JPH07134412A - ネガ型放射線感応性レジスト組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 （Ａ）アルカリ可溶性樹脂とアルコキシメチ
ル化アミノ樹脂から成る樹脂成分に対し、（Ｂ）下記一
般式（Ｉ）で表わされるトリアジン化合物、又はこのも
のと下記一般式（ＩＩ）で表わされるトリアジン化合物
とを組み合わせたものを配合して成るネガ型放射線感応
性レジスト組成物である。 【化１】 ［Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜３のアルキル基、Ｚは４−アル
コキシフェニル基、４‐アルコキシナフチル基、２‐
（３，５‐ジアルコキシフェニル）エテニル基、２‐
（２‐フリル）エテニル基、２‐（５‐アルキル‐２‐
フリル）エテニル基、３，４‐メチレンジオキシフェニ
ル基又は２‐（３，４‐メチレンジオキシフェニル）エ
テニル基］ 【効果】 高い解像性及び高い感度を有し、かつ良好な
プロファイル形状のレジストパターンを与えることがで
き、半導体デバイスの製造や液晶表示用の透明導電膜の
加工などに好適に用いられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なネガ型放射線感
応性レジスト組成物、さらに詳しくいえば、半導体デバ
イスの製造、液晶表示用の透明導電膜の加工など電子工
業分野における微細加工に適した高い解像性及び高い感
度を有し、しかも良好なプロファイル形状のレジストパ
ターンを与えうるネガ型放射線感応性レジスト組成物に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体デバイスにおける高密度
化、高集積度化の進歩は著しく、その微細加工技術にお
ける解像性は、サブミクロン領域まで要求されるように
なってきている。そして、半導体デバイスの製造分野に
おいて主流となっているリソグラフィー技術に関して
も、０．５μｍ以下の微細加工が必要とされ、これに応
えるために、短波長の紫外線であるＤｅｅｐ ＵＶ、ｉ
線及びｇ線などの単波長を発光する光源や、エキシマレ
ーザー、ＫｒＦレーザー（波長２４８ｎｍ）が使用され
始めているほか、電子線やエックス線に感応するレジス
トの開発も進められている。

【０００３】このような放射線に適合するネガ型レジス
ト組成物について、トリクロロメチル化トリアジン化合
物を光重合開始剤又は光酸発生剤として用いた種々の研
究が近年積極的になされており、例えばエチレン性不飽
和基をもつ単量体（特開昭５４−７４８８７号公報）、
エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する付加
重合可能な化合物（特開昭５４−１５１０２４号公
報）、フリーラジカル又は酸により重合する単量体（特
開昭６０−１０５６６７号公報）などの重合性モノマー
成分との組合せによるレジスト組成物、クレゾールノボ
ラック樹脂、アルコキシメチル化メラミン樹脂（特開平
２−１４６０４４号公報）、ポリヒドロキシスチレン
（特開平４−１３６８５８号公報）などの架橋可能な樹
脂成分との組合せによるレジスト組成物が提案されてい
る。

【０００４】しかしながら、これらのレジスト組成物に
おいては、それから得られるレジストパターンの断面形
状がスソを引きプロファイル形状が悪くなりやすく、高
解像性が得られない上に、Ｄｅｅｐ ＵＶ、ｉ線、ｇ
線、エキシマレーザー、電子線、エックス線などの放射
線に対して実用的な感度を有していないという欠点があ
り、また比較的昇華性の高いトリアジン化合物が現像後
のポストベーク時に昇華し、処理室内壁に結晶状態で付
着して、これが被処理基板表面上に落下することによ
り、エッチング時にエッチング不良を起こしパターン形
成の異常の原因となっていた。

【０００５】このように、特に０．５μｍ以下の微細加
工に対応できる前記した各種放射線を利用したリソグラ
フィー技術において用いられる感光剤としてのトリクロ
ロメチル化トリアジン化合物を含有するネガ型レジスト
組成物については、まだ実用的なものは得られていない
のが実情である。

【０００６】このため、半導体デバイスや液晶表示素子
の製造分野においては、エッチング不良を起こさず、解
像性及びレジストパターンのプロファイル形状に優れ、
かつ各種放射線に対する感度の高いネガ型放射線感応性
レジスト組成物の開発が強く望まれている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
要望にこたえるため、各種放射線に対して感応し、高解
像性でレジストパターンのプロファイル形状に優れると
ともに、エッチング不良を起こすことなく、良好なパタ
ーン形成が実現できる感度の高いネガ型放射線感応性レ
ジスト組成物を提供することを目的としてなされたもの
である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、微細加工
用として好適なネガ型放射線感応性レジスト組成物を開
発すべく鋭意研究を重ねた結果、アルカリ可溶性樹脂と
アルコキシメチル化アミノ樹脂とから成る樹脂成分に、
特定のトリアジン化合物を配合することにより、その目
的を達成しうることを見出し、この知見に基づいて本発
明をなすに至った。

【０００９】すなわち、本発明は、（Ａ）アルカリ可溶
性樹脂とアルコキシメチル化アミノ樹脂から成る樹脂成
分に対し、（Ｂ）（イ）一般式（Ｉ）

【化３】 （式中のＲ¹及びＲ²はそれぞれ炭素数１〜３のアルキル
基であり、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
い）で表わされるトリアジン化合物、又は該（イ）成分
のトリアジン化合物と（ロ）一般式（ＩＩ）

【化４】 ［式中のＺは４‐アルコキシフェニル基、４‐アルコキ
シナフチル基、２‐（３，５‐ジアルコキシフェニル）
エテニル基、２‐（２‐フリル）エテニル基、２‐（５
‐アルキル‐２‐フリル）エテニル基、３，４‐メチレ
ンジオキシフェニル基又は２‐（３，４‐メチレンジオ
キシフェニル）エテニル基である］で表わされるトリア
ジン化合物とを組み合わせたものを配合したことを特徴
とするネガ型放射線感応性レジスト組成物を提供するも
のである。

【００１０】本発明組成物に用いるアルカリ可溶性樹脂
としては、例えばノボラック樹脂、アクリル樹脂、スチ
レンとアクリル酸との共重合体、ヒドロキシスチレンの
重合体及び共重合体、ポリα‐メチルビニルフェノール
などが挙げられ、中でもポリヒドロキシスチレン、ノボ
ラック樹脂が好ましく、さらには、アルカリ可溶性ノボ
ラック樹脂が最も好ましい。このアルカリ可溶性ノボラ
ック樹脂については特に制限はなく、従来ポジ型ホトレ
ジスト組成物において被膜形成用物質として慣用されて
いるもの、例えばフェノール、クレゾール、キシレノー
ルなどの芳香族ヒドロキシ化合物とホルムアルデヒドな
どのアルデヒド類とを酸性触媒の存在下に縮合させたも
のなどが用いられる。このアルカリ可溶性ノボラック樹
脂としては、低分子領域をカットした重量平均分子量が
２０００〜２００００、好ましくは３０００〜１５００
０の範囲のものが好ましい。

【００１１】本発明で好適に用いるアルカリ可溶性ノボ
ラック樹脂は、例えばフェノール、ｍ‐クレゾールとｐ
‐クレゾール、２，５‐キシレノール及び３，５‐キシ
レノールの中から選ばれた少なくとも１種とをそれぞれ
所定の割合で含有する混合フェノール性化合物とホルマ
リンとを、酸触媒の存在下で縮合反応させることにより
製造することができる。本発明においてレジストパター
ンのプロファイルの改良を考慮する場合には、ｍ‐クレ
ゾール３０重量％以上を用いたものが好適である。

【００１２】一方、ポリヒドロキシスチレンについて
は、特に制限はなく、公知のものを用いることができる
が、重量平均分子量３０００〜５００００、好ましくは
５０００〜３００００の範囲のものが好適である。

【００１３】本発明組成物において、（Ａ）成分のもう
一方の樹脂成分であるアルコキシメチル化アミノ樹脂と
しては、特にアルコキシメチル化メラミン樹脂やアルコ
キシメチル化尿素樹脂、具体的にはメトキシメチル化メ
ラミン樹脂、エトキシメチル化メラミン樹脂、プロポキ
シメチル化メラミン樹脂、ブトキシメチル化メラミン樹
脂、メトキシメチル化尿素樹脂、エトキシメチル化尿素
樹脂、プロポキシメチル化尿素樹脂、ブトキシメチル化
尿素樹脂などが挙げられ、これらは単独で用いてもよい
し、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのア
ルコキシメチル化アミノ樹脂は、例えば沸騰水溶液中で
メラミン又は尿素とホルマリンを酸触媒下に反応させて
縮合物を得たのち、これをメチルアルコール、エチルア
ルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなど
の低級アルコール類でエーテル化させ、次いで反応液を
冷却して析出する樹脂を取り出すことにより、製造する
ことができる。

【００１４】前記アルコキシメチル化アミノ樹脂の中で
は、特にアルコキシメチル化メラミン樹脂が好ましく、
このアルコキシメチル化メラミン樹脂は、常法により得
られたメチロール化メラミンのメチロール基をエーテル
化することにより得られるもので、メチロール基を平均
２．５以上、好ましくは３．５以上エーテル化したもの
が好ましい。実用上は市販されているニカラックＭｘ‐
７５０、ニカラックＭｘ‐７０６、ニカラックＭｘ‐１
０１、ニカラックＭｘ‐０３２、ニカラックＭｘ‐７０
８、ニカラックＭｘ‐４０、ニカラックＭｘ‐３１、ニ
カラックＭｓ‐１１、ニカラックＭｗ‐２２、ニカラッ
クＭｗ‐３０（以上、三和ケミカル社製）などを好まし
く使用することができる。これらは単独でも、また２種
以上を組み合わせて用いてもよい。

【００１５】次に、本発明組成物においては、（Ｂ）成
分として、（イ）一般式（Ｉ）で表わされるトリアジン
化合物、又は該（イ）成分のトリアジン化合物と（ロ）
一般式（ＩＩ）で表わされるトリアジン化合物とを組み
合わせたものが用いられる。

【００１６】前記（イ）成分の一般式（Ｉ）で表わされ
るトリアジン化合物としては、例えば２‐［２‐（３，
４‐ジメトキシフェニル）エテニル］‐４，６‐ビス
（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐
［２‐（３‐メトキシ‐４‐エトキシフェニル）エテニ
ル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５
‐トリアジン、２‐［２‐（３‐メトキシ‐４‐プロポ
キシフェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロ
メチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３‐
エトキシ‐４‐メトキシフェニル）エテニル］‐４，６
‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジ
ン、２‐［２‐（３，４‐ジエトキシフェニル）エテニ
ル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５
‐トリアジン、２‐［２‐（３‐エトキシ‐４‐プロポ
キシフェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロ
メチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３‐
プロポキシ‐４‐メトキシフェニル）エテニル］‐４，
６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジ
ン、２‐［２‐（３‐プロポキシ‐４‐エトキシフェニ
ル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）‐
１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３，４‐ジプロ
ポキシフェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロ
ロメチル）‐１，３，５‐トリアジンなどを挙げること
ができる。これらのトリアジン化合物は単独で用いても
よいし、また２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【００１７】一方、前記（イ）成分のトリアジン化合物
と、所望に応じて組み合わせて用いられる（ロ）成分の
前記一般式（ＩＩ）で表わされるトリアジン化合物とし
ては、例えば２‐（４‐メトキシフェニル）‐４，６‐
ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、
２‐（４‐エトキシフェニル）‐４，６‐ビス（トリク
ロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐（４‐プ
ロポキシフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐（４‐ブトキシフ
ェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジン、２‐（４‐メトキシナフチル）‐
４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリ
アジン、２‐（４‐エトキシナフチル）‐４，６‐ビス
（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐
（４‐プロポキシナフチル）‐４，６‐ビス（トリクロ
ロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐（４‐ブト
キシナフチル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐
１，３，５‐トリアジン、２‐（４‐メトキシ‐６‐カ
ルボキシナフチル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐（４‐メトキシ‐
６‐ヒドロキシナフチル）‐４，６‐ビス（トリクロロ
メチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（２‐
フリル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（５‐メチ
ル‐２‐フリル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロ
ロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（５
‐エチル‐２‐フリル）エテニル］‐４，６‐ビス（ト
リクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２
‐（５‐プロピル‐２‐フリル）エテニル］‐４，６‐
ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、
２‐［２‐（３，５‐ジメトキシフェニル）エテニル）
‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐ト
リアジン、２‐［２‐（３‐メトキシ‐５‐エトキシフ
ェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３‐メト
キシ‐５‐プロポキシフェニル）エテニル］‐４，６‐
ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、
２‐［２‐（３‐エトキシ‐５‐メトキシフェニル）エ
テニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３，５‐ジエトキシ
フェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３‐エト
キシ‐５‐プロポキシフェニル）エテニル］‐４，６‐
ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、
２‐［２‐（３‐プロポキシ‐５‐メトキシフェニル）
エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジン、２‐［２‐（３‐プロポキシ‐５
‐エトキシフェニル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリ
クロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐
（３，５‐ジプロポキシフェニル）エテニル］‐４，６
‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジ
ン、２‐（３，４−メチレンジオキシフェニル）‐４，
６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジ
ン、２‐［２‐（３，４‐メチレンジオキシフェニル）
エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジンなどが挙げられる。これらのトリア
ジン化合物は１種用いてもよいし、２種以上を組み合わ
せて用いてもよい。

【００１８】前記（ロ）成分のトリクロロメチル化トリ
アジン化合物の中で特に好ましいのは、２‐（４‐メト
キシフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐
１，３，５‐トリアジン、２‐［２‐（５‐メチル‐２
‐フリル）エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジン、２‐（３，４‐メチレ
ンジオキシフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチ
ル）‐１，３，５‐トリアジンであり、これらは（イ）
成分のトリアジン化合物と任意の割合で組合わされて用
いられる。

【００１９】該（イ）成分と（ロ）成分との有利な組合
せとしては、（１）（イ）成分に対し、２‐（４‐アル
コキシフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）
‐１，３，５‐トリアジンを組み合わせたもの、（２）
（イ）成分に対し、２‐（３，４‐メチレンジオキシフ
ェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジンを組み合わせたもの、（３）（イ）
成分に対し、２‐［２‐（５‐アルキル‐２‐フリル）
エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジンを組み合わせたもの、（４）（イ）
成分に対し、２‐［２‐（５‐アルキル‐２‐フリル）
エテニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジンと２‐（３，４‐メチレンジオキシ
フェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，
３，５‐トリアジンとを組み合わせた３成分から成るも
の、及び（５）（イ）成分に対し、２‐（３，４‐メチ
レンジオキシフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメ
チル）‐１，３，５‐トリアジンと２‐（４‐アルコキ
シフェニル）‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐
１，３，５‐トリアジンとを組み合わせた３成分から成
るものを挙げることができるが、これらの組合せの中で
（４）及び（５）の３成分から成るもの、特に（４）の
３成分から成るものが好適である。また、（イ）成分の
配合割合は、トリアジン化合物全体量に対して重量基準
で５０％以上含まれているのが好ましいが、（ロ）成分
に２‐（３，４‐メチレンジオキシフェニル）‐４，６
‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン
を用いた場合には、（イ）成分とこれの合計量がトリア
ジン化合物全重量に対し、５０％以上であればよい。

【００２０】本発明組成物における前記各成分の配合割
合については、（Ａ）成分のアルカリ可溶性樹脂とアル
コキシメチル化アミノ樹脂とは、重量比が６０：４０な
いし９９：１、好ましくは７５：２５ないし９８：２に
なるような割合で用いるのが望ましい。これらの樹脂成
分の割合が前記範囲を逸脱すると、（Ｂ）成分を配合し
ても高性能のレジスト組成物が得られない。

【００２１】また、（Ｂ）成分、すなわち、（イ）成分
のトリアジン化合物単独、又は（イ）成分と（ロ）成分
との組合せから成るトリアジン化合物は、前記の（Ａ）
成分に対して０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０
重量％の範囲で配合される。この配合量が０．５重量％
未満では本発明の目的が十分に達成されないし、１５重
量％を超えるとレジストのアルカリ水溶液に対する溶解
性が悪くなり、現像性が低下するため好ましくない。

【００２２】本発明組成物には、本発明の目的を損なわ
ない範囲で、必要に応じて相容性のある添加物、例えば
レジスト膜の性能などを改良するための付加的樹脂、可
塑剤、安定剤、界面活性剤、現像した像をより一層可視
的にするための着色料、また、より増感効果を向上させ
るための増感剤やハレーション防止用染料などの慣用の
添加物を含有させることができる。

【００２３】本発明組成物は、前記各成分を有機溶剤に
溶解して、溶液の形で用いるのが有利である。このよう
な有機溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、イソブチルメチルケトン、イ
ソアミルメチルケトン、１，１，１‐トリメチルアセト
ンなどのケトン類；エチレングリコール、プロピレング
リコール、ジエチレングリコール、エチレングリコール
モノアセテート又はジエチレングリコールモノアセテー
トのモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノプ
ロピルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノブチ
ルエーテル又はモノフェニルエーテルなどの多価アルコ
ール類及びその誘導体；ジオキサンのような環式エーテ
ル類；及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸
メチル、乳酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エ
チル、３‐エトキシプロピオン酸エチルなどのエステル
類を挙げることができる。これらは単独でも、また２種
以上を混合して用いてもよい。

【００２４】次に、このようにして調製されたネガ型放
射線感応性レジスト組成物の溶液を用いて、微細パター
ンを形成する方法について説明すると、まずシリコンウ
エハーのような基板上に、該レジスト組成物の溶液をス
ピンナーなどで塗布し、乾燥して放射線感応層を設けた
のち、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ ＵＶ、エキシマレーザ
ー、エックス線をマスクを介して選択的に照射するか、
電子線を走査して照射したのち、加熱処理を施し、次い
で、例えば２〜１０重量％のテトラメチルアンモニウム
ヒドロキシドやコリンなどの有機アルカリ水溶液を用い
て現像することにより非照射部分が選択的に溶解除去さ
れ、プロファイル形状に優れたレジストパターンを形成
することができる。

【００２５】

【発明の効果】本発明のネガ型放射線感応性レジスト組
成物は、解像性及びプロファイル形状に優れたレジスト
パターンを形成しうるとともに、ポストベーク時の昇華
したトリアジン化合物による処理室内壁の汚染の防止、
さらに該付着物の被処理基板表面上への落下によるエッ
チング不良やパターン不良の改善が実現され、かつ各種
放射線に対して高い感度を有するため、特に微細加工化
の進む半導体のデバイスの製造に好適に用いられる。

【００２６】

【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。なお、各例中の昇華性度は次のようにし
て評価されたものである。

【００２７】昇華性度；得られたウエハーを、１６０℃
で９０秒間ベークし、処理室内壁にトリアジン化合物の
結晶が認められるか否かを観察し、以下の基準で示し
た。 ◎： ３００枚ベーク後も結晶は認められない。 ○： ２００〜２９９枚ベーク後に結晶が認められる。 △： １００〜１９９枚ベーク後に結晶が認められる。 ×： ５０〜９９枚ベーク後に結晶が認められる。

【００２８】実施例１ ｍ‐クレゾールとｐ‐クレゾールとを重量比で７０：３
０の割合で混合し、これにホルマリンを加え、シュウ酸
触媒を用いて常法により縮合して得たクレゾールノボラ
ック樹脂（重量平均分子量６０００）２５ｇとアルコキ
シメチル化メラミン樹脂であるニカラックＭｗ‐３０
（三和ケミカル社製）を樹脂成分に対して３重量％
（０．７５ｇ）とを乳酸エチル１００ｇに溶解したの
ち、この溶液にクレゾールノボラック樹脂及びアルコキ
シメチル化メラミン樹脂の合計量に対して、２‐［２‐
（３，４‐ジメトキシフェニル）エテニル］‐４，６‐
ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジンを
３重量％の割合で加えて溶解したものを孔径０．２μｍ
のメンブランフィルターを用いて加圧ろ過することによ
りレジスト溶液を得た。

【００２９】次に、得られたレジスト溶液をヘキサメチ
ルジシラザン雰囲気中に７分間放置することで表面処理
した５インチシリコンウエハー上に、４０００ｒｐｍで
２０秒間スピンコートし、ホットプレート上で９０℃で
９０秒間乾燥することにより、１．０μｍ厚レジスト層
を形成した。次いで、形成されたレジスト層にｇ線用縮
小投影露光装置１５０５Ｇ７Ｅ（ニコン社製）により、
ｇ線を選択的に露光したのち、１１０℃で９０秒間加熱
処理を行い、次いで、２．３８重量％テトラメチルアン
モニウムヒドロキシド水溶液に２３℃で約１分間浸せき
することにより、ｇ線の非照射部分を溶解除去した後、
このウエハーをホットプレート上において１６０℃で９
０秒間ベークしてレジストパターンを得た。このレジス
トパターンは、シリコンウエハー面から垂直に切り立っ
た良好なプロファイル形状を有する０．５０μｍのレジ
ストパターンであった。また同様の操作によりウエハー
３００枚を処理したが、処理室内壁にトリアジン化合物
の結晶の析出はみられなかった。

【００３０】実施例２〜９ アルコキシメチル化アミノ樹脂の混合割合を５重量％
（１．２５ｇ）に、またトリアジン化合物の種類及び配
合量を表１に示すように変えた以外は、実施例１と同様
な操作を行い、それぞれのレジストのポストベーク時に
おける昇華性度及び感度を求めた。その結果を表１に示
す。

【００３１】

【表１】

【００３２】比較例１〜５ アルコキシメチル化アミノ樹脂の混合割合を５重量％
（１．２５ｇ）に、またトリアジン化合物の種類及び配
合量を表２に示すように変えた以外は、実施例１と同様
な操作を行い、それぞれのレジストのポストベーク時に
おける昇華性度を求めた。その結果を表２に示す。

【００３３】

【表２】

【００３４】表１及び表２において、Ｔ₁、Ｔ₂、Ｔ₃及
びＴ₄はそれぞれ次のとおりの意味を示す。 Ｔ₁：２‐（４‐メトキシフェニル）‐４，６‐ビス
（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリアジン Ｔ₂：２‐［２‐（５‐メチル‐２‐フリル）エテニ
ル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５
‐トリアジン Ｔ₃：２‐（３，４‐メチレンジオキシフェニル）‐
４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，５‐トリ
アジン Ｔ₄：２‐［２‐（３，４‐ジメトキシフェニル）エテ
ニル］‐４，６‐ビス（トリクロロメチル）‐１，３，
５‐トリアジン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 初幸 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内 (72)発明者 中山 寿昌 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 東 京応化工業株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）アルカリ可溶性樹脂とアルコキシ
   メチル化アミノ樹脂から成る樹脂成分に対し、（Ｂ）
   （イ）一般式 【化１】 （式中のＲ¹及びＲ²はそれぞれ炭素数１〜３のアルキル
   基であり、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
   い）で表わされるトリアジン化合物、又は該（イ）成分
   のトリアジン化合物と（ロ）一般式 【化２】 ［式中のＺは４‐アルコキシフェニル基、４‐アルコキ
   シナフチル基、２‐（３，５‐ジアルコキシフェニル）
   エテニル基、２‐（２‐フリル）エテニル基、２‐（５
   ‐アルキル‐２‐フリル）エテニル基、３，４‐メチレ
   ンジオキシフェニル基又は２‐（３，４‐メチレンジオ
   キシフェニル）エテニル基である］で表わされるトリア
   ジン化合物とを組み合わせたものを配合したことを特徴
   とするネガ型放射線感応性レジスト組成物。
2. 【請求項２】 （Ａ）成分中のアルカリ可溶性樹脂とア
   ルコキシメチル化アミノ樹脂との配合割合が重量比で６
   ０：４０ないし９９：１の範囲にある請求項１記載のネ
   ガ型放射線感応性レジスト組成物。
3. 【請求項３】 （Ａ）成分に対する（Ｂ）成分の配合量
   が０．５〜１５重量％の範囲にある請求項１又は２記載
   のネガ型放射線感応性レジスト組成物。