JP2951842B2 - 光走査装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レーザプリンタ、レー
ザファクシミリ、デジタル複写機等に利用するレーザ光
を使用した光走査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、簡易で高品質な印刷方法として電
子写真法が開発され、これを実現するものとしては光走
査装置が知られている。例えば、ポストオブジェクティ
ブ型の光走査装置は、半導体レーザ発振器の出射光路上
にコリメータレンズと結像レンズとシリンドリカルレン
ズとを順次配置し、このシリンドリカルレンズの透過光
路上に駆動モータで回転自在に軸支したポリゴンミラー
の反射面を位置させ、このポリゴンミラーの主走査光路
上に補正レンズを配置し、この補正レンズの透過光路上
に回転自在な感光ドラムの副走査方向に移動自在な被走
査面を位置させた構造となっている。

【０００３】そして、このような光走査装置では、その
光学特性を向上させるためには各種の光学部品を高精度
に位置決め保持する必要があるので、例えば、特開昭63
−210807号公報に開示された光走査装置では、半導体レ
ーザ発振器にコリメータレンズ等を一体化した光出射ユ
ニットや、ポリゴンミラーを回転自在に軸支する駆動モ
ータや、反射ミラーや、補正レンズなどを、扁平なボッ
クス状の一個のハウジングに共通に装着する構造となっ
ている。

【０００４】なお、この光走査装置では、ポリゴンミラ
ーの主走査光路に光出射ユニットが干渉することを防止
するため、この光出射ユニットをポリゴンミラーの側方
に配置するようになっている。さらに、この光走査装置
では、ポリゴンミラーの主走査光路を反射ミラーで下方
に偏向してハウジングの外方に出射するので、このハウ
ジングの下方に感光ドラムなどの被走査面を位置させる
ようになっている。

【０００５】また、このような光走査装置では、ポリゴ
ンミラーの面倒れを補正レンズなどで補正するようにな
っているが、この面倒れを補正するためにはポリゴンミ
ラーの反射面上でレーザ光を副走査方向に結像する必要
があるので、この結像をシリンドリカルレンズで実現し
ている。しかし、このような光走査装置は、実際には半
導体レーザ発振器の非点収差やコリメータレンズの光学
特性などの部品格差のため、実際にはシリンドリカルレ
ンズの焦点位置がポリゴンミラーの反射面から変動する
ことがある。

【０００６】上述のような誤差を解消してポリゴンミラ
ーの反射面にシリンドリカルレンズでレーザ光を結像す
るため、例えば、特開平 4-75015号公報に開示された光
走査装置では、ベースの上面に形成したＶ溝に、下面が
円筒状のレンズホルダをスライド自在に装着し、このレ
ンズホルダの上面に光軸方向がスライド方向と一致する
ようにシリンドリカルレンズを立設している。このよう
にすることで、この光走査装置では、シリンドリカルレ
ンズをレンズホルダと共に光軸方向にスライド自在に支
持して位置決めするようになっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】特開昭63−210807号公
報に開示された光走査装置は、一個のハウジングに各種
の光学部品を共通に装着することで、各種の光学部品を
高精度に配置して光学特性を向上させるようになってい
る。

【０００８】しかし、この光走査装置では、実際には各
種の光学部品を扁平なボックス状で平面面積が過大なハ
ウジングに装着するようになっているので、製造誤差や
経年変化や温度伸縮などによるハウジングの変形が多大
であり、光学部品の位置精度が低下して光学特性を阻害
している。

【０００９】さらに、この光走査装置では、主走査光路
に干渉することを防止するために光出射ユニットをポリ
ゴンミラーの側方に配置しているが、これでは光学系が
主走査光路の中心軸に対して左右非対称となるので、光
学系の構造が複雑化して生産性が低下している。

【００１０】また、このような光走査装置では、被走査
面に入射する主走査光の光学特性を向上させるために
は、ハウジングに順次組付ける多数の光学部品の位置を
組立工程中で適宜調節することが望ましい。しかし、上
記公報の光走査装置では、多数の光学部品を扁平なボッ
クス状の一個のハウジングの内部に組付ける構造となっ
ているので、このハウジングの内部に調整用の光学機器
を配置することが困難な場合があり、その作業能率が低
下して生産性を阻害している。

【００１１】さらに、このような光走査装置は、実際に
は電子写真装置に組込んで使用することになるが、この
電子写真装置に別体として組込んだ感光ドラムと光走査
装置との相対位置に誤差が発生することがある。このよ
うな場合、周囲に現像器や帯電器などを配置している感
光ドラムの位置は調節困難であるので、光走査装置の位
置を調節することになるが、この光走査装置は大形のユ
ニットで電子写真装置のフレームとの接合箇所も複数で
あるので、これは作業が極めて煩雑で電子写真装置の生
産性を阻害することになる。

【００１２】また、特願平 4-75015号に開示された光走
査装置などは、半導体レーザ発振器の非点収差やコリメ
ータレンズの光学特性などに部品格差が発生しても、ス
ライド自在で位置決めできるシリンドリカルレンズでレ
ーザ光をポリゴンミラーの反射面上に結像できるように
なっている。

【００１３】しかし、上述のようにシリンドリカルレン
ズを立設したレンズホルダを円筒状に形成してベースの
上面に形成したＶ溝にスライド自在に装着する機構は、
その構造が複雑で光走査装置の生産性を阻害することに
なる。

【００１４】また、上述のようにシリンドリカルレンズ
を光軸方向にスライド自在に支持する機構は、その精度
を良好に確保するためにはスライドする部分を光軸方向
に長く形成する必要がある。このため、上述のような光
走査装置では、シリンドリカルレンズを光軸方向にスラ
イド自在に支持する機構が大形化して小形軽量化を阻害
しており、その前後にコリメータレンズなどを近接配置
することも困難となっている。

【００１５】本発明は、ポリゴンミラーの主走査光路に
半導体レーザ発振器などが干渉することなく光学系を主
走査光路の中心軸に対して左右対称に形成することがで
きるので、小形軽量で光学特性と生産性とが共に良好な
光走査装置を得るものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
半導体レーザ発振器の出射光路上に少なくともコリメー
タレンズと結像レンズとシリンドリカルレンズとを介し
て回転自在なポリゴンミラーの反射面を位置させ、この
ポリゴンミラーの主走査光路上に少なくとも補正レンズ
を介して副走査方向に移動自在な被走査面を位置させた
光走査装置において、前記ポリゴンミラーをスキャナモ
ータで回転自在に軸支し、このポリゴンミラーを包囲す
るハウジングに、前記ポリゴンミラーの回転軸を含む平
面内に前記半導体レーザ発振器と前記コリメータレンズ
と折返しミラーと前記補正レンズとの各々の光軸中心を
位置させて装着し、かつ、前記スキャナモータの上面よ
り上方に前記半導体レーザ発振器と前記コリメータレン
ズと前記シリンドリカルレンズとを配置した。

【００１７】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、ポリゴンミラーを駆動モータで回転自在に
軸支し、この駆動モータのベースに装着して前記ポリゴ
ンミラーを包囲するハウジングに半導体レーザ発振器と
コリメータレンズとシリンドリカルレンズと折返しミラ
ーと補正レンズとを装着し、この補正レンズの透過光路
を被走査面に偏向する少なくとも一個の外部反射ミラー
を前記ハウジングの外面に装着する外部フレームに装着
した。

【００１８】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、被走査面に直接的に対向する一個の外部反
射ミラーを変位自在に支持して位置決め保持するミラー
調整機構を外部フレームに設けた。

【００１９】請求項４記載の発明は、請求項１，２又は
３記載の発明において、シリンドリカルレンズを光軸と
直交する平面上で移動自在に支持して位置決めするレン
ズ支持機構を設けた。

【００２０】請求項５記載の発明は、請求項４記載の発
明において、レンズ支持機構に連通する開口穴をハウジ
ングに形成した。

【００２１】

【作用】請求項１記載の発明は、ポリゴンミラーの主走
査光路に半導体レーザ発振器などが干渉することなく光
学系を主走査光路の中心軸に対して左右対称に形成する
ことができる。

【００２２】請求項２記載の発明は、各種部品を組付け
たハウジングをベースに装着しない状態や、このベース
に装着したハウジングに外部フレームを装着しない状態
などで、測定機器をハウジングの内部や外部に配置して
光学系の調整作業を簡易かつ高精度に行うことができ
る。

【００２３】請求項３記載の発明は、電子写真装置に組
込んだ場合などに光走査装置と被走査面との相対位置の
誤差を外部反射ミラーの位置調整で簡易に補正すること
ができる。

【００２４】請求項４記載の発明は、レンズ支持機構で
シリンドリカルレンズを光軸と直交する平面上で位置調
整して各種の光学収差を補正することができる。

【００２５】請求項５記載の発明は、ハウジングに形成
した開口穴からレンズ支持機構を操作してシリンドリカ
ルレンズを位置調整することができる。

【００２６】

【実施例】本発明の第一の実施例を図１ないし図５に基
づいて説明する。まず、このポストオブジェクティブ型
の光走査装置１では、図１ないし図３に例示するよう
に、平板状のベース２上に三個のネジ３でハウジング４
を装着し、このハウジング４の上部に光出射ユニット５
を下方に傾斜させて装着している。ここで、この光出射
ユニット５は、基板６に実装した半導体レーザ発振器７
を金属製のヒートシンク８に固定し、このヒートシンク
８にスライド自在に装着してから接着等で固定した円筒
形のコリメータ鏡筒９にコリメータレンズ１０を固定し
た構造となっている。

【００２７】この光走査装置１では、上面に二つの凸部
１１と二つのネジ孔１２とを形成した内部フレーム１３
の下部にシリンドリカルレンズ１４と結像レンズである
平凸レンズ１５と折返しミラー１６とを下方に傾斜させ
て固定し、前記内部フレーム１３を前記ハウジング４の
上部下面の二つの凹部１７の位置に二個のネジ１８で装
着することで、前記光出射ユニット５の光軸上に前記シ
リンドリカルレンズ１４と前記平凸レンズ１５と前記折
返しミラー１６とを順次配置している。

【００２８】さらに、この光走査装置１では、前記ベー
ス２上にスペーサ１９を介して四個のネジ２０で装着し
た基板２１を一部として駆動モータであるスキャナモー
タ２２を形成し、このスキャナモータ２２の垂直な回転
軸２３にポリゴンミラー２４を水平方向に回転自在に軸
支している。つまり、前記ベース２は実際には前記スキ
ャナモータ２２の一部であり、これを外方に拡張するこ
とで前記ハウジング４を装着できるようにしている。

【００２９】なお、この光走査装置１では、前記ポリゴ
ンミラー２４の四つの反射面２５には、前記折返しミラ
ー１６の反射光路が水平より微小に上方から入射するよ
うになっているので、これは回転する反射面２５に対し
て入射光と出射光との光軸が傾斜したスキュー光学系と
なっている。また、このポリゴンミラー２４は、四つの
反射面２５の各々が断面形状が楕円形となる楕円筒面と
なっている。前記平凸レンズ１５は、入射するビーム光
を前記ポリゴンミラー２４の前記反射面２５より後方の
仮想収束点上に収束し、前記シリンドリカルレンズ１４
は、副走査方向のみ前記反射面２５へ収束するようにな
っている。

【００３０】この光走査装置１では、前記ハウジング４
の前面に形成した長方形の貫通孔２６に二個のネジ２７
で補正レンズ２８を下方に傾斜させて装着することで、
図１に例示するように、この補正レンズ２８を前記ポリ
ゴンミラー２４の反射面２５から斜め下方に位置する走
査光路上に配置している。なお、この光走査装置１の前
記補正レンズ２８は、各種の光学特性を改善するために
極めて特殊な形状となっているので詳細には後述する。

【００３１】この光走査装置１では、上述のような構造
とすることで、前記ポリゴンミラー２４の回転軸を含む
平面内に、前記半導体レーザ発振器７と前記コリメータ
レンズ１０と前記シリンドリカルレンズ１４と前記平凸
レンズ１５と前記折返しミラー１６と前記補正レンズ２
８との各々の光軸中心が位置し、かつ、前記ポリゴンミ
ラー２４の上面より上方に、前記半導体レーザ発振器７
と前記コリメータレンズ１０と前記シリンドリカルレン
ズ１４と前記平凸レンズ１５とが位置していることにな
る。

【００３２】より詳細には、この光走査装置１では、前
記半導体レーザ発振器７と前記コリメータレンズ１０と
が、前記ポリゴンミラー２４の上面の上方に位置してお
り、前記シリンドリカルレンズ１４と前記平凸レンズ１
５とは、前記ポリゴンミラー２４の上面の上方より微少
に外方に位置しているが、前記スキャナモータ２２の上
面の上方には位置している。

【００３３】なお、ここで云うポリゴンミラー２４の回
転軸とは、その概念的な回転の中心軸であり、ポリゴン
ミラー２４を軸支する部品である回転軸２３を意味する
ものではない。

【００３４】この光走査装置１では、図１ないし図３に
例示したように、外部フレーム２９の前面両側に形成し
た開口凹部３０に、主走査方向に細長い第一の外部反射
ミラー３１を両端部で弾発的に装着している。さらに、
前記外部フレーム２９の下部に形成した円形の貫通孔３
２に、主走査方向に細長い第二の外部反射ミラー３３
を、その両端に予め固定したミラー調整機構である円筒
部材３４で副走査方向に回動自在に支持してから接着等
で位置決め保持している。この円筒部材３４は前記第二
の外部反射ミラー３３の両端に別体として固定してお
り、その外側面にはマイナスドライバ（図示せず）での
調節作業用の角度調整溝３５を形成してある。また、前
記外部フレーム２９には、前記第一の外部反射ミラー３
１の一方の側方に小形の反射ミラー３６を固定し、この
反射ミラー３６と対向する前記第一の外部反射ミラー３
１の他方の側方には書出し位置検知用光センサ３７を装
着している。

【００３５】この光走査装置１では、前記外部フレーム
２９を前記ハウジング４の前面に二個のネジ３８で装着
することで、前記ポリゴンミラー２４の反射面２５から
斜め下方に位置する反射光路上に前記補正レンズ２８を
介して前記反射ミラー３１，３６が位置し、この反射ミ
ラー３６の反射光路上に前記書出し位置検知用光センサ
３７が位置すると共に前記第一の外部反射ミラー３１の
反射光路上に前記第二の外部反射ミラー３３が位置する
ようになっている。さらに、この第二の外部反射ミラー
３３の反射光路上には、副走査方向に回転自在に軸支し
た感光ドラム３９の被走査面が位置している。

【００３６】また、この光走査装置１では、図４に例示
するように、前記補正レンズ２８の光入射面４０は、主
走査方向に平行な回転軸４１が主走査光路の中央から副
走査方向に変位して包絡線が偶数次の高次曲線となる回
転対称曲面で形成し、前記補正レンズ２８の光出射面４
２は、主走査方向と副走査方向とに直交する回転軸４３
が主走査光路の中央に位置して包絡線が偶数次の高次曲
線となる回転対称曲面で形成している。

【００３７】より詳細には、この光走査装置１では、図
５に例示するように、前記補正レンズ２８の光入射面４
０の中央点から副走査方向に変位量△だけ変位した原点
Ｏ₁上に主走査方向と平行な基準軸Ｘ₁ を設定すると共
に主走査方向と副走査方向とに直交する基準軸Ｙ₁ を設
定すると、この光入射面４０の副走査方向と直交する断
面形状をＹ₁ Ｏ₁ Ｘ₁ 座標上で形成する八次の高次曲線
の多項式は、 Ｙ₁ ＝α₂ Ｘ₁ ²＋α₄ Ｘ₁ ⁴＋α₆ Ｘ₁ ⁶＋α₈ Ｘ₁ ⁸−ｅ₁ となっている。

【００３８】また、この光走査装置１では、前記補正レ
ンズ２８の光出射面４２の中央点Ｏ₂ 上に主走査方向と
副走査方向とに直交する基準軸Ｙ₂ を設定すると共に距
離ｅ₂ の位置に主走査方向と平行な基準軸Ｘ₂ を設定す
ると、この光出射面４２の副走査方向と直交する断面形
状を形成する八次の高次曲線の多項式は、 Ｙ₂ ＝β₂ Ｘ₂ ²＋β₄ Ｘ₂ ⁴＋β₆ Ｘ₂ ⁶＋β₈ Ｘ₂ ⁸−ｅ₂ となっている。

【００３９】このような構成において、この光走査装置
１では、半導体レーザ発振器７が出射するレーザ光をコ
リメータレンズ１０で平行光束化してからシリンドリカ
ルレンズ１４と平凸レンズ１５とで収束して回転するポ
リゴンミラー２４の反射面２５で主走査方向に偏向走査
し、この主走査光を補正レンズ２８で光学補正して回転
する感光ドラム３９の副走査移動する被走査面に入射さ
せる。

【００４０】このようにすることで、この感光ドラム３
９の被走査面には、光走査による主走査線を副走査方向
に順次形成するので、例えば、この感光ドラム３９の被
走査面に帯電器や現像器を対向配置し、帯電器の放電で
帯電した感光ドラム３９の被走査面に光走査で静電潜像
を形成し、この静電潜像を現像器から供給するトナーで
現像して記録媒体に転写することで、電子写真法による
画像形成を実行することができる。なお、この光走査装
置１では、ポリゴンミラー２４の走査光を反射ミラー３
６で反射して書出し位置検知用光センサ３７で受光する
ことで、この書出し位置検知用光センサ３７の検知タイ
ミングに従って上述のような画像形成を行うようになっ
ている。

【００４１】ここで、この光走査装置１では、上述のよ
うに半導体レーザ発振器７やコリメータレンズ１０やシ
リンドリカルレンズ１４などの出射光路を折返しミラー
１６で偏向することで、半導体レーザ発振器７やコリメ
ータレンズ１０やシリンドリカルレンズ１４などの光学
部品をポリゴンミラー２４の回転軸が位置する平面内で
上方に配置している。

【００４２】このようにすることで、この光走査装置１
では、ポリゴンミラー２４の主走査光路に半導体レーザ
発振器７などが干渉することなく光学系を主走査光路の
中心軸に対して左右対称に形成することができ、その光
学系の構造が簡易なので生産性の向上に寄与することが
できる。

【００４３】さらに、この光走査装置１では、上述のよ
うにすることでハウジング４を平面面積がスキャナモー
タ２２と同等になるほど小形化しているので、このハウ
ジング４は製造誤差や経年変化や温度伸縮などによる変
形が微小である。そこで、この光走査装置１では、ハウ
ジング４に装着した半導体レーザ発振器７やポリゴンミ
ラー２４や補正レンズ２８などの光学部品の相対位置が
高精度なので、その光学特性が極めて良好である。

【００４４】また、この光走査装置１では、上述のよう
にポリゴンミラー２４を回転自在に軸支するスキャナモ
ータ２２のベース２を外方に拡張し、このベース２に装
着した一個のハウジング４に半導体レーザ発振器７やコ
リメータレンズ１０や補正レンズ２８等の光学部品を装
着し、このように各種の光学部品を装着したハウジング
４の外面に、補正レンズ２８の透過光路を感光ドラム３
９の被走査面に偏向する第一・第二の外部反射ミラー３
１，３３を装着している。

【００４５】このようにすることで、この光走査装置１
では、詳細には後述するように、光出射ユニット５やシ
リンドリカルレンズ１４や平凸レンズ１５などを組付け
たハウジング４をスキャナモータ２２のベース２に装着
しない状態で、ポリゴンミラー２４の反射面２５の位置
に二次元エリアセンサ（図示せず）を配置するなどして
光出射ユニット５の一次元調整やシリンドリカルレンズ
１４の位置調整などを行うことができる。さらに、スキ
ャナモータ２２のベース２に装着したハウジング４の前
面に外部フレーム２９を装着しない状態で、補正レンズ
２８の焦点位置にビーム径評価装置（図示せず）などを
配置して主走査光のビーム径を評価することで、光出射
ユニット５の一次元調整などを行うこともできるので、
この光走査装置１は、良好な生産性で光学部品を高精度
に配置して光学特性の向上に寄与することができる。

【００４６】さらに、この光走査装置１では、第二の外
部反射ミラー３３を両端の円筒部材３４で副走査方向に
回動自在に支持して接着等で位置決め保持している。

【００４７】このようにすることで、この光走査装置１
では、例えば、製造誤差や経年変化等のために電子写真
装置に組込んだ光走査装置１と感光ドラム３９との相対
位置に誤差が発生しても、第二の外部反射ミラー３３の
位置調整で光走査装置１の主走査光を感光ドラム３９の
被走査面に適正に照射することができる。このようにす
ることで、大形で移動が困難な光走査装置１と感光ドラ
ム３９との位置を調節することなく簡易な作業で光学系
を良好に調整することができるので、この光走査装置１
は、電子写真装置の印刷品質や生産性の向上に寄与する
ことができる。

【００４８】なお、この光走査装置１では、補正レンズ
２８の光入射面４０の形状中心を副走査方向に変位量△
だけ変位させることで、この補正レンズ２８のコマ収差
によるスポット形状の変形や、補正レンズ２８の内部反
射による迷光などの影響を軽減し、その画像品質の向上
に寄与するようになっている。そこで、このような光走
査装置１に関して、本出願人が具体的なパラメータを設
定したシミュレーションで各種の光学特性を算定したと
ころ、これは何れも極めて良好であることが確認でき
た。

【００４９】また、この光走査装置１に関して、本出願
人が補正レンズ２８の二度の内部反射で光出射面４２か
ら出射する迷光の光学特性を調査したところ、これは本
来の走査光に比較して副走査方向の変位が大きいことを
確認できた。つまり、この光走査装置１では、上述のよ
うな迷光を本来の走査光に対して副走査方向に大きく変
位した位置に出射できるので、これが感光ドラム３９に
入射しないように対策を施すことが極めて簡易であり、
迷光によるノイズ成分を低減して画像品質の向上に寄与
することができる。

【００５０】ここで、この光走査装置１の光学系の調整
方法の具体例を組立工程と共に以下に詳述する。まず、
基板６に実装した半導体レーザ発振器７を金属製のヒー
トシンク８に固定し、コリメータレンズ１０をコリメー
タ鏡筒９に固定し、このコリメータ鏡筒９にヒートシン
ク８をスライド自在に装着して光出射ユニット５を仮組
する。そこで、この光出射ユニット５のコリメータレン
ズ１０と半導体レーザ発振器７との芯出し調整をオート
コリメータ（図示せず）で行い、コリメータ鏡筒９とヒ
ートシンク８とを接着等で固定して光出射ユニット５の
組立てを完成する。

【００５１】つぎに、上述のようにして形成した光出射
ユニット５をハウジング４にスライド自在に仮組し、予
めシリンドリカルレンズ１４や平凸レンズ１５や折返し
ミラー１６を装着した内部フレーム１３をハウジング４
にネジ１８で組付ける。そして、この状態でポリゴンミ
ラー２４の反射面２５の位置に二次元エリアセンサを配
置し、光出射ユニット５の一次元調整やシリンドリカル
レンズ１４の副走査方向の位置調整などを概略的に行
う。

【００５２】上述のような調整の終了後にハウジング４
から二次元エリアセンサを取外し、予めポリゴンミラー
２４やスキャナモータ２２を組付けたベース２にハウジ
ング４をネジ３で固定し、このハウジング４に補正レン
ズ２８をネジ２７で組付ける。この時、ハウジング４の
前面に外部フレーム２９は装着していないので、補正レ
ンズ２８の焦点位置にビーム径評価装置を配置し、この
ビーム径評価装置でビーム径を評価しながら光出射ユニ
ット５の一次元調整を高精度に行う。

【００５３】上述のようにして一次元調整を完了した光
出射ユニット５をハウジング４に固定し、このハウジン
グ４に予め第一・第二の外部反射ミラー３１，３３を装
着した外部フレーム２９をネジ３８で固定する。そこ
で、この状態で外部フレーム２９に仮止めした反射ミラ
ー３６の角度を調節して書出し位置検知用光センサ３７
の入射光路を調整し、この調整の完了後に反射ミラー３
６を接着等で外部フレーム２９に固定する。

【００５４】上述のようにして組立てた光走査装置１を
電子写真装置の装置本体（図示せず）に組付けてマイナ
スドライバで円筒部材３４を回動操作し、第二の外部反
射ミラー３３の角度調整で走査光を感光ドラム３９の所
定位置に照射できるようにしてから円筒部材３４を接着
等で外部フレーム２９に固定する。

【００５５】なお、この光走査装置１では、上述のよう
な光学特性の補正レンズ２８をポリゴンミラー２４に極
めて近接した位置に配置することで、補正レンズ２８を
主走査方向などに短縮できるので、装置全体の小形軽量
化にも寄与することができるようになっている。

【００５６】また、本実施例の光走査装置１では、補正
レンズ２８を透過した走査光を二個の第一・第二の外部
反射ミラー３１，３３で感光ドラム３９に偏向すること
を例示したが、本発明は上記実施例に限定するものでは
なく、補正レンズ２８を透過した走査光を一個の外部反
射ミラー（図示せず）で感光ドラム３９に偏向すること
も可能である。

【００５７】つぎに、本発明の第二の実施例を図６ない
し図１３に基づいて以下に説明する。なお、この第二の
実施例で例示する光走査装置４４に関し、第一の実施例
として上述した光走査装置１と同一の部分は、同一の名
称と符号とを利用して詳細な説明は省略する。

【００５８】まず、この光走査装置４４では、図６ない
し図７に例示するように、ベース２上にハウジング４を
装着し、この上部に光出射ユニット５を装着している。
この光出射ユニット５は、基板６に実装した半導体レー
ザ発振器７をヒートシンク８に固定し、このヒートシン
ク８に装着したコリメータ鏡筒９にコリメータレンズ１
０を固定した構造となっている。

【００５９】この光走査装置４４では、内部フレーム１
３の下部にシリンドリカルレンズ１４と結像レンズであ
る平凸レンズ１５と折返しミラー１６とを固定し、内部
フレーム１３をハウジング４の上部下面に装着すること
で、光出射ユニット５の光軸上にシリンドリカルレンズ
１４と平凸レンズ１５と折返しミラー１６とを順次配置
している。

【００６０】この光走査装置４４では、詳細には後述す
る組立工程で開示するように、シリンドリカルレンズ１
４をレンズ支持機構である平板状のシリンドリカルレン
ズプレート４５に固定し、このシリンドリカルレンズプ
レート４５を内部フレーム１３にスライド自在に装着し
て固定している。なお、前記シリンドリカルレンズプレ
ート４５は、矩形の開口穴４６を形成することで、レー
ザ光のビーム形状を成形するアパーチャを兼用してい
る。そして、この光走査装置４４のハウジング４には、
前記シリンドリカルレンズプレート４５に上方から連通
する位置に矩形の開口穴４７を形成している。

【００６１】さらに、この光走査装置４４では、ハウジ
ング４を装着したベース２を一部としてスキャナモータ
２２を形成し、このスキャナモータ２２の回転軸２３で
ポリゴンミラー２４を回転自在に軸支している。また、
このポリゴンミラー２４は、四つの反射面２５の各々が
断面形状が楕円形となる楕円筒面となっている。シリン
ドリカルレンズ１４は、入射するビーム光をポリゴンミ
ラー２４の反射面２５より後方の仮想収束点上に収束
し、平凸レンズ１５は副走査方向のみ反射面２５に収束
するようになっている。そこで、ハウジング４の前面の
貫通孔２６に補正レンズ２８を装着することで、図６に
例示するように、この補正レンズ２８をポリゴンミラー
２４の走査光路上に配置している。

【００６２】この光走査装置４４では、図６ないし図７
に例示したように、外部フレーム２９の前面両側の開口
凹部３０に第一の外部反射ミラー３１を装着し、外部フ
レーム２９の下部の貫通孔３２に第二の外部反射ミラー
３３を円筒部材３４で回動自在に装着して接着等で固定
している。また、外部フレーム２９には、第一の外部反
射ミラー３１の一方の側方に小形の反射ミラー３６を固
定し、この反射ミラー３６と対向する第一の外部反射ミ
ラー３１の他方の側方には書出し位置検知用光センサ３
７を装着している。

【００６３】この光走査装置４４では、外部フレーム２
９をハウジング４の前面に装着することで、ポリゴンミ
ラー２４の反射光路上に補正レンズ２８を介して第一の
外部反射ミラー３１等が位置し、この第一の外部反射ミ
ラー３１の反射光路上に第二の外部反射ミラー３３を介
して感光ドラム３９の被走査面が位置している。

【００６４】このような構成において、この光走査装置
４４では、半導体レーザ発振器７が出射するレーザ光を
コリメータレンズ１０で平行光束化してからシリンドリ
カルレンズ１４や平凸レンズ１５で収束して回転するポ
リゴンミラー２４の反射面２５で主走査方向に偏向走査
し、この主走査光を補正レンズ２８で光学補正して回転
する感光ドラム３９の副走査移動する被走査面に入射さ
せる。

【００６５】このようにすることで、この感光ドラム３
９の被走査面には、光走査による主走査線を副走査方向
に順次形成するので、例えば、この感光ドラム３９の被
走査面に帯電器や現像器を対向配置し、帯電器の放電で
帯電した感光ドラム３９の被走査面に光走査で静電潜像
を形成し、この静電潜像を現像器から供給するトナーで
現像して記録媒体に転写することで、電子写真法による
画像形成を実行することができる。なお、この光走査装
置４４では、ポリゴンミラー２４の走査光を反射ミラー
３６で反射して書出し位置検知用光センサ３７で受光す
ることで、この書出し位置検知用光センサ３７の検知タ
イミングに従って上述のような画像形成を行うようにな
っている。

【００６６】この光走査装置４４では、従来例で前述し
たように、面倒れ補正などを実現するためにシリンドリ
カルレンズ１４でレーザ光をポリゴンミラー２４の反射
面２５上に副走査方向で結像する必要があるが、これを
半導体レーザ発振器７の非点収差やコリメータレンズ１
０の光学特性などの部品格差が阻害することになる。そ
こで、このような部品格差による光学誤差が発生した場
合、この光走査装置４４では、シリンドリカルレンズ１
４を固定したシリンドリカルレンズプレート４５を光軸
と直交する平面上で副走査方向に変位させて位置調整す
ることで、シリンドリカルレンズ１４を上下移動させて
補正レンズ２８の入射面にレーザ光が入射する位置を変
更し、その球面収差により副走査方向の焦点位置を可変
することができる。

【００６７】このようにすることで、この光走査装置４
４のシリンドリカルレンズプレート４５は、単純な平板
状でシリンドリカルレンズ１４を平坦な光出射面で装着
しているので、その構造が極めて簡易で光走査装置４４
の生産性の向上に寄与することができる。さらに、この
光走査装置４４のシリンドリカルレンズプレート４５
は、全体が平板状で平面方向とスライド方向とが一致し
ているので、スライドする部分を光軸方向に長く形成す
る必要がなく、その前後に平凸レンズ１５や折返しミラ
ー１６などを近接配置することができるので、光走査装
置４４の小形軽量化にも寄与することができる。

【００６８】なお、この光走査装置４４では、上述のよ
うにレーザ光をポリゴンミラー２４の反射面２５上に結
像するシリンドリカルレンズ１４を副走査方向にスライ
ドさせるようになっているので、このスライド移動によ
って光路が副走査方向に変位する懸念がある。しかし、
この光走査装置４４では、最終的に走査光を感光ドラム
３９に偏向する第二の外部反射ミラー３３が副走査方向
に回動自在となっているので、この第二の外部反射ミラ
ー３３の回動でシリンドリカルレンズ１４のスライド移
動による光路の副走査方向の変動を容易に補正できるよ
うになっている。

【００６９】この光走査装置４４の光学系の調整方法の
具体例を組立工程と共に以下に説明する。まず、予め組
立てた光出射ユニット５をハウジング４にスライド自在
に仮組し、予め平凸レンズ１５や折返しミラー１６を装
着した内部フレーム１３をハウジング４にネジ１８で組
付ける。そして、図８に例示するように、シリンドリカ
ルレンズ１４を予め固定したシリンドリカルレンズプレ
ート４５を内部フレーム１３の凹部４８に装着し、この
内部フレーム１３の凸部４９を半田ゴテ（図示せず）な
どによる加熱で溶融させてシリンドリカルレンズプレー
ト４５の両側部を保持させる。そこで、この内部フレー
ム１３が冷却するとシリンドリカルレンズプレート４５
は副走査方向にスライド自在となるので、この状態でハ
ウジング４の開口穴４７に挿入した治具５０でシリンド
リカルレンズプレート４５と共にシリンドリカルレンズ
１４の位置を調整する。

【００７０】なお、この光走査装置４４では、内部フレ
ーム１３の凹部４８の内幅をシリンドリカルレンズプレ
ート４５の外幅と同等にすることで、スライド移動する
シリンドリカルレンズプレート４５の回動を防止するよ
うになっている。このように傾斜することなくスライド
するシリンドリカルレンズプレート４５は、治具５０一
個の凸部５１が嵌合する一つの開口穴５２を上部に形成
している。

【００７１】この時、実際にはポリゴンミラー２４の反
射面２５の位置に二次元エリアセンサ（図示せず）を配
置し、この二次元エリアセンサを利用してシリンドリカ
ルレンズ１４の副走査方向の位置を治具５０で調整す
る。そこで、このシリンドリカルレンズ１４の位置調整
の完了後にシリンドリカルレンズプレート４５を内部フ
レーム１３に接着で固定し、さらに、二次元エリアセン
サを利用して光出射ユニット５の一次元調整も概略的に
実施する。

【００７２】上述のような調整の終了後にハウジング４
から二次元エリアセンサを取外し、予めポリゴンミラー
２４やスキャナモータ２２を組付けたベース２にハウジ
ング４を固定し、このハウジング４に補正レンズ２８を
組付ける。この時、ハウジング４の前面に外部フレーム
２９は装着していないので、補正レンズ２８の焦点位置
にビーム径評価装置を配置し、このビーム径評価装置で
ビーム径を評価しながら光出射ユニット５の一次元調整
を高精度に行う。

【００７３】上述のようにして一次元調整を完了した光
出射ユニット５をハウジング４に固定し、このハウジン
グ４に予め第一・第二の外部反射ミラー３１，３３を装
着した外部フレーム２９を固定する。そこで、この状態
で外部フレーム２９に仮止めした反射ミラー３６の角度
を調節して書出し位置検知用光センサ３７の入射光路を
調整し、この調整の完了後に反射ミラー３６を接着等で
外部フレーム２９に固定する。

【００７４】上述のようにして組立てた光走査装置４４
を電子写真装置の装置本体（図示せず）に組付けてマイ
ナスドライバで円筒部材３４を回動操作し、第二の外部
反射ミラー３３の角度調整で走査光を感光ドラム３９の
所定位置に照射できるようにしてから円筒部材３４を接
着等で外部フレーム２９に固定することになる。

【００７５】なお、この光走査装置４４では、ハウジン
グ４を平面面積がスキャナモータ２２と同等になるほど
小形化しているので、このハウジング４は製造誤差や経
年変化や温度伸縮などによる変形が微小である。この光
走査装置４４では、ハウジング４に装着した半導体レー
ザ発振器７やポリゴンミラー２４や補正レンズ２８など
の光学部品の相対位置が高精度なので、その光学特性が
極めて良好である。

【００７６】また、この光走査装置４４では、上述のよ
うにポリゴンミラー２４を回転自在に軸支するスキャナ
モータ２２のベース２を外方に拡張し、このベース２に
装着した一個のハウジング４に半導体レーザ発振器７や
コリメータレンズ１０や補正レンズ２８等の光学部品を
装着し、このように各種の光学部品を装着したハウジン
グ４の外面に、補正レンズ２８の透過光路を感光ドラム
３９の被走査面に偏向する第一・第二の外部反射ミラー
３１，３３を装着している。

【００７７】このようにすることで、この光走査装置４
４では、前述のように組立工程において二次元エリアセ
ンサやビーム径評価装置などを所定位置に配置して光学
調整を高精度に実施することができるので、良好な生産
性で光学特性の向上に寄与することができる。

【００７８】また、この光走査装置４４では、第二の外
部反射ミラー３３を両端の円筒部材３４で副走査方向に
回動自在に支持して接着等で位置決め保持しているの
で、例えば、製造誤差や経年変化等のために電子写真装
置に組込んだ光走査装置４４と感光ドラム３９との相対
位置に誤差が発生しても、第二の外部反射ミラー３３の
位置調整で光走査装置４４の主走査光を感光ドラム３９
の被走査面に適正に照射することができる。

【００７９】なお、この光走査装置４４では、補正レン
ズ２８の光入射面４０の形状中心を副走査方向に変位量
△だけ変位させることで、この補正レンズ２８のコマ収
差によるスポット形状の変形や、補正レンズ２８の内部
反射による迷光などの影響を軽減し、その画像品質の向
上に寄与するようになっている。このような光走査装置
４４に関して、本出願人が具体的なパラメータを設定し
たシミュレーションで各種の光学特性を算定したとこ
ろ、これは何れも極めて良好であることを確認できた。

【００８０】また、この光走査装置４４に関して、本出
願人が補正レンズ２８の二度の内部反射で光出射面４２
から出射する迷光の光学特性を調査したところ、これは
本来の走査光に比較して副走査方向の変位が大きいこと
を確認できた。つまり、この光走査装置４４では、上述
のような迷光を本来の走査光に対して副走査方向に大き
く変位した位置に出射できるので、これが感光ドラム３
９に入射しないように対策を施すことが極めて容易であ
り、迷光によるノイズ成分を低減して画像品質の向上に
寄与することができる。

【００８１】本出願人が実際に設計した光走査装置４４
の諸元とシミュレーションで検出した光学特性とを以下
に例示して説明する。まず、この光走査装置４４の全体
的な諸元を、 有効走査長 220(mm) 使用波長 780(nm) ポリゴンミラー２４の回転中心から感光ドラム３９の外周面に至る光路長 173.53(mm) と設定した。

【００８２】つぎに、ポリゴンミラー２４の諸元を、 内接円半径 14.0(mm) 反射面形状 長軸が主走査方向に平行な楕円筒面 長軸91.0(mm) 短軸68.838(mm) と設定した。

【００８３】つぎに、補正レンズ２８の諸元を、 屈折率 1.48609 中心厚 5.0(mm) その光入射面４０の頂点とポリゴンミラー２４の回転中
心との距離 38.2(mm) 変位量△ 1.434(mm) 中心半径 12.137(mm) 光入射面４０の二次係数α₂ 7.361×10~³ 光入射面４０の四次係数α₄ 6.732×10~⁷ 光入射面４０の六次係数α₆ −6.848×１０￣^１０ 光入射面４０の八次係数α_８ 4.383×10~¹³ 光出射面４２の二次係数β₂ 8.121×10~³ 光出射面４２の四次係数β₄ 1.410×10~⁶ 光出射面４２の六次係数β₆ −4.243×10~¹⁰ 光出射面４２の八次係数β₈ 4.044×10~¹⁴ と設定した。

【００８４】つぎに、平凸レンズ１５の諸元を、 と設定した。

【００８５】そして、シリンドリカルレンズ１４の諸元
を、 と設定した。

【００８６】なお、本出願人が上述のように設計した光
走査装置４４は、平凸レンズ１５とシリンドリカルレン
ズ１４との距離が 4.2(mm)と極めて小さいが、これは前
述のようにシリンドリカルレンズ１４を副走査方向に変
位させるシリンドリカルレンズプレート４５が光軸方向
に扁平であることに起因している。

【００８７】上述のような光走査装置４４の設計値に基
づいてシミュレーションで検出した光学特性として、こ
こでは主走査方向と副走査方向との像面湾曲の特性曲線
を図９ないし図１３に例示して以下に説明する。

【００８８】なお、ここで図９ないし図１３に例示する
特性図は、（ａ）が主走査方向の像面湾曲で、（ｂ）が
副走査方向の像面湾曲となっている。また、これらの特
性図は、縦軸は被走査面での走査中心からの距離を意味
してＡ４判の有効走査長の半分に相当する 110(mm)とな
っており、横軸は像面湾曲の発生量を意味して負方向が
補正レンズ２８に近接する方向となっている。さらに、
これらの特性図では、各方向の像面湾曲を実線で例示
し、破線で逆方向の微分光線による像面の評価結果を例
示している。

【００８９】前述のような光走査装置４４の設計値に基
づいてシミュレーションで像面湾曲を検出したところ、
図９（ａ）に例示するように、主走査方向の最大値が
1.8(mm)程度で、同図（ｂ）に例示するように、副走査
方向の最大値が 0.8(mm)程度となり、その光学特性が極
めて良好であることが判明した。

【００９０】つぎに、補正レンズ２８を副走査方向に
0.1(mm)だけ変位させた状態の像面湾曲を検出したとこ
ろ、図９に例示した設計値に対する変化は、図１０
（ａ）に例示するように、主走査方向では微小である
が、同図（ｂ）に例示するように、副走査方向では実線
が 3.1(mm)で破線が 5.0(mm)となった。これは光走査装
置４４で主走査線を形成した場合、副走査方向に像面湾
曲が多大に発生することを意味する。

【００９１】上述のような状態でシリンドリカルレンズ
１４を副走査方向に 0.1(mm)だけ変位させた状態の像面
湾曲を検出したところ、図１１（ａ),（ｂ）に例示する
ように、各方向とも図９に例示した設計値に近似した結
果となることが判明した。これは補正レンズ２８の組立
誤差などで発生する光学収差をシリンドリカルレンズ１
４の位置調整で補正できることを意味する。

【００９２】つぎに、ポリゴンミラー２４の反射面２５
に 0.1°だけ面倒れが発生した状態の像面湾曲を検出し
たところ、図９に例示した設計値に対する変化は、図１
２（ａ）に例示するように、主走査方向では微小である
が、同図（ｂ）に例示するように、副走査方向では多大
に発生した。

【００９３】上述のような状態でシリンドリカルレンズ
１４を副走査方向に 0.1(mm)だけ変位させた状態の像面
湾曲を検出したところ、図１３（ａ),（ｂ）に例示する
ように、各方向とも図９に例示した設計値に近似した結
果となることが判明した。これはポリゴンミラー２４の
反射面２５の面倒れで発生する光学収差もシリンドリカ
ルレンズ１４の位置調整で補正できることを意味する。

【００９４】なお、本実施例の光走査装置４４では、図
８に例示したように、シリンドリカルレンズプレート４
５の外幅を内部フレーム１３の凹部４８の内幅と同等に
してスライド移動するシリンドリカルレンズ１４の回動
を防止し、治具５０一個の凸部５１が嵌合する一つの開
口穴５２をシリンドリカルレンズプレート４５の上部に
形成することを例示した。しかし、本発明は上記実施例
に限定するものではなく、図１４に例示するように、内
部フレーム１３の凹部４８の内幅よりシリンドリカルレ
ンズプレート５３の外幅を小形にしてシリンドリカルレ
ンズ１４をスライド自在で微小に回動自在とし、治具５
４の二個の凸部５５が嵌合する二つの開口穴５６をシリ
ンドリカルレンズプレート５３の上部に形成することも
可能である。

【００９５】このようにすることで、シリンドリカルレ
ンズ１４を副走査方向にスライド移動させて位置調整す
る際に、その光軸中心の回動角度も調整することができ
るので、より良好な光学特性を得ることができる。な
お、このような場合には、内部フレーム１３の凹部４８
を省略することも可能である。

【００９６】さらに、図８に例示したように、シリンド
リカルレンズ１４を予め固定したシリンドリカルレンズ
プレート４５が内部フレーム１３の凹部４８に精緻に嵌
合してスライド移動する光走査装置４４において、シリ
ンドリカルレンズプレート４５にシリンドリカルレンズ
１４を固定する際に、その光軸中心の回動角度を調整し
ておくことも可能である。

【００９７】なお、本発明で云う上下などの方向は、説
明を簡略化するために便宜的に定義するものであり、こ
れは実際の装置の設置や使用の方向を限定するものでは
ない。

【００９８】

【発明の効果】請求項１記載の発明は、ポリゴンミラー
をスキャナモータで回転自在に軸支し、このポリゴンミ
ラーを包囲するハウジングに、前記ポリゴンミラーの回
転軸を含む平面内に前記半導体レーザ発振器と前記コリ
メータレンズと折返しミラーと前記補正レンズとの各々
の光軸中心を位置させて装着し、かつ、前記スキャナモ
ータの上面より上方に前記半導体レーザ発振器と前記コ
リメータレンズと前記シリンドリカルレンズとを配置し
たことにより、ポリゴンミラーの主走査光路に半導体レ
ーザ発振器などが干渉することなく光学系を主走査光路
の中心軸に対して左右対称に形成することができるの
で、小形軽量で光学特性と生産性とが共に良好な光走査
装置を得ることができる等の効果を有するものである。

【００９９】請求項２記載の発明は、ポリゴンミラーを
駆動モータで回転自在に軸支し、この駆動モータのベー
スに装着してポリゴンミラーを包囲するハウジングに半
導体レーザ発振器とコリメータレンズとシリンドリカル
レンズと折返しミラーと補正レンズとを装着し、この補
正レンズの透過光路を被走査面に偏向する少なくとも一
個の外部反射ミラーをハウジングの外面に装着する外部
フレームに装着したことにより、各種部品を組付けたハ
ウジングをベースに装着しない状態や、このベースに装
着したハウジングに外部フレームを装着しない状態など
で、測定機器をハウジングの内部や外部に配置して光学
系の調整作業を簡易かつ高精度に行うことができるの
で、光学特性と生産性とが共に良好な光走査装置を得る
ことができる等の効果を有するものである。

【０１００】請求項３記載の発明は、被走査面に直接的
に対向する一個の外部反射ミラーを変位自在に支持して
位置決め保持するミラー調整機構を外部フレームに設け
たことにより、例えば、電子写真装置に組込んだ光走査
装置と被走査面との相対位置の誤差を外部反射ミラーの
位置調整で簡易に補正することができるので、光学特性
と生産性とが共に良好な光走査装置を得ることができる
等の効果を有するものである。

【０１０１】請求項４記載の発明は、シリンドリカルレ
ンズを光軸と直交する平面上で移動自在に支持して位置
決めするレンズ支持機構を設けたことにより、このレン
ズ支持機構をシリンドリカルレンズの光軸方向に扁平に
形成してコリメータレンズや結像レンズなどを近接配置
することができるので、光学特性と生産性とが共に良好
な光走査装置を得ることができる等の効果を有するもの
である。

【０１０２】請求項５記載の発明は、レンズ支持機構に
連通する開口穴をハウジングに形成したことにより、こ
のハウジングの開口穴からレンズ支持機構を操作してシ
リンドリカルレンズを位置調整することができるので、
光学特性と生産性とが共に良好な光走査装置を得ること
ができる等の効果を有するものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例の光走査装置の内部構造
を示す縦断側面図である。

【図２】光走査装置のハウジングを一部破断した状態を
示す横断平面図である。

【図３】光走査装置の要部の組立構造を示す分解斜視図
である。

【図４】補正レンズの形状を示す縦断側面図である。

【図５】補正レンズの形状を示し、（ａ）は平面図、
（ｂ）は縦断側面図である。

【図６】本発明の第二の実施例の光走査装置の内部構造
を示す縦断側面図である。

【図７】光走査装置の要部の組立構造を示す分解斜視図
である。

【図８】レンズ支持機構であるシリンドリカルレンズプ
レートを内部フレームに装着する状態を示す分解斜視図
である。

【図９】光走査装置の設計値における像面湾曲を示し、
（ａ）は主走査方向の像面湾曲を示す特性図、（ｂ）は
副走査方向の像面湾曲を示す特性図である。

【図１０】補正レンズが副走査方向に変位した場合の像
面湾曲を示し、（ａ）は主走査方向の像面湾曲を示す特
性図、（ｂ）は副走査方向の像面湾曲を示す特性図であ
る。

【図１１】補正レンズが副走査方向に変位した状態でシ
リンドリカルレンズを位置調整した場合の像面湾曲を示
し、（ａ）は主走査方向の像面湾曲を示す特性図、
（ｂ）は副走査方向の像面湾曲を示す特性図である。

【図１２】ポリゴンミラーに面倒れが発生した場合の像
面湾曲を示し、（ａ）は主走査方向の像面湾曲を示す特
性図、（ｂ）は副走査方向の像面湾曲を示す特性図であ
る。

【図１３】ポリゴンミラーに面倒れが発生した状態でシ
リンドリカルレンズを位置調整した場合の像面湾曲を示
し、（ａ）は主走査方向の像面湾曲を示す特性図、
（ｂ）は副走査方向の像面湾曲を示す特性図である。

【図１４】レンズ支持機構であるシリンドリカルレンズ
プレートなどの変形例を示す分解斜視図である。

【符号の説明】

１，４４ 光走査装置 ２ ベース ４ ハウジング ７ 半導体レーザ発振器 １０ コリメータレンズ １４ シリンドリカルレンズ １５ 結像レンズ １６ 折返しミラー ２２ スキャナモータ ２４ ポリゴンミラー ２５ 反射面 ２８ 補正レンズ ２９ 外部フレーム ３１，３３ 外部反射ミラー ３４ ミラー調整機構 ４５，５３ レンズ支持機構 ４７ 開口孔

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体レーザ発振器の出射光路上に少な
   くともコリメータレンズと結像レンズとシリンドリカル
   レンズとを介して回転自在なポリゴンミラーの反射面を
   位置させ、このポリゴンミラーの主走査光路上に少なく
   とも補正レンズを介して副走査方向に移動自在な被走査
   面を位置させた光走査装置において、前記ポリゴンミラ
   ーをスキャナモータで回転自在に軸支し、このポリゴン
   ミラーを包囲するハウジングに、前記ポリゴンミラーの
   回転軸を含む平面内に前記半導体レーザ発振器と前記コ
   リメータレンズと折返しミラーと前記補正レンズとの各
   々の光軸中心を位置させて装着し、かつ、前記スキャナ
   モータの上面より上方に前記半導体レーザ発振器と前記
   コリメータレンズと前記シリンドリカルレンズとを配置
   したことを特徴とする光走査装置。
2. 【請求項２】 ポリゴンミラーを駆動モータで回転自在
   に軸支し、この駆動モータのベースに装着して前記ポリ
   ゴンミラーを包囲するハウジングに半導体レーザ発振器
   とコリメータレンズとシリンドリカルレンズと折返しミ
   ラーと補正レンズとを装着し、この補正レンズの透過光
   路を被走査面に偏向する少なくとも一個の外部反射ミラ
   ーを前記ハウジングの外面に装着する外部フレームに装
   着したことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
3. 【請求項３】 被走査面に直接的に対向する一個の外部
   反射ミラーを変位自在に支持して位置決め保持するミラ
   ー調整機構を外部フレームに設けたことを特徴とする請
   求項２記載の光走査装置。
4. 【請求項４】 シリンドリカルレンズを光軸と直交する
   平面上で移動自在に支持して位置決めするレンズ支持機
   構を設けたことを特徴とする請求項１，２又は３記載の
   光走査装置。
5. 【請求項５】 レンズ支持機構に連通する開口穴をハウ
   ジングに形成したことを特徴とする請求項４記載の光走
   査装置。