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JPH0632756A - ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法 - Google Patents

ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法

Info

Publication number
JPH0632756A
JPH0632756A JP4186747A JP18674792A JPH0632756A JP H0632756 A JPH0632756 A JP H0632756A JP 4186747 A JP4186747 A JP 4186747A JP 18674792 A JP18674792 A JP 18674792A JP H0632756 A JPH0632756 A JP H0632756A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
reaction
hydroxyphenyl
heteropolyacid
aldehyde
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4186747A
Other languages
English (en)
Inventor
Toru Inagaki
亨 稲垣
Rikio Tanioka
力夫 谷岡
Kazuo Zushi
和夫 図司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP4186747A priority Critical patent/JPH0632756A/ja
Publication of JPH0632756A publication Critical patent/JPH0632756A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【構成】 ヘテロポリ酸を酸触媒として用い、フェノー
ル類と脂肪族アルデヒド又は芳香族アルデヒドとを反応
させる一般式Iのビス(ヒドロキシフェニル)メタン類
の製造方法。 (R1はH、アルキル基又はハロゲン原子、R2はH、ア
ルキル基、アリール基又はアラールキル基) 【効果】 ヘテロポリ酸が腐食性が少なく、また活性低
下が小さく工業的に使用が容易であり、反応で副次的に
生成した水で反応速度が低下することがない。またビス
(ヒドロキシフェニル)メタン類の中でも、エポキシ樹
脂の特性を向上させるのに有用なビス(4−ヒドロキシ
フェニル)メタン類の生成量を選択的に高めることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】ビス(ヒドロキシフェニル)メタ
ン類の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類
は、一般的には、回分式反応又は連続式で、酸触媒の存
在下に過剰のフェノール類とアルデヒドを反応させて製
造されており、酸触媒として、塩酸、硫酸、リン酸等の
無機酸を用いる方法、アルミノシリケート等の固体酸を
用いる方法、シュウ酸を用いる方法、酸性イオン交換樹
脂を用いる方法などが知られている。
【0003】しかしながら、上記無機酸を用いる方法で
は、反応終了後に酸触媒を分離除去するための大規模の
精製設備が必要になるという欠点があり、またこれらの
無機酸は、腐食性を有するので、製造装置に耐蝕性が高
いものを用いなければならないという問題点があった。
酸触媒としてシュウ酸を用いる方法では、腐食性を有す
るという問題に加え、ビス(ヒドロキシフェニル)メタ
ン類の中でも、エポキシ樹脂の特性を向上させるのに有
用なビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン類の生成量
が低いという欠点があった。
【0004】固体酸を用いる方法、例えば特開昭63−
115803号公報に記載された高シリカゼオライトを
用いる方法では、触媒が低活性で失活も顕著であり、ま
た高分子量の生成物が多いという欠点があった。酸性イ
オン交換樹脂を用いる方法、例えば特公昭36−233
34号公報に記載された方法では、触媒寿命が短く、し
かも、得られるビス(ヒドロキシフェニル)メタンと等
モル生成する水が、触媒機能を急激に低下させるという
欠点があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フェ
ノール類とアルデヒドを反応させてビス(ヒドロキシフ
ェニル)メタン類を製造するに際し、特殊な耐食性の反
応装置を用いなくてもよく、有用なビス(4−ヒドロキ
シフェニル)メタン類を主生成物として得ることができ
るビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法を提
供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、ヘテロポリ酸
を酸触媒として用い、フェノール類と脂肪族アルデヒド
又は芳香族アルデヒドとを反応させることを特徴とする
次式(I):
【0007】
【化2】
【0008】(式中、R1 は、それぞれ水素原子、アル
キル基又はハロゲン原子を表し、R2は水素原子、アル
キル基又はアリール基又はアラールキル基を表す)で示
されるビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法
である。
【0009】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
得られるビス(ヒドロキシフェニル)メタン類は、上記
式(I)で示され、R2 のアルキル基としては、メチ
ル、エチル、プロピル等を挙げることができ、アリール
基としては、フェニル基又はアルキル、ハロゲン等の置
換基を有するフェニル基を挙げることができ、アラルキ
ル基としてはベンジル等を挙げることができる。
【0010】本発明に用いるヘテロポリ酸としては、モ
リブデン、タングステン、ニオブ及びバナジウムからな
る群より選択された少なくとも1種の酸化物と、リン、
ケイ素、ヒ素又はゲルマニウムの酸素酸が縮合した酸で
あり、酸素酸に対する酸化物のモル比が、2.5〜12
のものが好ましい。具体例としては、リンタングステン
酸、リンモリブデン酸、リンモリブドタングステン酸、
リンモリブドバナジン酸、リンモリブドニオブ酸、ケイ
タングステン酸、ケイモリブデン酸、ケイモリブドタン
グステン酸、ケイモリブドタングストバナジン酸、ゲル
マニウムタングステン酸、ヒ素モリブデン酸、ヒ素タン
グステン酸等を挙げることができ、中でも好ましいの
は、リンタングステン酸、ケイタングステン酸、リンモ
リブデン酸である。このようなヘテロポリ酸は、還元状
態でもよく、また結晶水の有無は問わない。
【0011】ヘテロポリ酸の使用量は、後述するアルデ
ヒド1モルに対し、0.001〜1モルが好ましく、さ
らに好ましくは0.001〜0.3モルである。ヘテロ
ポリ酸の使用量が0.001未満のときには、反応速度
が遅くなる場合があり、1モルを超えても増加分に見合
う効果を奏しない場合がある。
【0012】本発明に用いるフェノール類としては、ヒ
ドロキシル基に対してパラ位に置換基を有しない限り特
に制限はなく、例えばフェノール、及びオルト位及び/
又はメタ位に置換基を有するフェノール誘導体を挙げる
ことができる。置換基としては、アルキル基、ハロゲン
原子等を挙げることができる。中でも好ましいのは、フ
ェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、o−クロ
ロフェノール、m−クロロフェノール、2,6−キシレ
ノールである。
【0013】フェノール類の使用量は、後述するアルデ
ヒド1モルに対し、2〜50モル、好ましくは5〜30
モルである。使用量が2モル未満のときには、高分子量
の生成物の量が増加する場合があり、50モルを超える
ときには、使用量の増加分に見合う、高分子量生成物の
生成を抑制する効果を奏しない場合がある。本発明に用
いるアルデヒドとしては、脂肪族又は芳香族アルデヒド
を用いることができる。
【0014】脂肪族アルデヒドとしては、ホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチ
ルアルデヒド等を挙げることができ、中でもホルムアル
デヒド、アセトアルデヒドが好ましい。芳香族アルデヒ
ドとしては、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、クロ
ロベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド等を挙
げることができ、中でもベンズアルデヒドが好ましい。
【0015】本発明の製造方法は、ヘテロポリ酸の存在
下に、フェノール類とアルデヒドを反応させる。また反
応に際しては、溶媒を使用してもよい。溶媒としては、
例えば、酢酸等の有機酸、酢酸エチル等のエステル類、
アセトニトリル等のニトリル類、テトラヒドロフランや
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類及
び水などの不活性溶媒を挙げることができる。中でも、
有機酸、エスエル類及びニトリル類は、ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)メタン類の生成率を高めることができ
るので好ましい。溶媒の使用量は、10〜90重量%が
好ましい。
【0016】反応圧力は、常圧〜5気圧が好ましい。反
応温度は、15〜120℃、好ましくは25〜60℃で
ある。反応温度が、15℃未満のときには、触媒の活性
が低下する場合があり、また、溶媒を用いない場合に
は、フェノール類が固化し、反応速度が低下する場合が
あるので好ましくない。また120℃を超えるときに
は、2−ヒドロキシフェニル−4−ヒドロキシフェニル
メタンやビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン等が生
成し、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタンの生成率
が低下する場合があるので好ましくない。
【0017】反応時間は、触媒量、反応時間及び後述す
る反応形式により、一概に決定できないが、例えば、撹
拌槽型の回分反応の場合には、0.02〜10時間が好
ましい。反応形式としては、槽型、塔型等の一般的なも
のでよく、また回分式、連続式のいずれの形式をも使用
できる。このように反応させた後、反応混合物から触媒
を分離除去した後、常法によりビス(ヒドロキシフェニ
ル)メタン類を回収する。
【0018】触媒を除去する方法としては、例えば、水
を用いて抽出する方法を挙げることができる。ビス(ヒ
ドロキシフェニル)メタン類を回収する方法としては、
例えば、フェノール類、低沸点生成物及び水等を蒸留分
離し、粗ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類を回収
し、次いで、蒸留、晶析、クロマトグラフィー等の公知
の方法により精製する方法を挙げることができる。
【0019】
【実施例】
実施例1 50ml容ガラス製三つ口丸底フラスコに、37%ホルマ
リン0.82g (ホルムアルデヒドとして10mmol含
有)、蒸留水1.07g 及びフェノール18.8g (2
00mmol)を投入し、撹拌しながら25℃、窒素雰囲気
下で、リンタングステン酸(H3PW12O40・21H2O )2.4
7g (0.759mmol)を添加した。さらに30分撹拌
した後、得られた混合物の生成物を分析し、用いたホル
ムアルデヒド基準の生成物の収率を求めた。収率を表1
に示す。以下、表中において、ビス(2−ヒドロキシフ
ェニル)メタンをo,o´体と、2−ヒドロキシフェニ
ル−4−ヒドロキシフェニルメタンをo,p´体と、ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)メタンをp,p´体と略
記する。
【0020】比較例1 リンタングステン酸に代えて、35%塩酸0.24g
(2.3mmol)を用いた他は、実施例1と同様にして反
応させた。生成物の収率を表1に示す。
【0021】
【表1】
【0022】実施例2 100ml容ガラス製三つ口丸底フラスコに、37%ホル
マリン1.51g (ホルムアルデヒドとして18.6mm
ol含有)、フェノール49.8g (529mmol)、
リンモリブデン酸(HPMo1240・29H
O)0.051g (0.022mmol)を投入し、反応
容器を、100℃の油浴中に設置し、撹拌しながら還流
温度(93℃)まで加熱し、2時間反応させた。反応終
了後、実施例1と同様にして生成物の収率を求めた。収
率を表2に示す。
【0023】比較例2 リンモリブデン酸に代えて、シュウ酸2水和物0.15
g (1.2mmol)を用いた他は、実施例2と同様にして
反応させた。生成物の収率を表2に示す。
【0024】比較例3 リンモリブデン酸に代えて、高シリカゼオライト0.5
0g を用いた他は、実施例2と同様にして反応させた。
生成物の収率を表2に示す。なお、高シリカゼオライト
は、特開昭63−115803号公報に記載された方法
で合成した。ゼオライトの組成は、SiO2/Al2O3 /B2O3
=1/0.0073/0.0098であり、酸量が1.
0mmol/g 、比表面積が365m2/g であった。
【0025】
【表2】
【0026】実施例3 実施例1と同様の反応容器に、37%ホルマリン0.7
6g (ホルムアルデヒドとして9.4mmol含有)、蒸留
水1.53g 、フェノール25.4g (270mmol)及
びリンタングステン酸(H3PW12O40・21H2O )0.022
g (0.0068mmol)を添加した。これを25℃で6
時間撹拌した後、生成物の収率を求めた。収率を表3に
示す。
【0027】実施例4 リンタングステン酸に代えて、ケイタングステン酸(H4
SiW12O40・24H2O)0.016g (0.0048mmol)を
用いた他は、実施例3と同様にして反応させた。生成物
の収率を表3に示す。
【0028】実施例5 リンタングステン酸に代えて、リンモリブデン酸(H3PM
o12O40・29H2O)0.016g (0.0066mmol)を用
いた他は、実施例3と同様にして反応させた。生成物の
収率を表3に示す。
【0029】
【表3】
【0030】実施例6 実施例1と同様の反応容器に、95%パラホルムアルデ
ヒド0.316g (10.0mmol)及びフェノール1
8.85g (200mmol)を投入し、これを油浴で50
℃に加熱した後、リンタングステン酸(H3PW12O40・25H2
O )0.06mmolを添加し、1時間撹拌した。反応終了
後、実施例1と同様に生成物の収率を求めた。収率を表
4に示す。
【0031】実施例7〜10 表4に示すアルデヒド10mmolとフェノール類200mm
olを用いた他は、実施例6と同様にして反応させた。反
応終了後、実施例1と同様に生成物の収率を求めた。収
率を表4に示す。
【0032】
【表4】
【0033】実施例11 溶媒として酢酸エチル10mlを用い、反応温度を25℃
とした他は、実施例6と同様にして反応させた。反応終
了後、実施例1と同様に生成物の収率を求めた。収率を
表5に示す。
【0034】比較例4 リンタングステン酸に代えて、35%塩酸0.19g
(0.18mmol)を用い、反応時間を3時間とした他
は、実施例6と同様にして反応させた。生成物の収率を
表5に示す。
【0035】比較例5 リンタングステン酸に代えて、シュウ酸2水和物0.1
13g (0.090mmol)を用いた他は、実施例6と同
様にして反応させた。生成物の収率を表5に示す。
【0036】
【表5】
【0037】
【発明の効果】本発明の製造方法は、ヘテロポリ酸が腐
食性が少なく、また活性低下が小さく工業的に使用が容
易であり、反応で副次的に生成した水で反応速度が低下
することがない。またビス(ヒドロキシフェニル)メタ
ン類の中でも、エポキシ樹脂の特性を向上させるのに有
用なビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン類の生成量
を選択的に高めることができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ヘテロポリ酸を酸触媒として用い、フェ
    ノール類と脂肪族アルデヒド又は芳香族アルデヒドとを
    反応させることを特徴とする次式(I): 【化1】 (式中、R1 は、それぞれ水素原子、アルキル基又はハ
    ロゲン原子を表し、R2は水素原子、アルキル基、アリ
    ール基又はアラールキル基を表す)で示されるビス(ヒ
    ドロキシフェニル)メタン類の製造方法。
JP4186747A 1992-07-14 1992-07-14 ビス(ヒドロキシフェニル)メタン類の製造方法 Pending JPH0632756A (ja)

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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0452504A1 (en) * 1989-11-06 1991-10-23 KOHJIN CO. Ltd. N-(3',4'-dimethoxycinnamoyl)anthranilic acid
JP2007197368A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Taoka Chem Co Ltd フルオレン誘導体の製造方法
JPWO2010134559A1 (ja) * 2009-05-19 2012-11-12 本州化学工業株式会社 トリスフェノール類及びそのモノエステル置換体の製造方法及び4−アシルアラルキルフェノール誘導体
US9152052B2 (en) 2011-08-11 2015-10-06 Merck Patent Gmbh Composition for forming tungsten oxide film and method for producing tungsten oxide film using same
US9201305B2 (en) 2013-06-28 2015-12-01 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Spin-on compositions of soluble metal oxide carboxylates and methods of their use
US9296922B2 (en) 2013-08-30 2016-03-29 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds as hardmasks and filling materials, their compositions and methods of use
US9315636B2 (en) 2012-12-07 2016-04-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds, their compositions and methods
US9409793B2 (en) * 2014-01-14 2016-08-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Spin coatable metallic hard mask compositions and processes thereof
US9418836B2 (en) 2014-01-14 2016-08-16 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Polyoxometalate and heteropolyoxometalate compositions and methods for their use
JP2019085399A (ja) * 2017-11-02 2019-06-06 三菱ケミカル株式会社 ビスフェノール化合物の製造方法
JP2020176109A (ja) * 2019-04-22 2020-10-29 三菱ケミカル株式会社 ビスフェノール化合物の製造方法
US11042091B2 (en) 2017-09-06 2021-06-22 Merck Patent Gmbh Spin-on inorganic oxide containing composition useful as hard masks and filling materials with improved thermal stability
CN115746923A (zh) * 2022-10-21 2023-03-07 中国科学院广州能源研究所 一种木质素衍生物制备航空燃料的方法

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0452504A1 (en) * 1989-11-06 1991-10-23 KOHJIN CO. Ltd. N-(3',4'-dimethoxycinnamoyl)anthranilic acid
JP2007197368A (ja) * 2006-01-26 2007-08-09 Taoka Chem Co Ltd フルオレン誘導体の製造方法
JP4671235B2 (ja) * 2006-01-26 2011-04-13 田岡化学工業株式会社 フルオレン誘導体の製造方法
JPWO2010134559A1 (ja) * 2009-05-19 2012-11-12 本州化学工業株式会社 トリスフェノール類及びそのモノエステル置換体の製造方法及び4−アシルアラルキルフェノール誘導体
JP5719292B2 (ja) * 2009-05-19 2015-05-13 本州化学工業株式会社 トリスフェノール類及びそのモノエステル置換体の製造方法及び4−アシルアラルキルフェノール誘導体
JP2015120737A (ja) * 2009-05-19 2015-07-02 本州化学工業株式会社 トリスフェノール類及びそのモノエステル置換体の製造方法及び4−アシルアラルキルフェノール誘導体
US9090547B2 (en) 2009-05-19 2015-07-28 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. Method for producing trisphenols and monoester-substituted products thereof, and 4-acylaralkylphenol derivatives
US9567281B2 (en) 2009-05-19 2017-02-14 Honshu Chemical Industry Co., Ltd. 4-acylaralkylphenols and derivatives thereof
US9152052B2 (en) 2011-08-11 2015-10-06 Merck Patent Gmbh Composition for forming tungsten oxide film and method for producing tungsten oxide film using same
US9315636B2 (en) 2012-12-07 2016-04-19 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds, their compositions and methods
US9201305B2 (en) 2013-06-28 2015-12-01 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Spin-on compositions of soluble metal oxide carboxylates and methods of their use
US9296922B2 (en) 2013-08-30 2016-03-29 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Stable metal compounds as hardmasks and filling materials, their compositions and methods of use
US9409793B2 (en) * 2014-01-14 2016-08-09 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Spin coatable metallic hard mask compositions and processes thereof
US9418836B2 (en) 2014-01-14 2016-08-16 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Polyoxometalate and heteropolyoxometalate compositions and methods for their use
US11042091B2 (en) 2017-09-06 2021-06-22 Merck Patent Gmbh Spin-on inorganic oxide containing composition useful as hard masks and filling materials with improved thermal stability
JP2019085399A (ja) * 2017-11-02 2019-06-06 三菱ケミカル株式会社 ビスフェノール化合物の製造方法
JP2020176109A (ja) * 2019-04-22 2020-10-29 三菱ケミカル株式会社 ビスフェノール化合物の製造方法
CN115746923A (zh) * 2022-10-21 2023-03-07 中国科学院广州能源研究所 一种木质素衍生物制备航空燃料的方法

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