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JPS6154223B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6154223B2
JPS6154223B2 JP15836179A JP15836179A JPS6154223B2 JP S6154223 B2 JPS6154223 B2 JP S6154223B2 JP 15836179 A JP15836179 A JP 15836179A JP 15836179 A JP15836179 A JP 15836179A JP S6154223 B2 JPS6154223 B2 JP S6154223B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
silicone rubber
parts
photosensitive
rubber layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP15836179A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5680047A (en
Inventor
Takashi Fujita
Takao Kinashi
Norio Kawabe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP15836179A priority Critical patent/JPS5680047A/ja
Publication of JPS5680047A publication Critical patent/JPS5680047A/ja
Publication of JPS6154223B2 publication Critical patent/JPS6154223B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は湿し水不要平版印刷版に関し、特に選
ばれた感光層およびシリコーンゴム層よりなるネ
ガテイブワーキング用湿し水不要な予備増感され
た平版印刷版に関するものである。
支持体に裏打ちされた感光層上にシリコーンゴ
ム層を塗設してなるネガテイブワーキング用湿し
水不要平版印刷版についてはすでにいくつかの提
案がなされている。
例えば特公昭46−16044号に開示されている例
ではアルミ板に裏打ちされた光可溶化型ジアゾ感
光層の上に接着層を介してシリコーンゴム層を設
けた予備増感された平版印刷版に、ネガフイルム
を通して活性光線で露光し、露光部の感光層を溶
解除去すると同時にその上にあるシリコーンゴム
層を除去し、支持体であるアルミ板を露出せしめ
画線部とすることを提案している。
また特開昭49−8306号,特開昭49−73202号,
特願昭53−131797号などにも同様の構成で、感光
層とシリコーンゴム層を現像除去し、露出した支
持体を画線部とするネガテイブワーキング用湿し
水不要平版印刷版が提案されている。
これらの平版印刷版では、画線部分が平凹版的
な構造を有し、インキ受容部分はシリコーンゴム
層および感光層が除去されて形成された凹み(以
下セルと呼ぶ)からなるものである。これに起因
して印刷時にセル部分にインキを十分に充填させ
るためには版面へのインキの供給量を多くするい
わゆるインキを厚盛りにする必要があつた。しか
しながら、このことはインキの消費量をいたずら
に増し印刷コストの上昇をもたらすのみならず、
また印刷効果の上からも階調性の再現という点で
重大な欠陥を有するものであつた。すなわち印刷
物のいわゆるベタ部分の光学濃度が通常の印刷物
で望ましいものとなるように版面にインキを供給
した場合、印刷物のいわゆるハイライト部分の網
点を形成する版面上のセル、特に数十μ程度の径
の微小網点のセルへ印刷機のインキ付けローラー
からインキが十分に転移されずその結果、印刷物
の網点形状が乱れたり(これをハイライト部分の
「素抜け」という、時にはインキがセル内へ全く
転移されないことによる印刷物の網点飛びが生じ
る。他方このような素抜けなどを解消するために
インキの盛りを多くして版面に供給するとベタ部
の光学濃度が高くなりすぎ印刷効果上バランスを
失つたり、また時にはシヤドウ部分の網点が再現
しなくなるなどの印刷品質上致命的な問題があつ
た。
この様な問題を解決するために溶解除去される
感光層の膜厚をうすくして、セルの深さを小さく
することが考えられるが、上記印刷上の問題点を
解消するのに必要な薄さ、例えば1/10〜1/100ミ
クロン程度の膜厚の感光層を形成することは塗工
上極めて困難であり実用的でないとともに感光層
を薄くすることにより基板面の物理的,化学的影
響をより強く受け、感光層としての性質例えば、
画像再現性や保存安定性等に悪影響を及ぼす。
以上述べたように従来技術による湿し水不要平
版印刷版ではインキ受容性に難点があり実用性に
乏しい。
本発明者らは、感光層とシリコーンゴム層を除
去して支持体を露出せしめることにより形成した
インキ受容部(セル)の深さを減じ、且つインキ
受容性の良好な物質でセルの底を構成することに
つき鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち本発明は、支持体,該支持体上に設け
られた感光層ならびに該感光層上に設けられたシ
リコーンゴム層からなるネガ型湿し水不要の平版
印刷版において、該感光層が現像液に不溶もしく
は難溶のマトリクスと該マトリクス中に分散され
た光可溶化型感光性物質とからなることを特徴と
する湿し水不要の平版印刷版である。
かかる構成の湿し水不要の平版印刷版は画像再
現性,耐刷性など十分な性能を有し、且つ感光層
が現像液に不溶もしくは難溶のマトリクスから形
成されているため、現像時露光部感光層は実質的
に厚みを減ずることなく支持体上に残存するため
印刷にあたつて画線部セル内へインキ付けローラ
ーからインキの転移が良好で階調性の良好な印刷
効果を発揮するものであり、さらには現像後の染
色、検版を容易に行なえるものである。
以下に本発明の内容を詳細に説明する。
本発明における現像液に不溶もしくは難溶のマ
トリクスと該マトリクス中に分散された光可溶化
型感光性物質からなる感光層を形成するには、光
可溶化型感光性物質に熱硬化性樹脂を混合し熱処
理をする方法があげられる。熱硬化性樹脂として
はフエノール樹脂,尿素樹脂,メラミン樹脂,不
飽和ポリエスデル樹脂,エポキシ樹脂,フラン樹
脂,ブトン樹脂,ポリウレタン樹脂などがあげら
れるが、なかでもエポキシ樹脂あるいはポリウレ
タン樹脂が好ましい。
これら熱硬化性樹脂の感光性物質に対する混合
比率は感光性物質100重量部に対し5〜1000重量
部,より好ましくは10〜500重量部である。比率
が小さすぎる場合はマトリクスとして感光層を支
えるだけの強度を持たなくなり、逆に大きすぎる
と感光層としての機能が損われる。熱硬化条件は
触媒等の選択により感光性物質の感光性を失わせ
ない範囲で行なう必要があり、通常120℃以下の
温度が選ばれる。
本発明の感光層の今一つの形成方法として現像
溶媒に難溶あるいは不溶の高分子化合物を光可溶
化型感光性物質と混合することがあげられる。こ
の場合前者の後者に対する比率は、光可溶化型感
光性物質100重量部に対し70〜1000重量部、より
好ましくは100〜500重量部が選ばれる。ここで用
いられる高分子化合物の例としては、塩素化ポリ
プロピレン,塩素化ポリエチレン,ポリ塩化ビニ
ル,ポリスチレン,スチレンアクリロニトリル共
重合体等であり、極性溶媒に難溶のものが好適で
ある。
本発明で用いられる光可溶化型感光性物質とし
ては通常ポジテイブワーキングのPS版あるいは
ホトレジストとして用いられているキノンジアジ
ド類例えば、ベンゾキノン−1,2−ジアジドス
ルホン酸クロリドとポリヒドロキシフエニルとの
エステル,ナフトキノン−1,2−ジアジドスル
ホン酸クロリドとピロガロール・アセトン樹脂と
のエステル,ナフトキノン−1,2−ジアジドス
ルホン酸クロリドのフエノールノボラツク樹脂と
のエステル等、あるいはジアゾ化合物の無機酸や
有機酸とのコンプレツクス、例えばジアゾジフエ
ニルアミンとリンタングステン酸との感光性コン
プレツクス等があげられる。感光層の厚さは0.1
〜100μ,より好ましくは0.5〜10μが選ばれる。
薄すぎると塗工時感光層にピンホールを生じ易く
なり、また一方厚すぎるのは経済的見地から好ま
しくない。
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、通常
次のようなくり返し単位を有する分子量数千〜数
十万の線状有機ポリシロキサンを主成分とする。
ここでnは1以上の整数、Rは炭素数1〜10の
アルキル基,アルケニル基あるいはフエニル基で
あり、Rの60%以上がメチル基であるものが好ま
しい。このような線状有機ポリシロキサンは有機
過酸化物を添加して熱処理等を施すことにより、
まばらに架橋しシリコーンゴムとすることも可能
である。
この線状有機ポリシロキサンにはまた架橋剤が
添加される。架橋剤としては、いわゆる室温(低
温)硬化型のシリコーンゴムに使われるものとし
て、アセトキシシラン,ケトオキシムシラン,ア
ルコキシシラン,アミノシラン,アミドシランな
どがあり、通常線状有機ポリシロキサンとして末
端が水酸基であるものとくみ合わせて、各々脱酢
酸型,脱オキシム型,脱アルコール型,脱アミン
型,脱アミド型のシリコーンゴムとなる。これら
のシリコーンゴムには、更に触媒として少量の有
機スズ化合物等が添加されるのが一般的である。
シリコーンゴム層の厚さは0.5〜100μの範囲よ
り好ましくは0.5〜10μの範囲が選ばれる。薄す
ぎる場合は耐刷性の点で問題を生じることがあ
り、一方厚すぎる場合は経済的に不利であるばか
りでなく、セルを浅くするという本特許の一つの
目的にも反し、且つ現像時シリコーンゴム層を除
去するのが困難となり画像再現性の低下をもたら
す。
本発明の平版印刷版において、感光層とシリコ
ーンゴム層との間の接着は画像再現性,耐刷力な
ど基本的版性能に関係し非常に重要である。した
がつて両層間に接着性成分層を設けたり、或いは
接着性成分をシリコーンゴム層或いは感光層に添
加することが行なわれる。この際,該接着性成分
は感光層中のマトリクス成分に対しては比較的接
着する能力がなく、一方感光性物質により接着す
る能力を有することが必要である。したがつて通
常公知のシラン系或いはチタネート系のカツプリ
ング剤,例えばγ−アミノプロピルトリエトキシ
シランやテトラキスー(2−エチルヘキシル)チ
タネート等が用いられる。
支持体としては、通常の平版印刷機にセツトで
きるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えうるも
のでなければならない。代表的なものとしてはア
ルミ鋼,銅等の金属板,ポリエチレンテレフタレ
ートのようなプラスチツクフイルムあるいはコー
ト紙等があげられる。これらのシート上にハレー
シヨン防止その他の目的でさらにコーテイングを
施して支持体とすることも可能である。
以上説明したようにして構成された湿し水不要
の平版印刷版の表面を形成するシリコーンゴム層
を保護する目的でシリコーンゴム層の表面に保護
フイルムを設けても良い。
以上説明したような本発明にもとづく湿し水不
要の平版印刷版は、例えば次のようにして製造さ
れる。まず支持体のうえに、リバースロールコー
タ,エアーナイフコータ,メーヤバーコータなど
の通常のコータあるいはホエラーのような回転塗
布装置を用い感光層を構成すべき組成物溶液を塗
布,乾燥及び必要に応じて熱キユアー後必要なら
ば該感光層のうえに同様な方法で接着層を塗布,
乾燥後、シリコーンガム溶液を接着層上に同様の
方法で塗布し、通常100〜120℃の温度で数分間熱
処理して、十分に硬化せしめてシリコーンゴム層
を形成する。必要ならば、保護フイルムを該シリ
コーンゴム層上にラミネーター等を用いカバーす
る。
このようにして製造された本発明の湿し水不要
の平版印刷版は、例えば真空密着されたネガフイ
ルムを通して活性光線に露光される。この露光工
程で用いられる光源は、紫外線を豊富に発生する
ものであり、水銀灯,カーボンアーク灯,キセノ
ンランプ,メタルハライドランプ,螢光灯などを
使うことができる。
露光の結果、感光層中の光可溶化型感光性物質
は現像液に可溶となり、現像液を含んだ現像用パ
ツドで版面をこすると、接着に寄与していた感光
性物質が抽出されることにより接着性の低下した
露光部のシリコーンゴム層は容易に除去され、一
方感光層は現像液に不溶もしくは難溶のマトリク
スに支えられているため、実質的にその厚みを減
ずることなく残存し、その露出した感光層表面が
インキ受容部となる。従つて従来例に見られる露
光部感光層を溶解除去すると同時にその上部のシ
リコーンゴム層を除去するというネガ型湿し水不
要の平版印刷版に比べ感光層の厚みの分だけ浅く
なつている。また露出せしめるインキ受容部の材
質も、インキとの親和性が良好な樹脂とすること
が出来る。このため本発明による平版印刷版を用
いると、いわゆる「素抜け」を生ずることなく極
めて良好な印刷物を得ることが出来る。
本発明において用いられる現像液としては、シ
リコーンゴム層を浸透し、露光した感光性物質の
みを溶解するものでなければならない。このよう
なものとしては下記のような極性有機溶媒があ
る。
アルコール類(メタノール,エタノールなど) エーテル類(エチルセロソルブ,ジオキサンな
ど) ケトン類(アセトン,メチルエチルケトンな
ど) エステル類(酢酸エチル,セロソルブアセテー
トなど) これらのものに溶解度を調整したり、あるいは
シリコーンを膨潤させ現像液の浸透を良くする目
的で 脂肪族炭化水素類(ヘキサン,ヘブタン,ある
いはガソリン,灯油など) 芳香族炭化水素類(トルエン,キシレンなど) ハロゲン化炭化水素類(トリクレンなど) などの有機溶媒を混合して用いても良い。さら
に火気に対する安全性を高めるなどの目的で現像
剤に水を加えても良いが、この場合現像液の50重
量%が限度で、現像液は有機溶媒を主体とする必
要がある。
本発明の露光部の感光層を残存させて、シリコ
ーンゴム層のみを除去して得られる平版印刷版の
別の特徴は次のとおりである。
(1) 画線部に残存している感光層は一般に種々の
染料に可染性であり、現像後の刷版の検版性が
極めて良好となる。一方従来例に見られる感光
層を除去して得られる刷版は、画像部が支持体
通常はアルミ板であり染色が困難で、検版性が
不良である。
(2) 感光層の除去と同時にシリコーンゴム層が除
去される従来版の現像法では、現像時に感光層
のみがシリコーンゴム層がこすりとられる前に
抽出されてしまい、シリコーンゴム層がセル上
部にテントをはつたような状態で残ることが
多々あり、この場合はシリコーンゴム層にかか
る力が減じられ、こすりとることが困難な場合
があり、網点再現性の点で問題となることもあ
つた。ところが本発明の平版印刷版の現像では
そのようなことがなく現像性が極めて良好であ
る。
以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。なお実施例中に用いられる部は全て重量部で
ある。
実施例 1 (A) 化成処理アルミ板(住友軽金属製)にエステ
ル化度44%のフエノールノボラツク樹脂(スミ
ライトレジンPR50235,住友デユレズ製)のナ
フトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステル2.5部,塩素化ポリプロピレン(“ス
ーパークロン306”,山陽国策パルプ製)7.5
部,ジオキサン133部からなる組成物をバーコ
ーター(#24)を用いて塗布60℃で乾燥し、厚
み2.8μの感光層を形成した。この上にγ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン(A1100,
UCC製)の0.2重量%アイソパーE(エツソ
製)溶液をホエラーを用い回転塗布後、110℃
で1分間乾燥した。この上に次の組成を持つシ
リコーン組成物の7重量%アイソパーE溶液を
ホエラーで回転塗布し、100℃、2分間加熱硬
化した。この場合得られたシリコーンゴム層の
厚みは2.2μであつた。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部 (分子量約80000,末端CH基) (b) エチルトリアセトキシシラン 5部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密
着した175線の網点画像を持つネガフイルムを
通してメタルハライドランプを用い1mの距離
から60秒照射した。版面をエタノール/アイソ
バーE(5/5)混合液に浸漬し現像パツドで
軽くこすると、露光部シリコーンゴム層が除去
されて感光層表面が露出した。触針型表面粗さ
計(TALYSURF,帝人商事製)で測定したと
ころ現像により露出した感光層の表面は平滑
で、厚みは2.8μで減じていなかつた。
(B) 一方、塩素化ポリプロピレンを加えずにフエ
ノールノボラツク樹脂のナフトキノン−1,2
−ジアジド−5−スルホン酸エステルのみで構
成した感光層(厚み2.7μ)から(A)と同様にし
て作成した印刷原版を(A)と同様に製版,現像し
たところ露光部感光層及びその上部のシリコー
ンゴム層が除去されアルミ板表面が露出した。
(A),(B)で製版した印刷版を各々オフセツト印刷
機(小森スプリント,2カラー)で湿し水を用い
ず、アクワレス藍ST(東洋インキ製)を用い印
刷した。印刷物上のベタ部光学濃度が2.0〜0.7程
度まで各水準で印刷を行ない、その時のハイライ
ト部(網点径50μ〜70μ)のインキ着肉性を50倍
ルーペで目視し、インキ着肉が不良となる(網点
が“素抜け”気味となる)ベタ部光学濃度を測定
したところ、(A)の版で0.8〜0.9,(B)の版で1.3〜
1.4で、(A)の版が同一インキ盛り量での網点部へ
のインキ着肉性の点で著しく改良されていた。
実施例 2 エポキシコートアルミ板(スカイアルミ製)に
エステル化度40%のフエノールノボラツク樹脂の
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン
酸エステル5部,塩素化ポリプロピレン(“スー
パークロン”106H)5部,テトラキス(2−エ
チルヘキシル)チタネート0.3部,ジオキサン275
部からなる組成物をホエラーで回転塗布後90℃,
3分間乾燥した。この上に次の組成を持つシリコ
ーン組成液をホエラーで回転塗布後20℃,3分間
加熱硬化させた。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部 (分子量約80000,末端OH基) (b) ビニルトリ(メチルエチルケトキシム)シラ
ン 7部 (c) ジブチル錫ジアセテート 0.2部 (d) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
2.4部 (e) アイソパーE 1550部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線の網点画像を持つネガフイルムを通し
てメタルハライドランプを用い1mの距離から60
秒照射した。版面を赤色染料Basic Violet27を含
むエタノールに浸漬し現像パツドで軽くこすると
露光部シリコーンゴム層のみが除去され、ネガフ
イルムの画像を忠実に再現した染色された感光層
が露出した。
この印刷版をオフセツト印刷機(ダヴイツドソ
ン デユアリス 700)により湿し水を用いず、
アクワレスST紅(東洋インキ製)を用い印刷し
たところ美麗な印刷物が得られ、20000部刷了後
も地汚れおよび版面の損傷は全く見られず、さら
に印刷を継続できる状態であつた。
実施例 3 化成処理アルミ板にエステル化度44%のフエノ
ールノボラツク樹脂のナフトキノン−1,2−ジ
アジド−5−スルホン酸エステル5部,不飽和ポ
リエステル樹脂(FG208,大日本インク製)5
部,ベンゾイルパーオキシド0.25部,エチルセロ
ソルブ200部からなる組成物をホエラーを用いて
塗布,60℃で乾燥後、さらにN2気流下で110℃,
10分間加熱硬化した。この上に次の組成を持つシ
リコーン組成物溶液をホエラーで回転塗布後、
120℃,4分間加熱硬化した。
(a) ジメチルポリシロキサン 100部 (b) エチルトリアゼトキシシラン 5部 (c) ジプチル錫ジアセテート 0.2部 (d) γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
3.5部 (e) アイソパーE 1550部 上記のようにして得られた印刷原版に真空密着
した150線の網点画像を持つネガフイルムを通し
てメタルハライドランプを用い1mの距離から60
秒露光した。版面をエタノール/アイソバーE
(8/2)の混合液に浸漬し現像パツドで軽くこする
と露光部のシリコーンゴム層のみが除去され感光
層表面が露出しネガフイルムに対応する画像が得
られた。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 支持体,該支持体上に設けられた感光層なら
    びに該感光層上に設けられたシリコーンゴム層か
    らなるネガ型湿し水不要の平版印刷版において、
    該感光層が現像液に不溶もしくは難溶のマトリク
    スと該マトリクス中に分散された光可溶化型感光
    性物質とからなることを特徴とする湿し水不要平
    版印刷版。
JP15836179A 1979-12-06 1979-12-06 Lithographic plate requiring no dampening water Granted JPS5680047A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15836179A JPS5680047A (en) 1979-12-06 1979-12-06 Lithographic plate requiring no dampening water

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JP15836179A JPS5680047A (en) 1979-12-06 1979-12-06 Lithographic plate requiring no dampening water

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5680047A JPS5680047A (en) 1981-07-01
JPS6154223B2 true JPS6154223B2 (ja) 1986-11-21

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ID=15669989

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15836179A Granted JPS5680047A (en) 1979-12-06 1979-12-06 Lithographic plate requiring no dampening water

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5860744A (ja) * 1981-10-08 1983-04-11 Toray Ind Inc 湿し水不要ネガ型平版印刷版
JP3290313B2 (ja) * 1994-09-07 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版及びその製版方法
EP1249341A1 (en) * 2001-04-09 2002-10-16 Agfa-Gevaert Lithographic printing plate precursor
EP1256444B1 (en) * 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US6846613B2 (en) 2001-04-09 2005-01-25 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursors

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