JPH05129369A - 接着材層厚の規制構造 - Google Patents
接着材層厚の規制構造Info
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- JPH05129369A JPH05129369A JP31989691A JP31989691A JPH05129369A JP H05129369 A JPH05129369 A JP H05129369A JP 31989691 A JP31989691 A JP 31989691A JP 31989691 A JP31989691 A JP 31989691A JP H05129369 A JPH05129369 A JP H05129369A
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- Japan
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/303—Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板上に接着材を介して電子部品を接着実装
するときに、容易に接着材層の厚さを規制できるように
する。 【構成】 基板5上に形成されたソルダレジスト層21
の一部に、基板5に接着実装するICチップ4の実装面
に当接する突起部21aを形成し、接着材12の層の厚
さを規制する。
するときに、容易に接着材層の厚さを規制できるように
する。 【構成】 基板5上に形成されたソルダレジスト層21
の一部に、基板5に接着実装するICチップ4の実装面
に当接する突起部21aを形成し、接着材12の層の厚
さを規制する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板上に接着材を介し
て電子部品を接着実装するときに、接着材層の厚さを規
制する接着材層厚の規制構造に関する。
て電子部品を接着実装するときに、接着材層の厚さを規
制する接着材層厚の規制構造に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器におけるICの実装方法の1つ
として、多極のICを高密度実装するのに好適で、小型
化、薄型化に有利なTAB実装技術がある。図5及び図
6に従来のTAB実装構造の一例を示す。図3に示すよ
うに4方向にそれぞれ複数本の銅箔などのリード1が形
成されたキャリアテープ2によって、ICチップと基板
とが接続される。キャリアテープ2の中心にはICチッ
プが装着される角孔2aが形成されており、角孔2a内
にリード1のインナリード1aが突出している。またキ
ャリアテープ2の角孔2aの4方向の外側には、それぞ
れ長孔2bが形成されており、リード1のアウタリード
1bは長孔2bの外側に延設されている。そしてアウタ
リード1bの外側の端部にはそれぞれテストパッド3が
設けられている。
として、多極のICを高密度実装するのに好適で、小型
化、薄型化に有利なTAB実装技術がある。図5及び図
6に従来のTAB実装構造の一例を示す。図3に示すよ
うに4方向にそれぞれ複数本の銅箔などのリード1が形
成されたキャリアテープ2によって、ICチップと基板
とが接続される。キャリアテープ2の中心にはICチッ
プが装着される角孔2aが形成されており、角孔2a内
にリード1のインナリード1aが突出している。またキ
ャリアテープ2の角孔2aの4方向の外側には、それぞ
れ長孔2bが形成されており、リード1のアウタリード
1bは長孔2bの外側に延設されている。そしてアウタ
リード1bの外側の端部にはそれぞれテストパッド3が
設けられている。
【0003】上記のキャリアテープ2の中央の角孔2a
内にICチップ4を装着し、ICチップ4の各ピンとイ
ンナリード1aの内側の一端とをそれぞれ接続する。次
にテストパッド3によりICチップ4及びその接続状態
を検査したのち、長孔2bの外側のキャリアテープ2を
切り捨てる。その後図6に示すようにアウタリード1b
の外側の一端をそれぞれ基板5に形成された配線用銅パ
ターン6に接続する。次にインナリード1aとICチッ
プ4との接続部をインナコート樹脂7により被覆する。
なおインナコート樹脂7は図6に示すようにICチップ
4の上面を全面被覆してもよく、接続部のみを被覆して
もよい。
内にICチップ4を装着し、ICチップ4の各ピンとイ
ンナリード1aの内側の一端とをそれぞれ接続する。次
にテストパッド3によりICチップ4及びその接続状態
を検査したのち、長孔2bの外側のキャリアテープ2を
切り捨てる。その後図6に示すようにアウタリード1b
の外側の一端をそれぞれ基板5に形成された配線用銅パ
ターン6に接続する。次にインナリード1aとICチッ
プ4との接続部をインナコート樹脂7により被覆する。
なおインナコート樹脂7は図6に示すようにICチップ
4の上面を全面被覆してもよく、接続部のみを被覆して
もよい。
【0004】しかしながら上記のように構成された従来
のTAB実装構造によると、ICチップ4の下面と基板
5とは直接接触しておらず、その間に熱伝導率の悪い空
気層が存在する。このためICチップ4から基板5への
放熱は銅箔のリード1を介してわずかに行なわれるだけ
であり、放熱性が悪いという問題があった。この問題を
解決するために本発明者らは図7に示すようなTAB実
装構造を提案した。すなわち、基板5の表面でICチッ
プ4に対向する部分に放熱用銅パターン11を設け、I
Cチップ4の下面と放熱用銅パターン11との間に熱伝
導性接着材12を充填した。
のTAB実装構造によると、ICチップ4の下面と基板
5とは直接接触しておらず、その間に熱伝導率の悪い空
気層が存在する。このためICチップ4から基板5への
放熱は銅箔のリード1を介してわずかに行なわれるだけ
であり、放熱性が悪いという問題があった。この問題を
解決するために本発明者らは図7に示すようなTAB実
装構造を提案した。すなわち、基板5の表面でICチッ
プ4に対向する部分に放熱用銅パターン11を設け、I
Cチップ4の下面と放熱用銅パターン11との間に熱伝
導性接着材12を充填した。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図7に示すTAB実装
構造において、ICチップ4を構成するSiの熱膨張係
数は3乃至4ppm/℃であり、基板5を構成する例え
ばガラエボ樹脂の熱膨張係数は12乃至16ppm/℃
であって、約3乃至4倍と異なる。すなわちICチップ
4を接着材12により基板5に接着するときに、図8に
示すようにICチップ4が矢印Aで示す大きさの熱膨張
をするときに、基板5は矢印Bで示す大きさの熱膨張を
する。この結果熱膨張の差により機械的なストレスが発
生し、薄くて脆いICチップ4にひび割れが発生するお
それがあった。
構造において、ICチップ4を構成するSiの熱膨張係
数は3乃至4ppm/℃であり、基板5を構成する例え
ばガラエボ樹脂の熱膨張係数は12乃至16ppm/℃
であって、約3乃至4倍と異なる。すなわちICチップ
4を接着材12により基板5に接着するときに、図8に
示すようにICチップ4が矢印Aで示す大きさの熱膨張
をするときに、基板5は矢印Bで示す大きさの熱膨張を
する。この結果熱膨張の差により機械的なストレスが発
生し、薄くて脆いICチップ4にひび割れが発生するお
それがあった。
【0006】この問題を解決する方法として、弾力性の
ある接着材を用いて機械的ストレスを吸収する方法が考
えられる。この場合は接着材層はある一定以上の厚さが
必要であり、他に問題がなければ厚い程よい。絶縁性の
ある接着材を用い、絶縁耐圧を確保する場合にも、同様
に接着材層は厚い程よい。逆に導電性接着材などを用い
て導電接着する場合には、一般的には電気抵抗をより低
くしたいので、接着材層は薄い程よい。また図7に示す
TAB実装の場合も、放熱性をよくするためには接着材
層をより薄くすることが効果的である。
ある接着材を用いて機械的ストレスを吸収する方法が考
えられる。この場合は接着材層はある一定以上の厚さが
必要であり、他に問題がなければ厚い程よい。絶縁性の
ある接着材を用い、絶縁耐圧を確保する場合にも、同様
に接着材層は厚い程よい。逆に導電性接着材などを用い
て導電接着する場合には、一般的には電気抵抗をより低
くしたいので、接着材層は薄い程よい。また図7に示す
TAB実装の場合も、放熱性をよくするためには接着材
層をより薄くすることが効果的である。
【0007】上述したように、機械的ストレスを吸収さ
せるためには接着材層は厚い程よく、放熱性をよくする
ためには薄い程よい。従って両者を同時に満足させるた
めには、接着材層の厚さをある一定範囲に規制する必要
がある。このような場合、従来は棒状やシート状などの
所定の形状をしたスペーサを被接着部材間に挟んで接着
を行なっていた。しかしながら接着材層の厚さを極く薄
くしたい場合には、このような方法で厚さ規制を行なう
ことは困難であった。従って半導体などのマイクロ・エ
レクトロニクス分野には応用できなかった。
せるためには接着材層は厚い程よく、放熱性をよくする
ためには薄い程よい。従って両者を同時に満足させるた
めには、接着材層の厚さをある一定範囲に規制する必要
がある。このような場合、従来は棒状やシート状などの
所定の形状をしたスペーサを被接着部材間に挟んで接着
を行なっていた。しかしながら接着材層の厚さを極く薄
くしたい場合には、このような方法で厚さ規制を行なう
ことは困難であった。従って半導体などのマイクロ・エ
レクトロニクス分野には応用できなかった。
【0008】本発明は、このような状況に鑑みてなされ
たもので、基板上に接着材を介して電子部品を接着実装
するときに、容易に接着材層の厚さを規制することので
きる接着材層厚の規制構造を提供することを目的とす
る。
たもので、基板上に接着材を介して電子部品を接着実装
するときに、容易に接着材層の厚さを規制することので
きる接着材層厚の規制構造を提供することを目的とす
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の接着材層厚の規
制構造は、被覆層であるソルダレジスト層21や記号印
刷層31が形成された基板5面に電子部品であるICチ
ップ4を接着実装する接着材厚の規制構造において、被
覆層21,31の一部にICチップ4の実装面に当接す
る突起部21a,31aを形成したこと特徴とする。
制構造は、被覆層であるソルダレジスト層21や記号印
刷層31が形成された基板5面に電子部品であるICチ
ップ4を接着実装する接着材厚の規制構造において、被
覆層21,31の一部にICチップ4の実装面に当接す
る突起部21a,31aを形成したこと特徴とする。
【0010】
【作用】上記構成の接着材層厚の規制構造においては、
基板5を被覆するソルダレジスト層21や記号印刷層3
1の一部に所定の高さの突起部21a,31aを形成す
ることにより、基板5とICチップ4の実装面との間隔
が一定となり、その間に充填される接着材層の厚さを一
定にすることができる。
基板5を被覆するソルダレジスト層21や記号印刷層3
1の一部に所定の高さの突起部21a,31aを形成す
ることにより、基板5とICチップ4の実装面との間隔
が一定となり、その間に充填される接着材層の厚さを一
定にすることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の接着材層厚の規制構造の一実
施例を図面を参照して説明する。
施例を図面を参照して説明する。
【0012】図1及び図2に本発明の一実施例の構成を
示す。これらの図において、図7に示す従来例の部分と
対応する部分には同一の符号を付してあり、その説明は
適宜省略する。基板5、配線用銅パターン6及び放熱用
銅パターン11のそれぞれの一部の上面には、所定のパ
ターンでソルダレジスト層21が形成されており、ソル
ダレジスト層21にはICチップ4の下面に当接する複
数個の円形の突起部21aが一体に形成されている。突
起部21aの放熱用銅パターン11上の高さは通常20
乃至40μmである。
示す。これらの図において、図7に示す従来例の部分と
対応する部分には同一の符号を付してあり、その説明は
適宜省略する。基板5、配線用銅パターン6及び放熱用
銅パターン11のそれぞれの一部の上面には、所定のパ
ターンでソルダレジスト層21が形成されており、ソル
ダレジスト層21にはICチップ4の下面に当接する複
数個の円形の突起部21aが一体に形成されている。突
起部21aの放熱用銅パターン11上の高さは通常20
乃至40μmである。
【0013】本実施例によれば、突起部21aはソルダ
レジスト層21を印刷法または写真法で形成するとき
に、同時に寸法及び及び位置の精度を高くして一体に形
成することができる。従って工数が増えることはない。
そして突起部21aが形成された部分の基板5上に接着
材12を塗布した後、ICチップ4を接着材12上に置
いて突起部21aに当るまで押し付けることにより、接
着材12の層の厚さを一定に規制することができる。こ
の結果ICチップ4から基板5への放熱性をよくすると
ともに、熱膨張率の差による機械的ストレスを吸収する
ことができる。
レジスト層21を印刷法または写真法で形成するとき
に、同時に寸法及び及び位置の精度を高くして一体に形
成することができる。従って工数が増えることはない。
そして突起部21aが形成された部分の基板5上に接着
材12を塗布した後、ICチップ4を接着材12上に置
いて突起部21aに当るまで押し付けることにより、接
着材12の層の厚さを一定に規制することができる。こ
の結果ICチップ4から基板5への放熱性をよくすると
ともに、熱膨張率の差による機械的ストレスを吸収する
ことができる。
【0014】上記実施例では突起部21aの形状が円形
である場合について説明したが、円形に限定されるもの
ではなく、例えば楕円、角、線、帯状などであってもよ
い。なお突起部21aの形状を図3に示すように帯状と
し、放射状に設けると、接着材12をICチップ4で押
しつける場合に、余剰の接着材12が外周に流れやすく
なる。
である場合について説明したが、円形に限定されるもの
ではなく、例えば楕円、角、線、帯状などであってもよ
い。なお突起部21aの形状を図3に示すように帯状と
し、放射状に設けると、接着材12をICチップ4で押
しつける場合に、余剰の接着材12が外周に流れやすく
なる。
【0015】図4に本発明の他の実施例の構成を示す。
図4において図1に示す実施例の部分と対応する部分に
は同一の符号を付してあり、その説明は適宜省略する。
本実施例はソルダレジスト層21上にシルク印刷などで
文字や数字の記号印刷層31を重ねて形成した場合であ
る。この場合もICチップ4の下面に当接する複数個の
突起部31aが記号印刷層31と一体に形成されてい
る。このときの突起部31a放熱用銅パターン11上の
高さは通常20乃至50μmである。
図4において図1に示す実施例の部分と対応する部分に
は同一の符号を付してあり、その説明は適宜省略する。
本実施例はソルダレジスト層21上にシルク印刷などで
文字や数字の記号印刷層31を重ねて形成した場合であ
る。この場合もICチップ4の下面に当接する複数個の
突起部31aが記号印刷層31と一体に形成されてい
る。このときの突起部31a放熱用銅パターン11上の
高さは通常20乃至50μmである。
【0016】本実施例によっても前述した実施例と同様
の効果を得ることができる。
の効果を得ることができる。
【0017】なお電子部品及び被覆層は上記各実施例に
示したものに限定されない。
示したものに限定されない。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の接着材層
厚の規制構造によれば、基板面に形成された被覆層の一
部に、電子部品の実装面に当接する突起部を形成したの
で、基板上に接着材を介して電子部品を接着実装すると
きに、容易に接着材層の厚さを規制することができる。
厚の規制構造によれば、基板面に形成された被覆層の一
部に、電子部品の実装面に当接する突起部を形成したの
で、基板上に接着材を介して電子部品を接着実装すると
きに、容易に接着材層の厚さを規制することができる。
【図1】本発明の接着材層厚の規制構造の一実施例の構
成を示す縦断面図
成を示す縦断面図
【図2】図1の突起部の形状の一例を示す平面図
【図3】図1の突起部の形状の他の一例を示す平面図
【図4】本発明の他の実施例の構成を示す縦断面図
【図5】TAB実装法に用いるキャリアテープの一例の
構成を示す平面図
構成を示す平面図
【図6】従来のTAB実装構造の一例の構成を示す縦断
面図
面図
【図7】改良されたTAB実装構造の一例の構成を示す
縦断面図
縦断面図
【図8】被接着部材の熱膨張の差の一例を示す説明図
4 ICチップ(電子部品) 5 基板 12 接着材 21 ソルダレジスト層(被覆層) 21a 突起部 31 記号印刷層(被覆層) 31a 突起部
Claims (1)
- 【請求項1】 被覆層が形成された基板面に電子部品を
接着実装する接着材層厚の規制構造において、前記被覆
層の一部に前記電子部品の実装面に当接する突起部を形
成したことを特徴とする接着材層厚の規制構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31989691A JPH05129369A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 接着材層厚の規制構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31989691A JPH05129369A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 接着材層厚の規制構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05129369A true JPH05129369A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18115445
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31989691A Pending JPH05129369A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | 接着材層厚の規制構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05129369A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007214291A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Fujitsu Ltd | フリップチップ実装方法 |
-
1991
- 1991-11-07 JP JP31989691A patent/JPH05129369A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007214291A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Fujitsu Ltd | フリップチップ実装方法 |
JP4659634B2 (ja) * | 2006-02-08 | 2011-03-30 | 富士通株式会社 | フリップチップ実装方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20001225 |