JPH01158451A - 水なし平版印刷板の製版方法 - Google Patents
水なし平版印刷板の製版方法Info
- Publication number
- JPH01158451A JPH01158451A JP63212811A JP21281188A JPH01158451A JP H01158451 A JPH01158451 A JP H01158451A JP 63212811 A JP63212811 A JP 63212811A JP 21281188 A JP21281188 A JP 21281188A JP H01158451 A JPH01158451 A JP H01158451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- printing plate
- silicone rubber
- rays
- printing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- -1 quinonediazide compound Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 4
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 abstract description 39
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 abstract description 38
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 71
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003739 xylenols Chemical class 0.000 description 2
- WXWYJCSIHQKADM-ZNAKCYKMSA-N (e)-n-[bis[[(e)-butan-2-ylideneamino]oxy]-ethenylsilyl]oxybutan-2-imine Chemical compound CC\C(C)=N\O[Si](O\N=C(/C)CC)(O\N=C(/C)CC)C=C WXWYJCSIHQKADM-ZNAKCYKMSA-N 0.000 description 1
- RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical compound O=C=NCC1=CC=CC(CN=C=O)=C1 RTTZISZSHSCFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 1,4-diisocyanatobenzene Chemical compound O=C=NC1=CC=C(N=C=O)C=C1 ALQLPWJFHRMHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGWYICAEPBCRBL-UHFFFAOYSA-N 1h-indene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)C=CC2=C1 KGWYICAEPBCRBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003261 Durez Polymers 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002862 amidating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N toluene 2,6-diisocyanate Chemical compound CC1=C(N=C=O)C=CC=C1N=C=O RUELTTOHQODFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000341 volatile oil Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、湿し水なしに印刷が可能な水なし平版印刷版
の製版方法に関するものである。
の製版方法に関するものである。
[従来の技術]
水なし平版印刷とは、画線部と非画線部とを基本的にほ
ぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線
部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用し
て、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの被
印刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法にお
いて、非画線部がシリコーンゴム、含フツ素化合物など
のインキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用い
ずに印刷することのできる印刷方法を意味する。
ぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線
部をインキ反撥性とし、インキの付着性の差異を利用し
て、画線部のみにインキを着肉させたのち、紙などの被
印刷体にインキを転写して印刷をする平版印刷方法にお
いて、非画線部がシリコーンゴム、含フツ素化合物など
のインキ反撥性を有する物質層からなり、湿し水を用い
ずに印刷することのできる印刷方法を意味する。
ところで、この水なし平版印刷版として実用上すぐれた
性能を有しているものとしては、インキ反撥性を有して
いる物質層としてシリコーンゴム層を利用したもの、例
えば、ポジティブワーキング用としては、特公昭54−
26923などが、またネガティブワーキング用として
は、特開昭55−59466や特開昭56−80046
などがある。特に、特開昭56−80046はネガティ
ブワーキング用として実用性の高い性能を有した版材構
成について述べたものと言える。
性能を有しているものとしては、インキ反撥性を有して
いる物質層としてシリコーンゴム層を利用したもの、例
えば、ポジティブワーキング用としては、特公昭54−
26923などが、またネガティブワーキング用として
は、特開昭55−59466や特開昭56−80046
などがある。特に、特開昭56−80046はネガティ
ブワーキング用として実用性の高い性能を有した版材構
成について述べたものと言える。
ここに提案された印刷版は、支持体に裏打ちされた光は
くり性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた予備増感
された平版印刷版である。 特開昭55−59466や
特開昭56−80046に提案された水なし平版印刷版
のなかで特に好ましく用いられているキノンジアジド化
合物を含有する感光層は、通常の露光においては、露光
部の感光層中のキノンジアジドがインデンカルボン酸に
変化するため、現像液で現像することにより、露光部の
シリコーンボーム層が剥離されるかもしくは感光層ごと
除去される。そしてその結果、露光部の感光層もしくは
基板が露出し、未露光部はシリコーンゴム層で被覆され
たネガティブパターンの印刷版が形成される。
くり性感光層の上にシリコーンゴム層を設けた予備増感
された平版印刷版である。 特開昭55−59466や
特開昭56−80046に提案された水なし平版印刷版
のなかで特に好ましく用いられているキノンジアジド化
合物を含有する感光層は、通常の露光においては、露光
部の感光層中のキノンジアジドがインデンカルボン酸に
変化するため、現像液で現像することにより、露光部の
シリコーンボーム層が剥離されるかもしくは感光層ごと
除去される。そしてその結果、露光部の感光層もしくは
基板が露出し、未露光部はシリコーンゴム層で被覆され
たネガティブパターンの印刷版が形成される。
ところで、このネガティブワーキング用の印刷版は通常
の露光処理においては全く問題なく、実用に供すること
ができるが、露光機に通常取り付けられている紫外線遮
光用透明板(光源ランプ保護のためのガラス板など)を
外した状態で露光処理すると、現像不能(露光部のシリ
コーンゴム層が剥離しないもしくは露光部の感光層が溶
解しない)となることが判明した。
の露光処理においては全く問題なく、実用に供すること
ができるが、露光機に通常取り付けられている紫外線遮
光用透明板(光源ランプ保護のためのガラス板など)を
外した状態で露光処理すると、現像不能(露光部のシリ
コーンゴム層が剥離しないもしくは露光部の感光層が溶
解しない)となることが判明した。
この特異な現象の解析を鋭意検討した結果、この現象が
水なし平版印刷板の製版方法に適用できることを見出し
、本発明に到達したものである。
水なし平版印刷板の製版方法に適用できることを見出し
、本発明に到達したものである。
[発明が解決しようとする課題]
従って、本発明の目的はネガティブワーキング用の水な
し平版印刷版をポジティブワーキング用としても利用で
きる有効かつ簡便な製版方法を提供しようとするもので
ある。
し平版印刷版をポジティブワーキング用としても利用で
きる有効かつ簡便な製版方法を提供しようとするもので
ある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、基板上に、キノンジアジド化合物を含有する
感光層、インキ反撥性層を順次積層した水なし平版印刷
版を画像露光する際、該版面に、紫外線遮光用透明板を
有しない光源を用い、350nm以下の波長の紫外線を
含む活性光線を照射することにより画像を形成すること
を特徴とするポジティブワーキング用水なし平版印刷版
の製版方法である。
感光層、インキ反撥性層を順次積層した水なし平版印刷
版を画像露光する際、該版面に、紫外線遮光用透明板を
有しない光源を用い、350nm以下の波長の紫外線を
含む活性光線を照射することにより画像を形成すること
を特徴とするポジティブワーキング用水なし平版印刷版
の製版方法である。
本発明にいう感光層とは、公知のキノンジアジド構造を
含む物質から構成されているものであり、キノンジアジ
ド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン版
、フォトレジストなどに用いられているキノンジアジド
類である。
含む物質から構成されているものであり、キノンジアジ
ド構造を含む物質とは、通常ポジ型PS版、ワイポン版
、フォトレジストなどに用いられているキノンジアジド
類である。
かかるキノンジアジド類としては、例えばベンゾキノン
−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とポ
リヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガ
ロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシュ変性ノ
ボラック樹脂とのエステルが挙げられる。また低分子量
のキノンジアジド化合物(例えば、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸と、フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、カテコール、ピロガロールおよび
ビスフェノールAなどとのエステル化物など)または上
記のキノンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まない
ノボラック樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコールおよびピロガロールなどのフェ
ノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮
合させて得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合して
もよい。ざらに特開昭56−80046で提案されてい
るようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめ
た光剥離性感光層が挙げられる。
−1,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とポ
リヒドロキシフェニルとのエステル、ナフトキノン−1
,2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とピロガ
ロールアセトン樹脂とのエステル、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸とフェノー
ルホルムアルデヒドノボラック樹脂またはカシュ変性ノ
ボラック樹脂とのエステルが挙げられる。また低分子量
のキノンジアジド化合物(例えば、ナフトキノン−1,
2−ジアジド−5−スルホン酸と、フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、カテコール、ピロガロールおよび
ビスフェノールAなどとのエステル化物など)または上
記のキノンジアジド基を含む樹脂に感光性基を含まない
ノボラック樹脂(例えば、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、カテコールおよびピロガロールなどのフェ
ノール類とホルムアルデヒド類とを酸性触媒存在下に縮
合させて得られる可溶可融性樹脂など)を単に混合して
もよい。ざらに特開昭56−80046で提案されてい
るようなキノンジアジド類を多官能化合物で架橋せしめ
た光剥離性感光層が挙げられる。
架橋剤としては、多官能イソシアナート類、例えば、パ
ラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2.6
−トリレンジイソシアナート、4,4°−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナートもしくはこれらのアダ
クト体など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化は感光性物質の゛感光性を失わせない範囲、通常13
0℃以下で行なうことが好ましく、このため通常触媒等
が併用される。
ラフェニレンジイソシアナート、2,4−または2.6
−トリレンジイソシアナート、4,4°−ジフェニルメ
タンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナー
ト、イソホロンジイソシアナートもしくはこれらのアダ
クト体など、あるいは多官能エポキシ化合物、例えば、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル類、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル類、ビスフ
ェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールプロ
パントリグリシジルエーテルなどがある。これらの熱硬
化は感光性物質の゛感光性を失わせない範囲、通常13
0℃以下で行なうことが好ましく、このため通常触媒等
が併用される。
またキノンジアジド類に単官能化合物を反応させて変性
し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法としては、同
様に該キノンジアジド類の活性な基を例えばエステル化
、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。キ
ノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物としては
、低分子でおっても比較的高分子であってもよいし、キ
ノンジアジド類に七ツマをクラフト重合させてもよい。
し、現像液に難溶もしくは不溶にする方法としては、同
様に該キノンジアジド類の活性な基を例えばエステル化
、アミド化、ウレタン化することなどが挙げられる。キ
ノンジアジド類の活性な基と反応させる化合物としては
、低分子でおっても比較的高分子であってもよいし、キ
ノンジアジド類に七ツマをクラフト重合させてもよい。
本発明で用いられる感光層として特に好ましいものは、
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステ
ル化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架橋も
しくは変性して得られたものである。
ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸とフ
ェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステ
ル化物を多官能もしくは単官能イソシアネートで架橋も
しくは変性して得られたものである。
感光層の厚さは約0.1〜100μ、好ましくは約0.
5〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホー
ル等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地
から不利である。
5〜10μが適当である。薄すぎると塗工時にピンホー
ル等の欠陥が生じ易くなり、一方厚すぎると経済的見地
から不利である。
また感光層中には本発明の効果を損わない範囲で塗膜形
成性の向上や支持体との接着性向上などの目的で他の成
分を加えたりすることは可能である。
成性の向上や支持体との接着性向上などの目的で他の成
分を加えたりすることは可能である。
本発明に用いられるインキ反撥性層としては、シリコー
ンゴム、含フツ素化合物(例えば分子中にフッ素を有す
るゴムなど)があげられるが、特にシリコーンゴムが好
ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、次
のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線
状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好ましく使
用される。
ンゴム、含フツ素化合物(例えば分子中にフッ素を有す
るゴムなど)があげられるが、特にシリコーンゴムが好
ましく用いられる。このようなシリコーンゴム層は、次
のような繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線
状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好ましく使
用される。
ここでnは2以上の整数、R,R’は炭素数1〜10の
アルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、
R,R’の60%以上がメチル基であるものが好ましい
。
アルキル基、アルケニル基あるいはフェニル基であり、
R,R’の60%以上がメチル基であるものが好ましい
。
この線状有機ポリシロキサンは通常架橋剤が添加される
。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシリ
コーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン
、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロキサ
ンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱
アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリコーン
ゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物等を添
加してもよい。
。架橋剤としては、いわゆる室温(低温)硬化型のシリ
コーンゴムに使われるものとして、アセトキシシラン、
ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン
、アミドシランなどがあり、通常線状有機ポリシロキサ
ンとして末端が水酸基であるものと組合せて、各々脱酢
酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱
アミド型のシリコーンゴムとなる。これらのシリコーン
ゴムには、更に触媒として少量の有機スズ化合物等を添
加してもよい。
シリコーンゴム層の厚さは、約0.5〜100μ、好ま
しくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場
合は経済的に不利であるばかりでなく現像時シリコーン
ゴム層を除去するのが困難となり、画像再現性の低下を
もたらす。
しくは約0.5〜10μが適当であり、薄すぎる場合は
耐刷力の点で問題を生じることがあり、一方厚すぎる場
合は経済的に不利であるばかりでなく現像時シリコーン
ゴム層を除去するのが困難となり、画像再現性の低下を
もたらす。
本発明に用いられる印刷版において、支持体と感光層、
感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であるので
、必要に応じて各層間に接着剤層を設け″たり、各層に
接着改良性成分を添加したりすることが可能である。特
に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のために、1間
に公知のシリコーンプライマやシランカップリング剤層
を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカップリング剤を添加すると効果
的である。
感光層とシリコーンゴム層との接着は、画像再現性、耐
刷力などの基本的な版性能にとり非常に重要であるので
、必要に応じて各層間に接着剤層を設け″たり、各層に
接着改良性成分を添加したりすることが可能である。特
に感光層とシリコーンゴム層間の接着力のために、1間
に公知のシリコーンプライマやシランカップリング剤層
を設けたり、シリコーンゴム層あるいは感光層にシリコ
ーンプライマやシランカップリング剤を添加すると効果
的である。
本発明に用いられる平版印刷原版の基板としては、通常
の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わ
る荷重に耐えるものでなければならない。代表的なもの
としては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステル
フィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチック
フィルムあるいはコート紙、ゴムなどがあげられる。
の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印刷時に加わ
る荷重に耐えるものでなければならない。代表的なもの
としては、アルミ、銅、鉄などの金属板、ポリエステル
フィルムやポリプロピレンフィルムなどのプラスチック
フィルムあるいはコート紙、ゴムなどがあげられる。
該基板は、これらが複合されたものであってもよい。ま
た、これらの基板上にハレーションなどを防止する目的
で、さらにコーティングなどを施して基板とすることも
可能である。
た、これらの基板上にハレーションなどを防止する目的
で、さらにコーティングなどを施して基板とすることも
可能である。
以上説明したようにして構成された水なし平版印刷原版
のシリコーンゴム層側の表面には、本発明の効果を損な
わない範囲で、シリコーンゴム層を保護するなどの目的
で保護フィルムをラミネートすることも可能である。
のシリコーンゴム層側の表面には、本発明の効果を損な
わない範囲で、シリコーンゴム層を保護するなどの目的
で保護フィルムをラミネートすることも可能である。
本発明で用いられる水なし平版印刷原版は、例えば次の
ようにして製造される。まず支持体上に、リバースロー
ルコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの
通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を
用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥およ
び必要に応じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に
同様な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーンゴ
ム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で塗布し、
通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要ならば
、保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター
等を用いカバーする。
ようにして製造される。まず支持体上に、リバースロー
ルコータ、エアナイフコータ、メーヤバーコータなどの
通常のコータ、あるいはホエラのような回転塗布装置を
用い、感光層を構成すべき組成物溶液を塗布、乾燥およ
び必要に応じて熱キユア後、必要ならば該感光層の上に
同様な方法で接着層を塗布、乾燥してからシリコーンゴ
ム溶液を感光層または接着層上に同様の方法で塗布し、
通常50〜130℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてシリコーンゴム層を形成する。必要ならば
、保護フィルムを該シリコーンゴム層上にラミネーター
等を用いカバーする。
次に、本発明において提案されている露光処理による製
版方法について説明する。すなわち、上記の水なし平版
印刷原版をポジティブワーキング用として用いる場合に
は、該平版印刷原版を、例えば真空密着されたポジフィ
ルムを通し、紫外線遮光用透明板を有しない光源を用い
、3500m以下の波長の紫外線を含む活性光線で照射
することにより画像露光する。この画像露光処理により
、光照射部分のシリコーンゴム層は現像時に残存し、非
光照射部分のシリコーンゴム層は剥離脱落する。
版方法について説明する。すなわち、上記の水なし平版
印刷原版をポジティブワーキング用として用いる場合に
は、該平版印刷原版を、例えば真空密着されたポジフィ
ルムを通し、紫外線遮光用透明板を有しない光源を用い
、3500m以下の波長の紫外線を含む活性光線で照射
することにより画像露光する。この画像露光処理により
、光照射部分のシリコーンゴム層は現像時に残存し、非
光照射部分のシリコーンゴム層は剥離脱落する。
この露光処理に用いられる光源は、350nm以下の波
長の紫外線を含むものであれば基本的には制限を受けず
、一般に用いられている高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯
や、350nllI以下の単波長を発振するレーザーな
どが使用され得る。ただし、通常の露光光源の場合、紫
外線遮光用透明板が光源と印刷原版との間に設けられて
いるので、印刷原版表面に到達しうる350nm以下の
波長の紫外線は、非常に少なく、本発明の効果を発現さ
せることができない。例えば、高圧水銀灯は、314、
335.365.436.546.578nmなとの輝
線スペクトルを主な発光ピークとして有するが、314
.335nmの発光ピークは、上記した短波長側の紫外
線をカットするガラス、即ち紫外線遮光用透明板が光源
と印刷原版との間に存在するため、はぼ完全に遮断され
、印刷原版表面には到達し得ない。
長の紫外線を含むものであれば基本的には制限を受けず
、一般に用いられている高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタ
ルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯
や、350nllI以下の単波長を発振するレーザーな
どが使用され得る。ただし、通常の露光光源の場合、紫
外線遮光用透明板が光源と印刷原版との間に設けられて
いるので、印刷原版表面に到達しうる350nm以下の
波長の紫外線は、非常に少なく、本発明の効果を発現さ
せることができない。例えば、高圧水銀灯は、314、
335.365.436.546.578nmなとの輝
線スペクトルを主な発光ピークとして有するが、314
.335nmの発光ピークは、上記した短波長側の紫外
線をカットするガラス、即ち紫外線遮光用透明板が光源
と印刷原版との間に存在するため、はぼ完全に遮断され
、印刷原版表面には到達し得ない。
このため、本発明の効果を効果的に発現させるためには
、350nm以下の波長の紫外線が印刷原版表面に豊富
に照射されるように工夫する必要がある。すなわち、本
発明においては該紫外線遮光用透明板を光源と印刷原版
との間から取り除き、314、335nmの波長の光を
刷版表面に有効に到達させる必要がある。光源自身に、
いかに多くの350nm以下の波長の紫外線が含まれて
いても、光源と印刷原版表面との間に該短波長側の紫外
線を遮るガラス板などが存在すると、その効果は発現し
にくく、露光部のシリコーンゴム層が除去され、通常の
ネガティブワーキングのパターンとなるが、これらのガ
ラス板などは取り除くことにより、印刷原版表面に到達
する該波長範囲の紫外線の光量を多くすることができる
。
、350nm以下の波長の紫外線が印刷原版表面に豊富
に照射されるように工夫する必要がある。すなわち、本
発明においては該紫外線遮光用透明板を光源と印刷原版
との間から取り除き、314、335nmの波長の光を
刷版表面に有効に到達させる必要がある。光源自身に、
いかに多くの350nm以下の波長の紫外線が含まれて
いても、光源と印刷原版表面との間に該短波長側の紫外
線を遮るガラス板などが存在すると、その効果は発現し
にくく、露光部のシリコーンゴム層が除去され、通常の
ネガティブワーキングのパターンとなるが、これらのガ
ラス板などは取り除くことにより、印刷原版表面に到達
する該波長範囲の紫外線の光量を多くすることができる
。
また、350nm以下の単波長を発振するレーザー(例
えばエキシマ−レーザーなど)により露光する場合、特
定波長の単色光が規定できるため、上記した長短波長の
波長分布を持つ露光光源に比べて本発明の効果を発現し
やすい。すなわち、不要な長波長(350nmを越える
波長)の光線が印刷原版表面に到達する量が少ない方が
本発明の効果を発現するうえで有利である。本発明の効
果を発現するために必要な照射光量は、光源の種類、照
射光強度によってさまざまであるが、通常、35Qnm
以下の波長の紫外線が豊富に照射される光源であるほど
短時間の照射時間でその効果を発現する。たとえば露光
用光源として一般的な高圧水銀灯(3KW、オーク製作
新製、[ジェットライト3300J )を用いた場合、
光源と印刷原版との間の紫外線遮光用透明板(ガラス板
)を取り除き、Uvメーター(オーク製作新製、UV−
302A>で3.5mW/riの照度で10秒間以上好
ましくは20秒間以上の画像露光を行なうと、本発明の
効果を充分に発現しうる吊の350nlll以下の波長
の活性光線が得られる。該活性光線の量がこれ以下にな
ると本発明の効果は急激に消失し、通常のネガティブワ
ーキング(露光部のシリコーンゴム層が現像時に剥離す
る)の挙動を示すようになる。
えばエキシマ−レーザーなど)により露光する場合、特
定波長の単色光が規定できるため、上記した長短波長の
波長分布を持つ露光光源に比べて本発明の効果を発現し
やすい。すなわち、不要な長波長(350nmを越える
波長)の光線が印刷原版表面に到達する量が少ない方が
本発明の効果を発現するうえで有利である。本発明の効
果を発現するために必要な照射光量は、光源の種類、照
射光強度によってさまざまであるが、通常、35Qnm
以下の波長の紫外線が豊富に照射される光源であるほど
短時間の照射時間でその効果を発現する。たとえば露光
用光源として一般的な高圧水銀灯(3KW、オーク製作
新製、[ジェットライト3300J )を用いた場合、
光源と印刷原版との間の紫外線遮光用透明板(ガラス板
)を取り除き、Uvメーター(オーク製作新製、UV−
302A>で3.5mW/riの照度で10秒間以上好
ましくは20秒間以上の画像露光を行なうと、本発明の
効果を充分に発現しうる吊の350nlll以下の波長
の活性光線が得られる。該活性光線の量がこれ以下にな
ると本発明の効果は急激に消失し、通常のネガティブワ
ーキング(露光部のシリコーンゴム層が現像時に剥離す
る)の挙動を示すようになる。
また、本発明の効果をざらに効果的に発現させるため、
画像露光終了後、現m処理を行なう前に以下のような版
面全面に通常の光源による露光を施すようにしてもよい
。ここで言う通常の光源による露光とは350nm以下
の波長の紫外線を実質的に含まない活性光線による露光
を意味し、例えば高圧水銀灯の場合、350nm以下の
波長の紫外線を紫外線遮光用透明板で遮断して使用した
場合に相当する。
画像露光終了後、現m処理を行なう前に以下のような版
面全面に通常の光源による露光を施すようにしてもよい
。ここで言う通常の光源による露光とは350nm以下
の波長の紫外線を実質的に含まない活性光線による露光
を意味し、例えば高圧水銀灯の場合、350nm以下の
波長の紫外線を紫外線遮光用透明板で遮断して使用した
場合に相当する。
画像露光とは別に行なうこのような版面仝面に対する露
光により、画像露光時の非光照射部分には350nmを
越える波長の紫外線が照射されることにこととなり、該
先非照射部分は全く光照射されずに現像処理された場合
にに比べて、よりシリコーンゴム層の剥離脱落が容易で
あり、かつ確実なものとなる。
光により、画像露光時の非光照射部分には350nmを
越える波長の紫外線が照射されることにこととなり、該
先非照射部分は全く光照射されずに現像処理された場合
にに比べて、よりシリコーンゴム層の剥離脱落が容易で
あり、かつ確実なものとなる。
上記の露光済版の版面を現像液を含んだ現像用パッドで
こすると、未露光部のシリコーンゴム層が除去され、イ
ンキ受容部が露出する。該感光層が架橋されたり、変性
されたりしていない場合、その膜厚の一部もしくは全部
が現像処理過程において脱落し、現像処理の後、露出し
た表面がインキ受容部となる。また、架橋されたり、変
性させられたりすることにより現像液に対して不溶化さ
せられた感光層の場合は、実質的にその厚みを減するこ
となく残存し、その露出した感光層表面がインキ受容部
となる。本発明で用いられる現像液としては、感光層を
溶解もしくは膨潤させるものが好ましい。
こすると、未露光部のシリコーンゴム層が除去され、イ
ンキ受容部が露出する。該感光層が架橋されたり、変性
されたりしていない場合、その膜厚の一部もしくは全部
が現像処理過程において脱落し、現像処理の後、露出し
た表面がインキ受容部となる。また、架橋されたり、変
性させられたりすることにより現像液に対して不溶化さ
せられた感光層の場合は、実質的にその厚みを減するこ
となく残存し、その露出した感光層表面がインキ受容部
となる。本発明で用いられる現像液としては、感光層を
溶解もしくは膨潤させるものが好ましい。
現像液の具体例として次のようなものを挙げることがで
きる。
きる。
アルコール類(メタノール、エタノールなど)エーテル
類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルカルピトールエチルカルピトール キサン、テトラヒドロフランなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルピト
ールアセテートなど)上記の極性溶剤に、シリコーンゴ
ム層を膨潤させるような炭化水素(ヘキサン、ヘプタン
、゛アイソパー”E,)−1,G(エッソ製品)あるい
はガソリン、揮発油、灯油など)あるいはハロゲン化炭
化水素(トリクレンなど)を添加することができる。必
要ならば水を添加してもよい。また、染料を加えて、シ
リコーンゴム層の除去された画像部を染色してもよい。
類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルカルピトールエチルカルピトール キサン、テトラヒドロフランなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類(酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセロソルブアセ
テート、エチルセロソルブアセテート、エチルカルピト
ールアセテートなど)上記の極性溶剤に、シリコーンゴ
ム層を膨潤させるような炭化水素(ヘキサン、ヘプタン
、゛アイソパー”E,)−1,G(エッソ製品)あるい
はガソリン、揮発油、灯油など)あるいはハロゲン化炭
化水素(トリクレンなど)を添加することができる。必
要ならば水を添加してもよい。また、染料を加えて、シ
リコーンゴム層の除去された画像部を染色してもよい。
[実施例]
以下、実施例により本発明をざらに詳しく説明する。
実施例1
厚ざQ,3mmのアルミ板(住友軽金属(II製)に下
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理
して5μのプライマ層を設けた。
記のプライマ組成物を塗布し、200℃、2分間熱処理
して5μのプライマ層を設けた。
■ポリウレタン樹脂(サンブレンLQ−T1331、三
洋化成工業(11製> 100重量部■ブロックイ
ソシアネート(タケネート8830、武田薬品v/J製
) 20重量部■エポキシ・フェノール・
尿素樹脂(SJ9372、関西ペイント■製)
8重量部■ジメチルホルムアミド 725重量部続い
てこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用いて塗
布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μの感
光層を設けた。
洋化成工業(11製> 100重量部■ブロックイ
ソシアネート(タケネート8830、武田薬品v/J製
) 20重量部■エポキシ・フェノール・
尿素樹脂(SJ9372、関西ペイント■製)
8重量部■ジメチルホルムアミド 725重量部続い
てこの上に下記の感光層組成物をバーコータを用いて塗
布し、110℃の熱風中で1分間乾燥して厚さ2μの感
光層を設けた。
■ナフトキノンー1,2−ジアジド−5−スルホン酸と
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュ
レズ製ニスミライトレジンPR50622)の部分エス
テル(元素分析法によるエステル化度25%)
100重量部■4,4ージフェニルメタンジイソ
シアネート40重量部 ■ジブデル錫ジアセテート 0.2重量部■4,4°ー
ジエチルアミノベンゾフェノン5重量部 ■pートルエンスルホン酸 0.8重量部■テトラヒ
ドロフラン 800重量部ついでこの感光層の上に
次の組成を有するシリコーンゴム組成物を回転塗布後、
115℃、露点30℃、3.5分間湿熱硬化−させて2
.3μのシリコーンゴム層を設けた。
フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(住友デュ
レズ製ニスミライトレジンPR50622)の部分エス
テル(元素分析法によるエステル化度25%)
100重量部■4,4ージフェニルメタンジイソ
シアネート40重量部 ■ジブデル錫ジアセテート 0.2重量部■4,4°ー
ジエチルアミノベンゾフェノン5重量部 ■pートルエンスルホン酸 0.8重量部■テトラヒ
ドロフラン 800重量部ついでこの感光層の上に
次の組成を有するシリコーンゴム組成物を回転塗布後、
115℃、露点30℃、3.5分間湿熱硬化−させて2
.3μのシリコーンゴム層を設けた。
■ポリジメチルシロキサン(分子量約25.0001末
端OH基> 100重量部■ビニルトリ(メ
チルエチルケトオキシム)シラン
8重量部■ジブチル錫ジアセテート 0.1重
聞部■γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.5重
世部 ■゛アイソパー″Eエクソン化学■製)1400重四部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μのポリ
プロピレンフィルム“トレファン″(束し■製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平版印刷
原版を得た。
端OH基> 100重量部■ビニルトリ(メ
チルエチルケトオキシム)シラン
8重量部■ジブチル錫ジアセテート 0.1重
聞部■γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.5重
世部 ■゛アイソパー″Eエクソン化学■製)1400重四部 上記のようにして得られた積層板に、厚さ10μのポリ
プロピレンフィルム“トレファン″(束し■製)をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、水なし平版印刷
原版を得た。
かかる印刷原版に高圧水銀灯(3KW:オーク製作新製
[ジェットライト3300J )を用い、光源と印刷原
版との間のガラス板を取り除いて、短波長側の紫外線(
314,335止に発光ピークあり)が印刷原版表面に
遮られることなく到達するようにして、Uvヅメ−−(
オーク製作新製、LJV302A>で3.5mW/iの
照度で15秒間画像露光を行なった。(150線/イン
チの網点画像を持つポジフィルムを使用) 次いで、′トレファン″を剥離し、東し水なし平版にお
いて使用される手現像パッドとを用い、現像液としてエ
チルセロソルブを用いて現像を行なった。その結果、画
像露光された部分のシリコーンゴム層が感光層と強固に
接着しており、一方未露光部分はシリコーンゴム層が脱
落し感光層表面が露出したポジティブワーキング用の印
刷版が得られた。
[ジェットライト3300J )を用い、光源と印刷原
版との間のガラス板を取り除いて、短波長側の紫外線(
314,335止に発光ピークあり)が印刷原版表面に
遮られることなく到達するようにして、Uvヅメ−−(
オーク製作新製、LJV302A>で3.5mW/iの
照度で15秒間画像露光を行なった。(150線/イン
チの網点画像を持つポジフィルムを使用) 次いで、′トレファン″を剥離し、東し水なし平版にお
いて使用される手現像パッドとを用い、現像液としてエ
チルセロソルブを用いて現像を行なった。その結果、画
像露光された部分のシリコーンゴム層が感光層と強固に
接着しており、一方未露光部分はシリコーンゴム層が脱
落し感光層表面が露出したポジティブワーキング用の印
刷版が得られた。
実施例2
実施例1と同様の印刷原版を、同様の光源を用いて画像
露光した。その後、通常の使用状態、すなわち、印刷原
版と光源との間に保護ガラスが存在する状態下で版面全
面を30秒間露光した。
露光した。その後、通常の使用状態、すなわち、印刷原
版と光源との間に保護ガラスが存在する状態下で版面全
面を30秒間露光した。
次いで、“トレファン″を剥離し、東し水なし平版にお
いて使用される手現像パッドを用い、現像液としてエチ
ルセロソルブおよび水/エタノール=50150 (重
量比)を用いてそれぞれ現像を行なった。その結果、エ
チルセロソルブの場合と同様に水/エタノールを用いて
行なった場合も現像が容易に行なえ、良好な画像再現性
を有するポジティブワーキング用の印刷版が得られた。
いて使用される手現像パッドを用い、現像液としてエチ
ルセロソルブおよび水/エタノール=50150 (重
量比)を用いてそれぞれ現像を行なった。その結果、エ
チルセロソルブの場合と同様に水/エタノールを用いて
行なった場合も現像が容易に行なえ、良好な画像再現性
を有するポジティブワーキング用の印刷版が得られた。
比較例1
実施例1と同様の印刷原版を、同様の光源を用い、通常
の使用状況、すなわち、印刷原版と光源との間に保護ガ
ラスや焼枠ガラスが存在する状況下で、同様のポジフィ
ルムを用いて画像露光を行なった。次いで同様の現像を
行なったところ、霧光部分、未露光部分、両方とものシ
リコーンゴム層が脱落してしまった。また現像液をエタ
ノール/アイソパーEの(1:1重量比)混合物にかえ
て、現像を行なったところ、露光部分のシリコーンゴム
層が脱落し、未露光部分のシリコーンゴム層は感光層と
接着したまま残存したネガティブワーキング用の印刷版
が得られた。
の使用状況、すなわち、印刷原版と光源との間に保護ガ
ラスや焼枠ガラスが存在する状況下で、同様のポジフィ
ルムを用いて画像露光を行なった。次いで同様の現像を
行なったところ、霧光部分、未露光部分、両方とものシ
リコーンゴム層が脱落してしまった。また現像液をエタ
ノール/アイソパーEの(1:1重量比)混合物にかえ
て、現像を行なったところ、露光部分のシリコーンゴム
層が脱落し、未露光部分のシリコーンゴム層は感光層と
接着したまま残存したネガティブワーキング用の印刷版
が得られた。
[発明の効果]
本発明による露光現像方法により、ネガティブワーキン
グ用の印刷原版を、容易にポジティブワーキング用印刷
版として使用することが可能となる。
グ用の印刷原版を、容易にポジティブワーキング用印刷
版として使用することが可能となる。
Claims (1)
- 基板上に、キノンジアジド化合物を含有する感光層、
インキ反撥性層を順次積層した水なし平版印刷版を画像
露光する際、該版面に、紫外線遮光用透明板を有しない
光源を用い、350nm以下の波長の紫外線を含む活性
光線を照射することにより画像を形成することを特徴と
するポジテイブワーキング用水なし平版印刷版の製版方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63212811A JPH01158451A (ja) | 1987-09-25 | 1988-08-26 | 水なし平版印刷板の製版方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62-241164 | 1987-09-25 | ||
JP24116487 | 1987-09-25 | ||
JP63212811A JPH01158451A (ja) | 1987-09-25 | 1988-08-26 | 水なし平版印刷板の製版方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01158451A true JPH01158451A (ja) | 1989-06-21 |
Family
ID=26519442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63212811A Pending JPH01158451A (ja) | 1987-09-25 | 1988-08-26 | 水なし平版印刷板の製版方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01158451A (ja) |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5570847A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toray Ind Inc | Processing method of waterless lithographic printing plate |
JPS5692536A (en) * | 1979-12-27 | 1981-07-27 | Fujitsu Ltd | Pattern formation method |
JPS59202462A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | ネガ型レジストのパタ−ン形成方法 |
JPS6045247A (ja) * | 1983-05-23 | 1985-03-11 | フユージヨン・セミコンダクター・システムズ | フオトレジストの硬化方法及び硬化装置 |
JPS6045246A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPS60130829A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPS60133452A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
JPS60135943A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レジスト層の強度向上方法および装置 |
JPS61131446A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ン形成方法 |
JPS61241745A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | ネガ型フオトレジスト組成物及びレジストパタ−ン形成方法 |
JPS6230322A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | フオトレジストパタ−ンの形成方法 |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP63212811A patent/JPH01158451A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5570847A (en) * | 1978-11-24 | 1980-05-28 | Toray Ind Inc | Processing method of waterless lithographic printing plate |
JPS5692536A (en) * | 1979-12-27 | 1981-07-27 | Fujitsu Ltd | Pattern formation method |
JPS59202462A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-16 | Oki Electric Ind Co Ltd | ネガ型レジストのパタ−ン形成方法 |
JPS6045247A (ja) * | 1983-05-23 | 1985-03-11 | フユージヨン・セミコンダクター・システムズ | フオトレジストの硬化方法及び硬化装置 |
JPS6045246A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-11 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPS60130829A (ja) * | 1983-12-19 | 1985-07-12 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ンの形成方法 |
JPS60133452A (ja) * | 1983-12-21 | 1985-07-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
JPS60135943A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | レジスト層の強度向上方法および装置 |
JPS61131446A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-19 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパタ−ン形成方法 |
JPS61241745A (ja) * | 1985-04-18 | 1986-10-28 | Oki Electric Ind Co Ltd | ネガ型フオトレジスト組成物及びレジストパタ−ン形成方法 |
JPS6230322A (ja) * | 1985-07-31 | 1987-02-09 | Oki Electric Ind Co Ltd | フオトレジストパタ−ンの形成方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4496647A (en) | Treatment of image-forming laminated plate | |
JPS6154222B2 (ja) | ||
JPS63317379A (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
JPH043866B2 (ja) | ||
JPH01158451A (ja) | 水なし平版印刷板の製版方法 | |
JPH043865B2 (ja) | ||
JPS63163857A (ja) | 水なし平版印刷版 | |
JP2507428B2 (ja) | 水なし平版印刷原版の製版方法 | |
JP2507470B2 (ja) | 水なし平版印刷用原板 | |
JP2507390B2 (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
JPH0213295B2 (ja) | ||
JPS6323546B2 (ja) | ||
JP2530693B2 (ja) | 水なし平版印刷版の製版方法 | |
JP2921092B2 (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
JP2507376B2 (ja) | 水なし平版製版用処理液 | |
JPS6322304B2 (ja) | ||
JP2647648B2 (ja) | 水なし平版印刷版の処理方法 | |
JPH0145625B2 (ja) | ||
JPH042942B2 (ja) | ||
JPS6011845A (ja) | 湿し水不要印刷原版 | |
JPS62170965A (ja) | 画像形成用積層体の製版方法 | |
JPH0356623B2 (ja) | ||
JPH0356624B2 (ja) | ||
JPH07295209A (ja) | 水なし平版印刷版原版 | |
JPH07104598B2 (ja) | 水なし平版印刷用原版 |