JP5512799B2 - 平面的な被処理材料を処理するための方法、処理ステーションおよびアセンブリ - Google Patents

Description

本発明は、平面的な被処理材料を処理するための方法、処理ステーションおよびアセンブリに関する。特に、本発明は、１または複数の易損性表面を有する被処理材料の処理を可能にするような方法、処理ステーション、およびアセンブリに関する。本発明はさらに、被処理材料の有用領域と固定要素との間の接触が減少され得るような方法、処理ステーション、およびアセンブリに関する。

平面的な被処理材料、例えば回路基板産業における回路基板を加工する場合、被処理材料は湿式化学プロセスのラインで処理されることが多い。プロセス薬品またはプロセス水のような処理液を除去するために、いわゆるニップロールが使用される場合がある。そのようなロールは、例えば、特許文献１に開示されるように、処理ステーションにおいて浸漬処理用の処理液を貯留するために使用されてもよい。基板表面上の素材の交換を促進すべく、被処理材料の表面に液体を流すためのノズルが用いられてもよい。

図１８は、処理液の液位が被処理材料２０３の輸送面より高く、その結果被処理材料２０３が浸漬状態で輸送されうるようになっている、処理ステーション２００の概略図である。被処理材料２０３は処理ステーションを通って水平輸送方向２０４に輸送される。被処理材料を輸送するためにロール対２１１〜２１６が提供され、該ロール対は、前記被処理材料を輸送するために、被処理材料２０３の上方または下方のうち少なくともいずれか一方を向いている表面に接して支持するようになっている。処理液の漏れを回避するために内部容器２０１が設けられ、該容器内で処理液が上方液位まで貯留される（図示せず）。内部容器２０１は外部容器２０２によって包囲され、外部容器２０２が内部容器２０１から溢流する処理液を回収するようになっている。外部容器２０２に回収された、外部容器内で液位２０９を有する処理液２０８から、該処理液はポンプ２１０によって内部容器２０１に戻るように送り込まれる。処理液は、フローノズル２０６、２０７、あるいはさらなる処理部材を介して放出されて内部容器２０１に戻ることができる。

内部容器２０１に処理液を貯留するために、いわゆるニップロールの対２１３、２１５が内部容器２０１の流入領域および流出領域において使用される。ニップロール対２１３、２１５は、例えば、円筒状の周囲表面を有していてよい。対２１３のニップロール２１３ａ、２１３ｂおよびロール対２１５のニップロールが被処理材料２０３に接して支持する場合、処理液が通り抜けて内部容器２０１から漏出する可能性のある解放断面は限られている。ポンプ２１０の送達速度を相応に調節することによって、内部容器２０１の中の処理液の所望の液位が設定されうる。処理ステーションの流入領域または流出領域のロール対２１１、２１２、２１４および２１６のような追加のロール対も、ニップロールとしての役割を果たすことができる。

しかしながら、被処理材料２０３が１以上の易損性表面を有する場合、従来型ニップロールの幅全体にわたる、すなわち、被処理材料２０３の輸送方向２０４に対して横方向に全体に広がる、ニップロール対２１３、２１５と被処理材料２０３との間の直接接触は、被処理材料２０３の表面に損傷を与える可能性がある。被処理材料２０３の表面への損傷は、例えば、表面圧またはニップロール２１３、２１５の表面に付着している粒子状物質および表面の凹凸によって、引き起こされる可能性がある。さらに、フローノズル２０６，２０７の領域では、例えば処理ステーションの流出の条件によっては被処理材料２０３の望ましくない撓曲を生じることがある。撓曲によって、被処理材料２０３が処理ステー
ションの他の部材と接触することがある。

ドイツ連邦共和国公開特許第４３ ３７ ９８８ Ａ１号明細書

本発明の目的は、平面的な被処理材料を処理するための方法、処理ステーションおよびアセンブリであって、被処理材料の易損性表面を損傷するリスクが低減されうる方法およびアセンブリならびにデバイスを提供することである。本発明の目的はさらに、回路基板を製造する方法であって、回路基板の易損性表面領域を損傷するリスクが低減されうる方法を提供することである。

本発明によれば、この目的は、独立請求項に示されるような、平面的な被処理材料を処理するための方法、処理ステーションおよびアセンブリによって達成される。従属請求項は、本発明の好適かつ有利な実施形態を定義する。

一実施形態によると、被処理材料を電解処理または湿式化学処理するためのアセンブリ内を通って輸送される、平面的な被処理材料を処理する方法が提供される。被処理材料はアセンブリの処理ステーション内で処理液に晒され、この処理液は被処理材料を覆う。処理ステーションにおいて、ロール表面を備えたロールは、該ロール表面が少なくとも被処理ステーションの両端の領域の間に連続して延伸する被処理材料の有用領域から離隔するように配置されることによって、ロール表面と被処理材料の有用領域との間に間隙、即ちギャップが保持される。

ロール表面は少なくともその一部が処理液の中にあるように配置される。ロールはギャップにおいてロール表面と被処理材料の表面との間で相対速度が生成されるように回転自在に駆動される。

この方法によると被処理材料の表面に対する損傷といったリスクが減少する。なぜならロールと被処理材料の有用領域との間にギャップが設けられるからである。一実施形態によると、ロールは被処理材料の表面全体から離隔されていてもよい。ギャップを挟んで対向する２つの面の間の相対速度により、被処理材料の表面での材料の交換は促進され、あるいはギャップを通じた処理液の漏出が減少される。

ロール表面と被処理材料の有用領域との間に設けられるギャップはアセンブリの部材配置によって定められてもよいが、被処理材料が低い固有剛性を有するなどによる力学的バランスから生じるものであってもよい。

被処理材料の表面から一定のギャップ高をもって離隔されるロール表面の部分は、被処理材料の輸送速度とは向きと大きさが異なる速度で移動される。
ロールは、ギャップを画成しているロール表面の部分が被処理材料の輸送の方向と反対の方向に移動するように駆動される。その結果、ロールを高速で回転する必要なくギャップでは相対速度がかかることになる。

ロールは好適には回転軸が被処理材料の輸送面と平行になるように配備される。
ロールは、ロール表面の周面での速度の値が被処理材料の輸送速度の値とは異なるように、特定の実施形態では輸送速度の値よりも大きな値となるように、駆動される。この場
合、被処理材料の表面からギャップ高をもって離隔されるロール表面の部分は被処理材料の輸送の方向に移動され得る。

処理液は除去装置を用いてロールから取り除かれ得る。除去装置は、ロールから取り除かれるべき一定量の処理液を設定することができるように調節される。この方式により、ロールで生じる材料の交換の度合いおよび／またはギャップを通る液体の漏出が減少される度合いを制御することができる。

除去装置はロール表面からの距離が一定となるように配備されうる。その結果、ロールの軸方向に置いて均一な効果を達成することができる。除去装置とロール表面の間隔は調節可能である。例えば、除去装置はロールの軸方向に平行に延びるストリップであり、ロール表面から多様な距離をもって配置することができるように構成されることができる。

ロールは処理ステーションの処理部材として与えられてもよい。これによりロールをフローノズルの代わりに設けることが可能となる。ロールを処理部材として用いることによって、小型の処理ステーションを生産することができる。したがって、コスト削減が達成される。また、被処理材料に加わる力が減少する。エネルギーのコストも減少する。さらに、処理浴の保持が達成される。

ロールが処理部材として用いられる場合には、ロール表面と被処理材料の有用領域との間の最小ギャップ高は１ｍｍ未満、好適には０．７ｍｍ未満、さらには０．５ｍｍ未満であってもよい。最小ギャップ高は少なくとも０．０５ｍｍ、好適には０．０７ｍｍ、より好適には０．０９ｍｍであることが可能である。最小ギャップ高は上記の制限値よりも大きくてもよいが、１０．０ｍｍよりは小さい必要がある。

ロールはロール表面と被処理材料の間の相対速度を用いることによって、被処理材料表面での材料の交換が増加するように配置される。より詳細には、ロールはロールの回転によって表面および／または被処理材料の凹部の処理液に一定の効果が生じるように配置され得る。

輸送の方向でのロールの対向する両面で、処理液をロールに接触させ、処理ステーションの駆動レベルまで上げられる。ロールは処理ステーションの駆動レベルを完全に下回るように配置されることも可能である。このことはロールを処理ステーションの、流入領域および流出領域から離隔された一部分の処理部材として用いることを可能にする。

ロールは処理ステーションの流入領域または流出領域に設けられることも可能である。例えば、ロールは処理ステーションの内部容器の端縁近傍に設けられ得る。この場合、ロール表面は処理液を保持するための保持面をなす。ギャップを通した処理液の漏出はギャップにおける相対移動によって減少される。

ロール表面が保持面の役割を果たす場合には、ロール表面と被処理材料の有用領域との間の最小ギャップ高は１ｍｍ未満、好適には０．７ｍｍ未満、より好適には０．５ｍｍ未満であってもよい。最小ギャップ高は少なくとも０．０５ｍｍ、好適には０．０７ｍｍ、より好適には０．０９ｍｍであり得る。

さらなるギャップが被処理材料の有用領域とさらなるロール表面との間にさらなるギャップが保持されるように、さらなるロール表面を有するさらなるロールが配置されてもよい。ロールと、さらなるロールとは被処理材料の輸送面の対向する側面に配備されることが可能である。例えば、ロールと、さらなるロールとは、これらの軸が輸送の方向と同一の位置に設けられるように配置されることが可能である。さらに異なる実施形態に置いて
、ロールとさらなるロールのそれぞれの軸は、輸送の方向において互いに離間するように配置される。さらなるロールを設けることによって、被処理材料の処理は、さらに向上し、および／または処理液の漏出がさらに減少する。

さらなるギャップの端縁をなす、さらなるロール表面の部分の速度が輸送の方向を向くように、さらなるロールは回転自在に駆動される。さらなるロールの周面での速度の値は輸送速度±２０％に等しくすることができる。その結果、低い固有剛性を有している被処理材料の輸送は好適に影響を与えることができる。

ロールとさらなるロールとが同一方向に回転するように、さらなるロールを回転自在に駆動することができる。
さらに異なる実施形態によると、被処理材料の電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリとして、平面状の被処理材料を処理するための処理ステーションが提供される。駆動の間に処理液が被処理材料を被覆するように処理ステーションは設計される。処理ステーションはロールを備え、ロール表面を備えたロールは、該ロール表面が少なくとも被処理ステーションの両端の領域の間に連続して延伸する被処理材料の有用領域から離隔するように配置されることによって、ロール表面と被処理材料の有用領域との間に間隙、即ちギャップが保持される。ロールはさらに、ロール表面が少なくとも一部において処理液の中にあるように配置される。駆動装置は、ギャップにおいてロール表面と被処理材料の間に相対速度が生成されるようにロールを回転自在に駆動する。

ロールと被処理材料の有用領域との間にギャップが設けられることにより、上記の処理ステーションでは被処理材料の表面に対する損傷といったリスクが減少する。一実施形態によると、ロールは被処理材料の表面全体から離隔されていてもよい。ギャップを挟んで対向する２つの面の間の相対速度により、被処理材料の表面での材料の交換は促進され、あるいはギャップを通じた処理液の漏出が減少される。

ギャップを画成しているロール表面の部分が被処理材料の輸送の方向と反対の方向に移動するようにロールを駆動するように駆動装置を設計することができる。
駆動装置は、ロール表面の周面での速度の値が被処理材料の輸送速度の絶対値とは異なるように、特定の実施形態では輸送速度の絶対値よりも大きな値となるように、ロールを駆動すべく設計されて得る。

ロールは好適には回転軸が被処理材料の輸送面と平行になるように配備される。
処理ステーションは除去装置を備えていてもよく、除去装置は好適にはロールから処理液を取り除くためにロールに対して調節可能に設けられ得る。

ロールは処理ステーションの処理部材として与えられてもよい。輸送の方向でのロールの対向する両面で、処理液をロールに接触させ、処理ステーションの駆動レベルまで上げられ、またはロールは処理ステーションの駆動レベルを完全に下回るように配置されることも可能である。

ロールは処理ステーションの流入領域または流出領域に設けられることも可能であり、ロール表面は処理液を保持するための保持面をなす。例えば、ロールは処理ステーションの内部容器の端縁近傍に設けられ得る。

さらなるギャップが被処理材料の有用領域とさらなるロール表面との間にさらなるギャップが保持されるように、処理ステーションは、さらなるロール表面を有するさらなるロールを備えていてもよい。ロールと、さらなるロールとは被処理材料の輸送面の対向する側面に配備されることが可能である。

駆動装置は、さらなるロール表面のうち、さらなるギャップの端縁をなす部分が輸送の方向に回転するように、さらなるロールを回転自在に駆動すべく設計することが可能である。さらなるロールの周面での速度は輸送速度と等しくあってもよい。

駆動装置は、さらなるロールとロールとが同一の方向に回転するように、さらなるロールを回転自在に駆動すべく設計されていてもよい。
処理ステーションは、開示された実施形態又は実施例に従う方法を実施するために設計されることが可能である。

処理ステーションはさらに、輸送ロールまたは輸送ローラとして構成されているもの等、被処理材料の輸送のための複数の輸送要素を備えていてもよい。
処理ステーションの実施形態の効果は、対応する方法の実施形態の効果に対応する。

さらなる実施形態によると、平面状の被処理材料を処理するためのアセンブリが与えられ、このアセンブリは実施形態または実施例に従う処理ステーションを備えている。
さらなる態様によれば、回路基板を製造する方法が提供され、回路基板を生産するための被処理材料は、実施形態または実施例に従う方法によって処理される。

本発明の実施形態により、被処理材料を電解処理または湿式化学処理するため、あるいは被処理材料の表面での材料の交換を促進するために、被処理材料を電解処理または湿式化学処理するアセンブリにおいて、被処理材料から処理液を除去または離隔することが可能となる。したがって、ロール面が、被処理材料の有用領域から間隔を置いて配置構成されて、有用領域が固定要素と直接接触するのを低減または回避するためにギャップが形成されるようになっていてもよい。

本発明の実施形態は、特に、易損性表面を備えた平面的な被処理材料が水平な輸送面またはほぼ水平な輸送面において輸送されるアセンブリにおいて、使用されうる。しかしながら、実施形態はこの応用分野に限定されない。

本発明は、好ましい実施形態または有利な実施形態を参照し、また添付の図面を参照することにより、本明細書中以降においてより詳細に説明される。

実施形態による、処理ステーションの処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。 図１のデバイスの概略的な部分断面側面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションの処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。 一実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。 さらなる実施形態による、処理液を除去するための複数のデバイスを備えた処理ステーションの一部分の概略的な部分断面側面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションの処理液を除去または離隔するためのデバイスの概略正面図。 処理液を除去するためのデバイスの概略的な部分断面側面図。 流入領域および流出領域において実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイスを備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。 さらなる実施態様による、処理ステーションの流出領域を概略的に示す部分側面図。 さらなる実施態様による、処理ステーションの流出領域を概略的に示す部分側面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 さらなる実施形態による、処理ステーションのロールを備えた処理部材の概略を示す部分断面図。 ニップロール対を備えた処理ステーションの概略的な部分断面側面図。

被処理材料を指す方向情報または位置情報は、慣習に従って輸送方向に関して提示される。被処理材料の輸送が輸送方向に対して平行かつ／または非平行である場合に、輸送方向に対して輸送面において直角な方向である長手方向として示される方向は、被処理材料の横幅方向として示される。

被処理材料から処理液が離隔または除去され、および／または被処理材料上で材料の交換が促進されるデバイスおよび方法の実施形態が開示される。「処理液」という用語により、電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリにおいて被処理材料が供される可能性のある任意の液体、特にプロセス薬品、水などのようなリンス液が了解される。

実施形態は、被処理材料の処理であって該処理において被処理材料が水平の輸送面で輸送される処理のためのアセンブリとの関連において開示される。「輸送面より上方」または「輸送面より下方」、「上部表面」、「下部表面」、および処理液の高さまたは液位への言及などのような情報は、そうでないことが指摘されない限りは、そのまま鉛直方向ついて述べている。「水平な輸送面を輸送する」という語によって、特に、被処理材料の少なくとも３つの角部が水平な平面上に位置している被処理材料の輸送と了解されうる。これは、例えば低い固有剛性を有する被処理材料においては、輸送中の被処理材料の少なくとも個別の部分または個別の領域は輸送面の外側に位置するという事実を排除するものではない。

図１は、被処理材料１０から処理液を除去するためのデバイス１の概略正面図である。図２は、図１にＩＩ−ＩＩで示された方向に沿った、デバイス１の概略側面図である。この部分断面側面図の切断面は鉛直平面であり、被処理材料の有用領域が輸送される線に沿った輸送面と交差する。

デバイス１はロール２およびさらなるロール３を含んでなり、該ロールは、被処理材料１０がロール２とさらなるロール３との間を輸送されるように、被処理材料１０の輸送面の両側に配置構成されている。デバイス１は、例えば、図１８の処理ステーション２００においてニップロール対２１３または２１５として使用されうる。

ロール２は、ロール２の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液を保持す
るための保持面として構成されているロール表面４を有する。ロール２は、被処理材料１０がロール２を通過して輸送される時に保持面４と被処理材料１０との間にギャップ８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール２の周囲表面の保持面４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。

さらなるロール３は、ロール３の周囲表面のオフセット部分として提供される、処理液を保持するための保持面として構成されている、さらなるロール表面１４を有する。さらなるロール３は、被処理材料１０がロール３を通過して輸送される時にさらなる保持面１４と被処理材料１０との間にギャップ１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に対して配置される。ロール３の周囲表面のさらなる保持面１４を形成する部分は、ほぼ円筒状に構成されてよい。

ロール２およびさらなるロール３の配置構成および設計によって形成されるギャップ８、１８により、被処理材料１０の横幅方向の大部分にわたって伸びる、被処理材料１０の有用領域１１は、デバイス１の固定要素とは接触しない。有用領域１１における被処理材料１０の表面に損傷を与えるリスクは、このようにして低減可能である。

保持面４およびさらなる保持面１４の円筒形状により、ギャップ８、１８は、被処理材料１０の輸送方向２０において変化しうるギャップ高かつ／または空間高を有する。ギャップ８、１８の最小ギャップ高９、１９は、保持面４、１４の、それぞれのロール２および／または３に向かい合う被処理材料１０の表面から最短距離にある地点によって決まる。

ギャップ８、１８が処理液の通路を許容するとしても、処理液はデバイス１によって被処理材料１０から除去されうる。特に、ギャップ８、１８が最小ギャップ高９、１９へと先細りすることによって、デバイス１は、輸送方向２０にロール２の相対する２つの側において処理液の液位を可変的にすることができる、圧力の減少を引き起こすことができる。

図２は、ロール２の一方の側で液位２２まで貯留された処理液２１と、被処理材料１０がデバイス１を通過した後に残っている、より低い液位２４の処理液２３の層とを概略的に示している。デバイス１は、特に、処理液２１が保持面４およびさらなる保持面１４によって、保持面４の真上に、最小ギャップ高となる配置に相当するギャップ８、１８の下縁からそれぞれ計測されたギャップ８の最小ギャップ高９よりも、かつギャップ１８の最小ギャップ高１９よりも高い液位２２まで、ロール２、３の片側に（図２ではロール２、３の左側に）貯留されるように、設計可能である。

図３〜６，９，１０に関連してより詳細に説明されるように、被処理材料１０が保持面４、１４を通過した後に被処理材料上に依然として残っている処理液２３は、適切な方法で、例えば被処理材料上に流体を流れさせることにより、除去可能である。

デバイス１のロール２、３は、被処理材料１０から液体を除去するためだけでなく被処理材料１０を輸送するためにも設計されうる。この目的のために、ロール２はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられる時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分５、６を有することができる。隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために、回転駆動されうる。エッジ部分５、６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト７が提供される。エッジ部分５、６を１つの回転方向２５に回転させることによって、被処理材料１０はさらに輸送されうる。従って、ロール３はその２つの軸方向端部に、被処理材料がロール２、３を通過せしめられ
る時に被処理材料１０のエッジ領域１２に接して支持するようになる隆起エッジ部分１５、１６を有することができる。隆起エッジ部分１５、１６は、被処理材料１０を輸送するために回転駆動されうる。エッジ部分１５、１６の回転駆動機構のために、デバイス１を使用する場合に被処理材料１０のための処理アセンブリに回転自在に載地されるシャフト１７が提供される。エッジ部分１５、１６を或る回転方向２６に回転させることによって、被処理材料１０はさらに輸送されうる。

エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方は、被処理材料１０を輸送するために、前記被処理材料とともに摩擦結合または確動結合のうち少なくともいずれか一方を形成することができる。例えば、エッジ部分５、６またはエッジ部分１５、１６のうち少なくともいずれか一方に、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０の対応する凹部に係合する突部が形成されてもよい。

ロール２では、隆起エッジ部分５、６は、被処理材料１０を輸送するために被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面４はエッジ部分５、６に対してオフセットされる。エッジ部分５、６の、保持面４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高９を決定する。従って、ロール３では、隆起エッジ部分１５、１６は被処理材料１０を輸送するための被処理材料１０に結合可能な輸送部分として作用する。保持面１４はエッジ部分１５、１６に対してオフセットされる。エッジ部分１５、１６の、保持面１４の半径と比較して隆起している、かつ／または大きい半径が、最小ギャップ高１９を決定する。

エッジ部分および保持面の半径は所望の応用分野に適切であるように選択可能である。例えば、ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満だけ小さくてよい。ロール２、３の保持面を形成する部分の半径は、輸送部分として使用されるロール２、３のエッジ部分の半径よりも、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍだけ小さくてよい。

加えて、ロール２のシャフト７またはさらなるロール３のシャフト１７のうち少なくともいずれか一方が高さ調節可能な軸受を用いて載置されて、被処理材料１０の上部表面からのシャフト７の離間距離または被処理材料１０の下部表面からのシャフト１７の離間距離のうち少なくともいずれか一方が設定可能となっていてもよい。

ロール２およびさらなるロール３は、輸送部分としての役割を果たしているエッジ部分５、６または１５、１６のうち少なくともいずれか一方を回転させると、それぞれのロールの保持面４または１４のうち少なくともいずれか一方も、それぞれのロールの輸送部分と同じ方向に回転するように設計されてもよい。

この目的のために、ロール２またはロール３のうち少なくともいずれか一方は、例えば、輸送部分および保持面の両方が、互いに対する回転という点で固定されてロールの表面上に構成されるように、設計されてもよい。被処理材料１０の有用領域１１から離隔し、およびギャップ８および／またはギャップ１８を画成しているロール表面の部分４および／または部分１４が、輸送部分５，６または１５，１６に対してオフセットになっていることにより、ロール２，３のロール表面は被処理材料１０の輸送速度とは異なる周面速度を有することとなる。しかしながら、別例として、輸送部分が、図８により詳細に説明されるように、保持面に対して回転可能なように提供されてもよい。

１つの実施形態では、輸送部分は保持面に対して回転可能なように提供されてよい。保持面の角速度は、輸送部分の角速度、輸送部分の半径、およびロールの保持面を成形して
いる部分の半径に応じて選択可能である。

デバイス１の複数の改変形態がさらなる実施形態で実施されうる。
例えば、デバイス１のロール２、３がその軸方向端部に隆起部分５、６、１５、１６を有する一方、ロール２またはさらなるロール３のうちいずれか一方に、２以上の隆起部分がさらに提供されてもよい。したがってこのさらなる隆起部分は、特に、該隆起部分が、被処理材料１０と、機械的接触が重要ではない表面領域上に接触するように、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方の上に配置構成されうる。例えば、被処理材料の側部のうちの１つでの接触が臨界的意味をもたない場合には、被処理材料１０の長手方向に伸びている被処理材料の表面領域が、ロール２またはさらなるロール３のうち少なくともいずれか一方のさらなる隆起部分によって支持されてもよい。さらなる隆起部分によって達成される追加の支持作用により、被処理材料１０の有用領域における望ましくない接触のリスクが低減されうる。

デバイス１では、被処理材料の表面とともにギャップを形成する保持面４、１４は輸送面の上方および下方の両方に提供されるが、さらなる実施形態によるデバイスでは保持面は片側のみに提供され、かつ被処理材料の表面とともにギャップを形成する。例えば、そのようなギャップを形成する保持面が、輸送面の上側のみ、または下側のみに配置構成されてもよい。反対側には、例えば、ほぼ一定の直径を有するロールが提供されてもよい。反対側に提供される、ギャップを形成する保持面は、被処理材料の表面を損傷するリスクを低減するために、該表面に加わる力の低減をもたらしてもよい。

さらなる実施形態では、一定の、すなわちロールの軸線方向において変化しない直径を備えたロールの周囲表面も、被処理材料の表面との間にギャップを画成する保持面としての役割を果たすことができる。ギャップ、特に最小ギャップ高の設計は、輸送面に対して高さ調節が可能な軸受によって載置されているロールによって、調節可能であってもよい。さらに、２つのそのようなロールが被処理材料の上側面および下側面の液体を除去するために提供されて、対応するロールと被処理材料との間に形成されるギャップが残っていてもよい。

図３は、さらなる実施形態による、処理液を除去するためのデバイス３１の概略側面図である。デバイス３１は、例えば、図９の処理ステーション２００の流出領域においてニップロール対２１４、２１５、２１６の代わりに使用されうる。機能または設計のうち少なくともいずれか一方においてデバイス１の要素または装備に相当する、デバイス３１の要素または装備は、同じ参照数字で提示されており、重ねて詳細には説明されない。

デバイス３１は液体を保持するための保持面４をなすロール表面を含んでなる。デバイス３１は、保持面４が該保持面と向かい合う被処理材料１０の表面とともに（図３では被処理材料１０の上部表面とともに）ギャップ８を形成するように、設計されている。保持面４は、例えば、回転自在に載置されたロール２の上に提供される。ロール２は、図１および２に関して後述されるように設計されうる。より詳細には、図１，２を参照して記載してきたように、ギャップ８でのロール表面の周面方向の速度は被処理材料１０の輸送速度とは異なっていてもよい。保持面４は、保持面４を通過して輸送される被処理材料１０から処理液を除去する。一実施形態のギャップ８は処理液の通過を許容するので、処理液３４は、被処理材料１０が保持面４を備えたロール２を通過した後も前記被処理材料上にまだ存在する可能性がある。

デバイス３１は、ノズル装置を備えたフローデバイス３２をさらに含んでなる。輸送方向においてフローデバイス３２は、ロール２およびロール２に提供された保持面４から間隔を置いて配置される。フローデバイス３２は、輸送方向に下流に、すなわち輸送方向に
おいて保持面４を備えたロール２の後に、配置構成される。フローデバイス３２は、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の一部を被処理材料１０から除去するために設計されている。フローデバイス３２は、特に、ギャップ８を通り抜けた後に被処理材料１０の上に残っている処理液３４の大部分を被処理材料１０から除去するために設計されていてもよい。

フローデバイス３２は、被処理材料１０から処理液３４を吹き飛ばすために、または流体流３３によって他の方法で処理液を除去するために、流体流３３、特に気体流（例えば空気流）を放出することができる。流体流３３は、デバイス３１のギャップを形成する保持面４の方向に少なくとも１つの流れ成分（図３では、左に配向された成分）を有することができる。保持面４の上では、処理液は被処理材料の側方に流れることができる。

フローデバイスはさらに、流体流３３が、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向、すなわち、保持面４が形成されるロール２の軸線方向と平行に方向付けられた流れ成分を有するように、設計されてもよい。このようにして、処理液３４は被処理材料１０から側方へと除去されうる。

フローデバイス３２は、被処理材料１０の上に、被処理材料１０の幅全体にわたって、すなわち、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０の広がりを覆って伸びていてもよい。流体流３３の放出については、フローデバイス３２は１以上のノズル口を含んでなることができる。ノズル口は、例えば、フローデバイス３２の上に被処理材料１０の横幅方向に形成された一続きのスロット、複数のスロットまたは複数の穴として形成されうる。フローデバイス３２は、被処理材料１０の表面に対するノズル口の離間距離が、被処理材料の幅全体にわたってほぼ同じ寸法であるように設計されてよい。

フローデバイス３２は、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して横方向に方向づけられた直線状のチャネル本体を含んでなることができる。チャネル本体は、別例として、輸送面に対して平行かつ輸送方向２０に対して傾斜をなすように方向づけられてもよい。

１つの実施形態では、フローデバイス３２の形状は、被処理材料の横幅方向におけるフローデバイス３２の中央部分が、フローデバイス３２のエッジ部分よりも、ギャップを形成する保持面４に接近して配置構成されるような形状であってよい。例えば、フローデバイス３２は、輸送面に垂直な方向からの平面図で（すなわち、輸送面の上方から垂直に見た場合の図３において）、保持面４によって形成されたギャップ８へと向かう凸形状を有する形状を有していてもよい。例えば、該平面図におけるフローデバイス３２は、先端部が保持面４を指しているＶ字形状であってもよい。このように構成されたフローデバイスは、被処理材料のエッジ部に向かって処理液を効率良く運んで前記処理液を除去するために、被処理材料の一方のエッジ部の方向に速度成分を有する流体流を放出するように設計されている。

フローデバイス３２は、このように被処理材料上を流れる気体流、特に空気流を放出するように設計可能である。フローデバイス３２は、気体流３３の流出速度が少なくとも２ｍ／秒、特に少なくとも１０ｍ／秒、特に少なくとも３０ｍ／秒であるように設計可能である。

フローデバイス３２は、液体流を放出することによって被処理材料上を流れるように設計されてもよい。フローデバイス３２は、液体流３３の流出速度が少なくとも０．１ｍ／秒、特に少なくとも１ｍ／秒、特に少なくとも３ｍ／秒であるように設計可能である。

フローデバイス３２は、流体流３３の流出方向が被処理材料の表面に対して平行であるかまたは傾斜をなすことができるように設計されてもよい。特に、フローデバイス３２は、流体流がフローデバイス３２のノズル口からギャップ８の方向に、かつ／または輸送方向に対して横方向に出して、被処理材料１０の一方のエッジ部に向かって流れるように、構成されてもよい。別例として、流出方向は、被処理材料１０の表面に対して垂直に方向づけられてもよい。

フローデバイス３２は、流体流３３がギャップ８を通り抜けないように、すなわち、ギャップを形成している保持面４の反対側に貯留された処理液に入らないように、構成可能である。このようにして、流体流３３により処理液２１の中に泡が形成されることが回避または防止されうる。流体流３３がギャップ８を通過するのを回避するために、例えばフローデバイス３２からの流体流３３の体積流量または１以上の体積流量、流出速度、および／または流出方向を適宜設定可能である。

デバイス３１は、ギャップ８とフローデバイス３２の１または複数のノズル口との間の間隔または様々な間隔が、最大でも１００ｍｍおよび少なくとも１０ｍｍであるように、設計されうる。

図３に示されるように、デバイス３１は、さらなるロール３の上に形成されうる、輸送面より下方に配置構成され、さらなる保持面１４をなす、さらなるロール表面をさらに含んでなることもできる。

デバイス３１の複数の改変形態はさらなる実施形態において実装されうる。例えば、図３に関連して、フローデバイス３２が被処理材料１０の輸送方向に関してギャップを形成する保持面４を備えたロール２の下流に配置構成されている、処理液を除去するためのデバイス３１が説明されてきたが、処理液を離隔するためのデバイスは、フローデバイスが被処理材料の輸送方向においてギャップを形成する保持面の前かつ／または上流に配置構成されるように、設計されてもよい。このように形成されたデバイスは、特に、処理ステーションの流入領域において使用されうる。

さらなる実施形態による、処理液を除去または離隔するためのデバイスでは、別例または追加として、フローデバイスから放出される流体流３３により、被処理材料１０の下側から液体を吹き飛ばすために、またはその他の方法で被処理材料１０から液体を除去するために、輸送面より下方にフローデバイス３２が提供されてもよい。

フローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、該フローデバイスは、フローデバイスによって生じる流体流が、輸送方向に対して平行な、ギャップを形成する保持面から離れるように方向付けられた速度成分を有するように、設計可能である。例えば、処理ステーションの流出領域に提供されるフローデバイスでは、フローデバイスによって生じる流体流は、輸送方向に方向付けられた速度成分を有することができる。

処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より上方に提供される場合、輸送要素が輸送面より下方の対応する位置に提供されてもよい。同様のやり方で、処理液を除去するためのフローデバイスが輸送面より下方に提供される場合、輸送要素が輸送面より上方の対応する位置に提供されてもよい。輸送要素およびフローデバイスは、輸送面の両側に、輸送方向に関して同じ位置に配置構成されるとよい。

輸送要素は、例えば、被処理材料の支持または輸送のうち少なくともいずれか一方を行うように設計可能である。輸送要素はロールとして構成されてもよい。ロールはオフセット保持面を有してもよいが、軸線方向にほぼ一定の直径を有してもよい。輸送要素は、複
数のホイールが提供されるホイール車軸として形成されてもよい。ホイールは被処理材料を輸送するために被処理材料と接触するように設計されうる。

図４は、処理ステーションの流出領域４１の概略側面図である。このような流出領域４１は、図９の処理ステーション２００において、内部容器２０１の、被処理材料が処理ステーションを出る側の一端に提供されうる。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を被覆している処理領域４２から、輸送方向２０にさらに輸送される。

流出領域４１は、被処理材料１０から処理液を除去するための複数のデバイス４３、４４および４５を含んでなる。処理液を除去するためのデバイス４３、４４および４５は、被処理材料１０の輸送路に沿って並べられて、輸送方向２０に互いに間隔を置いて配置される。デバイス４３、４４および４５はそれぞれ保持面を有し、該保持面は、該保持面と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるように、輸送面に関して配置構成される。

デバイス４３、４４および４５は、一実施形態によって処理液を除去するためのデバイスとして形成されてもよい。１つの実施形態では、デバイス４３は、被処理材料１０がその間を通過するように配置構成された１対のロール５１、５２を含んでなることができる。デバイス４３のロール５１、５２のうち少なくとも一方には、ギャップを形成する保持面が処理液を保持するために形成されて、被処理材料がロール５１、５２を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール５１、５２のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域、およびその間に提供されたオフセット保持面を有することができる。デバイス４３は、例えば、図１および２に関して記載されたデバイス１のように構成されてもよい。少なくとも、ギャップを形成する保持面が生成されるロール５１，５２は、ギャップの端面、すなわちロール表面が被処理材料１０から最小ギャップ高をもって分離される線に沿って、ロール表面の周面速度が被処理材料１０の輸送速度の向きおよび／または大きさとは異なるように駆動されている。

デバイス４４は、輸送面より上方に配置構成されたロール５３およびフローデバイス５４、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５５およびフローデバイス５６を有することができる。デバイス４４のロール５３、５５のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５３、５５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５４および５６は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５４および５６によって放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。

デバイス４５は、輸送面より上方に配置構成されたロール５７およびフローデバイス５８、ならびに輸送面より下方に配置構成されたロール５９およびフローデバイス６０を有することができる。デバイス４５のロール５７、５９のうち少なくとも一方には、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料１０がロール５７、５９を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、図１および２に関して説明されるように、ロール５７、５９のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッ
ジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。フローデバイス５８および６０は、被処理材料１０の上に残っている処理液を除去するために、被処理材料の上に流体流３３が、例えば空気流が流れるようにする。この目的のために、フローデバイス５８および６０から放出される流体流３３は、該流体流が移動することによって被処理材料の一方のエッジ部の方向に処理液を除去するように、方向づけられてもよい。

ロール５３，５５，５７，５９のうち、少なくとも対応するロールと被処理材料の間のギャップを形成するロールは、被処理材料１０の輸送速度とは、ギャップでの周面速度が向きおよび／または大きさの点で異なるように回転される。

被処理材料１０が連続して通り抜けるデバイス４３、４４および４５の、ギャップを形成する保持面は、様々な設計のものであってよい。例えば、該デバイス上のギャップは次第に狭くなってもよい。例えば、デバイス４３はギャップがデバイス４３の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第１の最小ギャップ高を備えて形成されるように設計される一方、輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、ギャップがデバイス４４の保持面と向かい合う被処理材料１０の表面との間に第２の最小ギャップ高を備えて形成されるように設計されてよい。したがって、デバイス４４の第２の最小ギャップ高は、デバイス４３の第１の最小ギャップ高より小さくてもよい、すなわち、処理ステーションの流出領域におけるギャップは、１つのデバイスから、輸送方向に関して下流に配置構成された処理液を除去するためのさらなるデバイスへ、より低い高さを有していてよい。

処理領域４２を画成するデバイス４３は、ロール５１の、輸送方向に関して互いに反対となる側の間に処理液の液位差７４が設定されるように設計される。処理領域４２では、処理液２１は液位７１まで貯留され、ロール５１の反対側の隣接領域では、処理液は液位７２まで貯留される。

輸送方向に関してデバイス４３の下流に配置構成されるデバイス４４は、被処理材料１０がロール５３、５５を通過する時に被処理材料１０から処理液が除去されるように設計される。ロール５３、５５を通過するように被処理材料１０を移動させた後もなお被処理材料上に存在する処理液７３は、フローデバイス５４、５６によって少なくとも部分的に除去される。輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されるデバイス４５によって、デバイス４４を通過した後もなお被処理材料１０の上に存在しうる処理液のさらに一部が、被処理材料から除去されうる。

処理液を除去するための複数のデバイスの使用によって、処理液は、ギャップが保持面と被処理材料１０との間に依然として残っていても被処理材料１０から確実に除去可能である。

処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４３のロール５２との間に、バリア４７が提供される。バリア４７により、液位７１と液位７２との間の液位差７４がデバイス４３の両側において設定されうる。この目的のために、例えば長穴、穴またはスロットの形状の開口部６１がバリア４７に形成される。開口部６１は、バリア４７を通る液体の流れを調節し、ひいては液位７１と液位７２との間の液位差７４を調節するために、閉止させることが可能である。

処理領域４２に隣接する領域における液位７２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。前記の流れ、ひいては液位７２を調節することを可能にするために、バリア４７とバリア４８との間に１つ以上の開口部、例えば閉止可能な穴が、底部
４６に提供されてもよい。バリア４７に開く開口部、および底部４６に開く開口部を適切に選択することにより、処理領域４２に隣接する領域における所望の液位７２のための基本設定が選択されうる。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えばロール５１、５２、５３および５５を支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。

処理領域４２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液がポンプ（図示せず）によって処理領域４２へ運搬されてもよい。
処理ステーションの内部容器の底部４６と、輸送面より下方に配置構成されたデバイス４４のロール５５との間に、バリア４８が提供される。バリア４８は、液位を調節するための閉止可能な開口部を有する必要はない。バリア４８は、処理領域から出る処理液の流れを縮小するのを支援する。

さらなる実施形態では、流出領域４１の改変形態が実装されうる。１つの実施形態では、例えば、デバイス４５が省略されてもよい。従って、処理液を除去するための２つのデバイスが流出領域に提供されてもよい。輸送方向に関してこれらのデバイスの少なくとも最後にはフローデバイスを有することができる。フローデバイスは少なくとも輸送面より上方に提供されてよい。

さらなる実施形態では、液位差を設定するための１または複数の開口部を備えたバリアを有する、液体を除去するための複数のデバイスが提供されてもよい。バリアは、いずれの場合も、バリア４７に関して説明されたような設計を有することができる。１つの実施形態では、例えば流入領域または流出領域において、２つのデバイスがいずれの場合も液体を保持するための保持面を有する少なくとも１つのロールを備えて提供されてもよく、該保持面は前記保持面を過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成し、輸送面より下方のいずれのデバイスにおいてもバリア４７に関して説明されたような１または複数の開口部を備えたバリアが提供されている。上記デバイスの両方から輸送方向に間隔を置いて、デバイス４４に相当する設計を有するさらなるデバイスが提供されてもよい。このようにして、例えば、流入領域または流出領域において、処理領域に比べてより低い液位の処理液を備えた少なくとも２つの領域が形成されうる。

いずれ場合の液体を除去するためのデバイス４３〜４５においても、ロールは輸送面より上方および下方の両方に提供されて、前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともにギャップを形成するが、さらなる実施形態では、液体を除去するためのデバイスはそれぞれ、保持面が輸送面より上方に提供されたロール上にのみ提供されて、該保持面と前記ロールを過ぎて誘導される被処理材料との間にギャップを残すように、構成されてもよい。輸送面より下方に提供されるロールは、該ロールの軸線方向に一定の直径を有していてもよい。

１つの実施形態では、フローデバイス５４、５６のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。別例として、または追加として、フローデバイス５８、６０のうち一方が輸送要素に置き換えられてもよい。該輸送要素は、被処理材料を支持かつ／または輸送するために設計されていてよい。該輸送要素は、例えば、ロールまたはホイールの車軸として構成されてもよい。

１つの実施形態では、輸送面より下方に提供されるフローデバイス５６、６０のうち一方は、フローデバイス５６、６０によって生じる流体流３３が流出領域４１において輸送
方向に向かう速度成分を有するように、構成されてもよい。

図５は、処理ステーションの流出領域８１の概略側面図である。そのような流出領域８１は、図１８の処理ステーション２００の、内部容器２０１の一端であって被処理材料が内部容器２０１から出る端部に提供されてもよい。流出領域では、被処理材料１０は、処理液２１が被処理材料を被覆している処理領域８２から、輸送方向２０へとさらに輸送される。機能または設計のうち少なくともいずれか一方が流出領域４１の要素またはデバイスに相当する、流出領域８１の要素またはデバイスは、同じ参照数字で提示されており、改めて詳細には説明されない。

個別の処理ステーションでは、処理領域８２において比較的高い液位９１を設定することが望ましい場合もある。処理領域８２の液位９１は、例えば、輸送面より少なくとも１５ｍｍ上方に配置されてもよい。

流出領域８１には、処理液を除去または離隔するための複数のデバイス８３、４４および４５が提供されている。デバイス８３は、間を被処理材料１０が通過せしめられるように配置構成されたロール８４、８５を含んでなる。デバイス８３のロール８４、８５の少なくとも一方に、処理液を保持するためのギャップを形成する保持面が形成されて、被処理材料がロール８４、８５を通過する時に保持面と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップが形成されるようになっていてもよい。特に、ロール８４、８５のうち少なくとも一方は、被処理材料１０を輸送するための隆起エッジ領域と、該エッジ領域の間に設けられたオフセット保持面とを有することができる。ロール８４、８５の対は、例えば、図１および２に関して説明されたデバイス１として構成されてもよい。ギャップ形成保持面が形成される、少なくともロール８４，８５は、ギャップでのロール表面の周面速度、すなわちロール表面が被処理材料１０から最小のギャップ高をもって離間される線に沿った速度が被処理材料１０の輸送速度と、その方向と大きさのうちの少なくとも一方において異なっている方式で駆動される。

処理液が高い液位９１まで貯留するのを可能にするために、デバイス８３はロール８４の上方にさらなる保持要素８６を有する。このさらなる保持要素８６は、貯留される液体の側壁として作用することによって、処理領域８２の高い液位をともなって、処理液の貯留に寄与するように設計される。このさらなる保持要素８６は、ロール８４、８６がかたく閉止されてロール８４と８６との間の液体のわずかな通過のみを可能にするかまたは液体の通過を許さないように、例えばロール８４に対して補完的な様式に構成されたロールとして構成されてもよい。さらなる要素８６の他の実施形態は、例えば、直立した形態であることも可能である。

処理領域８２の液位９１と、該領域に対してデバイス８３の反対側に隣接する領域の液位９２との間の処理液の液位差９７が、デバイス８３によって設定かつ維持されるように、デバイス８３が設計されている。輸送方向に関してデバイス８３の下流に配置構成されたデバイス４４は、被処理材料１０がデバイス４４を通過する時にこの被処理材料からさらなる処理液を除去する。被処理材料１０がデバイス４４のロール対を通り抜けてしまうと、液位９２の代わりに、より少量の処理液９３のみが被処理材料１０上に見出される。デバイス４４を通過した後もさらに必要であれば、輸送方向に関してデバイス４４の下流に配置構成されたデバイス４５が被処理材料１０からさらに処理液を除去してもよい。

液位差９７を設定するために、閉止可能な開口部６１がバリア４７に提供される。処理領域８２に隣接する領域における液位９２は、流出入する処理液の流れの平衡を保つことにより決定される。これらの流れ、ひいては液位９２の設定を可能にするために、１つ以上の開口部９６、例えば閉止可能な穴がバリア４７と４８との間の底部４６に提供されて
もよい。バリア４７に開く開口部６１、および底部４６に開く開口部９６の適切な選択によって、処理領域８２に隣接する領域における所望の液位９２の基本設定が選択可能である。加えて、処理ステーションを側面にそって画成する要素の上に、例えば、デバイス８３および４４のロールを支持するために提供される軸受レシーバの上に、溢流バリアが提供されてもよい。余計に流入した分の液体は溢流バリアを介して放出可能である。

処理領域８２から流出する処理液の流れの平衡を保つために、処理液の流れ９５がポンプ９４によって処理領域８２の中に運搬される。
図４および５を参照して処理ステーションの流出領域の実施形態について記載してきたが、処理液を除去または離隔するためのデバイスは、処理ステーションの流入領域にも適宜提供されうる。特に、流入領域では、被処理材料が処理ステーション内の流入領域に供給される前に処理液が前記被処理材料の上を流れるのを防止するために、複数のデバイスが、処理液を除去または離隔するために、輸送方向に互いに間隔を置いて配置されて提供されてもよい。

ギャップを形成する保持面の設計は、個別の応用分野に応じて適切な方法で選択可能である。
図６は、さらなる実施形態による処理液を除去または離隔するためのデバイス１０１の概略正面図である。

デバイス１０１はロール１０２およびさらなるロール１０３を含んでなる。ロール１０２およびさらなるロール１０３は、被処理材料１０がロール１０２とロール１０３との間を輸送されるように配置構成される。ロール１０２の周囲表面は処理液を保持するために構成された保持面１０４を有する。保持面１０４を備えたロール１０２は、被処理材料１０がロール１０２を通過する時にロール１０２の保持面１０４と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ８が残るように、構成される。ロール１０２の軸方向端部１０５は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、保持面１０４を画成するロール１０２の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。

さらなるロール１０３の周囲表面は処理液を保持するために構成されたさらなる保持面１０６を有する。さらなる保持面１０６を備えたさらなるロール１０３は、被処理材料１０がさらなるロール１０３を通過する時にさらなるロール１０３のさらなる保持面１０６とこのロールに向かい合う被処理材料１０の表面との間にギャップ１８が残るように、設計される。さらなるロール１０３の軸方向端部１０７は、被処理材料１０がその長手方向に伸びるエッジ部において固定レールにより保持される場合に、前記被処理材料を輸送するための輸送部分として作用するために、さらなる保持面１０６を画成するさらなるロール１０３の中央部分よりも小さな直径を備えて構成されている。

被処理材料１０の長手方向に伸びるエッジ部においては、被処理材料１０を輸送するために被処理材料を保持する固定レール１０８、１０９が提供される。そのような固定レール１０８、１０９は、特に、低い固有剛性を有する被処理材料の輸送のために、該被処理材料に付加的な安定性を与えるために使用されうる。デバイス１０１のロール１０２およびさらなるロール１０３は、より小さな直径を備えた該ロールの軸方向端部１０５、１０７が、固定レール１０８、１０９に接して支持するようになるように設計される。ロール１０２およびさらなるロール１０３を回転させることによって、被処理材料１０は、さらに固定レール１０８、１０９を介して輸送されうる。

デバイス１０１では、ロール１０２、１０３の保持面１０４、１０６はロール１０２、
１０３の軸方向端部に提供された輸送部分に対してオフセットされて、被処理材料１０が保持面１０４、１０６を通過する時に保持面１０４、１０６と前記保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に所望の最小ギャップ高を備えてギャップ８、１８が形成されるようになっている。

デバイス１０１では、ロール１０２、１０３は被処理材料１０と直接接触しない。被処理材料１０の輸送は、輸送部分１０５、１０７を被処理材料１０が保持される固定レール１０８、１０９と連結することによって行なわれる。

デバイス１０１では、片側でギャップ８を画成している、ロール１０２のロール表面であって、保持面１０４をなす表面は、被処理材料１０の輸送速度よりも低い周面速度を有している。片側にギャップ１８を形成している、ロール１０３のロール表面であって保持面１０６をなす表面は、被処理材料１０の輸送速度よりも低い速度を有する。

デバイス１０１の改変形態では、ロール１０２、１０３は、被処理材料１０を輸送するために、該ロールが被処理材料１０と固定レール１０８、１０９に隣接するエッジ領域において接触するように構成されてもよい。この目的のために、ロール１０２、１０３において、固定レール１０８、１０９に隣接して被処理材料と接触する隆起した輸送部分が提供されてもよい。ロール１０２、１０３はさらに、ロール１０２、１０３と固定レール１０８、１０９との間に液体を排出するためのギャップも形成されるように設計可能である。この目的のために、固定レールから液体を搾出するための、ロールの輸送部分に対して相応に凹設された凹部または溝が、ロール１０２、１０３に提供されてもよい。ロールと固定レールとの間に形成されるギャップは、１ｍｍ未満、特に０．７ｍｍ未満、特に０．５ｍｍ未満となりうる最小ギャップ高を有することができる。ロールと固定レールとの間に形成されるギャップは、少なくとも０．０５ｍｍ、特に少なくとも０．０７ｍｍ、特に少なくとも０．０９ｍｍとなりうる最小ギャップ高を有することができる。

固定された被処理材料から液体を搾出するためのデバイス１０１は、フローデバイスをさらに含んでなることができる。フローデバイスは、図３に関して説明されたように構成されうる。フローデバイスは、特に、フローデバイスから放出された流体流も固定レールから処理液を除去するように設計可能である。

固定レール１０８、１０９に、液体が輸送方向に対して横方向に固定レールを通過するのを可能にする貫通穴が提供されてもよい。
ロール１０２、１０３は、長手方向に伸びるエッジ部のうち少なくとも一方に提供される固定レール１０８、１０９に対し、輸送面上にありかつ輸送方向に対して横方向に方向づけられた力成分を備えた力を加えるように設計されうる。この力は、反対側の長手方向に伸びるエッジ部に提供される固定レール１０８、１０９が、輸送方向に対して横方向に被処理材料１０を挟持するために離間されうるように、方向づけられてよい。この目的のために、例えば、被処理材料の少なくとも一方の長手方向に伸びるエッジ部の上の固定レール１０８または１０９のうち少なくともいずれか一方は、１つ以上の磁石、特に永久磁石を有していてもよい。輸送面より上方に提供されるロール１０２または輸送面より下方に提供されるロール１０３のうち少なくともいずれか一方は、固定レールに電磁力を与えるために、磁石または複数の磁石を有していてもよい。この力は、固定レールが被処理材料１０の向かい合う長手方向に伸びるエッジ部において弾性的に離間せしめられるように方向づけられてもよい。

図７は、処理液を除去または離隔するためのデバイス１１１の概略側面図である。デバイス１１１では、保持面は回転自在に載置されたロール上には提供されていない。一実施形態によると、デバイス１１１は図１〜６を参照して記載した設計を有するロールと組み
合わせた処理ステーションに与えられる。

デバイス１１１は、被処理材料１０を処理するためのアセンブリにおいてインサートとして使用可能な２つのほぼ立方形の要素１１２、１１３を含んでなる。インサート１１２は輸送面より上方に配置構成され、インサート１１３は輸送面より方に配置構成される。インサート１１２、１１３の表面は、処理液を保持する保持面としての役割を果たす。

デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、被処理材料１０の上部表面とインサート１１２の前記上部表面に面している側面１１４との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される場合にギャップ１１５が残るように、かつ、被処理材料１０の下部表面とインサート１１３の前記下部表面に面している側面１１７との間に、被処理材料１０がデバイス１１１を過ぎて誘導される時にギャップ１１８が残るように、被処理材料１０の輸送路に関して配置構成される。インサート１１２の側面１１４およびインサート１１７の側面１１７は、ギャップ１１５および１１８が一定のギャップ高を備えて輸送方向に伸びるように、平らな設計を有することができる。

デバイス１１１のインサート１１２、１１３は、輸送方向２０とは反対側に開口している、インサート１１２、１１３上の面取り部１１６、１１９によって形成される流入領域を有する。そのような流入領域は、例えば、低い固有剛性を有する被処理材料、例えばフィルムを誘導するために使用されうる。

インサート１１２、１１３を含んでなるデバイス１１１は、被処理材料１０の電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリにおいて処理液２１を貯留するために使用されてもよい。インサートの第１の側（図７において左）に配置構成された、処理液２１が液位１２１まで貯留された処理領域から、被処理材料１０がインサート１１２、１１３を過ぎて誘導される場合、より少ない深さ１２２の処理液の層が被処理材料１０の上に残る。

インサート１１２、１１３は、デバイス１１１が使用されるアセンブリの構造条件に従って適切な方法で構成されうる。例えば、インサート１１２、１１３は、ギャップ１１５、１１８が輸送方向２０にできる限り長いように設計されてもよい。

インサート１１２、１１３は、電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリにおいて回転に関して固定して載置されてもよい。アセンブリにおけるインサート１１２、１１３は、特に、輸送方向において固定される状態で取り付けられてもよい。インサート１１２、１１３は、該インサートが互いに対して鉛直方向に移動可能なように取り付けられてもよい。

デバイス１１１の改変形態では、立方形のインサートが輸送面より上方に提供される一方で、輸送面より下方には被処理材料を輸送するためにロールが提供される。立方形のインサートは、例えば、デバイス１１１のインサート１１２と同じ設計を有していてよい。

図８は、流入領域に１対のロール１３２、１３３が提供され、流出領域にさらなる対のロール１３４、１３５が提供されている、処理ステーション１３１の概略側面図である。流入領域のロール１３２は輸送面より上方に配置構成され、流入領域のロール１３３は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。流出領域のロール１３４は輸送面より上方に配置構成され、流出領域のロール１３５は被処理材料１０の輸送面より下方に配置構成されている。該ロール対により、処理ステーション１３１の処理液２１は液位１３６レベルまで貯留されている。

ロール１３２〜１３５はそれぞれ、その軸方向端部に、被処理材料の輸送のための、隆
起部分５、１５の形態の輸送部分を有する。該端部に提供される輸送部分の間に、より直径の小さい保持面４、１４が形成される。図１および２に関して説明されたように、保持面４、１４を形成するロール表面は、ロールを過ぎて誘導される被処理材料とともに、被処理材料の横幅方向に広がるギャップを形成する。

輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３２の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５と、該輸送部分の間に配置構成された保持面１４とが同じ方向に回転するように、流入領域のロール１３３の異なる部分は回転自在に駆動される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の輸送部分５の回転方向１４１は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より下方に提供されるロール１３３の輸送部分１５の回転方向１４３は、被処理材料１０を輸送方向２０に輸送するために、被処理材料１０との接点において輸送部分１５が輸送方向２０に動くように、選択される。輸送面より上方に提供されるロール１３２の保持面４は、ロール１３２の輸送部分５と同じ方向に回転方向１４２に回転されて、その結果、保持面４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。同様に、輸送機より下方に提供されるロール１３３の保持面１４は、輸送部分１５と同じ方向に回転方向１４４に回転されて、その結果、保持面１４の、被処理材料１０に直接に面する部分が、より液位の高い方向（図８においては右側）に移動するようになっている。

ロール１３２、１３３の適切な設計によって、十分に高い液位１３６が貯留されうる一方、液位の高い領域に向かって保持面４が移動することにより、ロール１３２、１３３の保持面４の上に形成されたギャップを通る液体の通過が十分に低減されうる。この目的のために、ロール１３２、１３３は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に、０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてもよい。

流出領域では、ロール１３４、１３５の輸送部分５、１５は回転方向１４５、１４７に向かって回転して、輸送部分５、１５が被処理材料１０との接点において輸送方向２０に動くようになっている。

流出領域のロール１３４、１３５を用いて流出領域に形成されたギャップを通る液体の通過を低減するために、輸送面より上方に提供されるロール１３４は、ロール１３４の保持面４がロール１３４の輸送部分５に対して回転されうるように、構成されてよい。同様に、輸送面より下方に提供されるロール１３５は、ロール１３５の保持面１４がロール１３５の輸送部分１５に対して回転されうるように、構成されてよい。流出領域では、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４は、このロール１３４の輸送部分５の回転方向１４５に対して反対方向である回転方向１４６に回転されうる。輸送面より下方に提供されるロール１３５の保持面１４は、このロール１３５の輸送部分１５の回転方向１４７に反対の回転方向１４８に回転されうる。このように、保持面４、１４は、輸送面より上方に提供されるロール１３４の保持面４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、流出領域において回転してもよい。同様に、ロール１３５の保持面１４は、ロール１３５の保持面１４の被処理材料１０に直接面する部分が、より液位の高い方向（図８では左側）に動くように、輸送部分１５に反対の方向に回転されてもよい。

保持面４としてのは役割を果たす、ロール１３４のロール表面は、輸送面に最も近いロ
ール表面の各点が被処理材料１０の輸送方向と反対方向（図８の左側）に移動するように、回転される。この方式により、ギャップ８の上端にあるロール表面４と被処理材料１０の間に相対移動が生じる。保持面５の役割を果たす、ロール１３５のロール表面は、輸送面に最も近いロール表面の各点が、被処理材料１０の輸送方向と反対の方向（図８の左側）に移動するように回転される。この方式により、ギャップ９の下端にあるロール表面と被処理材料１０の間に相対移動が生じる。

さらに、流出領域内のロール１３４、１３５は、保持面４、１４と該保持面に向かい合う被処理材料１０の表面との間に０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍの最小ギャップ高を備えてギャップが形成されるように、設計されてもよい。例えば、輸送部分は、保持面に対して０．３ｍｍ未満、例えばおよそ０．１ｍｍだけ高くなっていてよい。

別例または追加として、それぞれの場合に、図３に関して説明されるようにして流体流によりギャップを通って出て来る処理液を除去するために、処理ステーション１３１の流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方に１または複数のフローデバイスが提供されてもよい。

ロール対の適切な設計により、流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、被処理材料の輸送の際に残るギャップを通る液体の流出を低減し、その結果として処理ステーションの流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方には処理液を吹き飛ばすためのフローデバイスは提供されないようにすることが可能である。

流入領域または流出領域のうち少なくともいずれか一方において、図４および５に関して説明されるようにして処理液を除去または離隔するための複数のデバイスがそれぞれ提供されてもよい。

様々な実施形態によるデバイスおよび方法により、被処理材料の電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリにおいて、固定された部材と被処理材料の有用領域との間の直接接触を低減または回避させることを可能にしながら、被処理材料から処理液を除去または離隔すること、あるいは被処理材料上の材料の交換を促進することが可能となる。

図９は、処理ステーションの流出領域２２１を示す部分側面図である。ここに図示されている液体を除去するためのデバイスは、一組のロール２３１，２３２、除去装置２３５、フローデバイス２３６、および駆動装置２３８を備え得る。このデバイスは例えば図１８に示される処理ステーションのニップロール２１４，２１５の代わりに用いることができる。

処理ステーションは基部２２２を有した内部槽を有する。処理液は、処理ステーションのある領域において、基部２２２に相対して高さ２２４を有する動作時液位２２３を有する。動作時液位２２３は被処理材料１０が一組のロール２３１，２３２を通って通過する前に処理液に覆われるように設定される。図４，５を参照してすでに記載したように、バリア２２７と一組のロール２３１，２３２を組み合わせることによって、バリア２２７よりも下流の処理液は被処理材料１０の輸送面よりも下方の液位２２５までしか到達しないようにすることができる。バリア２２７よりも下流の処理液の高さ２２６はバリアの上流の高さ２２４よりも低い。

ロール２３１，２３２は、いずれの場合においても被処理材料１０の対向する端縁の間に連続的に延伸する有用領域から離間するように設計されている。ロール２３１は被処理材料の輸送面の上方に設けられている。ロール２３２は被処理材料の輸送面の下方に設けられている。ロール２３１，２３２のそれぞれはその周面の少なくとも一部が処理液を被
っている。ロール２３１，２３２は、被処理材料がロール２３１，２３２を超えて移動したときには被処理材料１０の全体から離間するように構成されてもよい。より詳細には、ロール２３１，２３２は被処理材料１０の輸送の間には協働しないように設計されてもよい。ロール２３１，２３２は円筒形のロール表面２２８および／または２２９を有することができる。ロール２３１のロール表面２２８と被処理材料１０の間のギャップは被処理材料１０の幅方向において両端の間に連続的に延伸している。ロール２３２のロール表面２２９と被処理材料１０の間にある、さらなるギャップは、被処理材料１０の幅方向において両端の間に連続的に延伸している。

ロール２３１，２３２は駆動装置２３８によって回転自在に駆動される。駆動装置はモータなどのアクチュエータ、およびアクチュエータからのトルクをロール２３１，２３２に伝達するために適切な部品を備えることができる。ロール２３１，２３２のための駆動装置２３８は、同時に他の要素、例えば輸送ロールを駆動するための部品を備えていてもよい。好適には、駆動装置２３８は処理ステーションの内部に設けられ得る。少なくとも駆動装置２３８のモータはカプセル化されている。

駆動装置２３８はロールが値ｖ１の周面速度を有するように駆動する。ロール２３１のロール表面２２８が被処理材料１０の有用領域からギャップ高をもって離間される点での線２３３に沿って、周面速度の速度ベクトル２３４は被処理材料の輸送速度ｖＴと反対の向きを有する。ロール２３１と処理液の間の粘性抵抗により、ギャップを通る処理液の漏出が減少する。一般的に、処理ステーションの流入領域または流出領域において、輸送面の上方に設けられたロール２３１は、ギャップを画成する線上のロール表面がより高い位置へと向かう向きに移動するように駆動される。速度ｖ１の値および／またはロール２３１の回転速度はロールの２つの側面の間の処理液の所望の液位差に応じて決められる。

駆動装置２３８はロールがｖ２の値の周面速度を有するようにロール２３２を駆動する。ロール２３１，２３２は同一の方向に回転するように駆動される。一実施形態によると、第２のロール２３２の速度ｖ２は被処理材料の輸送速度ｖＴに対して±２０％の数値である。その結果、被処理材料１０が低い固有剛性を有するためにロール２３１，２３２と望ましくない接触が生じることのリスクが減少する。ロール２３２は周面速度ｖ２が輸送速度ｖＴよりも速くなるように駆動することもできる。

一実施形態において、ロール２３１，２３２はｖ１＝ｖ２であるように駆動される。
駆動装置２３８はロール２３１が処理液を取り込むように駆動することもできる。取り込む処理液の量は、ロール２３１の表面特性、特に表面粗さ、回転速度、およびロール２３１の直径によって異なる。

除去装置２３５は取り込まれた処理液をロール２３１から取り除く。除去装置２３５は例えばロール２３１の軸と平行に延伸するストリップとして形成され得る。除去装置２３５はロール２３１に取り込まれた多様な処理液のロール２３１の軸方向での釣り合いをとるように構成されることができる。例えば、ロール２３１の軸方向で除去装置２３５をロール表面２２８から均一な距離をもって配置することができる。除去装置２３５は、ロール２３１から処理液を完全に取り除かないことにより、ロール２３１の回転によってロール２３１の周りに処理液の膜が、所定の厚さで形成されるように構成することができる。除去装置２３５は、ロール２３１の周りの処理液の膜がロール２３１と被処理材料１０の間のギャップの有効な断面積を減少させることで処理液の漏出を防ぐように構成することができる。

除去装置２３５によって取り除かれる処理液の量を調節するために、除去装置２３５はロール２３１に相対して調節可能には位置され得る。この方式により、取り除かれる処理
液の量が、例えば所定の液位２２３など条件に応じて設定することができる。

フローデバイス２３６は被処理材料１０に、例えば空気などの流体２３７を流出する。被処理材料１０がロール２３１，２３２の間を通過した後の処理液は依然として被処理材料１０の上にあるので取り除いてもよい。フローデバイスは図３〜５を参照して開示したように構成されてもよい。

図１０は、処理液を除去するための装置を備えた処理ステーションの流出領域２４１を示す部分断面図である。処理液を除去するための装置はロール２３１，２３２、除去装置２３５、および駆動装置２４８からなる。この装置は図１８の処理ステーション２００のニップロール２０４および／または２１４の代わりに用いることができる。図９を参照して記載した流出領域２２１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図９と同一の参照符号で示している。

駆動装置２４８はロール２３２をロール２３１と反対の方向に駆動するように設計されている。ロール２３２の表面は値ｖ２の周面速度を有する。被処理材料１０と最小のギャップをもって離間されるロール２３２の線に沿って、周面速度は被処理材料の輸送速度と反対の方向を向いている。ロール２３２と処理液の間の粘性抵抗により、ロール２３２と被処理材料の間のギャップを通過する処理液の漏出は減少することができる。より詳細には、十分な固有剛性を有する被処理材料１０について、例えば高い固有剛性を有する回路基板について、ロールｖ１、ｖ２は図１０に示されたものとは反対の方向に回転することができる。

ロール２３２の周面速度の値ｖ２は、例えばロール２３２と被処理材料１０の間のギャップを通していかなる液体の流れが許容されるかに応じて選択することができる。より大きな値ｖ２の周面速度によって、一定の単位時間で漏出する処理液の量は減少することができる。一実施形態において、ロール２３１，２３２はｖ１＝ｖ２であるように駆動される。

図９，１０を参照して一組のロールを有する装置に関する記載をしてきたが、さらなる実施形態では図９，１０のような処理ステーションの流出領域において複数の組のロールを用いることもできる。例えば、図４，５を参照して記載したような複数の組のロールが、輸送方向において互いに離間するように設けることができる。この方式により、カスケード状の一連の液位を達成することができる。この代替手段として、あるいは追加の手段として、一組のロールから離隔した装置に固定要素を組み合わせてもよい。

図９，１０を参照して一組のロールを有する装置を記載したが、さらなる実施形態において、１つのロール、例えば輸送面よりも下方に設けられるロール２３２の代わりに固定要素が用いられてもよい。さらなる実施形態において、ロール２３１，２３２の両方が被処理材料から離間されていなくてもよい。ロールに対面する被処理材料の片面が接触に対して傷を受けやすい場合には上記の実施形態のように離間させる。

実施形態の記載において、処理ステーションの内部領域にある流入領域および／または流出領域での処理液の除去または減少のための装置の使用について記載したが、これらの装置は処理ステーションの流入領域および／または流出領域から離隔した状態で、例えば材料の交換を促進するための液体の除去のために用いることができ、それらは図１１〜１７を参照してより詳細に記載される。図１１〜１７をを参照してより詳細に記載される装置において、被処理材料の平面状の表面のみならず、好適にはブラインドホールまたはスルーホールをも処理することができる。図１１〜１７をを参照して記載される装置は、フローノズルと組み合わせて、あるいはフローノズルの代わりに処理ステーションで用いら
れる。フローノズルの代わりに上記の装置を用いる場合には、適切な手段によって処理液は処理ステーションの内部領域に運ばれる。

図１１は処理ステーションの処理領域部２５１を示す部分断面図である。処理領域部２５１は一組のロール２６１，２６２、除去装置２６５、および駆動装置２６８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。

処理ステーションは基部２５２を有する内部槽を有する。処理液は処理ステーションの一定の領域において高さ２５４の動作時液位２５３を有する。動作時液位２５３は被処理材料１０がロール２６１，２６２の近傍を処理液で覆うように設定される。

ロール２６１，２６２はいかなる場合においても被処理材料１０の有用領域からり患しているように設計される。有用領域は対向する両端の間に伸びている。ロール２６１は被処理材料の輸送面の上方に取り付けられている。ロール２６２は被処理材料の輸送面の下方に取り付けられている。処理液は輸送方向においてロール２６１の対向する側面に接触し、動作時液位２５３まで挙げられる。ロール２６２は液位２５３よりも完全に下方にある。

ロール２６１，２６２は、被処理材料１０がロール２６１，２６２の間を通過するときには被処理材料１０の全体から離間しているように設計されてもよい。より詳細には、ロール２６１，２６２は被処理材料１０の輸送の間には協働することがないように設計されることができる。ロール２６１，２６２は円筒形の周面２５８，２５９を有する。ロール２６１と被処理材料１０の間の、ギャップ高９のギャップ８は、被処理材料１０の幅方向において両端の間に連続して延伸している。ロール２６２と被処理材料１０の間のさらなるギャップは、被処理材料１０の幅方向において両端の間に連続して延伸している。
ロール２６１，２６２はは駆動装置２６８によって回転自在に駆動される。駆動装置はモータなどのアクチュエータ、およびアクチュエータからのトルクをロール２６１，２６２に伝達するために適切な部品を備えることができる。ロール２６１，２６２のための駆動装置２６８は、同時に他の要素、例えば輸送ロールを駆動するための部品を備えていてもよい。
駆動装置２６８はロール表面２５８が値ｖ１の周面速度を有するようにロール２６１を駆動する。ロール２６１のロール表面２２と被処理材料１０の間に形成されるギャップの限界を現す点での線２６３に沿って、周面速度の速度ベクトル２６４は被処理材料の輸送速度ｖＴと反対の向きを有する。ロール２６１のロール表面と被処理材料１０はギャップ８の両端において一定の相対速度をもって移動する。被処理材料１０のロール２６１に対向する表面での材料の交換は、これにより有効に促進される。駆動装置２３８はロールの周面速度の値がｖ２であるようにロール２６２を駆動する。
ロール２６１，２６２は同一の方向に回転するように駆動装置２６８によって駆動される。より詳細には、輸送面よりも下方に配置されるロール２６２は、被処理材料１０からギャップ高をもって離間されるロール２６２の線に沿ったロール表面が被処理材料１０の輸送速度ｖＴの方向に移動する。
除去装置２６５は処理液をロール２６１から取り除くために設けられる。除去装置２６５とロール２６１の間の距離は調節可能である。この方式により除去装置２６５によって取り除かれる処理液の量が設定される。除去装置２６５の設計および動作のモードは除去装置２３５に関連して開示されている設計及び動作のモードに対応する。より詳細には、除去装置は、ロール２６１が処理液の膜に完全に囲まれているように設定することができる。
図１２は、処理ステーションの処理領域部２７１の部分断面図である。処理領域部２７１は一組のロール２６１，２６２、除去装置２６５、および駆動装置２７８を有する。これ
らの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１を参照して記載した処理領域部２５１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１と同一の参照符号で示している。

駆動装置２７８はロール２６１，２６２が同一の方向に回転するようにこれらを駆動する。ロール２６１が被処理材料１０の有用領域からギャップ高９を持って離間される線２６３に沿って、ロール２６１のロール表面は速度２７４で移動し、その向きは被処理材料１０の輸送の方向と同一である。周面速度ｖ１の大きさは輸送速度ｖＴの大きさと異なるように設定することができる。ロール２６２が被処理材料１０の有用領域からギャップ高を持って離間される線２７５に沿って、ロール２６２のロール表面は被処理材料１０の輸送方向とは反対を向いている。このことによりロール２６２のロール表面と被処理材料１０の間にはギャップの場所で相対速度を生じる。

さらなる実施形態において、図１３，１４を引用して下記に記載されるように、駆動装置は、輸送面よりも上方に設けられたロール２６１と輸送面よりも下方に設けられたロール２６２が反対の方向に回転するように設計されてもよい。

図１３は、処理ステーションの処理領域部２８１の部分断面図である。処理領域部２８１は一組のロール２６１，２６２、除去装置２６５、および駆動装置２８８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１，１２を参照して記載した処理領域部２５１または処理領域部２７１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１，１２と同一の参照符号で示している。

駆動装置２８８はロール２６１，２６３を反対の方向に駆動する。ロール２６１が被処理材料１０の有用領域とギャップ高９をもって離間される線２６３に沿って、ロール２６１のロール表面は被処理材料１０の輸送速度とは反対を向く速度２８４で移動している。ロール２６２が被処理材料１０の有用領域とギャップ高をもって離間される線２６５に沿って、ロール２６２のロール表面は被処理材料１０の輸送速度とは反対を向く速度２８６で移動している。その結果、被処理領域１０とロール２６１の間にあるギャップと、被処理材料１０とロール２６２の間にあるさらなるギャップとの両方において、それぞれギャップを画成する場所で被処理材料とロール２６１または２６２の間に相対速度を生じる。被処理材料の両面において、材料の交換が有効に促進される。

図１４は、処理ステーションの処理領域部２９１の部分断面図である。処理領域部２９１は一組のロール２６１，２６２、除去装置２６５、および駆動装置２９８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１，１２を参照して記載した処理領域部２５１または処理領域部２７１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１，１２と同一の参照符号で示している。

駆動装置２９８はロール２６１，２６２を反対の方向に駆動する。ロール２６１が被処理材料１０の有用領域とギャップ高９をもって離間される線２６３に沿って、ロール２６１のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一の方向を向く速度２９４で移動している。ロール２６２が被処理材料１０の有用領域とギャップ高をもって離間される線２７５に沿って、ロール２６２のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一方向の速度２９６で移動している。

速度２９４の値はロール２６１の周面速度ｖ１に対応する。速度２９６の値はロール２６２の周面速度ｖ２に対応する。周面速度ｖ１、ｖ２のうちの少なくとも一方は被処理材料１０の輸送速度ｖＴと異なっている。その結果、対応するロールと被処理材料の間に相対速度が生じる。

さらなる実施形態において、１つのロールのみが処理部材として提供されてもよい。このロールは輸送面よりも上方にあっても、下方にあってもよい。輸送面について反対側の対向するロールを有しない、ロールの形態をなす処理部材はスルーホールやブラインドホールの処理のために用いられることができる。

図１５は、処理ステーションの処理領域部３０１の部分断面図である。処理領域部３０１はロール３０２、除去装置２６５、および駆動装置３０８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１，１２を参照して記載した処理領域部２５１または処理領域部２７１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１，１２と同一の参照符号で示している。

ロール３０２は輸送面よりも上方に設けられ被処理材料１０とロール３０２の間において、被処理材料１０の有用領域の全体にわたってギャップが延伸している。処理液はロール３０２の両側に接触し動作時液位２５３まで到達する。駆動装置３０８はロール３０２を回転自在に駆動する。ロール３０２が被処理材料１０の有用領域とギャップ高９をもって離間される線３０３に沿って、ロール３０２のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一の方向を向く速度３０４で移動している。速度３０４の値はロール３０２の周面速度ｖ１に対応する。周面速度ｖ１は被処理材料１０の輸送速度ｖＴと異なっている。その結果、ギャップ８において、ロール３０２と被処理材料の間に相対速度が生じる。

図１６は、処理ステーションの処理領域部３１１の部分断面図である。処理領域部３１１はロール３１２、および駆動装置３１８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１，１２を参照して記載した処理領域部２５１または処理領域部２７１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１，１２と同一の参照符号で示している。

ロール３１２は輸送面よりも下方に設けられ被処理材料１０とロール３０２の間において、被処理材料１０の有用領域の全体にわたってギャップが延伸している。ロール３１２は完全に処理液に囲まれている。駆動装置３１８はロール３１２を回転自在に駆動する。ロール３１２が被処理材料１０の有用領域とギャップ高１９をもって離間される線３１３に沿って、ロール３１２のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一の方向を向く速度３１４で移動している。速度３１４の値はロール３１２の周面速度ｖ２に対応する。周面速度ｖ２は被処理材料１０の輸送速度ｖＴと異なっている。その結果、ギャップ１８の両端において、ロール３１２と被処理材料の間に相対速度が生じる。

さらなる実施形態において、処理部３０１のロール３０２または処理部３１１のロール３１２は、線３０３／３１３に沿うロール３０２／３１２の回転速度が被処理材料１０の輸送速度と反対を向く速度ベクトルを有していてもよい。このような設計では高い固有剛性を有する被処理材料を用いることができる。

さらなる実施形態において、処理部材として輸送方向においてオフセットになっている一組のロールを設けてもよい。このような処理部材は、スルーホールの処理に用いること
ができる。

図１７は、処理ステーションの処理領域部３２１の部分断面図である。処理領域部３２１は一組のロール２６１，２６２、除去装置２６５、および駆動装置３２８を有する。これらの要素は被処理材料の表面での材料交換を促進するために用いられ、例えば、図１８の処理ステーション２００のフローノズル２０６，２０７の代わりに用いられる。図１１，１２を参照して記載した処理領域部２５１または処理領域部２７１の要素および／装置と設計または機能が対応する要素／および装置は図１１，１２と同一の参照符号で示している。

ロール２６１は輸送面よりも上方に設けられ、ロール２６２は輸送面よりも下方に設けられ、輸送方向において互いにオフセットになっている。ロールの配置が輸送面に対して鏡面対象になっていないため、スルーホールを容易に処理することができる。

駆動装置３２８はロール２６１，２６２を反対の方向に駆動する。ロール２６１が被処理材料１０の有用領域とギャップ高９をもって離間される線２６３に沿って、ロール２６１のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一の方向を向く速度３２４で移動している。ロール２６２が被処理材料１０の有用領域とギャップ高をもって離間される線２７５に沿って、ロール２６２のロール表面は被処理材料１０の輸送速度と同一方向の速度３２６で移動している。

速度３２４の値はロール２６１の周面速度ｖ１に対応する。速度３２６の値はロール２６２の周面速度ｖ２に対応する。周面速度ｖ１、ｖ２のうちの少なくとも一方は被処理材料１０の輸送速度ｖＴと異なっている。その結果、対応するロールと被処理材料の間に相対速度が生じる。

図面を参照して記載してきた装置において、ロールと被処理材料の間の相対速度は０．１〜２０ｍ／ｓ、好適には０．２〜１０ｍ／ｓ、より好適には０．５〜５ｍ／ｓである。
図１１〜１４，１７を参照して記載してきたように、輸送面に対して対向するように設けられた一組のロールは連続処理アセンブリの処理ステーションにおける処理部材として用いることができる。これらの実施形態において、２つのロールは同一の方向に回転するように駆動されることができる。このような場合、特に輸送面の下方に設けられたロールは、ギャップ高をもって被処理材料の有用領域から離間されている線に沿う周面速度は輸送方向に沿っている。さらなる実施態様において、２つのロールは反対の向きに回転するように駆動されてもよい。駆動装置は、ロールが同一方向に回転するようにも、反対方向に回転するようにも設計され得る。

図１１〜１４，１７を参照して記載したのとは異なる実施形態において、輸送面よりも上方に設けられたロールの周面速度ｖ１と下方に設けられたロールの周面速度ｖ２は等しいものであってもよい。さらなる実施形態において、ｖ１＞ｖ２、さらにはｖ１＞＞ｖ２、あるいはｖ１＜ｖ２、ｖ１＜＜ｖ２であってもよい。ｖ２は被処理材料の輸送速度ｖＴから±２０％であることが可能である。

図９〜１７を参照して記載してきた多様な装置において、ロールの周面は円筒形であってよい。表面は開口を有しない円筒形にすることができる。好適には、処理液を透過しない表面であってよい。ロールの表面は好適には円筒形であり被処理材料の有用領域の全体にわたって延伸することによって、両端の領域の間に連続的にギャップが形成される。さらなる実施形態において、複数のロール形状の部分要素が組み合わされて、有用領域にわたるギャップを部分的に形成してもよい。

図面に示され、かつ詳細に記載された実施形態の数多くの改変形態は、さらなる実施形態において実装されてもよい。
図１１〜１７を参照して、ロールの近傍で輸送面よりも上方に除去装置が設けられる装置が記載され、さらなる実施形態では輸送面の下方にロール近傍に固定要素が設けられる。固定要素は、例えば、ストリップの形態であってもよい。ストリップはロール近傍の流れの場に影響を与える。ストリップはロールに相対して調節可能である。

上記のすべての実施形態において１つ以上のロールは電解処理の電極として設計されることが可能である。より詳細には、内部陽極として形成されることができる。
上記のすべての実施形態において、ロールは処理の許容範囲でなめらかな表面を有していてもよい。さらなる実施形態において、ロールの表面はテクスチャ加工されていてもよい。

上記のすべての実施形態において、ロールはロールの軸が輸送速度から９０°ずれている角度に配置されてもよい。
様々な実施形態において、被処理材料に対して横方向にほぼ同じ高さで被処理材料の横幅方向に伸びる保持面が記載されてきたが、ギャップを形成する保持面は、ギャップの断面、特にギャップ高が被処理材料の横幅方向に変化するように構成されてもよい。例えば、被処理材料の横幅方向における保持面は、被処理材料の横幅方向における位置に依存して形成されるギャップがエッジ部よりも被処理材料の中央においてより高くなるように、凹面であってもよい。

様々な実施形態が、特に、被処理材料が連続的に水平の輸送面において輸送される処理アセンブリにおいて使用されうる一方、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送されるアセンブリにおいても実施形態が使用されうる。例えば、被処理材料が鉛直の輸送面において輸送される場合にも、ギャップを形成する保持面およびフローデバイスの組み合わせを液体の貯留のために使用可能である。１つ以上のロール、軸が垂直方向に向いているものは、被処理材料が垂直輸送面において輸送されるときには、処理部材として用いることができる。

実施形態において、被処理材料の有用領域全体から離間するロールの、処理ステーションの流入領域または流出領域での使用が記載されてきたが、さらなる実施形態では処理ステーションは、少なくとも１つの回転自在のロールと処理部材を、図１１〜１７を参照して記載したように有していてもよく、図１〜１０を参照して記載したように、流入領域または流出領域で少なくとも１つの回転自在のロールを有するものであってもよい。

様々な実施形態によるデバイスおよび方法は、例えば、プリント回路基板のような回路基板の製造において使用可能であるが、その使用はこれに限定はされない。

１…処理液を除去するためのデバイス、２…ロール、３…さらなるロール、４…保持面、５，６…隆起エッジ部分、７…シャフト、８…ギャップ、９…最小ギャップ高、１０…被処理材料、１１…有用領域、１２…エッジ領域、１４…さらなる保持面、１５，１６…隆起エッジ部分、１７…シャフト、１８…さらなるギャップ、１９…最小ギャップ高、２０…輸送方向、２１…処理液、２２…液位、２３…処理液、２４…液位、２５，２６…回転方向、３１…処理液を除去するためのデバイス、３２…フローデバイス、３３…流体流、３４…処理液、４１…流出領域、４２…処理領域、４３，４４，４５…処理液を除去するためのデバイス、４６…底部、４７，４８…バリア、５１，５２…ロール、５３，５５…ロール、５４，５６…フローデバイス、５７，５９…ロール、５８，６０…フローデバイス、６１…開口部、７１，７２…液位、７３…処理液、７４…液位差、８１…流出領域、
８２…処理領域、８３…処理液を除去するためのデバイス、８４〜８６…ロール、９１，９２…液位、９３…処理液、９４…ポンプ、９５…液体流、９６…開口部、９７…液位差、１０１…処理液を除去するためのデバイス、１０２…ロール、１０３…さらなるロール、１０４…保持面、１０５…凹設されたエッジ部分、１０６…さらなる保持面、１０７…凹設されたエッジ部分、１０８，１０９…固定レール、１１１…処理液を除去するためのデバイス、１１２，１１３…インサート、１１４，１１７…側面、１１５，１１８…ギャップ、１１６，１１９…面取り部、１３１…処理ステーション、１３２〜１３５…ロール、１３６…液位、１４１〜１４８…回転方向、２００…処理ステーション、２０１…内部容器、２０２…外部容器、２０３…被処理材料、２０４…輸送方向、２０６，２０７…フローノズル、２０８…処理液、２０９…外部容器内の液位、２１０…ポンプ、２１１，２１２，２１４，２１６…輸送ロール対、２１３，２１５…ニップロール対、２２１…流出領域、２２２…基部、２２３，２２５…液位、２２４，２２６…高さ、２２７…バリア、２２８，２２９…ロール表面、２３１，２３２…ロール、２３３…ロール表面上の線、２３４…速度、２３５…除去装置、２３６…フローデバイス、２３７…流体のフロー、２３８…駆動装置、２４１…流出領域、２４８…駆動装置、２５１…処理領域部、２５２…基部、２５３…動作時液位、２５３…高さ、２５８，２５９…ロール表面、２６１，２６２…ロール、２６３…ロール表面上の線、２６４…速度、２６５…除去装置、２６６…距離、２６８…駆動装置、２７１…処理領域部、２７４…速度、２７５…ロール表面上の線、２７６…速度、２７８…駆動装置、２８１…処理領域部、２８４，２８６…速度、２８８…駆動装置、２９１…処理領域部、２９４，２９６…速度、２９８…駆動装置、３０１…処理領域部、３０２…ロール、３０３…ロール表面上の線、３０４…速度、３０８…駆動装置、３１１…処理領域部、３１２…ロール、３１３…ロール表面上の線、３１４…速度、３１８…駆動装置、３２１…処理領域部、３２４，３２６…速度、３２８…駆動装置。

Claims (12)

1. 被処理材料（１０）を電解処理または湿式化学処理するためのアセンブリ内を通って輸送される、平面的な被処理材料（１０）を処理するための方法であって、
   前記アセンブリの処理ステーションの内部で被処理材料（１０）を覆うように処理液（２１）に供する工程であって、前記処理液（２１）は前記処理ステーションの処理領域の動作時液位（２５３）まで充満させる、前記被処理材料（１０）を覆うように処理液（２１）に供する工程を備え、
   前記処理ステーション内において、ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）を有するロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）は、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）が前記被処理材料（１０）の有用領域（１１）からは少なくとも離間し、前記有用領域（１１）が前記被処理材料（１０）の端縁領域（１２）の間に連続的に延伸することによって、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）と前記被処理材料（１０）の有用領域の間にギャップ（８，１８）が残され、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）は少なくとも一部が前記動作時液位（２５３）まで充満する前記処理液（２１）内に配備され、かつ前記ギャップ（８，１８）にて前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）と前記被処理材料（１０）の表面との間に相対速度が生じるようにロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）を回転自在に駆動する、方法。
2. 前記ロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）は、前記ロール表面の周面速度（ｖ１、ｖ２）が前記被処理材料（１０）の輸送速度（ｖＴ）とは異なり、好適には前記輸送速度（ｖＴ）よりも大きい、請求項１に記載の方法。
3. 除去装置（２３５；２６５）によって前記処理液が前記ロール（２３１；２６１；３０２）から除去される、請求項１または２に記載の方法。
4. 前記除去装置（２３５；２６５）は、前記ロール（２３１；２６１；３０２）から一定量の前記処理液を除去するために調節可能である、請求項３に記載の方法。
5. 前記ロール（２３１；２６１；３０２；３１２）は前記処理ステーションの処理部材として設けられる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記処理液（２１）は、前記ロール（２６１；３０２）の対向する側面と前記輸送方向で接触し、前記処理ステーションの前記動作時液位（２５３）に達し、または、前記ロール（２６２；３１２）が前記処理ステーションの前記動作時液位（２５３）よりも完全に下方に配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 前記処理ステーションにおいて、前記被処理材料（１０）の有用領域（１１）とさらなるロール表面（１４）の間にさらなるギャップが残されるように、前記さらなるロール表面（１４）を有するさらなるロール（３；５２，５５，５９；８５；１０３；１３３，１３５；２３２；２６２）を配置し、前記ロール（２；５１，５３，５７；８４；１０２；１３２，１３４；２３１；２６１）と前記さらなるロール（３；５２，５５，５９；８５；１０３；１３３，１３５；２３２；２６２）は前記被処理材料（１０）の輸送面の対向する両側に配置される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 被処理材料（１０）の電解処理または湿式化学処理のためのアセンブリで用いられる平面状の被処理材料（１０）の処理ステーションにおいて、前記処理ステーションは動作時に前記被処理材料（１０）を処理液（２１）で覆うように設計され、前記処理液（２１）は前記処理ステーションの処理領域の動作時液位（２５３）まで充満させ、かつ、
   ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）を有するロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）であって、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）が前記被処理材料（１０）の有用領域（１１）からは少なくとも離間し、前記有用領域（１１）が前記被処理材料（１０）の端縁領域（１２）の間に連続的に延伸することによって、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）と前記被処理材料（１０）の有用領域（１１）の間にギャップ（８，１８）が残され、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）は少なくとも一部が前記動作時液位（２５３）まで充満する前記処理液（２１）内に配備されている、ロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）と、
   前記ロール（２，３；５１，５２，５３，５５，５７，５９；８４，８５；１０２，１０３；１３２−１３５；２３１，２３２；２６１，２６２；３０２，３１２）を、前記ロール表面（４，１４；１０４，１０６；２２８，２２９；２５８，２５９）と前記被処理材料（１０）の表面の間に相対速度が生じるように回転自在に駆動すべく設計されている駆動装置（２３８；２４８；２６８；２７８；２８８；２９８；３０８；３１８；３２８）とを備える、処理ステーション。
9. 前記被処理材料（１０）の有用領域（１１）とさらなるロール表面（１４）の間にさらなるギャップが残されるように、前記さらなるロール表面（１４）を有するさらなるロール（３；５２，５５，５９；８５；１０３；１３３，１３５；２３２；２６２）をさらに備え、前記ロール（２；５１，５３，５７；８４；１０２；１３２，１３４；２３１；２６１）と前記さらなるロール（３；５２，５５，５９；８５；１０３；１３３，１３５；２３２；２６２）は前記被処理材料（１０）の輸送面の対向する両側に配置される、請求項８に記載の処理ステーション。
10. 請求項１〜７に記載の方法を実施するために設計されている、請求項８または９に記載の処理ステーション。
11. 平面状の被処理材料（１０）を処理するためのアセンブリにおいて、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の処理ステーション（２２１；２４１；２５１；２７１；２８１；２９１；３０１；３１１）を備える、アセンブリ。
12. 回路基板を製造するために請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法によって被処理材料（１０）の処理を行う、回路基板の製造方法。

Images