JP2002235731A

JP2002235731A - Ｏａ機器用ローラ

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Publication number: JP2002235731A
Application number: JP2001035996A
Authority: JP
Inventors: Yasutaka Otake; 康貴大竹; Akihiko Kachi; 明彦加地; Hitoshi Yoshikawa; 均吉川; Shoji Arimura; 昭二有村
Original assignee: Sumitomo Riko Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Riko Co Ltd
Priority date: 2001-02-13
Filing date: 2001-02-13
Publication date: 2002-08-23
Anticipated expiration: 2021-02-13
Also published as: JP4178759B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】接着剤を介さなくても塗膜層の剥離等を充分に
防止することができるＯＡ機器用ローラを提供する。【解決手段】軸体１の外周に、シリコーンゴムを主成分
とし、かつその外周面が活性化処理されているベースゴ
ム層２の外周面に沿って、下記の（Ａ）および（Ｂ）を
含有するゴム組成物からなる塗膜層３が形成されてい
る。（Ａ）ゴム材料（但し、フッ素ゴムおよび水素添加アク
リロニトリル−ブタジエン系ゴムを除く）。（Ｂ）下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式
で表されるシランカップリング剤。Ｙ¹−Ｃ₃Ｈ₆Ｓｉ（ＯＣ_nＨ_2n+1）₃…（１）〔式中、Ｙ¹は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプ
ト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタ
クリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基
である。また、ｎは１または２である。〕Ｙ²−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃）₃…（２）〔式中、Ｙ²は、ビニル基である。〕

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機，プリンタ
ー，ファクシミリ装置等のＯＡ機器に用いられる、現像
ローラ，帯電ローラ，転写ローラ，給紙ローラ，除電ロ
ーラ，定着ローラ等のＯＡ機器用ローラに関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】現像ローラ等のＯＡ機器用ローラとして
は、例えば、軸体の外周にシリコーンゴムによってベー
スゴム層が形成され、さらにこのベースゴム層の外周面
に、接着剤層を介して、水素添加アクリロニトリル−ブ
タジエンゴム（以下「Ｈ−ＮＢＲ」と略す）やアクリロ
ニトリル−ブタジエンゴム（以下「ＮＢＲ」と略す）等
のゴム材料（コーティング液）によって塗膜層が形成さ
れたローラが実用化されている。そして、上記ローラに
は、ベースゴム層から塗膜層が容易に剥離しないよう、
例えば、ベースゴム層の外周面にコロナ放電等の処理が
施されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、接着剤
が塗布されたベースゴム層の上に、上記コーティング液
を塗布して塗膜層を形成する際に、上記コーティング液
中に接着剤が混入することがあり、この混入が生じる
と、上記コーティング液からなる塗膜層の性能が低下す
るといった問題が生じる。また、上記接着剤は失活しや
すいため、得られるローラの品質にばらつきが生じやす
くなるといった難点がある。さらに、接着剤を塗布する
工程が増えることにより、生産コストが高くなるという
問題も生じる。

【０００４】他方、Ｈ−ＮＢＲを用いて塗膜層を形成し
た場合、塗膜層の硬度が高くなるため、得られるローラ
の表面にはしわや傷が入りやすくなるといった難点があ
る。

【０００５】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、接着剤を介さなくても塗膜層の剥離等を充分に
防止することができるＯＡ機器用ローラの提供をその目
的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明のＯＡ機器用ローラは、軸体の外周に、シリ
コーンゴムを主成分とし、かつその外周面が活性化処理
されているベースゴム層が形成され、このベースゴム層
の外周面に塗膜層が形成されたＯＡ機器用ローラであっ
て、上記塗膜層が、下記の（Ａ）および（Ｂ）を含有す
るゴム組成物によって形成されているという構成をと
る。（Ａ）ゴム材料（但し、フッ素ゴムおよび水素添加アク
リロニトリル−ブタジエン系ゴムを除く）。（Ｂ）下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式
で表されるシランカップリング剤。

【化３】Ｙ¹−Ｃ₃Ｈ₆Ｓｉ（ＯＣ_nＨ_2n+1）₃…（１）〔式中、Ｙ¹は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプ
ト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタ
クリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基
である。また、ｎは１または２である。〕

【化４】Ｙ²−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃）₃…（２）〔式中、Ｙ²は、ビニル基である。〕

【０００７】すなわち、本発明者らは、前記課題を解決
すべく、塗膜層形成材料を中心に一連の研究を重ねた。
その結果、塗膜層形成材料として水素添加アクリロニト
リル−ブタジエン系ゴム以外のゴム材料（但し、フッ素
ゴムを除く。）を用いた場合であっても、この塗膜層形
成材料に上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）を配合
することにより、シリコーンゴムを主成分とするベース
ゴム層の活性化処理面に対して、上記シランカップリン
グ剤（Ｂ）が化学的に作用し塗膜層を強固に固定するた
め、塗膜層を形成する際に、従来のような接着剤の塗布
が不必要となることを突き止め、本発明に到達した。

【０００８】ここで、本発明において、「活性化処理」
とは、コロナ放電，プラズマ放電等によって、ベースゴ
ム層の外周面に化学変化等を生起させる処理のことをい
う。

【０００９】特に、上記（Ｂ）のシランカップリング剤
が、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−
（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニ
ルトリス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノ
エチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルト
リエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロ
ピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なく
とも一種である場合、塗膜層がより強固にベースゴム層
に結合するようになる。

【００１０】また、上記（Ａ）のゴム材料としてアクリ
ロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）を用いると、水
素添加アクリロニトリル−ブタジエン系ゴムを用いたと
きよりも低硬度の塗膜層を得ることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を詳
しく説明する。

【００１２】本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、図
１に示すように、軸体１と、この軸体１の外周面に形成
されるベースゴム層２と、このベースゴム層２の外周面
に形成される塗膜層３とを備えたものである。そして、
上記ベースゴム層２の外周面に先に述べたような活性化
処理がなされている。

【００１３】上記軸体１としては、特に限定されるもの
ではなく、例えば、金属製の芯金や、金属製の中空円筒
体が用いられる。そして、その金属材料としては、アル
ミニウム、ステンレス等があげられる。

【００１４】上記軸体１の外周面に形成されるベースゴ
ム層２の主成分であるシリコーンゴムとしては、特に限
定されるものではないが、ジメチルシリコーンポリマー
に架橋サイトとしてビニル基を付加したものに、ジメチ
ルシリコーンオイルを添加したものを用いることが好ま
しい。

【００１５】なお、本発明において、シリコーンゴムを
主成分とするとは、上記ベースゴム層２がシリコーンゴ
ムのみからなる場合も含む趣旨である。

【００１６】また、上記ベースゴム層２には、上記シリ
コーンゴムに加えてカーボンブラック等の導電剤を配合
することも可能である。

【００１７】上記ベースゴム層２の外周面に形成される
塗膜層３は、ゴム材料（Ａ）および特定のシランカップ
リング剤（Ｂ）を含有するゴム組成物によって形成され
ている。

【００１８】上記ゴム材料（Ａ）としては、水素添加ア
クリロニトリル−ブタジエン系ゴムおよびフッ素ゴム以
外のものであれば特に限定されず、例えば、アクリロニ
トリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ），アクリルゴム（Ａ
ＣＭ），ブタジエンゴム（ＢＲ），イソプレンゴム（Ｉ
Ｒ），スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ），クロロプ
レンゴム（ＣＲ），ヒドリンゴム（ＥＣＯ，ＣＯ），ウ
レタンゴム等があげられる。なかでも、低硬度の点等か
ら、ＮＢＲが好適に用いられる。

【００１９】上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）と
しては、下記の一般式（１）および（２）のいずれかの
式で表されるものがあげられる。

【００２０】

【化５】Ｙ¹−Ｃ₃Ｈ₆Ｓｉ（ＯＣ_nＨ_2n+1）₃…（１）〔式中、Ｙ¹は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプ
ト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタ
クリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基
である。また、ｎは１または２である。〕

【００２１】

【化６】Ｙ²−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃）₃…（２）〔式中、Ｙ²は、ビニル基である。〕

【００２２】上記一般式（１）で表されるシランカップ
リング剤としては、好ましくは、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン，γ−（メタクリロキシプロピ
ル）トリメトキシシラン，γ−グリシジルオキシプロピ
ルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチル）γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミノプロピル
トリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエトキシシラ
ンテトラスルフィド，イソシアン酸プロピルトリエトキ
シシランがあげられる。また、上記一般式（２）で表さ
れるシランカップリング剤としては、好ましくは、ビニ
ルトリス（βメトキシエトキシ）シランがあげられる。
なお、これらのシランカップリング剤は、単独であるい
は二種以上併せて用いられる。そして、これらのなかで
も、導電性に影響を与えないという点で、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシランが、より好適に用いられ
る。

【００２３】上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の
配合割合は、特に限定されるものではないが、ゴム材料
（Ａ）１００重量部（以下、「部」と略す）に対して
０．０１〜１５部の範囲に設定することが好ましい。よ
り好ましくは０．１〜５部の範囲である。すなわち、上
記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の含有量が０．０
１部未満では、特定のシランカップリング剤（Ｂ）の効
果が充分に発揮されず層間剥離を生じやすくなる傾向が
みられ、逆に１５部を超えると、形成される塗膜層３の
硬度が高くなりすぎる傾向がみられるからである。

【００２４】なお、上記塗膜層３形成材料であるゴム組
成物には、上記（Ａ）および（Ｂ）に加えて、導電剤，
発泡剤，架橋剤，架橋促進剤，オイル等を適宜配合して
も差し支えない。

【００２５】また、上記塗膜層３形成材料は、有機溶剤
に溶解等することにより、コーティング液として使用に
供される。上記有機溶剤としては、メチルエチルケトン
（ＭＥＫ）、メタノール、トルエン、イソプロピルアル
コール、メチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド等が
あげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用
いられる。特に、上記塗膜層３形成材料に対する溶解性
の点で、上記有機溶剤としてメチルエチルケトンを用い
ることが好ましい。そして、このようにして得られるコ
ーティング液は、粘度を０．００５〜６Ｐａ・ｓにする
ことが、塗工性等の点で好ましい。

【００２６】本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、つ
ぎのようにして製造することができる。

【００２７】すなわち、まず、前記ベースゴム層２形成
材料用の各成分をニーダー等の混練機で混練してベース
ゴム層２形成材料を調製し、これを、図２に示すよう
に、下蓋１５をセットした金属製の軸体（芯金）１と円
筒型１６との間の空隙部に注型する。ついで、上蓋１７
を円筒型１６に外嵌し、このローラ型全体を加熱して上
記ベースゴム層２形成材料を加硫した後（１５０〜２２
０℃×２０分）、ローラ型から取り出して、ベースゴム
層２を形成する。このようにして形成されたベースゴム
層２の外周面を、コロナ放電処理を施すことによって活
性化させる。

【００２８】一方、ゴム材料（Ａ）、シランカップリン
グ剤（Ｂ）および必要に応じて導電剤等の成分を配合し
たものを有機溶剤とともにニーダー等の混練機で混練し
て、塗膜層３形成材料（コーティング液）を調製する。

【００２９】つぎに、上記コーティング液を、上記コロ
ナ放電処理がなされたベースゴム層２の外周面に塗布す
る。この塗工法は、特に制限するものではなく、ディッ
ピング法、スプレー法、ローラコート法等の従来の方法
が適用できる。そして、塗工後、乾燥および加熱処理を
行うことによりベースゴム層２の外周面に塗膜層３を形
成する。このようにして、図１に示すような２層構造の
ＯＡ機器用ローラを得ることができる。このようにして
得られたＯＡ機器用ローラにおいて、ベースゴム層２の
厚みは、通常、０．５〜１０ｍｍの範囲に設定すること
が好ましく、特に好ましくは１〜５ｍｍである。また、
上記塗膜層３の厚みは１〜１００μｍの範囲に設定する
ことが好ましく、特に好ましくが好ましくは３〜３０μ
ｍである。

【００３０】なお、上記活性化処理は、コロナ放電処理
に限定されるものではなく、例えばプラズマ放電処理等
によって行うことも可能である。

【００３１】また、本発明のＯＡ機器用ローラは、２層
構造に限定されるものではなく、例えば、上記塗膜層３
の外周面に、さらに表層を形成しても差し支えない。

【００３２】本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば、現
像ローラ，帯電ローラ，転写ローラ，給紙ローラ，除電
ローラ，定着ローラ等に適用することができる

【００３３】つぎに、実施例について比較例と併せて説
明する。

【００３４】

【実施例１】〔ベースゴム層形成材料の調製〕Ｘ−３４
−４２４Ａ／Ｂ（シリコーンゴム、信越化学工業社
製）１００部と、Ｘ−３４−３８７Ａ／Ｂ（シリコー
ンゴム、信越化学工業社製）１００部とを混合分散し
て、ベースゴム層形成材料を調製した。

【００３５】〔塗膜層形成材料の調製〕ＮＢＲ（ニポー
ルＤＮ４０１、日本ゼオン社製）１００部と、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン（Ａ−１８９、日本
ユニカー社製）１部と、ステアリン酸（ルナックＳ３
０、花王社製）０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、
アセチレンブラック３０部と、サンセラーＣＺ−Ｇ（三
新化学社製）１．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ（大内
新興化学社製）０．４９部と、粉末硫黄１部とを混合分
散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製し
た。

【００３６】〔ロ−ルの作製〕つぎに、軸体１としてＳ
ＵＳ３０３製芯金（直径１０ｍｍ）を準備し、この外周
面に接着剤を塗布したものを、ローラ型内部にセット
し、上記軸体とローラ型内周面の間の空隙部に上記ベー
スゴム層２形成材料であるコンパウンドを注型し（図２
参照）、加熱加硫（１８０℃×１時間）させた後、脱型
して、さらに２次加硫処理（２００℃×４時間）するこ
とにより軸体１の外周にベースゴム層２（厚み５ｍｍ）
を形成した。このようにして得られたベースゴム層２付
き軸体１を上記金型から脱型し、上記ベースゴム層２外
周面に、高周波電源装置を用い、コロナ放電を発生さ
せ、電極との距離３ｍｍ、角度９０度にて１０秒間コロ
ナ処理を行った。そして、上記処理がなされたベースゴ
ム層２の外周面に、上記塗膜層形成材料からなるコーテ
ィング液を塗布後、乾燥および加熱処理を行うことによ
りベースゴム層２の外周面に塗膜層３（厚み５μｍ）を
形成し、２層構造のローラを得た（図１参照）。

【００３７】

【実施例２】γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンに代えて、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキ
シシラン（Ａ−１８７、日本ユニカー社製）を５部配合
する以外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調
製した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材
料を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ロー
ラを作製した。

【００３８】

【実施例３】γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの配合割合を１５部に変更する以外は実施例１と同様
にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１
と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例
１と同様の製法により、ローラを作製した。

【００３９】

【実施例４】γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの配合割合を０．０１部に変更する以外は実施例１と
同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施
例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実
施例１と同様の製法により、ローラを作製した。

【００４０】

【実施例５】γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの配合割合を２０部に変更する以外は実施例１と同様
にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実施例１
と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例
１と同様の製法により、ローラを作製した。

【００４１】

【実施例６】γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ンの配合割合を０．００５部に変更する以外は実施例１
と同様にして、塗膜層形成材料を調製した。そして、実
施例１と同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに
実施例１と同様の製法により、ローラを作製した。

【００４２】

【実施例７】ＡＣＭ（デンカＥＲ３４００、電気化学社
製）１００部と、γ−（メタクリロキシプロピル）トリ
メトキシシラン（Ａ−１７４、日本ユニカー社製）５部
と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部
と、アセチレンブラック３０部と、Ｄｉａｋ♯１１部
と、ソクシノールＤＴ（住友化学社製）２部とを混合分
散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００４３】

【実施例８】ＢＲ（ニポールＢＲ１２２０ＮＭ、日本ゼ
オン社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華
（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０部と、サン
セラーＣＺ−Ｇ（三新化学社製）１．０７部と、ノクセ
ラーＢＺ−Ｐ（大内新興化学社製）０．４９部と、粉末
硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴ
ム組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベース
ゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法
により、ローラを作製した。

【００４４】

【実施例９】ＩＲ（クラプレンＩＲ−１０、クラレ社
製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（Ｚｎ
Ｏ）５部と、アセチレンブラック３０部と、サンセラー
ＣＺ−Ｇ１．０７部と、ノクセラーＢＺ−Ｐ０．４
９部と、粉末硫黄１部とを混合分散させて、塗膜層形成
材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と
同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１
と同様の製法により、ローラを作製した。

【００４５】

【実施例１０】ヒドリンゴム（エピクロマーＣＧ１０
２、ダイソー社製）１００部と、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン５部と、ステアリン酸０．５部
と、亜鉛華（ＺｎＯ）５部と、アセチレンブラック３０
部と、ハイドロタルサイトＤＨＴ−４Ａ（協和化学工業
社製）５部と、サンセラーＣＺ−Ｇ１．０７部と、ノ
クセラーＢＺ−Ｐ０．４９部と、粉末硫黄１部とを混
合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製
した。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料
を調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラ
を作製した。

【００４６】

【実施例１１】ＳＢＲ（タフデン２０００Ｒ、旭化成社
製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（Ｚｎ
Ｏ）５部と、アセチレンブラック３０部と、ノクセラー
ＤＭ−Ｐ（大内新興化学社製）１．５部と、ノクセラー
ＴＲＡ（大内新興化学社製）０．６部と、粉末硫黄０．
４３部とを混合分散させて、塗膜層形成材料であるゴム
組成物を調製した。そして、実施例１と同様のベースゴ
ム層形成材料を調製し、さらに実施例１と同様の製法に
より、ローラを作製した。

【００４７】

【実施例１２】ＣＲ（ネオプレンＷＲＴ、昭和電気・デ
ュポン社製）１００部と、ビスプロピルトリエトキシシ
ランテトラスルフィド（Ａ−１２８９、日本ユニカー社
製）５部と、ステアリン酸０．５部と、亜鉛華（Ｚｎ
Ｏ）５部と、酸化マグネシウム（キョーワマグ♯１５
０、協和化学社製）４部と、アセチレンブラック３０部
と、サンセラー２２Ｃ（三新化学社製）１部とを混合分
散させて、塗膜層形成材料であるゴム組成物を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００４８】

【実施例１３】ウレタンゴム（ＵＮ２７８、坂井化学工
業社製）１００部と、γ−メルカプトプロピルトリメト
キシシラン５部と、アセチレンブラック３０部と、ステ
アリン酸亜鉛１部と、ノクセラーＤＭ−Ｐ４部と、粉
末硫黄１部と、キュラセン１部と、ソクシノールＭ−Ｐ
（住友化学社製）２部とを混合分散させて、塗膜層形成
材料であるゴム組成物を調製した。そして、実施例１と
同様のベースゴム層形成材料を調製し、さらに実施例１
と同様の製法により、ローラを作製した。

【００４９】

【比較例１】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例１と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５０】

【比較例２】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例７と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５１】

【比較例３】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例８と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５２】

【比較例４】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例９と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５３】

【比較例５】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例１０と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５４】

【比較例６】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例１１と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５５】

【比較例７】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例１２と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５６】

【比較例８】シランカップリング剤を配合しないこと以
外は実施例１３と同様にして、塗膜層形成材料を調製し
た。そして、実施例１と同様のベースゴム層形成材料を
調製し、さらに実施例１と同様の製法により、ローラを
作製した。

【００５７】このようにして得られた各ローラについ
て、ベースゴム層と塗膜層との層間接着力および塗膜層
の表面硬度を下記の方法に従って測定し、評価した。そ
の結果を後記の表１〜表３に示した。

【００５８】〔層間接着力〕図３（ａ）に示すように、
ローラの塗膜層３に対し、その外周に沿って、破線Ｘで
示される幅２．５ｃｍの切り込みを入れ、さらに、上記
塗膜層３に対して芯金方向に切り込み（破線Ｙ）を入れ
て、そこから塗膜層３を少し剥がし、図３（ｂ）に示す
ように、剥がされた塗膜層３の端部をＡＧＳオートグラ
フ（シマヅ社製）で垂直に引き上げて（矢印Ｚ方向）、
その引張り強度を測定した。そして、引張り強度が３Ｎ
以上のものを○、１Ｎ以上３Ｎ未満のものを△、１Ｎ未
満のものを×として表示した。

【００５９】〔表面硬度〕上記ローラに形成された塗膜
層３の表面硬度を、マイクロゴム硬度計ＭＤ−１型（高
分子計器社製）を用いて測定し、評価した。すなわち、
ＭＤ−１が４５°未満のものを◎、４５°以上４７°未
満のものを○、４７°以上４９°未満のものを△、４９
°以上のものを×として表示した。

【００６０】

【表１】

【００６１】

【表２】

【００６２】

【表３】

【００６３】上記表１〜表３の結果から、実施例品はい
ずれも、ベースゴム層２と塗膜層３との層間接着力に優
れており、かつ塗膜層３の表面硬度も良好であることが
わかる。これに対して、比較例品は、層間接着力あるい
は表面硬度のいずれかの評価に劣るものであることがわ
かる。

【００６４】

【発明の効果】以上のように、本発明のＯＡ機器用ロー
ラは、シリコーンゴムを主成分とするベースゴム層の活
性化処理面に、特定のゴム材料（Ａ）および特定のシラ
ンカップリング剤（Ｂ）を含有するゴム組成物からなる
塗膜層が形成され構成されている。すなわち、本発明で
は、上記特定のシランカップリング剤（Ｂ）の化学的作
用によって、ベースゴム層の活性化処理面と塗膜層とが
強固に合一体化するため、上記ベースゴム層の活性化処
理面に対して接着剤を塗布しなくても、塗膜層の剥がれ
や破れ等の発生を防止できる。また、上記接着剤の塗布
工程が不要となるため、工程の省略化を実現することが
できる。

【００６５】特に、上記（Ｂ）のシランカップリング剤
が、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−
（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニ
ルトリス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジ
ルオキシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノ
エチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−
アミノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルト
リエトキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロ
ピルトリエトキシシランからなる群から選ばれた少なく
とも一種である場合、塗膜層がより強固にベースゴム層
に結合するようになるため、ＯＡ機器用ローラとして特
に好適なものとなる。

【００６６】また、上記（Ａ）のゴム材料としてＮＢＲ
を用いた場合、水素添加アクリロニトリル−ブタジエン
系ゴムを用いたときよりも低硬度の塗膜層を得ることが
できるため、ＯＡ機器用ローラとして特に好適なものと
なる。

【００６７】本発明のＯＡ機器用ローラは、例えば現像
ローラとして電子写真複写機に組み込み使用すると、画
質の低下が防止され、高画質の複写画像が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のＯＡ機器用ローラの一例を示す断面図
である。

【図２】本発明のＯＡ機器用ローラの製法を示す説明図
である。

【図３】（ａ）はローラの側面図であり、（ｂ）はロー
ラの塗膜層の層間接着力の測定方法を説明するための模
式図である。

【符号の説明】

１軸体２ベースゴム層３塗膜層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｇ 15/16 １０３Ｇ０３Ｇ 15/16 １０３３Ｆ３４３ 15/20 １０３ 15/20 １０３３Ｊ１０３ 21/06 Ｃ０８Ｌ 83:04 ４Ｆ００６ // Ｃ０８Ｌ 83:04 Ｇ０３Ｇ 21/00 ３４０ (72)発明者吉川均愛知県小牧市東三丁目１番地東海ゴム工業株式会社内 (72)発明者有村昭二愛知県小牧市東三丁目１番地東海ゴム工業株式会社内Ｆターム(参考） 2H003 BB11 CC05 2H032 AA05 2H033 BB06 BB08 BB29 2H035 AA15 2H077 AD06 FA13 FA22 3F343 FA02 FA03 FB02 FB03 FB04 FC04 JA11 3J103 AA02 AA14 AA23 FA10 FA15 GA52 GA57 GA58 GA66 GA74 HA03 HA53 4F006 AA42 AB05 AB67 CA08 DA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】軸体の外周に、シリコーンゴムを主成分
とし、かつその外周面が活性化処理されているベースゴ
ム層が形成され、このベースゴム層の外周面に塗膜層が
形成されたＯＡ機器用ローラであって、上記塗膜層が、
下記の（Ａ）および（Ｂ）を含有するゴム組成物によっ
て形成されていることを特徴とするＯＡ機器用ローラ。（Ａ）ゴム材料（但し、フッ素ゴムおよび水素添加アク
リロニトリル−ブタジエン系ゴムを除く）。（Ｂ）下記の一般式（１）および（２）のいずれかの式
で表されるシランカップリング剤。【化１】Ｙ¹−Ｃ₃Ｈ₆Ｓｉ（ＯＣ_nＨ_2n+1）₃…（１）〔式中、Ｙ¹は、ビニル基，グリシドキシ基，メルカプ
ト基，アミノ基，エポキシ基，イソシアネート基，メタ
クリル基あるいはこれらの官能基を含むその他の置換基
である。また、ｎは１または２である。〕【化２】Ｙ²−Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₄ＯＣＨ₃）₃…（２）〔式中、Ｙ²は、ビニル基である。〕
【請求項２】上記（Ｂ）のシランカップリング剤が、
γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン，γ−（メ
タクリロキシプロピル）トリメトキシシラン，ビニルト
リス（βメトキシエトキシ）シラン，γ−グリシジルオ
キシプロピルトリメトキシシラン，Ｎ−β（アミノエチ
ル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン，γ−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン，Ｎ−フェニル−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン，ビスプロピルトリエ
トキシシランテトラスルフィド，イソシアン酸プロピル
トリエトキシシランからなる群から選ばれた少なくとも
一種である請求項１記載のＯＡ機器用ローラ。
【請求項３】上記（Ａ）のゴム材料が、アクリロニト
リル−ブタジエンゴムである請求項１または２記載のＯ
Ａ機器用ローラ。