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JP6385383B2 - 銅合金板材および銅合金板材の製造方法 - Google Patents

銅合金板材および銅合金板材の製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、析出型銅合金板材およびその製造方法に関するものであり、コネクタ、リードフレーム、ピン、リレー、スイッチなどの各種電子部品に用いるのに好適なCu−Ni−Si系合金板材およびその製造方法に関する。
近年のスマートフォン等の民生電子機器の軽薄短小化の市場要請に伴い、これらの電子機器に内在されるコネクタ、リードフレーム、ピン、リレー、スイッチなどの各種電子部品に用いられる電子材料用銅合金板材の小型化・薄肉化は急激に進んでいる。そのため、電子材料用銅合金板材に要求される材料特性は厳しさを増しており、電子部品の組立時や作動時に付与される応力に耐える高い強度、通電時にジュール熱の発生が少ない高い導電率、加工時にクラックの発生しない良好な曲げ加工性などの材料特性の両立が求められている。具体的には、0.2%耐力(圧延平行方向(RD))が800MPa以上、導電率が43.5%IACS以上、圧延平行方向(GW)および圧延直角方向(BW)の180度曲げ加工性がR/t=0を両立した電子材料用銅合金板材の市場ニーズが大きい。
これらの特性に加え、昨今では0.2%耐力の圧延平行方向(RD)と圧延直角方向(TD)の差(所謂強度異方性)が小さい(40MPa以下の)材料特性が求められている。これは、電子材料用銅合金製造メーカーの直接の顧客となるプレス加工メーカーにおいて、歩留向上のためにピンやコネクタの長手方向が銅合金材料の圧延方向に直角になるようにプレス加工することが多く、圧延直角方向の強度が電子部品の接圧や疲労特性に影響するためである。
しかし、これらの強度・導電率・曲げ・強度異方性の間には一般にトレードオフの関係が認められている。たとえば、強度と導電率の間にはトレードオフの関係があり、従来のりん青銅や黄銅、洋白などに代表される固溶硬化型銅合金板材ではこれらの要求レベルを同時に満たすことができない。近年はこの要求レベルを同時に満たすことができるCu−Ni−Si系合金(所謂コルソン合金)などの析出型銅合金板材が多用されており、この銅合金は、溶体化処理された過飽和固溶体を時効処理することにより、微細な析出物が均一に分散して、合金の強度および導電率を同時に向上することができる。
高い強度・高い導電率を達成することができるCu−Ni−Si系合金においても、それらの特性を維持したまま曲げ性・強度異方性を良好にするのは容易ではない。一般に銅合金板材は、上述した強度と導電率の間のトレードオフの関係の他に、強度と曲げ加工性の間にもトレ−ドオフの関係がある。そのため、時効処理後の圧延加工度を高くする方法や、溶質元素NiやSiの添加量を多くする方法を取ると曲げ加工性は大幅に低下する傾向がある。また、強度と強度異方性の間にもトレードオフの関係があり、強度を上昇させるために仕上圧延の加工度を高くする方法を取ると強度異方性が大きくなる傾向がある。そのため、これらの4種の特性を兼備することは極めて困難であり、銅合金材料の大きな課題となっている。
近年、Cu−Ni−Si系合金においてこれらの各種材料特性を兼備する方法として、結晶方位や析出物、転位密度などを制御する方法が提案されている。たとえば、特許文献1は、中間焼鈍条件と溶体化処理条件を適切に制御し、{200}結晶面(所謂Cube方位)の割合および焼鈍双晶の密度を高めることにより、高い強度、高い導電率、良好な曲げ加工性の両立を達成する方法を提案している。また、特許文献2は、溶体化処理条件と時効処理条件を適切に制御し、仕上圧延加工度を低く抑えて、析出物密度と結晶粒径を最適化することにより、良好な曲げ加工性および小さい強度異方性を兼備する方法を提案している。また、特許文献3は、圧延加工度と溶体化処理の昇温速度を制御することにより、{200}結晶面と転位密度を制御し、仕上圧延加工度を高くしても{200}結晶面を残存させ、高い強度・高い導電率・良好な曲げ性・良好な強度異方性を両立する方法を提案している。
特開2010−275622号公報 特開2008−24999号公報 特開2011−162848号公報
しかし、特許文献1の製造方法では、強度異方性について一切考慮していないため、強度異方性の小さい材料を製造することができない。
また、特許文献2の方法では、強度異方性を小さくするために仕上圧延時の加工度を30%以下に抑えているために強度水準が低く、0.2%耐力(圧延平行方向)が800MPa以上の市場要求を満たすことができない。特許文献3の方法においても0.2%耐力(圧延平行方向)が800MPa以下であり、導電率も43.5%IACSを下回っているため、市場ニーズを満たすことができない。
本発明は、このような現状に鑑み、強度と導電率および曲げ加工性を高い水準で維持したまま、強度異方性を小さくすることが可能な銅合金板材およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記の課題を解決するために詳細な研究を行った結果、CoおよびCrを含有するCu−Ni−Si系合金により達成することができることが分かった。その後、CoおよびCrを含有するCu−Ni−Si系合金について検討を重ねた結果、仕上冷間圧延工程とその後の低温焼鈍工程を適切な条件で実施することにより、強度と導電率および曲げ加工性を高い水準で維持したまま、圧延直角方向の強度が急激に上昇し、強度異方性を小さくすることが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は、上記知見に基づきなされたものであり、一側面において、Ni:0.5〜2.5質量%、Co:0.5〜2.5質量%、Si:0.30〜1.2質量%、及びCr:0.0〜0.5質量%を含有し、残部がCuおよび不可避的不純物から構成され、板面における{200}結晶面のX線回折強度をI{200}とし、純銅標準粉末の{200}結晶面のX線回折強度をI0{200}とすると、1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0であり、圧延平行方向(RD)の0.2%耐力が800MPa以上950MPa以下で、導電率が43.5%IACS以上53.0%IACS以下で、圧延平行方向(GW)および圧延直角方向(BW)の180度曲げ加工性がR/t=0であり、さらに0.2%耐力の圧延平行方向(RD)と圧延直角方向(TD)の差が40MPa以下であることを特徴とする銅合金板材である。
本発明に係る銅合金板材は一実施態様において、Mg、Sn、Ti、Fe、Zn及びAgよりなる群から選択される1種又は2種以上を更に合計で最大0.5質量%まで含有する。
本発明は別の一側面において、Ni:0.5〜2.5質量%、Co:0.5〜2.5質量%、Si:0.30〜1.2質量%、及びCr:0.0〜0.5質量%を含有し、残部がCuおよび不可避的不純物である組成を有する銅合金の原料を溶解し鋳造する溶解・鋳造工程と、この溶解・鋳造工程の後に、950℃〜400℃において温度を下げながら熱間圧延を行う熱間圧延工程と、この熱間圧延工程の後に、30%以上の加工度で冷間圧延を行う冷間圧延工程と、この冷間圧延工程の後に、加熱温度700〜980℃で10秒〜10分間溶体化処理を行う溶体化処理工程と、この溶体化処理工程の後に400〜600℃で5〜20時間で時効処理を行う時効処理工程と、この時効処理工程の後に、30〜50%の加工度で冷間圧延を施す仕上冷間圧延工程とを含み、この仕上冷間圧延工程により導電率が43.5〜49.5%IACSを示しかつ仕上冷間圧延工程後の{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0を満たす銅合金板を得て、この銅合金板に250〜600℃の温度で10〜1000secの時間の低温焼鈍工程を施す工程を含み、仕上冷間圧延工程の加工度a(%)と仕上圧延工程後の導電率EC(%IACS)と低温焼鈍工程の温度K(℃)の間にK=(a/30)×{3.333×EC2−291.67EC+6631}の計算式が成立するように製造条件を調整することを含む銅合金板材の製造方法である。
本発明に係る銅合金板材の製造方法は別の一実施態様において、上記銅合金板材が更にMg、Sn、Ti、Fe、Zn及びAgよりなる群から選択される1種又は2種以上を合計で最大0.5質量%まで含有する。
本発明によれば、強度と導電率および曲げ加工性を高い水準で維持したまま、強度異方性を小さくすることが可能な銅合金板材およびその製造方法を提供することができる。
本発明の実施の形態に係る銅合金板材の製造方法を説明するフローチャートである。 本発明の実施の形態に係る銅合金板材の仕上圧延後の導電率と低温焼鈍温度との関係を表すグラフである。
以下、本発明の実施形態に係る銅合金板材について説明する。
本発明の実施の形態に係る銅合金板材は、Ni:0.5〜2.5質量%、Co:0.5〜2.5質量%、Si:0.30〜1.2質量%、及びCr:0.0〜0.5質量%を含有し、残部がCuおよび不可避的不純物から構成され、板面における{200}結晶面のX線回折強度をI{200}とし、純銅標準粉末の{200}結晶面のX線回折強度をI0{200}とすると、1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0またはSEM−EBSP法による測定結果でCube方位の面積率が4.0〜20.0%を有し、0.2%耐力(圧延平行方向)が800MPa以上950MPa以下で、導電率が43.5%IACS以上53.0%IACS以下で、圧延平行方向(GW)および圧延直角方向(BW)の180度曲げ加工性がR/t=0であり、さらに0.2%耐力の圧延平行方向(RD)と圧延直角方向(TD)の差が40MPa以下であることを特徴とする銅合金板材である。以下にこの銅合金板材およびその製造方法について詳細に説明する。
[合金組成]
本発明による銅合金板材の実施の形態は、CuとNiとCoとSiを含むCu−Ni−Co−Si系合金からなり、鋳造に不可避な不純物を含む。Ni、Co及びSiは、適当な熱処理を施すことによりNi−Co−Si系の金属間化合物を形成し、導電率を劣化させずに高強度化を図ることができる。
Ni及びCoについてはNi:約0.5〜約2.5質量%、Co:約0.5〜約2.5質量%とすることが目標とする強度と導電率を満たすために必要であり、好ましくはNi:約1.0〜約2.0質量%、Co:約1.0〜約2.0質量%、より好ましくはNi:約1.2〜約1.8質量%、Co:約1.2〜約1.8質量%である。しかし夫々Ni:約0.5質量%、Co:約0.5質量%未満だと所望の強度を得られず、逆にNi:約2.5質量%、Co:約2.5質量%を超えると高強度化は図れるが導電率が著しく低下し、更には熱間加工性が低下するので好ましくない。Siについては約0.30〜約1.2質量%とすることが目標とする強度と導電率を満たすために必要であり、好ましくは約0.5〜約0.8質量%である。しかし約0.3質量%未満では所望の強度が得られず、約1.2質量%を超えると高強度化は図れるが導電率が著しく低下し、更には熱間加工性が低下するので好ましくない。
([Ni+Co]/Si質量比)
NiとCoとSiによって形成されるNi−Co−Si系析出物は、(Co+Ni)Siを主体とする金属間化合物であると考えられる。但し、合金中のNiおよびCoおよびSiは、時効処理によって全てが析出物になるとは限らず、ある程度はCuマトリックス中に固溶した状態で存在する。固溶状態のNiおよびSiは、銅合金板材の強度を若干向上させるが、析出状態と比べてその効果は小さく、また、導電率を低下させる要因になる。そのため、NiとCoとSiの含有量の比は、できるだけ析出物(Ni+Co)Siの組成比に近づけるのが好ましい。したがって、[Ni+Co]/Si質量比を3.5〜6.0に調整するのが好ましく、4.2〜4.7に調整するのがさらに好ましい。
(Crの添加量)
本発明では、上記のCoを含むCu−Ni−Si系合金にCrを最大で約0.5質量%、好ましくは約0.09〜約0.5質量%、より好ましくは約0.1〜約0.3質量%添加させることが好ましい。Crは適当な熱処理を施すことにより銅母相中でCr単独またはSiとの化合物として析出し、強度を損なわずに導電率の上昇を図ることができる。ただし、約0.5質量%を超えると強化に寄与しない粗大な介在物となり、加工性及びめっき性が損なわれるため好ましくない。
(その他の添加元素)
Mg、Sn、Ti、Fe、Zn及びAgは所定量を添加することで、めっき性や鋳塊組織の微細化による熱間加工性の改善のような製造性を改善する効果もあるので上記のCoを含むCu−Ni−Si系合金にこれらの1種又は2種以上を求められる特性に応じて適宜添加することができる。そのような場合、その総量は最大で約0.5質量%、好ましくは約0.01〜0.1質量%である。これらの元素の総量が約0.5質量%を超えると導電率の低下や製造性の劣化が顕著になり好ましくない。
添加する添加元素の組み合わせによって個々の添加量が変更されることは当業者によって理解可能なものであり、個々の含有量は以下に限定されるものではないが、一実施態様において例えば、Mgは0.5%以下、Snは0.5%以下、Tiは0.5%以下、Feは0.5%以下、Znは0.5%以下、Agは0.5%以下添加することができる。なお、最終的に得られる銅合金板が0.2%耐力800以上950MPa以下を保持し、導電率が43.5%以上53.0%IACS以下を示すような添加元素の組み合わせおよび添加量であれば、本発明に係る銅合金板材は必ずしもこれらの上限値に限定されるものではない。
図1のフローチャートに示す方法によって達成することができる。詳しくは、上述した組成を有する銅合金の原料を溶解して鋳造する溶解・鋳造工程と、この溶解・鋳造工程の後に、950℃〜400℃において温度を下げながら熱間圧延を行う熱間圧延工程と、この熱間圧延工程の後に、加工度30%以上で冷間圧延を行う冷間圧延工程と、この冷間圧延工程の後に、加熱温度700〜980℃で10秒〜10分間溶体化処理を行う溶体化処理工程と、この溶体化処理工程の後に400〜600℃で5〜20時間時効処理を行う時効処理工程と、この時効処理工程の後に、加工度30%以上50%以下で冷間圧延を施す仕上冷間圧延工程と、この仕上冷間圧延工程の後に、250〜600℃、10〜1000secで低温焼鈍工程を施す工程を含む。また、熱間圧延後には、必要に応じて面削を行い、熱処理後には、必要に応じて酸洗、研磨、脱脂を行ってもよい。以下、これらの工程について詳細に説明する。
(溶解・鋳造工程)
一般的な銅合金の溶製方法と同様の方法により、銅合金の原料を溶解した後、連続鋳造や半連続鋳造などにより鋳片を製造する。例えば、まず大気溶解炉を用い、電気銅、Ni、Si、Co、Cr等の原料を溶解し、目的の組成の溶湯を得る。そして、この溶湯をインゴットに鋳造する方法などが挙げられる。本発明に係る製造方法の一実施形態では、更にMg、Sn、Ti、Fe、ZnおよびAgからなる群から選択される1種又は2種以上を合計で最大約0.5質量%まで含有することができる。
(熱間圧延工程)
一般的な銅合金の製造方法と同様の方法により熱間圧延を行う。鋳片の熱間圧延は、950℃〜400℃において温度を下げながら数パスに分けて行う。なお、600℃より低い温度で1パス以上の熱間圧延を行うのが好ましい。トータルの加工度は、概ね80%以上にすれば好ましい。熱間圧延終了後には、水冷などにより急冷するのが好ましい。また、熱間加工後には、必要に応じて面削や酸洗を行っても良い。
(冷間圧延工程)
前工程で得られた銅合金板に対して、「中延べ」といわれる冷間圧延を施す。冷間圧延は、一般的な銅合金の圧延方法と同様であり、加工度は30%以上であれば十分である。加工度は目的の製品板厚と仕上冷間圧延の加工度に応じて適宜調整すれば良い。
(予備焼鈍工程(任意))
本発明は後の工程の仕上冷間圧延後に{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0を満たしていなければ、最終工程の予備焼鈍工程において低温焼鈍硬化による圧延直角方向の強度上昇が発生せず、本発明の課題を達成することができない。そのため、冷間圧延工程の直後に、特許文献1の方法に記載されるような{200}結晶面を発達させる予備焼鈍を行っても良い。本工程における{200}結晶面の発達方法は、特許文献1の方法に限らず、例えば特許文献3の方法の溶体化処理の昇温速度の制御による方法でも良い。よって、本発明において予備焼鈍工程の実施は任意である。
(溶体化処理工程)
溶体化処理では、約700〜約980℃の高温で10秒〜10分間加熱して、Co−Ni−Si系化合物をCu母地中に固溶させ、同時にCu母地を再結晶させる。本工程では前工程の冷間圧延で生じた圧延組織の再結晶および{200}結晶面の形成が行われるが、前述のとおり、{200}結晶の発達方法は特許文献1の方法でも良く、特許文献3の方法でも良い。本発明では、仕上冷間圧延工程後に{200}結晶面を1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0の範囲で残存させることができれば、{200}結晶面を発達させる方法は問わない。
本発明において0.2%耐力(圧延平行方向)を800MPa以上、導電率を43.5%IACS以上に達成するための溶体化処理の条件調整としては、一般的になされる方法と同様であり、当業者であれば容易に達成することができる。具体的には、冷却速度を毎秒約10℃以上、好ましくは約15℃以上、より好ましくは毎秒約20℃以上として約400℃〜室温まで冷却するのが効果的である。但し、冷却速度をあまりに高くすると、逆に強度上昇の効果が十分に得られなくなるため、好ましくは毎秒約30℃以下、より好ましくは毎秒約25℃以下である。冷却速度の調整は、当業者に知られた公知の方法で行なうことができる。一般的に単位時間当たりの水量が減少すると冷却速度の低下を招くので、例えば、水冷ノズルの増設または単位時間当たりにおける水量を増加することによって冷却速度の上昇を達成することができる。ここで、“冷却速度”とは溶体化温度(700℃〜980℃)から400℃までの冷却時間を計測し、“(溶体化温度−400)(℃)/冷却時間(秒)”によって算出した値(℃/秒)をいう。
(時効処理工程)
時効処理工程においては、次工程の仕上冷間圧延工程後の導電率が43.5〜49.5%IACSになるように条件を調整する必要がある。43.5〜49.5%IACSの範囲から外れてしまうと、最終工程の低温焼鈍工程において圧延直角方向の強度が上昇せず、本発明の課題を達成することができない。また、時効処理工程直後の仕上冷間圧延において、転位の導入等の一般的な理由のために導電率が0.0〜1.0%IACS低下するため、この時効処理工程においては44.5〜50.5%IACS程度の導電率を目標とすればよい。時効処理条件の調整方法は一般的な銅合金の製造方法と同様の方法であり、当業者なら容易に達成することができる。例えば、約400〜600℃の温度範囲で5〜20h程度加熱し、溶体化処理で固溶させたNi−Co−Siの化合物を微細粒子として析出させる。この条件により、導電率を44.5〜50.5%IACS程度の導電率を達成することができる。
(仕上冷間圧延工程)
通常は時効処理後の強度を高くするために高い加工度で仕上冷間圧延を行うと強度の異方性は悪化することが多い。しかし、本発明においては、仕上冷間圧延工程の加工度を30%以上に設計し、かつ最終工程の低温焼鈍工程を適切な温度条件で行うことにより、圧延直角方向の強度を急激に高め、強度異方性を改善させることができる。しかし、加工度を50%以上にすると、強度が高くなりすぎてしまい、曲げ加工性が悪化するので、30〜50%の範囲で行うことが好ましい。
この仕上冷間圧延では、一般的に{220}結晶面を主方位成分とする圧延集合組織が発達し{200}結晶面が減少する。そのため、本発明において、仕上冷間圧延後に{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0になるよう加工度を調整しなければならない(また、SEM−EBSP法により、仕上げ冷間圧延後のCube方位の面積率が4〜20%の範囲内になるよう加工度を調整してもよい。)。
よって、加工度が30〜50%の範囲内であっても、仕上冷間圧延後の{200}結晶面が1.0未満または5.0を上回る場合は低温焼鈍硬化が起こらないために十分注意が必要である。仕上冷間圧延の加工度は溶体化処理後の{200}結晶面の大小に応じて加工度を30〜50%の範囲内で決めれば良い。また、{200}結晶面は後に述べる低温焼鈍硬化が起こる条件の1つであるが、最終製品の曲げ加工性を向上させる効果もある。
(低温焼鈍工程)
通常は、仕上冷間圧延工程の後に、銅合金板材の残留応力の低減、ばね限界値、耐応力緩和特性の向上を目的として、任意で低温焼鈍を施すことが多い。しかし、本実施形態においては、仕上冷間圧延後の加工度が30〜50%であり、さらに仕上冷間圧延後の{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0の範囲であり、さらに仕上冷間圧延工程後の導電率が43.5〜49.5%IACSであり、仕上冷間圧延の加工度a(%)と仕上冷間圧延工程後の導電率EC(%IACS)と低温焼鈍温度K(℃)の間にK=(a/30)×{3.333×EC2−291.67EC+6631}…(式1)の計算式が成立し、10〜1000secの時間で低温焼鈍を行う時に限り、圧延直角方向の強度が50MPa程度上昇し、強度異方性の小さい材料を得ることができる(図2参照。1式に加工度と導電率と代入して得られた温度の±0.5の範囲の整数値で低温焼鈍を実施すればよい)。
この低温焼鈍工程は曲げ加工性はほとんど低下せず、導電率を0〜4.0%IACS程度向上させる効果がある(これにより、最終的に得られる製品(銅合金板)の導電率は43.5〜53.0%IACSとなる)。圧延平行方向の0.2%耐力は若干増減するが、仕上冷間圧延後のものと比べて±10MPaの範囲であり、ほぼ同等である。
上述した仕上圧延加工度と仕上圧延後の{200}結晶面と導電率の範囲、また仕上圧延加工度と仕上圧延後の導電率と低温焼鈍の温度の関係(式1)は本発明者らが経験的に見出したものであり、詳細なメカニズムは現在調査中である。しかし、この現象はコットレル固着に由来するものと推測される。仕上圧延後の導電率が低いほど、母相に固溶しているCo、Ni、Si等の元素量が多く、これらの元素が圧延加工由来の転位に固着することから、これらの計算式が成立するものと考えられる。
低温焼鈍においては、加熱温度が加熱時間に比べ圧倒的に支配的であるため、加熱時間は10〜1000secの範囲内であれば良い。
なお、当業者であれば、上記各工程の合間に適宜、表面の酸化スケール除去のための研削、研磨、ショットブラスト酸洗等の工程を行なうことができることは理解できる。
以下、本発明による銅合金板材およびその製造方法の実施例について詳細に説明するが、これら実施例は本発明及びその利点をよりよく理解するために提供するものであり、発明が限定されることを意図するものではない。
本発明の実施例に用いる銅合金は、表1に示すようにNi、Co、Cr及びSiの含有量をいくつか変化させた銅合金に適宜Mg、Sn、Ti、FeおよびAgを添加した組成を有する。また、比較例に用いる銅合金は、それぞれ本発明の範囲外のパラメータをもつCu−Ni−Si系合金である。
表1及び表2に記載の各種成分組成の銅合金を、高周波溶解炉で1100℃以上で溶製し、厚さ25mmのインゴットに鋳造した。次いで、このインゴットを950〜400℃で加熱後、板厚10mmまで熱間圧延し、速やかに冷却を行った。表面のスケール除去のため厚さ9mmまで面削を施した後、冷間圧延により厚さ1.8mmの板とした。続いて加工度60%で冷間圧延を行い、700〜980℃で溶体化処理を10秒〜10分、昇温速度0.1℃/s以下で行い、これを直ちに冷却速度:約10℃/秒として100℃以下にして{200}結晶面を発達させた。その後、400〜600℃で5〜20時間かけて不活性雰囲気中で時効処理を施し、30〜50%の加工度で仕上冷間圧延を行い、仕上圧延後の{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0であり、仕上圧延後の導電率が43.5〜49.5%の銅合金板材を製造し、式1を満たす温度で10秒間低温焼鈍工程を実施した。
このようにして得られた各板材につき強度及び導電率の特性評価を行った。強度については、引張試験機により、JIS Z2241に従い、圧延平行方向および圧延直角方向の引張強さ(TS)および0.2%耐力(YS)を測定した。導電率についてはJIS H0505に従い、試験片の長手方向が圧延方向と平行となるように試験片を採取し、ダブルブリッジ法による体積抵抗率測定により求めた。曲げ加工性の評価は、JISZ2248に従い、圧延平行方向(GW)および圧延直角方向(BW)の180度曲げを評価した。R/t=0であるものを○とし、0より大きいものを×とした。
積分強度比については、株式会社リガク社製RINT2500を用いて、銅合金板材表面の厚み方向のX線回折で{200}回折ピークの積分強度:I{200}を評価し、さらに微粉末銅のX線回折で{200}回折ピークの積分強度:I0{200}を評価した。続いて、これらの比:I{200}/I0{200}を算出した。結晶粒径については、試験片の圧延直角方向の断面に対してJIS H0501の切断法により求めた平均結晶粒径をGS(μm)として評価した。Cube方位については、EBSP(株式会社TSLソリューションズ製(OIM Analysis))を用いて面積率を求めた。
めっき密着性については、JIS H8504に従い、幅10mmの試料を90°に曲げて元に戻した後(曲げ半径0.4mm、圧延平行方向方向)、光学顕微鏡(倍率10倍)を用いて曲げ部を観察し、めっき剥離の有無を判定した。めっき剥離が認められない場合を○、めっき剥離が生じた場合を×と評価した。表5〜8に各特性評価結果を示す。
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実施例1〜3は、仕上圧延加工度がそれぞれ30%、40%、50%であり、さらに、仕上圧延後の{200}結晶面、導電率および低温焼鈍温度が所定の条件を満たすため、低温焼鈍工程によって圧延直角方向(TD)の0.2%耐力が低温焼鈍前(仕上圧延後)に比べて50〜60MPa増加し、40MPa以下の強度異方性を達成している。一方、比較例1および2は仕上圧延加工度が30〜50%の範囲外であるため、低温焼鈍を実施しても圧延直角方向の強度は増加せず、逆に低温焼鈍前に比べて10MPa程度低下している。
実施例4および5は、仕上圧延後の導電率が43.5〜49.5%IACSの範囲内であり、仕上圧延加工度、仕上圧延後の{200}結晶面、低温焼鈍温度も所定の条件を満たすため、低温焼鈍工程により圧延直角方向の0.2%耐力が低温焼鈍前に比べて50MPa程度増加し、40MPa以下の強度異方性を達成している。一方、比較例3,4は仕上圧延後の導電率が43.5〜49.5%IACSの範囲外であるため、低温焼鈍を実施しても圧延直角方向の強度は増加せず、逆に低温焼鈍前に比べて10MPa程度低下している。
実施例6〜9は、仕上圧延後の仕上圧延後の{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0の範囲内であり、仕上圧延加工度、仕上圧延後の導電率、低温焼鈍温度も所定の条件を満たすため、圧延直角方向の強度が低温焼鈍前に比べて50MPa程度増加し、40MPa以下の強度異方性を達成している。一方、比較例5,6は{200}結晶面が1≦I{200}/I0{200}≦5の範囲外であるため、低温焼鈍を実施しても圧延直角方向の強度は増加せず、逆に低温焼鈍前に比べて10MPa程度低下した。
実施例10〜13は、仕上圧延加工度、仕上圧延後の導電率、{200}結晶面、低温焼鈍温度も所定の条件を満たすため、圧延直角方向の強度が低温焼鈍前に比べて50MPa程度増加し、40MPa以下の強度異方性を達成している。一方、比較例7〜11は低温焼鈍温度が式1の範囲外であるため、低温焼鈍を実施しても圧延直角方向の強度は増加せず、逆に低温焼鈍前に比べて10MPa低下した。
実施例14〜22については、本発明の主要元素であるNi、Co、Si、Crの組成添加量が適性であり、一方、比較例12〜18は主要元素の組成が高すぎるかまたは低すぎるために、強度か導電率が著しく悪い。
実施例23〜28については、本発明に添加可能な元素であるMg、Sn、Zn、Ag、Ti、Feの添加量が適正であり、めっき密着性や熱間加工性の改善効果が得られている。一方、比較例19〜24は0.5質量%を超過している場合であり、めっき密着性や熱間加工性の改善効果が得られていない。また、導電率が著しく悪い。
比較例25は低温焼鈍を実施していない製造例である。圧延平行方向の0.2%耐力および導電率、曲げ加工性は良好だが、実施例1〜28に示すような40MPa以下の小さな強度異方性(即ち、低温焼鈍後の0.2%耐力の圧延平行方向(RD)と圧延直角方向(TD)の差が40MPa以下)を達成できていない。
比較例26および27も低温焼鈍を実施していない製造例である。この例は、強度異方性および曲げ加工性は良好だが、組成が不適切で低温焼鈍未実施であるため、0.2%耐力および導電率が近年の要求レベルよりも大幅に低い。

Claims (4)

  1. Ni:0.5〜2.5質量%、Co:0.5〜2.5質量%、Si:0.30〜1.2質量%、及びCr:0.0〜0.5質量%を含有し、残部がCuおよび不可避的不純物から構成され、板面における{200}結晶面のX線回折強度をI{200}とし、純銅標準粉末の{200}結晶面のX線回折強度をI0{200}とすると、1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0であり、圧延平行方向(RD)の0.2%耐力が800MPa以上950MPa以下で、導電率が43.5%IACS以上53.0%IACS以下で、圧延平行方向(GW)および圧延直角方向(BW)の180度曲げ加工性がR/t=0であり、さらに0.2%耐力の圧延平行方向(RD)と圧延直角方向(TD)の差が40MPa以下であることを特徴とする銅合金板材。
  2. Mg、Sn、Ti、Fe、Zn及びAgよりなる群から選択される1種又は2種以上を更に合計で最大0.5質量%まで含有する請求項1に記載の銅合金板材。
  3. Ni:0.5〜2.5質量%、Co:0.5〜2.5質量%、Si:0.30〜1.2質量%、及びCr:0.0〜0.5質量%を含有し、残部がCuおよび不可避的不純物である組成を有する銅合金の原料を溶解し鋳造する溶解・鋳造工程と、この溶解・鋳造工程の後に、950℃〜400℃において温度を下げながら熱間圧延を行う熱間圧延工程と、この熱間圧延工程の後に、30%以上の加工度で冷間圧延を行う冷間圧延工程と、この冷間圧延工程の後に、加熱温度700〜980℃で10秒〜10分間溶体化処理を行う溶体化処理工程と、この溶体化処理工程の後に400〜600℃で5〜20時間で時効処理を行う時効処理工程と、この時効処理工程の後に、30〜50%の加工度で冷間圧延を施す仕上冷間圧延工程とを含み、この仕上冷間圧延工程により導電率が43.5〜49.5%IACSを示しかつ仕上冷間圧延工程後の{200}結晶面が1.0≦I{200}/I0{200}≦5.0を満たす銅合金板を得て、この銅合金板に250〜600℃の温度で10〜1000secの時間の低温焼鈍工程を施す工程を含み、仕上冷間圧延工程の加工度a(%)と仕上圧延工程後の導電率EC(%IACS)と低温焼鈍工程の温度K(℃)の間にK=(a/30)×{3.333×EC2−291.67EC+6631}の計算式が成立するように製造条件を調整することを含む、請求項1に記載の銅合金板材の製造方法。
  4. 前記銅合金板材にMg、Sn、Ti、Fe、Zn及びAgよりなる群から選択される1種又は2種以上を合計で最大0.5質量%まで含有させることを含む請求項3に記載の銅合金板材の製造方法。
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