JP4048824B2 - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物に関わり、さらに詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、電子線等の荷電粒子線、シンクロトロン放射線等のＸ線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、より高い集積度を得るために、最近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工が可能なリソグラフィー技術が必要とされている。
従来のリソグラフィープロセスでは、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用いられているが、この近紫外線では、サブクオーターミクロンレベルの微細加工が極めて困難であると言われている。
そこで、０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用が検討されている。このような短波長の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトルやエキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
このようなエキシマレーザーに適した感放射線性樹脂組成物として、酸解離性官能基を有する成分と放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する成分（以下、「感放射線性酸発生剤」という。）とによる化学増幅効果を利用した組成物（以下、「化学増幅型感放射線性組成物」という。）が数多く提案されている。
化学増幅型感放射線性組成物としては、例えば、特公平２−２７６６０号公報に、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と感放射線性酸発生剤とを含有する組成物が提案されている。この組成物は、露光により発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基からなる酸性基を有するようになり、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性となる現象を利用したものである。
【０００３】
ところで、従来の化学増幅型感放射線性組成物の多くは、フェノール系樹脂をベースにするものであるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用すると、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十分に到達できないという欠点があり、そのため露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくなり、現像後のパターン形状が上部が細く下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られないなどの問題があった。その上、現像後のパターン形状が台形状となった場合、次の工程、即ちエッチングやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかも、レジストパターン上部の形状が矩形でないと、ドライエッチングによるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチング条件の制御が困難になる問題もあった。
一方、レジストパターンの形状は、レジスト被膜の放射線透過率を高めることにより改善することができる。例えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であり、例えば特開平４−２２６４６１号公報には、メタクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性組成物が提案されている。しかし、この組成物は微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えたものとは言えない。
【０００４】
また、化学増幅型感放射線性組成物からなるレジストについて、放射線に対する透明性を損なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとして、組成物中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂肪族環を導入する方法が知られており、例えば特開平７−２３４５１１号公報には、脂肪族環を有する（メタ）アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性組成物が提案されている。
しかし、この組成物では、樹脂成分が有する酸解離性官能基として、従来の酸により比較的解離し易い基（例えば、テトラヒドロピラニル基等のアセタール系官能基）や酸により比較的解離し難い基（例えば、ｔ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基）が用いられており、前者の酸解離性官能基を有する樹脂成分の場合、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状は良好であるが、組成物としての保存安定性に難点があり、また後者の酸解離性官能基を有する樹脂成分では、逆に保存安定性は良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状が損なわれるという欠点がある。さらに、この組成物中の樹脂成分には脂肪族環が導入されているため、樹脂自体の疎水性が非常に高くなり、基板に対する接着性の面でも問題があった。
【０００５】
さらに近年、（メタ）アクリル酸のカルボキシル基を、酸解離性エステル基（ｔ−ブチル基、テトラヒドロピラン−２−イル基、テトラヒドロフラン−２−イル基、４−メトキシテトラヒドロピラン−４−イル基、１−エトキシエトキシ基、３−オキソシクロヘキシル基など）を有する有橋式炭化水素基で保護した化合物に由来する繰り返し単位を有する樹脂を用いた化学増幅型感放射線性組成物が特開平１０−２８７７１２号公報に提案されており、この組成物は基板密着性、波長２２０ｎｍ以下における透明性、エッチング耐性等が良好であるとされている。しかし、この組成物は遠紫外線に対する透明性の点で必ずしも十分とは言えず、また露光後の加熱温度の変動に対する線幅の安定性を含めたレジストとしての特性バランスの面でも満足できない。
そこで、半導体素子における微細化の進行に対応しうる技術開発の観点から、遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能な化学増幅型感放射線性組成物において、放射線に対する透明性が高く、しかもレジストとしての特性バランスに優れた新たな樹脂成分の開発が重要な課題となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状、ドライエッチング耐性、露光後の加熱温度の変動に対する線幅安定性等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、前記課題は、
（Ａ）下記式（Ｉ-1）で表される繰り返し単位および下記式（ III-1) で表される繰り返し単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物
によって達成される。
【０００８】
【化５】

【０００９】
〔式（Ｉ-1）において、Ｒは水素原子またはメチル基を示し、Ｒ’はメチル基またはエチル基を示し、ａは１または２であり、ｂは０または１である。〕
〔式（III-1)において、Ｒ ¹⁶ は水素原子、メチル基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基またはトリフルオロメチル基を示す。〕
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
（Ａ）成分
本発明における（Ａ）成分は、前記式（Ｉ-1）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（Ｉ-1）」という。）および前記式（ III-1) で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ III-1) 」という。）を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」という。）からなる。
ここでいう「アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性」とは、樹脂（Ａ）を含有する感放射線性樹脂組成物から形成されたレジスト被膜からレジストパターンを形成する際に採用されるアルカリ現像条件下で、当該レジスト被膜の代わりに樹脂（Ａ）のみを用いた被膜を現像した場合に、当該被膜の初期膜厚の５０％以上が現像後に残存する性質を意味する。
【００１１】
樹脂（Ａ）における繰り返し単位（Ｉ-1）は、側鎖に有橋式炭化水素骨格を有する。そこで、該有橋式炭化水素骨格における炭素原子の位置番号を次に示す。
【００１２】
【化４】

【００１３】
ここで、（イ）はビシクロ［２．２．１］ヘプタン、（ロ）はテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカンである。以下における有橋式炭化水素骨格の命名は、これら（イ）〜（ロ）に従うものとする。
【００２０】
式（Ｉ-1）における１−アルキル置換シクロアルキル基は、具体的には、
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基である。
【００２５】
繰り返し単位（Ｉ-1) を与える単量体は下記式（ｉ-1）で表される。
【００２７】
【化７】

〔式（ｉ-1）において、Ｒ、Ｒ’、ａおよびｂは式（Ｉ-1）におけるそれぞれＲ、Ｒ’、ａおよびｂと同義である。〕
【００２８】
式（ｉ-1）で表される単量体は、例えば、次のような方法で合成することができる。
１） ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルと、ギ酸、ＢＨ₃ −テトラヒドロフラン錯体等とを反応させることにより、２−ヒドロキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし３−ヒドロキシカルボニルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルを得る。
２） １）で得られた化合物を、炭酸ナトリウム等の塩基を用いて加水分解することにより、２−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし３−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルを得る。
３） さらに、２）で得られた化合物と等量の（メタ）アクリル酸クロライドとを、水酸化ナトリウム等の塩基の存在下で、脱塩化水素反応させることにより、下記式（ｉ-1-1) で表される２−（メタ）アクリロイルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし下記式（ｉ-1-2) で表される３−（メタ）アクリロイルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルを得ることができる。
【００２９】
【化８】

（各式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）
【００３０】
また、前記式（ｉ-1-1) で表される単量体および式（ｉ-1-2) で表される単量体以外の、式（ｉ-1）で表される単量体の具体例としては、下記式（ｉ-1-3) 〜（ｉ-1-16)（各式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）で表される単量体等を挙げることができる。
【００３１】
【化９】

【００３２】
【化１０】

【００３３】
【化１１】

【００３４】
【化１２】

【００３５】
【化１３】

【００３６】
【化１４】

【００３７】
【化１５】

【００３８】
樹脂（Ａ）において、繰り返し単位（Ｉ-1）は、単独でまたは２種以上が存在することができる。
また、樹脂（Ａ）は、繰り返し単位（Ｉ-1）および繰り返し単位（III-1)以外の繰り返し単位（以下、「他の繰り返し単位」という。）を１種以上有することができる。
好ましい他の繰り返し単位としては、例えば、下記一般式（II）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（II）」という。）、下記一般式（III)で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（III)」という。）を挙げることができる。
繰り返し単位（II) および繰り返し単位（III)以外の他の繰り返し単位を与える単量体として、例えば、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル化合物；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド等の不飽和アミド化合物または不飽和イミド化合物；
Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等の他の含窒素ビニル化合物；
クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の他の不飽和カルボン酸（無水物）類
等の単官能性単量体や、
【００３９】
【化１６】

〔一般式（II）において、Ｒ³ は１価の基を示し、ｎは０〜２の整数である。
一般式（III)において、Ｒ⁴ は水素原子、メチル基、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のヒドロキシアルキル基または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、Ｒ⁵ は水素原子または１価の有機基を示す。〕
【００４０】
一般式（II）において、Ｒ³ の１価の基としては、例えば、下記式（１-1) 〜式（１-4）で表される基等を挙げることができる。
【００４１】
【化１７】

【００４２】
〔式（１-1）において、各Ｘ¹ は相互に独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、各Ｘ² は相互に独立に水素原子、フッ素原子、炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基を示し、ｃは０〜５の整数である。
【００４３】
式（１-2) において、Ｒ⁶ は単結合、直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｘ³ は水素原子または１価の官能基を示す。
【００４４】
式（１-3）において、各Ｒ⁷ は相互に独立に炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜４のオキソアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ⁷ が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ⁷ が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜４のオキソアルキル基または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。
【００４５】
式（１-4）において、Ｒ⁸ は炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基、または置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基を示す。〕
【００４６】
式（１-1）において、Ｘ¹ およびＸ² の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
【００４７】
また、Ｘ¹ およびＸ² の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基としては、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、１，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基等を挙げることができる。
【００４８】
式（１-1）におけるＸ¹ およびＸ² としてはそれぞれ、水素原子、フッ素原子、トリフルオロメチル基等が好ましい。
【００４９】
一般式（II）において、Ｒ³ の式（１-1）で表される好ましい基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル基、（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル基、１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル基、２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル基、２、２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル基等を挙げることができる。
【００５０】
式（１-2）において、Ｒ⁶ の直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、２−メチルトリメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基等のメチレン基または炭素数２〜１２のアルキレン基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁶ の脂環式構造を有する２価の有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等の炭素数４〜２０のシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の炭素数４〜２０の有橋式炭化水素類に由来する基等を挙げることができる。
【００５１】
式（１-2）におけるＲ⁶ としては、単結合、メチレン基、エチレン基、アダマンタンに由来する２価の基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンに由来する２価の基等が好ましい。
【００５２】
式（１-2）において、Ｘ³ の１価の官能基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等を挙げることができる。
式（１-2）におけるＸ³ としては、水素原子、水酸基、カルボキシル基、シアノ基等が好ましい。
【００５３】
一般式（II）において、Ｒ³ の式（１-2）で表される好ましい基としては、例えば、水素原子、水酸基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、３−カルボキシアダマンタン−１−イル基、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、シアノ基、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、３−シアノアダマンタン−１−イル基、５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基等を挙げることができる。
【００５４】
式（１-3）において、Ｒ⁷ の炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体および何れか２つのＲ⁷ が相互に結合してそれぞれが結合している炭素原子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロアルカン類や、アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；これらのシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基をメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上或いは１個以上で置換した基；これらのアルキル基で置換されてもよいシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基を水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等の１種以上あるいは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
【００５５】
また、Ｒ⁷ の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁷ の炭素数２〜４のオキソアルキル基としては、例えば、オキソエチル基、１−オキソプロピル基、１−オキソ−ｎ−ブチル基等を挙げることができる。
【００５６】
一般式（II）において、Ｒ³ の式（１-3) で表される基中の−Ｃ（Ｒ²)₃ に相当する好ましい構造としては、例えば、
ｔ−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−エチル−２−ブチル基、３−エチル−３−ブチル基、
１，１−ジメチル−２−オキソプロピル基、１，１−ジメチル−２−オキソ−ｎ−ブチル基、
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、
２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、４−メチル−テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−エチル−テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、
【００５７】
１−メチル−１−シクロペンチルエチル基、１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−シクロヘキシルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−シクロへプチルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、
１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル基、
１，１−ジシクロペンチルエチル基、１，１−ジシクロヘキシルエチル基、１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル基
等を挙げることができる。
【００５８】
式（１-4）において、Ｒ⁸ の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基等を挙げることができる。
【００５９】
また、Ｒ⁸ の脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基としては、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等に由来するシクロアルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基；これらのシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する基をメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基の１種以上或いは１個以上で置換した基；これらのアルキル基で置換されてもよいシクロアルカン類あるいは有橋式炭化水素類に由来する１価の基を水酸基、カルボキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等の１種以上あるいは１個以上で置換した基等を挙げることができる。
【００６０】
また、Ｒ⁸ の環状エーテル構造を有する１価の有機基としては、例えば、テトラヒドロフラン−２−イル基、テトラヒドロピラン−２−イル基や、これらの基がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基に結合した基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁸ の置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基としては、例えば、下記式（２-1）、式（２-2）、式（２-3）または式（２-4）で表される基等を挙げることができる。
【００６１】
【化１８】

【００６２】
〔式（２-1）および式（２-2）において、各Ｒ⁹ は相互に独立に水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示し、Ｙ¹ はメチレン基、ジメチルメチレン基、酸素原子または硫黄原子を示す。
式（２-3）において、Ｒ¹⁰は水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示す。
式（２-4）において、Ｒ¹¹は水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示し、複数存在するＲ¹¹は相互に同一でも異なってもよく、ｄは０〜４の整数であり、Ｙ² は単結合またはメチレン基を示す。〕
【００６３】
式（２-1）〜式（２-4）において、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、１−メチルプロポキシ基、２−メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等を挙げることができる。
また、Ｒ⁹ 、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹の炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、１−メチルプロポキシカルボニル基、２−メチルプロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００６４】
一般式（II）において、Ｒ³ の式（１-4）で表される基中の好ましいＲ⁸ としては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；
アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基等の有橋式炭化水素類に由来する基；
（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル基等の環状エーテル構造を有する有機基；
【００６５】
５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基等の置換されてもよいラクトン骨格を有する有機基
等を挙げることができる。
【００６６】
一般式（III)において、Ｒ⁴ の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のヒドロキシアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等を挙げることができる。
【００６７】
また、Ｒ⁴ の炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基としては、例えば、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、１，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基等を挙げることができる。
【００６８】
一般式（III)におけるＲ⁴ としては、水素原子、メチル基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基等が好ましい。
【００６９】
また、Ｒ⁵ の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基、置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基、下記式（３-1) または式（３-2) で表される基等を挙げることができる。
【００７０】
【化１９】

【００７１】
〔式（３-1) において、Ｒ¹²は直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基、または脂環式構造を有する２価の有機基を示し、Ｘ⁴ は水素原子または１価の官能基を示す。
【００７２】
式（３-2) において、各Ｒ¹³は相互に独立に炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜４のオキソアルキル基または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示すか、あるいは何れか２つのＲ¹³が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原子と共に、炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ¹³が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜４のオキソアルキル基または炭素数４〜２０の一価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を示す。〕
【００７３】
一般式（III)において、Ｒ⁵ の１価の有機基のうち、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基および置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基としては、例えば、前記式（１-4）におけるＲ⁸ について例示したそれぞれ対応する基と同様のものを挙げることができる。
【００７４】
一般式（III)におけるＲ⁵ の炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、脂環式構造を有する炭素数４〜２０の１価の有機基、環状エーテル構造を有する１価の有機基および置換されてもよいラクトン骨格を有する１価の有機基の好ましいものとしては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；
アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基等の有橋式炭化水素類に由来する基；
（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル基等の環状エーテル構造を有する有機基；
【００７５】
５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサ−ビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−エチル−２−オキソテトラヒドロピランー４−イル基、４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（４，４−ジメチルー５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基等の置換されてもよいラクトン骨格を有する有機基
等挙げることができる。
【００７６】
式（３-1) において、Ｒ¹²の直鎖状もしくは分岐状の２価の有機基および脂環式構造を有する２価の有機基としては、例えば、前記式（１-2）におけるＲ⁶ について例示したそれぞれ対応する基と同様のものを挙げることができる。
【００７７】
式（３-1）におけるＲ¹²としては、メチレン基、エチレン基、アダマンタンに由来する２価の基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタンに由来する２価の基等が好ましい。
【００７８】
式（３-1) におけるＸ⁴ の１価の官能基としては、例えば、前記式（１-2）におけるＸ³ の１価の官能基について例示した基と同様のものを挙げることができる。
式（３-1）におけるＸ⁴ としては、水素原子、水酸基、カルボキシル基、シアノ基等が好ましい。
【００７９】
一般式（III)において、Ｒ⁵ の式（３-1）で表される好ましい基としては、例えば、
ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、
カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、３−カルボキシアダマンタン−１−イル基、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、
シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、３−シアノアダマンタン−１−イル基、５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基等を挙げることができる。
【００８０】
式（３-2) において、Ｒ¹³の１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数２〜４のオキソアルキル基、炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体および何れか２つのＲ¹³が相互に結合してそれぞれが結合している炭素原子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体としては、前記式（１-3) におけるＲ⁷ について例示したそれぞれ対応する基と同様のものを挙げることができる。
【００８１】
一般式（III)において、Ｒ⁵ の式（３-2）で表される好ましい基としては、例えば、
ｔ−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−エチル−２−ブチル基、３−エチル−３−ブチル基、
１，１−ジメチル−２−オキソプロピル基、１，１−ジメチル−２−オキソ−ｎ−ブチル基、
１−メチルシクロペンチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、
２−メチルアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、４−メチル−テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−エチル−テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、
【００８２】
１−メチル−１−シクロペンチルエチル基、１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル基、１−メチル−１−シクロヘキシルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル基、１−メチル−１−シクロへプチルエチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル基、
１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル基、１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル基、１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル基、
１，１−ジシクロペンチルエチル基、１，１−ジシクロヘキシルエチル基、１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル基、１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル基、１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル基、１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル基
等を挙げることができる。
さらに、一般式（III)におけるＲ⁵ としては、水素原子も好ましい。
【００８３】
好ましい繰り返し単位（II) を与える単量体としては、例えば、
５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−ヘキシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−オクチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−デシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプトー２−エン、５−（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（３−ヒドロキシプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００８４】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−酢酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプトー２−エン−５−プロピオン酸、
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シアノメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−シアノエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（３−シアノプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
【００８５】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸ｎ−プロピル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸ｔ−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸２−エチル−２−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸３−エチル−３−ブチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸シクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸シクロヘキシル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチルアダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、
【００８６】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−エチルシクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロヘキシル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−エチルシクロヘキシル、
【００８７】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１−メチル−１−シクロペンチルエチル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１−メチル−１−シクロヘキシルエチル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
【００８８】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、
【００８９】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１，１−ジシクロペンチルエチル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１，１−ジシクロヘキシルエチル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（アダマンタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、
【００９０】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（１，１−ジメチル−２−オキソプロピル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、
【００９１】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（４，４−ジメチルー５−オキソテトラヒドロフランー２−イル）メチル〕エステル
等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン誘導体類；
【００９２】
９−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−ブチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−ヘキシルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−オクチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−デシルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、
９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（３−ヒドロキシプロピル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、
９−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−〔（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、
【００９３】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−酢酸、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エンー９−プロピオン酸、
９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−シアノメチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（２−シアノエチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（３−シアノプロピル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、
【００９４】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸エチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸ｔ−ブチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸２−メチル−２−ブチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸２−エチル−２−ブチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸３−エチル−３−ブチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸シクロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸シクロヘキシル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチルアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、
【００９５】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシクロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシクロヘキシル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシクロヘキシル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、
【００９６】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１−メチル−１−シクロペンチルエチル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１−メチル−１−シクロヘキシルエチル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
【００９７】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、
【００９８】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１，１−ジシクロペンチルエチル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１，１−ジシクロヘキシルエチル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル〕エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（アダマンタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、
【００９９】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（１，１−ジメチル−２−オキソプロピル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、
【０１００】
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エステル等のテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン誘導体類
等を挙げることができる。
【０１０１】
また、好ましい繰り返し単位（III)を与える単量体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸（フロオロ）（ヒドロキシ）メチル、（メタ）アクリル酸（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル、（メタ）アクリル酸１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル、（メタ）アクリル酸２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル、（メタ）アクリル酸５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、
【０１０２】
（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸カルボキシメチル、（メタ）アクリル酸２−カルボキシエチル、（メタ）アクリル酸３−カルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−カルボキシアダマンタン−１−イル、（メタ）アクリル酸５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸６−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸９−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、（メタ）アクリル酸１０−カルボキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、
（メタ）アクリル酸シアノメチル、（メタ）アクリル酸２−シアノエチル、（メタ）アクリル酸３−シアノプロピル、（メタ）アクリル酸３−シアノアダマンタン−１−イル、（メタ）アクリル酸５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、（メタ）アクリル酸１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、
【０１０３】
（メタ）アクリル酸１−メチルシクロペンチル、（メタ）アクリル酸１−エチルシクロペンチル、（メタ）アクリル酸１−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸１−エチルシクロヘキシル、
（メタ）アクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル、（メタ）アクリル酸２−エチルアダマンタン−２−イル、（メタ）アクリル酸２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、（メタ）アクリル酸４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、（メタ）アクリル酸８−メチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル、（メタ）アクリル酸８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル、
（メタ）アクリル酸１−メチル−１−シクロペンチルエチル、（メタ）アクリル酸１−（２−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロペンチル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−シクロヘキシルエチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（４−ヒドロキシシクロへプチル）エチル、
【０１０４】
（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（アダマンタン−１−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１−メチル−１−（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル、
（メタ）アクリル酸１，１−ジシクロペンチルエチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジシクロヘキシルエチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジ（アダマンタン−１−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジ（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エチル、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチル−２−ブチル、（メタ）アクリル酸３−エチル−３−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸アダマンタン−１−イル、（メタ）アクリル酸ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、（メタ）アクリル酸７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イル、（メタ）アクリル酸テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル、（メタ）アクリル酸トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル、
【０１０５】
（メタ）アクリル酸（テトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸１，１−ジメチル−２−オキソプロピル、
（メタ）アクリル酸５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル、（メタ）アクリル酸９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル、（メタ）アクリル酸７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル、（メタ）アクリル酸２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル、（メタ）アクリル酸２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル、（メタ）アクリル酸４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル、（メタ）アクリル酸４−エチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル、（メタ）アクリル酸４−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル、（メタ）アクリル酸５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸５，５−ジメチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル、（メタ）アクリル酸（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３，３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル
等の（メタ）アクリル酸またはその誘導体類
等を挙げることができる。
【０１０６】
樹脂（Ａ）は、さらに、繰り返し単位（II) および繰り返し単位（III)以外の他の繰り返し単位を有することもできる。
繰り返し単位（II) および繰り返し単位（III)以外の他の繰り返し単位を与える単量体として、例えば、
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル化合物；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド等の不飽和アミド化合物または不飽和イミド化合物；
Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等の他の含窒素ビニル化合物；
クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の他の不飽和カルボン酸（無水物）類
等の単官能性単量体や、
【０１０７】
メチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジ（メタ）アクリレート、１，３−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ベンゼンジ（メタ）アクリレート、１，２−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−アダマンタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルジメチロールジ（メタ）アクリレート等の多官能性単量体
を挙げることができる。
【０１０８】
これらの単量体のうち、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトン酸、無水マレイン酸等が好ましい。
【０１０９】
樹脂（Ａ）における繰り返し単位の好ましい組み合わせの具体例としては、下記式（Ａ１）〜（Ａ３）で表されるものを挙げることができる。
【０１１０】
【化２０】

【０１１１】
【化２１】

【０１１２】
【化２２】

〔式（Ａ１）、式（Ａ２）および式（Ａ３）において、各Ｒは一般式（Ｉ-1）のＲと同義であり、各Ｒ ¹⁶ は式（ III-1) のＲ ¹⁶ と同義であり、Ｒ⁴ は一般式（III)のＲ⁴ と同義である。〕
【０１１３】
樹脂（Ａ）において、繰り返し単位（Ｉ-1）の含有率は、全繰り返し単位に対して、通常、２０モル％以上、好ましくは１０〜７０モル％、さらに好ましくは１０〜６０モル％、特に好ましくは２０〜５０モル％である。この場合、繰り返し単位（Ｉ-1）の含有率が２０モル％未満では、レジストとしての解像性が低下する傾向がある。
また、繰り返し単位（ III-1) 、繰り返し単位（II) および繰り返し単位（III)の合計含有率は、全繰り返し単位に対して、好ましくは８０モル％以下である。この場合、前記合計含有率が８０モル％を超えると、レジストとしての解像性が低下する傾向がある。
さらに、繰り返し単位（II) および繰り返し単位（III)以外の他の繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位に対して、通常、５０モル％以下、好ましくは４０モル％以下である。
【０１１４】
樹脂（Ａ）は、例えば、各繰り返し単位に対応する単量体の混合物を、ヒドロパーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用し、必要に応じて連鎖移動剤の存在下、適当な溶媒中で重合することにより製造することができる。
前記重合に使用される溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、フルオロクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の飽和カルボン酸エステル類；γ−ブチロラクトン等のアルキルラクトン類；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタン類等のエーエル類；２−ブタノン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のアルキルケトン類；シクロヘキサノン等のシクロアルキルケトン類；２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
また、前記重合における反応温度は、通常、４０〜１２０℃、好ましくは５０〜１００℃であり、反応時間は、通常、１〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。
【０１１５】
本発明における樹脂（Ａ）は、ハロゲン、金属等の不純物が少ない程好ましいのは当然であるが、残留モノマーやオリゴマー成分についても規定値以下、例えば高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で測定した値が０．１重量％以下であることが好ましく、それにより、レジストとしての感度、解像度、プロセス安定性、パターン形状等をさらに改善することができるだけでなく、レジストパターンの形成に使用される組成物溶液中の異物量の変動や感度等の経時変化が少なく、安定したレジスト性能を示す感放射線性樹脂組成物を提供することができる。
樹脂（Ａ）の精製法としては、例えば、次の方法を挙げることができる。まず、金属等の不純物を除去する方法としては、ゼータ電位フィルターを用いて樹脂溶液中の金属を吸着させる方法や、蓚酸やスルホン酸等の酸性水溶液で樹脂溶液を洗浄することにより金属をキレートとして除去する方法等を挙げることができる。また、残留モノマーやオリゴマー成分を規定値以下に下げる方法としては、水洗；適切な溶媒を選択しあるいは組み合わせて残留モノマーやオリゴマー成分を除去する液々抽出、適切な溶媒を選択しあるいは組み合わせて特定分子量以下の低分子量成分のみを抽出除去する限外ろ過等の液相精製法；樹脂溶液を貧溶媒中へ滴下して樹脂を凝固させて残留モノマー等を除去する再沈澱、ろ別した樹脂を貧溶媒で洗浄する方法等の固相精製法を挙げることができ、またこれらの方法を組み合わせることもできる。前記液相精製法に使用される溶媒および前記固相精製法に使用される貧溶媒は、精製される樹脂に応じて適宜選定される。
【０１１６】
樹脂（Ａ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、１，０００〜３００，０００、好ましくは２，０００〜２００，０００、さらに好ましくは３，０００〜１００，０００である。この場合、樹脂（Ａ）のＭｗが１，０００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾向があり、一方３００，０００を超えると、レジストとしての現像性が低下する傾向がある。
また、樹脂（Ａ）のＭｗとゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常、１〜５、好ましくは１〜３である。
本発明において、樹脂（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１１７】
（Ｂ）成分
本発明における（Ｂ）成分は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線による露光により酸を発生する感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という。）からなる。
酸発生剤（Ｂ）は、露光により発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有するものである。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸としては、下記式（ＢA-1)〜（ＢA-5)で表されるものが好ましい。
【０１１８】
【化２３】

【０１１９】
〔式（ＢA-1)において、各Ｒf は相互に独立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒa は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基またはは炭素数３〜２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の一価の炭化水素基および該環状の１価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。
【０１２０】
式（ＢA-2)において、Ｒf はフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、
Ｒf'は水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示し、
Ｒb は水素原子、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基または炭素数３〜２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の一価の炭化水素基および該環状の１価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。
【０１２１】
式（ＢA-3)において、Ｒs は炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基を示し、該環状の１価の炭化水素基は置換されていてもよい。
【０１２２】
式（ＢA-4)において、Ｒc は炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基または炭素数３〜２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の一価の炭化水素基および該環状の１価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよい。
【０１２３】
式（ＢA-5)において、Ｒe はＲa −ＳＯ₂ −基またはＲa −ＣＯ−基を示し、
Ｒa は式（Ｂ-1) におけるＲa と同義である。但し、酸発生剤（Ｂ）から発生する酸が式（ＢA-1)で表される酸と式（ＢA-5)で表される酸との混合物を含むとき、式（ＢA-1)で表される酸のＲa と式（ＢA-5)で表される酸のＲa とは同一でも異なってもよい。〕
【０１２４】
式（ＢA-1)〜（ＢA-5)において、Ｒa 、Ｒb 、Ｒs 、Ｒc およびＲe の炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等を挙げることができる。
また、Ｒa 、Ｒc およびＲe の炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオローｉ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基、ノナフルオロ−２−メチルプロピル基、ノナフルオロ−１−メチルプロピル基、ノナフルオロ−ｔ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシル基、パーフルオロ−ｎ−ヘプチル基、パーフルオロ−ｎ−オクチル基等を挙げることができる。
【０１２５】
また、Ｒa 、Ｒb 、Ｒs 、Ｒc およびＲe の炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２−ナフチル基、２−ナフチル基、シクロアルキル基、アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、１０−カンファニル基等を挙げることができる。
また、Ｒa 、Ｒb 、Ｒc およびＲe の炭素数３〜２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基としては、例えば、フェニル基、２−ナフチル基、２−ナフチル基、シクロアルキル基、アダマンタン−１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基または１０−カンファニル基を１個以上のフッ素原子で置換した基等を挙げることができる。
【０１２６】
前記式（ＢA-1)で表される酸としては、例えば、
トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロパンスルホン酸、ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホン酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブタンスルホン酸、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホン酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸等の直鎖或いは分岐状のフッ素化アルキルスルホン酸類；
【０１２７】
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホン酸、１−トリフルオロメチルー１，２，２−トリフルオロエタンスルホン酸、２−トリフルオロメチル−１，１，２−トリフルオロエタンスルホン酸、１，２−ジ（トリフルオロメチル）−１，２−ジフルオロエタンスルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−２，２−ジフルオロエタンスルホン酸または２，２−ジ（トリフルオロメチル）−１，１−ジフルオロエタンスルホン酸の各２−位に位置する水素原子を、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，６−ジフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、ナフタレン−１−イル基、ナフタレン−２−イル基、アダマンタン−１−イル基、アダマンタン−２−イル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基または１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基で置換した酸
等を挙げることができる。
【０１２８】
また、式（ＢA-2)で表される酸としては、例えば、
１−フルオロエタンスルホン酸、１−フルオロ−ｎ−プロパンスルホン酸、１−フルオロ−ｎ−ブタンスルホン酸、１−フルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸、１、１−ジフルオロエタンスルホン酸、１、１−ジフルオロ−ｎ−プロパンスルホン酸、１、１−ジフルオロ−ｎ−ブタンスルホン酸、１、１−ジフルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−プロパンスルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−ブタンスルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−オクタンスルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）エタンスルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−ｎ−プロパンスルホン酸、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−ｎ−ブタンスルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−ｎ−オクタンスルホン酸等の直鎖或いは分岐状のフッ素化アルキルスルホン酸類；
【０１２９】
モノフルオロメタンスルホン酸、ジフルオロメタンスルホン酸、１−フルオロエタンスルホン酸、１，１−ジフルオロエタンスルホン酸、（トリフルオロメチル）メタンスルホン酸、１−（トリフルオロメチル）エタンスルホン酸、ジ（トリフルオロメチル）メタンスルホン酸または１，１−ジ（トリフルオロメチル）エタンスルホン酸の各１−位に位置する水素原子または各２−位に位置する水素原子を、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，６−ジフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、ナフタレン−１−イル基、ナフタレン−２−イル基、アダマンタン−１−イル基、アダマンタン−２−イル基、３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基または１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基で置換した酸
等を挙げることができる。
【０１３０】
また、式（ＢA-3)で表される酸としては、例えば、
メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ｎ−プロパンスルホン酸、ｎ−ブタンスルホン酸、２−メチルプロパンスルホン酸、１−メチルプロパンスルホン酸、ｔ−ブタンスルホン酸、ｎ−ペンタンスルホン酸、ｎ−ヘキサンスルホン酸、ｎ−オクタンスルホン酸、シクロペンタンスルホン酸、シクロヘキサンスルホン酸等の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキルスルホン酸類；
ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンジルスルホン酸、α−ナフタレンスルホン酸、β−ナフタレンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；
１０−カンファースルホン酸
等を挙げることができる。
【０１３１】
また、式（ＢA-4)で表される酸としては、例えば、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、安息香酸、サリチル酸、フタル酸、テレフタル酸、α−ナフタレンカルボン酸、β−ナフタレンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、アダマンタン−１−カルボン酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−カルボン酸、アダマンタン−１−酢酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−酢酸、リトコール酸、デオキシコール酸、ケノデオキシコール酸、コール酸等のモノカルボン酸類；
シクロブタン−１，１−ジカルボン酸、シクロブタン−１，２−ジカルボン酸、シクロペンタン−１，１−ジカルボン酸、シクロペンタン−１，２−ジカルボン酸、シクロペンタン−１，３−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，１−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，３−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，４−ジカルボン酸、アダマンタン−１，３−ジカルボン酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボン酸、アダマンタン−１，３−ジ酢酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジ酢酸等のジカルボン酸類
等を挙げることができる。
【０１３２】
さらに、式（ＢA-5)で表される酸としては、例えば、
Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニル）イミド酸、
Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル・Ｎ−ペンタフルオロエタンスルホニルイミド酸、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル・Ｎ−ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニルイミド酸、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル・Ｎ−ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルイミド酸、Ｎ−ペンタフルオロエタンスルホニル・Ｎ−ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニルイミド酸、Ｎ−ペンタフルオロエタンスルホニル・Ｎ−ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルイミド酸、Ｎ−ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル・Ｎ−ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルイミド酸
等を挙げることができる。
【０１３３】
前記式（ＢA-1)〜（ＢA-5)で表される酸を発生する化合物としては、例えば、オニウム塩化合物、スルホンイミド化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、ジスルホニルジアゾメタン化合物、ジスルホニルメタン化合物、オキシムスルホネート化合物、ヒドラジンスルホネート化合物等を挙げることができる。
【０１３４】
前記オニウム塩化合物としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩（テトラヒドロチオフェニウム塩を含む。）、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。
好ましいオニウム塩化合物としては、例えば、
ジフェニルヨードニウム塩、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム塩、ジ（ｐ−トルイル）ヨードニウム塩、ジ（３，４−ジメチルフェニル）ヨードニウム塩、４−ニトロフェニル・フェニルヨードニウム塩、ジ（３−ニトロフェニル）ヨードニウム塩、４−メトキシフェニル・フェニルヨードニウム塩、ジ（４−クロロフェニル）ヨードニウム塩、ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム塩、ビフェニレンヨードニウム塩、ジ（ナフタレン−２−イル）ヨードニウム塩、２−クロロビフェニレンヨードニウム塩等のヨードニウム塩；
トリフェニルスルホニウム塩、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウム塩、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウム塩、４−ヒドロキシフェニル・ジフェニルスルホニウム塩、トリ（４−メトキシフェニル）スルホニウム塩、ジ（４−メトキシフェニル）・ｐ−トルイルスルホニウム塩、フェニル・ビフェニレンスルホニウム塩、４−フェニルチオフェニル・ジフェニルスルホニウム塩、４，４’−ビス（ジフェニルスルホニオフェニル）スルフィド塩等のアリールスルホニウム塩；
【０１３５】
ジシクロヘキシル・メチルスルホニウム塩、ジメチル・シクロヘキシルスルホニウム塩、トリシクロヘキシルスルホニウム塩等のトリ（シクロ）アルキルスルホニウム塩；
シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシル・メチルスルホニウム塩、ジシクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム塩、２−オキソシクロヘキシルジメチルスルホニウム塩、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・メチル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム塩、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム塩、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔２−（ナフタレン−２−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（２−オキソ−ｎ−ブチル）テトラヒドロチオフェニウム塩等の２−オキソスルホニウム塩；
ナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、ナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩、４−シアノナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−シアノナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩、４−ニトロナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−ニトロナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩、４−メチルナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−メチルナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩、４−ヒドロキシノナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−ヒドロキシナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩等のナフタレン−１−イル・ジアルキルスルホニウム塩；
【０１３６】
１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−メトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−メトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−エトキシメトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔４−（１−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔４−（２−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−メトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−エトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔４−（２−テトラヒドロフラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ベンジルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、４−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン塩、（４−エトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン塩、１−〔４−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）オキシナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（３，５−ジメチル−４−エトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（３，５−ジメチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム塩等のアリールチオフェニウム塩
等を挙げることができる。
【０１３７】
前記スルホンイミド化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ１) で表される化合物を挙げることができる。
【０１３８】
【化２４】

〔一般式（Ｂ１) において、 [ＲＡ] は前記式（ＢA-1)〜（ＢA-4)で表される何れかの酸の残基を示し、それが解離したとき式（ＢA-1)〜（ＢA-4)で表される酸を生成する基であり、Ｚ¹ は２価の有機基を示す。〕
【０１３９】
一般式（Ｂ１) で表される化合物は、一般式（Ｂ１) 中の [ＲＡ] 基を水素原子で置換した化合物（以下、「母核化合物（Ｂ１）」という。）と前記式（ＢA-1)〜（ＢA-4)で表される酸の残基とがスルホニル結合あるいはカルボニル結合を介して結合した構造を有する化合物である。
母核化合物（Ｂ１）としては、例えば、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシジフェニルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシ−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロキシナフチルイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等を挙げることができる。
【０１４０】
前記スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらのα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
前記ジスルホニルジアゾメタン化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ２）で表される化合物を挙げることができる。
【０１４１】
【化２５】

〔一般式（Ｂ２) において、各 [ＲＡ] は相互に独立に前記一般式（Ｂ１) における [ＲＡ] と同義である。〕
【０１４２】
前記ジスルホニルメタン化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。
【０１４３】
【化２６】

〔一般式（Ｂ３) において、各 [ＲＡ] は相互に独立に前記一般式（Ｂ１) における [ＲＡ] と同義であり、ＶおよびＷは少なくとも一方がアリール基であるか、あるいはＶとＷが相互に連結して少なくとも１個の不飽和結合を有する単環構造または多環構造を形成しているか、あるいはＶとＷが相互に連結して下記式
【０１４４】
【化２７】

（但し、Ｖ’およびＷ’は相互に同一でも異なってもよく、かつ複数存在するＶ’およびＷ’は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示すか、あるいは同一のもしくは異なる炭素原子に結合したＶ’とＷ’が相互に連結して炭素単環構造を形成しており、ｋは２〜１０の整数である。）
で表される基を形成している。〕
【０１４５】
前記オキシムスルホネート化合物としては、例えば、下記一般式（Ｂ４-1）または一般式（Ｂ４-2）で表される化合物を挙げることができる。
【０１４６】
【化２８】

〔一般式（Ｂ４-1) および一般式（Ｂ４-2）において、各 [ＲＡ] は相互に独立に前記一般式（Ｂ１) における [ＲＡ] と同義であり、各Ｒ¹⁴は相互に独立に１価の有機基を示す。〕
【０１４７】
一般式（Ｂ４-1) および一般式（Ｂ４-2）において、Ｒ¹⁴の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ―プロピル基、フェニル基、トシル基等を挙げることができる。
【０１４８】
前記ヒドラジンスルホネート化合物としては、例えば、ビス（ベンゼン）スルホニルヒドラジン、ビス（ｐ−トルエン）スルホニルヒドラジン、ビス（トリフルオロメタン）スルホニルヒドラジン、ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタン）スルホニルヒドラジン、ビス（ｎ−プロパン）スルホニルヒドラジン、ベンゼンスルホニルヒドラジン、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジン、トリフルオロメタンスルホニルヒドラジン、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルヒドラジン、ｎ−プロパンスルホニルヒドラジン、トリフルオロメタンスルホニル・ｐ−トルエンスルホニルヒドラジン等を挙げることができる。
【０１４９】
好ましい酸発生剤（Ｂ）の具体例としては、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１５０】
ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
ジフェニルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム１０−カンファースルホネート、
【０１５１】
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１５２】
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネート、
【０１５３】
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１５４】
トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート、
【０１５５】
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１５６】
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウムベンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム１０−カンファースルホネート、
【０１５７】
１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１５８】
１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１５９】
１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロ−エタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１６０】
１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１６１】
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレンー１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレンー１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１６２】
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン１１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン１１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１６３】
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカントリフルオロメタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレンー１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１６４】
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンベンゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン１０−カンファースルホネート、
【０１６５】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１６６】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１６７】
１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
【０１６８】
１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、
１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１６９】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
【０１７０】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
【０１７１】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド
等を挙げることができる。
【０１７２】
これらの酸発生剤（Ｂ）のうち、さらに好ましくは、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウム１０−カンファースルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネート、
【０１７３】
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラルオロエタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート、
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
【０１７４】
１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、
【０１７５】
Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド
等である。
【０１７６】
本発明において、酸発生剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジストとしての感度および現像性を確保する観点から、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜７重量部である。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部未満では、レジストとしての感度および現像性が低下する傾向があり、一方１０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得られ難くなる傾向がある。
【０１７７】
各種添加剤
本発明の感放射線性樹脂組成物には、露光により酸発生剤（Ｂ）から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応を抑制する作用を有する酸拡散制御剤を配合することが好ましい。
このような酸拡散制御剤を配合することにより、得られる感放射線性樹脂組成物の貯蔵安定性がさらに向上し、またレジストとしての解像度がさらに向上するとともに、露光から現像処理までの引き置き時間（ＰＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物が得られる。
酸拡散制御剤としては、レジストパターンの形成工程中の露光や加熱処理により塩基性が変化しない含窒素有機化合物が好ましい。
このような含窒素有機化合物としては、例えば、下記一般式（Ｃ) で表される化合物（以下、「酸拡散制御剤（Ｃ) 」という。）を挙げることができる。
【０１７８】
【化２９】

〔一般式（Ｃ）において、各Ｒ¹⁵は相互に独立に水素原子、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、アリール基またはアラルキル基を示し、これらのアルキル基、アリール基およびアラルキル基は水酸基等の官能基で置換されていてもよく、Ｚ² は２価の有機基を示し、ｍは０〜２の整数である。〕
【０１７９】
酸拡散制御剤（Ｃ) において、ｍ＝０の化合物を「含窒素化合物（α）」とし、ｍ＝１〜２の化合物を「含窒素化合物（β）」とする。また、窒素原子を３個以上有するポリアミノ化合物および重合体をまとめて「含窒素化合物（γ）」とする。
さらに、酸拡散制御剤（Ｃ) 以外の含窒素有機化合物としては、例えば、４級アンモニウムヒドロキシド化合物、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等を挙げることができる。
【０１８０】
含窒素化合物（α）としては、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルメチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、２，６−ジメチルアニリン、２，６−ジイソプロピルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、ナフチルアミン等の芳香族アミン類を挙げることができる。
【０１８１】
含窒素化合物（β）としては、例えば、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、１，３−ビス〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼンテトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼン、１，３−ビス〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、ビス（２−ジエチルアミノエチル）エーテル等を挙げることができる。
含窒素化合物（γ）としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、２−ジメチルアミノエチルアクリルアミドの重合体等を挙げることができる。
前記４級アンモニウムヒドロキシド化合物としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。
【０１８２】
前記アミド基含有化合物としては、例えば、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジアミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２−ジアミノドデカン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダゾール等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化合物のほか、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
【０１８３】
前記ウレア化合物としては、例えば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリ−ｎ−ブチルチオウレア等を挙げることができる。前記含窒素複素環化合物としては、例えば、イミダゾール、４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、３−ピペリジノ−１，２−プロパンジオール、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ [２．２．２] オクタン等を挙げることができる。
【０１８４】
これらの酸拡散制御剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸拡散制御剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、１５重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さらに好ましくは５重量部以下である。この場合、酸拡散制御剤の配合量が１５重量部を超えると、レジストとしての感度や露光部の現像性が低下する傾向がある。なお、酸拡散制御剤の配合量が０．００１重量部未満であると、プロセス条件によっては、レジストとしてのパターン形状や寸法忠実度が低下するおそれがある。
【０１８５】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、ドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接着性等をさらに改善する作用を示す添加剤を配合することができ、該添加剤は酸解離性基を有することができる。
このような添加剤としては、例えば、
アダマンタン−１−カルボン酸ｔ−ブチル、アダマンタン−１−カルボン酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、アダマンタン−１−カルボン酸α−ブチロラクトンエステル、アダマンタン−１，３−ジカルボン酸ジ−ｔ−ブチル、アダマンタン−１−酢酸ｔ−ブチル、アダマンタン−１−酢酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、アダマンタン−１，３−ジ酢酸ジ−ｔ−ブチル、２，５−ジメチル−２，５−ジ（アダマンタン−１−イルカルボニルオキシ）ヘキサン等のアダマンタン誘導体類；
デオキシコール酸ｔ−ブチル、デオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、デオキシコール酸２−エトキシエチル、デオキシコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、デオキシコール酸３−オキソシクロヘキシル、デオキシコール酸テトラヒドロピラニル、デオキシコール酸メバロノラクトンエステル等のデオキシコール酸エステル類；
リトコール酸ｔ−ブチル、リトコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、リトコール酸２−エトキシエチル、リトコール酸２−シクロヘキシルオキシエチル、リトコール酸３−オキソシクロヘキシル、リトコール酸テトラヒドロピラニル、リトコール酸メバロノラクトンエステル等のリトコール酸エステル類：
アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、アジピン酸時プロピル、アジピン酸ジｎ−ブチル、アジピン酸ジｔ−ブチル等のアルキルカルボン酸エステル類；
等を挙げることができる。
【０１８６】
これらの添加剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記添加剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下である。この場合、該添加剤の配合量が５０重量部を超えると、レジストとしての耐熱性が低下する傾向がある。
【０１８７】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、塗布性、現像性等を改良する作用を示す界面活性剤を配合することができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、エフトップＥＦ３０１，同ＥＦ３０３，同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）製）、メガファックスＦ１７１，同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０，同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２，同ＳＣ−１０１，同ＳＣ−１０２，同ＳＣ−１０３，同ＳＣ−１０４，同ＳＣ−１０５，同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等を挙げることができる。
【０１８８】
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
前記界面活性剤の配合量は、樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）との合計１００重量部に対して、通常、２重量部以下である。
【０１８９】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、感度等を改良する作用を示す増感剤を配合することができる。
好ましい増感剤としては、例えば、カルバゾール類、ベンゾフェノン類、ローズベンガル類、アントラセン類、フェノール類等を挙げることができる。
これらの増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
増感剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部当り、好ましくは５０重量部以下である。
さらに、前記以外の添加剤としては、ハレーション防止剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙げることができる。
【０１９０】
組成物溶液の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、普通、その使用に際して、全固形分濃度が、通常、３〜５０重量％、好ましくは５〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したのち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過することによって、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、
２−ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状もしくは分岐状のケトン類；
シクロペンタノン、３−メチルシクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン等の環状のケトン類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類；
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等の３−アルコキシプロピオン酸アルキル類のほか、
【０１９１】
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン
等を挙げることができる。
【０１９２】
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、中でも、直鎖状もしくは分岐状のケトン類、環状のケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類、３−アルコキシプロピオン酸アルキル類、γ−ブチロラクトン等が好ましい。
【０１９３】
レジストパターンの形成方法
本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型レジストとして有用である。
前記化学増幅型レジストにおいては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中の酸解離性基が解離して、カルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去されることにより、ポジ型のレジストパターンが得られる。
本発明の感放射線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際には、組成物溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スプレー塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウエハー、アルミニウムで被覆されたウエハー等の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成し、場合により予め加熱処理（以下、「ＰＢ」という。）を行ったのち、所定のレジストパターンを形成するように該レジスト被膜に露光する。
その際に使用される放射線としては、例えば、紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂ キシマレーザー（波長１５７ｎｍ）、ＥＵＶ（極紫外線、波長１３ｎｍ等）等の遠紫外線、電子線等の荷電粒子線、シンクロトロン放射線等のＸ線等を適宜選択して使用することができるが、これらのうち遠紫外線、電子線が好ましい。
また、露光量等の露光条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成、各添加剤の種類等に応じて、適宜選定される。
本発明においては、高精度の微細パターンを安定して形成するために、露光後に加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を行うことが好ましい。このＰＥＢにより、樹脂（Ａ）中の酸解離性基の解離反応が円滑に進行する。ＰＥＢの加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成によって変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃である。
【０１９４】
本発明においては、感放射線性樹脂組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−１２４５２号公報等に開示されているように、使用される基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成しておくこともでき、また環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技術を併用することもできる。
次いで、露光されたレジスト被膜を現像することにより、所定のレジストパターンを形成する。
現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、１０重量％以下である。この場合、アルカリ性水溶液の濃度が１０重量％を超えると、非露光部も現像液に溶解するおそれがあり好ましくない。
【０１９５】
また、前記アルカリ性水溶液からなる現像液には、有機溶媒を添加することもできる。
前記有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルｉ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、３−メチルシクロペンタノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン等の直鎖状、分岐状もしくは環状のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
これらの有機溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。この場合、有機溶媒の使用量が１００容量％を超えると、現像性が低下して、露光部の現像残りが多くなるおそれがある。
また、アルカリ性水溶液からなる現像液には、界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。
【０１９６】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。ここで、部は、特記しない限り重量基準である。
実施例および比較例における各測定・評価は、下記の要領で行った。
Ｍｗ：
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
放射線透過率：
組成物溶液を石英ガラス上にスピンコートにより塗布し、１３０℃に保持したホットプレート上で６０秒間ＰＢを行って形成した膜厚０．３４μｍのレジスト被膜について、波長１９３ｎｍにおける吸光度から、放射線透過率を算出して、遠紫外線領域における透明性の尺度とした。
【０１９７】
感度：
ウエハー表面に膜厚８２０ÅのＡＲＣ２５（ブルワー・サイエンス（Brewer Science）社製）膜を形成したシリコンウエハー（ＡＲＣ２５）を用い、各組成物溶液を、基板上にスピンコートにより塗布し、ホットプレート上にて、表２に示す条件でＰＢを行って形成した膜厚０．３４μｍのレジスト被膜に、ニコン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（開口数０．５５）を用い、マスクパターンを介してＡｒＦエキシマレーザーを露光した。その後、表２に示す条件でＰＥＢを行ったのち、２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で６０秒間現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形成した。このとき、線幅０．１６μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の線幅に形成する露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。
解像度：
最適露光量で解像される最小のレジストパターンの寸法を、解像度とした。
【０１９８】
ドライエッチング耐性：
組成物溶液をシリコンウエハー上にスピンコートにより塗布し、乾燥して形成した膜厚０．５μｍのレジスト被膜に対して、ＰＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000）を用い、エッチングガスをＣＦ₄ とし、ガス流量７５ｓｃｃｍ、圧力２．５ｍＴｏｒｒ、出力２，５００Ｗの条件でドライエッチングを行って、エッチング速度を測定し、比較例１で使用した樹脂から形成した被膜のエッチング速度に対する相対値により、相対エッチング速度を評価した。エッチング速度が小さいほど、ドライエッチング耐性に優れることを意味する。
パターン形状：
線幅０．１６μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺寸法Ｌb と上辺寸法Ｌa とを走査型電子顕微鏡により測定し、
０．８５≦Ｌa ／Ｌb ≦１を満足し、かつパターン形状が裾を引いていない場合を“良好”とし、０．８５＞Ｌa ／Ｌb の場合を“テーパー状”とした。
ＰＥＢ温度安定性：
線幅０．１６μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を解像する最適露光量に対して、ＰＥＢ温度を意図的に５℃づつ増減させると、線幅が変動するとともに解像度も劣化する。そのときに得られる線幅の単位温度当たりの変動値（単位：ｎｍ／℃）を算出してＰＥＢ温度安定性とした。一般に、その値が小さいほど実際のデバイス製造に際して好適に働く。そして、その値が５ｎｍ／℃未満の場合を“良好”とし、５ｎｍ／℃以上の場合を“不良”とした。
【０１９９】
合成例１
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル１０ｇを乾燥テトラヒドロフラン４０ミリリットルに溶解して、０℃に冷却したのち、雰囲気を窒素置換した。その後、ＢＨ₃ −テトラヒドロフラン錯体の１Ｍテトラヒドロフラン溶液２５ミリリットルを滴下し、０℃で１時間攪拌したのち、室温でさらに１時間攪拌した。その後、反応溶液を０℃に冷却し、水２．０ミリリットルを滴下したのち、反応溶液の温度を２０℃以下に保持しつつ、３モル水酸化ナトリウム水溶液４．４ミリリットルおよび３０％過酸化水素水３．０ミリリットルを滴下した。その後、室温で１．５時間攪拌したのち、水層を塩化ナトリウムで飽和させて、有機層をジエチルエーテル４００ミリリットルで希釈した。その後、エーテル層を飽和塩化ナトリウム水溶液および水の順で洗浄して、硫酸マグネシウム上で乾燥したのち、ジエチルエーテルを留去して、２−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし３−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル９．２ｇを得た。
【０２００】
次いで、この２−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし３−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル９．２ｇ、ピリジン３．８１ｇを乾燥テトラヒドロフラン４０ｇに溶解して、０℃に冷却したのち、アクリロイルクロライド４．３６ｇを乾燥テトラヒドロフラン５ミリリットルに溶解した溶液を滴下して、１時間攪拌し、さらに室温で一晩反応させた。その後、析出したピリジン塩酸塩をろ別し、ろ液をジエチルエーテル１００ミリリットルで希釈して、０．５Ｎしゅう酸水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液、３重量％炭酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液の順で洗浄した。その後、エーテル層を硫酸マグネシウム上で乾燥して、ジエチルエーテルを減圧下で留去したのち、反応溶液を薄膜蒸留装置で蒸留して、化合物７．９ｇを粘性液体として得た。
この化合物は、 ¹Ｈ−ＮＭＲ分析および¹³Ｃ−ＮＭＲ分析により、２−アクリロイルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルないし３−アクリロイルオキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルであることが確認された。この化合物の ¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図１に、¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。この化合物を単量体（ｉ-1-a）とする。
【０２０１】
合成例２
単量体（ｉ-1-a）５３．０１ｇ（４５モル％）、下記式（iii-1)で表される化合物（以下、「単量体（iii-1)」という。）４６．９９ｇ（５５モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、さらにアゾビスイソ吉草酸メチル３．５４ｇを添加したモノマー溶液を準備した。
別に、２−ブタノン１００ｇを入れた１，０００ミリリットルの三口フラスコを３０分間窒素パージしたのち、攪拌しながら８０℃に加熱して、前記モノマー溶液を滴下漏斗を用い、１０ミリリットル／５分の速度で滴下した。滴下開始時を重合開始時点とし、重合を５時間実施した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却したのち、メタノール２，０００ｇ中へ投入し、析出した白色粉末をろ別した。その後、ろ別した白色粉末をメタノール４００ｇと混合する洗浄操作を２回行ったのち、ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末状の樹脂７３ｇ（収率７３重量％）を得た。
この樹脂は、Ｍｗが８，９００であり、単量体（ｉ-1-a）および単量体（iii-1)に由来する各繰り返し単位の含有率が４２．３／５７．７（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-1) とする。
【０２０２】
【化３０】

【０２０３】
合成例３
単量体（ｉ-1-a）５７．２０ｇ（５０モル％）、単量体（iii-1)２０．７４ｇ（２５モル％）、下記式（iii-2)で表される化合物（以下、「単量体（iii-2)」という。）２２．０６ｇ（２５モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、さらにアゾビスイソ吉草酸メチル３．４４ｇを添加したモノマー溶液を準備した。
別に、２−ブタノン１００ｇを入れた１，０００ミリリットルの三口フラスコを３０分間窒素パージしたのち、攪拌しながら８０℃に加熱して、前記モノマー溶液を滴下漏斗を用い、１０ミリリットル／５分の速度で滴下した。滴下開始時を重合開始時点とし、重合を５時間実施した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却したのち、メタノール２，０００ｇ中へ投入し、析出した白色粉末をろ別した。その後、ろ別した白色粉末をメタノール４００ｇと混合する洗浄操作を２回行ったのち、ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末状の樹脂７１ｇ（収率７１重量％）を得た。
この樹脂は、Ｍｗが９，３００であり、単量体（ｉ-1-a）、単量体（iii-1)および単量体（iii-2)に由来する各繰り返し単位の含有率が４４．２／３０．１／２５．７（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-2) とする。
【０２０４】
【化３１】

【０２０５】
合成例４
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン６．８３ｇ（１５モル％）、無水マレイン酸７．１２ｇ（１５モル％）、単量体（ｉ-1-a）５６．６０ｇ（４０モル％）、下記式（iii-3)で表される化合物（以下、「単量体（iii-3)」という。）２９．４５ｇ（３０モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、さらにアゾビスイソ吉草酸メチル８．９１ｇを添加したモノマー溶液を準備した。
別に、２−ブタノン１００ｇを入れた１，０００ミリリットルの三口フラスコを３０分間窒素パージしたのち、攪拌しながら８０℃に加熱して、前記モノマー溶液を滴下漏斗を用い、１０ミリリットル／５分の速度で滴下した。滴下開始時を重合開始時点とし、重合を５時間実施した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却したのち、メタノール２，０００ｇ中へ投入し、析出した白色粉末をろ別した。その後、ろ別した白色粉末をメタノール４００ｇと混合する洗浄操作を２回行ったのち、ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末状の樹脂７７ｇ（収率７７重量％）を得た。
この樹脂は、Ｍｗが６，２００であり、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、無水マレイン酸、単量体（ｉ-1-a）および単量体（iii-3)に由来する各繰り返し単位の含有率が１５．２／１５．８／３９．３／２９．７（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（Ａ-3) とする。
【０２０６】
【化３２】

【０２０７】
合成例５
メタクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル５０．５５ｇ（５０モル％）、単量体（iii-2)２５．４９ｇ（２５モル％）、単量体（iii-1)２３．９７ｇ（２５モル％）を２−ブタノン２００ｇに溶解し、さらにアゾビスイソ吉草酸メチル３．９７ｇを添加したモノマー溶液を準備した。
別に、２−ブタノン１００ｇを入れた１，０００ミリリットルの三口フラスコを３０分間窒素パージしたのち、攪拌しながら８０℃に加熱して、前記モノマー溶液を滴下漏斗を用い、１０ミリリットル／５分の速度で滴下した。滴下開始時を重合開始時点とし、重合を５時間実施した。重合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却したのち、メタノール２，０００ｇ中へ投入し、析出した白色粉末をろ別した。その後、ろ別した白色粉末をメタノール４００ｇと混合する洗浄操作を２回行ったのち、ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末状の樹脂７４ｇ（収率７４重量％）を得た。
この樹脂は、Ｍｗが９，８００であり、メタクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル、単量体（iii-2)および単量体（iii-1)に由来する各繰り返し単位の含有率が４５．２／２５．６／２９．２（モル％）の共重合体であった。この樹脂を樹脂（ａ-1) とする。
【０２０８】
実施例１〜３および比較例１
表１に示す成分からなる各組成物溶液について、各種評価を行った。評価結果を表３に示す。
表１において、樹脂（Ａ-1) 〜（Ａ-3) および樹脂（ａ-1) 以外の成分は以下のとおりである。
酸発生剤（Ｂ）
Ｂ-1：１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート
酸拡散制御剤（Ｃ）
Ｃ-1：２−フェニルベンズイミダゾール
溶剤（Ｅ）
Ｅ-1：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
【０２０９】
【表１】

【０２１０】
【表２】

【０２１１】
【表３】

【０２１２】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、活性光線、例えばＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、高解像度であり、かつ感度、裾形状を含むパターン形状、ドライエッチング耐性にも優れ、ドライエッチング後のパターンのガタツキが少ないとともに、特にＰＥＢ温度の変動に対する線幅の変化量が極めて小さく、また基板に対する接着性等も良好であり、今後ますます微細化が進行すると予想される集積回路素子の製造に極めて好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】合成例１で得た単量体（ｉ-1-a）の ¹Ｈ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。
【図２】合成例１で得た単量体（ｉ-1-a）の¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルを示す図である。

Claims (1)

1. （Ａ）下記式（Ｉ-1）で表される繰り返し単位および下記式（III-1)で表される繰り返し単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、および（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
   

   

   〔式（Ｉ-1）において、Ｒは水素原子またはメチル基を示し、Ｒ’はメチル基またはエチル基を示し、ａは１または２であり、ｂは０または１である。〕
   〔式（III-1)において、Ｒ ¹⁶ は水素原子、メチル基、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基またはトリフルオロメチル基を示す。〕

Images