JP2012128135A

JP2012128135A - 光学物品およびその製造方法

Info

Publication number: JP2012128135A
Application number: JP2010278919A
Authority: JP
Inventors: Keiji Nishimoto; 圭司西本; Hiroyuki Seki; 浩幸関
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2010-12-15
Filing date: 2010-12-15
Publication date: 2012-07-05
Also published as: US20120154916A1; EP2466340A1

Abstract

【課題】耐水性等の諸性能が良好な反射防止層、および反射防止層を備えたレンズなどの光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ１０は、ｎ＋１層の低屈折率層３１とｎ層（ｎは２以上の整数）の高屈折率層３２から構成される反射防止層３を含む。低屈折率層３１と高屈折率層３２とが交互に積層され、複数の高屈折率層３２のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第１タイプの層であり、その他の高屈折率層３２は酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第２タイプの層である。複数の低屈折率層３１はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第３タイプの層である。
【選択図】図１

Description

本発明は、眼鏡レンズなどのレンズ、その他の光学材料あるいは製品に用いられる光学物品およびその製造方法に関するものである。

特許文献１に、外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できる反射防止膜及びそれを用いた光学部材を提供することが開示されている。この反射防止膜は、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなるものである。低屈折率層と高屈折率層との間には、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている。低屈折率層は、ＳｉＯ₂及びＡｌ₂Ｏ₃から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる。高屈折率層は、Ｔａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅及びＺｒＯ₂から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる。緩衝層は、ＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃及びＴｉＯ₂から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる。

特開２００９−４２２７８号公報

光学基材の上に形成される反射防止層に求められる機能は、反射防止性能に加え、防傷性、耐熱性（耐久性）など多様である。このため、特許文献１のように１つの高屈折率層を成分の異なる混合層で形成したり、高屈折率層を二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、五酸化タンタル、三酸化イットリウムなどの高屈折率層を形成する主たる成分の混合系で形成することが提案されている。しかしながら、いずれの構成も反射防止層を成膜する際に１つの層の途中で蒸着成分を変えたり、高屈折率層を形成するために性質の異なる３つあるいは４つ以上の主たる成分が必要になり、製造方法が複雑になる。このため、経済性が低下するだけではなく、反射防止層を形成する工程において歩留まりを確保することも難しくなる。

さらに、近年、反射防止層の下層となるハードコート層とのマッチングも要望されており、反射防止層に求められる性能あるいは機能はさらに複雑になっており、この要望に答えるために反射防止層の構成はますます複雑化する傾向にある。

本発明の一態様は、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を含む光学物品である。この反射防止層は、ｎ＋１層（ｎは２以上の整数）の低屈折率層とｎ層の高屈折率層とから構成され、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層してなるもの、より具体的には、最外層が低屈折率層となるように、光学基材側から低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層してなるものである。

さらに、この反射防止層は、ｎ層の高屈折率層のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第１タイプの層であり、その他の高屈折率層は酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第２タイプの層であり、ｎ+１層の低屈折率層はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第３タイプの層であり、さらに、ｎ層の高屈折率層の層厚の合計（以下、高屈折率層の総膜厚ＴＴともいう）に対する（占める）第２タイプの層の層厚の合計（以下、第２タイプの層の総膜厚Ｔ２Ｔともいう）の割合（高屈折率層の総膜厚に占める第２の層の総膜厚の割合）Ｐ（Ｐ＝Ｔ２Ｔ／ＴＴ）が以下の範囲である。
１５％≦Ｐ≦９０％・・・（１）

この反射防止層は、それぞれ第１の蒸着源、第２の蒸着源および第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成される第１タイプの層、第２タイプの層および第３タイプの層から構成され、１つの高屈折率層の蒸着途中で蒸着源を変えるような、複合タイプあるいは混合タイプといった複雑系の高屈折率層は含まない。この出願の発明者らは、この反射防止層が、２つの単一組成の高屈折率層と単一組成の低屈折率層を単純に積み上げた簡易な構成であるにも関わらず、２つの単一組成の高屈折率層の層厚を上記の範囲に制御することにより、反射防止性のみならず、防傷性、耐熱性、耐水性、耐紫外線劣化性といった反射防止層に要求される諸性能（諸特性）を高いレベルで発揮することを見出した。さらに、本願の発明者らは、この反射防止層に帯電防止機能を付与できること、また、反射防止層の下に二酸化チタン（チタニア）を含むような機能層、例えばハードコート層が設けられているような場合には、その劣化による変色を抑え、有機系のバインダーの分解を抑制する機能を発揮することを見出した。

したがって、個々の高屈折率層を複雑にしなくても、この反射防止層を用いることにより、様々な機能を備えた、あるいは様々な機能を高いレベルで備えた光学物品を、複雑系の高屈折率層を省いて提供することが可能となる。このため、高品質の光学物品をさらに低コストで歩留まり良く提供できる。

なお、（１）式の下限を下回ると第２の蒸着源により形成される第２タイプの高屈折率層に起因するいくつか性能が低下し、（１）式の上限を上回ると第１の蒸着源により形成される第１タイプの高屈折率層に起因するいくつか性能が低下することが確認されている。

また、この光学物品においては、上記割合Ｐが以下の範囲であることがさらに好ましい。
２０％≦Ｐ≦６０％・・・（２）

（２）式の条件により、耐水性、反射防止性などの幾つかの性能をさらに高いレベルで備えた光学物品を提供できる。

また、この光学物品においては、第２タイプの層の層厚の合計（第２の層の総膜厚Ｔ２Ｔ）は、１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることが好ましい。

さらに、この光学物品においては、第２タイプの層の少なくとも１層は、蒸着形成後、表面が導電処理された層であることが好ましい。ここで、表面の導電処理とは、典型的には、表面電気抵抗を下げる処理を指す。導電処理方法の一例は、第２タイプの層の表面にアルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスをイオン化させて照射することであり、他の蒸着源と組み合わせずに、帯電防止性能および／または電磁遮蔽性能を付与することができる。第２タイプの層が複数存在する場合、全ての第２タイプの層の表面を導電処理してもよいし、第２タイプの複数の層のうちの１層の表面だけを導電処理してもよい。たとえば、最も光学基材に近い第２タイプの層の表面を導電処理することができる。

この光学物品においては、上記ｎが２、３、４のいずれか、すなわち、反射防止層が５層構造、７層構造、９層構造のいずれかであることが好ましい。これにより、反射防止層の製造コストに対して十分な反射防止特性を得ることができる。

この光学物品は、反射防止層の上に、直にまたは他の層を介して形成された防汚層をさらに有するものであってもよい。光学基材の典型的なものはプラスチックレンズ基材である。また、光学物品の一形態は眼鏡レンズであり、本発明の他の態様の１つは、眼鏡レンズと、眼鏡レンズが装着されたフレームとを有する眼鏡である。

本発明の他の態様は、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を含む光学物品の製造方法である。ここで、反射防止層は、ｎ＋１層（ｎは２以上の整数）の低屈折率層とｎ層の高屈折率層とから構成され、低屈折率層と前記高屈折率層とを交互に積層してなるものである。複数の高屈折率層の少なくとも一層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１タイプの層であり、その他の高屈折率層は酸化チタンを主成分とする第２タイプの層であり、複数の低屈折率層はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３タイプの層である。さらに、高屈折率層の各層の層厚の合計に対する（占める）前記第２タイプの層の各層の層厚の合計の割合Ｐが１５％以上９０％以下である。

この光学物品の製造方法は、以下の工程を含む。
（ａ）酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて第１タイプの層を蒸着形成する。
（ｂ）酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて第２タイプの層を蒸着形成する。

１つの高屈折率層の蒸着途中で蒸着源を変えるような複雑な製造方法を採用せずに、反射防止性のみならず、防傷性、耐熱性、耐水性、耐紫外線劣化性といった反射防止層に要求される諸性能（諸特性）を高いレベルで備えた反射防止層を成膜できる。

製造方法は、さらに、第２タイプの層のうちの少なくとも１層の表面を導電処理することを含むことが望ましい。

７層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。反射防止層の製造工程を示すフローチャート。反射防止層の製造に用いる蒸着装置の一例を模式的に示す図。７層構造の反射防止層を含む実施例１〜５のサンプルの層構造を纏めて示す図。７層構造の反射防止層を含む比較例１〜３のサンプルの層構造を纏めて示す図。反射防止層に含まれるＳｉＯ₂層、ＺｒＯ₂層およびＴｉＯ₂層の成膜条件を纏めて示す図。ＴｉＯ₂層の表面の導電処理の様子を模式的に示す図であって、（ａ）はＳｉＯ₂層の上にＴｉＯ₂層を成膜した状態を示す図、（ｂ）はＴｉＯ₂層の表面にイオンビームを照射している状態を示す図、（ｃ）は表面に導電処理を施したＴｉＯ₂層の上にＳｉＯ₂層を成膜した状態を示す図。５層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。５層構造の反射防止層を含む実施例６、７のサンプルおよび比較例４、５のサンプルの層構造を纏めて示す図。９層構造の反射防止層を含むレンズの構造を示す断面図。９層構造の反射防止層を含む実施例８、９のサンプルおよび比較例６、７のサンプルの層構造を纏めて示す図。ＳｉＯ₂層、ＺｒＯ₂層およびＴｉＯ₂層の光学定数を示す図であって、（ａ）は波長と屈折率との関係を示す図、（ｂ）は波長と消衰係数との関係を示す図。実施例１〜５のサンプルおよび比較例１〜３のサンプルのベイヤー値の測定結果およびベイヤー比を纏めて示す図。実施例１〜５のサンプルおよび比較例１〜３のサンプルについて、高屈折率層の総膜厚中に占めるＴｉＯ₂層の総膜厚の割合とベイヤー比との関係を示す図。実施例１〜５のサンプルおよび比較例１〜３のサンプルについて、ＴｉＯ₂層の総膜厚とベイヤー比との関係を示す図。７層構造の反射防止層を含む実施例１〜５のサンプルおよび比較例１〜３のサンプルの各種測定結果を纏めて示す図。５層構造の反射防止層を含む実施例６、７のサンプルおよび比較例４、５のサンプルの各種測定結果を纏めて示す図。９層構造の反射防止層を含む実施例８、９のサンプルおよび比較例６、７のサンプルの各種測定結果を纏めて示す図。実施例１〜９のサンプルおよび比較例１〜７のサンプルについて、波長に対する透過率を測定した結果を示す図。実施例１〜９のサンプルおよび比較例１〜７のサンプルについて、波長に対する反射率を測定した結果を示す図。ＳｉＯ₂層、ＺｒＯ₂層およびＴｉＯ₂層の応力を纏めて示す図。石英基板および石英基板上に形成されたハードコート層における、波長と透過率との関係を示す図。Ｏ／Ｔｉの値が互いに異なる複数の酸素欠損型ルチル型ＴｉＯ₂の色を示す図。眼鏡の一例の概要を示す図。

以下では、光学物品として眼鏡用のレンズを例示して説明する。ただし、本発明を適用可能な光学物品はこれに限定されるものではない。

１．第１の実施形態
図１に、本発明の第１の実施形態のレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。図１は、基材１を中心として下側に各層を積層した図を示している。したがって、以降においては、各層の外側（上側および下側）に積層される層を、上側に積層された層として説明する。レンズ（光学物品）１０（１０ａ）は、レンズ基材（光学基材）１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性で多層構造の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。以降、レンズを総称（共通）する場合についてはレンズ１０と呼び、第１の実施形態のレンズを指す場合にはレンズ１０ａと呼ぶことにする。

１．１レンズ基材
レンズ基材１は、特に限定されないが、（メタ）アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を挙げることができる。レンズ基材１の屈折率は、たとえば、１．６０〜１．７５程度である。レンズ基材１の屈折率は、これに限定されるものではなく、上記の範囲内でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。

１．２ハードコート層（プライマー層）
レンズ基材１の上に形成されるハードコート層２は、レンズ１０（レンズ基材１）に防傷性（耐擦傷性）を付与する、あるいはレンズ１０（レンズ基材１）の耐久性（強度）を高めるためのものである。ハードコート層２に使用される材料としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等を挙げることができる。

ハードコート層２の一例は、シリコン系樹脂である。ハードコート層２は、例えば、金属酸化物微粒子、シラン化合物を含むコーティング組成物を塗布して硬化させることにより、形成することができる。このコーティング組成物には、コロイダルシリカ、および多官能性エポキシ化合物等の成分が含まれていてもよい。

このコーティング組成物に含まれる金属酸化物微粒子の具体例は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＣｅＯ₂、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＷＯ₃、ＺｒＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＴｉＯ₂等の金属酸化物からなる微粒子または２種以上の金属の金属酸化物からなる複合微粒子である。これらの微粒子を分散媒（たとえば、水、アルコール系もしくはその他の有機溶媒）にコロイド状に分散させたものを、コーティング組成物に混合することができる。

この実施形態においては、金属酸化物として、シリカ、チタニアゾルを用いており、これらを上述した樹脂で固めてハードコート層２を形成している。また、層厚は、１０００ｎｍ〜３０００ｎｍとしている。しかしながら、ハードコート層２の層厚はこれに限定されるものではなく、上記の範囲内でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。

レンズ基材１とハードコート層２との密着性を確保するために、レンズ基材１とハードコート層２との間にプライマー層を設けてもよい。プライマー層は、高屈折率レンズ基材の欠点である耐衝撃性を改善するためにも有効である。プライマー層に使用される材料（プライマー層のベースを形成するための樹脂）としては、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、アミノ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチレン系樹脂、シリコン系樹脂およびこれらの混合物もしくは共重合体等が挙げられる。密着性を持たせるためのプライマー層としては、ウレタン系樹脂およびポリエステル系樹脂が好適である。

ハードコート層２およびプライマー層の製造方法の典型的なものは、ディッピング法、スピンナー法、スプレー法、フロー法によりコーティング組成物を塗布し、その後、４０〜２００℃の温度で数時間加熱乾燥する方法である。

１．３反射防止層
このレンズ１０においてハードコート層２の上に形成される反射防止層３は無機系の反射防止層である。無機系の反射防止層３は多層膜構造であり、ｎ＋１層の低屈折率層３１と、ｎ層（ｎは２以上の整数）の高屈折率層３２とから構成されている。低屈折率層３１と高屈折率層３２とは交互に積層されている。低屈折率層３１は、例えば、屈折率が１．３〜１．６であり、高屈折率層３２は、例えば、屈折率が１．８〜２．６である。製造コストおよび反射防止性能を考慮すると上記ｎは、２、３、４のいずれかが選択されることが多い。すなわち、反射防止層３は、全５層、全７層および全９層の構成を含む。本実施形態においては、反射防止層３は７層構造（ｎ＝３）であり、４層の低屈折率層３１と、３層の高屈折率層３２とを含み、最外層が低屈折率層３１となるように、基板側から低屈折率層３１と高屈折率層３２が交互に積層されている。

この実施形態においては、複数の低屈折率層３１はそれぞれ酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を主成分とする第３タイプの層である。また、複数の高屈折率層３２のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）を主成分とする第１タイプの層であり、その他の高屈折率層３２は酸化チタン（ＴｉＯ_x（０＜ｘ≦２）、以下、便宜上、ＴｉＯ₂と記載することもある）を主成分とする第２タイプの層である。複数の低屈折率層３１である第３タイプの層は、酸化シリコン（ＳｉＯ₂）を主成分とする第３の蒸着源を用いて蒸着形成され、高屈折率層３２のうちの少なくとも１層である第１タイプの層は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）を主成分とする第１の蒸着源を用いて蒸着形成され、高屈折率層３２のうちの少なくとも１層である第２タイプの層は、酸化チタン（ＴｉＯ_x）を主成分とする第２の蒸着源を用いて蒸着形成された層である。

さらに、高屈折率層３２の各層の層厚の合計（以下、高屈折率層３２の総膜厚ＴＴともいう）に対する（占める）第２の層の１層または各層の層厚の合計（以下、第２の層の総膜厚Ｔ２Ｔともいう）の割合（高屈折率層３２の総膜厚に占める第２の層の総膜厚の割合）Ｐは以下の範囲である。
１５％≦Ｐ≦９０％・・・（１）

図２に反射防止層３を形成する方法（製造方法）の概要をフローチャートにより示している。反射防止層３は、低屈折率層３１および高屈折率層３２を必要な層数だけ繰り返して蒸着形成する。本明細書における蒸着には、乾式法、例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法などを含む。真空蒸着法においては、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンビームアシスト法を用いてもよい。

まず、ステップ５１において第３の蒸着源のみを用いて低屈折率層（第１層）３１を形成する。次に、ステップ５２において第１の蒸着源または第２の蒸着源を選択し、ステップ５３において選択された第１の蒸着源または第２の蒸着源のみを用いて高屈折率層（第２層）３２を形成する。ステップ５４において蒸着形成した高屈折率層３２の表面を導電化する必要があれば、ステップ５５において導電処理する。ステップ５６において、さらに第３の蒸着源を用いて低屈折率層（第３層）３１を形成する。ステップ５７において所定の数の層が形成されるまでステップ５２に戻って高屈折率層３２および低屈折率層３１を蒸着形成する。

したがって、この製造方法において反射防止層３の低屈折率層３１および高屈折率層３２は、選択された１種類の蒸着源のみを用いて形成され、１つの高屈折率層３２を、目的あるいは主成分が異なる複数の蒸着源を同時にまたは連続的に切り替えて用いて形成したり、低屈折率層３１および高屈折率層３２との間に、実質的に低屈折率層あるいは高屈折率層として機能するが組成あるいは名前が異なる層を挟んだりすることはない。

１．３．１導電処理
導電処理は、高屈折率層３２の１または複数の層に帯電防止性能および／または電磁遮蔽性能を付与する目的で行われる。この反射防止層３の製造方法においては、第２タイプの層、すなわち、酸化チタン（ＴｉＯ_x）を主成分とする高屈折率層の表面にアルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスをイオン化させて照射する。この処理により導電化される理由の１つは、第２タイプの層の表面の一部の酸化チタンの酸素原子が分離あるいは離脱し、金属原子と酸素原子との化学量論比が所定の化合物としての比から外れた組成（非化学量論な組成）となることであると考えられる。第２タイプの層の表層域に酸素欠陥（酸素欠損）が生じ、この酸素欠損がキャリアとなって導電性が発現する（表面電気抵抗（シート抵抗）が低下する）と考えられる。

また、第２タイプの層の表層域にアルゴンが局在した状態で残るので、酸素欠損の再結合が抑制される、あるいは、局在準位が形成される。このため、時間とともに導電性が低下するといったことがないか、あるいは、少ない。導電処理を施した第２タイプの層を含む反射防止層３は、帯電防止性能および／または電磁遮蔽性能を有し、帯電防止性能および／または電磁遮蔽性能は長期にわたり維持される。また、導電処理による酸素欠損域は表層域に限られるため、反射防止層３の光学的性能への影響は少ない。

なお、第２タイプの層の表面に炭酸ガス（ＣＯ₂ガス）をイオン化させて照射（炭酸ガスイオンビーム照射）したり、シリコンをイオンアシスト蒸着により打ち込むなどしても、第２タイプの層の表面電気抵抗を下げ、導電処理として利用できることが本願の発明者らの実験により確認されている。

１．４防汚層
眼鏡レンズ１０においては、反射防止層３の上に、撥水膜または親水性の防曇膜（防汚層、防汚染層）４を形成することが多い。防汚層４の一例は、光学物品（レンズ）１０の表面の撥水撥油性能を向上させる目的で、反射防止層３の上に、フッ素を含有する有機ケイ素化合物からなる層を形成したものである。フッ素を含有する有機ケイ素化合物としては、例えば、含フッ素シラン化合物を好適に使用することができる。

含フッ素シラン化合物は、有機溶剤に溶解し、所定濃度に調整した撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）として用いることが好ましい。防汚層４は、この撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を反射防止層上に塗布することにより形成することができる。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法などを用いることができる。なお、撥水処理液（防汚層形成用のコーティング組成物）を金属ペレットに充填した後、真空蒸着法などの乾式法を用いて、防汚層を形成することも可能である。

上記のような撥水撥油性を有する防汚層４は、その層厚は特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。より好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層４の層厚が薄すぎると撥水撥油効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また、防汚層４の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下する可能性がある。

２．第１の実施形態の実施例（反射防止層：７層構造）
全７層の反射防止層３を含むレンズ１０ａについて、いくつかのサンプル（実施例１〜５、比較例１〜３）を製造した。図３に、各実施例および比較例のサンプルの製造に用いる蒸着装置の一例を模式的に示している。図４および図５に、全７層の反射防止層３の各実施例および比較例のサンプルの層構造を纏めて示している。図６に、反射防止層３に含まれる低屈折率層（ＳｉＯ₂層、第３タイプの層）６３、第１タイプの高屈折率層（第１タイプの層、ＺｒＯ₂層）６１、第２タイプの高屈折率層（第２タイプの層、ＴｉＯ₂層）６２の成膜条件を纏めて示している。

２．１実施例１（サンプルＳ１）
２．１．１レンズ基材の選択およびハードコート層の成膜
レンズ基材１としては、屈折率１．６７の眼鏡用のプラスチックレンズ基材（商品名：セイコースーパーソブリン（ＳＳＶ）（セイコーエプソン（株）製））を用いた。

ハードコート層２を形成するための塗布液（コーティング液）を次のように調製した。エポキシ樹脂−シリカハイブリッド（商品名：コンポセランＥ１０２（荒川化学工業（株）製））２０重量部に、酸無水物系硬化剤（商品名：硬化剤液（Ｃ２）（荒川化学工業（株）製））４．４６重量部を混合、攪拌して、塗布液（コーティング液、コーティング溶液）を得た。このコーティング溶液を、所定の厚さになるようにスピンコーターを用いてレンズ基材１の上に塗布した。塗布後のレンズ基材１を１２５℃で２時間焼成して、シリカおよびチタニアゾルを樹脂で固めたタイプの層厚が１０００ｎｍ〜３０００ｎｍのハードコート層２を成膜した。

２．１．２反射防止層の成膜
実施例１のレンズサンプルＳ１の反射防止層３を成膜した。以降では、各々の実施例のサンプルはサンプルＳ１と呼び、第１の実施形態の各々の実施例のサンプルを総称（共通）する場合についてはサンプル１０ａと呼び、さらに、すべての実施形態のサンプルを纏めて呼ぶ場合はサンプル１０と呼ぶ。以下のようにして、反射防止層３を真空蒸着法により形成した。

２．１．２．１蒸着装置
図３に示した蒸着装置１００は図２に示した各ステップを実行でき、無機系の多層構造の反射防止層３を連続的に成膜（製造）できる。さらに、蒸着装置１００はステップ５５に示した導電処理も、層を蒸着形成する処理に連続して行うことができる。この蒸着装置１００は、電子ビーム蒸着装置であり、真空容器１１０と、排気装置１２０と、ガス供給装置１３０とを備えている。真空容器１１０は、ハードコート層２までが形成（成膜）されたレンズサンプル１０が載置されるサンプル支持台１１５と、サンプル支持台１１５にセットされたレンズサンプル１０を加熱するための基材加熱用ヒーター１１６と、熱電子を発生するフィラメント１１７とを備えている。基材加熱用ヒーター１１６は、例えば赤外線ランプであり、レンズサンプル１０を加熱することによりガス出しあるいは水分とばしを行い、レンズサンプル１０の表面に形成される層の密着性を確保する。

また、この蒸着装置１００は、低屈折率層３１の第３タイプの層６３を形成するための第３の蒸着源１１２ａを収納する収容部１１２と、高屈折率層３２の第１タイプの層６１を形成するための第１の蒸着源１１３ａおよび第２タイプの層６２を形成するための第２の蒸着源１１３ｂを収納する収容部１１３とを備えている。具体的には、収容部１１２には、第３の蒸着源１１２ａを入れるるつぼ（不図示）が用意され、収容部１１３には、２つのるつぼ、すなわち、第１タイプの層を形成するための第１の蒸着源１１３ａを入れるるつぼ（不図示）と、第２タイプの層を形成するための第２の蒸着源１１３ｂを入れるるつぼ（不図示）とが用意されている。

電子銃（不図示）により、これらるつぼにセットされたいずれかの蒸着源（金属酸化物）に熱電子１１４を照射して蒸発させ、レンズサンプル１０に各層を連続的に成膜する。本例においては、第３の蒸着源１１２ａとしてＳｉＯ₂の粒、第１の蒸着源１１３ａとしてＺｒＯ₂焼結体（タブレット）、第２の蒸着源１１３ｂとしてＴｉＯ_1.7の顆粒が用いられる（図６参照）。第２タイプの層６２１は、ＴｉＯ_1.7を蒸着源とし酸素ビームにより蒸着している。このため、ＴｉＯ₂だけでなく、非化学量論的な物質ＴｉＯ_x（０＜ｘ≦２）を含んでいてもよい。

さらに、この蒸着装置１００は、イオンアシスト蒸着を可能とするために、真空容器１１０の内部に導入したガスをイオン化して加速し、レンズサンプル１０に照射するためのイオン銃１１８を備えている。また、真空容器１１０には、残留した水分を除去するためのコールドトラップや、層厚を管理するための装置等をさらに設けることができる。層厚を管理する装置としては、例えば、反射型の光学膜厚計や水晶振動子膜厚計などがある。

真空容器１１０の内部は、排気装置１２０に含まれるターボ分子ポンプまたはクライオポンプ１２１および圧力調節バルブ１２２により、高真空、例えば１×１０^-4Ｐａに保持することができる。一方、真空容器１１０の内部は、ガス供給装置１３０により所定のガス雰囲気にすることも可能である。例えば、ガス供給装置１３０に含まれるガス容器１３１には、アルゴン（Ａｒ）、窒素（Ｎ₂）、酸素（Ｏ₂）などが用意されている。ガスの流量は、流量制御装置１３２により制御でき、真空容器１１０の内圧は、圧力計１３５により制御できる。

この蒸着装置１００における主な蒸着条件は、蒸着材料、電子銃の加速電圧および電流値、イオンアシストの有無である。イオンアシストを利用する場合の条件は、イオンの種類（真空容器１１０の雰囲気）と、イオン銃１１８の加速電圧値およびイオン電流値とにより与えられる。以下において、特に記載しない限り、電子銃の加速電圧は５〜１０ｋＶの範囲、電流値は５０〜５００ｍＡの範囲の中で、成膜レートなどをもとに選択される。また、イオンアシストを利用する場合は、イオン銃１１８が電圧値２００Ｖ〜１ｋＶの範囲、電流値が１００〜５００ｍＡの範囲で、成膜レートなどをもとに選択される。

２．１．２．２前処理
ハードコート層２が形成されたレンズサンプル１０をアセトンにて洗浄した。そして、真空容器１１０の内部にて約７０℃の加熱処理を行い、レンズサンプル１０に付着した水分を蒸発させた。次に、レンズサンプル１０の表面にイオンクリーニングを実施した。具体的には、イオン銃１１８を用いて酸素イオンビームを数百ｅＶのエネルギーでレンズサンプル１０の表面に照射し、レンズサンプル１０の表面に付着した有機物の除去を行った。この処理（方法）により、レンズサンプル１０の表面に形成する層（膜）の付着力を強固なものとすることができる。なお、酸素イオンの代わりに、不活性ガス、例えばアルゴン（Ａｒ）ガスやキセノン（Ｘｅ）ガス、あるいは、窒素（Ｎ₂）を用いて同様の処理を行ってもよい。また、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射してもよい。

２．１．２．３低屈折率層および高屈折率層の形成
真空容器１１０の内部を十分に真空排気した後、電子ビーム真空蒸着法により、低屈折率層３１および高屈折率層３２を交互に積層して反射防止層３を製造した。実施例１のレンズサンプルＳ１においては、低屈折率層３１の第１層、第３層、第５層、第７層は、第３の蒸着源１１２ａを用いて酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）層６３を形成した。また、高屈折率層３２の第２層および第６層は、第１の蒸着源１１３ａを用いて酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）層６１を形成し、第４層は、第２の蒸着源１１３ｂを用いて酸化チタン（ＴｉＯ₂）層６２を形成した（図４参照）。

図６に示すように、ＳｉＯ₂層６３は、第３の蒸着源１１２ａとしてＳｉＯ₂の粒を用い、イオンアシストは行わずに形成した。具体的には電子ビームでの加熱条件は、電圧を６ｋＶ、電流を１００ｍＡとした。この際、真空容器（チャンバー）１１０内に、アルゴンガスを５ｓｃｃｍで導入した。第１層、第３層、第５層、第７層の膜厚（層厚）は、それぞれ、２９．６ｎｍ、２０９．８ｎｍ、３４．０ｎｍ、１０１．６ｎｍとなるように管理した。

ＺｒＯ₂層６１は、第１の蒸着源１１３ａとしてタブレット状のＺｒＯ₂焼結体材料を用い、イオンアシストを行って形成した（イオンアシスト蒸着）。具体的には電子ビームでの加熱条件は、電圧を６ｋＶ、電流を２８０ｍＡとした。この際、イオンアシストとして、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスを用い、イオン加速電圧を６００Ｖ、イオンビーム電流を１５０ｍＡとして、アルゴンと酸素の混合ビームを照射した。真空容器（チャンバー）１１０内へのガスの導入は行わなかった。第２層および第６層の膜厚（層厚）は、それぞれ、９．３ｎｍ、４４．８ｎｍとなるように管理した。

ＴｉＯ₂層６２は、第２の蒸着源１１３ｂとしてＴｉＯ_1.7の顆粒を用い、イオンアシストを行って形成した（イオンアシスト蒸着）。具体的には電子ビームでの加熱条件は、電圧を６ｋＶ、電流を３２０ｍＡとした。この際、イオンアシストとして、酸素ガスを用い、イオン加速電圧を５００Ｖ、イオンビーム電流を１５０ｍＡとして、酸素ビームを照射した。さらに、このイオンアシスト蒸着は、真空容器（チャンバー）１１０内に、酸素ガスを１５ｓｃｃｍで導入しながら行った。第４層の膜厚（層厚）は、１９．１ｎｍとなるように管理した。

２．１．２．４導電処理（導電化、導電化処理）
第４層のＴｉＯ₂層６２の成膜の後、第５層（ＳｉＯ₂層）を成膜する前に、ＴｉＯ₂層６２の表面に導電処理を施した。図７に、ＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理する様子を模式的に示している。図７（ａ）は、ＳｉＯ₂層６３（実施例１では第３層の低屈折率層３１）の上にＴｉＯ₂層６２（実施例１では第４層の高屈折率層３２）を形成（成膜）した状態を示している。図７（ｂ）は、ＴｉＯ₂層６２の表面にイオンビームを照射している状態を示している。図７（ｃ）は、表面に導電処理を施したＴｉＯ₂層６２の上にＳｉＯ₂層６３（実施例１では第５層の低屈折率層３１）を成膜した状態を示している。

導電処理は、ＴｉＯ₂層６２を蒸着形成した後、蒸着装置（真空蒸着装置）１００を用い、ＴｉＯ₂層６２の表面にアルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスをイオン化させて照射した。イオン銃に導入されたガスは、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスであり、たとえば、アルゴンガス（Ａｒガス）１６．５ｓｃｃｍ、酸素ガス（Ｏ₂ガス）３．５ｓｃｃｍを含む（混合比約４．７：１）照射イオンビームのエネルギー（イオン加速電圧）は８００ｅＶ、イオンビーム電流は２００ｍＡとし、２分照射（処理）した。なお、このガスの混合比は真空度やＴｉＯ₂層６２の膜厚により決定されるもので、必ずしもこの混合比でなくても構わない。真空度が悪い場合やＴｉＯ₂層６２の膜厚が薄い場合は、欠陥密度を増やすことが必要で、アルゴンの濃度を上げることが好ましい。逆の場合は、酸素濃度を下げることが好ましい。

以上により、第１層が層厚２９．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚９．３ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０９．８ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚１９．１ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層が層厚３４．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚４４．８ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層が層厚１０１．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成された７層構造の反射防止層３を有するレンズ１０ａを製造した。図４および図５にこれらの値を纏めて示している。なお、導電処理されたＴｉＯ₂層６２にはアスタリスクを付している（以下同様）。

このサンプルＳ１の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：５４．１ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：１９．１ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：７３．２ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：２６．１％。

２．１．３防汚層の成膜
反射防止層３を形成した後のレンズサンプル１０に酸素プラズマ処理を施し、真空容器１１０内で、分子量の大きなフッ素含有有機ケイ素化合物を含む「ＫＹ−１３０」（商品名、信越化学工業（株）製）を含有させたペレット材料を蒸着源として、約５００℃で加熱し、ＫＹ−１３０を蒸発させて、反射防止層３の上（反射防止層３の最終のＳｉＯ₂層３１の上）に防汚層４を成膜した。蒸着時間は約３分間程度とした。酸素プラズマ処理を施すことにより最終のＳｉＯ₂層３１の表面にシラノール基を生成できるので、反射防止層３と防汚層４との化学的密着性（化学結合）を高めることができる。

蒸着終了後、真空蒸着装置１００からレンズサンプル１０を取り出し、反転して再び投入し、上記の２．１．２．２〜２．１．２．４および２．１．３の工程を同じ手順で繰り返し、反射防止層３の成膜、および防汚層４の成膜を行った。その後、レンズサンプル１０を真空蒸着装置１００から取り出した。これにより、レンズ基材１の両面に、ハードコート層２、反射防止層３、および防汚層４が形成された、実施例１のレンズサンプルＳ１が得られた。

２．２実施例２（サンプルＳ２）
実施例１のサンプルＳ１と同様にして、実施例２のサンプルＳ２を製造した。ただし、実施例２のサンプルＳ２においては、反射防止層３の高屈折率層３２の第２層および第４層をＺｒＯ₂層６１とし、第６層をＴｉＯ₂層とした。また、第６層のＴｉＯ₂層の表面に導電処理を施した。

実施例２のサンプルＳ２の反射防止層３は、第１層が層厚２９．５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚９．８ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０８．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚４０．０ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層が層厚２９．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚２６．１ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第７層が層厚１０１．５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＳ２の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：４９．８ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：２６．１ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：７５．９ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：３４．４％。

２．３実施例３（サンプルＳ３）
実施例１のサンプルＳ１と同様にして、実施例３のサンプルＳ３を製造した。ただし、実施例３のサンプルＳ３においては、反射防止層３の高屈折率層３２の第６層をＺｒＯ₂層６１とし、第２層および第４層をＴｉＯ₂層とした。また、第４層のＴｉＯ₂層の表面に導電処理を施した。

実施例３のサンプルＳ３の反射防止層３は、第１層が層厚２７．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚５．４ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０１．４ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚１９．２ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層が層厚３２．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚４５．６ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層が層厚１００．１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＳ３の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：４５．６ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：２４．６ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：７０．２ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：３５．０％。

２．４実施例４（サンプルＳ４）
実施例１のサンプルＳ１と同様にして、実施例４のサンプルＳ４を製造した。ただし、実施例４のサンプルＳ４においては、反射防止層３の高屈折率層３２の第４層をＺｒＯ₂層６１、第２層および第６層をＴｉＯ₂層６２とした。そして、第６層のＴｉＯ₂層６２の表面に導電処理を施した。

実施例４のサンプルＳ４の反射防止層３は、第１層が層厚２８．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚５．４ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０２．８ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚３５．４ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層が層厚３３．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚２４．２ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第７層が層厚１０２．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＳ４の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：３５．４ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：２９．６ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：６５．０ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：４５．５％。

２．５実施例５（サンプルＳ５）
実施例１のサンプルＳ１と同様にして、実施例５のサンプルＳ５を製造した。ただし、実施例５のサンプルＳ５においては、反射防止層３の高屈折率層３２の第２層をＺｒＯ₂層６１とし、第４層および第６層をＴｉＯ₂層６２とした。第６層のＴｉＯ₂層の表面に導電処理を施した。

実施例５のサンプルＳ５の反射防止層３は、第１層が層厚２９．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚９．６ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０９．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚２１．０ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層が層厚４２．８ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚２３．７ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第７層が層厚１０６．１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＳ５の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：９．６ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：４４．７ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：５４．３ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：８２．３％。

２．６比較例１（サンプルＲ１）
上記の実施例１〜５により得られたサンプルと比較するために、実施例１のサンプルＳ１と同様にして比較例１のサンプルＲ１を製造した。ただし、比較例１のサンプルＲ１においては、反射防止層３の高屈折率層３２の全て（第２層、第４層、第６層）をＺｒＯ₂層６１とした。

比較例１のサンプルＲ１の反射防止層３は、第１層が層厚３３．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚９．０ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層が層厚２２０．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚３２．０ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層が層厚２９．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚４４．０ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層が層厚１００．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＲ１の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：８５．０ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：０．０ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：８５．０ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：０．０％。

２．７比較例２（サンプルＲ２）
比較例１のサンプルＲ１と同様に比較例２のサンプルＲ２を製造した。ただし、比較例２のサンプルＲ２においては、高屈折率層３２の第２層がＴｉＯ₂層６２、第４層および第６層をＺｒＯ₂層６１とし、第２層のＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理した。

比較例２のサンプルＲ２の反射防止層３は、第１層が層厚２８．８５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚５ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層が層厚２０３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚３５．５８ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層が層厚２２．４１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚４９．３４ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層が層厚９６．２５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＲ２の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：８４．９ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：５．０ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：８９．９ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：５．６％。

２．８比較例３（サンプルＲ３）
比較例１のサンプルＲ１と同様に比較例３のサンプルＲ３を製造した。ただし、比較例３のサンプルＲ３においては、反射防止層３の高屈折率層３２の全て（第２層、第４層、第６層）をＴｉＯ₂層６２とした。また、第６層のＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理した。

比較例３のサンプルＲ３の反射防止層３は、第１層が層厚３１．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層が層厚６．０ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層が層厚２１５．４ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層が層厚２３．２ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層が層厚３７．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層が層厚２６．９ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第７層が層厚１０３．８ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成されている。

このサンプルＲ３の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：０．０ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：５６．１ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：５６．１ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：１００．０％。

３．第２の実施形態
図８に、本発明の第２の実施形態のレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ（光学物品）１０（１０ｂ）は、レンズ基材（光学基材）１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性で多層構造の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。ただし、反射防止層３は５層（ｎ＝２）であり、第１層、第３層、第５層が低屈折率層３１、第２層、第４層が高屈折率層３２である。他の構成は、第１の実施形態と同様であるため、図面に同符号を付して説明を省略する。

全５層の反射防止層３を含むレンズ１０ｂについて、いくつかのサンプル（実施例６〜７、比較例４〜５）を製造した。図９に、全５層の反射防止層３の各実施例および比較例のサンプルの層構造を纏めて示している。

３．１実施例６（サンプルＳ６）
実施例１のサンプルＳ１と同様に実施例６のサンプルＳ６を製造した。ただし、実施例６のサンプルＳ６の反射防止層３は５層であり、高屈折率層３２の第２層をＺｒＯ₂層６１、第４層をＴｉＯ₂層６２により構成した。すなわち、このサンプルＳ６の反射防止層３は、第１層を層厚１６４．１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚３２．３ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層を層厚３４．４ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚２２．１ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層を層厚９８．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＳ６の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：３２．３ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：２２．１ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：５４．４ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：４０．６％。

３．２実施例７（サンプルＳ７）
実施例６のサンプルＳ６と同様に実施例７のサンプルＳ７を製造した。ただし、実施例７のサンプルＳ７においては、高屈折率層３２の第４層をＺｒＯ₂層６１、第２層をＴｉＯ₂層６２により構成した。すなわち、このサンプルＳ７の反射防止層３は、第１層を層厚１６１．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚１７．４ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層を層厚３３．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚４１．４ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚９７．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＳ７の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：４１．４ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：１７．４ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：５８．８ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：４０．０％。

３．３比較例４（サンプルＲ４）
上記の実施例６〜７により得られたサンプルと比較するために、実施例６のサンプルＳ６と同様に比較例４のサンプルＲ４を製造した。ただし、比較例４のサンプルＲ４においては、高屈折率層３２の全て（第２層および第４層）をＺｒＯ₂層６１とした。すなわち、このサンプルＲ４の反射防止層３は、第１層を層厚１５９．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚３１．６ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層を層厚２５．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚４２．７ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚９１．８ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＲ４の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：７４．３ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：０．０ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：７４．３ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：０．０％。

３．４比較例５（サンプルＲ５）
比較例４と同様に比較例５のサンプルＲ５を製造した。ただし、比較例５のサンプルＲ５においては高屈折率層３２の全て（第２層および第４層）をＴｉＯ₂層６２とした。また、第４層のＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理した。すなわち、サンプルＲ５の反射防止層３は、第１層を層厚１６６．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚１８．７ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層を層厚４１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を表面が導電処理された層厚２２．９ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層を層厚１０２．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＲ５の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：０．０ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：４１．５ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：４１．５ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：１００．０％。

４．第３の実施形態
図１０に、本発明の第３の実施形態のレンズの構成を、基材を中心とした一方の面の側の断面図により示している。レンズ（光学物品）１０（１０ｃ）は、レンズ基材（光学基材）１と、レンズ基材１の表面に形成されたハードコート層２と、ハードコート層２の上に形成された透光性で多層構造の反射防止層３と、反射防止層３の上に形成された防汚層４とを含む。ただし、反射防止層は９層（ｎ＝４）であり、第１層、第３層、第５層、第７層、第９層が低屈折率層３１、第２層、第４層、第６層、第８層が高屈折率層３２である。高屈折率層３２の第２層、第４層、第６層、第８層の少なくとも１層がＺｒＯ₂層６１であり、その他の層がＴｉＯ₂層６２である。他の構成は、第１の実施形態と同様であるため、図面に同符号を付して説明を省略する。

全９層の反射防止層３を含むレンズ１０ｃについて、いくつかのサンプル（実施例８〜９、比較例４〜５）を製造した。図１１に、全９層の反射防止層３の各実施例および比較例のサンプルの層構造を纏めて示している。

４．１実施例８（サンプルＳ８）
実施例１のサンプルＳ１と同様に実施例８のサンプルＳ８を製造した。ただし、実施例８のサンプルＳ８の反射防止層３は９層であり、高屈折率層３２の第８層をＺｒＯ₂層６１、第２層、第４層および第６層をＴｉＯ₂層６２で構成し、第６層のＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理した。すなわち、サンプルＳ８の反射防止層３は、第１層を層厚２０．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚８．３ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層を層厚５７．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚７．９ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第５層を層厚２１３．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層を層厚２０．３ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第７層を層厚３０．２ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第８層を層厚４８．４ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第９層を層厚９８．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＳ８の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：４８．４ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：３６．５ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：８４．９ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：４３．０％。

４．２実施例９（サンプルＳ９）
実施例８のサンプルＳ８と同様に実施例９のサンプルＳ９を製造した。ただし、高屈折率層３２の第４層および第６層をＺｒＯ₂層６１、第２層および第８層をＴｉＯ₂層６２で構成し、第２層のＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理した。すなわち、サンプルＳ９の反射防止層３は、第１層を層厚２０．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚８．３ｎｍであって表面が導電処理されたＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層を層厚５８．０ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚１２．９ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚２１６．５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層を層厚３７．９ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層を層厚３１．５ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第８層を層厚２５．０ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第９層を層厚１０１．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＳ９の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：５０．９ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：３３．３ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：８４．２ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：３９．６％。

４．３比較例６（サンプルＲ６）
上記の実施例８〜９により得られたサンプルと比較するために、実施例８と同様に比較例６のサンプルＲ６を製造した。ただし、比較例６のサンプルＲ６においては、高屈折率層３２の第４層、第６層、８層をＺｒＯ₂層６１とし、第２層をＴｉＯ₂層６２として導電処理した。すなわち、サンプルＲ６の反射防止層３は、第１層を層厚１３．１ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を導電処理された層厚６．７ｎｍのＴｉＯ₂層６２（高屈折率層３２）、第３層を層厚５１．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚１１．７ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚２０７．２ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層を層厚３６．９ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層を層厚１９．６ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第８層を層厚５１．６ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第９層を層厚９４．３ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＲ６の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：１００．２ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：６．７ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：１０６．９ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：６．３％。

４．４比較例７（サンプルＲ７）
比較例７と同様に比較例７のサンプルＲ７を製造した。ただし、高屈折率層３２の全て（第２層、第４層、第６層、第８層）をＺｒＯ₂層６１とした。すなわち、サンプルＲ７の反射防止層３は、第１層を層厚２７．７ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚１３．１ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第３層を層厚６２．４ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚１０．４ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚２１７．２ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第６層を層厚３５．８ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第７層を層厚２１．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）、第８層を層厚５０．０ｎｍのＺｒＯ₂層６１（高屈折率層３２）、第９層を層厚９５．９ｎｍのＳｉＯ₂層６３（低屈折率層３１）により構成した。

このサンプルＲ７の膜厚の各値は以下の通りである。
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚Ｔ１Ｔ：１０９．４ｎｍ
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔ：０．０ｎｍ
高屈折率層の各層の層厚の合計（総膜厚）ＴＴ：１０９．４ｎｍ
高屈折率層の総膜厚ＴＴに占めるＴｉＯ₂層の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐ：０．０％。

５．膜の光学定数
図１２に、ＳｉＯ₂層６３、ＺｒＯ₂層６１およびＴｉＯ₂層６２の光学定数を示している。図１２（ａ）は、波長と屈折率との関係を示しており、図１２（ｂ）は、波長と消衰係数との関係を示している。

図１２（ａ）および（ｂ）に示すように、波長が４００ｎｍ以下の領域（近紫外線の波長領域）の光においては、ＴｉＯ₂層６２、ＺｒＯ₂層６１、ＳｉＯ₂層６３の順番で、屈折率および減衰係数が大きいことが分かる。中でも、ＴｉＯ₂層６２は、可視光のうち、近紫外線領域の光を反射および吸収しやすく、紫外線領域においても同様の傾向を示す。したがって、ＴｉＯ₂層６２を高屈折率層３２として採用することによりハードコート層２の紫外線による劣化を抑制することができる。

すなわち、ハードコート層２は、典型的には、シリカ（二酸化ケイ素、ＳｉＯ₂）ゾル、チタニア（二酸化チタン、ＴｉＯ₂）ゾルなどを樹脂（有機系のバインダー）で固めたものであり、数千ｎｍ程度の層厚を有する。チタニアは光活性材料であり、光触媒効果により有機物を分解する作用がある。これにより、ハードコート層２に含まれる有機系のバインダー成分が分解される。すなわち、有機系のバインダーのＣ−Ｃ結合が切断されると、ハードコート層２の剥離の原因となる。また、紫外線は、有機系のバインダーのＣ−Ｃ結合を直接的に分解する作用もある。したがって、ＴｉＯ₂層６２はＺｒＯ₂層６１に比較してハードコート層２に届く紫外線量を減らすという機能を備えている。さらに、ＴｉＯ₂層６２は表面を導電処理しやすいという利点を備えている。

その一方、ＺｒＯ₂層６１と比較するとＴｉＯ₂層６２は水分の透過性が低い。このため、レンズ１０として良好な耐水性を得ることが難しい。すなわち、膜の水分の透過性が低いと、光学物品のむくみなどの要因となるので、耐水性という点ではＴｉＯ₂層６２は使用しにくい。

さらに、ハードコート層２は、上述のように、一般にチタニアゾルを含んでいるが、このハードコート層２に含まれるチタニアは、紫外線（ＵＶ）により酸素欠損を含むＴｉＯ_xとなり、青く変色するという問題がある。このハードコート層２の変色に対しては、チタニアの周囲に水分が存在すると、ＴｉＯ_xの生成が抑えられ、変色も抑制できることが経験的に知られている。ＴｉＯ₂層６２は近紫外線領域および紫外線領域の透過率が比較的低いという点で変色を抑制できる。しかしながら、ＴｉＯ₂層６２は水分の透過性も比較的低いためハードコート層２に水分を十分に供給できず、ＴｉＯ₂層６２ではハードコート層２が変色する問題を解決することができない。

６．サンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７の評価
上記により製造されたサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７について、防傷性、紫外線による劣化、反射防止特性、耐熱性、耐水性、紫外線によるハードコート層の変色、帯電防止性能を評価した。各項目の評価方法を以下に記載する。

６．１防傷性
これらのサンプルを代表し、７層構造の反射防止層を含むサンプル、すなわち、レンズサンプルＳ１〜Ｓ５およびＲ１〜Ｒ３について防傷性をベイヤー試験にて評価した。

ベイヤー試験機（COLTS Laboratories社製）を用い、レンズサンプルＳ１〜Ｓ５およびＲ１〜Ｒ３と、標準レンズ（（株）サンルックス社製、ＣＲ３９（ノンコート））とを、５００ｇのメディアで６００回往復させて、同時に傷をつけた。これは、COLTS Laboratories社の指定する標準条件である。その傷をつけたサンプルのヘーズ値Ｈを試験機（スガ試験機（株）製、自動ヘーズコンピュータ）を使用して測定し、以下に示す算出式（３）によりベイヤー値ＶＲを求めた。

ＶＲ＝{Ｈst（試験後）−Ｈst（試験前）}／{Ｈsa（試験後）−Ｈsa（試験前）}
・・・（３）
なお、式中の記号は、ＶＲ：ベイヤー値、Ｈ：ヘーズ値、ＳＴ：標準レンズ、ＳＡ：レンズサンプルを示している。さらに、上記で求めた各サンプルのベイヤー値ＶＲを、サンプルＲ１のベイヤー値ＶＲ１により規格化して、規格化されたベイヤー値ＶＲＮにより防傷性を評価した。サンプルＲ１の規格化されたベイヤー値（以降ではベイヤー比）ＶＲＮが１．００となる。

図１３に測定されたベイヤー値ＶＲと、ベイヤー比（規格化したベイヤー値）ＶＲＮとを示している。図１４に、高屈折率層３２の総膜厚中ＴＴに占めるＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐに対するベイヤー比ＶＲＮの関係を示している。ベイヤー値ＶＲは標準レンズに対する耐擦傷性を示しており、いずれのサンプルＳ１〜Ｓ５およびＲ１〜Ｒ３においても標準レンズよりも高い耐擦傷性を示した。しかしながら、これらのサンプルの中で比較例１のサンプルＲ１の耐擦傷性が最も低く、実施例２のサンプルＳ２の耐擦傷性が最も高いという結果が得られた。

さらに、本願の発明者らの実験により、図１４に示すように、ベイヤー比ＶＲＮは、高屈折率層３２の総膜厚中ＴＴに占めるＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔの割合Ｐに対して比例（線形に変化）しないことが見出された。すなわち、ＺｒＯ₂層６１が１００％の比較例１のサンプルＲ１およびＴｉＯ₂層６２が１００％の比較例３のサンプルＲ３に対して、実施例１〜５のサンプルＳ１〜Ｓ５は高いベイヤー比を示し、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることで耐擦傷性が向上することが分かった。ＺｒＯ₂層６１に対しＴｉＯ₂層６２の方が耐擦傷性は高いが、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることで耐擦傷性が向上することが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用せずに、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより耐擦傷性が向上することが分かった。

割合Ｐが５．６％の比較例２のサンプルＲ２のベイヤー比は、割合Ｐが１００％のサンプルＲ３とほぼ同じであることから、割合Ｐは以下の範囲が好ましいことが分かる。
１５％≦Ｐ≦９０％・・・（１）

割合Ｐがこの範囲であれば、ＺｒＯ₂層６１が１００％の比較例１のサンプルＲ１に対してベイヤー比がほぼ１．４以上の耐擦傷性を備えたレンズ１０を得ることができる。さらに、図１４より、割合Ｐは以下の範囲がさらに好ましいことが分かる。
２０％≦Ｐ≦６０％・・・（２）

割合Ｐがこの範囲であれば、ＺｒＯ₂層６１が１００％の比較例１のサンプルＲ１に対してベイヤー比がほぼ１．５以上の耐擦傷性を備えたレンズ１０を得ることができる。

図１５にＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔに対するベイヤー比ＶＲＮを示している。本図に示すように、ベイヤー比ＶＲＮはＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔに対して線形に変化せず、ＴｉＯ₂層６２の総膜厚Ｔ２Ｔが１５ｎｍ〜４５ｎｍ程度のときに比較例１のサンプルＲ１のベイヤー比ＶＲＮに対して約１．４以上の耐擦傷性（防傷性）を備えたレンズ１０を提供できることが分かった。

６．２紫外線による劣化（紫外線耐性）
レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、紫外線による劣化の程度（紫外線耐性、耐久性）を評価した。紫外線による劣化は、以下のようにして評価した。レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７を５０℃に加熱しながら、結露環境下で、ＵＶ−Ａランプを５時間照射した。これを繰り返し８サイクル行った。装置はQ-Panel Lab Products Weathering Tester装置、ランプはＵＶＡ−３４０を用いた。

評価基準は以下の通りである。
◎：ハードコート層の剥離が全く無いもの
○：若干のハードコート層の剥離が確認できるが眼鏡レンズとして問題のない程度（許容できる程度）
×：剥離がひどく、ＵＶ耐久性に劣るもの

また、レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、反射防止層３の透過率を計算し、紫外線から近紫外線領域の光（３１５ｎｍ〜３８０ｎｍ）の透過率の平均値（平均透過率）を求めた。

図１６ないし図１８に各サンプルの評価結果と、平均透過率とを示している。また、図１９に各サンプルの波長に対する透過率の計算結果を示している。

眼鏡レンズ１０は、レンズ基材１の上にハードコート（ＨＣ）層２が形成されており、防傷性を向上させるとともに、反射防止層の密着性を向上させている。ハードコート層２は、上述のように、シリカ、チタニアの粒子（シリカ、チタニアのゾル）を樹脂（有機系のバインダー）により固めたものである。したがって、ハードコート層２には有機物（樹脂）が存在し、この有機物は紫外線、特に、ＵＶ−Ａ（波長：３１５ｎｍ〜３８０ｎｍ）によって劣化する可能性があり、反射防止層３によりＵＶ−Ａの透過を抑制できればハードコート層２および反射防止層３の剥離を抑制でき、耐久性の高い眼鏡レンズ１０を提供できる。

図１６ないし図１８に示すように、実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９は、評価結果が○または◎でありハードコート層２の剥離が認められないか、ほとんど認められない程度であった。したがって、実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９は良好な紫外線耐性を有することがわかった。また、高屈折率層３が全てＴｉＯ₂層６２である比較例のサンプルＲ３およびＲ５の評価結果が◎であった。一方、高屈折率層３が全てＺｒＯ₂層６１、または、ＴｉＯ₂層６２を含んでいても割合Ｐが１０％に満たない比較例のサンプルＲ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７は、いずれも、評価結果が×であり、紫外線耐性が低いことがわかった。したがって、上記の条件（１）を満足することにより、防傷性に加え、良好な紫外線耐性を有するレンズ１０を提供できることがわかった。

この評価結果は、図１９に示した透過率および図１６ないし図１８に示したＵＶ−Ａの平均透過率との相関があると考えられ、ＵＶ−Ａの平均透過率が６０％程度より低いことが好ましいことが分かる。

このように、ＺｒＯ₂層６１に対しＴｉＯ₂層６２の方がＵＶ−Ａの平均透過率が低く、良好な紫外線耐性を示すが、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせても良好な紫外線耐性を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な紫外線耐性を備えたレンズ１０を提供できることが分かった。

６．３反射防止性
反射防止性（反射防止特性）を評価するために、レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、反射率を測定した。これを用いて、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の平均値を求めた。

評価基準は以下の通りである。
◎：可視光領域の反射率の平均値が０．５％未満
○：可視光領域の反射率の平均値が０．５％以上１％未満
×：可視光領域の反射率の平均値が１％以上

眼鏡レンズ１０においては、可視光領域全般（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）での低反射が要求され、反射防止層３はこの条件を満足することが要求される。また、美観的に、波長５１０ｎｍ付近で１％程度の反射率を持たせて、緑色の干渉色を持たせるのが好ましい。

図１６ないし図１８に評価結果を示し、図２０に、実施例１〜９のサンプルＳ１〜Ｓ９および比較例１〜７のサンプルＲ１〜Ｒ７について反射分光特性の計算結果を示している。また、図１６ないし図１８に可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の平均値を評価結果と共に示している。

実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９の平均反射率は全て１％未満で評価結果が○または◎であった。また、いずれのサンプルＳ１〜Ｓ９も、波長５１０ｎｍ付近で１％〜１．５％程度の反射率を有し、緑色の干渉色を有していることがわかった。したがって、良好な防傷性および紫外線耐性に加え、良好な反射防止性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることがわかった。また、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせても良好な反射防止性を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることが確認された。したがって、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な反射防止性を備えたレンズ１０を提供できることが分かった。

６．４耐熱性
プラスチック眼鏡レンズ用の反射防止層は、熱によりクラックが生じる。このため、レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、耐熱性、すなわち、クラックの発生のしがたさを評価した。耐熱性は、６０℃の高湿下（結露した状態）で長時間（１６０時間）放置し、反射防止層３のクラックの発生状態にて評価した。

評価基準は以下の通りである。
○：クラックが全く発生していない
△：数本のクラックが発生している
×：多数のクラックが発生している

図１６ないし図１８に評価結果を示している。実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９はいずれも、評価結果が○であり、良好な耐熱性を有することがわかった。また、高屈折率層が全てＴｉＯ₂層６２である比較例のサンプルＲ３およびＲ５もまた、評価結果が○であり、良好な耐熱性を有する。しかしながら、高屈折率層が全てＺｒＯ₂層６１である、または、ＴｉＯ₂層６２を含んでいても割合Ｐが１０％に満たない比較例のサンプルＲ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７は、いずれも、評価結果が×または△であり、耐熱性が低いことがわかった。したがって、上記の条件（１）を満足することにより、良好な防傷性、紫外線耐性および反射防止性に加え、良好な耐熱性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることがわかった。

クラックが発生する要因として、プラスチック眼鏡レンズ基材１と反射防止層３を形成する材料の線膨張係数の差が２桁程度あり、レンズ基材１の線膨張に反射防止層３が耐えられずクラックが発生することが挙げられている（特開２００９−２１７０１８参照）。反射防止層３に適当な圧縮応力を与えることにより、耐熱性を高めることができると考えられており、多層膜構造の反射防止層３においては、多層膜中の各材料の成分比を求め、それぞれの成分比に単層膜の応力をかけ、その後、これらの値を足し合わせることにより、多層膜全体（反射防止層３全体）の応力を算出することができる。

図２１に、真空蒸着法により形成される反射防止層３の各層の膜応力の典型的な値を示している。多層膜の反射防止層３の応力は、以下の式（４）により求めることができる。図１６ないし図１８に、各サンプルの反射防止層３について計算した応力の値を示している。この係数は各材料の単層膜の応力を実験より求めたものである。

多層膜の反射防止層３の応力＝
ＳｉＯ₂層６３の総膜厚の比率×（−１３８．８）＋
ＺｒＯ₂層６１の総膜厚の比率×８７．７＋
ＴｉＯ₂層６２の総膜厚の比率×１１０．２・・・（４）
ここで
ＳｉＯ₂層の総膜厚の比率＝ＳｉＯ₂層６３の各層の膜厚の合計（総膜厚）／
反射防止層３のトータルの膜厚・・・（４−１）
ＺｒＯ₂層の総膜厚の比率＝ＺｒＯ₂層６１の各層の膜厚の合計（総膜厚）Ｔ１Ｔ／
反射防止層３のトータルの膜厚・・・（４−２）
ＴｉＯ₂層の総膜厚の比率＝ＴｉＯ₂層６２の各層の膜厚の合計（総膜厚）Ｔ２Ｔ／
反射防止層３のトータルの膜厚・・・（４−３）
である。

図１６ないし図１８に示した反射防止層３の応力とクラック発生の評価結果との相関をみると、反射防止層３の応力が−９８ＭＰａ以下（圧縮応力が９８ＭＰａ以下）程度であれば、クラックが発生しがたく、耐熱性の高い反射防止層３およびそれを備えたレンズ１０を提供できることが分かる。ＺｒＯ₂層６１（波長５５０ｎｍにおける屈折率２．０５）を採用した反射防止層に対し、屈折率の高いＴｉＯ₂層６２（波長５５０ｎｍにおける屈折率２．４３１）を採用した反射防止層の方が、耐熱性が高いとの評価が一般的である。しかしながら、上記の結果により、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることにより良好な耐熱性を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な耐熱性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることが分かった。

６．５耐水性（耐湿性、むくみ）
耐水性（耐湿性）は、恒温恒湿度環境試験を行うことにより評価した。具体的には、作製した各サンプルレンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７を恒温恒湿度環境（６０℃、９８％ＲＨ）で８日間放置し、表面または裏面の表面反射光を観察し、耐水性（むくみ）を評価した。

具体的には、各サンプルの凸面における蛍光灯の反射光を観察した。蛍光灯の反射光の像の輪郭がくっきりと明瞭に観察できる場合は「◎（むくみの発生なし）」と判定した。また、蛍光灯の反射光の像の輪郭が多少ぼやけているまたはかすれて観察される場合は「○（多少のむくみの発生はあるが許容できるレベル）」と判定した。さらに、蛍光灯の反射光の像の輪郭が許容できない程度にぼやけているまたはかすれて観察される場合は「×（むくみが許容できないレベル）」と判定した。

図１６ないし図１８に評価結果を示している。実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９はいずれも、評価結果が○または◎であり、良好な耐水性を有することがわかった。むくみは、反射防止層３の水分の透過性が低い場合に発生する。すなわち、むくみの発生は、反射防止層３を構成する膜材料に起因するところが大きい。経験的に、ＺｒＯ₂層を含む反射防止層はむくみが無いまたは少ない（比較例１、２、４、７を参照）が、ＴｉＯ₂層、Ｔａ₂Ｏ₅層、ＩＴＯ層を含む反射防止層はむくみが発生しやすい（比較例３を参照）。特に、イオンアシスト蒸着を行い、緻密な層を意図的に形成した場合には、むくみの発生が顕著に起こる。これは、緻密な層では水分の透過性がさらに低下し、その層の下に水分が閉じ込められるためであると考えられている。また、むくみが発生する環境では、ハードコート層２と反射防止層３との界面付近にも水分が多くなる（水分が閉じ込められてしまう）。このため、反射防止層３などの剥離が起こり易くなるという問題がある。

しかしながら、上記の結果により、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることにより良好な耐水性を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な耐水性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることが分かった。したがって、良好な防傷性、紫外線耐性、反射防止性および耐熱性に加え、良好な耐水性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることがわかった。

さらに、上記の評価結果より、ＴｉＯ₂層６２の割合Ｐを９０％以下とすること、および／または、ＴｉＯ₂層６２の総膜厚（膜厚の総和）Ｔ２Ｔを４５ｎｍ以下とすることにより、高屈折率層３２としてＴｉＯ₂層６２を用いても、むくみの発生を抑制できることがわかった。

６．６紫外線によるハードコート層の変色防止性
これを鑑み、レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、スガ試験株式会社製キセノンウエザーメーターにて７５Ｗ/ｍ^２の照度で２０時間試験し、ハードコート層２の変色を評価した。評価基準は以下の通りである。
◎：ハードコート層の変色が発生していない
○：多少のハードコート層の変色はあるが許容できるレベル
×：ハードコート層の変色が許容できないレベル

図１６ないし図１８に評価結果を示す。実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９はいずれも、評価結果が○または◎であり、ハードコート層２の変色が良好に抑制されていることがわかった。しかしながら、高屈折率層が全てＴｉＯ₂層である比較例のサンプルＲ３は、評価結果が×であり、ハードコート層２が変色し易いことがわかった。

紫外線（ＵＶ）によりハードコート層（ＨＣ）２が変色することが報告されている。紫外線および近紫外線の透過性については、上記６．２において、ＺｒＯ₂層６１に対しＴｉＯ₂層６２の方がＵＶ−Ａの平均透過率が低く、良好な紫外線耐性を示すとともに、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせても良好な紫外線耐性を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることを説明した。したがって、高屈折率層が全てＴｉＯ₂層である比較例のサンプルＲ３はＵＶ−Ａの透過率が低いので、紫外線によるハードコート層２の変色を防止できると予測されるが、実際の評価結果は×であった。

したがって、上記の結果により、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることにより良好な変色防止性（変色抑制性）を示す反射防止層３およびレンズ１０が得られることが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な変色防止性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることが分かった。したがって、良好な防傷性、紫外線耐性、反射防止性、耐熱性および耐水性に加え、良好な変色防止性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることがわかった。

ハードコート層２の変色については次のようなメカニズムが考えられる。ハードコート層２を形成するための材料には、チタニア微粒子（チタニアゾル）が用いられる。ここで用いられるチタニアとしては、アナターゼ型やルチル型が一般的である。ところで、アナターゼ型およびルチル型のバンドキャップは、それぞれ、３．０ｅＶおよび３．２ｅＶである。したがって、４００ｎｍ以下の波長の光、すなわち、紫外線がチタニアに吸収され、青く見えると予想される。

図２２は、石英基板の場合と、石英基板上にハードコート層２を形成した場合の、波長と透過率との関係（分光透過率）を示している。石英基板上に形成されたハードコート層２においては、４００ｎｍ以下で光吸収が発生し、透過率が減少する。この紫外線によって、ハードコート層中のチタニアは変色することがある。ハードコート層中のチタニアは、青色や灰色に見えることが多い。そして、可視光領域全般にわたって２％〜４％程度の光吸収を生じさせ、上述のような色に見える。

チタニアの変色は、チタニア（ＴｉＯ₂）に酸素欠損が生成されることが原因であると考えられている。チタニア（ＴｉＯ₂）に酸素欠損が生成されると、その吸収端が可視光側にシフトし、可視光活性が発現するため着色する。また、酸素欠損の度合いは、ＴｉＯ₂中のＯ／Ｔｉの値（Ｏ／Ｔｉモル比）の低下で表される。

図２３は、Ｏ／Ｔｉモル比が互いに異なる複数の酸素欠損型ルチル型ＴｉＯ₂の色を示している。図２３に示すように、Ｏ／Ｔｉモル比が低下すると、色が黄色（淡黄色）から青黒色に変化することが報告されている（平成１９年６月２２日財団法人かがわ産業支援財団地域共同研究施設における発表「高性能可視光型二酸化チタン光触媒の新しい製造方法の開発」（発表者株式会社カナック陳再華、高温高圧流体技術研究所湯衛平）参照）。

眼鏡レンズにおいてもハードコート層２に紫外線による変色が発生するがチタニアの周囲に水分が存在すると、変色しないあるいは変色し難いことが経験的にわかっている。変色は、紫外線によってハードコート層２に酸素欠損が発生するためであると考えられ、チタニアの周囲に水分が存在すると、チタニアにおける酸素欠損の発生が抑えられ、変色しないあるいは変色し難いと考えられている。したがって、眼鏡レンズの場合は、ハードコート層２の上に、十分な透水性があり、さらに、紫外線を透過しにくい反射防止層３が形成できれば変色を抑制できる。しかしながら、ＴｉＯ₂層６２は紫外線の透過性を抑制できるが透水性が低く、ＺｒＯ₂層６１は透水性があっても紫外線の吸収性が低い。

これに対し、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることにより、紫外線の透過性が低く、良好な透水性を備えた、ハードコート層２の変色を抑制できる反射防止層３が提供できることが分かった。

６．７帯電防止性能
レンズサンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７のそれぞれについて、帯電防止性を評価した。評価基準は以下の通りである。
○：帯電防止に容易に適応
×：帯電防止に適応しにくい

本願の発明者らの研究により、ＴｉＯ₂層を含んでいれば、その表面を導電処理することが可能であり、表面抵抗を下げることができることが分かっている。したがって、図１６ないし図１８に示すように、実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９はいずれも、帯電防止に容易に適応でき（帯電防止性能を容易に付与でき）、評価結果が○である。

したがって、上記の結果により、ＺｒＯ₂層６１とＴｉＯ₂層６２とを組み合わせることにより良好な帯電防止性（帯電防止機能）を備えた反射防止層３およびレンズ１０が得られることが分かった。さらに、ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の成分を混ぜたり、１つの高屈折率層をＺｒＯ₂とＴｉＯ₂とのハイブリッドにするなどの複雑な成分系を採用しなくても、複数の高屈折率層のある層をＺｒＯ₂層６１とし、他の層をＴｉＯ₂層６２とすることにより良好な帯電防止性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることが分かった。したがって、良好な防傷性、紫外線耐性、反射防止性、耐熱性、耐水性および変色防止性に加え、良好な帯電防止性を備えた反射防止層３およびレンズ１０を提供できることがわかった。

眼鏡レンズにおいて、当該レンズの表面電気抵抗を１×１０¹¹Ω以下にすることが帯電防止性能を得るために重要である。従来は、表面電気抵抗を下げるために、反射防止層にＩＴＯを含める構成が用いられている。反射防止層にＩＴＯ層を含める場合、高屈折率層としてＩＴＯ層を用いる、あるいは、高屈折率層と低屈折率層の間にＩＴＯ層を形成する、などといったことが行われている。しかしながら、インジウム（Ｉｎ）の価格高騰、資源枯渇性、あるいは酸に対する耐久性などの問題から、ＩＴＯを使用しない眼鏡レンズが求められている。

また、高屈折率層と低屈折率層の間にＩＴＯ層を挟んだ場合、系が複雑になり、従来の多層膜の反射防止層に１層加えたことになるため、工程時間の増加が発生するという問題もある。さらには、ＩＴＯ層は水分透過性が低く、むくみが発生しやすい。このため、反射防止層にＩＴＯ層を含ませると、むくみが発生したり、ハードコート層を変色させるおそれがある。これに対し、本例のレンズ１０においては、ＴｉＯ₂層６２の表面を導電処理することにより帯電防止性を付与できる。したがって、ＩＴＯを省くことができ、また、ＩＴＯを含めた膜設計を新たに行わなくても済むという利点がある。

７．サンプルＳ１〜Ｓ９およびＲ１〜Ｒ７の総合的な評価
以上の結果より、実施例のサンプルＳ１〜Ｓ９は、いすれも、良好な防傷性、紫外線耐性、反射防止性、耐熱性、耐水性、変色防止性および帯電防止性を備えている。なかでも、実施例２のサンプルＳ２は、防傷性、耐水性、紫外線によるハードコート層の変色のし難さなどの点が他の実施例のサンプルと比べても優れている。したがって、実施例２のサンプルＳ２は、これらの実施例のサンプルの中でも特に良好なサンプルであるといえる。

したがって、本実施形態のレンズ１０（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）は、反射防止特性、耐熱性、耐水性、帯電防止性能および電磁遮蔽性能が良好であって、紫外線により劣化し難く、ハードコート層の変色も抑制できる。

なお、上記の実施例で示した反射防止層の層構造は幾つかの例にすぎず、本発明がそれらの層構造に限定されることはない。例えば、１１層以上の反射防止層に適用することも可能である。

上述のような光学物品（レンズ）１０を備えた物品（製品）あるいはシステムの一例としては、眼鏡を挙げることができる。図２４に、上記の反射防止層３を備える眼鏡レンズ１０と、その眼鏡レンズ１０が装着されたフレーム２０１とを含む眼鏡２００を示している。

また、以上では光学物品の例として眼鏡レンズを例に説明しているが、本発明は眼鏡レンズに限定されない。本発明の異なる他の態様の１つは、上記の光学物品と、光学物品を通して画像を投影および／または取得する装置とを有するシステムである。投影するための装置を含むシステムの典型的なものはプロジェクターである。この場合、光学物品の典型的なものは、投射用のレンズ、ダイクロイックプリズム、カバーガラスなどである。画像形成装置の１つであるＬＣＤ（液晶デバイス）などのライトバルブあるいはそれらに含まれる素子にこの技術を適用してもよい。カメラなどの光学物品を通して画像を取得するためのシステムに適用することも可能である。この場合、光学物品の典型的なものは、結像用のレンズ、カバーガラスなどである。撮像装置の１つであるＣＣＤなどにこの技術を適用してもよい。また、ＤＶＤなどの光学物品を介して情報源にアクセスする情報記録装置にこの技術を適用してもよい。

１プラスチックレンズ基材（光学基材）、２ハードコート層、３反射防止層
１０（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）レンズサンプル（眼鏡レンズ、光学物品）
３１低屈折率層、３２高屈折率層、２００眼鏡

さらに、この反射防止層は、ｎ層の高屈折率層のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第１タイプの層であり、その他の高屈折率層は酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第２タイプの層であり、ｎ+１層の低屈折率層はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第３タイプの層であり、さらに、ｎ層の高屈折率層の層厚の合計（以下、高屈折率層の総膜厚ＴＴともいう）に対する（占める）第２タイプの層の層厚の合計（以下、第２タイプの層の総膜厚Ｔ２Ｔともいう）の割合（高屈折率層の総膜厚に占める第２タイプの層の総膜厚の割合）Ｐ（Ｐ＝Ｔ２Ｔ／ＴＴ）が以下の範囲である。
１５％≦Ｐ≦９０％・・・（１）

また、この光学物品においては、第２タイプの層の層厚の合計（第２タイプの層の総膜厚Ｔ２Ｔ）は、１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下であることが好ましい。

さらに、高屈折率層３２の各層の層厚の合計（以下、高屈折率層３２の総膜厚ＴＴともいう）に対する（占める）第２タイプの層の１層または各層の層厚の合計（以下、第２タイプの層の総膜厚Ｔ２Ｔともいう）の割合（高屈折率層３２の総膜厚に占める第２タイプの層の総膜厚の割合）Ｐは以下の範囲である。
１５％≦Ｐ≦９０％・・・（１）

全９層の反射防止層３を含むレンズ１０ｃについて、いくつかのサンプル（実施例８〜
９、比較例６〜７）を製造した。図１１に、全９層の反射防止層３の各実施例および比較
例のサンプルの層構造を纏めて示している。

４．４比較例７（サンプルＲ７）
比較例６と同様に比較例７のサンプルＲ７を製造した。ただし、高屈折率層３２の全て（第２層、第４層、第６層、第８層）をＺｒＯ2層６１とした。すなわち、サンプルＲ７の反射防止層３は、第１層を層厚２７．７ｎｍのＳｉＯ2層６３（低屈折率層３１）、第２層を層厚１３．１ｎｍのＺｒＯ2層６１（高屈折率層３２）、第３層を層厚６２．４ｎｍのＳｉＯ2層６３（低屈折率層３１）、第４層を層厚１０．４ｎｍのＺｒＯ2層６１（高屈折率層３２）、第５層を層厚２１７．２ｎｍのＳｉＯ2層６３（低屈折率層３１）、第６層を層厚３５．８ｎｍのＺｒＯ2層６１（高屈折率層３２）、第７層を層厚２１．９ｎｍのＳｉＯ2層６３（低屈折率層３１）、第８層を層厚５０．０ｎｍのＺｒＯ2層６１（高屈折率層３２）、第９層を層厚９５．９ｎｍのＳｉＯ2層６３（低屈折率層３１）により構成した。

ハードコート層２の変色については次のようなメカニズムが考えられる。ハードコート層２を形成するための材料には、チタニア微粒子（チタニアゾル）が用いられる。ここで用いられるチタニアとしては、アナターゼ型やルチル型が一般的である。ところで、アナターゼ型およびルチル型のバンドギャップは、それぞれ、３．０ｅＶおよび３．２ｅＶである。したがって、４００ｎｍ以下の波長の光、すなわち、紫外線がチタニアに吸収され、青く見えると予想される。

Claims

光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を含む光学物品であって、
前記反射防止層は、ｎ＋１層（ｎは２以上の整数）の低屈折率層とｎ層の高屈折率層とから構成され、前記低屈折率層と前記高屈折率層とを交互に積層してなるものであり、
前記ｎ層の高屈折率層のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第１タイプの層であり、その他の前記ｎ層の高屈折率層は酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第２タイプの層であり、前記ｎ＋１層の低屈折率層はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成した第３タイプの層であり、
前記ｎ層の高屈折率層の層厚の合計に占める前記第２タイプの層の層厚の合計の割合Ｐが１５％以上９０％以下である、光学物品。
請求項１において、前記割合Ｐが２０％以上６０％以下である、光学物品。
請求項１または２において、前記第２タイプの層の層厚の合計が１５ｎｍ以上４５ｎｍ以下である、光学物品。
請求項１ないし３のいずれかにおいて、前記第２タイプの層のうちの少なくとも１層は、表面が導電処理された層である、光学物品。
請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記光学基材と前記反射防止層との間に形成された、二酸化チタンを含むハードコート層を有する、光学物品。
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記ｎが２、３、４のいずれかである、光学物品。
請求項１ないし６のいずれかにおいて、前記光学基材はプラスチックレンズ基材である、光学物品。
請求項１ないし７のいずれかにおいて、当該光学物品は眼鏡レンズである、光学物品。
光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された反射防止層を含む光学物品の製造方法であって、
前記反射防止層は、ｎ＋１層（ｎは２以上の整数）の低屈折率層とｎ層の高屈折率層とから構成され、前記低屈折率層と前記高屈折率層とを交互に積層してなるものであり、
前記ｎ層の高屈折率層のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１タイプの層であり、その他の前記ｎ層の高屈折率層は酸化チタンを主成分とする第２タイプの層であり、前記ｎ＋１層の低屈折率層はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３タイプの層であり、
前記ｎ層の高屈折率層の層厚の合計に占める前記第２タイプの層の層厚の合計の割合Ｐが１５％以上９０％以下であり、
当該製造方法は、
酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて前記第１タイプの層を蒸着形成することと、
酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて前記第２タイプの層を蒸着形成することとを有する製造方法。
請求項９において、さらに、
前記第２タイプの層のうちの少なくとも１層の表面を導電処理することを含む、製造方法。