EA026679B1 - Остекление и способ его изготовления - Google Patents
Остекление и способ его изготовления Download PDFInfo
- Publication number
- EA026679B1 EA026679B1 EA201390177A EA201390177A EA026679B1 EA 026679 B1 EA026679 B1 EA 026679B1 EA 201390177 A EA201390177 A EA 201390177A EA 201390177 A EA201390177 A EA 201390177A EA 026679 B1 EA026679 B1 EA 026679B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- glass
- glazing according
- substrate
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 51
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 179
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 22
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims description 14
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 6
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 claims description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 claims description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 5
- 239000003595 mist Substances 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 16
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 13
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 5
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000009365 direct transmission Effects 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 3
- -1 for example Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021627 Tin(IV) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N dicalcium;disodium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Na+].[Na+].[Ca+2].[Ca+2].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O DEPUMLCRMAUJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002065 inelastic X-ray scattering Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000013521 mastic Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 1
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphate Chemical compound CCOP(=O)(OCC)OCC DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E06—DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
- E06B—FIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
- E06B3/00—Window sashes, door leaves, or like elements for closing wall or like openings; Layout of fixed or moving closures, e.g. windows in wall or like openings; Features of rigidly-mounted outer frames relating to the mounting of wing frames
- E06B3/66—Units comprising two or more parallel glass or like panes permanently secured together
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3441—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising carbon, a carbide or oxycarbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
- C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
- C03C2217/948—Layers comprising indium tin oxide [ITO]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Civil Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Abstract
Объектом изобретения является остекление, содержащее стеклянную подложку (1), снабженную на одной из своих сторон, предназначенной для образования наружной стороны указанного остекления в положении применения, многослойной системой тонких слоев, содержащей, идя от подложки (1), слой (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), промежуточный слой (3) с показателем преломления в интервале от 1,40 до 1,5 и произведением геометрической толщины промежуточного слоя (3) на его показатель преломления, составляющим Y, и фотокаталитический слой (4), имеющий значение X произведения геометрической толщины фотокаталитического слоя (4) на его показатель преломления, которое не превышает 50 нм, причем указанные X и Y, выраженные в нанометрах, таковы, что 110 ∙ e≤Y≤135 ∙ e. Техническим результатом заявленного изобретения является обеспечение возможности ограничить и даже ликвидировать появление конденсации (запотевания или инея) на наружной поверхности без ухудшения солнечного фактора и, таким образом, переноса тепла внутрь жилого помещения.
Description
Изобретение относится к области оконных стекол, содержащих стеклянную подложку, снабженную по меньшей мере на одной из своих сторон многослойной системой тонких слоев.
По экологическим причинам и в целях экономии энергии жилые помещения оборудуют теперь стеклопакетами, двойными и даже тройными, часто снабженными слоями, отличающимися низкой излучательной способностью, предназначенными ограничить теплоперенос наружу жилища. Однако эти остекления, имеющие очень низкий коэффициент теплопередачи, подвержены появлению конденсации воды на их наружной поверхности, в виде запотевания или инея. В случае чистого неба в течение ночи радиационный теплообмен с атмосферой влечет снижение температуры, которое больше не компенсируется в достаточной мере поступлением тепла изнутри помещения. Когда температура наружной поверхности окна опускается ниже точки росы, на указанной поверхности конденсируется вода, мешающая смотреть через окно утром, иногда в течение нескольких часов.
Известно, что для решения этой проблемы помещают на стороне 1 оконного стекла (наружная сторона) слой с низкой излучательной способностью, например, слой прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), чтобы снизить радиационный обмен с атмосферой. Заявка νθ 2007/115796 рекомендует, например, использовать многослойную систему, содержащую слой ТСО, блокирующий слой и, наконец, фотокаталитический слой.
Однако такое решение, хотя оно и позволяет эффективно разрешить большинство проблем, связанных с конденсацией воды, не лишено недостатков. Если толщина слоев не оптимальна, это решение значительно снижает солнечный фактор (С-уа1ие) стекла. Солнечный фактор соответствует доле солнечной энергии, пропущенной окном внутрь помещения в результате непосредственного прохождения через стекло и в результате повторного испускания излучения, поглощенного стеклом, наружу. Однако важно, в особенности зимой или в странах с холодным климатом, иметь возможность максимально повысить внесение солнечной энергии через окно, чтобы снизить расходы на обогрев.
Целью изобретения является устранить эти недостатки, предложив оконное стекло, которое могло бы ограничить и даже ликвидировать появление конденсации (запотевание или иней) на наружной поверхности, как можно меньше ухудшая солнечный фактор и, таким образом, перенос тепла внутрь жилого помещения.
С этой целью объектом изобретения является остекление, содержащее стеклянную подложку (1), снабженную на одной из своих сторон, предназначенной для образования наружной стороны указанного остекления в положении применения, многослойной системой тонких слоев, содержащей, идя от подложки (1), слой (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), промежуточный слой (3) с показателем преломления в интервале от 1,40 до 1,5 и произведением геометрической толщины промежуточного слоя (3) на его показатель преломления, составляющим Υ, и фотокаталитический слой (4), имеющий значение X произведения геометрической толщины фотокаталитического слоя (4) на его показатель преломления, которое не превышает 50 нм, причем указанные X и Υ, выраженные в нанометрах, таковы, что
110<-0'025χ<Υ< 135-е-0'0|хХ.
Под стороной 1 оконного стекла понимается, как это принято в технике, наружная поверхность оконного стекла, которая предназначена для размещения таким образом, чтобы находиться в контакте со средой вне помещения. Эти стороны оконного стекла нумеруют, идя снаружи, так что сторона 2 есть сторона, противоположная стороне 1, другими словами, сторона того же самого стеклянного листа. В стеклопакете, содержащем два или более стеклянных листа, сторона 3 есть сторона второго стеклянного листа стеклопакета, обращенная к стороне 2, сторона 4 есть сторона, противоположная стороне 3, и т.д.
Показатели преломления измеряют, например, эллипсометрией на длине волны 550 нм. Оптическая толщина слоя соответствует произведению физической толщины (называемой также геометрической) слоя на его показатель преломления.
Оконное стекло согласно изобретению предпочтительно является многослойным стеклопакетом, в частности двойным или тройным, и даже более, например, четверным. Действительно, эти стеклопакеты имеют низкий коэффициент теплопередачи и более подвержены явлению конденсации. Двойной стеклопакет обычно состоит из двух листов стекла, расположенных лицом друг к другу и предусматривающих промежуток для газа, например воздуха, аргона, ксенона или же криптона. Обычно по периметру оконного стекла, между стеклянными листами, располагают дистанцирующую рамку в виде металлического профиля, например, из алюминия, скрепленную со стеклянными листами клеем, причем периметр стеклопакета герметично заделан мастикой, например, силиконовой, полисульфидной или полиуретановой, чтобы предотвратить попадание влаги внутрь газовой прослойки. Чтобы ограничить влажность, часто в дистанцирующую рамку помещают молекулярное сито. Тройной стеклопакет образован аналогично, только число стеклянных листов равно трем.
Когда оконное стекло согласно изобретению является тройным стеклопакетом, по меньшей мере одна другая сторона, выбранная из сторон 2-5, предпочтительно покрыта многослойной системой с низкой излучательной способностью. Это может быть, в частности, многослойная система тонких слоев, содержащая по меньшей мере один слой серебра, причем этот или каждый слой серебра располагается между диэлектрическими слоями. Под низкой излучательной способностью понимается обычно коэффициент излучения не выше 0,1, в частности 0,05. Предпочтительно такой многослойной системой покрыты
- 1 026679 две другие стороны, в частности стороны 2 и 5. Возможны также и другие конфигурации, но они менее предпочтительны: стороны 2 и 3, 2 и 4, 3 и 4, 4 и 5, стороны 2, 3 и 4, стороны 2, 3 и 5, стороны 2, 4 и 5, стороны 2, 3, 4 и 5. На сторонах оконного стекла можно расположить другие типы многослойных систем, например противоотражательные многослойные системы, на стороне 2, 3, 4, 5 или 6.
Когда оконное стекло согласно изобретению является двойным стеклопакетом, сторона 2 предпочтительно покрыта многослойной системой с низкой излучательной способностью, в частности, типа той, что была только что описана. Альтернативно, сторона 2 может быть покрыта солнцезащитной многослойной системой слоев, что, однако, не является предпочтительным, так как такая многослойная система ведет к снижению солнечного фактора.
Оконное стекло согласно изобретению может использоваться как любой тип остекления. Оно может быть встроено в фасад, крышу, веранду. Оно может располагаться вертикально или наклонно.
Стеклянная подложка предпочтительно является прозрачной и бесцветной (тогда речь идет о прозрачном или экстрапрозрачном стекле). Она может быть окрашенной, например, голубым, зеленым, серым или бронзовым, но поскольку эти варианты осуществления ухудшают солнечный фактор, они не предпочтительны. Стекло предпочтительно является натриево-кальциево-силикатным, но может также быть стеклом боросиликатного или алюмоборосиликатного типа. Толщина подложки обычно варьируется от 0,5 до 19 мм, предпочтительно от 0,7 до 9 мм, в частности от 2 до 8 мм, даже от 4 до 6 мм. Это же самое распространяется, в случае надобности, и на другие стеклянные листы стеклопакета.
Стеклянная подложка предпочтительно является стеклом флоат-типа, то есть полученным способом, состоящим в выливании расплавленного стекла на ванну расплавленного олова (флоат-ванну). В этом случае многослойную систему можно разместить как на стороне олова, так и на атмосферной стороне подложки. Под атмосферной стороной и стороной олова понимаются сторона подложки, находившаяся в контакте с атмосферой выше флоат-ванны, и сторона подложки, находившаяся в контакте с расплавленным оловом, соответственно. Сторона олова содержит незначительное поверхностное количество олова, продиффундировавшего в структуру стекла.
По меньшей мере один стеклянный лист, в том числе, снабженный многослойной системой, которая составляет ядро изобретения, может быть закален или упрочнен, чтобы придать ему улучшенную механическую прочность. Как будет описано ниже, может также применяться термическая закалка, чтобы улучшить характеристики излучательной способности или фотокаталитические свойства слоев. Для улучшения акустических свойств или устойчивости к взлому оконного стекла по изобретению, по меньшей мере один стеклянный лист окна может быть склеен с другим листом посредством промежуточного листа из полимера, такого, как поливинилбутираль (РУВ) или полиуретан (Ри).
Слой прозрачного электропроводящего оксида предпочтительно является слоем оксида олова, легированного фтором (§пО2:Р), или слоем смешанного оксида олова и индия (ΙΤΟ). Возможны и другие слои, в том числе тонкие слои на основе смешанных оксидов индия и цинка (называемых ΙΖΟ), на основе оксида цинка, легированного галлием или алюминием, на основе оксида титана, легированного ниобием, на основе станната кадмия или цинка, на основе оксида олова, легированного сурьмой. В случае оксида цинка, легированного алюминием, доля легирующей добавки (то есть вес оксида алюминия, отнесенный к полному весу) предпочтительно ниже 3%. В случае галлия доля легирующей добавки может быть выше, обычно составляя от 5 до 6%. В случае ΙΤΟ атомная процентная доля §п предпочтительно лежит в интервале от 5 до 70%, в частности от 10 до 60%. Для слоев на основе оксида олова, легированного фтором, атомная процентная доля фтора предпочтительно не превышает 5%, обычно составляет от 1 до 2%.
Эти слои имеют хорошую стойкость к климатическим условиям, необходимую, когда многослойная система находится на стороне 1 оконного стекла, что не так для других слоев с низкой излучательной способностью, таких, как слои серебра. Последние должны обязательно находиться на внутренней стороне стеклопакета.
ΙΤΟ особенно предпочтителен, в частности, по сравнению с 8пО2:Р. Благодаря более высокой электропроводности его толщина может быть меньше, чтобы получить такой же уровень излучательной способности, что позволяет уменьшить потерю солнечного фактора. Легко осаждаемые способом катодного напыления, в частности, с поддержкой магнитным полем, называемым магнетронным способом, эти слои отличаются меньшей шероховатостью и, тем самым, меньшим загрязнением.
Действительно, при изготовлении, транспортировке и техническом уходе за оконными стеклами более шероховатые слои имеют тенденцию захватывать различные остатки, которые особенно сложно удалить.
Зато одним из преимуществ оксида олова, легированного фтором, является легкость его осаждения способом химического осаждения из паровой фазы (СУЭ), который, в отличие от способа катодного напыления, не требует позднейшей термообработки и может быть реализован в линии производства плоского стекла флоат-способом.
Толщину слоя ТСО подбирают в зависимости от природы слоя, чтобы получить желаемый коэффициент излучения, который зависит от искомых антиконденсирующих свойств. Коэффициент излучения слоя ТСО предпочтительно меньше или равен 0,4, в частности 0,3. Для слоев из ΙΤΟ геометрическая
- 2 026679 толщина будет обычно составлять по меньшей мере 40 нм, даже 50 и даже 70 нм, и часть не больше 150 нм или 200 нм. Для слоев из оксида олова, легированного фтором, геометрическая толщина обычно равна по меньшей мере 120 нм, даже 200 нм и часто не больше 500 нм.
Когда оконное стекло планируется помещать в вертикальное положение, коэффициент излучения предпочтительно не выше 0,4, даже 0,3. В случае оксида олова, легированного фтором, это требует обычно геометрических толщин по меньшей мере 120 нм, даже 200 нм. В случае ΙΤΟ геометрическая толщина обычно будет составлять по меньшей мере 40 нм, даже 50 нм, часто не более 150 нм.
Когда оконное стекло предназначено для размещения в наклонном положении, например, при применении в кровле, коэффициент излучения предпочтительно не прерывает 0,3, даже 0,2 и даже 0,18. Геометрические толщины оксида олова, легированного фтором, будут предпочтительно составлять по меньшей мере 300 нм, а толщины ΙΤΟ по меньшей мере 60 нм, даже 70 или 100 нм и часто не более 200 нм.
Под излучательной способностью понимается коэффициент излучения по нормали при 283К согласно норме ΕΝ 12898.
Показатель преломления слоя прозрачного электропроводного оксида предпочтительно лежит в диапазоне от 1,7 до 2,5.
Чтобы оптимизировать эффект изобретения, показатель преломления промежуточного слоя предпочтительно не превышает 1,50, даже 1,48.
Промежуточный слой предпочтительно имеет в основе оксид кремния, даже состоит из оксида кремния. Подразумевается, что оксид кремния может быть легированным или не быть стехиометрическим. В качестве примеров, оксид кремния может быть легирован атомами алюминия или бора, в целях облегчения его осаждение способами катодного напыления. В случае химического осаждения из паровой фазы (СУЭ) оксид кремния может быть легирован атомами бора или фосфора, что ускоряет осаждение. Оксид кремния может быть также легирован атомами углерода или азота при достаточно низких содержаниях, чтобы показатель преломления слоя оставался в вышеуказанном диапазоне. Преимуществом такого промежуточного слоя является также то, что он защищает слой ТСО, обеспечивая ему лучшую стойкость к климатическим условиям, а также лучшую стойкость к закалке. В случае ТСО на основе оксида олова, легированного фтором, преимуществом промежуточного слоя является, кроме того, то, что он сглаживает поверхности, снижая абразивность слоя.
Фотокаталитический слой предпочтительно имеет в основе оксид титана, в частности, является слоем оксида титана, в частности, показатель преломления которого составляет от 2,0 до 2,5. Оксид титана предпочтительно по меньшей мере частично кристаллизован в форме анатаза, который является наиболее активной фазой с точки зрения фотокатализа. Смеси фазы анатаза и рутила также оказались очень активными. Диоксид титана может быть факультативно легирован металлическими ионами, например, ионами переходного металла, или атомами азота, углерода, фтора и т.п. Диоксид титана может быть также субстехиометрическим или сверхстехиометрическим. Хотя оксид титана особенно предпочтителен, могут также применяться и другие фотокаталитические оксиды, в том числе 8τΤίΟ3, ΖηΟ, 81С, ОаР, С68, СбЗе, Μοδ3, δηΟ2, ΖηΟ, \νΟ3. Ρο2Ο3, Βί2Ο3, Ν62Ο5, ΚΤαΟ3, ΒίΧΟ4, Βί2\νΟ6.
В оконном стекле согласно изобретению вся поверхность фотокаталитического слоя, в частности на основе оксида титана, предпочтительно находится в контакте с внешней средой, чтобы иметь возможность полностью проявить свою самоочищающуюся функцию. Однако может быть выгодным покрывать фотокаталитический слой, в частности, из диоксида титана, тонким гидрофильным слоем, в частности, на основе оксида кремния, чтобы улучшить сохранение гидрофильности во времени.
Оптическая толщина X фотокаталитического слоя, в частности, на основе оксида титана, предпочтительно не больше 40 нм, в частности 30 нм. Его геометрическая толщина предпочтительно не превышает 20 нм, даже 15 нм или же 10 нм, предпочтительно больше или равна 5 нм. Очень тонкие слои, хотя и считаются менее активными фотокаталитически, имеют, тем не менее, хорошие самоочищающиеся свойства, не пачкаются и не запотевают. Действительно, даже в случае слоев очень малой толщины фотокаталитический оксид титана имеет особенность, когда он освещается солнечным светом, становиться очень гидрофильным, с углом смачивания водой ниже 5° и даже 1°, что позволяет воде более легко течь, устраняя загрязнения, осажденные на поверхности слоя. Кроме того, более толстые слои имеют более высокое отражение света, следствием чего является снижение солнечного фактора.
Согласно одному возможному варианту осуществления, между прозрачным электропроводящим слоем и промежуточным слоем и/или между промежуточным слоем и фотокаталитическим слоем больше не имеется никаких других слоев. Альтернативно, между слоем ТСО, в частности, когда он состоит из ΙΤΟ, и промежуточным слоем можно поместить защитный слой. Этот слой, толщина которого предпочтительно не превышает 10 нм, в частности 5 нм и даже 2 нм, позволяет защитить ТСО, в частности ΙΤΟ, при осаждении промежуточного слоя, в частности, когда осаждение производится катодным напылением, и при возможных последующих термообработках. Показатель преломления защитного слоя предпочтительно больше или равен показателю преломления слоя ТСО. Особенно предпочтителен нитрид кремния.
Можно также расположить между подложкой и слоем прозрачного электропроводящего оксида
- 3 026679 нейтрализующий слой или систему слоев. В случае единственного слоя его показатель преломления предпочтительно лежит между показателем преломления подложки и показателем преломления указанного слоя прозрачного электропроводящего оксида. Такие слои или системы слоев позволяют влиять на вид оконного стекла при отражении, в частности, на его цвет при отражении. Предпочтительны синеватые цвета, характеризующие отрицательными значениями колориметрической координаты Ь*. В качестве неограничивающих примеров можно использовать слой смешанного оксида кремния и олова (δίδηΟχ), оксикарбида или оксинитрида кремния, оксида алюминия, смешанного оксида титана и кремния. Применима также система слоев, содержащая два слоя с высоким и низким показателем, например, система ΤίΟ2/δίΟ2, δ ί3Ν4/δίΟ2 или ΤΟΟ/δίΘ2 (в последнем случае ТСО может быть таким же, какой используется в многослойной системе, или другим ТСО). Геометрическая толщина этого или этих слоев предпочтительно лежит в интервале от 15 до 70 нм. Когда слой прозрачного электропроводящего оксида состоит из оксида олова, легированного фтором, нижний нейтрализующий слой предпочтительно является оксикарбидом кремния или смешанным оксидом кремния и олова. Когда слой прозрачного электропроводящего оксида состоит из ΙΤΟ, ниже этого слоя предпочтительно располагают нейтрализующий слой из оксинитрида кремния или систему δί3Ν4/δίΟ2.
В частности, когда слой прозрачного электропроводящего оксида состоит из ΙΤΟ, предпочтительно помещать между подложкой и слоем или системой нейтрализующих слоев адгезионный слой. Этот слой, который предпочтительно имеет показатель преломления близкий к показателю преломления стеклянной подложки, позволяет улучшить стойкость к закалке, способствуя сцеплению нейтрализующего слоя. Адгезионный слой предпочтительно состоит из оксида кремния. Его геометрическая толщина предпочтительно лежит в диапазоне от 20 до 200 нм, в частности от 30 до 150 нм.
Конечно, разные предпочтительные варианты осуществления, описанные выше, могут комбинироваться между собой. Разумеется, в настоящем тексте явно описаны не все возможные комбинации. Ниже приводится несколько примеров особенно предпочтительных многослойных систем.
1. стекло/δ^ΟС/δη02:Ρ/δ^Ο2/Τ^Ο2
2. стекло/δ^δηΟx/δηΟ2:Ρ/δ^Ο2/Τ^Ο2
3. стекло/ (δίΟ2)/δίΟχΝγ/ΙΤΟ/δί3Ν4/δίΟ2/ΤίΟ2
4. стекло/δ^Ο2/δ^3N4/§^Ο2/IΤΟ/δ^3N4/§^Ο2/Τ ίΟ2
5. стекло/δ^3N4/§^Ο2/IΤΟ/δ^3N4/§^Ο2/Τ ίΟ2
В этих многослойных системах геометрическая толщина слоя ΤίΟ2 предпочтительно не превышает 15 нм, даже 10 нм. Толщину слоя ТСО следует выбирать независимо, смотря по желаемому коэффициенту излучения, как объяснялось выше в настоящем описании.
Многослойные системы 1 и 2 используют слой ТСО из оксида олова, легированного фтором. Эти многослойные системы предпочтительно получены химическим осаждением из паровой фазы, обычно прямо на линии получения флоат-стекла.
Многослойные системы 3-5, которые используют ΙΤΟ, предпочтительно получены магнетронным катодным напылением. Примеры 3 и 4 содержат на стекле адгезионный слой оксида кремния (факультативный для примера 3), затем нейтрализующий слой оксинитрида кремния или систему нейтрализующих слоев, состоящую из слоя нитрида кремния, на который нанесен слой оксида кремния, слой ТСО, защитный слой из нитрида кремния, промежуточный слой оксида кремния и, наконец, фотокаталитический слой диоксида титана. Пример 5 соответствует примеру 4, но без адгезионного слоя из оксида кремния. Приведенные формулы не отражают реальную стехиометрию слоев и возможной легирующей добавки.
Оконное стекло согласно изобретению предпочтительно получено многостадийным способом. Слои многослойной системы осаждают на стеклянную подложку, которая в этом случае обычно имеет форму большого стеклянного листа размером 3,2-6 м2, или прямо на ленту стекла во время или сразу после флоат-процесса, затем подложку режут на окончательные размеры оконного стекла. После обработки краев изготавливают стеклопакет, соединяя подложку с другими стеклянными листами, которые сами, возможно, заранее снабжены функциональными покрытиями, например, низкоизлучательными.
Различные слои многослойной системы могут быть осаждены на стеклянную подложку любым способом осаждения тонких слоев. Речь может идти, например, о способах типа золь-гель, пиролизе (жидком или твердом), химическом осаждении из паровой фазы (СУЭ). в частности, с поддержкой плазмой (АРСУЭ), возможно при атмосферном давление (АРРЕСУЭ), испарении.
Согласно одному предпочтительному варианту осуществления слои многослойной системы получают химическим осаждением из паровой фазы, прямо в линии по производству листового стекла флоатспособом. Это предпочтительно имеет место, когда ТСО-слой является слоем оксида олова, легированного фтором. Осаждение проводится посредством напыления предшественников через насадки, на горячую полосу стекла. Осаждение различных слоев может проводиться в разных местах производственной линии: во флофт-камере, между флофт-камерой и туннельной печью для охлаждения стеклянной ленты или в туннельной печи. Предшественники обычно представляют собой металлоорганические молекулы или галогениды. В качестве примеров предшественников оксида олова, легированного фтором, можно назвать тетрахлорид олова, трихлорид монобутилолова (М1ВСЕ), трифторуксусную кислоту, фтористоводородную кислоту. Оксид кремния можно получить с помощью силана, тетраэтоксисилана (ΤΕΟ8) или
- 4 026679 же гексаметилдисилоксана (ΗΌΜδΟ), возможно используя ускоритель, такой, как триэтилфосфат. Оксид титана может быть получен из тетрахлорида титана или изопропоксида титана. Преимуществом способа СУБ, которым проводится осаждение на горячее стекло, является то, что он позволяет напрямую получить высококристаллические слой ТСО и фотокаталитический слой.
Согласно другому предпочтительному варианту осуществления слои многослойной системы получают катодным напылением, в частности, с поддержкой магнитного поля (магнетронный способ). Это предпочтительно имеет место, когда ТСО-слой является слоем ΙΤΟ. В этом способе плазма создается в глубоком вакууме вблизи мишени, содержащей осаждаемые химические элементы. Активные компоненты плазмы, бомбардируя мишень, вырывают указанные элементы, которые осаждаются на подложке, образуя желаемый тонкий слой. Этот способ называется реактивным, когда слой состоит из материала, получающегося в результате химической реакции между вырванными элементами мишени и газом, содержащимся в плазме. Основное преимущество этого способа заключается в возможности осаждения на одной и той же линии очень сложной многослойной системы, последовательно проводя подложку под разными мишенями, обычно в одном и том же устройстве.
Магнетронный способ, однако, невыгоден, когда подложку не нагревают во время осаждения: полученные слои ТСО и оксида титана имеют низкую степень кристалличности, так что их свойства, что касается излучательной способности и фотокаталитической активности, не оптимальны. В таком случае оказывается необходимой термическая обработка.
Эта термическая обработка, предназначенная для улучшения кристаллизации слоя ТСО и фотокаталитического слоя, предпочтительно выбрана из закалки, отжига, быстрого отжига. Улучшение кристаллизации можно количественно охарактеризовать по повышению степени кристалличности (массовая или объемная доля кристаллизованного материала) и/или по размеру кристаллических зерен (или размеру доменов когерентного преломления, измеренному методами дифракции рентгеновских лучей или спектроскопией комбинационного рассеяния). Это улучшение кристалличности может быть также установлено косвенно, по улучшению свойств слоя. В случае слоя типа ТСО коэффициент излучения снижается, предпочтительно по меньшей мере на 5 относительных процентов, даже по меньшей мере на 10% или 15%, так же как и его поглощение света и энергии. В случае слоев диоксида титана улучшение кристалличности выражается в повышении фотокаталитической активности. Активность обычно оценивается по разложению модельных загрязняющих веществ, таких, как стеариновая кислота или метиленовый синий.
Обработка закалкой или отжигом обычно проводится в печи, соответственно, закалочной или отжигательной. Всю подложку доводят до высокой температуры, по меньшей мере 300°С в случае отжига и по меньшей мере 500°С, даже 600°С в случае закалки.
Быстрый отжиг предпочтительно проводится с помощью огня, плазменной горелки или лазерного излучения. В способе такого типа создают относительное движение между подложкой и устройством (факел, лазер, плазменная горелка). Обычно устройство является подвижным, а подложка с покрытием будет продвигаться относительно устройства, чтобы обработать ее поверхность. Эти способы позволяют подвести высокую плотность энергии к обрабатываемому покрытию за очень короткое время, ограничивая таким образом рассеяние тепла к подложке и, следовательно, нагрев указанной подложки. Во время обработки температура подложки, как правило, не превышает 100°С, даже 50° и даже 30°С. Каждая точка тонкого слоя подвергается быстрому отжигу в течение периода времени обычно меньше или равного 1 с, даже 0,5 с.
Термообработка быстрым отжигом предпочтительно проводится с помощью лазера, излучающего в инфракрасном диапазоне и диапазоне видимого спектра. Длина волны излучения предпочтительно лежит в интервале от 530 до 1200 нм или от 600 до 1000 нм, в частности от 700 до 1000 нм, даже от 800 до 1000 нм. Предпочтительно применять диодный лазер, излучающий, например, на длине волны порядка 808 нм, 880 нм, 915 или же 940 нм или 980 нм. В форме диодных систем можно получить очень высокие мощности, позволяющие достичь мощности, отнесенной к единице поверхности обрабатываемого покрытия, выше 20 кВт/см2, даже 30 кВт/см2
Лазерное излучение предпочтительно исходит из по меньшей мере одного лазерного луча, образуя линию (называемую далее в тексте лазерной линией), которая облучает одновременно всю или часть ширины подложки. Этот режим предпочтителен, так как он исключает использование дорогостоящих систем перемещения, обычно крупногабаритных, и сложного обслуживания. Линейный лазерный луч может быть получен, в частности, с помощью диодных лазерных систем высокой мощности, в сочетании с фокусирующей оптикой. Толщина линии предпочтительно составляет от 0,01 до 1 мм. Длина линии обычно составляет от 5 мм до 1 м. Профиль линии может представлять собой, в частности, кривую Гауссу или зубец. Лазерная линия, облучающая одновременно всю или часть ширины подложки, может состоять из единственной линии (в таком случае облучающей всю ширину подложки) или из нескольких линий, возможно отстоящих друг от друга. Когда используется несколько линий, предпочтительно, чтобы они были расположены таким образом, чтобы обрабатывалась все поверхность многослойной системы. Эта линия или каждая линия предпочтительно направлена перпендикулярно направлению продвижения подложки или расположена под углом к нему. Разные линии могут обрабатывать подложку одно- 5 026679 временно или со сдвигом по времени. Важно, чтобы вся поверхность, которую требуется обработать, была обработана. Так, подложка может приводиться в движение, в частности, продвигаясь поступательно относительно неподвижной лазерной линии, обычно ниже, но, возможно, выше линии лазера. Этот вариант осуществления особенно высоко ценится для непрерывной обработки. Альтернативно, подложка может быть неподвижной, а лазер может быть подвижным. Предпочтительно разность соответствующих скоростей подложки и лазера больше или равна 1 метру в минуту, даже 4 и даже 6, 8, 10 или 15 м/мин, чтобы обеспечить высокую скорость обработки. Когда подложка перемещается, в частности, в частности, поступательно, она может приводиться в движение с помощью любого механического конвейерного средства, например, с помощью движущихся поступательно лент, роликов, листов. Конвейерная система доставки позволяет контролировать и регулировать скорость перемещения. Лазер также можно приводить в движение, чтобы скорректировать его расстояние до подложки, что может быть полезным, в частности, когда подложка является моллированной, но не только в этом случае. Действительно, предпочтительно, чтобы лазерный луч был сфокусирован на обрабатываемом покрытии, чтобы это последнее находилось на расстоянии меньше или равном 1 мм от фокальной плоскости. Если система перемещения подложки или лазера является недостаточно точной в отношении расстояния между подложкой и фокальной плоскостью, следует предпочтительно корректировать расстояние между лазером и подложкой. Эта корректировка может быть автоматической, в частности регулируемой благодаря измерению расстояния до обработки.
Устройство лазерного излучения может быть встроено в линию осаждения слоев, например, линию осаждения катодным напылением с поддержкой магнитным полем (магнетронный процесс) или линию химического осаждения из паровой фазы (СУЭ), в частности, с поддержкой плазмой (РЕСУЭ), в вакууме или при атмосферном давлении (АРРЕСУЭ).
Объектом изобретения является также применение оконного стекла согласно изобретению для снижения явлений конденсации воды (в частности, в виде запотевания или инея) на поверхности указанного оконного стекла.
Фигура схематически показывает разрез части оконного стекла согласно изобретению. Показаны только многослойная система, находящаяся на стороне 1 оконного стекла, и часть стеклянной подложки.
Показаны находящиеся на подложке 1 (обычно стеклянной): слой 2 прозрачного электропроводящего оксида (обычно из ΙΤΟ), промежуточный слой 3 (обычно из δίΟ2) и фотокаталитический слой 4 (обычно из ΤίΟ2). Факультативными слоями являются защитный слой 5 (обычно из δί3Ν4), слой или система нейтрализации 6 (обычно система δί3Ν4/δίΟ2) и адгезионный слой 7 (например, из δίΟ2).
Следующие примеры иллюстрируют изобретение, но не ограничивают его.
Пример 1
Этот пример иллюстрирует вариант осуществления, в котором слои осаждают методом СУЭ (химическое осаждение из паровой фазы), причем ТСО является оксидом олова, легированным фтором (δηΟ2:Ρ).
Известным способом на стеклянную подложку осаждают многослойную систему, состоящую, идя от подложки, из нейтрализующего слоя оксикарбида кремния (общей формулы δίΟΟ) с показателем преломления 1,65, слоя ТСО из оксида олова, легированного фтором, с показателем преломления 1,8, промежуточного слоя из оксида кремния, с показателем преломления 1,48, и, наконец, фотокаталитического слоя ΤίΟ2, с показателем преломления 2,0. Как и во всем тексте, показатели преломления приведены для длины волны 550 нм.
Подложка, использующаяся в примере, представляет собой прозрачный стеклянный лист толщиной 4 мм, выпускаемый под маркой 800 Р1аш1их® фирмой-заявителем.
В табл. 1 ниже для каждого образца согласно изобретению или сравнительного образца указаны геометрические толщины (в нм) каждого слоя многослойной системы, пропускание энергии подложкой, покрытой многослойной системой (или коэффициент прямого пропускания солнечной энергии), обозначенное ТЕ, согласно норме ΕΝ 410:1998, колориметрические координаты а*, Ь*, при отражении со стороны многослойной системы, рассчитанные, беря за эталон источник освещения Ό65 и стандартное устройство наблюдения С1Е-1931.
Таблица 1
| С1 | С2 | 2 | ||
| ТЮг (нм) | 15 | 15 | 15 | 15 |
| 310? (нм) | 20 | 80 | 50 | 50 |
| ЗпОг:Р (нм) | 300 | 300 | 300 | 300 |
| 51ОС (нм) | 45 | 45 | 45 | 0 |
| ТЕ {%) | 71,5 | 71,9 | 72,8 | 72,5 |
| а* | -0,5 | -11,2 | ||
| Ъ* | -0,9 | 4,4 |
- 6 026679
Сравнительные примеры С1 и С2 содержат промежуточный слой, толщина которого не оптимизирована, в отличие от примеров 1 и 2 согласно изобретению.
Это выражается для примеров согласно изобретению в повышении пропускания энергии более чем на 0,5%, даже на 1%.
Сравнение примеров 1 и 2 иллюстрирует эффект нейтрализующего слоя 8ЮС: многослойная система примера 2, которая не содержит этого слоя, имеет менее нейтральный вид в отражении, отливая желто-зеленым.
Используя подложки С1, С2 и 1, делают тройной стеклопакет. Фотокаталитическую систему помещают на стороне 1 оконного стекла, тогда как две низкоэмиссионные многослойные системы на основе серебра располагают, соответственно, на стороне 2 и 5.
В табл. 2 ниже для каждого случая указаны пропускание энергии оконным стеклом (или коэффициент прямого пропускания солнечной энергии), обозначенное ТЕ, солнечный фактор оконного стекла, обозначенный д.
Обе эти величины рассчитаны согласно норме ΕΝ 410:1998.
Таблица 2
| С1 | С2 | 1 | |
| ТЕ (%) | 44,9 | 45,3 | 45, 3 |
| д (Я | 52, 1 | 52, 5 | 53, 1 |
Таким образом, выбор толщины промежуточного слоя позволяет получить очень существенное увеличение солнечного фактора.
Пример 2
Этот пример иллюстрирует вариант осуществления, в котором слои осаждают катодным напылением (магнетронный способ), причем ТСО является слоем ΙΤΟ (смешанный оксид олова и индия).
Известным способом на стеклянную подложку осаждают многослойную систему, состоящую, идя от подложки, из нейтрализующей системы, состоящей из слоя нитрида кремния (δί3Ν4) с показателем преломления, равным 2,0, затем слоя оксида кремния с показателем преломления, равным 1,48, слоя ТСО из смешанного оксида олова и индия (ΙΤΟ) с показателем преломления 1,8, промежуточного слоя из оксида кремния (8ίΟ2) с показателем преломления 1,48 и, наконец, фотокаталитического слоя из ΤίΟ2, показатель преломления которого равен 2,5. Подложку, покрытую этой многослойной системой, подвергают этапу отжига после осаждения слоев. Сама подложка такая же, какая использовалась в предыдущих примерах.
В табл. 3 ниже для каждого образца согласно изобретению или сравнительного указаны геометрические толщины (в нм) каждого слоя многослойной системы, пропускание энергии (или коэффициент прямого пропускания солнечное энергии), обозначенное ТЕ, согласно норме ΕΝ 410:1998, подложки, покрытой этой многослойной системой, колориметрические координаты а*, Ь*, в отражении со стороны многослойной системы, рассчитанные, беря за эталон источник освещения Ό65 и стандартное устройство наблюдения С1Е-1931.
Таблица 3
| сз | С4 | 3 | 4 | |
| ΤίΟ2 (нм) | 12 | 12 | 12 | 12 |
| З1О2 (нм) | 10 | 70 | 40 | 40 |
| ГТО (нм) | 100 | 100 | 100 | 1С0 |
| 51Ог (нм) | 11 | 11 | 11 | С |
| 5Ι3Ν4 (нм) | 16,5 | 16, 5 | 16,5 | С |
| ТЕ (%) | 76, 3 | 76,2 | 77,9 | 77,4 |
| а* | “4,4 | 10, 6 | ||
| Ъ* | -9, 6 | -20, 6 |
Сравнительные примеры С3 и С4 содержат промежуточньй слой, толщина которого не оптимизирована, в отличие от примеров 3 и 4 согласно изобретению.
Для примеров согласно изобретению это выражается в повышении пропускания энергии по меньшей мере на 1%.
Сравнение примеров 3 и 4 иллюстрирует эффект нейтрализующей системы слоев 82Ν4/δίΟ2: многослойная система примера 4, которая не содержит этой системы, имеет менее нейтральный вид при отражении, отливая фиолетовым.
Используя подложки С3, С4 и 3, делают тройной стеклопакет. Фотокаталитическую многослойную систему помещают на стороне 1 оконного стекла, тогда как две низкоэмиссионные многослойные системы на основе серебра располагаются соответственно на стороне 2 и 5.
- 7 026679
В табл. 4 ниже для каждого случая указаны пропускание энергии оконным стеклом (или коэффициент прямого пропускания солнечной энергии), обозначенное ТЕ, солнечный фактор оконного стекла, обозначенный д Обе эти величины рассчитаны согласно норме ΕΝ 410:1998.
Таблица 4
| сз | С4 | 3 | |
| ТЕ (%) | 47,3 | 47,2 | 48,2 |
| д(%) | 56,0 | 55, 8 | 57,0 |
Таким образом, выбор толщины промежуточного слоя, произведенный согласно изобретению, позволяет получить очень значительный выигрыш в отношении солнечного фактора, по меньшей мере на 1% абсолютного значения. Использование ΙΤΟ позволяет, кроме того, повысить солнечный фактор по сравнению с оксидом олова, легированным фтором, при сравнимом уровне излучательной способности (и, следовательно, противоконденсационных характеристик).
Между слоем ТСО и промежуточным слоем можно расположить очень тонкий защитный слой из нитрида кремния, не вызывая существенного влияния на оптические и энергетические свойства оконного стекла.
Эти разные проиллюстрированные оконные стекла позволяют очень сильно снизить появление конденсации воды, такое как запотевание или иней.
Claims (16)
1. Остекление, содержащее стеклянную подложку (1), снабженную на одной из своих сторон, предназначенной для образования наружной стороны указанного остекления в положении применения, многослойной системой тонких слоев, содержащей, идя от подложки (1), слой (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), промежуточный слой (3) с показателем преломления в интервале от 1,40 до 1,5 и произведением геометрической толщины промежуточного слоя (3) на его показатель преломления, составляющим Υ, и фотокаталитический слой (4), имеющий значение X произведения геометрической толщины фотокаталитического слоя (4) на его показатель преломления, которое не превышает 50 нм, причем указанные X и Υ, выраженные в нанометрах, таковы, что 110 · е ’ <Υ<135 · е ’ .
2. Остекление по п.1, являющееся многослойным стеклопакетом, в частности с двумя или тремя стеклянными листами.
3. Остекление по одному из предыдущих пунктов, причем слой (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО) является слоем оксида олова, легированного фтором, или слоем смешанного оксида олова и индия.
4. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором показатель преломления слоя (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО) лежит в диапазоне от 1,7 до 2,5.
5. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором коэффициент излучения слоя (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО) меньше или равен 0,4, в частности 0,3.
6. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором промежуточный слой (3) имеет в основе оксид кремния.
7. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором фотокаталитический слой (4) имеет в основе оксид титана.
8. Остекление по предыдущему пункту, в котором фотокаталитический слой (4) является слоем оксида титана, показатель преломления которого составляет от 2,0 до 2,5.
9. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором X не превышает 40 нм, в частности 30 нм.
10. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором защитный слой (5) располагается между слоем (2) прозрачного электропроводящего оксида, в частности смешанного оксида олова и индия, и промежуточным слоем (3).
11. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором между подложкой (1) и слоем (2) прозрачного электропроводящего оксида помещен нейтрализующий слой или многослойная система нейтрализующих слоев (6).
12. Остекление по предыдущему пункту, в котором слой (2) прозрачного электропроводящего оксида является слоем смешанного оксида олова и индия и между подложкой (1) и слоем или системой нейтрализующих слоев (6) помещают адгезионный слой (7).
13. Остекление по одному из предыдущих пунктов, в котором многослойная система, расположенная на наружной стороне, выбрана из следующих многослойных систем:
стекло/81ОС/8иО2:Р/81О2/Т1О2 стекло/818иОх/8иО2:Р/81О2/Т1О2 стекло/81О2/81ОхЧ/1ТО/813Ч/§1О2/Т1О2 стекло/81О2/81зЧ/§1О2/1ТО/813Ч/81О2/Т1О2
- 8 026679 σΓεκΛθ/δί3Ν4/δίθ2/ΙΤΟ/§ί3Ν4/§ίθ2/Τίθ2
14. Остекление по одному из предыдущих пунктов, являющееся тройным стеклопакетом, в котором по меньшей мере одна другая сторона покрыта многослойной системой слоев с коэффициентом излучения не выше 0,1.
15. Способ получения остекления по одному из предыдущих пунктов, в котором на сторону стеклянной подложки, предназначенную для образования наружной стороны остекления, последовательно осаждают катодным напылением слой (2) прозрачного электропроводящего оксида (ТСО), промежуточный слой (3) с показателем преломления в интервале от 1,40 до 1,5 и произведением геометрической толщины промежуточного слоя (3) на его показатель преломления, составляющим Υ, и фотокаталитический слой (4), имеющий значение X произведения геометрической толщины фотокаталитического слоя (4) на его показатель преломления, которое не превышает 50 нм, причем указанные X и Υ, выраженные в нанометрах, таковы, что
110-е-0’025х <Υ<135^-0·01δχ, затем указанные слои подвергают термообработке, предназначенной для улучшения кристаллизации слоя ТСО и фотокаталитического слоя, причем указанная термическая обработка выбрана из закалки, отжига, быстрого отжига.
16. Способ по предыдущему пункту, в котором быстрый отжиг проводится с помощью факела, плазменной горелки или лазерного излучения.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR1056218A FR2963343B1 (fr) | 2010-07-28 | 2010-07-28 | Vitrage pourvu d'un revetement contre la condensation |
| PCT/FR2011/051749 WO2012022876A2 (fr) | 2010-07-28 | 2011-07-20 | Vitrage |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| EA201390177A1 EA201390177A1 (ru) | 2013-06-28 |
| EA026679B1 true EA026679B1 (ru) | 2017-05-31 |
Family
ID=43646501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| EA201390177A EA026679B1 (ru) | 2010-07-28 | 2011-07-20 | Остекление и способ его изготовления |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130129945A1 (ru) |
| EP (1) | EP2598455B1 (ru) |
| JP (1) | JP5866356B2 (ru) |
| KR (1) | KR101952975B1 (ru) |
| CN (1) | CN103003216B (ru) |
| BR (1) | BR112013000924B1 (ru) |
| CA (1) | CA2806026C (ru) |
| EA (1) | EA026679B1 (ru) |
| ES (1) | ES2523932T3 (ru) |
| FR (1) | FR2963343B1 (ru) |
| PL (1) | PL2598455T3 (ru) |
| PT (1) | PT2598455E (ru) |
| WO (1) | WO2012022876A2 (ru) |
Families Citing this family (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US8524337B2 (en) | 2010-02-26 | 2013-09-03 | Guardian Industries Corp. | Heat treated coated article having glass substrate(s) and indium-tin-oxide (ITO) inclusive coating |
| FR2973023B1 (fr) | 2011-03-25 | 2019-08-02 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage multiple isolant comprenant deux empilements bas emissifs |
| FR2976439A1 (fr) * | 2011-06-07 | 2012-12-14 | Saint Gobain | Element chauffant a couche |
| JP5897157B2 (ja) | 2012-03-05 | 2016-03-30 | サン−ゴバン グラス フランスＳａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ Ｇｌａｓｓ Ｆｒａｎｃｅ | 熱放射反射コーティングを有するプレート |
| FR2987618B1 (fr) | 2012-03-05 | 2014-02-28 | Saint Gobain | Vitrage anticondensation |
| DE102012104374A1 (de) * | 2012-05-21 | 2013-11-21 | Helmholtz-Zentrum Dresden - Rossendorf E.V. | Herstellung transparenter leitfähiger Titandioxidschichten, diese selbst und ihre Verwendung |
| FR2997770B1 (fr) | 2012-11-07 | 2015-11-20 | Saint Gobain | Support electroconducteur pour vitrage a diffusion variable par cristaux liquides, et un tel vitrage |
| US9332862B2 (en) * | 2012-11-30 | 2016-05-10 | Guardian Industries Corp. | Refrigerator door/window |
| JP6181210B2 (ja) * | 2013-02-20 | 2017-08-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱放射反射コーティングを有する板ガラス |
| CA2901782C (en) | 2013-02-20 | 2018-07-17 | Saint-Gobain Glass France | Pane with thermal radiation reflecting coating |
| FR3002534B1 (fr) | 2013-02-27 | 2018-04-13 | Saint-Gobain Glass France | Substrat revetu d'un empilement bas-emissif. |
| CN103963369A (zh) * | 2014-04-28 | 2014-08-06 | 张家港市大明玻璃制品有限公司 | 新型导电玻璃 |
| FR3022904B1 (fr) | 2014-06-27 | 2016-07-01 | Saint Gobain | Procede d'activation de couche sur substrat verrier |
| US9577045B2 (en) | 2014-08-04 | 2017-02-21 | Fairchild Semiconductor Corporation | Silicon carbide power bipolar devices with deep acceptor doping |
| WO2016075435A1 (en) * | 2014-11-12 | 2016-05-19 | Pilkington Group Limited | Coated glass article, display assembly made therewith and method of making a display assembly |
| EP3296275B1 (en) | 2015-05-11 | 2021-03-17 | AGC Inc. | Insulated glass unit for vehicles |
| JPWO2016181740A1 (ja) | 2015-05-11 | 2018-03-01 | 旭硝子株式会社 | 車両用の断熱ガラスユニットおよびその製造方法 |
| WO2017029252A1 (de) | 2015-08-18 | 2017-02-23 | Saint-Gobain Glass France | Glasbiegevorrichtung und -verfahren unter verwendung eines ventilators |
| JP6501972B2 (ja) | 2015-09-08 | 2019-04-17 | サン−ゴバン グラス フランスＳａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ Ｇｌａｓｓ Ｆｒａｎｃｅ | 正圧支援される重力湾曲法およびこの方法に適した装置 |
| PE20180975A1 (es) | 2015-11-25 | 2018-06-14 | Saint Gobain | Metodo de doblado por gravedad asistido por sobrepresion y dispositivo adecuado para el mismo |
| US9810017B2 (en) | 2015-12-15 | 2017-11-07 | Cardinal Cg Company | Glazing perimeter anticondensation coating technology |
| US9674895B1 (en) | 2015-12-15 | 2017-06-06 | Cardinal Cg Company | Glazing perimeter anticondensation coating production technology |
| WO2017129307A1 (de) | 2016-01-28 | 2017-08-03 | Saint-Gobain Glass France | Überdruckunterstütztes glasbiegeverfahren und hierfür geeignete vorrichtung |
| FR3061172B1 (fr) * | 2016-12-26 | 2020-03-27 | Saint-Gobain Glass France | Dispositif chauffant comprenant un substrat verrier revetu sur ses deux faces |
| JP6817465B2 (ja) * | 2017-05-09 | 2021-01-20 | サン−ゴバン グラス フランス | 指紋の視認性を低下させた、導電性コーティングを有するペイン |
| EP3431456A1 (fr) * | 2017-07-20 | 2019-01-23 | AGC Glass Europe | Verre anti-condensation à entretien facilité |
| CN111032591B (zh) * | 2017-08-31 | 2023-02-17 | 皮尔金顿集团有限公司 | 涂覆的玻璃制品、其制造方法，以及用其制成的光伏电池 |
| JP7376470B2 (ja) | 2017-08-31 | 2023-11-08 | ピルキントン グループ リミテッド | 酸化ケイ素コーティングを形成するための化学気相堆積プロセス |
| EP3774681A1 (en) * | 2018-04-12 | 2021-02-17 | AGC Glass Europe | Multiple glazing unit |
| CN108863102A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-11-23 | 广东旗滨节能玻璃有限公司 | 一种含铟涂层阻隔有害光线的玻璃膜层及其制造方法 |
| FR3084353B1 (fr) | 2018-07-27 | 2023-03-24 | Saint Gobain | Substrat emaille, dispositif vitre lumineux avec un tel substrat et sa fabrication. |
| FR3084354B1 (fr) | 2018-07-27 | 2020-07-17 | Saint-Gobain Glass France | Substrat emaille formant ecran de projection, et sa fabrication. |
| IT201800011095A1 (it) * | 2018-12-14 | 2020-06-14 | Enzo Gatti | Procedimento per la lavorazione di pellicole in vetro temperato, e relativa pellicola in vetro temperato. |
| JP7020458B2 (ja) * | 2019-07-12 | 2022-02-16 | Ａｇｃ株式会社 | 膜付きガラス基板及びその製造方法 |
| EP4087827A1 (en) * | 2020-01-10 | 2022-11-16 | Cardinal CG Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| FR3107056B1 (fr) * | 2020-02-06 | 2023-01-20 | Saint Gobain | Vitrage à couches et sa fabrication |
| WO2021180886A1 (en) * | 2020-03-12 | 2021-09-16 | Pilkington Group Limited | Coated glazing |
| WO2021180888A1 (en) * | 2020-03-12 | 2021-09-16 | Pilkington Group Limited | Coated glazing |
| CN111925129A (zh) * | 2020-09-04 | 2020-11-13 | 安徽天柱绿色能源科技有限公司 | 防蓝光、高透过率镀膜前板及防蓝光太阳能电池组件 |
| GB202016970D0 (en) * | 2020-10-26 | 2020-12-09 | Pilkington Group Ltd | Coated glazing |
| WO2023192460A1 (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-05 | Vitro Flat Glass Llc | Article coated by a multi-layer coating stack |
| CN114807856A (zh) * | 2022-04-28 | 2022-07-29 | 浙江大学 | 一种氟掺杂氧化铟锡透明导电薄膜及其制备方法 |
| WO2023247871A1 (fr) * | 2022-06-23 | 2023-12-28 | Saint-Gobain Glass France | Article verrier transparent pour compartiment froid et vitrage multiple incorporant ledit article |
| FR3137084A1 (fr) * | 2022-06-23 | 2023-12-29 | Saint-Gobain Glass France | Article verrier transparent pour compartiment froid et vitrage multiple incorporant ledit article. |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020028361A1 (en) * | 1995-09-15 | 2002-03-07 | Saint-Gobain Glass France | Substrate with a photocatalytic coating |
| US20030215648A1 (en) * | 2002-05-14 | 2003-11-20 | Varanasi Srikanth K. | Reflective, solar control coated glass article |
| US20060029813A1 (en) * | 2004-08-09 | 2006-02-09 | Kutilek Luke A | Coated substrates that include an undercoating |
| EP1637225A1 (en) * | 2003-06-09 | 2006-03-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Photocatalyst member |
| EP1816109A1 (en) * | 2006-02-01 | 2007-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
| CN101054268A (zh) * | 2007-05-24 | 2007-10-17 | 卢秀强 | 阳光控制低辐射、紫外线截止、光催化杀菌多功能镀膜玻璃及其制备方法 |
| WO2007115796A2 (de) * | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg | Witterungsbeständiges schichtsystem |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3667179A (en) * | 1970-05-01 | 1972-06-06 | Biltbest Corp | Wooden window units having protective coverings |
| US3665915A (en) * | 1971-03-18 | 1972-05-30 | Mills Prod Inc | Oven door window unit for self-cleaning ovens |
| US4004370A (en) * | 1975-03-03 | 1977-01-25 | Anthony's Manufacturing Company, Inc. | Insulated door mounting frame structure |
| CA1056680A (en) * | 1976-04-12 | 1979-06-19 | Claude Drouin | Window unit for use in oven doors |
| US4255474A (en) * | 1980-01-04 | 1981-03-10 | Rockwell International Corporation | Composite having transparent conductor pattern |
| AT382203B (de) * | 1981-04-29 | 1987-01-26 | Glaverbel | Isolierglasscheibe mit klarglasscheiben |
| US4977013A (en) * | 1988-06-03 | 1990-12-11 | Andus Corporation | Tranparent conductive coatings |
| US5254392A (en) * | 1991-06-24 | 1993-10-19 | Ford Motor Company | Anti-iridescence coatings |
| US5732517A (en) * | 1996-02-23 | 1998-03-31 | Milikovsky; Roman | Window structure |
| FR2759362B1 (fr) * | 1997-02-10 | 1999-03-12 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'au moins une couche mince a base de nitrure ou d'oxynitrure de silicium et son procede d'obtention |
| FR2784984B1 (fr) * | 1998-10-22 | 2001-10-26 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces |
| GB9913315D0 (en) * | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
| FR2818272B1 (fr) * | 2000-12-15 | 2003-08-29 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces pour la protection solaire et/ou l'isolation thermique |
| FR2841894B1 (fr) * | 2002-07-03 | 2006-03-10 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| FR2857885B1 (fr) * | 2003-07-23 | 2006-12-22 | Saint Gobain | Procede de preparation d'un revetement photocatalytique integre dans le traitement thermique d'un vitrage |
| FR2858816B1 (fr) * | 2003-08-13 | 2006-11-17 | Saint Gobain | Substrat transparent comportant un revetement antireflet |
| JPWO2005056870A1 (ja) * | 2003-12-09 | 2007-12-13 | 旭硝子株式会社 | 可視光で光触媒活性を有するＴｉ酸化物膜およびその製造方法 |
| US20050126091A1 (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-16 | Kensington Windows, Inc. | Impact resistant glass unit |
| US7081302B2 (en) * | 2004-02-27 | 2006-07-25 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer |
| US7229533B2 (en) * | 2004-06-25 | 2007-06-12 | Guardian Industries Corp. | Method of making coated article having low-E coating with ion beam treated and/or formed IR reflecting layer |
| DE602005024993D1 (de) * | 2004-10-04 | 2011-01-05 | Cardinal Cg Co | Dünnfilmbeschichtung und technologie zum zeitweiligen schutz, isolierverglasungseinheiten und dazugehörige verfahren |
| JP2005289802A (ja) * | 2005-04-25 | 2005-10-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 冷凍・冷蔵庫用ガラスと該ガラスを使用したガラス物品 |
| FR2889182B1 (fr) * | 2005-07-29 | 2007-10-26 | Saint Gobain | Vitrage muni d'un empilement de couches minces agissant sur le rayonnement solaire |
| CN101234854A (zh) * | 2006-02-01 | 2008-08-06 | 旭硝子株式会社 | 附有红外线阻挡层的玻璃板及其制造方法 |
| US7989094B2 (en) * | 2006-04-19 | 2011-08-02 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| KR101385342B1 (ko) * | 2006-06-05 | 2014-04-14 | 알케마 인코포레이티드 | 산화아연 코팅된 유리 물품 및 그의 제조 방법 |
| US7597965B2 (en) * | 2006-09-18 | 2009-10-06 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having absorbing layer designed to neutralize color at off-axis viewing angles |
| CN200985312Y (zh) * | 2006-09-18 | 2007-12-05 | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 | 低辐射自洁玻璃 |
| US7655313B2 (en) * | 2007-03-15 | 2010-02-02 | Guardian Industries Corp. | Low-E coated articles and methods of making same |
| US8304045B2 (en) * | 2010-02-26 | 2012-11-06 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same |
| US8815059B2 (en) * | 2010-08-31 | 2014-08-26 | Guardian Industries Corp. | System and/or method for heat treating conductive coatings using wavelength-tuned infrared radiation |
-
2010
- 2010-07-28 FR FR1056218A patent/FR2963343B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-07-20 WO PCT/FR2011/051749 patent/WO2012022876A2/fr active Application Filing
- 2011-07-20 KR KR1020137005071A patent/KR101952975B1/ko active IP Right Grant
- 2011-07-20 EP EP11754708.3A patent/EP2598455B1/fr active Active
- 2011-07-20 CN CN201180036548.6A patent/CN103003216B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-20 CA CA2806026A patent/CA2806026C/fr not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-20 EA EA201390177A patent/EA026679B1/ru not_active IP Right Cessation
- 2011-07-20 BR BR112013000924-1A patent/BR112013000924B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2011-07-20 US US13/812,694 patent/US20130129945A1/en not_active Abandoned
- 2011-07-20 PT PT117547083T patent/PT2598455E/pt unknown
- 2011-07-20 JP JP2013521188A patent/JP5866356B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-07-20 PL PL11754708T patent/PL2598455T3/pl unknown
- 2011-07-20 ES ES11754708.3T patent/ES2523932T3/es active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020028361A1 (en) * | 1995-09-15 | 2002-03-07 | Saint-Gobain Glass France | Substrate with a photocatalytic coating |
| US20030215648A1 (en) * | 2002-05-14 | 2003-11-20 | Varanasi Srikanth K. | Reflective, solar control coated glass article |
| EP1637225A1 (en) * | 2003-06-09 | 2006-03-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Photocatalyst member |
| US20060029813A1 (en) * | 2004-08-09 | 2006-02-09 | Kutilek Luke A | Coated substrates that include an undercoating |
| EP1816109A1 (en) * | 2006-02-01 | 2007-08-08 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass plate and process for its production |
| WO2007115796A2 (de) * | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg | Witterungsbeständiges schichtsystem |
| CN101054268A (zh) * | 2007-05-24 | 2007-10-17 | 卢秀强 | 阳光控制低辐射、紫外线截止、光催化杀菌多功能镀膜玻璃及其制备方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| FISCHEDICK JUSTIN; VAN DER KOOY FRANK; VERPOORTE ROBERT: "Cannabinoid Receptor 1 Binding Activity and Quantitative Analysis of Cannabis sativa L. Smoke and Vapor", CHEMICAL AND PHARMACEUTICAL BULLETIN, PHARMACEUTICAL SOCIETY OF JAPAN, JP, vol. 58, no. 2, 1 February 2010 (2010-02-01), JP, pages 201 - 207, XP009146900, ISSN: 0009-2363 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2598455B1 (fr) | 2014-09-10 |
| CA2806026A1 (fr) | 2012-02-23 |
| CN103003216A (zh) | 2013-03-27 |
| KR20130041281A (ko) | 2013-04-24 |
| ES2523932T3 (es) | 2014-12-02 |
| EP2598455A2 (fr) | 2013-06-05 |
| PT2598455E (pt) | 2014-12-18 |
| BR112013000924B1 (pt) | 2019-10-15 |
| JP2013533202A (ja) | 2013-08-22 |
| BR112013000924A2 (pt) | 2016-05-17 |
| CN103003216B (zh) | 2015-08-12 |
| PL2598455T3 (pl) | 2015-03-31 |
| EA201390177A1 (ru) | 2013-06-28 |
| KR101952975B1 (ko) | 2019-05-31 |
| FR2963343B1 (fr) | 2012-07-27 |
| CA2806026C (fr) | 2019-05-07 |
| US20130129945A1 (en) | 2013-05-23 |
| WO2012022876A3 (fr) | 2012-07-12 |
| WO2012022876A2 (fr) | 2012-02-23 |
| JP5866356B2 (ja) | 2016-02-17 |
| FR2963343A1 (fr) | 2012-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EA026679B1 (ru) | Остекление и способ его изготовления | |
| KR102067047B1 (ko) | 응결 방지 창유리 | |
| US9950951B2 (en) | Substrate coated with a low-E multilayer | |
| US10000411B2 (en) | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology | |
| US9487438B2 (en) | Insulating glass unit comprising a sheet of glass with a fluorine doped tin oxide coating made from a gas stream comprising a nitric acid solution as oxidizing agent | |
| US20180079681A1 (en) | Tin oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods | |
| US20160060949A1 (en) | Insulating glass unit transparent conductive coating technology | |
| US11155493B2 (en) | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods | |
| RU2447032C2 (ru) | Стеклоизделие с покрытием из оксида цинка и способ его изготовления | |
| EP3371121B1 (en) | Production of flash-treated indium tin oxide coatings | |
| EP3371122B1 (en) | Insulating glass unit transparent conductive coating technology | |
| EP3371123B1 (en) | Insulating glass unit transparent conductivity and low emissivity coating technology |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM |
|
| MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): RU |