JP5846997B2 - 膜形成用組成物、表面洗浄方法、放射性物質除去方法、表面保護方法、及び膜 - Google Patents
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Description
本発明の膜形成用組成物は、ゴム(A)とポリビニルアルコール(B)とを含む液状であり、ゴム(A)の含有量がポリビニルアルコール(B)の含有量よりも多い。ゴム(A)の含有量が多くなることで、形成される膜に耐水性が付与される。また、ゴム(A)の含有量が多くなることで、膜が伸びやすくなり、また、膜の強度も強くなり、膜の剥離時に膜がちぎれにくくなる。このため、構造物の表面に形成される膜が単独層であっても、その表面から容易に膜を剥離して回収できる。そして、ゴム(A)で膜の伸びを調整しつつ、ポリビニルアルコール(B)で構造物の表面への接着性を調整することで、構造物の表面に充分に接着し、容易に剥離可能な膜を形成できる。以下、本発明の膜形成用組成物に含まれる成分について説明する。
ゴム(A)は膜に伸びと耐水性を付与できればよいため、(A)成分の種類は特に限定されず、天然ゴム、合成ゴムのいずれも使用可能である。また、ゴム(A)として架橋させたものを用いてもよいし、架橋させるタイミングも特に限定されない。架橋剤、架橋助剤等の成分も一般的なものを使用可能である。
ポリビニルアルコール(B)は、ポリ酢酸ビニルを重合させた重合体をケン化することで得ることができる。(B)成分の重合度は特に限定されないが500以上5000以下であることが好ましく、より好ましくは500以上3000以下である。また、(B)成分のケン化度は80モル%以上99モル%以下であることが好ましい。
本発明の膜形成用組成物は、上記ゴム(A)、ポリビニルアルコール(B)以外に水不溶性粉体(C)を含有してもよい。
本発明の膜形成用組成物は、上記必須成分以外に界面活性剤(D)を含んでもよい。(D)成分を含むことで、膜形成用組成物中におけるゴム(A)や水不溶性粉体(C)の安定性が高まる。膜形成用組成物中の(A)成分及び(C)成分の安定性を高める観点からは、ノニオン系界面活性剤の使用が特に好ましい。なお、ノニオン系界面活性剤以外のカチオン系界面活性剤やアニオン系界面活性剤を使用してもよい。
本発明の膜形成用組成物は、上記必須成分以外に増粘剤(E)を含んでもよい。(E)成分を含むことで、膜形成用組成物の粘度を、膜形成組成物中の固形分量に依存せずに調整できる。膜形成組成物中の固形分量に依存せずに粘度を調整できることは、膜厚とは独立に膜形成組成物の粘度を調整できることを意味する。したがって、膜形成用組成物の粘度を考慮せずに、ゴム(A)やポリビニルアルコール(B)の使用量等を調整して、膜の伸びや接着力を調整しても、増粘剤(E)を用いれば膜形成用組成物の粘度を容易に所望の範囲に高めることができる。
本発明の膜形成用組成物は液状であり、水以外の成分で液状にしてもよいが、水で液状になることが好ましい。膜形成用組成物が水の存在によって液状になることで、膜形成用組成物を構造物表面に塗布してなる塗膜の乾燥時に蒸発するのは溶剤ではなく水であるため、作業者の健康や環境の点で好ましい。なお、他の水系分散媒(F)としては、アルコール等が挙げられる。
本発明の膜形成用組成物には、本発明の効果を害さない範囲で、上記必須成分、任意成分以外のその他の成分を含んでもよい。
本発明の膜形成用組成物の製造方法は特に限定されず、例えば、必要な成分を混合することで製造することができる。混合の際には、必要に応じて、超音波処理、撹拌処理、混練処理等を施してもよい。撹拌処理、混練処理には、例えば、ホモジナイザー、スパイラルミキサー、プラネタリーミキサー、ディスパーサー、ハイブリットミキサー等の撹拌又は混練装置が用いられる。
膜形成用組成物の粘度は特に限定されないが30,000mpa・s以下であることが好ましい。粘度が低ければ、膜形成用組成物が塗布される構造物の表面に凹凸があっても、凹凸に沿って膜を形成できる。粘度は、JIS K−7117:1987「プラスチック−液状、乳濁状又は分散状の樹脂−回転粘度計による見かけ粘度の測定方法」に準拠して測定する。また、粘度の測定条件は液温25℃で、ローター回転数6rpmである。また、膜形成用組成物の粘度は5,000mp・s以上であることが好ましい。粘度が低すぎると構造物の表面に塗布した塗膜が流れ落ち非常に薄い膜しか形成できない可能性がある。
本発明の膜形成用組成物の使用方法は、構造物の表面の少なくとも一部に、本発明の膜形成用組成物を塗布して膜を形成する膜形成工程を有する。
構造物の種類は特に限定されず、本発明の膜形成用組成物は様々な構造物の表面に好適に適用することができる。構造物の材質も特に限定されず、例えば、ガラス、合成樹脂、アルミニウムその他の金属、タイル、土器、石器、陶器、磁器、木材、コンクリート、紙、ゴム、繊維、石材、土材、しっくい、塗料等で仕上げた構造物の表面にも膜を形成できる。
膜形成工程は、上記構造物の表面に、膜形成用組成物を塗布して膜を形成する。膜を形成する方法は特に限定されないが、例えば、図1に示す手順で、構造物の表面に膜を形成することができる。
次いで図1に示すように、必要に応じて膜4を剥離する。この際、例えば異物等の汚れ1が存在する構造物2の表面2aから、汚れ1が膜4側に移行して表面2aが洗浄できる。構造物2の表面と汚れとの間の接着力よりも、膜4と汚れとの接着力の方が強い。このため、剥離工程を行い、膜4を構造物2の表面2aから剥がすと、汚れ1は膜4とともに構造物2の表面から引き離される。このように、本発明の膜形成用組成物を用いて形成された膜は、構造物2の表面の洗浄に用いることができる。また、本発明の膜形成用組成物は固形分量を所望の範囲に設定しつつ粘度調整を容易に行えるため、構造物2の表面の凹凸に沿った膜を容易に形成できる。したがって、構造物2の表面の汚れを全体的に除去できる。また、上記の通り、膜4は耐水性を有するため、本発明の膜形成用組成物は屋外構造物の洗浄に特に好ましく用いることができる。また、構造物2の表面2aに凹凸があっても、図1に示すように凹凸に沿うように膜4を形成することができる。
(A)天然ゴムラテックス:固形分62質量%、分子量は1万以上200万以下の範囲に分布(レヂテックス社製、「HANR−LATEX」)
(B)ポリビニルアルコール水溶液:ポリビニルアルコールを25質量%含む水溶液であり、ポリビニルアルコールのケン価度80〜84%、重合度500〜700(日本酢ビ・ポバール社製、「JL−05E」)
(C)炭酸カルシウム
(C2)酸性白土
天然ゴムラテックス55質量%、ポリビニルアルコール水溶液5質量%、炭酸カルシウム15質量%、酸性白土3質量%、水22質量%を混合して、膜形成用組成物を製造した(ポリビニルアルコール/ゴムの質量比が0.091、全固形分量中のゴムとポリビニルアルコールの合計の質量割合が0.037%)。この膜形成用組成物をガラス板の表面に塗布してこの表面に塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることで膜を形成した(0.5〜1mm)。膜は上記表面の凹凸に沿うように形成されていた。また、膜はガラス板の表面から容易に剥離することができた。表1には、膜形成用組成物の粘度、膜形成組成物中の固形分量、膜の破断点応力、破断点伸び、破断点伸長度(引張試験前の膜の長さを100%としたときの、引張試験で破断したときの膜の長さ(%))、剥離強度を示した。破断点応力、破断点伸び、破断点伸長度、剥離強度の導出方法は以下の通りである。
膜形成用組成物であるポリビニルアルコール水溶液をガラス板の表面に塗布した後、直ちにその上に不織布を1枚置き、更に同じポリビニルアルコール水溶液を不織布に塗布して、そのまま一昼夜放置して中に不織布を含んだポリビニルアルコールの多層膜をガラス板の表面に形成した。多層膜の厚みは約0.4mmであった。表1には、膜形成用組成物の粘度、膜形成組成物中の固形分量、破断点応力、破断点伸び、破断点伸長度、剥離強度を示した。
表2に示す成分を表2に示す割合(単位は質量%)で混合して膜形成用組成物を製造した(なお、表3には全固形分に対する各成分の含有量等を示した(単位は質量%))。膜形成用組成物をPET板の表面に塗布し塗膜を形成し、この塗膜を乾燥させることで膜を形成し、膜形成用組成物の安定性、膜の伸び、膜の剥離性、膜の耐水性について評価を行った結果を表2に示した。
除染対象物(コンクリート)の表面の線量当量率(μSv/h)と表面汚染密度(Kcpm)とを測定した。結果を表4に示した。
2 構造物
2a 表面
3 塗膜
4 膜
Claims (13)
- ゴム(A)と、ポリビニルアルコール(B)と、無機の水不溶性粉体(C)と、を含む液状であり、
前記ゴム(A)と前記ポリビニルアルコール(B)との含有比率は質量比((B)/(A))で0.01以上0.3以下であり、
構造物表面及び/又は地表面に一時的な表面保護膜を形成後に剥離する、洗浄用の膜形成用組成物。 - 全固形分に対して、前記ゴム(A)の含有量と前記ポリビニルアルコール(B)の含有量との合計が60質量%以上である請求項1に記載の膜形成用組成物。
- 前記ゴム(A)は天然ゴムである請求項1又は2に記載の膜形成用組成物。
- 天然ゴムラテックスを含む請求項1から3のいずれか記載の膜形成用組成物。
- 前記水不溶性粉体(C)は放射性物質吸着能を有する粉体であり、酸性白土、クリストバライト、天然のシリカ化合物、アルミノシリケート、及び、天然のゼオライト、より選択される一種以上である、請求項1から4のいずれか記載の膜形成用組成物。
- 構造物表面を洗浄するために用いられる請求項1から5のいずれか記載の膜形成用組成物。
- 構造物表面及び/又は地表面に存在する放射性物質を除去するために用いられる請求項1から5のいずれか記載の膜形成用組成物。
- 請求項1から5のいずれか記載の膜形成用組成物を構造物表面に塗布して一時的な膜を形成する膜形成工程と、前記膜を剥離する剥離工程と、を備える表面洗浄方法。
- 前記膜形成工程において、前記膜を単独層として形成する請求項8記載の表面洗浄方法。
- 屋外構造物の表面洗浄に適用する請求項8又は9に記載の表面洗浄方法。
- 請求項1から5のいずれか記載の膜形成用組成物を構造物表面及び/又は地表面に塗布して一時的な膜を形成する膜形成工程と、前記膜を剥離する剥離工程と、を備える放射性物質除去方法。
- 請求項1から5のいずれか記載の膜形成用組成物を構造物表面及び/又は地表面に塗布して一時的な表面保護膜を形成する表面保護方法。
- ゴム(A)とポリビニルアルコール(B)と無機の水不溶性粉体(C)とを含有し、
前記ゴム(A)と前記ポリビニルアルコール(B)との含有比率は質量比((B)/(A))で0.01以上0.3以下であり、
構造物表面及び/又は地表面に一時的な表面保護膜を形成後に剥離する、洗浄用の膜であって、
前記膜の厚さが0.01mm以上20mm以下であり、JIS K−6251に準拠する方法で測定された破断点伸長度が150%以上1300%以下である膜。
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