JPH1015357A - 排水の処理方法 - Google Patents
排水の処理方法Info
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- JPH1015357A JPH1015357A JP17105596A JP17105596A JPH1015357A JP H1015357 A JPH1015357 A JP H1015357A JP 17105596 A JP17105596 A JP 17105596A JP 17105596 A JP17105596 A JP 17105596A JP H1015357 A JPH1015357 A JP H1015357A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】微粒子を除去する排水処理において、限外ろ過
膜または精密ろ過膜を用いて排水を膜処理する方法であ
り、微粒子の高濃縮を安定して行う実用的な排水の処理
方法を提供するものである。 【構成】２段以上の多段に連結した分離膜を用いて排水
を膜処理する方法において、該分離膜が限外ろ過膜また
は精密ろ過膜であって、第１段に原水流路幅０．１ｍｍ
以上２ｍｍ以下のろ過膜モジュールＡを用い、後段には
原水流路幅５ｍｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュール
Ｂを用いることを特徴とする排水の処理方法。
膜または精密ろ過膜を用いて排水を膜処理する方法であ
り、微粒子の高濃縮を安定して行う実用的な排水の処理
方法を提供するものである。 【構成】２段以上の多段に連結した分離膜を用いて排水
を膜処理する方法において、該分離膜が限外ろ過膜また
は精密ろ過膜であって、第１段に原水流路幅０．１ｍｍ
以上２ｍｍ以下のろ過膜モジュールＡを用い、後段には
原水流路幅５ｍｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュール
Ｂを用いることを特徴とする排水の処理方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２段以上の多段に連結
した分離膜として限外ろ過膜または精密ろ過膜を用いて
排水を膜処理する方法に関するものであり、詳しくは濃
縮をおこなうことによって、濃縮水の容量を減少させる
排水の処理方法に関するものである。
した分離膜として限外ろ過膜または精密ろ過膜を用いて
排水を膜処理する方法に関するものであり、詳しくは濃
縮をおこなうことによって、濃縮水の容量を減少させる
排水の処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、シリコンウエハーの研磨・切削排
水等の微粒子を含む排水は、薬品添加後に凝集沈殿処理
されていた。上記凝集沈殿処理では、処理水の清澄度が
不充分であり、また処理水は再利用できないことから、
近年限外ろ過法または精密ろ過法を用いて排水の微粒子
を除去性を高め、かつ処理水を半導体製造工程で再利用
する方法が実施されるようになってきた。
水等の微粒子を含む排水は、薬品添加後に凝集沈殿処理
されていた。上記凝集沈殿処理では、処理水の清澄度が
不充分であり、また処理水は再利用できないことから、
近年限外ろ過法または精密ろ過法を用いて排水の微粒子
を除去性を高め、かつ処理水を半導体製造工程で再利用
する方法が実施されるようになってきた。
【０００３】しかし、限外ろ過法や精密ろ過法は排水を
透過水（処理水）と濃縮水とに分離する方法であるた
め、濃縮水が産業廃棄物として発生するという問題点が
ある。従って、濃縮水容量をできるだけ小さくすること
が、環境保全にも経済的にも肝要であり、それを達成す
ることによって実用的な排水処理方法となる。
透過水（処理水）と濃縮水とに分離する方法であるた
め、濃縮水が産業廃棄物として発生するという問題点が
ある。従って、濃縮水容量をできるだけ小さくすること
が、環境保全にも経済的にも肝要であり、それを達成す
ることによって実用的な排水処理方法となる。
【０００４】また、近年排水処理において使用される膜
モジュールとしては、大量処理に適した中空糸型やスパ
イラル型などが多く用いられる。ところが、大量処理に
適した膜モジュールは膜の充填密度が高いため処理すべ
き被処理水の流路が小さくなっている。従って、微粒子
を除去する場合、濃縮度を高めると膜モジュールの原水
流路を閉塞させ、その結果、処理能力の低下をもたら
す。そのため、シリコンウエハーの研磨・切削排水を処
理する場合、微粒子濃度は５０００ｍｇ／Ｌ以下に抑え
る必要があり、排水中の微粒子濃度が１０〜２５０ｍｇ
／Ｌであるため２０から５００倍までしか濃縮できなか
った。
モジュールとしては、大量処理に適した中空糸型やスパ
イラル型などが多く用いられる。ところが、大量処理に
適した膜モジュールは膜の充填密度が高いため処理すべ
き被処理水の流路が小さくなっている。従って、微粒子
を除去する場合、濃縮度を高めると膜モジュールの原水
流路を閉塞させ、その結果、処理能力の低下をもたら
す。そのため、シリコンウエハーの研磨・切削排水を処
理する場合、微粒子濃度は５０００ｍｇ／Ｌ以下に抑え
る必要があり、排水中の微粒子濃度が１０〜２５０ｍｇ
／Ｌであるため２０から５００倍までしか濃縮できなか
った。
【０００５】かかる濃縮水の問題解決のため、濃縮度を
増大させるために濃縮水を遠心分離処理する方法が特願
昭６３−４３３４９などに開示されている。しかし、遠
心分離器を高速回転するためドラムや軸受けなどの磨耗
が激しく安定した運転が困難である。さらには、メンテ
ナンスのために労力と費用がかかり実用的ではない。従
って、微粒子を含む排水の処理において、高濃縮運転を
安定して実施できる方法であって、経済的に実用性を有
する方法が望まれている。
増大させるために濃縮水を遠心分離処理する方法が特願
昭６３−４３３４９などに開示されている。しかし、遠
心分離器を高速回転するためドラムや軸受けなどの磨耗
が激しく安定した運転が困難である。さらには、メンテ
ナンスのために労力と費用がかかり実用的ではない。従
って、微粒子を含む排水の処理において、高濃縮運転を
安定して実施できる方法であって、経済的に実用性を有
する方法が望まれている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点を解決するためになされたものであって、微粒
子を除去する排水処理において、限外ろ過膜または精密
ろ過膜を用いて排水を膜処理する方法であり、微粒子の
高濃縮を安定して行う実用的な排水の処理方法を提供す
るものである。
の問題点を解決するためになされたものであって、微粒
子を除去する排水処理において、限外ろ過膜または精密
ろ過膜を用いて排水を膜処理する方法であり、微粒子の
高濃縮を安定して行う実用的な排水の処理方法を提供す
るものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の排水の処理方法
は、２段以上の多段に連結した分離膜を用いて排水を膜
処理する方法において、該分離膜が限外ろ過膜または精
密ろ過膜であって、第１段に原水流路幅 0.1ｍｍ以上２
ｍｍ以下のろ過膜モジュールＡを用い、後段には原水流
路幅５ｍｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュールＢを用
いることを特徴とする。
は、２段以上の多段に連結した分離膜を用いて排水を膜
処理する方法において、該分離膜が限外ろ過膜または精
密ろ過膜であって、第１段に原水流路幅 0.1ｍｍ以上２
ｍｍ以下のろ過膜モジュールＡを用い、後段には原水流
路幅５ｍｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュールＢを用
いることを特徴とする。
【０００８】
【発明を実施の形態】本発明で用いられるろ過膜モジュ
ールＡとして、原水流路幅 0.1ｍｍ以上２ｍｍ以下のろ
過膜モジュールを用いるが、上記原水流路幅とは、原水
が膜モジュール内を流れるときの流路大きさのことをい
う。上記原水流路幅が 0.1ｍｍ未満の場合は微粒子を含
む排水では流路が閉塞し、使用できなくなる。一方、上
記原水流路幅が２ｍｍを越える場合は膜モジュール内の
膜の充填密度が低下し所定の処理を行うのに大量の膜モ
ジュールが必要となり、設備コスト、運転コストや設置
スペースがかさむため実用的ではない。
ールＡとして、原水流路幅 0.1ｍｍ以上２ｍｍ以下のろ
過膜モジュールを用いるが、上記原水流路幅とは、原水
が膜モジュール内を流れるときの流路大きさのことをい
う。上記原水流路幅が 0.1ｍｍ未満の場合は微粒子を含
む排水では流路が閉塞し、使用できなくなる。一方、上
記原水流路幅が２ｍｍを越える場合は膜モジュール内の
膜の充填密度が低下し所定の処理を行うのに大量の膜モ
ジュールが必要となり、設備コスト、運転コストや設置
スペースがかさむため実用的ではない。
【０００９】本発明の原水流路幅 0.1ｍｍ以上２ｍｍ以
下のろ過膜モジュールＡとしては、特に限定されるもの
ではないが、大容量型の膜モジュールであることが好ま
しく、中空糸型膜モジュール、スパイラル型膜モジュー
ルやプレートアンドフレーム型膜モジュール等が挙げら
れる。
下のろ過膜モジュールＡとしては、特に限定されるもの
ではないが、大容量型の膜モジュールであることが好ま
しく、中空糸型膜モジュール、スパイラル型膜モジュー
ルやプレートアンドフレーム型膜モジュール等が挙げら
れる。
【００１０】上記中空糸型膜モジュールであれば、中空
糸膜の内側から外側へ圧力をかける場合は、中空糸膜の
内部が円形の流路であって、中空糸膜の内径が原水流路
幅となり、中空糸膜の外側から内側へ圧力をかける場合
は、中空糸膜同士の間隔の隙間が流路となり中空糸膜同
士を隔てる距離が原水流路幅となる。
糸膜の内側から外側へ圧力をかける場合は、中空糸膜の
内部が円形の流路であって、中空糸膜の内径が原水流路
幅となり、中空糸膜の外側から内側へ圧力をかける場合
は、中空糸膜同士の間隔の隙間が流路となり中空糸膜同
士を隔てる距離が原水流路幅となる。
【００１１】上記スパイラル型膜モジュールであれば、
膜を背中合わせに貼り合わせた膜封筒が渦巻き状に巻か
れており膜封筒同士の隙間が原水流路幅となる。
膜を背中合わせに貼り合わせた膜封筒が渦巻き状に巻か
れており膜封筒同士の隙間が原水流路幅となる。
【００１２】上記プレートアンドフレーム型膜モジュー
ルであれば、各プレートに貼られた膜同士を隔てる距離
が原水流路幅となる。上記ろ過膜モジュールＡに用いら
れる限外ろ過膜または精密ろ過膜の膜材質としては、特
に限定されないが、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポ
リアクリロニトリル、ポリアミド、ポリフッ化ビニリデ
ンなどを用いることができ、好ましくは透過流束が高い
ポリスルホンやポリオレフィンが用いられる。
ルであれば、各プレートに貼られた膜同士を隔てる距離
が原水流路幅となる。上記ろ過膜モジュールＡに用いら
れる限外ろ過膜または精密ろ過膜の膜材質としては、特
に限定されないが、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポ
リアクリロニトリル、ポリアミド、ポリフッ化ビニリデ
ンなどを用いることができ、好ましくは透過流束が高い
ポリスルホンやポリオレフィンが用いられる。
【００１３】本発明で用いられる後段の原水流路幅５ｍ
ｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュールＢにおいて、上
記原水流路幅が５ｍｍ未満の場合は微粒子濃度が５００
０ｍｇ／Ｌを越えると流路が微粒子で閉塞してしまい、
短時間で透過流束の性能が低下するので、実用的でな
い。
ｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュールＢにおいて、上
記原水流路幅が５ｍｍ未満の場合は微粒子濃度が５００
０ｍｇ／Ｌを越えると流路が微粒子で閉塞してしまい、
短時間で透過流束の性能が低下するので、実用的でな
い。
【００１４】一方、上記原水流路幅が１５ｍｍを越える
場合は膜モジュール内の膜の充填密度が低下し所定の処
理を行うのに大量の膜モジュールが必要となり、設備コ
スト、運転コストや設置スペースがかさむため実用的で
はない。本発明のろ過膜モジュールＢとしては、管型
（チューブラー型）膜モジュール、浸漬型膜モジュール
や回転平膜型膜モジュール等が挙げられ、管型（チュー
ブラー型）膜モジュールが特に好ましく用いられる。
場合は膜モジュール内の膜の充填密度が低下し所定の処
理を行うのに大量の膜モジュールが必要となり、設備コ
スト、運転コストや設置スペースがかさむため実用的で
はない。本発明のろ過膜モジュールＢとしては、管型
（チューブラー型）膜モジュール、浸漬型膜モジュール
や回転平膜型膜モジュール等が挙げられ、管型（チュー
ブラー型）膜モジュールが特に好ましく用いられる。
【００１５】上記ろ過膜モジュールＢに用いられる限外
ろ過膜または精密ろ過膜の膜材質としては、特に限定さ
れないが、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリアミド、ポリフッ化ビニリデンなどを
用いることができ、好ましくは透過流束が高いポリスル
ホンやポリオレフィンが用いられる。
ろ過膜または精密ろ過膜の膜材質としては、特に限定さ
れないが、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリアミド、ポリフッ化ビニリデンなどを
用いることができ、好ましくは透過流束が高いポリスル
ホンやポリオレフィンが用いられる。
【００１６】上記第１段と後段のろ過膜モジュールの膜
材質の組合せとしては、第１段としてポリスルホンまた
はポリオレフィン、後段としてポリオレフィンという組
合せが好ましく用いられる。
材質の組合せとしては、第１段としてポリスルホンまた
はポリオレフィン、後段としてポリオレフィンという組
合せが好ましく用いられる。
【００１７】上記第１段と後段のろ過膜モジュールのモ
ジュール構造の組合せとしては、第１段としては中空糸
型膜モジュール、全ての後段において管型（チューブラ
ー型）膜モジュール型の組合せが好ましく用いられる。
ジュール構造の組合せとしては、第１段としては中空糸
型膜モジュール、全ての後段において管型（チューブラ
ー型）膜モジュール型の組合せが好ましく用いられる。
【００１８】本発明で用いられる後段のろ過膜モジュー
ルＢにおいて、最終段に位置する上記ろ過膜モジュール
Ｂから排出される濃縮水中の0.１μｍ以上の微粒子濃度
が１０4 ｍｇ／Ｌ以上１０5 ｍｇ／Ｌ以下であることが
好ましい。
ルＢにおいて、最終段に位置する上記ろ過膜モジュール
Ｂから排出される濃縮水中の0.１μｍ以上の微粒子濃度
が１０4 ｍｇ／Ｌ以上１０5 ｍｇ／Ｌ以下であることが
好ましい。
【００１９】上記微粒子濃度が１０4 ｍｇ／Ｌ未満であ
れば、濃縮度が小さいため濃縮後であっても産業廃棄物
として発生する濃縮水容量が大きいという問題点があ
る。また、上記微粒子濃度が１０5 ｍｇ／Ｌを超える
と、ろ過膜モジュールＢにおいても流路が微粒子で閉塞
し易く、短時間で透過流束の性能が低下することがある
ので、実用的でない。
れば、濃縮度が小さいため濃縮後であっても産業廃棄物
として発生する濃縮水容量が大きいという問題点があ
る。また、上記微粒子濃度が１０5 ｍｇ／Ｌを超える
と、ろ過膜モジュールＢにおいても流路が微粒子で閉塞
し易く、短時間で透過流束の性能が低下することがある
ので、実用的でない。
【００２０】上記後段のろ過膜モジュールＢは、流路幅
が大きいため膜モジュール内の膜充填密度が小さく、所
定の処理量に対して膜モジュール台数が、上記膜充填密
度が小さい分だけ多く必要となる。しかし、第１段のろ
過膜モジュールＡにおいて、原水が濃縮され、上記後段
のろ過膜モジュールＢにおける処理量が減少しているた
め、ろ過膜モジュールＢの台数増大を軽減している。
が大きいため膜モジュール内の膜充填密度が小さく、所
定の処理量に対して膜モジュール台数が、上記膜充填密
度が小さい分だけ多く必要となる。しかし、第１段のろ
過膜モジュールＡにおいて、原水が濃縮され、上記後段
のろ過膜モジュールＢにおける処理量が減少しているた
め、ろ過膜モジュールＢの台数増大を軽減している。
【００２１】本発明において、第１段ろ過膜モジュール
Ａに供給される原水に含まれる微粒子径が１０μｍ以下
であることが好ましく用いられる排水の処理方法の構成
である。上記微粒子径が１０μｍを超えれば、微粒子濃
度が５０００ｍｇ／Ｌ以下であっても、ろ過膜モジュー
ルＡの流路が微粒子で閉塞し易く、短時間で透過流束の
性能が低下することがあるので、実用的でない。
Ａに供給される原水に含まれる微粒子径が１０μｍ以下
であることが好ましく用いられる排水の処理方法の構成
である。上記微粒子径が１０μｍを超えれば、微粒子濃
度が５０００ｍｇ／Ｌ以下であっても、ろ過膜モジュー
ルＡの流路が微粒子で閉塞し易く、短時間で透過流束の
性能が低下することがあるので、実用的でない。
【００２２】本発明の排水の処理方法において、少なく
とも第１段と最終段のろ過膜モジュールの濃縮度を制御
しながら排水を膜処理することが好ましい。本発明の制
御とは、第１段と後段の膜モジュールにおいて、循環用
タンクおよび供給用ポンプを備えることによって、流量
などを検知して所定の濃縮度になるように制御すること
をいう。後段においては、すべての各段を制御してもよ
いし、一部を制御してもよいが、排出される濃縮水の濃
度保証面からは、最終段のろ過膜モジュールの濃縮度を
制御することが好ましい。
とも第１段と最終段のろ過膜モジュールの濃縮度を制御
しながら排水を膜処理することが好ましい。本発明の制
御とは、第１段と後段の膜モジュールにおいて、循環用
タンクおよび供給用ポンプを備えることによって、流量
などを検知して所定の濃縮度になるように制御すること
をいう。後段においては、すべての各段を制御してもよ
いし、一部を制御してもよいが、排出される濃縮水の濃
度保証面からは、最終段のろ過膜モジュールの濃縮度を
制御することが好ましい。
【００２３】次に、本発明の排水の処理方法の基本的な
全体の液体の流れを説明する。図１は本発明の排水の処
理方法を実施する１実施態様である２段に連結した分離
膜による流れ図である。工程から排出される微粒子を含
む排水１は、原水タンク２に集められ、第１段加圧ポン
プ３から前処理フィルター４を通して第１段の限外ろ過
膜または精密ろ過膜であるろ過膜モジュールＡ５に送ら
れる。ろ過膜モジュールＡ５において、透過水Ａ６と濃
縮水Ａ８に分離される。通常、濃縮水Ａ８の１部は、配
管７を通って、原水タンク２に循環される。残りの濃縮
水Ａ８１は、第２段原水タンク９に集められ、第２段加
圧ポンプ１０から第２段前処理フィルター１１を通っ
て、第２段の限外ろ過膜または精密ろ過膜であるろ過膜
モジュールＢ１２に送られる。ろ過膜モジュールＢ１２
において、透過水Ｂ１６と濃縮水Ｂ１３に分離される。
濃縮水Ｂ１３の１部は、原水タンクＢ９に循環される。
残りの濃縮水Ｂ１３１は、第２段濃縮水タンク１４に集
められる。さらに、加圧ポンプ１５により、後段のろ過
膜モジュールＢで処理することもできる。透過水Ａ６お
よび透過水Ｂ１６はそのまま排出されるか、あるいは工
程水として再利用される。
全体の液体の流れを説明する。図１は本発明の排水の処
理方法を実施する１実施態様である２段に連結した分離
膜による流れ図である。工程から排出される微粒子を含
む排水１は、原水タンク２に集められ、第１段加圧ポン
プ３から前処理フィルター４を通して第１段の限外ろ過
膜または精密ろ過膜であるろ過膜モジュールＡ５に送ら
れる。ろ過膜モジュールＡ５において、透過水Ａ６と濃
縮水Ａ８に分離される。通常、濃縮水Ａ８の１部は、配
管７を通って、原水タンク２に循環される。残りの濃縮
水Ａ８１は、第２段原水タンク９に集められ、第２段加
圧ポンプ１０から第２段前処理フィルター１１を通っ
て、第２段の限外ろ過膜または精密ろ過膜であるろ過膜
モジュールＢ１２に送られる。ろ過膜モジュールＢ１２
において、透過水Ｂ１６と濃縮水Ｂ１３に分離される。
濃縮水Ｂ１３の１部は、原水タンクＢ９に循環される。
残りの濃縮水Ｂ１３１は、第２段濃縮水タンク１４に集
められる。さらに、加圧ポンプ１５により、後段のろ過
膜モジュールＢで処理することもできる。透過水Ａ６お
よび透過水Ｂ１６はそのまま排出されるか、あるいは工
程水として再利用される。
【００２４】なお、第１段のろ過膜モジュールＡ５と後
段のろ過膜モジュールＢ１２は、上記のように配し連結
するが、これら以外の所定のろ過膜モジュールＢを後段
のろ過膜モジュールＢとして何段にも連結することがで
きる。
段のろ過膜モジュールＢ１２は、上記のように配し連結
するが、これら以外の所定のろ過膜モジュールＢを後段
のろ過膜モジュールＢとして何段にも連結することがで
きる。
【００２５】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
【００２６】実施例１ 本発明の実施例１における流れ図を図１に示した。図１
において、排水１としてシリコン研磨・切削排水を用
い、第１段のろ過膜モジュールＡとして日東電工株式会
社製中空糸型限外ろ過膜モジュールＮＴＵ−３２５０−
Ｃ４Ｋ（原水流路幅＝１．１ｍｍ）を用いた。上記中空
糸型限外ろ過膜の膜面積は計６ｍ2 であり、膜材質はポ
リスルホン製で、分画分子量が２０，０００であった。
において、排水１としてシリコン研磨・切削排水を用
い、第１段のろ過膜モジュールＡとして日東電工株式会
社製中空糸型限外ろ過膜モジュールＮＴＵ−３２５０−
Ｃ４Ｋ（原水流路幅＝１．１ｍｍ）を用いた。上記中空
糸型限外ろ過膜の膜面積は計６ｍ2 であり、膜材質はポ
リスルホン製で、分画分子量が２０，０００であった。
【００２７】また、後段のろ過膜モジュールＢとして日
東電工株式会社製管型限外ろ過膜モジュールＮＴＵ−２
０２０−Ｐ18Ｂ（原水流路幅＝１１．５ｍｍ）を用い
た。上記管型限外ろ過膜の膜面積は計0.７６ｍ2 であ
り、膜材質はやポリオレフィン製で、分画分子量が２
０，０００であった。
東電工株式会社製管型限外ろ過膜モジュールＮＴＵ−２
０２０−Ｐ18Ｂ（原水流路幅＝１１．５ｍｍ）を用い
た。上記管型限外ろ過膜の膜面積は計0.７６ｍ2 であ
り、膜材質はやポリオレフィン製で、分画分子量が２
０，０００であった。
【００２８】以上の２段に連結した分離膜として限外ろ
過膜を用いて排水を膜処理し、第２段の濃縮水１３を得
た。濃縮度は、第１段が５００倍、第２段が４倍になる
ように制御し、定量ろ過運転を行った。ここで濃縮度と
は下記の式で表される。 第１段濃縮度＝（排水１流量）／（第１段濃縮水Ａ８１流量） 第２段濃縮度＝（第１段濃縮水Ａ８１流量）／（第２段濃縮水Ｂ１３１流量） 濃縮処理の結果をシリコン微粒子濃度を用いて表１に示
した。また、濃縮処理において、分離膜の交換頻度を表
２に示した。実施例においては透過流束が高く維持さ
れ、交換頻度が比較例と比べて、飛躍的に小さくなって
いることが判る。
過膜を用いて排水を膜処理し、第２段の濃縮水１３を得
た。濃縮度は、第１段が５００倍、第２段が４倍になる
ように制御し、定量ろ過運転を行った。ここで濃縮度と
は下記の式で表される。 第１段濃縮度＝（排水１流量）／（第１段濃縮水Ａ８１流量） 第２段濃縮度＝（第１段濃縮水Ａ８１流量）／（第２段濃縮水Ｂ１３１流量） 濃縮処理の結果をシリコン微粒子濃度を用いて表１に示
した。また、濃縮処理において、分離膜の交換頻度を表
２に示した。実施例においては透過流束が高く維持さ
れ、交換頻度が比較例と比べて、飛躍的に小さくなって
いることが判る。
【表１】
【表２】
【００２９】比較例１ 実施例１の後段のろ過膜モジュールＢを用いずに、同じ
第１段のろ過膜モジュールＡのみを用いて、上記シリコ
ン研磨・切削排水を１段濃縮をした。濃縮度は、２００
０倍になるように制御した。濃縮処理の結果をシリコン
微粒子濃度を用いて表１に示し、分離膜の交換頻度を表
２に示した。原水流路幅１．１ｍｍのろ過膜モジュール
１段のみで濃縮を行った場合、透過流束は小さくなり、
微粒子による流路閉塞のため性能低下が早く、ろ過膜モ
ジュールの交換頻度が大きくなる。従って、経済性に乏
しく実用的な処理方法ではない。
第１段のろ過膜モジュールＡのみを用いて、上記シリコ
ン研磨・切削排水を１段濃縮をした。濃縮度は、２００
０倍になるように制御した。濃縮処理の結果をシリコン
微粒子濃度を用いて表１に示し、分離膜の交換頻度を表
２に示した。原水流路幅１．１ｍｍのろ過膜モジュール
１段のみで濃縮を行った場合、透過流束は小さくなり、
微粒子による流路閉塞のため性能低下が早く、ろ過膜モ
ジュールの交換頻度が大きくなる。従って、経済性に乏
しく実用的な処理方法ではない。
【００３０】比較例２ 実施例１の後段のろ過膜モジュールＢのみを用いて１段
処理を行った場合は、実施例１と比較して、ろ過膜モジ
ュール数が多くなり、ろ過膜モジュールコストで２倍以
上、ろ過膜モジュール設置スペースで４倍以上となり、
経済性に乏しく実用的な処理方法ではない。
処理を行った場合は、実施例１と比較して、ろ過膜モジ
ュール数が多くなり、ろ過膜モジュールコストで２倍以
上、ろ過膜モジュール設置スペースで４倍以上となり、
経済性に乏しく実用的な処理方法ではない。
【００３１】
【発明の効果】本発明の排水の処理方法を用いることに
より、微粒子を含む排水の高濃縮運転を透過流束を低下
させずに安定して処理でき、経済的に実用性のある排水
処理を行うことができる。
より、微粒子を含む排水の高濃縮運転を透過流束を低下
させずに安定して処理でき、経済的に実用性のある排水
処理を行うことができる。
【図１】本発明の実施例を示す流れ図である。
１排水 ２原水タンク ３第１段加圧ポンプ ４前処理フィルター ５ろ過膜モジュールＡ ６透過水Ａ ８濃縮水Ａ １２ろ過膜モジュールＢ １３濃縮水Ｂ
Claims (4)
- 【請求項１】２段以上の多段に連結した分離膜を用いて
排水を膜処理する方法において、該分離膜が限外ろ過膜
または精密ろ過膜であって、第１段に原水流路幅０．１
ｍｍ以上２ｍｍ以下のろ過膜モジュールＡを用い、後段
には原水流路幅５ｍｍ以上１５ｍｍ以下のろ過膜モジュ
ールＢを用いることを特徴とする排水の処理方法。 - 【請求項２】最終段のろ過膜モジュールＢから排出され
る濃縮水中の0.１μｍ以上の微粒子濃度が１０4 ｍｇ／
Ｌ以上１０5 ｍｇ／Ｌ以下であることを特徴とする請求
項１記載の排水の処理方法。 - 【請求項３】第１段ろ過膜モジュールＡに供給される原
水に含まれる微粒子径が１０μｍ以下であることを特徴
とする請求項１または２記載の排水の処理方法。 - 【請求項４】少なくとも第１段と最終段のろ過膜モジュ
ールの濃縮度を制御しながら排水を膜処理することを特
徴とする請求項１、２または３記載の排水の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17105596A JPH1015357A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 排水の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17105596A JPH1015357A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 排水の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1015357A true JPH1015357A (ja) | 1998-01-20 |
Family
ID=15916244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17105596A Pending JPH1015357A (ja) | 1996-07-01 | 1996-07-01 | 排水の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1015357A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003300072A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-21 | Ngk Insulators Ltd | 研磨排水の処理方法 |
| JP2012165764A (ja) * | 2006-07-14 | 2012-09-06 | Dsm Ip Assets Bv | 細胞を培養する改善された方法 |
| JP2020075218A (ja) * | 2018-11-08 | 2020-05-21 | オルガノ株式会社 | 鉄／マンガン含有水の処理装置および処理方法 |
-
1996
- 1996-07-01 JP JP17105596A patent/JPH1015357A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2014217395A (ja) * | 2006-07-14 | 2014-11-20 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | 細胞を培養する改善された方法 |
| US9469865B2 (en) | 2006-07-14 | 2016-10-18 | Dpx Holdings B.V. | Process for the culturing of cells |
| US9670520B2 (en) | 2006-07-14 | 2017-06-06 | Patheon Holdings | B.V. | Process for the culturing of cells |
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