JP5130323B2 - 多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器及びその製造方法 - Google Patents
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本発明に係る角形シリカ容器10の製造方法の一例(第1の態様、湿式法)の概略を図2に示した。
第一の原料粉のシリカ純度は、99.9wt.%以上とすることが好ましく、99.99wt.%以上とすることがさらに好ましい。特に、Li、Na、Kの各々の濃度を5wt.ppm以下とすることが好ましい。また、本発明の角形シリカ容器の製造方法であれば、第一の原料粉のシリカ純度を99.999wt.%以下と比較的低純度のものとしても、製造される角形シリカ容器は、シリコン融液や多結晶シリコンインゴットへの不純物汚染を十分に防止することができる。そのため、従来よりも低コストで多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器を製造することができることになる。
第二の原料粉を顆粒体とするには、例えば以下のような手順により行うことができる。
まず、第一の原料粉を主原料とし、第二の原料粉を、好ましくは5wt.%〜50wt.%、より好ましくは10〜30wt.%範囲で均一に混合する。ここでの原料粉の混合比率により、混合スラリー131を作製する際の第一の原料粉と第二の原料粉との配合比が決まる。製造コストを低減させる目的からは、なるべく第一の原料粉の第二の原料粉に対する比率を高くする必要がある。第二の原料粉の混合比率が5wt.%以上であれば、成形、焼成後の多孔質シリカ基体151の空隙が少なくなり、密度が十分に高く、その結果多孔質シリカ基体151の寸法制度や耐熱性を向上させることができる。また、第二の原料粉の混合比率が50wt.%以下であれば、成形、焼成後の多孔質シリカ基体151の空隙を十分確保でき、離型性をより高めることができる。混合手法としては、比較的量が少ない場合、V型ミキサーを用いることもできるが、この手法に限定されるわけではない。
上記で作製した第一の原料粉と第二の原料粉との混合粉を、主原料として95〜80wt.%、純水を5〜20wt.%として混合スラリー131とする。角形シリカ容器10作製中の不純物汚染には注意が必要であり、多孔質シリカ基体151中のLi、Na、Kの各濃度が5wt.ppm以下となるように混合スラリー131を作製することが好ましく、1wt.ppm以下とすることがさらに好ましい。
円筒状シリカガラス容器及びシリカガラスボールから成るボールミルの中に混合スラリー131を投入し1〜2時間混合する。作製された混合スラリー131の密度(比重)は1.6〜2.1g/cm3好ましくは1.7〜2.0g/cm3とし、粘性度は1〜10/secのせん断速度において300〜3000mPa・secとすることが好ましい。
シリカガラスチャンバー内に混合スラリー131を設置し、室温下にて104Pa以下の真空度で5〜30分間真空脱ガス処理を行う。ただし、この処理は製造された角形シリカ容器の用途によっては行わない場合もある。
本発明に係る角形シリカ容器10の製造方法の別の一例(第2の態様、乾式法)の概略を図3に示した。
この工程は、上記した第1の態様の焼成工程と同様にして行うことができる。
(実施例1)
図2に示した本発明の角形シリカ容器の製造方法(第1の態様)に従い、角形シリカ容器を以下のように製造した。
天然珪石を50kg準備し、大気雰囲気下で、1000℃、10時間の条件で加熱後、純水の入った水槽へ投入し、急冷却した。これを乾燥後、クラッシャーを用いて粉砕し、粒径0.03〜3.0mm、シリカ(SiO2)純度99.99wt.%、総重量40kgのシリカ粉(天然珪石粉)とした。
実施例1と同様に、ただし、多孔質シリカ基体151に含有させるAl元素濃度及びOH基濃度を3〜10倍程度とするとともに、多孔質シリカ基体の仮成形体141の内表面部全体に塗布する塩化バリウムの濃度も10倍程度として、角形シリカ容器10を製造した。また、仮成形体141の焼成の際に、1350℃まで昇温、保持する代わりに、1300℃まで昇温、保持することとした。
図3に示した本発明の角形シリカ容器の製造方法(第2の態様)に従い、角形シリカ容器を以下のように製造した。
実施例3と同様に、ただし、多孔質シリカ基体151に含有させるAl元素濃度及びOH基濃度を2〜10倍程度とするとともに、多孔質シリカ基体の仮成形体241の内表面部全体に塗布する塩化バリウムの濃度も10倍程度として、角形シリカ容器10を製造した。また、仮成形体141の焼成の際に、1350℃まで昇温、保持する代わりに、1300℃まで昇温、保持することとした。
実施例3から以下のように条件を変更して角形シリカ容器10の製造を行った。まず、第一の原料粉と顆粒体状の第二の原料粉の混合比を90:10とした。また、多孔質シリカ基体151に含有させるAl元素濃度を5倍程度とした。また、多孔質シリカ基体の仮成形体241の内表面部全体に塗布する塩化バリウムの濃度も10倍程度とした。
実施例5と同様に、ただし、第一の原料粉と顆粒体状の第二の原料粉の混合比を95:5とし、また、仮成形体141の焼成の際の温度を、1370℃まで昇温、保持することとして、角形シリカ容器10の製造を行った。
実施例2と同様に、ただし、Al添加をせず、また、多孔質シリカ基体の内表面部分に離型促進剤を含有させることなく、角形シリカ容器を製造した。
実施例4と同様に、ただし、Al添加をせず、また、多孔質シリカ基体の内表面部分に離型促進剤を含有させることなく、角形シリカ容器を製造した。
比較例1と同様に、ただし、第一の原料粉としてシリカ(SiO2)純度99.9999wt.%の高純度品を使用し、また、第一の原料粉と顆粒体状の第二の原料粉の混合比を60:40とし、多孔質シリカ基体にAl元素を含有させ、角形シリカ容器を製造した。
比較例2と同様に、ただし、第一の原料粉としてシリカ(SiO2)純度99.9999wt.%の高純度品を使用し、また、第一の原料粉と顆粒体状の第二の原料粉の混合比を60:40とし、多孔質シリカ基体にAl元素を含有させ、角形シリカ容器を製造した。
各実施例及び比較例において用いた原料粉及び製造した角形シリカ容器の物性、特性評価を以下のようにして行った。
かさ密度の測定方法:
角形シリカ容器から50mm×50mm×15mmの板状サンプルを切り出し、該サンプルの重量(g)を測定した。
次いで、純水の入った水槽中に該サンプルを浸漬させて、該サンプルの重量減を測定することにより、該サンプルの体積(cm3)を求めた。これらの2つの数値からかさ密度(g/cm3)を計算した。
光学顕微鏡又は電子顕微鏡で各原料粉の二次元的形状観察及び面積測定を行った。次いで、粒子の形状を真円と仮定し、その面積値から直径を計算して求めた。この手法を統計的に繰り返し行い、粒径の範囲の値とした(この範囲の中に99wt.%以上の原料粉が含まれる)。
所定の位置からシリカサンプル片を切り出し、フッ化水素酸水溶液で溶解させるサンプル調整を行った。特に離型促進剤の濃度分析においては、角形シリカ容器の内表層部分から20mm×20mm×2mmのサンプルを複数枚切り出し、分析用シリカサンプル片とした。含有金属元素濃度が比較的低い場合は、プラズマ発光分析法(ICP−AES、Inductively Coupled Plasma − Atomic Emission Spectroscopy)又はプラズマ質量分析法(ICP−MS、Inductively Coupled Plasma − Mass Spectroscopy)で行い、含有金属元素濃度が比較的高い場合は、原子吸光光度法(AAS、Atomic Absorption Spectroscopy)で行った。
多孔質シリカ基体から粒径10〜100μmの粉状サンプルを作製し、赤外線拡散反射分光光度法で行った。OH基濃度への換算は、以下文献に従う。
Dodd,D.M. and Fraser,D.B.(1966) Optical determination of OH in fused silica. Journal of Applied Physics, vol.37, P.3911.
角形シリカ容器の中へSi純度99.9999999wt.%の高純度シリコン溶融体を投入し、室温まで冷却して寸法400mm×400mm×300mmの多結晶シリコンインゴットを作製した。次いで、該インゴットの表面から5mm深さの位置でシリコン片のサンプリングを行い、これを酸性溶液処理することにより溶液状サンプルとした後、ICP−MSにて、Na濃度分析を行った。Na濃度値によって、角形シリカ容器から多結晶シリコンインゴットへの不純物拡散防止効果を評価した。
不純物拡散防止効果大 ○(Naの濃度が10wt.ppb未満)
不純物拡散防止効果中 △(Naの濃度が10wt.ppb以上100wt.ppb未満)
不純物拡散防止効果小 ×(Naの濃度が100wt.ppb以上)
前記同様に多結晶シリコンインゴットを作製し、次いで角形シリカ容器の4カ所の角部をカッターにて切断し、該インゴットから角形シリカ容器の4つの側壁及び底板を剥がし取った。該インゴット表面に残存する凹凸やクラック等が、角形シリカ容器の内表面と接触した位置から内部方向にどのくらいの深さまであるのかをスケールにより測定することで離型性の評価を行った。
離型性良好 ○(深さ2mm未満)
離型性中程度 △(深さ2mm以上5mm未満)
離型性悪い ×(深さ5mm以上)
角形シリカ容器の製造コストを調べた。
基準を比較例3及び4とし、特にシリカ原料粉コスト、粉体成形コスト、成形体の焼成コスト等の合計値を相対的に評価した。比較例3と4では、第一の原料粉をシリカ純度99.9999wt.%の高純度品とし、また、第二の原料粉を高純度合成球状シリカガラスとし、かつ混合比率が高いことにより合計コストが大きくなった。
コストが低い ○(50%以下)
コストが中程度 △(50〜90%程度)
コストが大きい ×(比較例3と4を100%とする)
11…多孔質シリカ基体の側壁部、 12…多孔質シリカ基体の側壁部の内表面、
21…多孔質シリカ基体の底部、 22…多孔質シリカ基体の底部の内表面、
131…混合スラリー、 141…仮成形体、 151…多孔質シリカ基体、
231…混合粉、 241…仮成形体。
Claims (10)
- シリコン融液を収容した後凝固して多結晶シリコンインゴットを製造するための角形シリカ容器であって、
該角形シリカ容器は、少なくとも多孔質シリカ基体からなるものであり、
前記多孔質シリカ基体は、かさ密度が1.80〜2.10g/cm3であり、Al濃度が5〜500wt.ppmであり、OH基濃度が5〜500wt.ppmであり、
前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、前記多結晶シリコンインゴットの離型を促進する離型促進剤が含有されているものであることを特徴とする多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器。 - 前記離型促進剤としてCa、Sr、Baのうち1以上が、前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、該内表面から深さ2mmまでにおいて、各元素の合計値として50〜5000wt.ppmの濃度で添加されているものであることを特徴とする請求項1に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器。
- 前記離型促進剤としてCa、Sr、Baのうち1以上が、前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、各元素の合計値として50〜5000μg/cm2の濃度で塗布されているものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器。
- 前記多孔質シリカ基体に含有されているLi、Na、Kの各々の濃度が5wt.ppm以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器。
- シリコン融液を収容した後凝固して多結晶シリコンインゴットを製造するための角形シリカ容器を製造する方法であって、少なくとも、
第一の原料粉として、粒径0.03〜3.0mmのシリカ粉を作製する工程と、
第二の原料粉として粒径0.1〜10μmのシリカ粉を作製する工程と、
前記第一の原料粉と、前記第二の原料粉と、水とを含む混合スラリーを作製する工程と、
前記混合スラリーを角形型枠内で脱水及び乾燥し、多孔質シリカ基体の仮成形体を作製する仮成形工程と、
前記多孔質シリカ基体の仮成形体を、不活性ガスを主成分とし、O2ガスを含有する雰囲気にて、1200〜1500℃の温度で焼成し、多孔質シリカ基体とする焼成工程と
を含み、
前記第一の原料粉、前記第二の原料粉、及び前記混合スラリーの少なくとも一つにAl元素を添加することにより、前記多孔質シリカ基体にAl元素を含有させ、
前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、前記多結晶シリコンインゴットの離型を促進する離型促進剤を含有させることを特徴とする多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。 - シリコン融液を収容した後凝固して多結晶シリコンインゴットを製造するための角形シリカ容器を製造する方法であって、
第一の原料粉として、粒径0.03〜3.0mmのシリカ粉を作製する工程と、
第二の原料粉として粒径0.1〜10μmのシリカ粉を作製する工程と、
前記第一の原料粉と前記第二の原料粉と有機バインダーとを混合させ、混合粉を作製する工程と、
前記混合粉を角形型枠内に導入し、50〜200℃に加熱して前記有機バインダーを溶融することにより、多孔質シリカ基体の仮成形体を作製する工程と、
前記多孔質シリカ基体の仮成形体を、不活性ガスを主成分とし、O2ガスを含有する雰囲気にて、1200〜1500℃の温度で焼成し、多孔質シリカ基体とする焼成工程と
を含み、
前記第一の原料粉、前記第二の原料粉、及び前記混合粉の少なくとも一つにAl元素を添加することにより、前記多孔質シリカ基体にAl元素を含有させ、
前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、前記多結晶シリコンインゴットの離型を促進する離型促進剤を含有させることを特徴とする多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。 - 前記離型促進剤の含有を、前記仮成形工程の後に、前記仮成形体の内表面の少なくとも一部に塗布し、乾燥させて、前記仮成形体の内表面部分の少なくとも一部に前記離型促進剤を添加することにより、及び/又は、前記焼成工程の後に、前記離型促進剤を前記多孔質シリカ基体の内表面の少なくとも一部に塗布することにより、行うことを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。
- 前記離型促進剤をCa、Sr、Baのうち1以上とすることを特徴とする請求項5ないし請求項7のいずれか一項に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。
- 前記混合スラリー又は前記混合粉を作製する前に、前記第二の原料粉から、前記第二の原料粉が集合してなる粒径5〜500μmの顆粒体を作製し、該第二の原料粉の顆粒体を用いて前記混合スラリー又は前記混合粉を作製することを特徴とする請求項5ないし請求項8のいずれか一項に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。
- 前記焼成工程において、前記不活性ガスを、N2ガス、Heガス、Arガスの少なくとも一種以上とし、O2ガスの含有量を1〜30vol.%とすることを特徴とする請求項5ないし請求項9のいずれか一項に記載の多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器の製造方法。
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