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TW202423814A - 用於可旋轉地支撐輸送系統之輥之軸之區段的裝置、總成、輸送系統及用於工件之濕式化學處理的設備 - Google Patents

用於可旋轉地支撐輸送系統之輥之軸之區段的裝置、總成、輸送系統及用於工件之濕式化學處理的設備 Download PDF

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TW202423814A
TW202423814A TW112129799A TW112129799A TW202423814A TW 202423814 A TW202423814 A TW 202423814A TW 112129799 A TW112129799 A TW 112129799A TW 112129799 A TW112129799 A TW 112129799A TW 202423814 A TW202423814 A TW 202423814A
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TW
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shaft
space
roller
reference axis
Prior art date
Application number
TW112129799A
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Inventor
菲德納 溫諾
福爾克 巴赫曼
韓法蘭克
陳查爾斯
布瑞塔 席勒
Original Assignee
德商德國艾托特克有限兩合公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Abstract

一種用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中可旋轉地支撐一輸送系統之一輥(2)之一軸(4)之一區段之裝置包括至少一個本體(14)。在該至少一個本體(14)中形成用於接納該軸區段之一空間。該空間包括：一第一區段(17)，其具有以一參考軸線(15)為中心之一橫截面，其之一周長在該周長之至少大部分內位於一圓上；及一第二區段(18)，其在軸向方向上從該第一區段(17)延伸至該空間之一軸向端。該第二區段(18)在多個例如全部軸向位置處具有一各自橫截面，其之一邊界在至少一個特定角位置(ϕ 0)處與該參考軸線(15)之一徑向距離等於該圓之半徑之一長度(R 1)且具有從該參考軸線(15)延伸至該邊界之一曲率半徑。該第二區段(18)之該等各自橫截面在除該特定角位置(ϕ 0)之外之至少一角位置範圍([-ϕ 1,ϕ 1])內具有自該參考軸線(15)之一徑向範圍，其相對於該第一區段(17)在對應角位置處之該橫截面之徑向範圍增加。

Description

用於可旋轉地支撐輸送系統之輥之軸之區段的裝置、總成、輸送系統及用於工件之濕式化學處理的設備
本發明係關於一種用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中可旋轉地支撐一輸送系統之一輥之一軸之一區段之裝置，該裝置包括至少一個本體， 其中在該至少一個本體中形成用於接納該軸區段之一空間， 其中該空間包括： 一第一區段，其具有以一參考軸線為中心之一橫截面，其之一周長在該周長之至少大部分內位於一圓上；及 一第二區段，其在軸向方向上從該第一區段延伸至該空間之一軸向端，及 其中該第二區段在多個(例如，全部)軸向位置處具有一各自橫截面，其之一邊界在至少一個特定角位置處與該參考軸線之一徑向距離等於該圓之半徑之一長度且具有從該參考軸線延伸至該邊界之一曲率半徑。
本發明亦係關於一種用於安裝於一輸送系統中之總成，其包括： 至少一個輥，其具有一軸；及 根據前述請求項中任一項之至少一個裝置，其用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中支撐該輥之該軸之一區段。
本發明亦係關於一種用於輸送工件通過用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽之系統，該系統包括至少一個總成，該總成包括： 至少一個輥，其具有一軸；及 至少一個裝置，其用於在該浴槽中支撐該輥之該軸之一區段。
本發明亦係關於一種用於工件之濕式化學處理(例如，用於表面電鍍)之設備，其包括用於形成一處理浴槽之一容器及用於透過該浴槽輸送該等工件之一系統。
CN 212668376 U揭示一種輥輸送機構及輸送裝置。輥輸送機構包含一輥及一旋轉軸。旋轉軸之兩端上分別套有兩個支撐套筒，且兩個支撐套筒分別旋轉及支撐軸之兩端。當支撐套筒磨損時，可更換支撐套筒，此可減少軸旋轉期間之磨損。套筒看似穿過一軸承，該軸承藉由提供具有延伸穿過整個軸承之稍微移位之中心軸線之兩個孔徑而獲得。此之一個問題係，加工液體可相對大量地行進通過軸承，且到達設置於軸承之另一側上之一齒輪。此通常係非所要的。在濕式化學處理包括無電極電鍍之情況下，可出現稱為析出(plate-out)之一現象，藉此電鍍材料在此情況下沈積於齒輪上。另外，更換套筒需要使輸送機構停止服務。
CN 215491814 U揭示一種支撐限制結構，其包括：一第一側壁；一第二側壁，其與第一側壁相對配置；及一圓形支撐件，其形成於第一側壁與第二側壁之間。支撐限制結構可進一步包含一底壁，其固定地連接至第一側壁及第二側壁，且安置於用於一圓形軸之一通道之一底部處。底壁阻擋一圓形軸向下移出通道。底壁具有與通道連通之一槽以防止液體積聚於底壁之上表面上，且槽可促進排水。槽之一問題係軸之垂直位置未非常明確地界定，此對於承載一工件之一輥軸可為一問題。為了處理目的，可需要明確地界定垂直位置。此外，在此種類之一輸送系統中，大量輥總成通常串聯配置。至少下支撐輥在垂直位置上不應有明顯差異，以便避免損壞精密工件。
WO 03/069965 A1揭示一種用於在輸送線中運輸平坦工件之裝置。在一較佳應用中，印刷電路板及印刷電路箔經運輸以在濕式化學(水平或垂直)輸送加工線中進行加工。該裝置包括安置於一運輸平面之一各自側上且面向彼此以用於運輸工件之至少一對輥以及與輥相關聯之運輸驅動器。該對之一下輥承載於一固定下軸承中，其判定工件定位之高度。上輥以其能夠依工件之厚度自動調整之一方式自由承載。推力軸承服務於此目的。固定下軸承之一問題係，當軸固定時，在軸承中存在相對較少液體。在濕式化學處理包括無電極電鍍之情況下，可在輥軸及軸承上發生析出。所沈積之材料必須不時地被移除，此意謂包括輥軸及軸承之總成必須被移除，且加工設備暫時停止服務。在其他類型之加工中，軸承可變乾，從而引致增加的磨損。
本發明之一目標係提供上文提及之類型之一裝置、總成、系統及設備，其等需要相對較少維護來保持操作。
根據一第一態樣，此目標藉由根據本發明之裝置來達成，其特徵在於第二區段之各自橫截面在除特定角位置之外之至少一角位置範圍內具有自參考軸線之一徑向範圍，其相對於第一區段在對應角位置處之橫截面之徑向範圍增加。
該裝置可為一對之一者，其配置於可旋轉支撐軸之任一軸向端處。該裝置可體現為用於一輸送系統之一可更換嵌件，或係此一輸送系統之一固定組件。該裝置包括至少一個本體，該至少一個本體界定用於在軸之一軸向端附近接納軸之一區段之一空間。可在一個本體或由連結在一起(例如，藉由接合或焊接)之多個本體形成之一組件中界定空間。大多數實施例可一件式製作，使得該裝置包括一個本體，其中形成用於接納軸之空間。空間之第一區段在一軸向位置範圍之各者處(例如，沿著軸向方向上之整個長度)具有一橫截面，該橫截面之周長係圓形的。周長具有一封閉形狀。周長自圓形形狀之非函數偏差係可能的。此僅意謂在限定第一空間之至少一個本體之內壁表面中可存在刮痕或淺溝槽，透過此液體在軸向方向上之明顯流動係不可能的。否則，周長在該周長之大部分(例如，周長之長度之至少95%或至少99%)位於圓上。
第一區段之橫截面之半徑之長度(從軸線至本體之內表面之距離，該內表面限定用於接納軸之空間之第一區段)通常將具有僅略大於接納於其中之軸區段之一值。因此，當裝置以水平定向之參考軸線安裝時，軸經可靠及精確地定位以在橫向於參考軸線之垂直及水平方向上具有較少間隙。
在使用中，軸之大部分將在軸向方向上從第二區段延伸至裝置之周圍。僅一相對短區段將在軸向方向上從第一區段延伸至裝置之周圍。該相對短區段可配備有一齒輪以驅動軸。當工件經輸送通過浴槽時，相對長區段將支撐工件。第一區段中在界定空間之內表面與配置於第一區段中之軸區段之外表面之間之相對狹窄間隙提供一相對高流動阻力，使得防止液體在軸向方向上之大量流動完全通過裝置。
另一方面，第二區段在徑向方向上擴大，使得更多液體可包圍容納於用於接納軸之空間之第二區段中之軸區段。此有助於減少析出。此外，更多液體可達成從第二區段至第一區段之過渡，使得第一區段將不容易變乾，例如，當軸閒置時。此有助於防止磨損。第二區段在各軸向位置處具有一各自橫截面，其之一邊界在至少一個特定角位置處與參考軸線之一徑向距離等於圓之半徑之一長度(第一區段之橫截面之周長位於該圓上)。在該特定角位置處，邊界亦形成具有從參考軸線延伸至邊界之一曲率半徑之一圓形片段。因此，此曲率半徑相同於圓之曲率半徑。當裝置處於一操作位置時，特定角位置標記第二空間之底部，其中參考軸線水平延伸。具有對應半徑之一軸可旋轉地支撐在操作位置。因此，軸沿著第一及第二區段兩者之長度在一個方向上被支撐。在使用中，此係當裝置處於操作位置時工件之重量被承載之方向，其中參考軸線水平定向。軸區段被支撐之長度相對於至少一個本體在軸向方向上之尺寸而言係相對長的。因此，軸在負載下不會明顯下垂。
經觀察，第二區段中之空間之橫截面之徑向範圍相對於第一區段中之橫截面之徑向範圍在除特定角位置之外之至少一角位置範圍內增加意謂在第一區段與第二區段之間之過渡處存在橫截面之一改變。以此方式，該裝置區別於包括歸因於製造公差而具有輕微不圓度之一單一孔徑之一裝置。
第二區段之橫截面可在第二區段之每一軸向位置處具有一恆定形狀，或可變化。橫截面之邊界無需在第二區段中之每一軸向位置處皆係一封閉形狀。
術語角位置具有當在一圓柱座標系統中界定位置時，與該術語相關聯之普通含義。在此情況下，圓柱座標系統以參考軸線作為一主軸線。
在該裝置之一實施例中，當裝置以水平定向之參考軸線定向以在特定角位置處支撐軸區段時，特定角位置包括第二區段之橫截面之邊界之一最低點之一角位置。
通常，接納於空間中之軸之區段將具有擁有略微小於空間之第一區段之橫截面之半徑之一半徑之一圓柱形形狀。軸由一對應形狀之邊界區段支撐在特定角位置處(且在圍繞該特定角位置之一範圍內)。此實施例在輥承載工件之重量之情況下特別有用。
在一實施例中，第一區段係圓柱形的，其之一圓柱軸線與參考軸線重合。
此意謂第一區段之橫截面在第一區段延伸之軸向位置範圍內係均勻的。軸經相對良好地保持在適當位置。
在該裝置之一實施例中，至少一個本體界定穿過至少一個本體以流體地互連至少一個本體之一外部與第二區段之至少一個裂口，該裂口以大於零之一角度相對於參考軸線延伸。
因此，裂口橫向延伸至參考軸線。角度可為90°，使得裂口在徑向方向上延伸。裂口延伸之方向對應於液體之流動方向。此實施例有助於確保在存在軸區段之情況下，足夠液體可到達空間之第二區段，特定言之在軸區段具有軸向鄰接裝置之一軸向定位特徵之情況下。此一特徵可易於軸向封閉空間之第二區段。裂口仍容許液體進入空間之第二區段。至少一個裂口之至少一者可呈一通道之形式。
在任何實施例之一實例中，其中至少一個本體界定穿過至少一個本體以流體地互連至少一個本體之一外部與第二區段之至少一個裂口，該裂口以大於零之一角度相對於參考軸線延伸，該等裂口在數目上係至少兩個。
此容許液體在存在軸區段之情況下流動通過空間之第二區段。液體可透過一個裂口進入，且透過另一裂口離開。裂口之定向(例如，相對於垂直)可諸如促進一特定流動方向。替代地或另外，軸可配備有流量增強特徵，例如容許軸用作一葉輪或至少在軸旋轉時挾帶液體之特徵。
在任何實施例之一實例中，其中至少一個本體界定穿過至少一個本體以流體地互連至少一個本體之一外部與第二區段之至少一個裂口，該裂口以大於零之一角度相對於參考軸線延伸，定位於空間之軸向端處之空間之第二區段之至少一子區段被界定於相對於至少一個本體之一相鄰部分在至少軸向方向上突出之至少一個本體之一區段中且配備有至少一個裂口之至少一者。
在設置於相對於至少一個本體之一相鄰部分在至少軸向方向上突出之至少一個本體之一區段中之情況下，裂口可相對短。由於空間之第二區段之子區段定位於空間之軸向端處，所以行進通過裂口之液體亦來往於空間之一軸向端行進通過空間之第二區段或。存在較少或不存在停滯區。
在此實施例之一特定變型中，突出區段相對於至少一個本體之相鄰部分在相反橫向方向上進一步突出以形成一凸緣。
凸緣可接合軸區段上之一定位特徵以限制軸之軸向移動。凸緣亦可或替代地與一安裝結構之一匹配特徵協作以在無需緊固件之情況下安裝裝置。凸緣無需橫向突出超過360°，即，無需係環形形狀。在此情況下，橫向亦涵蓋向下突出。
在該裝置之一實施例中，至少一個本體在軸向方向上在與第二區段延伸至之空間之軸向端所定位之一側相對之一側上配備有凸緣。
凸緣由一突出脊、肋或邊緣形成。突出方向橫向於參考軸線。凸緣無需突出超過360°，即，具有一環形形狀。如果情況並非如此，凸緣可包括離散區段。凸緣可接合軸區段上之一定位特徵以限制軸之軸向移動。凸緣亦可或替代地與一安裝結構之一匹配特徵協作以在無需緊固件之情況下安裝裝置。
在一實施例中，該裝置經構形以支撐一第二輥之一軸之一區段以繞平行於參考軸線之一進一步參考軸線旋轉，用於接納第二輥之軸區段之一進一步空間係由至少一個本體界定。
此實施例適合於在用於輸送平坦工件之一輸送系統(例如，一水平輸送系統)中使用。接著，可在輥之間輸送工件。輥之至少一者將為一驅動輥。在輥之間輸送工件有助於避免滑動。在非常薄工件之情況下，其等可保持平坦以避免皺縮，且因此提供相對均勻表面處理。
在此實施例之一特定實例中，當裝置以水平定向之參考軸線定向以在特定角位置處支撐軸區段時，用於接納軸區段之空間處於一較低位階，例如，在進一步空間下方。
因此，包括第一及第二區段之空間係用於容納兩個軸之下者之一區段之空間。此係一水平輸送系統中之承重輥之軸。該軸在相對大範圍內在軸向方向上被支撐。相比之下，進一步空間在軸向方向上可短於第一及第二區段之組合。即使情況並非如此，在使用中，進一步空間亦無需完全浸沒在處理浴槽之液體中，且第二軸被支撐在一特定高度係較不重要的。因此，進一步空間無需包括經配置以接納下軸之一區段之形狀類似於空間之第一區段之一區段。
在任何實施例之一實例中，其中該裝置經構形以支撐一第二輥之一軸之一區段以繞平行於參考軸線之一進一步參考軸線旋轉，用於接納第二輥之軸區段之一進一步空間係由至少一個本體界定，進一步空間及第二區段藉由形成於至少一個本體中之至少一個通道流體地互連。
此容許透過用於接納軸區段之空間之第二區段建置一液體流動。在使用中，在第二區段處於低於進一步空間之一位階之情況下，將透過重力建置液體流動。由於第二輥通常將並非承重的，所以第二輥之軸將不會如此牢固地壓抵於其中形成通道之一窗之表面。因此，通道可為一大體上直線通道。替代地，通道可透過限定進一步空間之內表面中之一橫向孔徑貫通至進一步空間。然而，直線通道更容易形成，特定言之在一模製本體中。在實施例中，其中至少一個本體界定穿過至少一個本體以流體地互連至少一個本體之一外部與第二區段之至少一個裂口，該裂口以大於零之一角度相對於參考軸線延伸，通道可對應於至少一個裂口之一者。
在任何實施例之一實例中，其中該裝置經構形以支撐一第二輥之一軸之一區段以繞平行於參考軸線之一進一步參考軸線旋轉，用於接納第二輥之軸區段之一進一步空間係由至少一個本體界定，進一步空間在橫向於參考軸線之一方向上伸長且遠離於用於接納軸區段之空間延伸。
長形形狀容許第二輥之軸之區段之一些移動以容納不同厚度之工件。
在任何實施例之一實例中，其中該裝置經構形以支撐一第二輥之一軸之一區段以繞平行於參考軸線之一進一步參考軸線旋轉，用於接納第二輥之軸區段之一進一步空間係由至少一個本體界定，進一步空間具有由至少一個本體之一內表面界定之一邊界，該邊界在軸向方向上所見係U形的，且第二輥之軸區段可在U形之外緣之間插入至進一步空間中。
此意謂當裝置以水平定向之參考軸線定向以在特定角位置處支撐軸區段時，進一步空間在頂部敞開。第二輥之軸可簡單地落入進一步空間中。此簡化安裝。此外，可視需要使用第二輥。如果工件過厚或無需固持在輥之間，則可在不使用任何工具之情況下將第二輥抬出輸送系統。
根據另一態樣，根據本發明之用於安裝於一輸送系統中之總成包括具有一軸之至少一個輥及根據本發明之用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中支撐輥之軸之一區段之至少一個裝置。
一般言之，總成將包括一對裝置，根據本發明各自支撐各輥軸之兩個各自區段。該等裝置可為相同的、彼此之鏡像或不同形狀，惟具有用於接納軸之一者之一區段之類似空間除外。總成可為可更換的，例如以無工具方式，或總成可被永久地安裝於輸送系統中。因此，用於支撐輥軸區段之裝置可被整合至一更大結構中，或體現為一可更換嵌件。
在總成之一實施例中，軸配備有一定位套筒，該定位套筒軸向鄰接用於可旋轉地支撐軸之一區段之裝置。
在此實施例中，用於接納輥軸區段之空間之第一區段以一圓柱形接頭之方式限制輥軸之移動。裝置之一面(例如，至少一個本體之一面)限制輥軸之軸向移動。
在總成之一實施例中，軸在一軸向端區段處承載至少一個齒輪，該軸向端區段在軸向方向上從用於可旋轉地支撐軸之一區段之裝置之一側突出，該區段軸向地更靠近空間之第一區段而非空間之第二區段。
用於接納輥軸區段之空間之第一區段限制可到達齒輪之液體量，因此有助於減少至齒輪上之析出。齒輪可適合於與一驅動軸上之一齒輪協作以至少導致輥旋轉。齒輪可與亦由同一裝置可旋轉地支撐之一進一步輥軸上之一齒輪嚙合。軸可承載兩個齒輪，其中一個執行此兩個功能之第一者且另一者執行第二功能。
根據另一態樣，根據本發明之用於輸送工件通過用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽之系統包括至少一個總成，例如，根據本發明之一總成，該總成包括：至少一個輥，其具有一軸；及根據本發明之至少一個裝置，其用於在浴槽中支撐輥之軸之一區段。
該系統之一實施例包括用於接納一嵌件之至少一個安裝結構，該嵌件包括用於在浴槽中支撐輥之軸之區段之裝置。
嵌件可對應於裝置，即，不包括進一步組件。
在包括用於接納一嵌件之至少一個安裝結構之任何實施例之一實例中，該嵌件包括用於在浴槽中支撐輥之軸之區段之裝置，安裝結構及嵌件具有互鎖形狀以至少在軸向方向上在安裝結構中將嵌件固定在適當位置。
因此，嵌件或包括嵌件及輥之總成之更換可在不使用工具之情況下快速完成。不存在需要鬆開及擰緊及可能掉入浴槽中之緊固件。
根據另一態樣，根據本發明之用於工件之濕式化學處理(例如，用於表面電鍍)之設備包括用於形成一處理浴槽之一容器及根據本發明之用於輸送工件通過浴槽之一系統。
用於安裝於用於輸送工件通過用於工件(未展示)之濕式化學處理之一設備之一浴槽(未展示)之一輸送系統中之一總成1 (圖1)在此處被展示為一可更換單元。在輸送系統中，在使用中，整個系列之此等總成1將在工件被輸送之方向上安裝。總成1將被安裝，以便至少部分浸沒在浴槽之液體中。工件可為平坦工件，例如，板(例如，印刷電路板)、面板(例如，諸如用於顯示裝置之玻璃面板)、晶圓或箔。工件可相對薄，例如，具有自約25 μm起之一厚度。工件之一寬度(相對於運輸方向)可為約50 mm至1000 mm，例如，介於100 mm與800 mm之間。該處理可因設備中之不同浴槽而不同。處理之一者可為無電極表面電鍍，例如，用銅。其他處理包含除污程序。
總成1包括一第一輥2及一第二輥3。在使用中，在由第一及第二輥2、3形成之對之間運輸工件。第一輥2包括一第一軸4，輪安裝至該第一軸4以與第一軸4一起旋轉。第二輥3同樣包括一第二軸5，輪安裝至該第二軸5以與第二軸5一起旋轉。
在一替代實施例中，輥2、3可各自包括一單一整體(full-body)輥，而非安裝於一軸上之輪。此等整體輥仍可具有高度，使得與工件之接觸面積受到限制。第一軸4上之輪可相對於第二軸5上之輪軸向偏移，使得工件之一上側在不同軸向位置處接觸工件之一下側。
在可更換之情況下，總成1包括第一及第二軸4、5之相對端處之第一及第二軸承嵌件6a、6b。軸承嵌件6a、6b經構形以落入形成於輸送系統之一壁之一上端處之安裝結構(未展示)中。
在此情況下，軸承嵌件6a、6b之各者包括用於支撐第一軸4及第二軸5兩者之一各自區段之一裝置。所支撐區段靠近各自軸4、5之軸向端，但未一直延伸至該軸向端。
在此實施例中，第一及第二軸承嵌件6a、6b係相同的。其等相對於第一及第二軸4、5之旋轉軸線所位於之一對稱平面係對稱的。
第一軸4在一端處配備有一傘形齒輪7，且在傘形齒輪7與第二軸承嵌件6b之間之一軸向位置處配備有一大齒輪8。第一軸4在與設置傘形齒輪7及大齒輪8之軸向端相對之一軸向端處配備有一第一定位套筒9 (圖2)。另外，存在一第二定位套筒10 (圖3及圖4)，其在與設置傘形齒輪7及大齒輪8之側相對之第二軸承嵌件6b之一側上鄰接第二軸承嵌件6b。
類似地，第二軸5配備有一大齒輪11。此大齒輪11與第一軸4上之大齒輪8嚙合，使得無需為第二軸5提供一傘形齒輪。第一及第二軸4、5之旋轉藉由嚙合大齒輪8、11而同步。第二軸5亦在與設置大齒輪11之軸向端相對之一軸向端處配備有一第一定位套筒12 (圖2)。另外，存在一第二定位套筒13 (圖3及圖4)，其在與設置大齒輪11之側相對之第二軸承嵌件6b之一側上鄰接第二軸承嵌件6b。
由於第一及第二軸承嵌件6a、6b係相同的，所以其餘描述將不區分兩者。
在所繪示之實施例中，軸承嵌件6 (圖5至圖13)係由一單一本體14形成，例如藉由模製。本體14可由一不導電材料製成。例如，本體14可由塑膠或陶瓷材料製成。
便於界定與第一及第二軸4、5之旋轉軸線實質上重合之一第一參考軸線15及一第二參考軸線16 (圖12)。當總成1經安裝於輸送系統中時，第一及第二參考軸線15、16將大體上水平定向。可進一步界定相對於第一參考軸線15之角位置ϕ (圖11)及軸向位置。在使用中，在軸向方向上從第一軸4之大部分所定位之軸承嵌件6之側所見，0°之一角位置ϕ對應於一鐘面上之12點鐘位置。
在本體14 (圖12)中形成用於接納第一軸4之一區段之一空間。此空間在軸向方向上在本體14之相對側之間延伸。該空間係由本體14之一內表面界定。一第一區段17本質上係圓柱形的，且以第一參考軸線15為中心。第一區段17係由一第一內表面區段定界。第一區段17具有一第一長度R 1之一半徑。
在所繪示之實施例中，第一區段17在軸向方向上從空間之一軸向端延伸至本體14中，該空間在本體14之一外表面中形成一孔徑。第一區段17在軸向方向上延伸直至過渡至一第二區段18。在另一實施例中，在與第二區段18所定位之側相對之第一區段17之一側上可存在進一步區段。
第二區段18在軸向方向上從過渡至第一區段17延伸至空間之一軸向端。第二區段18亦由本體14之內表面界定，但內表面之相關區段未在每一軸向位置處圍繞第一參考軸線15封閉。實情係，存在至第二區段18中之裂口，如將說明。此外，橫截面形狀在每一軸向位置處偏離圓形，而不管在該軸向位置處是否存在一裂口。
在各軸向位置處，內表面將第二區段18限定在以對應於一鐘面上之六點鐘位置之一特定角位置ϕ 0為中心之一角位置範圍[ϕ 1, 360°-ϕ 1]內，即，在所繪示之座標系統中為180°。此範圍[ϕ 1, 360°-ϕ 1]之大小小於180°，例如，小於90°。在該範圍[ϕ 1, 360°-ϕ 1]內，第二區段18僅係第一區段17之一延續。在其他角位置處，第二區段18之徑向範圍大於第一區段17在對應角位置處之徑向範圍。換言之，至少第二區段18之上半部分在徑向方向上相對於第一區段17擴大。因此，當第一軸4之圓柱形區段被接納於空間中時，存在一更大體積可供液體包圍第一軸4。
在所繪示之實施例中，第二區段18之半徑(其中此半徑係由本體14之內表面界定)在從特定角位置ϕ 0移除之一角位置180°處具有一最大長度R 2，在該特定角位置ϕ 0處半徑具有與第一區段17中相同之長度R 1。
第二區段18軸向延伸至形成於一第一凸緣20中之一子區段19中。在使用中，第二定位套筒10可軸向鄰接第一凸緣20。此通常將使第二區段18在軸向方向上對液體封閉，使得在第一凸緣20 (圖9至圖11)中界定一裂口21。裂口21在徑向方向上延伸，即，與第一參考軸線15成90°之一角度。在所繪示之實施例中，裂口21定位於從特定角位置ϕ 0移除之角位置180°處，在該特定角位置ϕ 0處半徑具有與第一區段17中相同之長度r 1。因此，在軸向方向上所見，第一凸緣20係馬蹄形。
至少鑑於第一凸緣20之另一功能，裂口21之此位置係適當的，該另一功能係將軸承嵌件6定位於為輸送系統中之軸承嵌件6提供之安裝結構中。第一凸緣20提供一形狀鎖，從而容許僅藉由將軸承嵌件6放入安裝結構中來牢固地安裝軸承嵌件6。在軸向方向上所見，由軸承嵌件6之同一側上之一第二凸緣22及軸承嵌件6之一相對側上之一第三凸緣23實現相同功能。
所繪示實施例之全部凸緣20、22、23係本體14之一體式部分，即，與本體14之其餘部分一件式製作。
第二軸5之一區段以不同於第一軸4之區段之一方式被支撐旋轉。在軸向方向上所見，本體14之一上區段界定具有大體上U形之一橫截面之一內表面24。此內表面24部分限定用於接納第二軸5之區段之一進一步空間25。在所繪示之實施例中，橫截面沿著進一步空間25之軸向範圍係恆定的，惟在內表面24中界定孔徑之一或多個位置除外。
在所繪示之實施例中，存在一個此位置，在該位置處，在一通道26之端部處界定一孔徑，該通道26將進一步空間25與用於接納第一軸4 (圖7及圖12)之區段之空間之第二區段18互連。因此，此通道26形成穿過本體14之一第二裂口以流體地互連本體14之一外部(經由進一步空間25)與用於接納第一軸4之一區段之空間之第二區段18。一效應係存在通過第二區段18且通過通道26及界定於第一凸緣20中之裂口21之液體流動。
在軸向方向上所見，U形之一底部具有一圓形片段之形狀，其中一半徑從第二參考軸線16延伸至內表面24。圓形片段延伸超過180°或更小，但通常大於90°。例如，該半徑可與用於接納第一軸4之一區段之空間之第一區段17之半徑具有相同長度r 1。
將瞭解，進一步空間25在橫向且穿過第一及第二參考軸線15、16之一方向(即，遠離於用於接納第一軸4之一區段之空間延伸之一方向)上伸長。因此，第二軸5能夠在該方向上在U形內表面之外緣之間移動。大齒輪8、11配備有具有適當形狀及尺寸之齒以使其等能夠在移動範圍內嚙合。在於輸送系統中使用時，進一步空間25定位於用於接納第一軸4之一區段之空間上方。因此，第一輥2承受工件之負載。第二輥3將工件抵靠第一輥2固持以在具有有限或無滑動之情況下移動工件。由進一步空間25之長形形狀賦予之移動自由度容許容納一定範圍之工件厚度。此外，第二軸5至少按間隔從內表面24稍微抬起。此將孔徑釋放至通道26中，實際上可提供支援液體流過第一軸4之一有限泵送作用。
在無關於此之情況下，通道26之定向使得通道26在使用中實質上垂直延伸，此係因為當參考軸線15、16水平定向時，進一步空間25定位於第二區段18上方。
第二軸承嵌件6b之第二凸緣22與大齒輪11協作。第二軸承嵌件6b之第三凸緣23與第二定位套筒13協作。第一軸承嵌件6a之第三凸緣23與第一定位套筒12協作。因此，第二軸5之軸向移動受到限制。
第一輥2能夠支撐工件且相對良好地保持在適當位置。第一輥2之重量在軸承嵌件6a、6b中承載於任一端處之一相對長區段內。藉由限定用於接納軸區段之空間之第一區段17之內表面來防止橫向移動。藉由擴大第二區段18來防止析出及乾燥軸承表面。
本發明不限於上文描述之實施例，其等可在隨附發明申請專利範圍之範疇內變化。例如，第二凸緣22無需為如繪示之U形。一滑輪可用於同步第一及第二輥2、3之旋轉，例如容許總成1容納更大範圍之工件厚度。代替為每總成1提供一對輥2、3及一對軸承嵌件6a、6b，一對軸承嵌件可支撐多對輥，例如藉由包括上文描述之構形之一組空間及進一步空間25，其等彼此相鄰地定位。換言之，兩個軸承嵌件6可經整合以支撐一第一軸4及一第二軸5之兩對之區段。儘管上文描述之總成1具有擁有本文中詳細描述之特徵之兩個軸承嵌件6a、6b，但可僅在第一輥2之一個軸向端處提供一個此軸承嵌件且在另一軸向端處提供具有用於接納第一軸4之一區段之一不同構形空間(例如，一圓柱形空間或具有類似於第二區段18之橫截面般塑形之一橫截面之一空間)之一軸承嵌件。例如，如果僅期望減少大齒輪8及傘形齒輪7所定位之軸向端處之析出，此可為足夠的。
1:總成 2:第一輥 3:第二輥 4:第一軸 5:第二軸 6:軸承嵌件 6a:軸承嵌件 6b:軸承嵌件 7:傘形齒輪 8:第一軸上之大齒輪 9:第一軸上之第一定位套筒 10:第一軸上之第二定位套筒 11:第二軸上之大齒輪 12:第二軸上之第一定位套筒 13:第二軸上之第二定位套筒 14:本體 15:第一參考軸線 16:第二參考軸線 17:空間之第一區段 18:空間之第二區段 19:子區段 20:第一凸緣 21:裂口 22:第二凸緣 23:第三凸緣 24:內表面 25:進一步空間 26:通道
將參考隨附圖式進一步詳細說明本發明，其中： 圖1係用於安裝於一輸送系統中之兩個輥及兩個軸承嵌件之一總成之一透視圖； 圖2係圖1之總成之一第一端之一透視圖； 圖3係圖1及圖2之總成之一第二相對端之一透視圖； 圖4係第二端從一不同角度之一透視圖； 圖5係軸承嵌件之一者之一透視圖； 圖6係圖5之軸承嵌件之透視投影之一側視圖； 圖7係圖5及圖6之軸承嵌件之透視投影之一俯視圖； 圖8係圖5至圖7之軸承嵌件之透視投影之一後視圖； 圖9係圖5至圖8之軸承嵌件之透視投影之一前視圖； 圖10係圖5至圖9之軸承嵌件之平行投影之一前視圖； 圖11係圖5至圖10之軸承嵌件之前側之部分之平行投影之一詳細視圖； 圖12係圖5至圖11之軸承嵌件之一橫截面視圖；及 圖13係圖5至圖12之軸承嵌件之一透視圖。
6:軸承嵌件
14:本體
20:第一凸緣
21:裂口
22:第二凸緣
23:第三凸緣
24:內表面
25:進一步空間

Claims (15)

  1. 一種用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中可旋轉地支撐一輸送系統之一輥(2)之一軸(4)之一區段之裝置，該裝置包括至少一個本體(14)， 其中在該至少一個本體(14)中形成用於接納該軸區段之一空間， 其中該空間包括： 一第一區段(17)，其具有以一參考軸線(15)為中心之一橫截面，其之一周長在該周長之至少大部分內位於一圓上；及 一第二區段(18)，其在軸向方向上從該第一區段(17)延伸至該空間之一軸向端，及 其中該第二區段(18)在多個例如全部軸向位置處具有一各自橫截面，其之一邊界在至少一個特定角位置(ϕ 0)處與該參考軸線(15)之一徑向距離等於該圓之半徑之一長度(R 1)且具有從該參考軸線(15)延伸至該邊界之一曲率半徑，其特徵在於 該第二區段(18)之該等各自橫截面在除該特定角位置(ϕ 0)之外之至少一角位置範圍([-ϕ 1,ϕ 1])內具有自該參考軸線(15)之一徑向範圍，其相對於該第一區段(17)在對應角位置處之該橫截面之徑向範圍增加。
  2. 如請求項1之裝置， 其中當該裝置以水平定向之該參考軸線(15)定向以在該特定角位置(ϕ 0)處支撐該軸區段時，該等特定角位置包括該第二區段(18)之該橫截面之該邊界之一最低點之一角位置。
  3. 如請求項1或2之裝置， 其中該第一區段(17)係圓柱形的，其中一圓柱軸線與該參考軸線(15)重合。
  4. 如請求項1或2之裝置， 其中該至少一個本體(14)界定穿過該至少一個本體(14)以流體地互連該至少一個本體(14)之一外部與該第二區段(18)之至少一個裂口(21、26)，該裂口(21、26)以大於零之一角度相對於該參考軸線(15)延伸。
  5. 如請求項4之裝置， 其中定位於該空間之該軸向端處之該空間之該第二區段(18)之至少一子區段(19)被界定於相對於該至少一個本體(14)之一相鄰部分在至少軸向方向上突出之該至少一個本體(14)之一區段(20)中且配備有該至少一個裂口(21)之至少一者。
  6. 如請求項1或2之裝置， 其中該裝置經構形以支撐一第二輥(3)之一軸(5)之一區段以繞平行於該參考軸線(15)之一進一步參考軸線(16)旋轉，用於接納該第二輥(3)之該軸區段之一進一步空間(25)係由該至少一個本體(14)界定。
  7. 如請求項6之裝置， 其中當該裝置以水平定向之該參考軸線(15)定向以在該特定角位置(ϕ 0)處支撐該軸區段時，用於接納該軸區段之該空間處於一較低位階，例如，在該進一步空間(25)下方。
  8. 如請求項6之裝置， 其中該進一步空間(25)及該第二區段(18)藉由形成於該至少一個本體(14)中之至少一個通道(26)流體地互連。
  9. 如請求項6之裝置， 其中該進一步空間(25)在橫向於該參考軸線(15)之一方向上伸長且遠離於用於接納該軸區段之該空間延伸。
  10. 如請求項6之裝置， 其中該進一步空間(25)具有由該至少一個本體(14)之一內表面(24)界定之一邊界，該邊界在軸向方向上所見係U形的，且 其中該第二輥(3)之該軸區段可在該U形之外緣之間插入至該進一步空間(25)中。
  11. 一種用於安裝於一輸送系統中之總成，其包括： 至少一個輥(2)，其具有一軸(4)；及 如前述請求項中任一項之至少一個裝置(6)，其用於在用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽中支撐該輥(2)之該軸(4)之一區段。
  12. 如請求項11之總成， 其中該軸(4)配備有一定位套筒(9、10)，該定位套筒(9、10)軸向鄰接用於可旋轉地支撐該軸(4)之一區段之該裝置(6)。
  13. 如請求項11或12之總成， 其中該軸(4)在一軸向端區段處承載至少一個齒輪(7、8)，該軸向端區段在軸向方向上從用於可旋轉地支撐該軸(4)之一區段之該裝置(6b)之一側突出，該區段軸向地更靠近空間之第一區段(17)而非空間之第二區段(18)。
  14. 一種用於輸送工件通過用於工件之濕式化學處理之一設備之一浴槽之系統，該系統包括例如如請求項11至13中任一項之至少一個總成，該總成包括： 至少一個輥(2)，其具有一軸(4)；及 如請求項1至13中任一項之至少一個裝置(6)，其用於在該浴槽中支撐該輥(2)之該軸(4)之一區段。
  15. 一種用於工件之濕式化學處理，例如用於表面電鍍之設備，其包括用於形成一處理浴槽之一容器及如請求項14之用於輸送該等工件通過該浴槽之系統。
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