JP2003335826A - 共重合体とその製造方法および感放射線性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 放射線に対する透明性が高く、感度、解像
度、パターン形状等のレジストとしての基本特性に優
れ、高いドライエッチング耐性と基板への高い密着性を
両立でき、かつレジストとしての現像性および保存安定
性にも優れた感放射線性樹脂組成物、特に当該感放射線
性樹脂組成物における樹脂成分として有用な共重合体を
提供する。 【解決手段】 共重合体は、カルボキシル基含有ノルボ
ルネン系化合物の１−エチルシクロペンチルエステルや
２−エチルアダマンタン−２−イルエステル等に代表さ
れる単量体に由来する繰り返し単位と、２（５Ｈ）−フ
ラノンやその誘導体等に代表されるラクトン系単量体に
由来する繰り返し単位とを有し、前者の繰り返し単位の
合計含有率が全繰り返し単位の３０モル％を超える共重
合体からなる。感放射線性樹脂組成物は、該共重合体お
よび感放射線性酸発生剤を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感放射線性樹脂組
成物に関わり、さらに詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザ
ーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、電子
線等の荷電粒子線、シンクロトロン放射線等のＸ線の如
き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型
レジストとして好適に使用することができる感放射線性
樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】集積回路素子の製造に代表される微細加
工の分野においては、より高い集積度を得るために、最
近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工が可能な
リソグラフィー技術が必要とされている。しかし、従来
のリソグラフィープロセスでは、一般に放射線としてｉ
線等の近紫外線が用いられているが、この近紫外線で
は、サブクオーターミクロンレベルの微細加工が極めて
困難であると言われている。そこで、０．２０μｍ以下
のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の
短い放射線の利用が検討されている。このような短波長
の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、
エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線
等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦ
エキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエ
キシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
このようなエキシマレーザーによる照射に適した感放射
線性樹脂組成物として、酸解離性官能基を有する成分と
放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発
生する成分（以下、「感放射線性酸発生剤」という。）
とによる化学増幅効果を利用した組成物（以下、「化学
増幅型感放射線性組成物」という。）が数多く提案され
ている。化学増幅型感放射線性組成物としては、例え
ば、特公平２−２７６６０号公報には、カルボン酸のｔ
−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカー
ボナート基を有する重合体と感放射線性酸発生剤とを含
有する組成物が提案されている。この組成物は、露光に
より発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−
ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカーボナート基が
解離して、該重合体がカルボキシル基あるいはフェノー
ル性水酸基からなる酸性基を有するようになり、その結
果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性
となる現象を利用したものである。

【０００３】ところで、従来の化学増幅型感放射線性組
成物の多くは、フェノール系樹脂をベースにするもので
あるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線
を使用すると、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が
吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の
下層部まで十分に到達できないという欠点があり、その
ため露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部で
は少なくなり、現像後のレジストパターンが上部が細く
下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像
度が得られないなどの問題があった。その上、現像後の
レジストパターンが台形状となった場合、次の工程、即
ちエッチングやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望
の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかも、
レジストパターン上部の形状が矩形でないと、ドライエ
ッチングによるレジストの消失速度が速くなってしま
い、エッチング条件の制御が困難になる問題もあった。
一方、レジストパターンの形状は、レジスト被膜の放射
線透過率を高めることにより改善することができる。例
えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）
アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高
く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であ
り、例えば特開平４−２２６４６１号公報には、メタク
リレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性樹脂組
成物が提案されている。しかしながら、この組成物は、
微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をも
たないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点が
あり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが
困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング
耐性とを兼ね備えたものとは言えない。

【０００４】また、化学増幅型感放射線性組成物からな
るレジストについて、放射線に対する透明性を損なわな
いで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとし
て、組成物中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂肪族環
を導入する方法が知られており、例えば特開平７−２３
４５１１号公報には、脂肪族環を有する（メタ）アクリ
レート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性組成物が
提案されている。しかしながら、この組成物では、樹脂
成分が有する酸解離性官能基として、従来の酸により比
較的解離し易い基（例えば、テトラヒドロピラニル基等
のアセタール系官能基）や酸により比較的解離し難い基
（例えば、ｔ−ブチルエステル基、ｔ−ブチルカーボネ
ート基等のｔ−ブチル系官能基）が用いられており、前
者の酸解離性官能基を有する樹脂成分の場合、レジスト
の基本物性、特に感度やパターン形状は良好であるが、
組成物としての保存安定性に難点があり、また後者の酸
解離性官能基を有する樹脂成分では、逆に保存安定性は
良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパター
ン形状が損なわれるという欠点がある。さらに、この組
成物中の樹脂成分には脂肪族環が導入されているため、
樹脂自体の疎水性が非常に高くなり、基板に対する接着
性の面でも問題があった。

【０００５】さらに見方を変えると、今日知られている
ＡｒＦエキシマレーザーに代表される光源に適用される
化学増幅型感放射線性組成物に用いられる代表的な樹脂
には、メタクリル系、交互共重合系、付加重合系等があ
るが、それぞれの組成物には長所および短所が存在す
る。即ち、メタクリル系樹脂を用いた組成物は保存安定
性や基板への密着性に優れる反面、ドライエッチング耐
性（エッチング速度および表面平滑性）が劣り、交互共
重合系樹脂を用いた組成物はドライエッチング耐性に優
れる反面、レジストの保存安定性が劣り、さらに付加重
合系樹脂を用いた組成物はドライエッチング耐性および
保存安定性に優れる反面、基板に対する密着性が劣ると
いう問題がある。そして、これらの組成物における長所
と短所との兼ね合いから、現在では保存安定性と基板へ
の密着性に優れるメタクリル系樹脂が主に用いられてい
るが、さらに微細化が進行するとみられる半導体デバイ
スにとっては、その組成物のドライエッチング耐性の問
題が大きな障壁となってくる。そこで、半導体素子にお
ける微細化の進行に対応しうる技術開発の観点から、遠
紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能な化学増
幅型感放射線性組成物において、放射線に対する透明性
が高く、しかもレジストとしての基本特性に優れた新た
な樹脂成分の開発が重要な課題となっている。

【０００６】また、新しい樹脂を用いた化学増幅型感放
射線性組成物として、特開２００２−８２４４１号公報
に、α−アンゲリカラクトン、α−メチレンブチロラク
トン等のラクトン骨格を有するモノマーに由来する繰り
返し単位と、（メタ）アクリレート、無水マレイン酸お
よびノルボルネンの群から選ばれる少なくとも１つのモ
ノマーに由来する繰り返し単位とを有する感光性ポリマ
ー、および感放射線性酸発生剤を含有するレジスト組成
物が提案されており、この組成物は、放射線に対する透
明性、基板への密着性、ドライエッチング耐性、溶解コ
ントラスト等が良好で、また露光後の加熱処理までの引
き置き時にもレジスト被膜の周囲雰囲気に対する安定性
が高いとされているが、特にドライエッチング耐性（エ
ッチング速度および表面平滑性）の点では必ずしも十分
とはいえない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、前記
諸問題に鑑み、放射線に対する透明性が高く、感度、解
像度、パターン形状等のレジストとしての基本特性に優
れるのみならず、高いドライエッチング耐性（エッチン
グ速度および表面平滑性）と基板への高い密着性を両立
でき、かつレジストとしての現像性および保存安定性に
も優れた感放射線性樹脂組成物、特に当該感放射線性樹
脂組成物における樹脂成分として有用な共重合体、並び
に当該共重合体の製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明によると、前記課
題は、第一に、下記一般式（１―１）で表される繰り返
し単位および下記一般式（１−２）で表される繰り返し
単位の群から選ばれる少なくとも１種と、下記一般式
（２）で表される繰り返し単位とを有し、一般式（１―
１）で表される繰り返し単位と一般式（１−２）で表さ
れる繰り返し単位との合計含有率が全繰り返し単位に対
して３０モル％を超える、ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量が１，０
００〜３００，０００である共重合体によって達成され
る。

【０００９】

【化６】

【００１０】〔一般式（１―１）において、各Ｒ¹ は相
互に独立に炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基も
しくはその誘導体または炭素数１〜４の直鎖状もしくは
分岐状のアルキル基を示し、かつＲ¹ の少なくとも１つ
が該脂環式炭化水素基もしくはその誘導体であるか、あ
るいは何れか２つのＲ¹ が相互に結合して、それぞれが
結合している炭素原子と共に炭素数４〜２０の２価の脂
環式炭化水素基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ
¹ が炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基
または炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしく
はその誘導体を示し、ｎは０〜２の整数である。

【００１１】一般式（１―２）において、Ｒ² は炭素数
１〜２０の直鎖状もしくは分岐状の１価の有機基、炭素
環もしくは複素環の脂環式骨格を有する炭素数４〜２０
の１価の有機基｛但し、一般式（１―１）における−Ｃ
（Ｒ¹)₃ に相当する基を除く。｝、またはラクトン骨格
を有する１価の有機基を示し、ｍは０〜２の整数であ
る。

【００１２】一般式（２）において、Ｒ³ は水素原子、
炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、ま
たは炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ
ル基を示し、ｐは０〜４の整数である。〕

【００１３】本発明によると、前記課題は、第二に、下
記一般式（ｉ−１）で表される化合物および下記一般式
（ｉ−２）で表される化合物の群から選ばれる少なくと
も１種と、下記一般式（ii) で表される化合物とを、過
酸化物を重合開始剤として重合することを特徴とする、
前記共重合体の製造方法によって達成される。

【００１４】

【化７】 〔各式中、Ｒ¹ およびｎは前記一般式（１―１）のそれ
ぞれＲ¹ およびｎと同義であり、Ｒ² およびｍは前記一
般式（１―２）のそれぞれＲ² およびｍと同義であり、
Ｒ³ およびｐは前記一般式（２）のそれぞれＲ³ および
ｐと同義である。〕

【００１５】本発明によると、前記課題は、第三に、
（Ａ）前記共重合体であって、それ自体アルカリ不溶性
またはアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ
可溶性となる共重合体、および（Ｂ）感放射線性酸発生
剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物に
よって達成される。

【００１６】以下、本発明について詳細に説明する。共重合体（Ａ） 本発明における共重合体は、前記一般式（１―１）で表
される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−
１）」という。）および前記一般式（１−２）で表され
る繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１−２）」と
いう。）の群から選ばれる少なくとも１種と、前記一般
式（２）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単
位（２）」という。）とを有し、一般式（１―１）で表
される繰り返し単位と一般式（１−２）で表される繰り
返し単位との合計含有率が全繰り返し単位に対して３０
モル％を超える、ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィ（ＧＰＣ）による重量平均分子量が１，０００〜３０
０，０００である共重合体（以下、「共重合体（Ａ）」
という。）からなる。

【００１７】共重合体（Ａ）における繰り返し単位（１
−１）および繰り返し単位（１−２）では、主鎖が有橋
式炭化水素骨格を有するとともに、側鎖にも有橋式炭化
水素骨格を有することができる。そこで、主な有橋式炭
化水素骨格における炭素原子の位置番号を次に示す。

【００１８】

【化８】

【００１９】ここで、（イ）はビシクロ［２．２．１］
ヘプタン、（ロ）はテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、（ハ）はトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン、（ニ）はトリシクロ[ ４．
２．１．０^3,7 ］ノナンである。以下における有橋式炭
化水素骨格の命名は、これら（イ）〜（ニ）に従うもの
とする。

【００２０】一般式（１−１）において、Ｒ¹ の炭素数
４〜２０の１価の脂環式炭化水素基および何れか２つの
Ｒ¹ が相互に結合して、それぞれが結合している炭素原
子と共に形成した炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水
素基としては、例えば、アダマンタン、ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類や、シクロブタン、
シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シ
クロオクタン等のシクロアルカン類等に由来する基；こ
れらの基を、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロ
ピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素
数１〜４の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基の
１種以上あるいは１個以上で置換した基等を挙げること
ができる。

【００２１】また、前記１価または２価の脂環式炭化水
素基の誘導体としては、例えば、ヒドロキシル基；カル
ボキシル基；オキシ基（即ち、＝Ｏ基）；ヒドロキシメ
チル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロ
ピル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブ
チル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチ
ル基等の炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基；メトキ
シ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ
基、ｎ−ブトキシ基、２−メチルプロポキシ基、１−メ
チルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜４の
アルコキシル基；シアノ基；シアノメチル基、２−シア
ノエチル基、３−シアノプロピル基、４−シアノブチル
基等の炭素数２〜５のシアノアルキル基等の置換基を１
種以上あるいは１個以上有する基を挙げることができ
る。これらの置換基のうち、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基、ヒドロキシメチル基、シアノ基、シアノメチル
基等が好ましい。

【００２２】また、Ｒ¹ の炭素数１〜４の直鎖状もしく
は分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ
−ブチル基等を挙げることができる。これらのアルキル
基のうち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基等が好
ましい。

【００２３】一般式（１−１）において、少なくとも１
つのＲ¹ が炭素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基も
しくはその誘導体である場合の−Ｃ（Ｒ¹)₃ に相当する
好ましい構造としては、例えば、下記式（３-1) 〜（３
-4) で表される基等を挙げることができる。

【００２４】

【化９】 〔式（３-3) および（３-4) において、ｑおよびｒはそ
れぞれ０〜２の整数である。〕

【００２５】また、何れか２つのＲ¹ が相互に結合し
て、それぞれが結合している炭素原子と共に炭素数４〜
２０の２価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体を形
成した場合の−Ｃ（Ｒ¹)₃ に相当する好ましい構造とし
ては、例えば、下記式（４-1)〜（４-4) で表される基
等を挙げることができる。

【００２６】

【化１０】 〔式（４-3) および（４-4) において、ｑおよびｒはそ
れぞれ０〜２の整数である。〕

【００２７】一般式（１−１）において、−Ｃ（Ｒ¹)₃
に相当する好ましい構造の具体例としては、１−メチル
シクロペンチル基、１−メチル−２−ヒドロキシシクロ
ペンチル基、１−メチル−３−ヒドロキシシクロペンチ
ル基、１−メチル−２−シアノシクロペンチル基、１−
メチル−３−シアノシクロペンチル基、１−エチルシク
ロペンチル基、１−エチル−２−ヒドロキシシクロペン
チル基、１−エチル−３−ヒドロキシシクロペンチル
基、１−エチル−２−シアノシクロペンチル基、１−エ
チル−３−シアノシクロペンチル基、１−メチルシクロ
ヘキシル基、１−メチル−３−ヒドロキシシクロヘキシ
ル基、１−メチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル基、
１−メチル−３−シアノシクロヘキシル基、１−メチル
−４−シアノシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘキ
シル基、１−エチル−３−ヒドロキシシクロヘキシル
基、１−エチル−４−ヒドロキシシクロヘキシル基、１
−エチル−３−シアノシクロヘキシル基、１−エチル−
４−シアノシクロヘキシル基等の１−アルキルシクロア
ルキル基およびその誘導体；

【００２８】２−メチルアダマンタン−２−イル基、２
−メチル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、
２−メチル−３−シアノアダマンタン−２−イル基、２
−エチルアダマンタン−２−イル基、２−エチル−３−
ヒドロキシアダマンタン−２−イル基、２−エチル−３
−シアノアダマンタン−２−イル基、２−メチルビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−
５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−
イル基、２−メチル−６−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル基、２−メチル−５−シア
ノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−
メチル−６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−
２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル基、２−エチル−５−ヒドロキシビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、２−エチル−６
−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル基、２−エチル−５−シアノビシクロ［２．２．１］
ヘプタン−２−イル基、２−エチル−６−シアノビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、

【００２９】４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−メチル−９
−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−メチル−１０−ヒド
ロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカン−４−イル基、４−メチル−９−シアノテトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル基、４−メチル−１０−シアノテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−
エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカン−４−イル基、４−エチル−９−ヒドロキシテト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４
−イル基、４−エチル−１０−ヒドロキシテトラシクロ
[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル
基、４−エチル−９−シアノテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、４−エチ
ル−１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ
[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、８−メチ
ル−４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］
デカン−８−イル基、８−メチル−４−シアノトリシク
ロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、８−エ
チルトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イ
ル基、８−エチル−４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、８−エチル−４
−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８
−イル基等のアルキル置換有橋式炭化水素基およびその
誘導体；

【００３０】（ジメチル）（シクロペンチル）メチル
基、（ジメチル）（２−ヒドロキシシクロペンチル）メ
チル基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロペンチ
ル）メチル基、（ジメチル）（２−シアノシクロペンチ
ル）メチル基、（ジメチル）（３−シアノシクロペンチ
ル）メチル基、（ジエチル）（シクロペンチル）メチル
基、（ジエチル）（２−ヒドロキシシクロペンチル）メ
チル基、（ジエチル）（３−ヒドロキシシクロペンチ
ル）メチル基、（ジエチル）（２−シアノシクロペンチ
ル）メチル基、（ジエチル）（３−シアノシクロペンチ
ル）メチル基、（ジメチル）（シクロヘキシル）メチル
基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロヘキシル）メ
チル基、（ジメチル）（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジメチル）（３−シアノシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジメチル）（４−シアノシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジエチル）（シクロヘキシル）メチル
基、（ジエチル）（３−ヒドロキシシクロヘキシル）メ
チル基、（ジエチル）（４−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジエチル）（３−シアノシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジエチル）（４−シアノシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジメチル）（シクロへプチル）メチル
基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロへプチル）メ
チル基、（ジメチル）（４−ヒドロキシシクロへプチ
ル）メチル基、（ジメチル）（３−シアノシクロへプチ
ル）メチル基、（ジメチル）（４−シアノシクロへプチ
ル）メチル基、（ジエチル）（シクロへプチル）メチル
基、（ジエチル）（３−ヒドロキシシクロへプチル）メ
チル基、（ジエチル）（４−ヒドロキシシクロへプチ
ル）メチル基、（ジエチル）（３−シアノシクロへプチ
ル）メチル基、（ジエチル）（４−シアノシクロへプチ
ル）メチル基等の（ジアルキル）（シクロアルキル）メ
チル基およびその誘導体；

【００３１】（ジメチル）（アダマンタン−１−イル）
メチル基、（ジメチル）（３−ヒドロキシアダマンタン
−１−イル）メチル基、（ジメチル）（３−シアノアダ
マンタン−１−イル）メチル基、（ジエチル）（アダマ
ンタン−１−イル）メチル基、（ジエチル）（３−ヒド
ロキシアダマンタン−１−イル）メチル基、（ジエチ
ル）（３−シアノアダマンタン−１−イル）メチル基、
（ジメチル）（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−
イル）メチル基、（ジメチル）（５−ヒドロキシビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチル基、（ジ
メチル）（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル）メチル基、（ジメチル）（５−シアノ
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチル
基、（ジメチル）（６−シアノビシクロ［２．２．１］
ヘプタン−２−イル）メチル基、（ジエチル）（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチル基、（ジ
エチル）（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル）メチル基、（ジエチル）（６−ヒドロ
キシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチ
ル基、（ジエチル）（５−シアノビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル）メチル基、（ジエチル）（６
−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
メチル基、

【００３２】（ジメチル）（テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、
（ジメチル）（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、
（ジメチル）（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル
基、（ジメチル）（９−シアノテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、
（ジメチル）（１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、
（ジエチル）（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジエチル）
（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジエチル）
（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジ
エチル）（９−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジエ
チル）（１０−シアノテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジメ
チル）（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８
−イル）メチル基、（ジメチル）（４−ヒドロキシトリ
シクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）メチ
ル基、（ジメチル）（４−シアノトリシクロ[ ５．２．
１．０^2,6］デカン−８−イル）メチル基、（ジエチ
ル）（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−
イル）メチル基、（ジエチル）（４−ヒドロキシトリシ
クロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）メチル
基、（ジエチル）（４−シアノトリシクロ[ ５．２．
１．０^2,6］デカン−８−イル）メチル基等のジアルキ
ル置換・有橋式炭化水素基置換メチル基およびその誘導
体；

【００３３】（メチル）（ジシクロペンチル）メチル
基、（メチル）〔ジ（２−ヒドロキシシクロペンチ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（３−ヒドロキシシク
ロペンチル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（２−シアノ
シクロペンチル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（３−シ
アノシクロペンチル）〕メチル基、（エチル）（ジシク
ロペンチル）メチル基、（エチル）〔ジ（２−ヒドロキ
シシクロペンチル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（３−
ヒドロキシシクロペンチル）〕メチル基、（エチル）
〔ジ（２−シアノシクロペンチル）〕メチル基、（エチ
ル）〔ジ（３−シアノシクロペンチル）〕メチル基、
（メチル）（ジシクロヘキシル）メチル基、（メチル）
〔ジ（３−ヒドロキシシクロヘキシル）〕メチル基、
（メチル）〔ジ（４−ヒドロキシシクロヘキシル）〕メ
チル基、（メチル）〔ジ（３−シアノシクロヘキシ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（４−シアノシクロヘ
キシル）〕メチル基、（エチル）（ジシクロヘキシル）
メチル基、（エチル）〔ジ（３−ヒドロキシシクロヘキ
シル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（４−ヒドロキシシ
クロヘキシル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（３−シア
ノシクロヘキシル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（４−
シアノシクロヘキシル）〕メチル基、（メチル）（ジシ
クロへプチル）メチル基、（メチル）〔ジ（３−ヒドロ
キシシクロへプチル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（４
−ヒドロキシシクロへプチル）〕メチル基、（メチル）
〔ジ（３−シアノシクロへプチル）〕メチル基、（メチ
ル）〔ジ（４−シアノシクロへプチル）〕メチル基、
（エチル）（ジシクロへプチル）メチル基、（エチル）
〔ジ（３−ヒドロキシシクロへプチル）〕メチル基、
（エチル）〔ジ（４−ヒドロキシシクロへプチル）〕メ
チル基、（エチル）〔ジ（３−シアノシクロへプチ
ル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（４−シアノシクロへ
プチル）〕メチル基等の（アルキル）（ジシクロアルキ
ル）メチル基およびその誘導体；

【００３４】（メチル）〔ジ（アダマンタン−１−イ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（３−ヒドロキシアダ
マンタン−１−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（３
−シアノアダマンタン−１−イル）〕メチル基、（エチ
ル）〔ジ（アダマンタン−１−イル）〕メチル基、（エ
チル）〔ジ（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イ
ル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（３−シアノアダマン
タン−１−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、
（メチル）〔ジ（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ
（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（５−シアノビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、
（メチル）〔ジ（６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、
（エチル）〔ジ（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ
（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（５−シアノビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）〕メチル基、
（エチル）〔ジ（６−シアノビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）〕メチル基、

【００３５】（メチル）〔ジ（テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）〕メチル
基、（メチル）〔ジ（９−ヒドロキシテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）〕
メチル基、（メチル）〔ジ（１０−ヒドロキシテトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（９−シアノテトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（１０−シアノテトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−
イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）〕
メチル基、（エチル）〔ジ（９−ヒドロキシテトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（１０−ヒドロキシテ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（９−シアノテ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（１０−シアノ
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン
−４−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（トリシクロ
[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）〕メチル
基、（メチル）〔ジ（４−ヒドロキシトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）〕メチル基、（メ
チル）〔ジ（４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］８−イル）〕メチル基、（エチル）〔ジ（トリシ
クロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）〕メチ
ル基、（エチル）〔ジ（４−ヒドロキシトリシクロ[
５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）〕メチル基、
（エチル）〔ジ（４−シアノトリシクロ[ ５．２．１．
０^2,6 ］８−イル）〕メチル基等のアルキル置換・ジ
（有橋式炭化水素基）置換メチル基およびその誘導体等
を挙げることができる。

【００３６】これらの−Ｃ（Ｒ¹)₃ に相当する構造のう
ち、特に好ましいものとしては、１−メチルシクロペン
チル基、１−エチルシクロペンチル基、１−メチルシク
ロヘキシル基、１−エチルシクロヘキシル基、２−メチ
ルアダマンタン−２−イル基、２−メチル−３−ヒドロ
キシアダマンタン−２−イル基、２−エチルアダマンタ
ン−２−イル基、２−エチル−３−ヒドロキシアダマン
タン−２−イル基、２−メチルビシクロ［２．２．１］
ヘプタン−２−イル基、２−エチルビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル基、４−メチルテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、
４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、８−メチルトリシクロ
[ ５．２．１．０^2,6 ］−８−イル基、８−エチルトリ
シクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］−８−イル基、

【００３７】（ジメチル）（２−ヒドロキシシクロペン
チル）メチル基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロ
ペンチル）メチル基、（ジメチル）（シクロヘキシル）
メチル基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロヘキシ
ル）メチル基、（ジメチル）（４−ヒドロキシシクロヘ
キシル）メチル基、（ジメチル）（３−ヒドロキシシク
ロへプチル）メチル基、（ジメチル）（４−ヒドロキシ
シクロへプチル）メチル基、（ジメチル）（アダマンタ
ン−１−イル）メチル基、（ジメチル）（３−ヒドロキ
シアダマンタン−１−イル）メチル基、（ジメチル）
（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチル
基、（ジメチル）（テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）メチル基、（ジ
メチル）（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］−８−イ
ル）メチル基、

【００３８】（メチル）（ジシクロヘキシル）メチル
基、（メチル）〔ジ（アダマンタン−１−イル）〕メチ
ル基、（メチル）〔ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（テトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^{2, 7} ］ドデカン−４−イ
ル）〕メチル基、（メチル）〔ジ（トリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］−８−イル）〕メチル基等を挙げるこ
とができる。また、一般式（１−１）におけるｎとして
は、０または１が好ましい。共重合体（Ａ）において、
繰り返し単位（１−１）は、単独でまたは２種以上が存
在することができる。

【００３９】一般式（１−２）において、Ｒ² の炭素数
１〜２０の直鎖状もしくは分岐状の１価の有機基として
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、
１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル
基、ｎ−ヘキシル基や、これらの誘導体等を挙げること
ができる。前記直鎖状もしくは分岐状の１価の誘導体と
しては、例えば、前記一般式（１−１）におけるＲ¹ の
１価または２価の脂環式炭化水素基の誘導体について例
示した置換基を１種以上あるいは１個以上有する基等を
挙げることができる。

【００４０】また、Ｒ² の炭素環もしくは複素環の脂環
式骨格を有する炭素数４〜２０の１価の有機基として
は、例えば、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、シクロヘプタン、シクロオクタン等のシクロア
ルカン類に由来する基；アダマンタン、ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、７，７−ジメチルビシクロ［２．
２．１］ヘプタン、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン、トリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン等の有橋式炭化水素類に由来する基：（テ
トラヒドロフラン−２−イル）メチル基、（テトラヒド
ロピラン−２−イル）メチル基等の複素環式基；前記各
基を、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル
基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１
〜４の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基の１種
以上あるいは１個以上で置換した基；これらの基の誘導
体等を挙げることができる。前記脂環式骨格を有する１
価の有機基の誘導体としては、例えば、前記一般式（１
−１）におけるＲ¹ の１価または２価の脂環式炭化水素
基の誘導体について例示した置換基の１種以上あるいは
１個以上を有する基等を挙げることができる。

【００４１】また、Ｒ² のラクトン骨格を有する１価の
有機基としては、例えば、下記式（５-1）〜（５-4）で
表される基等を挙げることができる。

【００４２】

【化１１】

【００４３】〔式（５-1）および式（５-2）において、
各Ｒ⁴ は相互に独立に水素原子、炭素数１〜５の直鎖状
もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜５の直鎖状も
しくは分岐状のアルコキシル基、または炭素数２〜５の
直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカルボニル基を示
し、Ｙ¹ はメチレン基、ジメチルメチレン基、酸素原子
または硫黄原子を示す。

【００４４】式（５-3）において、Ｒ⁵ は水素原子、炭
素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、ま
たは炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ
カルボニル基を示す。

【００４５】式（５-4）において、Ｒ⁶ は水素原子、炭
素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素
数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基、ま
たは炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシ
カルボニル基を示し、複数存在するＲ⁶ は相互に同一で
も異なってもよく、ａは０〜４の整数であり、Ｙ² は単
結合またはメチレン基を示す。〕

【００４６】式（５-1）〜（５-4）において、Ｒ⁴ 、Ｒ
⁵ およびＲ⁶ の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状の
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、１−メ
チルプロピル基、２−メチルプロピル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基等を挙げることができる。また、Ｒ
⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ の炭素数１〜５の直鎖状もしくは分
岐状のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、１−メチルプロポキシ基、２−メチルプ
ロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等
を挙げることができる。また、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ の
炭素数２〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシカル
ボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ
−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル
基、１−メチルプロポキシカルボニル基、２−メチルプ
ロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基等を
挙げることができる。

【００４７】一般式（１−２）において、Ｒ² の好まし
いものとしては、例えば、エチル基、ｎ−プロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンタン−
１−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル基、７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−１−イル基、テトラシクロ[６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル基、トリシクロ[ ５．２．
１．０^2,6 ］デカン−８−イル基、（テトラヒドロフラ
ン−２−イル）メチル基、

【００４８】５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．
２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、９−メトキシカ
ルボニル−５−オキソ−４−オキサトリシクロ[ ４．
２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル基、７−オキソ−６
−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル
基、２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オキサ
−ビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル基、２−
オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−メチル−
２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−エチ
ル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル基、４−
ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イ
ル基、５−オキソテトラヒドロフラン−３−イル基、
２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−３
−イル基、４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロ
フラン−３−イル基、２−オキソテトラヒドロフラン−
３−イル基、４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒド
ロフラン−３−イル基、５，５−ジメチル−２−オキソ
テトラヒドロフラン−３−イル基、２−オキソテトラヒ
ドロフラン−３−イル基、（５−オキソテトラヒドロフ
ラン−２−イル）メチル基、（３，３−ジメチル−５−
オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル基、
（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−
２−イル）メチル基等を挙げることができる。また、一
般式（１−２）におけるｍとしては、０または１が好ま
しい。共重合体（Ａ）において、繰り返し単位（１−
２）は、単独でまたは２種以上が存在することができ
る。

【００４９】一般式（２）において、Ｒ³ の炭素数１〜
５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、１−メチルプロピル基、２−メチ
ルプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等を挙げ
ることができる。また、Ｒ³ の炭素数１〜５の直鎖状も
しくは分岐状のアルコキシル基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキ
シ基、ｎ−ブトキシ基、１−メチルプロポキシ基、２−
メチルプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオ
キシ基等を挙げることができる。一般式（２）における
Ｒ³ としては、水素原子、メチル基、エチル基、メトキ
シ基、エトキシ基等が好ましい。また、一般式（２）に
おけるｐとしては、０または１が好ましい。

【００５０】繰り返し単位（２）としては、特に、下記
一般式（２−１）で表される繰り返し単位が好ましい。

【００５１】

【化１２】 〔一般式（２−１）において、Ｒ³ およびｐは前記一般
式（２）のそれぞれＲ³およびｐと同義である。〕 共重合体（Ａ）において、繰り返し単位（２）は、単独
でまたは２種以上が存在することができる。

【００５２】繰り返し単位（１−１）を与える単量体と
しては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、ビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸
１−エチルシクロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロヘキ
シル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−
カルボン酸１−エチルシクロヘキシル、

【００５３】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸の（２−メチルアダマンタン−２−イ
ル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン−５−カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシア
ダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチル
アダマンタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エ
チル−３−ヒドロキシアダマンタン−２−イル）エステ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン−５−カルボン酸の（２−エチルビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の
（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エ
チルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン−５−カルボン酸の（８−メチルトリシ
クロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、

【００５４】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸（ジメチル）（２−ヒドロキシシクロ
ペンチル）メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン−５−カルボン酸（ジメチル）（３−ヒドロキシ
シクロペンチル）メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン−５−カルボン酸（ジメチル）（シクロヘ
キシル）メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン−５−カルボン酸（ジメチル）（３−ヒドロキシシ
クロヘキシル）メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン−５−カルボン酸（ジメチル）（４−ヒドロ
キシシクロヘキシル）メチル、ビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン−５−カルボン酸（ジメチル）（３−
ヒドロキシシクロへプチル）メチル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸（ジメチ
ル）（４−ヒドロキシシクロへプチル）メチル、

【００５５】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸の〔（ジメチル）（アダマンタン−１
−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン−５−カルボン酸の〔（ジメチル）（３
−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）メチル〕エステ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の〔（ジメチル）（ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（ジメ
チル）（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカン−４−イル）メチル〕エステル、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の
〔（ジメチル）（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デ
カン−８−イル）メチル〕エステル、

【００５６】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸（メチル）（ジシクロヘキシル）メチ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の〔（メチル）｛ジ（アダマンタン−１−イ
ル）｝メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン−５−カルボン酸の〔（メチル）｛ジ（ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）｝メチル〕
エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−
５−カルボン酸の〔（メチル）｛ジ（テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）｝
メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン−５−カルボン酸の〔（メチル）｛ジ（トリシク
ロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）｝メチ
ル〕エステル等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン−５−カルボン酸誘導体類；

【００５７】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシ
クロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシ
クロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−メチルシ
クロヘキシル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸１−エチルシ
クロヘキシル、

【００５８】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メチ
ルアダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸の（２−メチル−３−ヒドロキシアダマンタ
ン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（２−エチルアダマンタン−２−イル）エステル、テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−
エン−９−カルボン酸の（２−エチル−３−ヒドロキシ
アダマンタン−２−イル）エステル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸の（２−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン
酸の（２−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（４−メチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸の（４−エチルテトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−
エン−９−カルボン酸の（８−メチルトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、テトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エ
ン−９−カルボン酸の（８−エチルトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステル、

【００５９】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸（ジメチル）
（２−ヒドロキシシクロペンチル）メチル、テトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−
９−カルボン酸（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロペ
ンチル）メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸（ジメチ
ル）（シクロヘキシル）メチル、テトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カル
ボン酸（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロヘキシル）
メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカ−４−エン−９−カルボン酸（ジメチル）（４−
ヒドロキシシクロヘキシル）メチル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸（ジメチル）（３−ヒドロキシシクロへプチ
ル）メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸（ジメチル）
（４−ヒドロキシシクロへプチル）メチル、

【００６０】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（ジメチ
ル）（アダマンタン−１−イル）メチル〕エステル、テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４
−エン−９−カルボン酸の〔（ジメチル）（３−ヒドロ
キシアダマンタン−１−イル）メチル〕エステル、テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−
エン−９−カルボン酸の〔（ジメチル）（ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）メチル〕エステ
ル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン−９−カルボン酸の〔（ジメチル）（テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４
−イル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン
酸の〔（ジメチル）（トリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン−８−イル）メチル〕エステル、

【００６１】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸（メチル）
（ジシクロヘキシル）メチル、テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン
酸の〔（メチル）｛ジ（アダマンタン−１−イル）｝メ
チル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（メチ
ル）｛ジ（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル）｝メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
〔（メチル）｛ジ（テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）｝メチル〕エステ
ル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン−９−カルボン酸の〔（メチル）｛ジ（ト
リシクロ[５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）｝
メチル〕エステル等のテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸誘導
体類等を挙げることができる。

【００６２】また、繰り返し単位（１−２）を与える単
量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン−５−カルボン酸、ビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン−５−酢酸、ビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン−５−プロピオン酸、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸（テトラヒ
ドロフラン−２−イル）メチル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸（テトラヒドロ
ピラン−２−イル）メチル、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン−５−カルボン酸の（３−ヒドロキシア
ダマンタン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−ヒドロ
キシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エス
テル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−
カルボン酸の（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］
ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（９−ヒドロ
キシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プト−２−エン−５−カルボン酸の（１０−ヒドロキシ
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン
−４−イル）エステル、

【００６３】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸エチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン−５−カルボン酸ｎ−プロピル、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸シク
ロペンチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸シクロヘキシル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（アダマンタ
ン−１−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン−５−カルボン酸の（ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル）エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（７，７
−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イ
ル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン−５−カルボン酸の（テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステル、ビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の
（トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イ
ル）エステル、

【００６４】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン
−５−カルボン酸の（５−オキソ−４−オキサトリシク
ロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エステ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４
−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２
−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン−５−カルボン酸の（７−オキソ−６−オキサビ
シクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボ
ン酸の（２−メトキシカルボニル−７−オキソ−６−オ
キサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）エス
テル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−
カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン−４−イ
ル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン−５−カルボン酸の（４−メチル−２−オキソテトラ
ヒドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（４−エ
チル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エス
テル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−
カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−２−オキソテトラヒ
ドロピラン−４−イル）エステル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５−オキソ
テトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の
（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−
３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
２−エン−５−カルボン酸の（４，４−ジメチル−５−
オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、ビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸
の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステ
ル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５−カ
ルボン酸の（４，４−ジメチル−２−オキソテトラヒド
ロフラン−３−イル）エステル、ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の（５，５−ジ
メチル−２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エ
ステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５
−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラン−３−
イル）エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン−５−カルボン酸の〔（５−オキソテトラヒドロフ
ラン−２−イル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸の〔（３，
３−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イ
ル）メチル〕エステル、ビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン−５−カルボン酸の〔（４，４−ジメチル−
５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチル〕エ
ステル等のビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−
５−カルボン酸誘導体類；

【００６５】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸、テトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−
９−酢酸、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−プロピオン酸、テトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン
−９−カルボン酸（テトラヒドロフラン−２−イル）メ
チル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカ−４−エン−９−カルボン酸（テトラヒドロピラン
−２−イル）メチル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（３−ヒドロキシアダマンタン−１−イル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−
４−エン−９−カルボン酸の（５−ヒドロキシビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エ
ン−９−カルボン酸の（６−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル）エステル、テトラシクロ
[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９
−カルボン酸の（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）エステ
ル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン−９−カルボン酸の（１０−ヒドロキシテ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）エステル、

【００６６】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸エチル、テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−
エン−９−カルボン酸ｎ−プロピル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸シクロペンチル、テトラシクロ[ ６．２．
１．１ ^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン
酸シクロヘキシル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（アダマンタン−１−イル）エステル、テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−
カルボン酸の（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−
イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７，７
−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−１−イ
ル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（テトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（トリシク
ロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン−８−イル）エステ
ル、

【００６７】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（５−オキ
ソ−４−オキサトリシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナ
ン−２−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（９−メトキシカルボニル−５−オキソ−４−オキサト
リシクロ[ ４．２．１．０^3,7 ］ノナン−２−イル）エ
ステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（７−オキソ−６
−オキサビシクロ［３．２．１］オクタン−４−イル）
エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（２−メト
キシカルボニル−７−オキソ−６−オキサビシクロ
［３．２．１］オクタン−４−イル）エステル、テトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エ
ン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロピラン
−４−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（４−メチル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イ
ル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の（４−エチ
ル−２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステ
ル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン−９−カルボン酸の（４−ｎ−プロピル−
２−オキソテトラヒドロピラン−４−イル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−
４−エン−９−カルボン酸の（５−オキソテトラヒドロ
フラン−３−イル）エステル、テトラシクロ[６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン
酸の（２，２−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラ
ン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−
３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
（２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステ
ル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン−９−カルボン酸の（４，４−ジメチル−
２−オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−
４−エン−９−カルボン酸の（５，５−ジメチル−２−
オキソテトラヒドロフラン−３−イル）エステル、テト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−
エン−９−カルボン酸の（２−オキソテトラヒドロフラ
ン−３−イル）エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
〔（５−オキソテトラヒドロフラン−２−イル）メチ
ル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の〔（３，３
−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン−２−イ
ル）メチル〕エステル、テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カルボン酸の
〔（４，４−ジメチル−５−オキソテトラヒドロフラン
−２−イル）メチル〕エステル等のテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン−９−カル
ボン酸誘導体類等を挙げることができる。

【００６８】さらに、繰り返し単位（２）を与える単量
体としては、例えば、２（５Ｈ）−フラノン、５−メチ
ル−２（５Ｈ）−フラノン、５−エチル−２（５Ｈ）−
フラノン、５−メトキシ−２（５Ｈ）−フラノン、５−
エトキシ−２（５Ｈ）−フラノン、５，６−ジヒドロ−
２Ｈ−ピラン−２−オン、３−メチル−２（５Ｈ）−フ
ラノン等を挙げることができる。

【００６９】また、共重合体（Ａ）は、場合により、繰
り返し単位（１−１）、繰り返し単位（１−２）および
繰り返し単位（２）以外の繰り返し単位（以下、「他の
繰り返し単位」という）を１種以上有することができ
る。他の繰り返し単位を与える単量体としては、例え
ば、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン、５−（２−ヒドロキシエチル）ビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（３−ヒド
ロキシプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン、５−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシ
クロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−〔（ジフル
オロ）（ヒドロキシ）メチル〕ビシクロ［２．２．１］
ヘプト−２−エン、５−（１，２−ジフルオロ−２−ヒ
ドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン、５−（１，１，２，２−テトラフルオロ−２−ヒ
ドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
エン、５−（２−トリフルオロメチル−２−ヒドロキシ
エチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５
−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロキ
シエチル〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、

【００７０】ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−ｎ−プロピルビシクロ［２．２．１］ヘプト−
２−エン、５−ｎ−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エン、５−ｎ−ヘキシルビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−オクチルビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シアノビシクロ
［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シアノメチルビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２−シ
アノエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エ
ン、５−（３−シアノプロピル）ビシクロ［２．２．
１］ヘプト−２−エン等のビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−エンまたはその誘導体類；

【００７１】９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ヒドロキ
シメチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカ−４−エン、９−（２−ヒドロキシエチル）テト
ラシクロ４−エン、９−（３−ヒドロキシプロピル）テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４
−エン、９−〔（フルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7 ］ドデカ−４
−エン、９−〔（ジフルオロ）（ヒドロキシ）メチル〕
テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−
４−エン、９−（１，２−ジフルオロ−２−ヒドロキシ
エチル）テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカ−４−エン、９−（１，１，２，２−テトラフル
オロ−２−ヒドロキシエチル）テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−（２−ト
リフルオロメチル−２−ヒドロキシエチル）テトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、
９−〔２，２−ジ（トリフルオロメチル）−２−ヒドロ
キシエチル〕テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7］ドデカ−４−エン、

【００７２】テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−メチルテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−
エチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカ−４−エン、９−ｎ−プロピルテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−
ブチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカ−４−エン、９−ｎ−ヘキシルテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−ｎ−
オクチルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカ−４−エン、９−シアノテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９−シアノメ
チルテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カ−４−エン、９−（２−シアノエチル）テトラシクロ
[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エン、９
−（３−シアノプロピル）テトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6．０^2,7 ］ドデカ−４−エン等のテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ−４−エンまたは
その誘導体類等を挙げることができる。

【００７３】共重合体（Ａ）において、繰り返し単位
（１−１）と繰り返し単位（１−２）との合計含有率
は、全繰り返し単位に対して３０モル％を超えることが
必要であり、より具体的には、好ましくは３１〜９５モ
ル％、さらに好ましくは３１〜９０モル％、特に好まし
くは４０〜８０モル％である。この場合、前記合計含有
率が３０モル％以下であると、レジストとしての溶剤へ
の溶解性、ドライエッチング耐性、基板への密着性、解
像度等のバランスが低下する傾向がある。但し、前記合
計含有率が９５モル％を超えると、レジストとしての基
板への密着性が低下する傾向がある。

【００７４】また、繰り返し単位（１−１）の含有率
は、全繰り返し単位に対して、通常、６０モル％未満、
好ましくは５０モル％未満、さらに好ましくは４０モル
％未満である。また、繰り返し単位（２）の含有率は、
全繰り返し単位に対して、通常、５〜５０モル％、好ま
しくは１０〜５０モル％、さらに好ましくは２０〜５０
モル％である。この場合、繰り返し単位（２）の含有率
が５モル％未満では、レジストとしての基板への密着性
や現像性が低下する傾向があり、一方５０モル％を超え
ると、レジストとしてのドライエッチング耐性が低下
し、また解像度も低下する傾向がある。さらに、他の繰
り返し単位の含有率は、全繰り返し単位に対して、通
常、４０モル％以下、好ましくは３０モル％以下であ
る。

【００７５】共重合体（Ａ）のゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重
量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、１，００
０〜３００，０００であり、好ましくは２，０００〜２
００，０００、さらに好ましくは３，０００〜１００，
０００である。この場合、共重合体（Ａ）のＭｗが１，
０００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾
向があり、一方３００，０００を超えると、レジストと
しての現像性が低下する傾向がある。また、共重合体
（Ａ）のＭｗとゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量（以
下、「Ｍｎ」という。）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通
常、１〜５、好ましくは１〜３である。共重合体（Ａ）
は、特に、化学増幅型レジストとして有用な感放射線性
樹脂組成物における樹脂成分として極めて好適に使用す
ることができるほか、成形材料、樹脂配合成分、塗料、
接着剤、光学材料等にも使用することができる。

【００７６】共重合体（Ａ）の製造方法 共重合体（Ａ）は、前記一般式（ｉ−１）で表される化
合物および前記一般式（ｉ−２）で表される化合物の群
から選ばれる少なくとも１種と、前記一般式（ii) で表
される化合物とを、場合により、他の繰り返し単位を与
える単量体と共に、通常、有機溶媒中で、過酸化物、好
ましくは有機過酸化物を重合開始剤として重合すること
により製造することができる。

【００７７】前記有機過酸化物としては、例えば、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類；１，
１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｎ
−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレ
レート等のパーオキシケタール類；クメンハイドロパー
オキサイド、ジイソプロピルベンゼンパーオキサイド、
２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオ
キサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、α，α’
−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−イソプロピル）ベ
ンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパ
ーオキシ）ヘキシン−３、ｔ−ブチルクミルパーオキサ
イド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等のジアルキルパ
ーオキサイド類；デカノイルパーオキサイド、ラウロイ
ルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、２，４
−ジクロロベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパー
オキサイド類；ビス（ｔ−ブチルシクロヘキシル）パー
オキシジカーボネート等のパーオキシカーボネート類；

【００７８】ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−
ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−
２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブ
チルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピ
バレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオ
キシ−２−エチルヘキサノエート、１−シクロヘキシル
−１−メチルエチルパーオキシ２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ヘキシルパーオキシ２−エチルヘキサノエー
ト、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチル
パーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシ３，５，
５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ
ラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカ
ーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノ
カーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキシ
ルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテー
ト、ｔ−ブチルパーオキシｍ−トルオイルベンゾエー
ト、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔ−ブ
チルパーオキシ）イソフタレート等のパーオキシエステ
ル類等を挙げることができる。

【００７９】これらの有機過酸化物のうち、ｎ−ブチル
−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、
ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ
ピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−
ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキ
シイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキ
シアセテート等が好ましい。前記有機過酸化物は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。有
機過酸化物の使用量は、全単量体１００重量部に対し
て、通常、１〜６０重量部、好ましくは１〜５０重量部
である。また、前記有機過酸化物は、１種以上の還元剤
を併用して、レドックス系として使用することもでき
る。

【００８０】重合に使用される前記有機溶媒としては、
例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、
ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン
類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタ
ン、デカリン、ノルボルナン等の環状炭化水素類；ベン
ゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等
の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン
類、ジクロロエタン類、フルオロクロロエタン類、ヘキ
サメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブ
チル、プロピオン酸メチル、プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート等の飽和カルボン酸エステル
類；γ−ブチロラクトン等のアルキルラクトン類；テト
ラヒドロフラン、ジメトキシエタン類、ジエトキシエタ
ン類等のエーテル類；２−ブタノン、２−ヘプタノン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類；２−プロパノール、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル等のアルコール類等を挙げることができる。

【００８１】これらの有機溶媒のうち、酢酸ｎ−ブチ
ル、酢酸ｉ−ブチル、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、γ−ブチルラクトン、２−ブタノ
ン、２−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン、２−プ
ロパノールおよびプロピレングリコールモノメチルエー
テルの群から選ばれる少なくとも１種が、単量体および
共重合体（Ａ）に対する溶解性に優れ、重合反応を阻害
しない点で好ましい。前記有機溶媒は、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。

【００８２】有機溶媒の使用量は、単量体溶液全体に対
して、通常、５０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０
重量％である。この場合、単量体の溶液濃度が５０重量
％未満では、重合速度が低下する傾向であり、一方９０
重量％を超えると、単量体溶液の流動性が低下するだけ
でなく、重合反応の暴走を招くおそれがある。また、前
記重合における反応温度は、通常、４０〜１８０℃、好
ましくは８０〜１５０℃であり、反応時間は、通常、１
〜４８時間、好ましくは１〜２４時間である。

【００８３】共重合体（Ａ）は、ハロゲン、金属等の不
純物が少ない程好ましいのは当然であるが、残留モノマ
ーやオリゴマー成分についても規定値以下、例えば高速
液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で測定した値が
０．１重量％以下であることが好ましく、それにより、
レジストとしての感度、解像度、プロセス安定性、パタ
ーン形状等をさらに改善することができるだけでなく、
レジストパターンの形成に使用される組成物溶液中の異
物量の変動や感度等の経時変化が少なく、安定したレジ
スト性能を示す感放射線性樹脂組成物を提供することが
できる。共重合体（Ａ）の精製法としては、例えば、次
の方法を挙げることができる。まず、金属等の不純物を
除去する方法としては、ゼータ電位フィルターを用いて
樹脂溶液中の金属を吸着させる方法や、蓚酸やスルホン
酸等の酸性水溶液で樹脂溶液を洗浄することにより金属
をキレートとして除去する方法等を挙げることができ
る。また、残留モノマーやオリゴマー成分を規定値以下
に下げる方法としては、水洗；適切な溶媒を選択しある
いは組み合わせて残留モノマーやオリゴマー成分を除去
する液々抽出、適切な溶媒を選択しあるいは組み合わせ
て特定分子量以下の低分子量成分のみを抽出除去する限
外ろ過等の液相精製法；樹脂溶液を貧溶媒中へ滴下して
樹脂を凝固させて残留モノマー等を除去する再沈澱、ろ
別した樹脂を貧溶媒で洗浄する方法等の固相精製法を挙
げることができ、またこれらの方法を組み合わせること
もできる。前記液相精製法に使用される溶媒および前記
固相精製法に使用される貧溶媒は、精製される樹脂に応
じて適宜選定される。

【００８４】感放射線性樹脂組成物 本発明の感放射線性樹脂組成物は、それ自体アルカリ不
溶性またはアルカリ難溶性であって、酸の作用によりア
ルカリ可溶性となる共重合体（Ａ）、並びに（Ｂ）感放
射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という。）
を含有するものである。ここでいう「アルカリ不溶性ま
たはアルカリ難溶性」とは、共重合体（Ａ）を含有する
感放射線性樹脂組成物から形成されたレジスト被膜から
レジストパターンを形成する際に採用されるアルカリ現
像条件下で、当該レジスト被膜の代わりに共重合体
（Ａ）のみを用いたレジスト被膜を現像した場合に、当
該被膜の初期膜厚の５０％以上が現像後に残存する性質
を意味する。本発明の感放射線性樹脂組成物において、
共重合体（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。

【００８５】−酸発生剤（Ｂ）− 酸発生剤（Ｂ）は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子
線、Ｘ線等の放射線による露光により酸を発生する成分
であり、露光により発生した酸の作用によって、共重合
体（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果
レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性とな
り、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有する
ものである。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸としては、
下記式（ＢA-1)〜（ＢA-5)で表されるものが好ましい。

【００８６】

【化１３】

【００８７】〔式（ＢA-1)において、各Ｒf は相互に独
立にフッ素原子またはトリフルオロメチル基を示し、Ｒ
a は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜２０の直鎖状も
しくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜２０の直鎖状も
しくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素数３〜２０の
環状の１価の炭化水素基または炭素数３〜２０の環状の
１価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状の一価の炭化
水素基および該環状の１価のフッ素化炭化水素基は置換
されていてもよい。

【００８８】式（ＢA-2)において、Ｒf はフッ素原子ま
たはトリフルオロメチル基を示し、Ｒf'は水素原子、フ
ッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示
し、Ｒb は水素原子、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは
分岐状のアルキル基、炭素数３〜２０の環状の１価の炭
化水素基または炭素数３〜２０の環状の１価のフッ素化
炭化水素基を示し、該環状の一価の炭化水素基および該
環状の１価のフッ素化炭化水素基は置換されていてもよ
い。

【００８９】式（ＢA-3)において、Ｒs は炭素数１〜２
０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数３
〜２０の環状の１価の炭化水素基を示し、該環状の１価
の炭化水素基は置換されていてもよい。

【００９０】式（ＢA-4)において、Ｒc は炭素数１〜２
０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数１〜２
０の直鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基、炭素
数３〜２０の環状の１価の炭化水素基または炭素数３〜
２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基を示し、該環状
の一価の炭化水素基および該環状の１価のフッ素化炭化
水素基は置換されていてもよい。

【００９１】式（ＢA-5)において、Ｒe はＲa −ＳＯ₂
−基またはＲa −ＣＯ−基を示し、Ｒa は式（Ｂ-1) に
おけるＲa と同義である。但し、酸発生剤（Ｂ）から発
生する酸が式（ＢA-1)で表される酸と式（ＢA-5)で表さ
れる酸との混合物を含むとき、式（ＢA-1)で表される酸
のＲa と式（ＢA-5)で表される酸のＲa とは同一でも異
なってもよい。〕

【００９２】式（ＢA-1)〜（ＢA-5)において、Ｒa 、Ｒ
b 、Ｒs 、Ｒc およびＲe の炭素数１〜２０の直鎖状も
しくは分岐状のアルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル
基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基等を挙げることができ
る。また、Ｒa 、Ｒc およびＲe の炭素数１〜２０の直
鎖状もしくは分岐状のフッ素化アルキル基としては、例
えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル
基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロピル基、ヘプタフルオロ
ーｉ−プロピル基、ノナフルオロ−ｎ−ブチル基、ノナ
フルオロ−２−メチルプロピル基、ノナフルオロ−１−
メチルプロピル基、ノナフルオロ−ｔ−ブチル基、パー
フルオロ−ｎ−ペンチル基、パーフルオロ−ｎ−ヘキシ
ル基、パーフルオロ−ｎ−ヘプチル基、パーフルオロ−
ｎ−オクチル基等を挙げることができる。

【００９３】また、Ｒa 、Ｒb 、Ｒs 、Ｒc およびＲe
の炭素数３〜２０の環状の１価の炭化水素基としては、
例えば、フェニル基、２−ナフチル基、２−ナフチル
基、シクロアルキル基、アダマンタン−１−イル基、ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシ
クロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル基、１０−カンファニル基等を挙げることができる。

【００９４】また、Ｒa 、Ｒb 、Ｒc およびＲe の炭素
数３〜２０の環状の１価のフッ素化炭化水素基として
は、例えば、フェニル基、２−ナフチル基、２−ナフチ
ル基、シクロアルキル基、アダマンタン−１−イル基、
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−
イル基または１０−カンファニル基を１個以上のフッ素
原子で置換した基等を挙げることができる。

【００９５】前記式（ＢA-1)で表される酸としては、例
えば、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロ
エタンスルホン酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−
ｎ−プロパンスルホン酸、ヘプタフルオロ−ｎ−プロパ
ンスルホン酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−
ブタンスルホン酸、ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホン
酸、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクタンス
ルホン酸、パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸等の
直鎖或いは分岐状のフッ素化アルキルスルホン酸類；

【００９６】１，１，２，２−テトラフルオロエタンス
ルホン酸、１−トリフルオロメチルー１，２，２−トリ
フルオロエタンスルホン酸、２−トリフルオロメチル−
１，１，２−トリフルオロエタンスルホン酸、１，２−
ジ（トリフルオロメチル）−１，２−ジフルオロエタン
スルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−２，
２−ジフルオロエタンスルホン酸または２，２−ジ（ト
リフルオロメチル）−１，１−ジフルオロエタンスルホ
ン酸の各２−位に位置する水素原子を、シクロブチル
基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル
基、４−トリフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフ
ルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、
２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフ
ェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジ
フルオロフェニル基、３，６−ジフルオロフェニル基、
２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、ナフ
タレン−１−イル基、ナフタレン−２−イル基、アダマ
ンタン−１−イル基、アダマンタン−２−イル基、３−
ヒドロキシアダマンタン−１−イル基、３−ヒドロキシ
アダマンタン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメ
チルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7］ドデカン−４−イル基または１０
−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル基で置換した酸等を挙げるこ
とができる。

【００９７】また、式（ＢA-2)で表される酸としては、
例えば、１−フルオロエタンスルホン酸、１−フルオロ
−ｎ−プロパンスルホン酸、１−フルオロ−ｎ−ブタン
スルホン酸、１−フルオロ−ｎ−オクタンスルホン酸、
１、１−ジフルオロエタンスルホン酸、１、１−ジフル
オロ−ｎ−プロパンスルホン酸、１、１−ジフルオロ−
ｎ−ブタンスルホン酸、１、１−ジフルオロ−ｎ−オク
タンスルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−プロパ
ンスルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−ブタンス
ルホン酸、１−トリフルオロメチル−ｎ−オクタンスル
ホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）エタンスル
ホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメチル）−ｎ−プロ
パンスルホン酸、１，１−ビス（トリフルオロメチル）
−ｎ−ブタンスルホン酸、１，１−ジ（トリフルオロメ
チル）−ｎ−オクタンスルホン酸等の直鎖或いは分岐状
のフッ素化アルキルスルホン酸類；

【００９８】モノフルオロメタンスルホン酸、ジフルオ
ロメタンスルホン酸、１−フルオロエタンスルホン酸、
１，１−ジフルオロエタンスルホン酸、（トリフルオロ
メチル）メタンスルホン酸、１−（トリフルオロメチ
ル）エタンスルホン酸、ジ（トリフルオロメチル）メタ
ンスルホン酸または１，１−ジ（トリフルオロメチル）
エタンスルホン酸の各１−位に位置する水素原子または
各２−位に位置する水素原子を、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、４−ト
リフルオロメチルフェニル基、２，３−ジフルオロフェ
ニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフ
ルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、
３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフ
ェニル基、３，６−ジフルオロフェニル基、２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、ナフタレン−
１−イル基、ナフタレン−２−イル基、アダマンタン−
１−イル基、アダマンタン−２−イル基、３−ヒドロキ
シアダマンタン−１−イル基、３−ヒドロキシアダマン
タン−２−イル基、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−
２−イル基、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル基、６−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル基、７，７−ジメチルビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル基、テトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6．０^2,7 ］ドデカン−４−イル
基、９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル基または１０−ヒド
ロキシテトラシクロ[６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカン−４−イル基で置換した酸等を挙げることができ
る。

【００９９】また、式（ＢA-3)で表される酸としては、
例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ｎ−プ
ロパンスルホン酸、ｎ−ブタンスルホン酸、２−メチル
プロパンスルホン酸、１−メチルプロパンスルホン酸、
ｔ−ブタンスルホン酸、ｎ−ペンタンスルホン酸、ｎ−
ヘキサンスルホン酸、ｎ−オクタンスルホン酸、シクロ
ペンタンスルホン酸、シクロヘキサンスルホン酸等の直
鎖状、分岐状もしくは環状のアルキルスルホン酸類；ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンジル
スルホン酸、α−ナフタレンスルホン酸、β−ナフタレ
ンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；１０−カンファ
ースルホン酸等を挙げることができる。

【０１００】また、式（ＢA-4)で表される酸としては、
例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草
酸、イソ吉草酸、カプロン酸、安息香酸、サリチル酸、
フタル酸、テレフタル酸、α−ナフタレンカルボン酸、
β−ナフタレンカルボン酸、シクロブタンカルボン酸、
シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン
酸、アダマンタン−１−カルボン酸、ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−カルボン酸、アダマンタン−１
−酢酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−酢酸、
リトコール酸、デオキシコール酸、ケノデオキシコール
酸、コール酸等のモノカルボン酸類；シクロブタン−
１，１−ジカルボン酸、シクロブタン−１，２−ジカル
ボン酸、シクロペンタン−１，１−ジカルボン酸、シク
ロペンタン−１，２−ジカルボン酸、シクロペンタン−
１，３−ジカルボン酸、シクロヘキサン−１，１−ジカ
ルボン酸、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸、シ
クロヘキサン−１，３−ジカルボン酸、シクロヘキサン
−１，４−ジカルボン酸、アダマンタン−１，３−ジカ
ルボン酸、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−
ジカルボン酸、アダマンタン−１，３−ジ酢酸、ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジ酢酸等のジカル
ボン酸類等を挙げることができる。

【０１０１】さらに、式（ＢA-5)で表される酸として
は、例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホ
ニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタン
スルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２
−テトラフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミド
酸、Ｎ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスル
ホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２−テ
トラフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，
Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミ
ド酸、Ｎ，Ｎ−ビス（１，１，２，２−テトラフルオロ
−ｎ−オクタンスルホニル）イミド酸、Ｎ，Ｎ−ビス
（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホニル）イミド酸、
Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル・Ｎ−ペンタフルオ
ロエタンスルホニルイミド酸、Ｎ−トリフルオロメタン
スルホニル・Ｎ−ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホ
ニルイミド酸、Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル・Ｎ
−ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニルイミド酸、Ｎ−
ペンタフルオロエタンスルホニル・Ｎ−ヘプタフルオロ
−ｎ−プロパンスルホニルイミド酸、Ｎ−ペンタフルオ
ロエタンスルホニル・Ｎ−ノナフルオロ−ｎ−ブタンス
ルホニルイミド酸、Ｎ−ヘプタフルオロ−ｎ−プロパン
スルホニル・Ｎ−ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル
イミド酸等を挙げることができる。

【０１０２】前記式（ＢA-1)〜（ＢA-5)で表される酸を
発生する化合物としては、例えば、オニウム塩化合物、
スルホンイミド化合物、スルホン化合物、スルホン酸エ
ステル化合物、ジスルホニルジアゾメタン化合物、ジス
ルホニルメタン化合物、オキシムスルホネート化合物、
ヒドラジンスルホネート化合物等を挙げることができ
る。

【０１０３】前記オニウム塩化合物としては、ヨードニ
ウム塩、スルホニウム塩（テトラヒドロチオフェニウム
塩を含む。）、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリ
ジニウム塩等を挙げることができる。好ましいオニウム
塩化合物としては、例えば、ジフェニルヨードニウム
塩、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム塩、ジ
（ｐ−トルイル）ヨードニウム塩、ジ（３，４−ジメチ
ルフェニル）ヨードニウム塩、４−ニトロフェニル・フ
ェニルヨードニウム塩、ジ（３−ニトロフェニル）ヨー
ドニウム塩、４−メトキシフェニル・フェニルヨードニ
ウム塩、ジ（４−クロロフェニル）ヨードニウム塩、ジ
（４−トリフルオロメチルフェニル）ヨードニウム塩、
ビフェニレンヨードニウム塩、ジ（ナフタレン−２−イ
ル）ヨードニウム塩、２−クロロビフェニレンヨードニ
ウム塩等のヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウム
塩、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウム
塩、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウ
ム塩、４−ヒドロキシフェニル・ジフェニルスルホニウ
ム塩、トリ（４−メトキシフェニル）スルホニウム塩、
ジ（４−メトキシフェニル）・ｐ−トルイルスルホニウ
ム塩、フェニル・ビフェニレンスルホニウム塩、４−フ
ェニルチオフェニル・ジフェニルスルホニウム塩、４，
４’−ビス（ジフェニルスルホニオフェニル）スルフィ
ド塩等のアリールスルホニウム塩；

【０１０４】ジシクロヘキシル・メチルスルホニウム
塩、ジメチル・シクロヘキシルスルホニウム塩、トリシ
クロヘキシルスルホニウム塩等のトリ（シクロ）アルキ
ルスルホニウム塩；シクロヘキシル・２−オキソシクロ
ヘキシル・メチルスルホニウム塩、ジシクロヘキシル・
２−オキソシクロヘキシルスルホニウム塩、２−オキソ
シクロヘキシルジメチルスルホニウム塩、ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル・メチル・２−オキ
ソシクロヘキシルスルホニウム塩、ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソ
シクロヘキシルスルホニウム塩、１−〔２−（ナフタレ
ン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオ
フェニウム塩、１−〔２−（ナフタレン−２−イル）−
２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１
−（２−オキソ−ｎ−ブチル）テトラヒドロチオフェニ
ウム塩等の２−オキソスルホニウム塩；ナフタレン−１
−イル・ジメチルスルホニウム塩、ナフタレン−１−イ
ル・ジエチルスルホニウム塩、４−シアノナフタレン−
１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−シアノナフタ
レン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩、４−ニトロ
ナフタレン−１−イル・ジメチルスルホニウム塩、４−
ニトロナフタレン−１−イル・ジエチルスルホニウム
塩、４−メチルナフタレン−１−イル・ジメチルスルホ
ニウム塩、４−メチルナフタレン−１−イル・ジエチル
スルホニウム塩、４−ヒドロキシノナフタレン−１−イ
ル・ジメチルスルホニウム塩、４−ヒドロキシナフタレ
ン−１−イル・ジエチルスルホニウム塩等のナフタレン
−１−イル・ジアルキルスルホニウム塩；

【０１０５】１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−メトキ
シナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム
塩、１−（４−エトキシナフタレン−１−イル）テトラ
ヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｎ−ブトキシナフ
タレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１
−（４−メトキシメトキシナフタレン−１−イル）テト
ラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−エトキシメトキ
シナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム
塩、１−〔４−（１−メトキシエトキシ）ナフタレン−
１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−〔４−
（２−メトキシエトキシ）ナフタレン−１−イル〕テト
ラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−メトキシカルボ
ニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフ
ェニウム塩、１−（４−エトキシカルボニルオキシナフ
タレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１
−（４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−
１−イル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−
ｉ−プロポキシカルボニルオキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｎ−ブ
トキシカルボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラ
ヒドロチオフェニウム塩、１−（４−ｔ−ブトキシカル
ボニルオキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオ
フェニウム塩、１−〔４−（２−テトラヒドロフラニル
オキシ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェ
ニウム塩、１−〔４−（２−テトラヒドロピラニルオキ
シ）ナフタレン−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウ
ム塩、１−（４−ベンジルオキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウム塩、４−（４−ｎ−ブ
トキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシク
ロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン塩、（４−エトキシナ
フタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカン塩、１−〔４−（ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）オキシナフタレン
−１−イル〕テトラヒドロチオフェニウム塩、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム塩、１−（３，５−ジメチル−４
−エトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム塩、
１−（３，５−ジメチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）
テトラヒドロチオフェニウム塩等のアリールチオフェニ
ウム塩等を挙げることができる。

【０１０６】前記スルホンイミド化合物としては、例え
ば、下記一般式（Ｂ１) で表される化合物を挙げること
ができる。

【０１０７】

【化１４】 〔一般式（Ｂ１) において、 [ＲＡ] は前記式（ＢA-1)
〜（ＢA-4)で表される何れかの酸の残基を示し、それが
解離したとき式（ＢA-1)〜（ＢA-4)で表される酸を生成
する基であり、Ｕ¹ は２価の有機基を示す。〕

【０１０８】一般式（Ｂ１) で表される化合物は、一般
式（Ｂ１) 中の [ＲＡ] 基を水素原子で置換した化合物
（以下、「母核化合物（Ｂ１）」という。）と前記式
（ＢA-1)〜（ＢA-4)で表される酸の残基とがスルホニル
結合あるいはカルボニル結合を介して結合した構造を有
する化合物である。母核化合物（Ｂ１）としては、例え
ば、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシジ
フェニルマレイミド、Ｎ−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミ
ド、Ｎ−ヒドロキシ−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，
６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ヒドロ
キシナフチルイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等を
挙げることができる。

【０１０９】前記スルホン化合物としては、例えば、β
−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの
α−ジアゾ化合物等を挙げることができる。スルホン酸
エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸
エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリール
スルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げるこ
とができる。前記ジスルホニルジアゾメタン化合物とし
ては、例えば、下記一般式（Ｂ２）で表される化合物を
挙げることができる。

【０１１０】

【化１５】 〔一般式（Ｂ２) において、各 [ＲＡ] は相互に独立に
前記一般式（Ｂ１) における [ＲＡ] と同義である。〕

【０１１１】前記ジスルホニルメタン化合物としては、
例えば、下記一般式（Ｂ３）で表される化合物を挙げる
ことができる。

【０１１２】

【化１６】 〔一般式（Ｂ３) において、各 [ＲＡ] は相互に独立に
前記一般式（Ｂ１) における [ＲＡ] と同義であり、Ｖ
およびＷは少なくとも一方がアリール基であるか、ある
いはＶとＷが相互に連結して少なくとも１個の不飽和結
合を有する単環構造または多環構造を形成しているか、
あるいはＶとＷが相互に連結して下記式

【０１１３】

【化１７】 （但し、Ｖ’およびＷ’は相互に同一でも異なってもよ
く、かつ複数存在するＶ’およびＷ’は相互に同一でも
異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基
を示すか、あるいは同一のもしくは異なる炭素原子に結
合したＶ’とＷ’が相互に連結して炭素単環構造を形成
しており、ｋは２〜１０の整数である。）で表される基
を形成している。〕

【０１１４】前記オキシムスルホネート化合物として
は、例えば、下記一般式（Ｂ４-1）または一般式（Ｂ４
-2）で表される化合物を挙げることができる。

【０１１５】

【化１８】 〔一般式（Ｂ４-1) および一般式（Ｂ４-2）において、
各 [ＲＡ] は相互に独立に前記一般式（Ｂ１) における
[ＲＡ] と同義であり、各Ｒ⁷ は相互に独立に１価の有
機基を示す。〕

【０１１６】一般式（Ｂ４-1) および一般式（Ｂ４-2）
において、Ｒ⁷ の具体例としては、メチル基、エチル
基、ｎ―プロピル基、フェニル基、トシル基等を挙げる
ことができる。

【０１１７】前記ヒドラジンスルホネート化合物として
は、例えば、ビス（ベンゼン）スルホニルヒドラジン、
ビス（ｐ−トルエン）スルホニルヒドラジン、ビス（ト
リフルオロメタン）スルホニルヒドラジン、ビス（ノナ
フルオロ−ｎ−ブタン）スルホニルヒドラジン、ビス
（ｎ−プロパン）スルホニルヒドラジン、ベンゼンスル
ホニルヒドラジン、ｐ−トルエンスルホニルヒドラジ
ン、トリフルオロメタンスルホニルヒドラジン、ノナフ
ルオロ−ｎ−ブタンスルホニルヒドラジン、ｎ−プロパ
ンスルホニルヒドラジン、トリフルオロメタンスルホニ
ル・ｐ−トルエンスルホニルヒドラジン等を挙げること
ができる。

【０１１８】好ましい酸発生剤（Ｂ）の具体例として
は、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホ
ネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブ
タンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパーフルオ
ロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨードニウ
ム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネー
ト、ジフェニルヨードニウム２−（５−ヒドロキシビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ジフェニ
ルヨードニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウ
ム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２−
（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタンスルホネート、ジフェニルヨードニウ
ム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．
１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，
２−テトラフルオロエタンスルホネート、

【０１１９】ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ト
リフルオロメタンスルホニル）イミデート、ジフェニル
ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスル
ホニル）イミデート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−
ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミ
デート、ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフ
ルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ジフェニ
ルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨー
ドニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネー
ト、ジフェニルヨードニウム２，４−ジフルオロベンゼ
ンスルホネート、ジフェニルヨードニウム２，３，４，
５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、ジフェ
ニルヨードニウム１０−カンファースルホネート、

【０１２０】ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニ
ウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロ−ｎ−ブタ
ンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ビ
ス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス（４
−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（５−ヒドロ
キシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（６
−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネ
ート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２
−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデ
カン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエ
タンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、ビス
（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム２−（１０−
ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラ
フルオロエタンスルホネート、

【０１２１】ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニ
ウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イ
ミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウ
ムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イ
ミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウ
ムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホ
ニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンス
ルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウム４−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネ
ート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム
２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネ
ート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム１
０−カンファースルホネート、

【０１２２】トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフル
オロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニ
ウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフ
ェニルスルホニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエ
タンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（５
−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネ
ート、トリフェニルスルホニウム２−（６−ヒドロキシ
ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリ
フェニルスルホニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、トリフェ
ニルスルホニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウム２−（１０−ヒドロキシテト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４
−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスル
ホネート、

【０１２３】トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス
（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、トリフ
ェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタ
ンスルホニル）イミデート、トリフェニルスルホニウム
Ｎ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニ
ル）イミデート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビ
ス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデー
ト、トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、
トリフェニルスルホニウム４−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２，４−
ジフルオロベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホ
ニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンス
ルホネート、トリフェニルスルホニウム１０−カンファ
ースルホネート、

【０１２４】ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホ
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・
２−オキソシクロヘキシルスルホニウムノナフルオロ−
ｎ−ブタンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘ
キシルスルホニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホ
ネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・
シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウ
ム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネー
ト、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シク
ロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム２
−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２
−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスル
ホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル
・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニ
ウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルス
ルホニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタンスルホネート、ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソ
シクロヘキシルスルホニウム２−（９−ヒドロキシテト
ラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４
−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスル
ホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル
・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホニ
ウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、

【０１２５】ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホ
ニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）
イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルスルホ
ニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニ
ル）イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシルス
ルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパ
ンスルホニル）イミデート、ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロ
ヘキシルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ
−ブタンスルホニル）イミデート、ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソ
シクロヘキシルスルホニウムベンゼンスルホネート、ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキ
シル・２−オキソシクロヘキシルスルホニウム４−トリ
フルオロメチルベンゼンスルホネート、ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル・シクロヘキシル・２−オ
キソシクロヘキシルスルホニウム２，４−ジフルオロベ
ンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシ
ルスルホニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベ
ンゼンスルホネート、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−イル・シクロヘキシル・２−オキソシクロヘキシ
ルスルホニウム１０−カンファースルホネート、

【０１２６】１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２
−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムトリフル
オロメタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１
−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニ
ウムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−〔２
−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テト
ラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オクタンス
ルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２
−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム２−（ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２
−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テト
ラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナ
フタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒド
ロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレ
ン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオ
フェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．
０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタンスルホネート、１−〔２−（ナフタレ
ン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオ
フェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−
〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕
テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンス
ルホネート、

【０１２７】１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２
−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−
ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１
−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチ
ル〕テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタ
フルオロエタンスルホニル）イミデート、１−〔２−
（ナフタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラ
ヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−
ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−〔２−（ナ
フタレン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒド
ロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブ
タンスルホニル）イミデート、１−〔２−（ナフタレン
−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフ
ェニウムベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレ
ン−１−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオ
フェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネー
ト、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−オキソ
エチル〕テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオ
ロベンゼンスルホネート、１−〔２−（ナフタレン−１
−イル）−２−オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニ
ウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスル
ホネート、１−〔２−（ナフタレン−１−イル）−２−
オキソエチル〕テトラヒドロチオフェニウム１０−カン
ファースルホネート、

【０１２８】１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンス
ルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−オ
クタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン
−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，
２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ヒ
ドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェ
ニウム２−（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロ
エタンスルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン
−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒ
ドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロ−エタンスルホネー
ト、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テト
ラヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４
−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオ
フェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−
（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロ
チオフェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、

【０１２９】１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリフ
ルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（４−ヒド
ロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニ
ウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）
イミデート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−イ
ル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタ
フルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデート、１−
（４−ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロ
チオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタ
ンスルホニル）イミデート、１−（４−ヒドロキシナフ
タレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼ
ンスルホネート、ジフェニルヨードニウム４−トリフル
オロメチルベンゼンスルホネート、１−（４−ヒドロキ
シナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム
２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（４−
ヒドロキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフ
ェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンゼン
スルホネート、１−（４−ヒドロキシナフタレン−１−
イル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファース
ルホネート、

【０１３０】１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−
イル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタン
スルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１
−イル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ
−ブタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタ
レン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフル
オロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブト
キシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウ
ム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネー
ト、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テ
トラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキシビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，
２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ
−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフ
ェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］
ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタ
レン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンス
ルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレンー１−
イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキ
シテトラシクロ[６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ
ン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレンー
１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒ
ドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエタンスルホネート、

【０１３１】１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン１１−
イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（トリ
フルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ
−ブトキシナフタレン１１−イル）テトラヒドロチオフ
ェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニ
ル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−
１−イル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス
（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミデー
ト、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テ
トラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ
−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−（４−ｎ−
ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェ
ニウムベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシ
ナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム４
−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、１−（４
−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチ
オフェニウム２，４−ジフルオロベンゼンスルホネー
ト、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テ
トラヒドロチオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロベンゼンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキ
シナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム
１０−カンファースルホネート、

【０１３２】（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イ
ル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］
デカントリフルオロメタンスルホネート、（４−ｎ−ブ
トキシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシク
ロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカンノナフルオロ−ｎ−ブ
タンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１
−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカンパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネー
ト、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−
チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−
（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、（４
−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオニア
トリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（５−ヒ
ドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオ
ニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（６
−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネ
ート、（４−ｎ−ブトキシナフタレンー１−イル）―４
−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２
−２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］
ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエタンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン
−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．
０^2,6 ］デカン２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオ
ニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２−（１
０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラ
フルオロエタンスルホネート、

【０１３３】（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イ
ル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］
デカンＮ，Ｎ−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）
イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イ
ル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］
デカンＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスルホニ
ル）イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−
イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロ
パンスルホニル）イミデート、（４−ｎ−ブトキシナフ
タレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．
２．１．０^2,6 ］デカンＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−
ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、（４−ｎ−ブトキ
シナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ[
５．２．１．０^2,6 ］デカンベンゼンスルホネート、
（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）―４−チオ
ニアトリシクロ[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン４−トリ
フルオロメチルベンゼンスルホネート、（４−ｎ−ブト
キシナフタレン−１−イル）―４−チオニアトリシクロ
[ ５．２．１．０^2,6 ］デカン２，４−ジフルオロベン
ゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１
−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン２，３，４，５，６−ペンタフルオロベン
ゼンスルホネート、（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１
−イル）―４−チオニアトリシクロ[ ５．２．１．０
^2,6 ］デカン１０−カンファースルホネート、

【０１３４】１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフル
オロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニ
ウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロ
エタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−
（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−
イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホ
ネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキ
シビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム２−（９−ヒドロキシテトラシク
ロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネ
ート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウム２−（１０−ヒドロキ
シテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ
ン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホネート、

【０１３５】１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス
（トリフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエ
タンスルホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウ
ムＮ，Ｎ−ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホ
ニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−
ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデー
ト、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウムベンゼンスルホネー
ト、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウム４−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム
２，４−ジフルオロベンゼンスルホネート、１−（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロ
チオフェニウム２，３，４，５，６−ペンタフルオロベ
ンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム１０−
カンファースルホネート、

【０１３６】１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフ
ェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタ
ンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキ
シフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ
−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−
４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムパ
ーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−（３，５
−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオ
フェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスル
ホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェ
ニル）テトラヒドロチオフェニウム２−（５−ヒドロキ
シビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−
（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒ
ドロチオフェニウム２−（６−ヒドロキシビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−
ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフ
ェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラ
フルオロエタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル
−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム
２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（３，５−
ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチオフ
ェニウム２−（１０−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、

【０１３７】１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフ
ェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ト
リフルオロメタンスルホニル）イミデート、１−（３，
５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチ
オフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ペンタフルオロエタンスル
ホニル）イミデート、１−（３，５−ジメチル−４−ブ
トキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−
ビス（ヘプタフルオロ−ｎ−プロパンスルホニル）イミ
デート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフ
ルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、１−
（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒ
ドロチオフェニウムベンゼンスルホネート、１−（３，
５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラヒドロチ
オフェニウム４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネ
ート、１−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウム２，４−ジフルオロベ
ンゼンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ブ
トキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２，３，
４，５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホネート、１
−（３，５−ジメチル−４−ブトキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム１０−カンファースルホネート、

【０１３８】Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタン
スルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオ
ロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニ
ルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（５−ヒドロキ
シビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕
スクシンイミド、Ｎ−〔２−（６−ヒドロキシビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイ
ミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕スクシンイ
ミド、Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[ ６．
２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，
１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕
スクシンイミド、Ｎ−〔２−（１０−ヒドロキシテトラ
シクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−
イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホ
ニルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−（ベンゼンスルホニ
ルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−
（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニルオキシ）スク
シンイミド、Ｎ−（２，３，４，５，６−ペンタフルオ
ロベンゼンスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−
（１０−カンファースルホニルオキシ）スクシンイミ
ド、

【０１３９】Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３
−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタ
ンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフ
ルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキ
シイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−
（５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスル
ホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エ
ン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（６−ヒ
ドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオ
キシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，
３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキ
シ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３
−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンス
ルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−
エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ベンゼンス
ルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−
エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−トリフ
ルオロメチルベンゼンスルホニルオキシ）ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキ
シイミド、Ｎ−（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニ
ルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−
２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，３，４，５，
６−ペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ）ビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボ
キシイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホニルオキ
シ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３
−ジカルボキシイミド、

【０１４０】Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−
エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオ
ロ−ｎ−ブタンスルホニルオキシ）−７−オキサビシク
ロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボ
キシイミド、Ｎ−（パーフルオロ−ｎ−オクタンスルホ
ニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプ
ト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２
−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキ
シ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−
エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（５−
ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオ
キシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５
−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（６
−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニ
ルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト
−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−
（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ
ン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−〔２−（９−ヒドロキシテトラシクロ[６．２．
１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオキシ〕−７
−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−
２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−（１０−ヒド
ロキシテトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ド
デカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロ
エタンスルホニルオキシ〕−７−オキサビシクロ［２．
２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミ
ド、Ｎ−（ベンゼンスルホニルオキシ）−７−オキサビ
シクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカ
ルボキシイミド、Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、
Ｎ−（２，４−ジフルオロベンゼンスルホニルオキシ）
−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン
−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，３，４，
５，６−ペンタフルオロベンゼンスルホニルオキシ）−
７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−
２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−カンファー
スルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．
１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等
を挙げることができる。

【０１４１】これらの酸発生剤（Ｂ）のうち、さらに好
ましくは、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタン
スルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロ−
ｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムパー
フルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、ジフェニルヨー
ドニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−
イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホ
ネート、ジフェニルヨードニウム２−（テトラシクロ[
６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−
１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、
ジフェニルヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−
ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、ジフェニルヨード
ニウム１０−カンファースルホネート、ビス（４−ｔ−
ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウ
ムノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−
ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロ−ｎ−
オクタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニ
ル）ヨードニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０
^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２−テトラ
フルオロエタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフ
ェニル）ヨードニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ
−ブタンスルホニル）イミデート、ビス（４−ｔ−ブチ
ルフェニル）ヨードニウム１０−カンファースルホネー
ト、

【０１４２】トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフル
オロ−ｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニ
ウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、トリフ
ェニルスルホニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエ
タンスルホネート、トリフェニルスルホニウム２−（テ
トラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−
４−イル）−１，１，２，２−テトラルオロエタンスル
ホネート、トリフェニルスルホニウムＮ，Ｎ−ビス（ノ
ナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデート、トリ
フェニルスルホニウム１０−カンファースルホネート、
１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラ
ヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネー
ト、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テ
トラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタンス
ルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−１−
イル）テトラヒドロチオフェニウムパーフルオロ−ｎ−
オクタンスルホネート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタ
レン−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム２−（ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル）−１，１，
２，２−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４
−ｎ−ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチ
オフェニウム２−（テトラシクロ[ ６．２．１．１
^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）−１，１，２，２
−テトラフルオロエタンスルホネート、１−（４−ｎ−
ブトキシナフタレン−１−イル）テトラヒドロチオフェ
ニウムＮ，Ｎ−ビス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホ
ニル）イミデート、１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン
−１−イル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンフ
ァースルホネート、

【０１４３】１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメ
タンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムノナフル
オロ−ｎ−ブタンスルホネート、１−（３，５−ジメチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニ
ウムパーフルオロ−ｎ−オクタンスルホネート、１−
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）テトラ
ヒドロチオフェニウム２−（ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロ
エタンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）テトラヒドロチオフェニウム２−
（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ
ン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホネート、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシフェニル）テトラヒドロチオフェニウムＮ，Ｎ−ビ
ス（ノナフルオロ−ｎ−ブタンスルホニル）イミデー
ト、１−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）テトラヒドロチオフェニウム１０−カンファースル
ホネート、Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）スクシンイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタン
スルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（パーフルオ
ロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）スクシンイミド、
Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イ
ル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニ
ルオキシ〕スクシンイミド、Ｎ−〔２−（テトラシクロ
[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカン−４−イル）
−１，１，２，２−テトラフルオロエタンスルホニルオ
キシ〕スクシンイミド、Ｎ−（１０−カンファースルホ
ニルオキシ）スクシンイミド、

【０１４４】Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニルオキ
シ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３
−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ノナフルオロ−ｎ−ブタ
ンスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（パーフ
ルオロ−ｎ−オクタンスルホニルオキシ）ビシクロ
［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキ
シイミド、Ｎ−〔２−（ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−〔２−
（テトラシクロ[ ６．２．１．１^3,6 ．０^2,7 ］ドデカ
ン−４−イル）−１，１，２，２−テトラフルオロエタ
ンスルホニルオキシ〕ビシクロ［２．２．１］ヘプト−
５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１０−
カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］
ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等であ
る。

【０１４５】本発明の感放射線性樹脂組成物において、
酸発生剤（Ｂ）は、単独でまたは２種以上を混合して使
用することができる。酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジ
ストとしての感度および現像性を確保する観点から、共
重合体（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは０．１
〜２０重量部、さらに好ましくは０．１〜７重量部であ
る。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部
未満では、レジストとしての感度および現像性が低下す
る傾向があり、一方１０重量部を超えると、放射線に対
する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得ら
れ難くなる傾向がある。

【０１４６】−各種添加剤− 本発明の感放射線性樹脂組成物には、露光により酸発生
剤（Ｂ）から生じる酸のレジスト被膜中における拡散現
象を制御し、非露光領域における好ましくない化学反応
を抑制する作用を有する酸拡散制御剤を配合することが
好ましい。このような酸拡散制御剤を配合することによ
り、得られる感放射線性樹脂組成物の貯蔵安定性がさら
に向上し、またレジストとしての解像度がさらに向上す
るとともに、露光から現像処理までの引き置き時間（Ｐ
ＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑え
ることができ、プロセス安定性に極めて優れた組成物が
得られる。酸拡散制御剤としては、レジストパターンの
形成工程中の露光や加熱処理により塩基性が変化しない
含窒素有機化合物が好ましい。このような含窒素有機化
合物としては、例えば、下記一般式（Ｃ) で表される化
合物（以下、「酸拡散制御剤（Ｃ) 」という。）を挙げ
ることができる。

【０１４７】

【化１９】 〔一般式（Ｃ）において、各Ｒ⁸ は相互に独立に水素原
子、直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、アリー
ル基またはアラルキル基を示し、これらのアルキル基、
アリール基およびアラルキル基は水酸基等の官能基で置
換されていてもよく、Ｕ² は２価の有機基を示し、ｂは
０〜２の整数である。〕

【０１４８】酸拡散制御剤（Ｃ) において、ｂ＝０の化
合物を「含窒素化合物（α）」とし、ｂ＝１〜２の化合
物を「含窒素化合物（β）」とする。また、窒素原子を
３個以上有するポリアミノ化合物および重合体をまとめ
て「含窒素化合物（γ）」とする。さらに、酸拡散制御
剤（Ｃ) 以外の含窒素有機化合物としては、例えば、４
級アンモニウムヒドロキシド化合物、アミド基含有化合
物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等を挙げること
ができる。

【０１４９】含窒素化合物（α）としては、例えば、ｎ
−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチル
アミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、シクロ
ヘキシルアミン等のモノ（シクロ）アルキルアミン類；
ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−
ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ
−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デ
シルアミン、シクロヘキシルメチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン等のジ（シクロ）アルキルアミン類；トリ
エチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−
ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−
ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ
−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ
−デシルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシ
クロヘキシルメチルアミン、トリシクロヘキシルアミン
等のトリ（シクロ）アルキルアミン類；アニリン、Ｎ−
メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチ
ルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリ
ン、４−ニトロアニリン、２，６−ジメチルアニリン、
２，６−ジイソプロピルアニリン、ジフェニルアミン、
トリフェニルアミン、ナフチルアミン等の芳香族アミン
類を挙げることができる。

【０１５０】含窒素化合物（β）としては、例えば、エ
チレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラメチルエチ
レンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テトラキス（２−ヒ
ドロキシプロピル）エチレンジアミン、テトラメチレン
ジアミン、１，３−ビス〔１−（４−アミノフェニル）
−１−メチルエチル〕ベンゼンテトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテ
ル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジ
アミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４−アミノフ
ェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−
（４−アミノフェニル）プロパン、２−（４−アミノフ
ェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２−（４−アミノフェニル）−２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１，４−ビス〔１−（４−アミノフ
ェニル）−１−メチルエチル〕ベンゼン、１，３−ビス
〔１−（４−アミノフェニル）−１−メチルエチル〕ベ
ンゼン、ビス（２−ジメチルアミノエチル）エーテル、
ビス（２−ジエチルアミノエチル）エーテル等を挙げる
ことができる。含窒素化合物（γ）としては、例えば、
ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、２−ジメチル
アミノエチルアクリルアミドの重合体等を挙げることが
できる。前記４級アンモニウムヒドロキシド化合物とし
ては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−
ｎ−プロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができ
る。

【０１５１】前記アミド基含有化合物としては、例え
ば、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−オクチルアミ
ン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−ノニルアミ
ン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジ−ｎ−デシルアミ
ン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルジシクロヘキシルアミ
ン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−１−アダマンチルア
ミン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−１−
アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボ
ニル−１−アダマンチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブト
キシカルボニル−Ｎ−メチル−１−アダマンチルアミ
ン、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−４，４’−ジアミノ
ジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ',Ｎ’−テト
ラ−ｔ−ブトキシカルボニルヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，７−ジア
ミノヘプタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル
−１，８−ジアミノオクタン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブト
キシカルボニル−１，９−ジアミノノナン、Ｎ，Ｎ’−
ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１０−ジアミノデカ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカルボニル−１，１２
−ジアミノドデカン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔ−ブトキシカル
ボニル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ−ｔ
−ブトキシカルボニルベンズイミダゾール、Ｎ−ｔ−ブ
トキシカルボニル−２−メチルベンズイミダゾール、Ｎ
−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベンズイミダ
ゾール等のＮ−ｔ−ブトキシカルボニル基含有アミノ化
合物のほか、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メ
チルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プ
ロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチ
ルピロリドン等を挙げることができる。

【０１５２】前記ウレア化合物としては、例えば、尿
素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−
ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレ
ア、１，３−ジフェニルウレア、トリ−ｎ−ブチルチオ
ウレア等を挙げることができる。前記含窒素複素環化合
物としては、例えば、イミダゾール、４−メチルイミダ
ゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、４−
メチル−２−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾー
ル、２−フェニルベンズイミダゾール等のイミダゾール
類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジ
ン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フ
ェニルピリジン、４−フェニルピリジン、２−メチル−
４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチ
ン酸アミド、キノリン、４−ヒドロキシキノリン、８−
オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類；ピペラジ
ン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン等のピペ
ラジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、
キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、３−ピ
ペリジノ−１，２−プロパンジオール、モルホリン、４
−メチルモルホリン、１，４−ジメチルピペラジン、
１，４−ジアザビシクロ[２．２．２] オクタン等を挙
げることができる。

【０１５３】これらの酸拡散制御剤は、単独でまたは２
種以上を混合して使用することができる。酸拡散制御剤
の配合量は、共重合体（Ａ）１００重量部に対して、通
常、１５重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さら
に好ましくは５重量部以下である。この場合、酸拡散制
御剤の配合量が１５重量部を超えると、レジストとして
の感度や露光部の現像性が低下する傾向がある。なお、
酸拡散制御剤の配合量が０．００１重量部未満である
と、プロセス条件によっては、レジストとしてのパター
ン形状や寸法忠実度が低下するおそれがある。

【０１５４】また、本発明の感放射線性樹脂組成物に
は、ドライエッチング耐性、パターン形状、基板との接
着性等をさらに改善する作用を示す添加剤を配合するこ
とができ、該添加剤は酸解離性基を有することができ
る。このような添加剤としては、例えば、アダマンタン
−１−カルボン酸ｔ−ブチル、アダマンタン−１−カル
ボン酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、アダマンタン−
１−カルボン酸α−ブチロラクトンエステル、アダマン
タン−１，３−ジカルボン酸ジ−ｔ−ブチル、アダマン
タン−１−酢酸ｔ−ブチル、アダマンタン−１−酢酸ｔ
−ブトキシカルボニルメチル、アダマンタン−１，３−
ジ酢酸ジ−ｔ−ブチル、２，５−ジメチル−２，５−ジ
（アダマンタン−１−イルカルボニルオキシ）ヘキサン
等のアダマンタン誘導体類；デオキシコール酸ｔ−ブチ
ル、デオキシコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチル、
デオキシコール酸２−エトキシエチル、デオキシコール
酸２−シクロヘキシルオキシエチル、デオキシコール酸
３−オキソシクロヘキシル、デオキシコール酸テトラヒ
ドロピラニル、デオキシコール酸メバロノラクトンエス
テル等のデオキシコール酸エステル類；リトコール酸ｔ
−ブチル、リトコール酸ｔ−ブトキシカルボニルメチ
ル、リトコール酸２−エトキシエチル、リトコール酸２
−シクロヘキシルオキシエチル、リトコール酸３−オキ
ソシクロヘキシル、リトコール酸テトラヒドロピラニ
ル、リトコール酸メバロノラクトンエステル等のリトコ
ール酸エステル類：アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジ
エチル、アジピン酸時プロピル、アジピン酸ジｎ−ブチ
ル、アジピン酸ジｔ−ブチル等のアルキルカルボン酸エ
ステル類；等を挙げることができる。これらの添加剤
は、単独でまたは２種以上を混合して使用することがで
きる。前記添加剤の配合量は、共重合体（Ａ）１００重
量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは３０
重量部以下である。この場合、該添加剤の配合量が５０
重量部を超えると、レジストとしての耐熱性が低下する
傾向がある。

【０１５５】また、本発明の感放射線性樹脂組成物に
は、塗布性、現像性等を改良する作用を示す界面活性剤
を配合することができる。前記界面活性剤としては、例
えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキ
シエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオ
レイルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニル
エーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリ
エチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面
活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工
業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５
（共栄社化学（株）製）、エフトップＥＦ３０１，同Ｅ
Ｆ３０３，同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）
製）、メガファックスＦ１７１，同Ｆ１７３（大日本イ
ンキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０，同Ｆ
Ｃ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡ
Ｇ７１０，サーフロンＳ−３８２，同ＳＣ−１０１，同
ＳＣ−１０２，同ＳＣ−１０３，同ＳＣ−１０４，同Ｓ
Ｃ−１０５，同ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等を挙
げることができる。これらの界面活性剤は、単独でまた
は２種以上を混合して使用することができる。前記界面
活性剤の配合量は、共重合体（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）と
の合計１００重量部に対して、通常、２重量部以下であ
る。

【０１５６】また、本発明の感放射線性樹脂組成物に
は、感度等を改良する作用を示す増感剤を配合すること
ができる。好ましい増感剤としては、例えば、カルバゾ
ール類、ベンゾフェノン類、ローズベンガル類、アント
ラセン類、フェノール類等を挙げることができる。これ
らの増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用す
ることができる。増感剤の配合量は、共重合体（Ａ）１
００重量部当り、好ましくは５０重量部以下である。さ
らに、前記以外の添加剤としては、ハレーション防止
剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙げることが
できる。

【０１５７】組成物溶液の調製 本発明の感放射線性樹脂組成物は、普通、その使用に際
して、全固形分濃度が、通常、３〜５０重量％、好まし
くは５〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したの
ち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過する
ことによって、組成物溶液として調製される。前記組成
物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、２−
ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノ
ン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３
−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブ
タノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状も
しくは分岐状のケトン類；シクロペンタノン、３−メチ
ルシクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシ
クロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、
イソホロン等の環状のケトン類；プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−
ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモ
ノアルキルエーテルアセテート類；２−ヒドロキシプロ
ピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、
２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロ
キシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピ
オン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブ
チル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２
−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキ
シプロピオン酸アルキル類；３−メトキシプロピオン酸
メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキ
シプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチ
ル等の３−アルコキシプロピオン酸アルキル類のほか、

【０１５８】ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルア
ルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコー
ル、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、
エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチ
レングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルア
セテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレン
グリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キ
シレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−
ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチ
ルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテ
ート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネー
ト、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸
エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピル
ビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベン
ジルエチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、
１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン等を挙げることができる。

【０１５９】これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を
混合して使用することができるが、中でも、直鎖状もし
くは分岐状のケトン類、環状のケトン類、プロピレング
リコールモノアルキルエーテルアセテート類、２−ヒド
ロキシプロピオン酸アルキル類、３−アルコキシプロピ
オン酸アルキル類、γ−ブチロラクトン等が好ましい。

【０１６０】レジストパターンの形成方法 本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型レジ
ストとして有用である。前記化学増幅型レジストにおい
ては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用
によって、共重合体（Ａ）中の酸解離性基が解離して、
カルボキシル基を生じ、その結果、レジストの露光部の
アルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部が
アルカリ現像液によって溶解、除去されることにより、
ポジ型のレジストパターンが得られる。本発明の感放射
線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際に
は、組成物溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、
スプレー塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シ
リコンウエハー、アルミニウムで被覆されたウエハー等
の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成
し、場合により予め加熱処理（以下、「ＰＢ」とい
う。）を行ったのち、所定のレジストパターンを形成す
るように該レジスト被膜に露光する。その際に使用され
る放射線としては、例えば、紫外線、ＫｒＦエキシマレ
ーザー（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザー
（波長１９３ｎｍ）、Ｆ₂ キシマレーザー（波長１５７
ｎｍ）、ＥＵＶ（極紫外線、波長１３ｎｍ等）等の遠紫
外線、電子線等の荷電粒子線、シンクロトロン放射線等
のＸ線等を適宜選択して使用することができるが、これ
らのうち遠紫外線、電子線が好ましい。また、露光量等
の露光条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成、各添
加剤の種類等に応じて、適宜選定される。本発明におい
ては、高精度の微細パターンを安定して形成するため
に、露光後に加熱処理（以下、「ＰＥＢ」という。）を
行うことが好ましい。このＰＥＢにより、共重合体
（Ａ）中の酸解離性基の解離反応が円滑に進行する。Ｐ
ＥＢの加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成に
よって変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５
０〜１７０℃である。

【０１６１】本発明においては、感放射線性樹脂組成物
の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−
１２４５２号公報等に開示されているように、使用され
る基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成し
ておくこともでき、また環境雰囲気中に含まれる塩基性
不純物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８
８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被
膜上に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技
術を併用することもできる。次いで、露光されたレジス
ト被膜を現像することにより、所定のレジストパターン
を形成する。現像に使用される現像液としては、例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモ
ニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチル
アミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、
メチルジエチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエ
タノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビ
シクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジ
アザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカ
リ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶
液が好ましい。前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、
１０重量％以下である。この場合、アルカリ性水溶液の
濃度が１０重量％を超えると、非露光部も現像液に溶解
するおそれがあり好ましくない。

【０１６２】また、前記アルカリ性水溶液からなる現像
液には、有機溶媒を添加することもできる。前記有機溶
媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルｉ−ブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、３−メチルシクロペンタノン、２，６−ジメ
チルシクロヘキサノン等の直鎖状、分岐状もしくは環状
のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ
−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−
ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペン
タノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオ
ール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール
類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；
酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエス
テル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、
フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミ
ド等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、単独
でまたは２種以上を混合して使用することができる。有
機溶媒の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００
容量％以下が好ましい。この場合、有機溶媒の使用量が
１００容量％を超えると、現像性が低下して、露光部の
現像残りが多くなるおそれがある。また、アルカリ性水
溶液からなる現像液には、界面活性剤等を適量添加する
こともできる。なお、アルカリ性水溶液からなる現像液
で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。

【０１６３】

【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて、本発明の
実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明
は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。こ
こで、部は、特記しない限り重量基準である。実施例お
よび比較例における各測定・評価は、下記の要領で行っ
た。 Ｍｗ：東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２
本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用
い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒド
ロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリ
スチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）により測定した。 放射線透過率：組成物溶液を石英ガラス上にスピンコー
トにより塗布し、１３０℃に保持したホットプレート上
で６０秒間ＰＢを行って形成した膜厚０．３４μｍのレ
ジスト被膜について、波長１９３ｎｍにおける吸光度か
ら、放射線透過率を算出して、遠紫外線領域における透
明性の尺度とした。

【０１６４】感度：ウエハー表面に膜厚８２０ÅのＡＲ
Ｃ２５（ブルワー・サイエンス（BrewerScience）社
製）膜を形成したシリコーンウエハー（ＡＲＣ２５）を
用い、各組成物溶液を、基板上にスピンコートにより塗
布し、ホットプレート上にて、表２に示す条件でＰＢを
行って形成した膜厚０．３４μｍのレジスト被膜に、ニ
コン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（開口数０．５
５）を用い、マスクパターンを介して、ＡｒＦエキシマ
レーザーを露光した。その後、表２に示す条件でＰＥＢ
を行ったのち、２．３８重量％のテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で６０秒間現像
し、水洗し、乾燥して、ポジ型のレジストパターンを形
成した。このとき、線幅０．１６μｍのライン・アンド
・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の線幅に形成
する露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度と
した。 解像度：最適露光量で解像される最小のレジストパター
ンの寸法を、解像度とした。

【０１６５】ドライエッチング耐性：組成物溶液をシリ
コーンウエハー上にスピンコートにより塗布し、乾燥し
て形成した膜厚０．５μｍのレジスト被膜に対して、Ｐ
ＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000）を用
い、エッチングガスをＣＦ₄ とし、ガス流量７５ｓｃｃ
ｍ、圧力２．５ｍＴｏｒｒ、出力２，５００Ｗの条件で
ドライエッチングを行って、エッチング速度を測定し、
比較例２に使用した共重合体からなる被膜のエッチング
速度に対する相対値により、相対エッチング速度を評価
した。エッチング速度が小さいほど、ドライエッチング
耐性に優れることを意味する。

【０１６６】密着性：線幅０．１６μｍの最適露光量に
おいて、線幅０．１５μｍでスペースのピッチが異なる
ライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ／１Ｓ、１Ｌ
／１．２Ｓ、１Ｌ／１．５Ｓ、１Ｌ／２Ｓ、１Ｌ／３
Ｓ、１Ｌ／５Ｓ、１Ｌ／１０Ｓ）を形成したとき、全て
のパターンが基板に密着している場合を良好とし、何れ
か１つ以上のパターンが基板から剥離した場合を不良と
した。 保存安定性：調製直後の組成物溶液に対する線幅０．１
６μｍの最適露光量をＥ(1) とし、該組成物溶液を室温
（２５℃）で１ヶ月間引き置いたのちに計測した線幅
０．１６μｍの最適露光量をＥ(2) としたとき、Ｅ(2)
／Ｅ(1) ≧０．９５以上の場合を良好とし、Ｅ(2) ／Ｅ
(1) ＜０．９５の場合を不良とした。

【０１６７】合成例１ １００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル
シクロペンチル１７．１９ｇ（７０モル％）、下記式
（ii-1) で表される化合物（以下、「単量体（ii-1) 」
という。）２．８１ｇ（３０モル％）、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１
５．０ｇを入れ、さらにｔ−ブチルパーオキシイソプロ
ピルモノカーボネートの７５重量％炭化水素系溶液（日
本油脂（株）製）１０．４７ｇを入れて、１時間窒素パ
ージした。その後、反応溶液を攪拌しながら１２０℃に
保持して、６時間重合した。重合終了後、反応溶液を水
冷することにより３０℃以下に冷却して、ＰＧＭＥＡ２
５ｇで希釈したのち、メタノール３００ｇ中へ投入し、
析出した淡黄色粉末をろ別した。その後、炉別した淡黄
色粉末をメタノール１００ｇと混合する洗浄処理を２回
行ったのち、ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、淡
黄色粉末の樹脂９．０２ｇ（収率４５．１重量％）を得
た。この樹脂はＭｗ５，０００であり、¹³Ｃ−ＮＭＲ測
定により、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−
５−カルボン酸１−メチルシクロペンチルおよび単量体
（ii-1) の共重合モル比が６４／３６の共重合体である
ことが確認された。この樹脂を共重合体（Ａ-1) とす
る。図１に共重合体（Ａ-1) の¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトル
を示す。また、共重合体（Ａ-1) の赤外吸収スペクトル
分析により、ラクトン構造が存在することを確認した。
ラクトン構造中のカルボニル基の吸収：１７７４ｃ
ｍ^-1、エステル構造中のカルボニル基の吸収：１７２４
ｃｍ^-1であった。図２に共重合体（Ａ-1) の赤外吸収ス
ペクトルを示す。

【０１６８】

【化２０】

【０１６９】合成例２ １００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル
シクロペンチル９．８０ｇ（４０モル％）、単量体（ii
-1) ２．８０ｇ（３０モル％）、下記式（i-2-1)で表さ
れる化合物（以下、「単量体（i-2-1)」という。）７．
４０ｇ（３０モル％）、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１５．０ｇを入
れ、さらにｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカー
ボネートの７５重量％炭化水素系溶液（日本油脂（株）
製）１０．４７ｇを入れて、１時間窒素パージした。そ
の後、反応溶液を攪拌しながら１２０℃に保持して、６
時間重合した。重合終了後、反応溶液を水冷することに
より３０℃以下に冷却して、ＰＧＭＥＡ２５ｇで希釈し
たのち、メタノール３００ｇ中へ投入し、析出した淡黄
色粉末をろ別した。その後、炉別した淡黄色粉末をメタ
ノール１００ｇと混合する洗浄処理を２回行ったのち、
ろ別し、５０℃にて１７時間乾燥して、淡黄色粉末の樹
脂１０．２４ｇ（収率５１．２重量％）。この樹脂はＭ
ｗが８，２００であり、ビシクロ［２．２．１］ヘプト
−２−エン−５−カルボン酸１−メチルシクロペンチ
ル、単量体（ii-1) および単量体（i-2-1)の共重合モル
比が３９／２９／３２の共重合体であった。この樹脂を
共重合体（Ａ-2) とする。図３に共重合体（Ａ-2) の¹³
Ｃ−ＮＭＲスペクトルを示す。また、共重合体（Ａ-2)
の赤外吸収スペクトル分析により、ラクトン構造が存在
することを確認した。ラクトン構造中のカルボニル基の
吸収：１７８８ｃｍ^-1、エステル構造中のカルボニル基
の吸収：１７３６ｃｍ^-1であった。図４に共重合体（Ａ
-2) の赤外吸収スペクトルを示す。

【０１７０】

【化２１】

【０１７１】合成例３ １００ミリリットルの三口フラスコに、ビシクロ［２．
２．１］ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−メチル
シクロペンチル１１．５４ｇ（５５モル％）、５−ヒド
ロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン１．０
５ｇ（１０モル％）、単量体（i-2-1)７．４１ｇ（３５
モル％）、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート（ＰＧＭＥＡ）１５．０ｇを入れ、さらにｔ−
ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネートの７５
重量％炭化水素系溶液（日本油脂（株）製）１０．４７
ｇを入れて、１時間窒素パージした。その後、反応溶液
を攪拌しながら１２０℃に保持して、６時間重合した。
重合終了後、反応溶液を水冷することにより３０℃以下
に冷却して、ＰＧＭＥＡ２５ｇで希釈したのち、メタノ
ール３００ｇ中へ投入し、析出した淡黄色粉末をろ別し
た。その後、炉別した淡黄色粉末をメタノール１００ｇ
と混合する洗浄処理を２回行ったのち、ろ別し、５０℃
にて１７時間乾燥して、淡黄色粉末の樹脂８．４８ｇ
（収率４２．４重量％）。この樹脂はＭｗが８，１００
であり、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン−５
−カルボン酸１−メチルシクロペンチル、５−ヒドロキ
シビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エンおよび単量
体（i-2-1)の共重合モル比が５２／９／３９の共重合体
であった。この樹脂を共重合体（ａ-1) とする。

【０１７２】合成例４ メタクリル酸２−メチルアダマンタン−２−イル５０．
５５ｇ（５０モル％）、メタクリル酸３−ヒドロキシア
ダマンタン−１−イル２５．４９ｇ（２５モル％）、下
記式（iii-1)で表される化合物（以下、「単量体（iii-
1)」という。）２３．９７ｇ（２５モル％）を２−ブタ
ノン２００ｇに溶解し、さらにアゾビスイソ吉草酸メチ
ル３．９７ｇを添加した単量体溶液を準備した。別に、
２−ブタノン１００ｇを入れた１，０００ミリリットル
の三口フラスコを３０分間窒素パージしたのち、攪拌し
ながら８０℃に加熱して、前記単量体溶液を滴下漏斗を
用い、１０ミリリットル／５分の速度で滴下した。滴下
開始時を重合開始時点とし、重合を５時間実施した。重
合終了後、反応溶液を水冷して３０℃以下に冷却したの
ち、メタノール２，０００ｇ中へ投入し、析出した白色
粉末をろ別した。その後、ろ別した白色粉末をメタノー
ル４００ｇと混合する洗浄操作を２回行ったのち、ろ別
し、５０℃にて１７時間乾燥して、白色粉末状の樹脂７
４ｇ（収率７４重量％）を得た。この樹脂は、Ｍｗが
９，８００であり、メタクリル酸２−メチルアダマンタ
ン−２−イル、メタクリル酸３−ヒドロキシアダマンタ
ン−１−イルおよび単量体（iii-1)の共重合モル比が４
５．２／２５．６／２９．２の共重合体であった。この
樹脂を共重合体（ａ-2) とする。

【０１７３】

【化２２】

【０１７４】合成例５ ビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エン−５−カルボ
ン酸１−メチルシクロペンチル２５．９３ｇ、無水マレ
イン酸１６．４９ｇ、５−ｎ−ブチルビシクロ[ ２．
２．１ ]ヘプト−２−エン７．５８ｇ、酢酸ｎ−ブチル
５０ｇを、窒素雰囲気下で混合して均一溶液としたの
ち、アゾビスイソ吉草酸ジメチル４．４１ｇを加えて、
７０℃にて６時間重合した。重合終了後、反応溶液を冷
却し、酢酸ｎ−ブチル１００ｇを加えて均一溶液とした
のち、ｎ−ヘプタン５００ｇ中へ投入し、析出した樹脂
をろ別して、洗浄し、真空乾燥することにより、樹脂４
０ｇ（収率８０重量％）を得た。この樹脂は、Ｍｗが
６，６００であり、¹³Ｃ−ＮＭＲ測定により、ビシクロ
[２．２．１ ]ヘプト−２−エン−５−カルボン酸１−
メチルシクロペンチル、無水マレイン酸および５−ｎ−
ブチルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−２−エンの共重
合モル比が３２．５／５１．２／１６．３の共重合体で
あった。この樹脂を共重合体（ａ-3) とする。

【０１７５】実施例１および比較例１〜３ 表１に示す成分からなる各組成物溶液について、各種評
価を行った。評価結果を表３に示す。表１における共重
合体（Ａ-1) および共重合体（ａ-1) 〜（ａ-3) 以外の
成分は、以下のとおりである。 酸発生剤（Ｂ） Ｂ-1：１−（４−ｎ−ブトキシナフタレン−２−イル）
テトラヒドロチオフェニウムノナフルオロ−ｎ−ブタン
スルホネート 酸拡散制御剤（Ｃ） Ｃ-1：Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−フェニルベン
ズイミダゾール 溶剤 Ｅ-1：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート Ｅ-2：２−ヘプタノン

【０１７６】

【表１】

【０１７７】

【表２】

【０１７８】

【表３】

【０１７９】

【発明の効果】本発明の共重合体（Ａ）を含有する感放
射線性樹脂組成物は、活性放射線、特にＡｒＦエキシマ
レーザー（波長１９３ｎｍ）に代表される遠紫外線に感
応する化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明
性が高く、かつ感度、解像度等に優れ、またパターン形
状も良好であり、レジストとして十分な基本特性を有す
るとともに、第一に、ノルボルナン骨格の含有比率が高
いため、ドライエッチング時のエッチング速度が従来の
メタクリル系樹脂を用いたレジストに比べて小さく、か
つエッチング後の表面平滑性も優れており、第二に、主
鎖にラクトン骨格を有するため、ノルボルネン系繰り返
し単位のみからなる付加重合系樹脂を用いたレジストに
比べて、レジストとしての基板への密着性や現像性が著
しく向上し、第三に、主鎖に無水マレイン酸に由来する
ような酸無水物構造をもたないため、ノルボルネンと無
水マレイン酸との交互共重合系樹脂ないしそれに類する
樹脂を用いたレジストのように水分による酸無水物構造
の開環により促進されるレジストの経時的な劣化を来た
すことがないため、保存安定性に優れている。したがっ
て、本発明の感放射線性樹脂組成物は、現在一般に用い
られているＡｒＦレジスト組成物の樹脂成分（（メタ）
アクリル系、交互重合系、付加重合系）の欠点を克服す
ることができ、今後さらに微細化が進むと予想される半
導体デバイスの製造に極めて好適に使用することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】合成例１で得た共重合体の¹³Ｃ−ＮＭＲスペク
トルを示す図である。

【図２】合成例１で得た共重合体の赤外吸収スペクトル
を示す図である。

【図３】合成例２で得た共重合体の¹³Ｃ−ＮＭＲスペク
トルを示す図である。

【図４】合成例２で得た共重合体の赤外吸収スペクトル
を示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA03 AA04 AA09 AA11 AA14 AB16 AC04 AC08 AD03 BE00 BE10 BG00 CB08 CB41 CB55 CB56 FA17 4J015 BA05 BA06 BA07 BA08 BA10 BA11 4J100 AR09P AR11P AR32Q BA02P BA03P BA05P BA05Q BA06Q BA11P BA11Q BA15P BA16P BA20P BC02P BC03P BC04P BC07P BC08P BC09P BC53P CA04 CA05 DA01 DA04 DA28 DA61 FA03 FA19 JA01 JA03 JA32 JA38

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１―１）で表される繰り返
   し単位および下記一般式（１−２）で表される繰り返し
   単位の群から選ばれる少なくとも１種と、下記一般式
   （２）で表される繰り返し単位とを有し、一般式（１―
   １）で表される繰り返し単位と一般式（１−２）で表さ
   れる繰り返し単位との合計含有率が全繰り返し単位に対
   して３０モル％を超える、ゲルパーミエーションクロマ
   トグラフィー（ＧＰＣ）による重量平均分子量が１，０
   ００〜３００，０００である共重合体。 【化１】 〔一般式（１―１）において、各Ｒ¹ は相互に独立に炭
   素数４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘
   導体または炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアル
   キル基を示し、かつＲ¹ の少なくとも１つが該脂環式炭
   化水素基もしくはその誘導体であるか、あるいは何れか
   ２つのＲ¹ が相互に結合して、それぞれが結合している
   炭素原子と共に炭素数４〜２０の２価の脂環式炭化水素
   基もしくはその誘導体を形成し、残りのＲ¹ が炭素数１
   〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または炭素数
   ４〜２０の１価の脂環式炭化水素基もしくはその誘導体
   を示し、ｎは０〜２の整数である。一般式（１―２）に
   おいて、Ｒ² は炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状
   の１価の有機基、炭素環もしくは複素環の脂環式骨格を
   有する炭素数４〜２０の１価の有機基｛但し、一般式
   （１―１）における−Ｃ（Ｒ¹)₃ に相当する基を除
   く。｝、またはラクトン骨格を有する１価の有機基を示
   し、ｍは０〜２の整数である。一般式（２）において、
   Ｒ³ は水素原子、炭素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状
   のアルキル基、または炭素数１〜５の直鎖状もしくは分
   岐状のアルコキシル基を示し、ｐは０〜４の整数であ
   る。〕
2. 【請求項２】 一般式（１−１）における−Ｃ（Ｒ¹)
   ₃ に相当する構造が下記式（３-1) 〜（３-4) で表され
   る基および下記式（４-1) 〜（４-4) で表される基の群
   から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、
   請求項１に記載の共重合体。 【化２】 〔式（３-3) および（３-4) において、ｑおよびｒはそ
   れぞれ０〜２の整数である。〕 【化３】 〔式（４-3) および（４-4) において、ｑおよびｒはそ
   れぞれ０〜２の整数である。〕
3. 【請求項３】 一般式（２）で表される繰り返し単位が
   下記一般式（２−１）で表される繰り返し単位であるこ
   とを特徴とする、請求項１に記載の共重合体。 【化４】 〔一般式（２−１）において、Ｒ³ は水素原子、炭素数
   １〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または炭
   素数１〜５の直鎖状もしくは分岐状のアルコキシル基を
   示し、ｐは０〜４の整数である。〕
4. 【請求項４】 下記一般式（ｉ−１）で表される化合物
   および下記一般式（ｉ−２）で表される化合物の群から
   選ばれる少なくとも１種と、下記一般式（ii) で表され
   る化合物とを、過酸化物を重合開始剤として重合するこ
   とを特徴とする、請求項１に記載の共重合体の製造方
   法。 【化５】 〔各式中、Ｒ¹ およびｎは請求項１に記載の一般式（１
   ―１）のそれぞれＲ¹ およびｎと同義であり、Ｒ² およ
   びｍは請求項１に記載の一般式（１―２）のそれぞれＲ
   ² およびｍと同義であり、Ｒ³ およびｐは請求項１に記
   載の一般式（２）のそれぞれＲ³ およびｐと同義であ
   る。〕
5. 【請求項５】 （Ａ）請求項１に記載の共重合体であっ
   て、それ自体アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性であ
   り、酸の作用によりアルカリ可溶性となる共重合体、お
   よび（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有することを特徴と
   する感放射線性樹脂組成物。