエラで回転
塗布し。
100°0で2分間乾燥して厚み2 g / m”の感
光層を設けた。
光層を設けた。
続いてこの」二にジ−n−ブトキシ・ビス(アセチルア
セトナート)チタンの28重量%のアイソパーB(エッ
ソ化学製)溶液をバーコーターで塗布後、120°0,
1分間乾燥して厚み0.1 g / m”の接着層を設
けた。
セトナート)チタンの28重量%のアイソパーB(エッ
ソ化学製)溶液をバーコーターで塗布後、120°0,
1分間乾燥して厚み0.1 g / m”の接着層を設
けた。
さらにこの接着層の上に下記の組成のシリコーンゴム組
成物をホエラで塗布後、120’O,露点30°4すで
加熱硬化して厚み2.5 g / m’のシリコーンゴ
ム層を設けた。
成物をホエラで塗布後、120’O,露点30°4すで
加熱硬化して厚み2.5 g / m’のシリコーンゴ
ム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約22.[
]000両末端水酸基 100部(E
) エチルトリアセトキシシラン/メチルトリアセト
キシシラン(i、、’i混合) 6部(c)
ジブチル錫ジアセテート 012部(d) ア
イソパーK 1370部上記のように
して得られた画像形成用積層体に超高圧水銀灯(オーク
製作所製ジェットライト2kW)を用い、1mの距離か
ら実施例1のUVメーターで6 m W /[♂の光量
で8全面面露光してか一#− ら、真空密着した100線のネガフィルムを通して超高
圧水銀灯(ジェットライト2 kw )を用い。
]000両末端水酸基 100部(E
) エチルトリアセトキシシラン/メチルトリアセト
キシシラン(i、、’i混合) 6部(c)
ジブチル錫ジアセテート 012部(d) ア
イソパーK 1370部上記のように
して得られた画像形成用積層体に超高圧水銀灯(オーク
製作所製ジェットライト2kW)を用い、1mの距離か
ら実施例1のUVメーターで6 m W /[♂の光量
で8全面面露光してか一#− ら、真空密着した100線のネガフィルムを通して超高
圧水銀灯(ジェットライト2 kw )を用い。
1mの距離から90秒露光した。続いてエタノール/ア
イソパーE/モノエタノールアミン(65/3510.
5)の現像液に浸漬し0画像状に黒褐色に版面が変化し
てから現像パッドで軽くこすると1画像露光部のシリコ
ーンゴム層が感光層とともに除去され、複合基板表面が
露出し、原画フィルムに忠実な画像の印刷版が得られた
。
イソパーE/モノエタノールアミン(65/3510.
5)の現像液に浸漬し0画像状に黒褐色に版面が変化し
てから現像パッドで軽くこすると1画像露光部のシリコ
ーンゴム層が感光層とともに除去され、複合基板表面が
露出し、原画フィルムに忠実な画像の印刷版が得られた
。
この印刷版を用いて直刷り印刷を行ったところ良好な印
刷物が2万枚得られた。
刷物が2万枚得られた。
実施例22
厚み0.24 mmの生アルミ板(住人軽金属製)にレ
ゾール樹脂(スミライトレジンPC−1.住友デュレズ
製)を1 g / m’の厚みに塗布し、19゜’o、
1.5分間キュアして支持体とした。
ゾール樹脂(スミライトレジンPC−1.住友デュレズ
製)を1 g / m’の厚みに塗布し、19゜’o、
1.5分間キュアして支持体とした。
この支持体に7エノールホルムアルデヒドノボラツク樹
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ/酸
エステルの1.4重量%のジオキサン溶液をホエラで回
転塗布し、100’Oで2分間乾−容体− 燥して厚み0.5 g / m”の感光層を設けた。
脂のナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ/酸
エステルの1.4重量%のジオキサン溶液をホエラで回
転塗布し、100’Oで2分間乾−容体− 燥して厚み0.5 g / m”の感光層を設けた。
続いてこの上に下記の組成のシ+) コ−7−r ム組
成物をバーコーターで塗布後、120°0.露点30−
04分で加熱硬化して厚み2.3 g / m’のシリ
コーンゴム層を設けた。
成物をバーコーターで塗布後、120°0.露点30−
04分で加熱硬化して厚み2.3 g / m’のシリ
コーンゴム層を設けた。
(a) ジメチルポリシロキサン(分子量約22,0
00両末端水酸基) 100部(b)
ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(c) ジブチル錫
ジアセテート 01部(d) ジ−イソ−プ
ロポキシ0ビス(アセテルア □セトナト)チタン
4.9部(θ)アイソパーE
360部上記のようにして得られた画像形成
用積層体に15D線の網点画像を持つネガフィルムを真
空密着し、メタルハライドランプ(岩崎電気製アイドル
フィン2000)を用い、1mの距離から60秒露光し
た。さらにこの画像露光ずみ積層体に同じランプで実施
例1で用いたUVメーターで版面上6 m W /am
”の光量で10秒全面露光した。次いで−ミー 塩基入り現像液(アイソパール/ブチルカルピトール/
モノエタノールアミン−40/ 60 / 1 wt%
)に浸漬し、現像パッドで軽くこすると画像露光部のシ
リコーン層と感光層が除去され、支持体表面が露出した
ネガフィルムの画像を忠実に再現した印刷版が得られた
。
00両末端水酸基) 100部(b)
ビニルトリ(メチルエチルケトオキシム)シラン
8部(c) ジブチル錫
ジアセテート 01部(d) ジ−イソ−プ
ロポキシ0ビス(アセテルア □セトナト)チタン
4.9部(θ)アイソパーE
360部上記のようにして得られた画像形成
用積層体に15D線の網点画像を持つネガフィルムを真
空密着し、メタルハライドランプ(岩崎電気製アイドル
フィン2000)を用い、1mの距離から60秒露光し
た。さらにこの画像露光ずみ積層体に同じランプで実施
例1で用いたUVメーターで版面上6 m W /am
”の光量で10秒全面露光した。次いで−ミー 塩基入り現像液(アイソパール/ブチルカルピトール/
モノエタノールアミン−40/ 60 / 1 wt%
)に浸漬し、現像パッドで軽くこすると画像露光部のシ
リコーン層と感光層が除去され、支持体表面が露出した
ネガフィルムの画像を忠実に再現した印刷版が得られた
。
実施例23
実施例1に記載された。ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸とフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂の部分エステル、!: 4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート以外はすべて同じにして以下
に示す!画像形成用積層体が得られた。
ド−5−スルホン酸とフェノールホルムアルデヒドノボ
ラック樹脂の部分エステル、!: 4.4’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート以外はすべて同じにして以下
に示す!画像形成用積層体が得られた。
かかる画像形成用積層体も実施例1と同様に全面露光し
て2次いで画像露光後、塩基処理と現像を行なうと、ネ
ガフィルムに忠実な画像の印刷版が得られた。
て2次いで画像露光後、塩基処理と現像を行なうと、ネ
ガフィルムに忠実な画像の印刷版が得られた。
一壮6−
紡
一注7−
8
第1図は画像形成用積層体、第2図および第6図は画像
形成用積層体からネガ型湿し水不要平版ごン′ 印刷版を製版する手順を示す概略図の例であり。 第4図はポジ型湿し水不要平版印刷版を製版する手順を
示す概略図の一例である。 1:画像形成用積層体 3:ネガ型湿し水不要平版印刷版 5:ポジ型湿し水不要平版印刷版 特許出願人 東し株式会社 一□ 第? 国 ++i+i 手 続 補 正 書 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 2、発明の名称 画像形成用積層体の処理方法 5、補正により増加する発明の数 なし6、補正の幻
象 明細書中1発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 明 細 書 中 (1)第9頁4行 1’ 367718.1をr3677178Jに補正す
る。 (2)第17頁2〜3行 「現像するあるいは」を[坦像するかあるいは]に補正
する。 (3)第17頁14行 「形成用積体」を[形成用積層体」に補正1−る。 (4)第25頁8行 [光量計]を1強度計」に補正する。 (5)第25頁10行 「光量」を「強度」に補正する。 (6)第30頁3行 IQ、01以−ト」をrO,01%以上」に補正する。 (7)第31頁1行 「すると」を1すること」に補正する。 (8)第41頁最終行 「非画像部」を「画像部」に補正する。 (9)第42頁13行 「非画像部」を[画像部Jに補正する。 (10)第42頁最終行 「ポジフィルム通して」を「ポジフィルムを通して」に
補正(−る。 (11)第52頁7行 「光量」を「強度」に補正する。 (12)第53頁最終行 「光量」を「強度」に補正する。 (13)第56頁下から2行 「光量」を「強度」に補正する。 (14)第57頁最終行 「光量」を1強度」に補正する。 (15)第58頁11行 「光量」を「強度」に補正する。 (16)第59頁最終行 「光量」を「強度」に補正する。 (17)第61頁9行 「光量」を「強度」に補正する。 (18)第61頁下から4行 [用して1を1有して1に補正1−る。 (19)第63頁8行 し光量」をし強度」に補正Jる。 (20)第64真下から5行 「光量]を「強度」に補正する。 (21)第66頁11行 「ビニル、トリス」を「ヒニルi〜リス」に補正づる。 (22)第71頁1行 「光量」を「強度」に補正する。 (23)第71頁下から6行 「ナノ1−キノ−」を1ナフトキノン」に補正する。 (24)第72頁下から2行 「光路」を「強度」に補正する。 (25)第73頁下から7行 「露出」を「露光」に補正する。 (26)第76頁4行 「光1iJを「強度」に補正する。 (27)第78頁10行 「光量」を「強度」に補正する。 (28)第84頁最終行 [先出1を[強度1に補正する。 (29)第86頁最終行 「光間」を「強度」に補正する。 5− 321−
形成用積層体からネガ型湿し水不要平版ごン′ 印刷版を製版する手順を示す概略図の例であり。 第4図はポジ型湿し水不要平版印刷版を製版する手順を
示す概略図の一例である。 1:画像形成用積層体 3:ネガ型湿し水不要平版印刷版 5:ポジ型湿し水不要平版印刷版 特許出願人 東し株式会社 一□ 第? 国 ++i+i 手 続 補 正 書 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 2、発明の名称 画像形成用積層体の処理方法 5、補正により増加する発明の数 なし6、補正の幻
象 明細書中1発明の詳細な説明」の欄 7、補正の内容 明 細 書 中 (1)第9頁4行 1’ 367718.1をr3677178Jに補正す
る。 (2)第17頁2〜3行 「現像するあるいは」を[坦像するかあるいは]に補正
する。 (3)第17頁14行 「形成用積体」を[形成用積層体」に補正1−る。 (4)第25頁8行 [光量計]を1強度計」に補正する。 (5)第25頁10行 「光量」を「強度」に補正する。 (6)第30頁3行 IQ、01以−ト」をrO,01%以上」に補正する。 (7)第31頁1行 「すると」を1すること」に補正する。 (8)第41頁最終行 「非画像部」を「画像部」に補正する。 (9)第42頁13行 「非画像部」を[画像部Jに補正する。 (10)第42頁最終行 「ポジフィルム通して」を「ポジフィルムを通して」に
補正(−る。 (11)第52頁7行 「光量」を「強度」に補正する。 (12)第53頁最終行 「光量」を「強度」に補正する。 (13)第56頁下から2行 「光量」を「強度」に補正する。 (14)第57頁最終行 「光量」を1強度」に補正する。 (15)第58頁11行 「光量」を「強度」に補正する。 (16)第59頁最終行 「光量」を「強度」に補正する。 (17)第61頁9行 「光量」を「強度」に補正する。 (18)第61頁下から4行 [用して1を1有して1に補正1−る。 (19)第63頁8行 し光量」をし強度」に補正Jる。 (20)第64真下から5行 「光量]を「強度」に補正する。 (21)第66頁11行 「ビニル、トリス」を「ヒニルi〜リス」に補正づる。 (22)第71頁1行 「光量」を「強度」に補正する。 (23)第71頁下から6行 「ナノ1−キノ−」を1ナフトキノン」に補正する。 (24)第72頁下から2行 「光路」を「強度」に補正する。 (25)第73頁下から7行 「露出」を「露光」に補正する。 (26)第76頁4行 「光1iJを「強度」に補正する。 (27)第78頁10行 「光量」を「強度」に補正する。 (28)第84頁最終行 [先出1を[強度1に補正する。 (29)第86頁最終行 「光間」を「強度」に補正する。 5− 321−
Claims (11)
- (1) 支持体上にキノンジアジド構造を含む物質を
構成成分とする感光層で、かつカルボン酸成分を含有す
る感光層およびシリコーンゴム層をこの順に設けてなる
画像形成用積層体を塩基処理することを特徴とする画像
形成用積層体の処理方法。 - (2) 感光層とシリコーンゴム層との間にアミノシ
ランおよび/捷たは有機チタネートからなる接着層を設
けるか、またはシリコーンゴム層中にアミノシランおよ
び/または有機チタネートを含有させることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の画像形成用積層体の処理
方法。 - (3) 感光層中のカルボン酸成分を感光層の全面に
わたって含有させるため露光によりキノンジアジド構造
を含む物質からカルボン酸成分を生成させることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の画像形成用積層体の
処理方法。 - (4) 感光層中のカルボン酸成分を感光層の全面わ
たって含有させるため感光層に予めカルボン酸成分を添
加することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画
像形成用積層体の処理方法。 - (5) 感光層中のカルボン酸成分を感光層中に画像
状に含有させるため露光によりキノンジアジド構造を含
む物質からカルボン酸成分を生成させることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の画像形成用積層体の処理
方法。 - (6) 感光層中のカルボン酸成分の量はキノンジア
ジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の5〜60モ
ルチが光分解して生成する量であることを特徴とする特
許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の画像形成用
積層体の処理方法。 - (7) 感光層中のカルボン酸成分の量はキノンジア
ジド構造を含む物質のキノンジアジド単位の10〜50
モルチが光分解して生成する量であることを特徴とする
特許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の画像形成
用積層体の処理方法。 - (8) 塩基処理は画像形成用積層体を現像の前にあ
るいは現像と同時に行なうことを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の画像形成用積層体の処理方法。 - (9) 塩基処理の塩基が現像液に含まれることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の画像形成用積層体の
処理方法。 - (10) 塩基処理に用いる塩基が有機塩基および/
または無機塩基であることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の画像形成用積層体の処理方法。 - (11) 塩基処理に用いる塩基が有機塩基であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の画像形成用
積層体の処理方法。 0り 塩基処理に用いる有機塩基がアミン化合物である
ことを特徴とする特許請求の範囲第11項記載の画像形
成用積層体の処理方法。 (1階 画像形成用積層体が湿し水不要平版印刷版原
版であることを特徴とする特許請求の範囲第1項または
第2項記載の画像形成用積層体の処理方法。 (141画像形成用積層体がネガ型、ポジ型の両性タイ
プの湿し水不要平版印刷版原版であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項記載の画像形成用積
層体の処理方法。 (l(ト) 感光層中のキノンジアジド構造を含む物質
のキノンジアジド単位の5〜60モル%が光分解して生
成した量に相当するカルボン酸成分を感光層の全面に予
め添加させておくか、または露光により生成させ1次い
で画像状に画像部分の感光層中のキノンジアジド構造を
含む物質のキノンジアジド単位の少なくとも70モル係
以上を光分解させるに足る量の露光を施して(画像露光
)から塩基処理した後現像するか、または塩基処理と同
時に現像することによって画像露光部の少なくともシリ
コーンゴム層を除去して子ガ型湿し水不要平版印刷版と
することを特徴とする特許請求の範囲第13項記載の画
像形成用積層体の処理方法。 OQ 画像状に画像部分の感光層中のキノンジアジド
構造を含む物質のキノンジアジド単位の少なくとも70
モル係以上を光分解するに足る量の露光を施して(画像
露光χ、゛次いで未露光部の感光層中のキノンジアジド
構造を含む物質のキノンジアジド単位の5〜60モル%
が光分解して生成する量に相当するカルボン酸成分を非
画像部に生成させるために非画像部を含む感光層の全面
に露光を与え、塩基処理した後現像するか、または塩基
処理と同時に現像することによって画像露光部の少なく
ともシリコーンゴム層を除去してネガ型湿し水不要平版
印刷版とすることを特徴とする特許請求の範囲第16項
記載の画像形成用積層体の処理方法。 (1η 画像形成用積層体の全面にフラッシュ露光を施
し0次いで画像露光するか、または画像露光をし9次い
で画像形成用積層体の全面にフラッシュ露光を施すかし
0次いで塩基処理した後、現像するか、または塩基処理
と同時に現像することによって画像露光部の少なくとも
シリコーンゴム層を除去して、ネガ型湿し水不要平版印
刷版とすることを特徴とする特許請求の範囲第13項記
載の画像形成用積層体の処理方法。 (1印 感光層の露光部のキノンジアジド構造を含む
物質のキノンジアジド単位の5〜60モル%が5− 光分解して生成する量に相当するカルボン酸成分を露光
により感光層中に画像状に生成させてから塩基処理した
後現像するか、または塩基処理と同時に現像することに
よって未露光部の少なくともシリコーンゴム層を除去し
てポジ型湿し水不要子aI 画像形成用積層体に画像
状にフラッシュ露光を施し9次いで塩基処理した後現像
するが、!たは塩基処理と同時に現像することによって
未露光部の少なくともシリコーンゴム層を除去してポジ
型湿し水不要平版印刷版とすることを特徴とする特許請
求の範囲第16項記載の画像形成用積層体の処理方法。 (イ) 湿し水不要平版印刷版において、非画像部が塩
基処理する前の感光層中のキノンジアジド構造を含む物
質のキノンジアジド単位とカルボン酸成分とのモル比が
10010〜O/100において、9515〜40/6
0の範囲に相当する部分であり9画像部がこれ以外の範
囲に相当する部分であることを6一 特徴とする特許請求の範囲第13項記載の画像形成用積
層体の処理方法。 01) 湿し水不要平版印刷版において、非画像部が
塩基処理する前の感光層中のキノンジアジド構造を含む
物質のキノンジアジド単位とカルボン酸成分とのモル比
が10010〜0/100において。 90/10〜50150の範囲に相当する部分であり。 画像部が10010捷たは30/70〜0/100の範
囲に相当する部分であることを特徴とする特許請求の範
囲第16項記載の画像形成用積層体の処理方法。 (2イ 湿し水不要平版印刷版において、非画像部が
その部分の感光層中のキノンジアジド構造を含む物質の
キノンジアジド単位の5〜60モル係が光分解して生成
する量に相当するカルボン酸成分を生成させるだめの露
光を受けた部分またはフラッシュ露光部分であり9画像
部が実質的にカルボン酸成分を含まない未露光部である
ことを特徴とする特許請求の範囲第16項記載の画像形
成用積層体の処理方法。 03+ 湿し水不要平版印刷版において、非画像部が
その部分の感光層中のキノンジアジド構造を含む物質の
キノ/ジアジド単位の5〜60モルチが光分解して生成
する量に相当するカルボン酸成分を生成する露光のみを
受けた部分またはその量に相当するカルボン酸成分を含
んだ部分もしくはフラッシュ露光部であり9画像部がそ
の部分の感光層中のキノンジアジド構造を含む物質のキ
ノ/ジアジド単位の少なくとも70モルチ以上を光分解
するに足る露光を受けた部分(画像露光部ンであること
を特徴とする特許請求の範囲第16項記載の画像形成用
積層体の処理方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57125757A JPS5917552A (ja) | 1982-07-21 | 1982-07-21 | 画像形成用積層体の処理方法 |
US06/514,963 US4496647A (en) | 1982-07-21 | 1983-07-18 | Treatment of image-forming laminated plate |
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