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DE69700397T2 - Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme - Google Patents

Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme

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Publication number
DE69700397T2
DE69700397T2 DE69700397T DE69700397T DE69700397T2 DE 69700397 T2 DE69700397 T2 DE 69700397T2 DE 69700397 T DE69700397 T DE 69700397T DE 69700397 T DE69700397 T DE 69700397T DE 69700397 T2 DE69700397 T2 DE 69700397T2
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DE
Germany
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compound
radiation
heat
composition
precursor
Prior art date
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Revoked
Application number
DE69700397T
Other languages
English (en)
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DE69700397D1 (de
Inventor
Richard Hoare
Alan Monk
Gareth Parsons
David Riley
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kodak Graphics Holding Inc
Original Assignee
Kodak Graphics Holding Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
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Priority claimed from GBGB9608394.4A external-priority patent/GB9608394D0/en
Priority claimed from GBGB9614693.1A external-priority patent/GB9614693D0/en
Priority claimed from PCT/GB1996/001973 external-priority patent/WO1997007986A2/en
Priority claimed from GBGB9700884.1A external-priority patent/GB9700884D0/en
Application filed by Kodak Graphics Holding Inc filed Critical Kodak Graphics Holding Inc
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Description

  • Die Erfindung betrifft die Vorläufer einer positiv arbeitenden Lithographie- Druckform und ihre Verwendung bei Verfahren, die die Zuführung von Wärme einbeziehen.
  • Das Fachgebiet des lithographischen Druckens basiert auf der Unmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei die ölige Substanz oder Farbe vorzugsweise durch die Bildfläche zurückgehalten wird und das Wasser oder das Feuchtmittel vorzugsweise durch die Nichtbildfläche zurückgehalten wird. Wenn eine geeignet hergestellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und dann eine Farbe aufgetragen wird, hält der Hintergrund oder die Nichtbildfläche das Wasser zurück, während der Bildbereich die Farbe annimmt und das Wasser abstößt. Die Farbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials übertragen, auf dem das Bild reproduziert werden soll, wie Papier, Stoff und dgl. Üblicherweise wird Farbe auf ein Zwischenmaterial übertragen, das das Drucktuch genannt wird, das wiederum die Farbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf dem das Bild reproduziert werden soll.
  • Ein allgemein verwendeter Typ des Vorläufers einer Lithographie-Druckform weist eine lichtempfindliche Beschichtung, aufgetragen auf einen Aluminiumgrundträger auf. Vorläufer einer negativ arbeitenden Lithographie-Druckform weisen eine strahlungsempimdliche Beschichtung auf, die beim bildweisen Aussetzen an Licht in den belichteten Bereichen härtet. Bei der Entwicklung werden die nicht belichteten Bereiche der beschichteten Zusammensetzung entfernt, wobei das Bild verbleibt. Andererseits weisen die Vorläufer einer positiv arbeitenden Lithographie-Druckform eine beschichtete Zusammensetzung auf, die nach bildweisem Aussetzen an Licht einer geeigneten Wellenlänge in den belichteten Bereichen in einem Entwickler löslicher werden als in den nicht belichteten Bereichen. Diese durch Licht bewirkte Löslichkeitsdifferenz wird Photolöslichmachen genannt. Eine große Zahl an im Handel erhältlichen Vorläufern einer positiv arbeitenden Druckform, die mit Chinondiaziden zusammen mit einem Phenolharz beschichtet sind, arbeiten durch Photolöslichmachen, wobei ein Bild hergestellt wird. In beiden Fällen ist die Bildfläche auf der Druckform selbst farbannehmend oder oleophil und die Nichtbildfläche oder der Hintergrund wasserannehmend oder hydrophil.
  • Die Unterscheidung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen wird beim Belichtungsverfahren getroffen, bei dem ein Film auf den Druckformvorläufer mit einem Vakuum gelegt wird, um guten Kontakt sicherzustellen. Der Druckformvorläufer wird dann einer Lichtquelle ausgesetzt, von der ein Teil aus UV-Strahlung besteht. Zum Beispiel, wenn ein Vorläufer einer positiv arbeitenden Druckform verwendet wird, ist der Bereich des Films, der dem Bild auf dem Druckformvorläufer entspricht, trüb, sodaß kein Licht den Druckformvorläufer trifft, während der Bereich auf dem Film, der dem Nichtbildbereich entspricht, klar ist und den Durchgang von Licht zur Beschichtung ermöglicht, die dann löslicher wird und entfernt wird.
  • Neuere Entwicklungen auf dem Fachgebiet von Vorläufern einer Lithographie- Druckform stellten strahlungsempfindliche Zusammensetzungen bereit, die zur Herstellung von direkt mit Laser ansprechbaren Durckformvorläufern geeignet sind. Die digitale bilderzeugende Information kann zum Versehen des Druckformvorläufers mit einem Bild verwendet werden, ohne daß die Verwendung eines Bildmasters, wie einer photographischen Folie, erforderlich ist.
  • Ein Beispiel eines positiv arbeitenden direkt mit Laser ansprechbaren Druckformvorläufer ist in US 4,708,925, herausgegeben am 24. November 1987, beschrieben. Das Patent beschreibt einen Vorläufer einer Lithographie-Druckform, in der die bilderzeugende Schicht ein Phenolharz und ein strahlungsempfindliches Oniumsalz umfaßt. Wie in dem Patent beschrieben bewirkt die Wechselwirkung des Phenolharzes und des Oniumsalzes eine alkaliunlösliche Zusammensetzung, von der durch photolytische Zersetzung des Oniumsalzes die Alkalilöslichkeit wiederhergestellt ist. Der Druckformvorläufer kann als Vorläufer einer positiv arbeitenden Druckform oder als Vorläufer einer negativ arbeitenden Druckform unter Verwendung zusätzlicher Verfahrensschritte zwischen Belichtung und Entwicklung, wie im einzelnen im britischen Patent Nr. 2,082,339 dargestellt, verwendet werden. Die in US 4,708,925 beschriebenen Druckformvorläufer sind an sich empfindlich gegen UV-Strahlung und können zusätzlich gegenüber sichtbarer und Infrarotstrahlung sensibilisiert werden.
  • Ein weiteres Beispiel eines durch Laser ansprechbaren Druckformvorläufers, der als direkt positiv arbeitendes System verwendet werden kann, ist in US 5,372,907, herausgegeben am 13. Dezember 1994 und US 5,491,046, herausgegeben am 13. Februar 1996, beschrieben. Diese zwei Patente beschreiben eine durch Strahlung bewirkte Zersetzung einer latenten Brönsted-Säure zur Erhöhung der Löslichkeit der Harzmatrix bei bildweiser Belichtung. Wie mit dem in US 4,708,925 beschriebenen Druckformvorläufer können diese Systeme zusätzlich als negativ arbeitendes System mit zusätzlichen Verfahrensschritten nach Abbildung und Vorentwicklung verwendet werden. Bei dem negativ arbeitenden Verfahren werden die Zersetzungsnebenprodukte anschließend zur Katalyse einer Vernetzungsreaktion zwischen Harzen zum Unlöslichmachen der abgebildeten Bereiche vor der Entwicklung verwendet. Wie in US 4,708,925 sind diese Druckformvorläufer an sich empfindlich gegen UV-Strahlung durch die verwendeten säureerzeugenden Materialien.
  • Wie vorstehend beschrieben fehlen bei den Druckformvorläufern des Stands der Technik, die als Vorläufer einer direkt bebildeten positiv arbeitenden Druckform verwendet werden können, ein oder mehrere erwünschte Merkmale. Keiner der beschriebenen Druckformvorläufer kann in umfassendem Maße gehandhabt werden, ohne daß die Beleuchtungsbedingungen im Arbeitsbereich in Erwägung gezogen werden. Um die Druckformvorläufer für unbeschränkte Zeiträume zu handhaben, sind spezielle Dunkelkammerbeleuchtungsbedingungen erforderlich, die unerwünschtes Aussetzen an UV- Strahlung verhindern. Die Druckformvorläufer können nur für beschränkte Zeiträume unter Weißlichtarbeitsbedingungen, abhängig vom Leistungsspektrum der Weißlichtquelle, verwendet werden. Es wäre erwünscht, digitale Abbildungshardware und Druckformvorläufer in der unbeschränkten Weißlicht-Druckraumumgebung zu verwenden, um den Arbeitsablauf zu rationalisieren, und UV-Empfindlichkeit wäre in diesen Bereichen ein Nachteil. Zusätzlich würde eine Weißlichthandhabung eine verbesserte Arbeitsumgebung in den herkömmlichen Vordruckbereichen bereitstellen, die gegenwärtig unter einschränkenden Dunkelkammerbeleuchtungsbedingungen sein müssen.
  • Außerdem weisen beide Druckformvorläufersysteme Beschränkungen bezüglich ihrer Bestandteile auf, die zu Schwierigkeiten bei der Optimierung der Platteneigenschaften zur Bereitstellung optimaler Eigenschaften über einen weiten Bereich der erforderlichen Parameter lithographischer Druckplatteneigenschaften, einschließlich Entwicklerlöslichkeit, Tintenaufnahmefähigkeit, Lauflänge, Haftung, führen.
  • In den in US 4,708,925 beschriebenen Systemen kann das Vorhandensein von funktionellen Gruppen, die das Phenolharz in Gegenwart der Oniumsalze nach Bestrahlung vernetzen, nicht ermöglicht werden, weder als Modifikation des alkalilöslichen Salzes noch als zusätzliche Bestandteile in den Zusammensetzungen, da das zu vermindertem Löslichmachen bei Belichtung führt.
  • Ein entscheidendes Erfordernis der in US 5,491,046 beschriebenen Zusammensetzungen ist das Vorhandensein sowohl eines Resolharzes als auch eines Novolakharzes, um die Verwendung des Systems in einem negativ arbeitenden Modus zu ermöglichen. Das ist der bevorzugte Modus für dieses System, wie durch die negativ arbeitenden Patentbeispiele und das erste kommerzialisierte Produkt gezeigt, das von dem geschützten Verfahren abgeleitet ist, Kodak's Performer Produkt. Diese Optimierung für negativ arbeitendes Potential beschränkt die Optimierung für den positiv arbeitenden Modus, der diese Anforderungen nicht aufweist.
  • Ein weiter Bereich von durch Wärme löslichmachenden Zusammensetzungen, die als thermographische Aufzeichnungsmaterialien geeignet sind, wurden früher in GB 1245924, herausgegeben am 15. September 1971, offenbart, sodaß die Löslichkeit eines gegebenen Bereichs der abbildbaren Schicht in einem gegebenen Lösungsmittel durch Erhitzen der Schicht durch indirektes Aussetzen an sichtbares Licht mit hoher Intensität und/oder Infrarotstrahlung für kurze Dauer erhöht werden kann, die durchgelassen oder von den Hintergrundbereichen eines graphischen Originals reflektiert werden, das sich in Kontakt mit dem Aufzeichnungsmaterial befindet. Die beschriebenen Systeme werden durch viele verschiedene Mechanismen und die Verwendung unterschiedlicher Entwicklungsmaterialien variiert und betrieben, die von Wasser bis zu chlorierten organischen Lösungsmitteln reichen. Eingeschlossen in den Bereich der offenbarten Zusammensetzungen, die wäßrig entwickelbar sind, sind jene, die ein Phenolharz des Novolaktyps umfassen. Das Patent läßt erwarten, daß beschichtete Filme, die solche Harze umfassen, erhöhte Löslichkeit bei Erhitzen zeigen. Die Zusammensetzungen können wärmeabsorbierende Verbindungen, wie Ruß oder Milori-Blau (CI Pigment Blue 27), enthalten. Diese Materialien färben zusätzlich die Bilder für ihre Verwendung als Aufzeichnungsmedium.
  • Der Grad der Löslichkeitsdifferenz in den in GB 1245924 beschriebenen Zusammensetzungen ist jedoch sehr gering, verglichen mit der von im Handel erhältlichen Vorläuferzusammensetzungen von positiv arbeitenden Lithographie-Druckformen. Standardvorläufer von Lithographie-Druckformen sind in der Lage, ausgezeichnete Toleranz gegenüber starken Entwicklerlösungen, gute Robustheit gegenüber Abweichungen bei der Verwendung durch den Kunden zu zeigen und können optimiert werden, um hohe Entwicklerlösungsverwendung und eine hohe Zahl an gedruckten Abdrücken bereitzustellen. Der sehr schlechte Entwicklerbelichtungsspielraum, der durch die Zusammensetzungen von GB 1245924 gezeigt wird, macht sie für kommerziell akzeptable Vorläufer von Lithographie-Druckformen nicht annehmbar.
  • Unsere Erfindung verwendet eine wärmeempfindliche Zusammensetzung, die zum Auftragen auf einen Träger geeignet ist, zum Bilden eines Vorläufers einer wärmeempfindlichen positiv arbeitenden Druckform für Wärmemodus-Abbildung, der nicht die Nachteile des Stands der Technik, wie vorstehend beschrieben, zeigt.
  • Die bei der vorliegenden Erfindung verwendete Zusammensetzung ist insofern wärmeempfindlich, als lokalisiertes Erwärmen der Zusammensetzung, insbesondere durch geeignete Strahlung, eine Erhöhung der Löslichkeit der belichteten Bereiche in dem wäßrigen Entwickler bewirkt.
  • Daher wird gemäß einem Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ein Vorläufer einer positiv arbeitender Lithographie-Druckform mit einer Beschichtung bereitge stellt, umfassend eine oleophile wärmeempindliche Zusammensetzung, wobei die Zusammensetzung eine in wäßrigem Entwickler lösliche polymere Substanz, nachstehend das "aktive Polymer" genannt, und eine Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert, nachstehend die "Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen" genannt, umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch Erwärmen erhöht und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird.
  • Um die Empfindlichkeit bei den verwendeten erfindungsgemäßen wärmeempindlichen Zusammensetzungen zu erhöhen, ist es von Vorteil, daß sie einen zusätzlichen Bestandteil, genauer eine strahlungsabsorbierende Verbindung, enthalten, die einfallende Strahlung absorbieren und in Wärme umwandeln kann, nachstehend eine "strahlungsabsorbierende Verbindung" genannt.
  • Daher ist ein weiterer Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung ein lithographischer Druckformvorläufer, in dem die Beschichtung geeignet angepaßt ist, um vorzugsweise Strahlung zu absorbieren und die Strahlung in Wärme umzuwandeln.
  • In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Vorläufer einer wärmeempfindlichen positiv arbeitenden Lithographie-Druckform bereitgestellt, in dem die Beschichtung eine zusätzliche Schicht einschließt, die neben der oleophilen wärmeempfindlichen Zusammensetzung abgeschieden ist, wobei die zusätzliche Schicht eine strahlungsabsorbierende Verbindung umfaßt.
  • In einer anderen Ausführungsform der vorliegenden Erimdung wird ein Vorläufer einer wärmeempfindlichen positiv arbeitenden Lithographie-Druckform bereitgestellt, der auf einem Träger eine hydrophile Oberfläche und eine oleophile wärmeempfindliche Zusammensetzung aufweist, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, die auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch Erwärmen erhöht und daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird.
  • In der Beschreibung bedeutet, wenn angegeben wird, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch Erwärmen erhöht wird, daß sie wesentlich, d. h. um eine Menge, die in einem lithographischen Druckverfahren geeignet ist, erhöht wird. Die Angabe, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird, bedeutet, daß sie nicht wesentlich erhöht wird, das heißt, um eine Menge, die bedeuten würde, daß UV-Dunkelkammerbeleuchtungsbedingungen zu verwenden sein würden.
  • Die Druckform ist vorzugsweise eine lithographische Platte und wird nachstehend als solche bezeichnet.
  • Ein weiterer Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung betrifft ein Verfahren der Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, umfassend die direkte bildweise Applikation von Wärme oder wärmeerzeugender Strahlung auf einen wie hier beschriebenen Vorläufer. Bei einem solchen Verfahren wird eine positiv arbeitende Lithographie-Druckplatte nach Wärmemodusabbilden und Verarbeiten erhalten. Die Löslichkeit in wäßrigem Entwickler der beschichteten Zusammensetzung wird in bezug auf die Löslichkeit des aktiven Polymers allein in starkem Maße verringert. Bei anschließendem Aussetzen an geeignete Strahlung werden die erhitzten Bereiche der Zusammensetzung in der Entwicklerlösung löslicher gemacht. Daher besteht bei bildweiser Belichtung eine Änderung in der Löslichkeitsdifferenz der unbelichteten Zusammensetzung und der belichteten Zusammensetzung. So wird in den belichteten Bereichen die Zusammensetzung gelöst, wobei die darunterliegende hydrophile Oberfläche der Platte freigelegt wird. Ein beschichteter Plattenvorläufer der Erfindung kann indirekt durch Aussetzen für kurze Dauer an Strahlung hoher Intensität, die durchgelassen oder von den Hintergrundbereichen eines graphischen Originals reflektiert wird, das sich in Kontakt mit dem Aufzeichnungsmaterial befindet, wärmeabgebildet werden.
  • Ein Plattenvorläufer kann unter Verwendung eines erwärmten Körpers bildweise erwärmt werden. Zum Beispiel kann der Plattenvorläufer, entweder die Rückseite oder vorzugsweise die wärmeempfindliche Zusammensetzung, mit einem Wärmeschreiber in Kontakt gebracht werden.
  • Vorzugsweise wird der Plattenvorläufer direkt mit einem Laser belichtet, um die Beschichtung bildweise zu erwärmen. Am stärksten bevorzugt emittiert der Laser Strahlung von etwa 600 nm.
  • Während die Anmelder sich nicht auf irgendeine theoretische Erklärung, wie ihre Erfindung abläuft, festlegen wollen, wird angenommen, daß ein thermisch spaltbarer Komplex zwischen dem aktiven Polymer und der Verbindung zu reversiblem Unlöslichmachen gebildet wird. Von diesem Komplex wird angenommen, daß er reversibel gebildet und durch Anwenden von Wärme auf den Komplex gespalten werden kann, wobei die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler wiederhergestellt wird. Es wird angenommen, daß polymere Substanzen, die zur Verwendung bei der gegenwärtigen Erfindung geeignet sind, elektronenreiche funktionelle Gruppen im nicht komplexierten Zustand umfassen und daß geeignete Verbindungen, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringern, elektronenarm sind. Es wird nicht angenommen, daß eine Zersetzung von Bestandteilen innerhalb der Zusammenset zung erforderlich ist oder daß irgendeine wesentliche Zersetzung in irgendeinem der bis heute untersuchten Beispiele auftrat.
  • Beispiele der funktionellen Gruppen der zur Anwendung bei der Erfindung geeigneten aktiven Polymere schließen Hydroxyl-, Carbonsäure-, Amino-, Amid- und Maleinimidgruppen ein. Ein weiter Bereich von polymeren Substanzen ist zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignet, von denen Beispiele Phenolharze, Copolymere von 4-Hydroxystyrol mit zum Beispiel 3-Methyl-4-hydroxystyrol oder 4-Methoxystyrol, Copolymere von (Meth)acrylsäure, zum Beispiel mit Styrol, Copolymere von Maleinimid, zum Beispiel mit Styrol, hydroxy- oder carboxyfunktionalisierte Cellulose», Copolymere von Maleinsäureanhydrid, zum Beispiel mit Styrol, teilweise hydrolysierte Polymere von Maleinsäureanhydrid einschließen.
  • Am stärksten bevorzugt ist das aktive Polymer ein Phenolharz. Bei der Erfindung besonders geeignete Phenolharze sind die Kondensationsprodukte aus der Wechselwirkung zwischen Phenol, C-alkyl-substituierten Phenolen (wie Cresolen und p-tert-Butylphenol), Diphenolen (wie Bisphenol-A) und Aldehyden (wie Formaldehyd). Abhängig vom Herstellungsweg für die Kondensation kann ein Bereich von phenolischen Substanzen mit unterschiedlichen Strukturen und Eigenschaften gebildet werden. Insbesondere bei der Erfindung geeignet sind Novolakharze, Resolharze und Novolak/Resol-Harzgemische. Beispiele geeigneter Novolakharze weisen die folgende allgemeine Struktur auf.
  • Eine große Zahl von Verbindungen, die die wäßrige Löslichkeit von geeigneten polymeren Substanzen verringern, wurden zur Verwendung als Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen ermittelt.
  • Eine geeignete Gruppe von Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen sind stickstoffhaltige Verbindungen, in denen mindestens ein Stickstoffatom entweder quaternisiert oder in einen Heterocyclenring eingebunden oder quaternisiert und in einen Heterocyclenring eingebunden ist.
  • Beispiele geeigneter quaternisierter stickstoffhaltiger Verbindungen sind Triarylmethanfarbstoffe, wie Crystal Violet (CI basisches Violett 3) und Ethyl Violet und Tetraalkylammoniumverbindungen, wie Cetrimide.
  • Stärker bevorzugt ist die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen eine stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung.
  • Beispiele geeigneter stickstoffhaltiger heterocyclischer Verbindungen sind Chinolin und Triazole, wie 1,2,4-Triazol.
  • Am stärksten bevorzugt ist die stickstoffhaltige heterocyclische Verbindung eine quaternisierte heterocyclische Verbindung.
  • Beispiele geeigneter quaternisierter heterocyclischer Verbindungen sind Imidazolinverbindungen, wie Monazoline C, Monazoline 0, Monazoline CY und Monazoline T, die alle von Mona Industries hergestellt werden, Chinoliniumverbindungen, wie 1-Ethyl- 2-methylchinoliniumjodid und 1-Ethyl-4-methylchinoliniumjodid, und Benzthiazoliumverbindungen, wie 3-Ethyl-2-methylbenzthiazoliumjodid, und Pyridiniumverbindungen, wie Cetylpyridiniumbromid, Ethylviologendibromid und Fluorpyridiniumtetrafluorborat.
  • Geeigneterweise sind die Chinolinium- oder Benzthiazoliumverbindungen kationische Cyaninfarbstoffe, wie Farbstoff A, Quinoldine Blue und 3-Ethyl-2-[3-(3-ethyl- 2(3H)-benzthiazoyliden)-2-methyl-1-propenyl]benzthiazoliumjodid. Farbstoff A
  • Eine weitere geeignete Gruppe von Verbindungen zum reversiblen Unlöslichrnachen sind Verbindungen, die eine carbonylfunktionelle Gruppe enthalten.
  • Beispiele geeigneter Carbonyl enthaltender Verbindungen sind α-Naphthoflavon, β-Naphthoflavon, 2,3-Diphenyl-1-indenon, Flavon, Flavanon, Xanthon, Benzophenon, N-(4-Brombutyl)phthalimid und Phenanthrenchinon.
  • Die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen kann eine Verbindung der allgemeinen Formel
  • Q&sub1;-S(O)n-Q&sub2;
  • sein, in der Q&sub1; eine gegebenenfalls substituierte Phenylgruppe oder einen Alkylrest darstellt, n für 0, 1 oder 2 steht und Q&sub2; ein Halogenatom oder einen Alkoxyrest darstellt. Vorzugsweise stellt Q&sub1; einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylphenylrest, zum Beispiel eine Tolylgruppe, oder einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylrest dar. Vorzugsweise steht n für 1 oder insbesondere 2. Vorzugsweise stellt Q&sub2; ein Chloratom oder einen C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxyrest, insbesondere eine Ethoxygruppe, dar.
  • Eine andere geeignete Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen ist Acridine Orange Base (CI Solvent orange 15).
  • Andere geeignete Verbindungen zum reversiblen Unlöslichmachen sind Ferroceniumverbindungen, wie Ferroceniumhexafluorphosphat.
  • Zusätzlich zu dem aktiven Polymer, das mit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen auf die hier definierte Weise wechselwirkt, kann die Zusammensetzung eine polymere Substanz enthalten, die nicht so wechselwirkt. In einer solchen Zusammensetzung mit einem Gemisch von polymeren Substanzen sollte festgestellt werden, daß das aktive Polymer in einer geringeren Menge, auf das Gewicht bezogen, als die zusätzliche polymere Substanz(en) vorhanden sein kann. Geeigneterweise ist das aktive Polymer in einer Menge von mindestens 10%, vorzugsweise mindestens 25%, stärker bevorzugt mindestens 50% vorhanden, bezogen auf das Gesamtgewicht der Polymersubstanzen, die in der Zusammensetzung vorhanden sind. Am stärksten bevorzugt ist jedoch das aktive Polymer unter Ausschluß irgendeiner polymeren Substanz, die nicht so wechselwirkt, vorhanden.
  • Der Hauptteil der Zusammensetzung wird vorzugsweise durch (eine) polymere Substanz(en), einschließlich des aktiven Polymers und, falls vorhanden, einer zusätzlichen polymeren Substanz, die nicht so wechselwirkt, gebildet. Vorzugsweise wird ein kleinerer Anteil der Zusammensetzung durch die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen gebildet.
  • Ein Hauptanteil, wie hier definiert, beträgt geeigneterweise mindestens 50 %, vorzugsweise mindestens 65%, am stärksten bevorzugt mindestens 80%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • Ein kleinerer Anteil, wie hier definiert, beträgt geeigneterweise weniger als 50 %, vorzugsweise bis zu 20%, am stärksten bevorzugt bis zu 15%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • Geeigneterweise bildet die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung.
  • So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden.
  • Es kann mehr als eine polymere Substanz vorhanden sein, die mit der Verbindung wechselwirkt. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Substanz(en) betrifft ihren Gesamtgehalt. Ähnlich kann mehr als eine polymere Substanz vorhanden sein, die nicht so wechselwirkt. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Substanz(en) betrifft ihren Gesamtgehalt. Ähnlich kann mehr als eine Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen vorhanden sein. Der hier gemachte Verweis auf den Anteil (einer) solchen Verbindung(en) betrifft ihren Gesamtgehalt.
  • Die wäßrige Entwicklerzusammensetzung ist abhängig von der Natur der polymeren Substanz. Gewöhnliche Bestandteile wäßriger lithographischer Entwickler sind grenzflächenaktive Mittel, Komplexbildner, wie Salze von Ethylendiamintetraessigsäure, organische Lösungsmittel, wie Benzylalkohol, und alkalische Bestandteile, wie anorganische Metasilicate, organische Metasilicate, Hydroxide oder Hydrogencarbonate.
  • Vorzugsweise ist, wenn die polymere Substanz ein Phenolharz ist, der wäßrige Entwickler ein alkalischer Entwickler, der anorganische oder organische Metasilicate enthält.
  • Sechs Testbeispiele, Tests 1 bis 6, können durchgeführt werden, um zu bestimmen, ob die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen und einen geeigneten wäßrigen Entwickler enthält, zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignet ist.
  • Test 1 Die das aktive Polymer in Abwesenheit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfassende Zusammensetzung wird auf einen hydrophilen Träger aufgetragen und getrocknet. Dann wird die Oberfläche eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann ist die Zusammensetzung oleophil, wenn sie als Schicht abgelegt wird.
  • Test 2 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer in Abwesenheit der Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird mit einem geeigneten wäßrigen Entwickler für geeignete Zeit, die durch "Trial and Error" bestimmt werden kann, aber typischerweise zwischen 30 und 60 Sekunden bei Raumtemperatur beträgt, bearbeitet und dann gespült, getrocknet und eingefärbt. Wenn keine Tintenoberfläche erhalten wird, dann hat sich die Zusammensetzung im Entwickler gelöst.
  • Test 3 Die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, wird auf einen hydrophilen Träger aufgetragen, getrocknet und eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann ist die Zusammensetzung oleophil, wenn sie als Schicht abgelegt wird.
  • Test 4 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird in einem geeigneten wäßrigen Entwickler für geeignete Zeit, die durch "Trial and Error" bestimmt werden kann, aber typischerweise zwischen 30 und 60 Sekunden bei Raumtemperatur beträgt, bearbeitet und dann gespült, getrocknet und eingefärbt. Wenn eine gleichmäßig gefärbte Beschichtung erhalten wird, dann löst sich die Zusammensetzung nicht wesentlich in der Entwicklerlösung.
  • Test 5 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird in einem Ofen so erhitzt, daß die Zusammensetzung eine geeignete Temperatur für passende Zeit erreicht. Dann wird sie mit einem geeigneten wäßrigen Entwickler für einen vernünftigen Zeitraum bei Raumtemperatur bearbeitet.
  • Die Oberfläche wird dann getrocknet und eingefärbt. Wenn keine Tintenoberfläche erhalten wird, dann hat sich die erhitzte Zusammensetzung im Entwickler gelöst.
  • Die Temperatur und die Zeit hängen von den für die Zusammensetzung gewählten Bestandteilen und von ihren Anteilen ab. Einfache "Trial and Error"-Experimente können durchgeführt werden, um geeignete Bedingungen zu bestimmen. Wenn solche Experimente keine Bedingungen ergeben können, die ermöglichen, daß der Test bestanden wird, muß der Schluß der sein, daß die Zusammensetzung den Test nicht besteht. Vorzugsweise wird für typische Zusammensetzungen die Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, in einem Ofen so erhitzt, daß die Zusammensetzung eine Temperatur von 50ºC bis 160ºC für 5 bis 20 Sekunden erreicht. Dann wird sie mit einem geeigneten wäßrigen Entwickler für eine geeignete Zeit, die durch "Trial and Error" bestimmt werden kann, aber typischerweise 30 bis 120 Sekunden bei Raumtemperatur beträgt, bearbeitet. Am stärksten bevorzugt wird die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfassende Zusammensetzung in einem Ofen so erhitzt, daß die Zusammensetzung eine Temperatur von 50ºC bis 120ºC für 10 bis 15 Sekunden erreicht. Dann wird sie in einem geeigneten wäßrigen Entwickler für 30 bis 90 Sekunden bei Raumtemperatur bearbeitet.
  • Test 6 Der mit der Zusammensetzung, die das aktive Polymer und die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen umfaßt, beschichtete hydrophile Träger wird für einen geeigneten Zeitraum UV-Licht ausgesetzt, die durch "Trial and Error" bestimmt werden kann, typischerweise aber 30 Sekunden beträgt. Dann wird sie mit einem geeigneten wäßrigen Entwickler für geeignete Zeit bearbeitet, die durch "Trial and Error" bestimmt werden kann, aber typischerweise 30 bis 60 Sekunden bei Raumtemperatur beträgt. Die Oberfläche wird dann getrocknet und eingefärbt. Wenn die Beschichtung eingefärbt wird, trat kein durch UV-Strahlung bedingtes Löslichmachen auf, und so zeigt die Zusammensetzung eine geeignete Beständigkeit gegenüber normalen Arbeitsbeleuchtungsbedingungen.
  • Wenn die Zusammensetzung alle sechs Tests bestehen kann, dann ist sie zur Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignet.
  • Eine große Zahl von Verbindungen oder Kombinationen davon können als strahlungsabsorbierende Verbindungen in den bevorzugten Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung verwendet werden.
  • In den bevorzugten Ausführungsformen absorbiert die strahlungsabsorbierende Verbindung Infrarotstrahlung. Jedoch können andere Materialien, die Strahlung mit anderer Wellenlänge (ausschließlich UV-Wellenlängen) absorbieren, z. B. Strahlung mit 488 nm aus einer Ar-Ion-Laserquelle, verwendet werden, wobei die Strahlung in Wärme umgewandelt wird.
  • Die strahlungsabsorbierende Verbindung ist geeigneterweise Kohlenstoff, wie Ruß oder Graphit. Sie kann ein im Handel erhältliches Pigment, wie Heliogen Green, erhältlich von BASF, oder Nigrosine Base NG1, erhältlich von NH Laboratories Inc., oder Milori Blue (C. I. Pigment Blue 27), erhältlich von Aldrich, sein.
  • In einem bevorzugten Verfahren der Erfindung wird die beschichtete Platte bildweise direkt mit einem Laser belichtet. Am stärksten bevorzugt emittiert der Laser Strahlung von über 600 nm, und die strahlungsabsorbierende Verbindung ist geeigneterweise ein infrarot-absorbierender Farbstoff.
  • Vorzugsweise ist die infrarot-absorbierende Verbindung eine, deren Absorptionsspektrum signifikant bei der Wellenlängenleistung des bei dem Verfahren der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Lasers liegt. Geeigneterweise kann sie ein organisches Pigment oder Farbstoff, wie Phthalocyaninpigment, sein. Oder sie kann ein Farbstoff oder Pigment der Squarylium-, Merocyanin-, Cyanin-, Indolizin-, Pyrylium- oder Metall-Dithiolin-Klasse sein.
  • Beispiele solcher Verbindungen sind:
  • und Farbstoff B
  • und Farbstoff C, KF654 B PINA, erhältlich von Riedel de Haan UK, Middlesex, England, von dem angenommen wird, daß er die Struktur aufweist:
  • Geeigneterweise bildet die strahlungsabsorbierende Verbindung mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15 %, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung. So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die strahlungsabsorbierende Verbindung als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden. Ähnlich kann mehr als eine strahlungsabsorbierende Verbindung vorhanden sein. Die Bezugnahmen hier auf den Anteil (einer) solchen Verbindung(en) betreffen ihren Gesamtgehalt.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung kann eine zusätzliche Schicht, die eine strahlungsabsorbierende Verbindung umfaßt, verwendet werden. Dieser Mehrschichtaufbau kann Wege zu hoher Empfindlichkeit bereitstellen, da größere Mengen an Absorptionsmittel verwendet werden können, ohne daß die Funktion der Schicht zur Abbildungsbildung beeinträchtigt wird. Prinzipiell kann jedes strahlungsabsorbierende Material, das ausreichend stark im gewünschten Wellenlängenbereich absorbiert, eingemischt oder zu einer gleichmäßigen Beschichtung verarbeitet werden. Farbstoffe, Metalle und Pigmente (einschließlich Metalloxide) können in Form von aufgedampften Schichten verwendet werden, wobei die Verfahren zur Erzeugung und Verwendung solcher Filme auf dem Fachgebiet allgemein bekannt sind, zum Beispiel EP 0652483. Die bevorzugten Bestandteile bei der vorliegenden Erfindung sind die, die als gleichmäßige Beschichtung hydrophil sind oder behandelt werden können, um eine hydrophile Oberfläche bereitzustellen, zum Beispiel unter Verwendung einer hydrophilen Schicht.
  • Verbindungen, die die Löslichkeit der polymeren Substanz in dem wäßrigen Entwickler vermindern und auch strahlungsabsorbierende Verbindungen, die für eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung geeignet sind, sind, sind vorzugsweise Cyaninfarbstoffe und am stärksten bevorzugt Chinoliniumcyaninfarbstoffe, die über 600 nm absorbieren.
  • Beispiele solcher Verbindungen sind: 2-[3-Chlor-5-(1-ethyl-2(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]-1-ethylchinoliniumbromid 1-Ethyl-2-[5-(1-ethyl-2(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]chinoliniumjodid 4-[3-Chlor-5-(1-ethyl-4(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]ethylchinoliniumjodid Farbstoff D,1-Ethyl-4-[5-(1-ethyl-4(1H)-chinolinyliden)-1,3-pentadienyl]chinoliniumjodid
  • Geeigneterweise bildet die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen, die auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, mindestens 1%, vorzugsweise mindestens 2%, vorzugsweise bis zu 25%, stärker bevorzugt bis zu 15%, des Gesamtgewichts der Zusammensetzung. So kann ein bevorzugter Gewichtsbereich für die Verbindung zum reversiblen Unlöslichmachen, die auch eine strahlungsabsorbierende Verbindung ist, als 2-15% des Gesamtgewichts der Zusammensetzung ausgedrückt werden.
  • Der Grundstoff, der als Träger verwendet werden kann, ist vorzugsweise eine Aluminiumplatte, die die üblichen anodischen, Aufrauhungs- und nachanodischen Behandlungen, die auf dem lithographischen Fachgebiet allgemein bekannt sind, einging, um das Aufbringen einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung darauf zu ermöglichen und die es ermöglicht, daß die Oberfläche des Trägers als Druckhintergrund dient.
  • Ein anderer Grundstoff, der bei dem Verfahren der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann, ist ein Kunststoffgrundmaterial oder ein behandeltes Papiergrundmaterial, wie in der photographischen Industrie verwendet. Ein besonders geeignetes Kunststoffgrundmaterial ist Polyethylenterephthalat, das behandelt wurde, um seine Oberfläche hydrophil zu machen. Ebenfalls kann ein sogenanntes harzbeschichtetes Papier, das durch Coronaentladung behandelt wurde, verwendet werden.
  • Beispiele von Laser, die bei dem Verfahren der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, schließen Halbleiterdiodenlaser, die zwischen 600 nm und 1100 nm emittieren, ein. Ein Beispiel ist der Nd YAG-Laser, der bei 1064 nm emittiert, aber jeder Laser mit ausreichender Abbildungsleistung (dessen Strahlung durch die Zusammensetzung absorbiert wird), kann verwendet werden.
  • Die erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können andere Bestandteile, wie stabilisierende Zusätze, inerte Farbmittel, zusätzliche inerte polymere Bindemittel, die in vielen lithographischen Plattenzusammensetzungen vorhanden sind, enthalten.
  • Vorzugsweise umfassen die wärmeempfindlichen Zusammensetzungen der vorliegenden Erfindung keine UV-empfindlichen Bestandteile. Jedoch können UV-empfindliche Bestandteile, die nicht durch das Vorhandensein anderer Bestandteile UV-aktiviert werden, wie inerte UV-absorbierende Farbstoffe und eine UV-absorbierende oberste Schicht, vorhanden sein.
  • Jedes Merkmal jedes Gesichtspunkts der vorliegenden Erfindung oder jeder hier beschriebenen Ausführungsform kann mit jedem Merkmal jedes anderen Gesichtspunkts jeder Erfindung oder hier beschriebenen Ausführungsform kombiniert werden. Die folgenden Beispiele dienen insbesondere zur Veranschaulichung vorstehend beschriebener verschiedener Gesichtspunkte der vorliegenden Erfindung.
  • Auf die folgenden Produkte wird nachstehend bezug genommen:
  • Harz A: LB6564 - ein Phenol/ Cresol-Novolakharz, vertrieben von Bakelite.
  • Harz B: R17620 - ein Phenol/Formaldehyd-Resolharz, vertrieben von BP Chemicals Ltd., Sully, Wales.
  • Harz C: SMD995 - ein Alkylphenol/Formaldehyd-Resolharz, vertrieben von Schnectady Midland Ltd., Wolverhampton, England.
  • Harz D: Maruka Lyncur M(S-2) - ein Poly(hydroxystyrol)-Harz, vertrieben von Maruzen Petrochemical Co., Ltd., Tokyo, Japan.
  • Harz E: Ronacoat 300 - ein auf Dimethylmaleinimid basierendes Polymer, vertrieben von Rohner Ltd., Pratteln, Schweiz.
  • Harz F: Gantrez An119 - ein Methylvinylether-Comaleinsäureanhydrid-Copolymer, vertrieben von Gaf Chemicals Co., Guildford, England.
  • Harz G: SMA 2625 P - ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Halbester, vertrieben von Elf Atochem UK Ltd., Newbury, England.
  • Harz H: Celluloseacetatpropionat (Mol. gew. 75000, enthält 2.5% Acetat und 45 % bis 49% Propionat), vertrieben von Eastman Fine Chemicals, Rochester, USA.
  • Testverfahren des Belichtens
  • Das zu bebildernde beschichtete Substrat wurde zu einem Kreis mit 105 mm Durchmesser geschnitten und auf eine Scheibe gegeben, die mit konstanter Geschwindigkeit zwischen 100 und 2500 Umdrehungen pro Minute rotiert werden konnte. Benachbart zur zu drehenden Scheibe hielt ein Translationstisch die Quelle des Laserstrahls, sodaß der Laserstrahl normal zum beschichteten Substrat auftraf, während der Translationstisch den Laserstrahl radial in linearer Weise in bezug auf die sich drehende Scheibe bewegte.
  • Der verwendete Laser war eine 200 mW Laserdiode mit einem Einzelmodus mit 830 nm Wellenlänge, die auf 10 Mikron Auflösung focussiert wurde. Die Laserstromquelle war eine stabilisierte konstante Stromquelle.
  • Das belichtete Bild war in Form einer Spirale, wobei das Bild in der Mitte der Spirale langsame Laserscangeschwindigkeit und lange Belichtungszeit darstellte und die äußere Ecke der Spirale schnelle Scangeschwindigkeit und kurze Belichtungszeit darstellte. Abbildungsenergien wurden von der Messung des Durchmessers, bei dem das Bild gebildet wurde, abgeleitet.
  • Die minimale Energie, die mit diesem Belichtungssystem übermittelt werden kann, beträgt 150 mJ/cm² bei 2500 Upm.
  • Vergleichsbeispiele C1 bis C5 und Beispiele 1 bis 9
  • Beschichtungsformulierungen für alle Beispiele wurden als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol mit Ausnahme der Beispiele 4, 5 und 8, die als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 40 : 60 (V : V) hergestellt wurden, und Beispiel 7 als Lösung in 1- Methoxypropan-2-ol/DMF 35 : 65 (V : V), hergestellt. Das verwendete Substrat war ein 0.3 mm Blech von Aluminium, das elektroaufgerauht und anodisiert und mit einer wäßrigen Lösung eines anorganischen Phosphats nachbehandelt worden war. Die Beschichtungslösungen wurden auf das Substrat mit einem drahtumschnürten Stab (wire wound bar) aufgetragen. Die Lösungskonzentrationen wurden gewählt, um die bestimmten Trockenfilmzusammensetzungen mit einem Beschichtungsgewicht von 1.3 g pro Quadratmeter nach gründlichem Trocknen bei 100ºC in einem Ofen für 3 Minuten bereitzustellen.
  • Benzothiazolium A ist 3-Ethyl-2-[3-ethyl-2(3H)-benzothiazolyliden)-2-methyl-1-propenyl]benzothiazoliumbromid.
  • Benzothiazolium B ist 3-Ethyl-2-methylbenzothiazoliumjodid.
  • Die Platten wurden durch Eintauchen für 30 Sekunden unter Verwendung einer geeigneten wäßrigen Entwicklerlösung wie nachstehend beschrieben auf Entwickelbarkeit untersucht.
  • Entwickler A:- 14%iges Natriummetasilicat-Pentahydrat in Wasser.
  • Entwickler B:- 7%iges Natriummetasilicat-Pentahydrat in Wasser.
  • Folgende Tabelle führt die Ergebnisse des Tests der einfachen Entwickelbarkeit für die Zusammensetzungen auf.
  • Die in den Vergleichsbeispielen beschriebenen Zusammensetzungen zeigen keine Beständigkeit gegen Angriff durch Entwickler. Die in den Beispielen 1 bis 9 beschriebenen Zusammensetzungen veranschaulichen die Wirkung der Verringerung der Löslichkeit des Polymers im Entwickler durch die Verwendung der in der vorliegenden Erfindung beschriebenen Verbindungen.
  • Weitere Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann unter Eintauchen in eine wäßrige Entwicklerlösung für 30 Sekunden unter Verwendung einer geeigneten wäßrigen Entwicklerlösung wie vorstehend beschrieben verarbeitet. Die Plattenempfindlichkeiten wurden dann bestimmt.
  • Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Eine gemäß Beispiel 1 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte mindestens 10000 gute Abdrücke auf einer lithographischen Druckpresse.
  • Beispiel 10
  • Eine Lösung, die 8.15 g 1-Methoxypropan-2-ol, 2.40 g einer 40%igen G/G Lösung von Harz A in 1-Methoxypropan-2-ol, 0.12 g Farbstoff A und 0.24 g Rußdispersion mit 50% (G/G) in Wasser enthielt, wurde hergestellt und wie in den Beispielen 1 bis 9 beschrieben aufgetragen.
  • Die erhaltene Platte wurde unter Verwendung einer 200 mW Laserdiode bei einer Wellenlänge von 830 nm unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Abbildungsvorrichtung bebildert. Die Platte wurde dann unter Verwendung von Entwickler B für 30 Sekunden entwickelt. Die zum Erhalt eines geeignetes Bildes erforderliche Abbildungsenergiedichte betrug ≤ 150 mJ/cm².
  • Eine gemäß Beispiel 10 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte auf einer lithographischen Druckpresse mindestens 10000 gute Abdrücke.
  • Beispiel 11
  • Der Plattenvorläufer mit der in der folgenden Tabelle beschriebenen Zusammensetzung wurde wie für Beispiel 4 beschrieben hergestellt.
  • Die erhaltene Platte wurde unter Verwendung einer 200 mW Laserdiode bei einer Wellenlänge von 830 nm unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Abbildungsvorrichtung bebildert. Die Platte wurde dann unter Verwendung von Entwickler B für 30 Sekunden entwickelt. Die zum Erhalt eines geeignetes Bildes erforderliche Abbildungsenergiedichte betrug ≤ 150 mJ/cm².
  • Eine gemäß Beispiel 11 hergestellte Druckplatte wurde ebenfalls auf einer im Handel erhältlichen Belichtungseinheit, Trendsetter, erhältlich von Creo Products, Vancouver, Kanada, bebildert. Die Platte druckte auf einer lithographischen Druckpresse mindestens 10000 gute Abdrücke.
  • Beispiele 12-18
  • Beschichtungsformulierungen wurden wie vorstehend beschrieben als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol mit der Ausnahme von Beispiel 16 hergestellt, die als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 80 : 20 (V : V) hergestellt wurde.
  • Die Formulierungen wurden wie in den Beispielen 1-9 beschrieben aufgetragen, um Trockenfilmzusammensetzungen wie in der folgenden Tabelle beschrieben bereitzustellen.
  • Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm-Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann unter Eintauchen in eine geeignete wäßrige Entwicklerlösung, wie vorstehend und nachstehend beschrieben, für einen geeigneten Zeitraum bearbeitet. Die Plattenempfindlichkeiten wurden dann bestimmt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Entwickler C: 15% β-Naphthylethoxylat, S % Benzylalkohol, 2% Nitrilotriessigsäure- Trinatriumsalz, 78% Wasser.
  • Entwickler D: 3% β-Naphthylethoxylat, 1% Benzylalkohol, 2% Nitrilotriessigsäure- Trinatriumsalz, 94% Wasser.
  • Entwickler E: 1.5% β-Naphthylethoxylat, 0.5% Benzylalkohol, 1% Nitrilotriessigsäure-Trinatriumsalz, 97% Wasser.
  • Beispiele 19-30
  • Beschichtungsformulierungen wurden wie vorstehend beschrieben als Lösungen in 1-Methoxypropan-2-ol mit der Ausnahme von Beispiel 26 hergestellt, die als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol/DMF 50 : 50 (V/V) hergestellt wurde.
  • Die Formulierungen wurden wie in den Beispielen 1-9 beschrieben aufgetragen, um Trockenfilmzusammensetzungen wie in der folgenden Tabelle beschrieben bereitzustellen.
  • Proben der Platten wurden dann unter Verwendung der vorstehend beschriebenen 830 nm-Laservorrichtung bebildert. Die belichteten Scheiben wurden dann unter Eintauchen in eine geeignete wäßrige Entwicklerlösung für einen geeigneten Zeitraum bearbeitet. Die Plattenempfindlichkeiten wurden dann bestimmt. Die Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
  • Beispiel 31
  • Die Beschichtungsformulierung wurde wie vorstehend beschrieben als Lösung in 1-Methoxypropan-2-ol hergestellt. Die Formulierung wurde wie in den Beispielen 1-9 beschrieben aufgetragen, um eine Trockenfilmzusammensetzung wie in der folgenden Tabelle beschrieben bereitzustellen.
  • Beispiel 31
  • Bestandteil Gew.-Teile
  • Harz A 90
  • Farbstoff C 4
  • Crystal Violet 6
  • Proben der Platte wurden der Wärme von einem Weller Lötkolben EC 2100 M bei 311ºC ausgesetzt. Die Geschwindigkeit der Bewegung des Lötkolbens über die Plattenoberfläche ist in der nachstehenden Tabelle beschrieben. Die belichteten Plattenproben wurden dann durch Eintauchen für 60 Sekunden in Entwickler A bearbeitet. Die Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle aufgeführt.
  • In der Beschreibung beziehen wir uns an verschiedenen Stellen auf UV-Licht. Dem Fachmann ist der typische Wellenlängenbereich von UV-Licht bekannt. Um jedoch jeden Zweifel zu vermeiden, UV-Licht weist typischerweise einen Wellenlängenbereich von 190 nm bis 400 nm auf.
  • Alle in der Beschreibung offenbarten Merkmale (einschließlich irgendwelcher beigefügter Patentansprüche, Zusammenfassung oder Zeichnungen) und/oder alle Schritte irgendeiner offenbarten Verfahrensweise oder eines Verfahrens können in jeder Kombination kombiniert werden, außer Kombinationen, bei denen zumindest einige solcher Merkmale und/oder Schritte sich gegenseitig ausschließen.

Claims (20)

1. Vorläufer einer positiv arbeitenden Lithographie-Druckform mit einer Beschichtung, umfassend eine oleophile, wärmeempfindliche Zusammensetzung, wobei die Zusammensetzung eine in wäßrigem Entwickler lösliche polymere Substanz und eine Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert, umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch Erwärmen erhöht und die Löslichkeit der Zusammensetzung in wäßrigem Entwickler durch einfallende UV-Strahlung nicht erhöht wird.
2. Vorläufer nach Anspruch 1, wobei die in wäßrigem Entwickler lösliche polymere Substanz ein Phenolharz ist.
3. Vorläufer nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert, ausgewählt ist aus einer Imidazolinverbindung, einer Chinoliniumverbindung, einer Benzothiazoliumverbindung und einer Pyridiniumverbindung.
4. Vorläufer nach Anspruch 1, 2 oder 3, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert, ein Cyaninfarbstoff ist.
5. Vorläufer nach Anspruch 3 oder 4, wobei die Chinoliniumverbindung ein Cyaninfarbstoff ist.
6. Vorläufer nach einem der vorstehenden Ansprüche, wobei die Beschichtung hergerichtet ist, um vorzugsweise Strahlung zu absorbieren und in Wärme umzuwandeln.
7. Vorläufer nach Anspruch 6, wobei die Zusammensetzung eine strahlungsabsorbierende Verbindung enthält, die einfallende Strahlung absorbieren und sie in Wärme umwandeln kann.
8. Vorläufer nach Anspruch 7, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung Ruß ist.
9. Vorläufer nach Anspruch 7, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Pigment ist.
10. Vorläufer nach Anspruch 9, wobei das Pigment ein organisches Pigment ist.
11. Vorläufer nach Anspruch 10, wobei das Pigment ein Phthalocyaninpigment ist.
12. Vorläufer nach Anspruch 7, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung ein Farbstoff ist, ausgewählt aus der Squarylium-, Merocyanin-, Indolizin-, Pyrylium- oder Metall-Dithiolin-Klasse.
13. Vorläufer nach Anspruch 7, wobei die Verbindung, welche die Löslichkeit der polymeren Substanz in wäßrigem Entwickler verringert und welche ebenfalls eine strahlungsabsorbierende Verbindung, die einfallende Strahlung absorbieren und in Wärme umwandeln kann, ist, ein Cyaninfarbstoff ist, der eine Chinoliniumeinheit umfaßt.
14. Vorläufer nach einem der Ansprüche 7 bis 13, wobei die strahlungsabsorbierende Verbindung oberhalb 600 nm absorbiert.
15. Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckform, umfassend die direkte bildweise Applikation von Wärme oder wärmeerzeugender Strahlung auf einen in einem der vorstehenden Ansprüche beschriebenen Vorläufer.
16. Verfahren nach Anspruch 15, bei welchem die wärmeerzeugende Strahlung von einem Laser abgegeben wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, bei welchem der Laser Strahlung oberhalb 600 nm aussendet.
18. Verfahren nach Anspruch 15, bei welchem die Wärme von einem beheizten Körper abgegeben wird.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 18, wobei die Lösung des wäßrigen Entwicklers eine wäßrige alkalische Lösung ist.
20. Bebilderte Druckform, die durch Anwendung eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 15 bis 19 auf einen Druckformvorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 14 hergestellt wird.
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DE (4) DE825927T1 (de)
ES (2) ES2114521T3 (de)
IL (1) IL122318A (de)
NO (1) NO976002L (de)
PL (1) PL324248A1 (de)
RU (1) RU2153986C2 (de)
WO (1) WO1997039894A1 (de)

Families Citing this family (228)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9516723D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5858626A (en) 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
GB9622657D0 (en) 1996-10-31 1997-01-08 Horsell Graphic Ind Ltd Direct positive lithographic plate
US6060222A (en) 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69800847T3 (de) 1997-03-11 2006-06-29 Agfa-Gevaert N.V. Wärmempfindliches Aufzeichnungselement zur Herstellung von positiv arbeitenden Flachdruckformen
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
EP1103373A3 (de) * 1997-07-05 2001-07-18 Kodak Polychrome Graphics LLC Verfahren zur Bildung eines Musters, und Flachdruckplatten
GB9714526D0 (en) * 1997-07-11 1997-09-17 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern Formation
EP0897134B1 (de) * 1997-08-13 2004-12-01 Mitsubishi Chemical Corporation Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
GB9722861D0 (en) * 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms
WO1999008879A1 (en) * 1997-08-14 1999-02-25 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Method of making masks and electronic parts
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
EP0901902A3 (de) * 1997-09-12 1999-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Bebilderung
EP0908305B2 (de) 1997-10-08 2006-07-19 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmeempflindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP0908306B3 (de) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
DE69829590T2 (de) 1997-10-17 2006-02-09 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Positiv arbeitendes photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Infrarotlaser und positiv arbeitende Zusammensetzung für Infrarotlaser
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
GB9722862D0 (en) 1997-10-29 1997-12-24 Horsell Graphic Ind Ltd Pattern formation
EP1481802B1 (de) 1997-11-07 2006-09-20 Toray Industries, Inc. Direkt beschreibbare Flachdruckvorstufe und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten
JP3810538B2 (ja) 1997-11-28 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 ポジ型画像形成材料
US6399279B1 (en) 1998-01-16 2002-06-04 Mitsubishi Chemical Corporation Method for forming a positive image
US5922512A (en) * 1998-01-29 1999-07-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive polymer and methods of imaging and printing
EP0934822B1 (de) 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
US6143471A (en) * 1998-03-10 2000-11-07 Mitsubishi Paper Mills Limited Positive type photosensitive composition
GB2335283B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
GB2335282B (en) 1998-03-13 2002-05-08 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to pattern-forming methods
US6444393B2 (en) * 1998-03-26 2002-09-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anionic infrared-ray absorbing agent, photosensitive composition and planographic printing plate precursor using same
US6447977B2 (en) * 1998-04-15 2002-09-10 Agfa-Gevaert Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates
IT1299220B1 (it) 1998-05-12 2000-02-29 Lastra Spa Composizione sensibile sia a radiazioni ir che a radiazioni uv e lastra litografica
GB9811813D0 (en) * 1998-06-03 1998-07-29 Horsell Graphic Ind Ltd Polymeric compounds
US6358669B1 (en) 1998-06-23 2002-03-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6534238B1 (en) 1998-06-23 2003-03-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6352811B1 (en) 1998-06-23 2002-03-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal digital lithographic printing plate
DE19834746A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, betainischen oder betainisch-anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE19834745A1 (de) 1998-08-01 2000-02-03 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch mit IR-absorbierenden, anionischen Cyaninfarbstoffen und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6190831B1 (en) * 1998-09-29 2001-02-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Processless direct write printing plate having heat sensitive positively-charged polymers and methods of imaging and printing
JP3635203B2 (ja) * 1998-10-06 2005-04-06 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用原版
GB2342459B (en) * 1998-10-07 2003-01-15 Horsell Graphic Ind Ltd Improvements in relation to electronic parts
GB2342460A (en) 1998-10-07 2000-04-12 Horsell Graphic Ind Ltd Method of making an electronic part
DE69906818T2 (de) * 1998-11-16 2004-02-26 Mitsubishi Chemical Corp. Positiv-arbeitende photo-empfindliche lithographische druckplatte und verfahren zu ihrer herstellung
US6344306B1 (en) 1999-03-16 2002-02-05 Toray Industries, Inc. Directly imageable waterless planographic printing plate precursor, and directly imageable waterless planographic printing plate
US6124425A (en) 1999-03-18 2000-09-26 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near infrared absorption polymer coatings, method of preparing and methods of use
JP2000275828A (ja) 1999-03-25 2000-10-06 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
ATE439235T1 (de) * 1999-05-21 2009-08-15 Fujifilm Corp Lichtempfindliche zusammensetzung und flachdruckplattenbasis damit
ATE240833T1 (de) 1999-07-30 2003-06-15 Lastra Spa Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche zusammensetzung, und lithographische druckplatte, die mit dieser zusammensetzung beschichtet ist
US6255033B1 (en) 1999-07-30 2001-07-03 Creo, Ltd. Positive acting photoresist compositions and imageable element
EP1072405B1 (de) * 1999-07-30 2003-06-04 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
EP1072404B1 (de) * 1999-07-30 2003-05-21 Lastra S.P.A. Infrarotstrahlungs- und wärme-empfindliche Zusammensetzung, und lithographische Druckplatte, die mit dieser Zusammensetzung beschichtet ist
CA2314520A1 (en) 1999-07-30 2001-01-30 Domenico Tiefenthaler Composition sensitive to ir radiation and to heat and lithographic plate coated therewith
US6706466B1 (en) 1999-08-03 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6251559B1 (en) 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6461794B1 (en) 1999-08-11 2002-10-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
US6550989B1 (en) 1999-10-15 2003-04-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Apparatus and methods for development of resist patterns
US6673510B1 (en) 1999-10-19 2004-01-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition and planographic printing plate using the same
US6232031B1 (en) 1999-11-08 2001-05-15 Ano-Coil Corporation Positive-working, infrared-sensitive lithographic printing plate and method of imaging
US6391524B2 (en) 1999-11-19 2002-05-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Article having imagable coatings
US6300038B1 (en) 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance
US6558787B1 (en) 1999-12-27 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to manufacture of masks and electronic parts
EP1142709B1 (de) 2000-04-06 2004-11-24 Toray Industries, Inc. Direkt beschreibbare Flachdruckplatten und Verfahren zu ihrer Herstellung
JP2001305722A (ja) * 2000-04-18 2001-11-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
US6458511B1 (en) 2000-06-07 2002-10-01 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable positive-working lithographic printing plate precursor and method for imaging
US6506533B1 (en) 2000-06-07 2003-01-14 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymers and their use in imagable products and image-forming methods
ATE421558T1 (de) 2000-07-06 2009-02-15 Cabot Corp Modifizierte pigmente, deren dispersionen und zusammensetzungen die diese enthalten
EP1307341B1 (de) 2000-08-04 2007-04-04 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Lithographische druckform, herstellungsverfahren und verwendung davon
US6555291B1 (en) 2000-08-14 2003-04-29 Kodak Polychrome Graphics, Llc Thermal digital lithographic printing plate
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
US6558872B1 (en) 2000-09-09 2003-05-06 Kodak Polychrome Graphics Llc Relation to the manufacture of masks and electronic parts
US6451502B1 (en) 2000-10-10 2002-09-17 Kodak Polychrome Graphics Llc manufacture of electronic parts
US6864040B2 (en) 2001-04-11 2005-03-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal initiator system using leuco dyes and polyhalogene compounds
EP1333977A1 (de) 2000-10-26 2003-08-13 Kodak Polychrome Graphics LLC Ein pigment enthaltende zusammensetzungen
US6596460B2 (en) 2000-12-29 2003-07-22 Kodak Polychrome Graphics Llc Polyvinyl acetals having azido groups and use thereof in radiation-sensitive compositions
US6548215B2 (en) 2001-02-09 2003-04-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using the dual-feed technology
US6613494B2 (en) 2001-03-13 2003-09-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imageable element having a protective overlayer
US7049046B2 (en) * 2004-03-30 2006-05-23 Eastman Kodak Company Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US6899994B2 (en) 2001-04-04 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments
US7592128B2 (en) 2001-04-04 2009-09-22 Eastman Kodak Company On-press developable negative-working imageable elements
US6777164B2 (en) 2001-04-06 2004-08-17 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing forms
EP1256444B1 (de) 2001-04-09 2004-06-30 Agfa-Gevaert Positivarbeitende lithographische Druckplattenvorläufer
DE60110214T2 (de) * 2001-05-17 2006-03-09 Agfa-Gevaert Herstellungsverfahren zu einer negativ arbeitenden Druckplatte
US6739260B2 (en) 2001-05-17 2004-05-25 Agfa-Gevaert Method for the preparation of a negative working printing plate
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
US6706454B2 (en) 2001-07-05 2004-03-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for the production of a printing plate using particle growing acceleration by an additive polymer
JP3917422B2 (ja) 2001-07-26 2007-05-23 富士フイルム株式会社 画像形成材料
US6593055B2 (en) 2001-09-05 2003-07-15 Kodak Polychrome Graphics Llc Multi-layer thermally imageable element
US7294447B2 (en) 2001-09-24 2007-11-13 Agfa Graphics Nv Positive-working lithographic printing plate precursor
EP1295717B1 (de) 2001-09-24 2007-07-25 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Flachdruckplattenvorläufer
KR100406460B1 (ko) * 2001-09-29 2003-11-19 한국과학기술연구원 커플링된 스티릴시아닌 색소 및 그의 제조 방법
US6723490B2 (en) 2001-11-15 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Minimization of ablation in thermally imageable elements
US6699636B2 (en) 2001-12-12 2004-03-02 Kodak Polychrome Graphics Llc Imaging element comprising a thermally activated crosslinking agent
US6960423B2 (en) 2001-12-26 2005-11-01 Creo Inc. Preparation of gravure and intaglio printing elements using direct thermally imageable media
US6723489B2 (en) 2002-01-30 2004-04-20 Kodak Polychrome Graphics Llp Printing form precursors
US6830862B2 (en) 2002-02-28 2004-12-14 Kodak Polychrome Graphics, Llc Multi-layer imageable element with a crosslinked top layer
US20050003296A1 (en) * 2002-03-15 2005-01-06 Memetea Livia T. Development enhancement of radiation-sensitive elements
US6732653B2 (en) 2002-04-26 2004-05-11 Kodak Polychrome Graphics Llc Method to remove unwanted, unexposed, positive-working, radiation-sensitive layer
US6843176B2 (en) 2002-04-26 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics, Llc Method to remove unwanted, unexposed, radiation-sensitive layer in a lithographic printing plate
DE60213236T2 (de) 2002-09-04 2007-06-21 Agfa-Gevaert Wärmeempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP2006501505A (ja) 2002-10-04 2006-01-12 アグフア−ゲヴエルト リトグラフ印刷版前駆物質の製法
US6858359B2 (en) 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
WO2004030925A1 (en) 2002-10-04 2004-04-15 Agfa-Gevaert Method of making a lithographic printing plate precursor
US20060234161A1 (en) 2002-10-04 2006-10-19 Eric Verschueren Method of making a lithographic printing plate precursor
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6794107B2 (en) 2002-10-28 2004-09-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal generation of a mask for flexography
CN1332809C (zh) * 2002-12-26 2007-08-22 富士胶片株式会社 平版印刷版前体
ATE391602T1 (de) 2002-12-27 2008-04-15 Fujifilm Corp Wärmeempfindlicher lithographischer druckplattenvorläufer
JP4163964B2 (ja) 2003-01-07 2008-10-08 岡本化学工業株式会社 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US6953652B2 (en) 2003-01-27 2005-10-11 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7087359B2 (en) 2003-01-27 2006-08-08 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US6790590B2 (en) 2003-01-27 2004-09-14 Kodak Polychrome Graphics, Llp Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements
US20060107858A1 (en) * 2003-02-11 2006-05-25 Marc Van Damme Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7229744B2 (en) * 2003-03-21 2007-06-12 Eastman Kodak Company Method for preparing lithographic printing plates
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US20040214108A1 (en) * 2003-04-25 2004-10-28 Ray Kevin B. Ionic liquids as dissolution inhibitors in imageable elements
JP4703104B2 (ja) * 2003-06-06 2011-06-15 株式会社東芝 通信端末装置
US20060222998A1 (en) * 2003-06-30 2006-10-05 Tsutomu Sato Positive photosensitive composition
JP4732420B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー 製版方法
JP4657276B2 (ja) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4732419B2 (ja) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP2007528807A (ja) 2003-07-08 2007-10-18 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー 硫酸化ポリマーを含んで成る画像形成可能要素
US7371454B2 (en) * 2003-12-15 2008-05-13 Eastman Kodak Company Imageable element comprising sulfated polymers
US6942957B2 (en) * 2003-07-17 2005-09-13 Kodak Polychrome Graphics Llc Ionic liquids as developability enhancing agents in multilayer imageable elements
US6844141B1 (en) 2003-07-23 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for developing multilayer imageable elements
US6992688B2 (en) * 2004-01-28 2006-01-31 Eastman Kodak Company Method for developing multilayer imageable elements
JP2005047181A (ja) * 2003-07-30 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版
US7226724B2 (en) 2003-11-10 2007-06-05 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-type photosensitive composition
DE60322753D1 (de) 2003-12-04 2008-09-18 Ibf Ind Brasileira De Filmes S Positiv arbeitende thermische bilderzeugungsanordnung und verfahren zu deren herstellung
US7205084B2 (en) 2003-12-18 2007-04-17 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2005058605A1 (en) 2003-12-18 2005-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US7297465B2 (en) 2003-12-18 2007-11-20 Agfa Graphics Nv Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7467587B2 (en) 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
US7348126B2 (en) 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
CN1791837A (zh) * 2004-05-27 2006-06-21 株式会社新克 正型感光性组合物
DE602004006099T2 (de) 2004-06-11 2008-03-13 Agfa Graphics N.V. Negativ arbeitende wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
DE102004029501A1 (de) 2004-06-18 2006-01-12 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Modifizierte Polymere und ihre Verwendung bei der Herstellung von Lithographie-Druckplattenvorläufern
US7279263B2 (en) * 2004-06-24 2007-10-09 Kodak Graphic Communications Canada Company Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
US7354696B2 (en) 2004-07-08 2008-04-08 Agfa Graphics Nv Method for making a lithographic printing plate
US7195861B2 (en) 2004-07-08 2007-03-27 Agfa-Gevaert Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7425405B2 (en) 2004-07-08 2008-09-16 Agfa Graphics, N.V. Method for making a lithographic printing plate
JP4152928B2 (ja) * 2004-08-02 2008-09-17 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
JP4242815B2 (ja) * 2004-08-27 2009-03-25 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
US7198883B2 (en) 2004-09-24 2007-04-03 Agfa-Gevaert Processless lithographic printing plate
DE602004008285T2 (de) 2004-09-24 2008-05-08 Agfa Graphics N.V. Verarbeitungsfreie Flachdruckplatte
JP2006154477A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Think Laboratory Co Ltd ポジ型感光性組成物
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
EP1705003B1 (de) 2005-03-21 2007-10-24 Agfa Graphics N.V. Entwicklungsfreie Flachdruckplatten
JP2006293162A (ja) 2005-04-13 2006-10-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
KR100693357B1 (ko) * 2005-04-19 2007-03-12 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 포지티브형 감광성 조성물
US7473515B2 (en) 2005-06-03 2009-01-06 American Dye Source, Inc. Thermally reactive near-infrared absorbing acetal copolymers, methods of preparation and methods of use
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20070292802A1 (en) * 2005-07-12 2007-12-20 Think Laboratiory Co., Ltd. Positive Photosenstive Composition
US8313885B2 (en) 2005-11-10 2012-11-20 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor comprising bi-functional compounds
US7338745B2 (en) * 2006-01-23 2008-03-04 Eastman Kodak Company Multilayer imageable element with improved chemical resistance
EP1991418A1 (de) 2006-02-28 2008-11-19 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur herstellung einer lithographischen druckplatte
DE602006004839D1 (de) 2006-02-28 2009-03-05 Agfa Graphics Nv Positiv arbeitende Lithografiedruckformen
DE602006006969D1 (de) 2006-03-17 2009-07-09 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender, hitzeempfindlicher Lithographiedruckformvorläufer
EP1859936B1 (de) 2006-05-24 2009-11-11 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
ES2335300T3 (es) 2006-05-24 2010-03-24 Agfa Graphics N.V. Precursor de plancha de impresion litografica termosensible de accion negativa.
GB2439734A (en) 2006-06-30 2008-01-09 Peter Andrew Reath Bennett Coating for a lithographic precursor and use thereof
CN101547791A (zh) * 2006-11-28 2009-09-30 伊斯曼柯达公司 具有优良耐溶剂性的多层可成像元件
JPWO2008126722A1 (ja) * 2007-04-05 2010-07-22 株式会社シンク・ラボラトリー ポジ型感光性組成物
ES2366743T3 (es) * 2007-04-27 2011-10-25 Agfa Graphics N.V. Precursor de placa de impresión litográfica.
EP2002987B1 (de) 2007-06-13 2014-04-23 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
US7582407B2 (en) * 2007-07-09 2009-09-01 Eastman Kodak Company Imageable elements with low pH developer solubility
ATE509764T1 (de) 2007-08-14 2011-06-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithographiedruckform
WO2009030279A1 (en) 2007-09-07 2009-03-12 Agfa Graphics Nv A heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7989146B2 (en) 2007-10-09 2011-08-02 Eastman Kodak Company Component fabrication using thermal resist materials
EP2062728B1 (de) 2007-11-13 2011-08-31 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckform
EP2065211B1 (de) 2007-11-30 2010-05-26 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
JP2009132974A (ja) 2007-11-30 2009-06-18 Fujifilm Corp 微細構造体
ATE481240T1 (de) 2008-02-28 2010-10-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckplatte
ES2430562T3 (es) 2008-03-04 2013-11-21 Agfa Graphics N.V. Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica
ATE514561T1 (de) 2008-03-31 2011-07-15 Agfa Graphics Nv Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte
ATE552111T1 (de) 2008-09-02 2012-04-15 Agfa Graphics Nv Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender lithographiedruckformvorläufer
EP2194429A1 (de) 2008-12-02 2010-06-09 Eastman Kodak Company Gummierzusammensetzungen mit Nanoteilchen zur Verbesserung der Kratzempfindlichkeit in Bild- und Nicht-Bild-Bereichen von lithografischen Druckplatten
EP2213690B1 (de) 2009-01-30 2015-11-11 Agfa Graphics N.V. Neues alkalisches lösliches harz
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
EP2263874B1 (de) 2009-06-18 2012-04-18 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2284005B1 (de) 2009-08-10 2012-05-02 Eastman Kodak Company Lithografische Druckplattenvorläufer mit Betahydroxy-Alkylamid-Vernetzern
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
EP2293144B1 (de) 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Verfahren zum Trocknen von Lithographiedruckplatten nach einer Einstufenverarbeitung
US8298750B2 (en) 2009-09-08 2012-10-30 Eastman Kodak Company Positive-working radiation-sensitive imageable elements
EP2316645B1 (de) 2009-10-27 2012-05-02 AGFA Graphics NV Neuartige Cyaninfarbstoffe und lithografische Druckerplattenvorläufer mit den Farbstoffen
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
US8932398B2 (en) 2009-10-29 2015-01-13 Mylan Group Gallotannic compounds for lithographic printing plate coating compositions
EP2329951B1 (de) 2009-12-04 2012-06-20 AGFA Graphics NV Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2366545B1 (de) 2010-03-19 2012-12-05 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8939080B2 (en) 2010-11-18 2015-01-27 Eastman Kodak Company Methods of processing using silicate-free developer compositions
US20120129093A1 (en) 2010-11-18 2012-05-24 Moshe Levanon Silicate-free developer compositions
US20130298792A1 (en) 2011-01-25 2013-11-14 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
EP2489512B1 (de) 2011-02-18 2013-08-28 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
ES2556055T3 (es) 2011-09-08 2016-01-12 Agfa Graphics Nv Método de fabricación de una plancha de impresión litográfica
US9096759B2 (en) * 2011-12-21 2015-08-04 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form and process for preparing the printing form with curable composition having solvent-free epoxy resin
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
JP5813063B2 (ja) 2012-07-27 2015-11-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版用支持体およびその製造方法、並びに、平版印刷版原版
BR112015015795A2 (pt) 2013-01-01 2017-07-11 Agfa Graphics Nv copolímeros de etilenovinil acetal e seu uso em precursores de chapas de impressão litográfica
EP2775351B1 (de) 2013-03-07 2017-02-22 Agfa Graphics NV Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung einer Lithografiedruckplatte
CN105283807B (zh) 2013-06-18 2019-09-27 爱克发有限公司 制备具有图案化背层的平版印刷版前体的方法
EP2871057B1 (de) 2013-11-07 2016-09-14 Agfa Graphics Nv Negativ arbeitender, wärmeempfindlicher Lithographiedruckplattenvorläufer
EP2933278B1 (de) 2014-04-17 2018-08-22 Agfa Nv (Ethylen-,Vinylacetal-)Copolymere und ihre Verwendung in Lithographiedruckplattenvorläufern
ES2617557T3 (es) 2014-05-15 2017-06-19 Agfa Graphics Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
CN104035279B (zh) * 2014-05-23 2017-07-18 浙江康尔达新材料股份有限公司 阳图红外敏感组合物及其可成像元件
ES2660063T3 (es) 2014-06-13 2018-03-20 Agfa Nv Copolímeros (de etileno, vinilacetal) y su uso en precursores de plancha de impresión litográfica
EP2963496B1 (de) 2014-06-30 2017-04-05 Agfa Graphics NV Lithografiedruckplattenvorläufer mit (Ethylen-, Vinylacetal-) Copolymeren
ES2655798T3 (es) 2014-12-08 2018-02-21 Agfa Nv Sistema para reducir los residuos de ablación
EP3130465B1 (de) 2015-08-12 2020-05-13 Agfa Nv Wärmeempfindlicher lithografiedruckplattenvorläufer
US9588429B1 (en) 2015-09-03 2017-03-07 Eastman Kodak Company Lithographic developer composition and method of use
EP3170662B1 (de) 2015-11-20 2019-08-14 Agfa Nv Flachdruckplattenvorläufer
EP3429864A1 (de) 2016-03-16 2019-01-23 Agfa Nv Verfahren und vorrichtung zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
EP3239184A1 (de) 2016-04-25 2017-11-01 Agfa Graphics NV Thermoplastische polymerpartikel und ein lithografiedruckplattenvorläufer
EP3441223B1 (de) 2017-08-07 2024-02-21 Eco3 Bv Lithographiedruckplattenvorläufer
CN111051981B (zh) 2017-08-25 2024-04-09 富士胶片株式会社 负型平版印刷版原版及平版印刷版的制版方法
EP3474073B1 (de) 2017-10-17 2022-12-07 Agfa Offset Bv Methode zur herstellung einer druckplatte
EP3637188A1 (de) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv Sprudelnder entwicklervorläufer zur verarbeitung eines lithografischen druckplattenvorläufers
EP3650938A1 (de) 2018-11-09 2020-05-13 Agfa Nv Lithographiedruckplattenvorläufer
EP3715140A1 (de) 2019-03-29 2020-09-30 Agfa Nv Verfahren zum drucken
EP3778253A1 (de) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
EP3922462B1 (de) 2020-06-08 2023-03-01 Agfa Offset Bv Lithografischer photopolymerer druckplattenvorläufer mit verbesserter tageslichtstabilität
EP4263224A1 (de) 2020-12-16 2023-10-25 Eco3 Bv Make-ready-verfahren für eine lithographische druckmaschine
EP4382306A1 (de) 2022-12-08 2024-06-12 Eco3 Bv Make-ready-verfahren für eine lithographische druckmaschine

Family Cites Families (134)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE516129A (de) 1949-07-23
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
BE506677A (de) 1950-10-31
BE508664A (de) 1951-02-02
US2767092A (en) 1951-12-06 1956-10-16 Azoplate Corp Light sensitive material for lithographic printing
GB742557A (en) 1952-10-01 1955-12-30 Kalle & Co Ag Light-sensitive material for photomechanical reproduction and process for the production of images
GB772517A (en) 1954-02-06 1957-04-17 Kalle & Co Ag Improvements in or relating to photo-mechanical reproduction
NL95407C (de) 1954-08-20
US2907665A (en) 1956-12-17 1959-10-06 Cons Electrodynamics Corp Vitreous enamel
NL247299A (de) 1959-01-14
BE593836A (de) 1959-08-05
US3105465A (en) 1960-05-31 1963-10-01 Oliver O Peters Hot water heater
NL6608712A (de) * 1966-06-23 1966-11-25
US3635709A (en) 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
GB1170495A (en) 1967-03-31 1969-11-12 Agfa Gevaert Nv Radiation-Sensitive Recording Material
GB1231789A (de) * 1967-09-05 1971-05-12
GB1245924A (en) 1967-09-27 1971-09-15 Agfa Gevaert Improvements relating to thermo-recording
GB1260662A (en) * 1968-03-27 1972-01-19 Agfa Gevaert Improvements relating to the sub-titling of processed photographic materials
US3837860A (en) 1969-06-16 1974-09-24 L Roos PHOTOSENSITIVE MATERIALS COMPRISING POLYMERS HAVING RECURRING PENDENT o-QUINONE DIAZIDE GROUPS
US3647443A (en) 1969-09-12 1972-03-07 Eastman Kodak Co Light-sensitive quinone diazide polymers and polymer compositions
JPS5024641B2 (de) 1972-10-17 1975-08-18
US3891439A (en) 1972-11-02 1975-06-24 Polychrome Corp Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
JPS5536518B2 (de) 1972-11-21 1980-09-20
US3859099A (en) 1972-12-22 1975-01-07 Eastman Kodak Co Positive plate incorporating diazoquinone
CA1085212A (en) 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
DE2529054C2 (de) 1975-06-30 1982-04-29 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Verfahren zur Herstellung eines zur Vorlage negativen Resistbildes
DE2543820C2 (de) * 1975-10-01 1984-10-31 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen
DE2607207C2 (de) 1976-02-23 1983-07-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen
US4486529A (en) 1976-06-10 1984-12-04 American Hoechst Corporation Dialo printing plate made from laser
GB1603920A (en) 1978-05-31 1981-12-02 Vickers Ltd Lithographic printing plates
JPS5560944A (en) 1978-10-31 1980-05-08 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
DE3009873A1 (de) 1979-03-16 1980-09-25 Daicel Chem Photoempfindliche masse
JPS561045A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS561044A (en) 1979-06-16 1981-01-08 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Photosensitive composition
JPS569740A (en) 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
US4316952A (en) * 1980-05-12 1982-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Energy sensitive element having crosslinkable polyester
GB2082339B (en) * 1980-08-05 1985-06-12 Horsell Graphic Ind Ltd Lithographic printing plates and method for processing
US4529682A (en) 1981-06-22 1985-07-16 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive photoresist composition with cresol-formaldehyde novolak resins
JPS58203433A (ja) 1982-05-21 1983-11-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JPS58224351A (ja) 1982-06-23 1983-12-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性印刷版
US4609615A (en) 1983-03-31 1986-09-02 Oki Electric Industry Co., Ltd. Process for forming pattern with negative resist using quinone diazide compound
DE3325023A1 (de) 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
US4708925A (en) * 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US4693958A (en) 1985-01-28 1987-09-15 Lehigh University Lithographic plates and production process therefor
DE3541534A1 (de) 1985-11-25 1987-05-27 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
ZA872295B (de) 1986-03-13 1987-09-22
US4684599A (en) 1986-07-14 1987-08-04 Eastman Kodak Company Photoresist compositions containing quinone sensitizer
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3716848A1 (de) 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
US4845143A (en) 1987-08-21 1989-07-04 Oki Electric Industry Co., Ltd. Pattern-forming material
US4973572A (en) * 1987-12-21 1990-11-27 Eastman Kodak Company Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer
JPH01201654A (ja) 1988-02-06 1989-08-14 Nippon Oil Co Ltd ポジ型フォトレジスト材料
US4962147A (en) 1988-05-26 1990-10-09 Hoechst Celanese Corporation Process for the suspension polymerization of 4-acetoxystyrene and hydrolysis to 4-hydroxystyrene polymers
DE3820001A1 (de) 1988-06-11 1989-12-14 Basf Ag Optisches aufzeichnungsmedium
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US4877718A (en) 1988-09-26 1989-10-31 Rennsselaer Polytechnic Institute Positive-working photosensitive polyimide operated by photo induced molecular weight changes
JP2547626B2 (ja) 1988-10-07 1996-10-23 富士写真フイルム株式会社 モノマーの製造方法
EP0366590B2 (de) 1988-10-28 2001-03-21 International Business Machines Corporation Positiv arbeitende hochempfindliche Photolack-Zusammensetzung
EP0368327B1 (de) 1988-11-11 1995-02-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lichtempfindliche Zusammensetzung
JP2571115B2 (ja) 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
JP2871710B2 (ja) 1989-03-17 1999-03-17 株式会社きもと 画像形成方法
JPH02251962A (ja) 1989-03-27 1990-10-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成材料およびパターン形成方法
US5200298A (en) 1989-05-10 1993-04-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming images
DE69029104T2 (de) 1989-07-12 1997-03-20 Fuji Photo Film Co Ltd Polysiloxane und positiv arbeitende Resistmasse
EP0424182B1 (de) 1989-10-19 1998-07-08 Fujitsu Limited Verfahren zur Herstellung von Photolackmustern
GB9004337D0 (en) 1990-02-27 1990-04-25 Minnesota Mining & Mfg Preparation and use of dyes
DE4013575C2 (de) 1990-04-27 1994-08-11 Basf Ag Verfahren zur Herstellung negativer Reliefkopien
DE69129955T2 (de) 1990-05-02 1998-12-24 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Photolackzusammensetzung
JP2729850B2 (ja) 1990-05-15 1998-03-18 富士写真フイルム株式会社 画像形成層
JP2639853B2 (ja) 1990-05-18 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 新規キノンジアジド化合物及びそれを含有する感光性組成物
JP2645384B2 (ja) 1990-05-21 1997-08-25 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US5145763A (en) 1990-06-29 1992-09-08 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Positive photoresist composition
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
JPH04359906A (ja) 1991-06-07 1992-12-14 Shin Etsu Chem Co Ltd ポリ(パラ−t−ブトキシカルボニルオキシスチレン)及びその製造方法
CA2066895A1 (en) 1991-06-17 1992-12-18 Thomas P. Klun Aqueous developable imaging systems
US5258257A (en) 1991-09-23 1993-11-02 Shipley Company Inc. Radiation sensitive compositions comprising polymer having acid labile groups
US5437952A (en) 1992-03-06 1995-08-01 Konica Corporation Lithographic photosensitive printing plate comprising a photoconductor and a naphtho-quinone diazide sulfonic acid ester of a phenol resin
US5368977A (en) 1992-03-23 1994-11-29 Nippon Oil Co. Ltd. Positive type photosensitive quinone diazide phenolic resin composition
DE4321607A1 (de) 1992-06-30 1994-01-05 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd Aufzeichnungsmaterial
US5268245A (en) 1992-07-09 1993-12-07 Polaroid Corporation Process for forming a filter on a solid state imager
US5351617A (en) 1992-07-20 1994-10-04 Presstek, Inc. Method for laser-discharge imaging a printing plate
CA2091286A1 (en) 1992-07-20 1994-01-21 John Grunwald Direct imaging process for forming resist pattern on a surface, and use thereof in fabricating printed boards
US5286612A (en) 1992-10-23 1994-02-15 Polaroid Corporation Process for generation of free superacid and for imaging, and imaging medium for use therein
EP0608983B1 (de) 1993-01-25 1997-11-12 AT&T Corp. Ein Verfahren zum gesteuerten Entschützen von Polymeren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung welches diese zum Teil entschützten Polymere für Photoresiste benutzt
US5372915A (en) * 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
EP0631189B1 (de) * 1993-06-24 1999-02-17 Agfa-Gevaert N.V. Verbesserung der Lagerungsstabilität eines Diazo-Aufzeichnungselementes zur Herstellung einer Druckplatte
DE4426820A1 (de) 1993-07-29 1995-02-02 Fuji Photo Film Co Ltd Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren
GB9322705D0 (en) * 1993-11-04 1993-12-22 Minnesota Mining & Mfg Lithographic printing plates
DE69512113T2 (de) * 1994-03-14 2000-05-25 Kodak Polychrome Graphics Llc, Norwalk Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten
JP3317574B2 (ja) 1994-03-15 2002-08-26 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3461377B2 (ja) 1994-04-18 2003-10-27 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US5441850A (en) 1994-04-25 1995-08-15 Polaroid Corporation Imaging medium and process for producing an image
EP0691575B1 (de) 1994-07-04 2002-03-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positiv-photoresistzusammensetzung
WO1996002021A1 (fr) 1994-07-11 1996-01-25 Konica Corporation Element initial pour plaque lithographique et procede de preparation de ladite plaque
US5466557A (en) * 1994-08-29 1995-11-14 Eastman Kodak Company Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, a latent bronsted acid, an infrared absorber and terephthalaldehyde and use thereof in lithographic printing plates
EP0706899A1 (de) 1994-10-13 1996-04-17 Agfa-Gevaert N.V. Wärmeempfindliches Aufzeichnungselement
US5491046A (en) * 1995-02-10 1996-02-13 Eastman Kodak Company Method of imaging a lithographic printing plate
US5658708A (en) 1995-02-17 1997-08-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording material
JPH0962005A (ja) * 1995-06-14 1997-03-07 Fuji Photo Film Co Ltd ネガ型感光性組成物
GB9516694D0 (en) 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
GB9516723D0 (en) * 1995-08-15 1995-10-18 Horsell Plc Water-less lithographic plates
US5641608A (en) 1995-10-23 1997-06-24 Macdermid, Incorporated Direct imaging process for forming resist pattern on a surface and use thereof in fabricating printing plates
JPH09120157A (ja) * 1995-10-25 1997-05-06 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要感光性平版印刷版
US6132935A (en) 1995-12-19 2000-10-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Negative-working image recording material
US5814431A (en) * 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3589365B2 (ja) 1996-02-02 2004-11-17 富士写真フイルム株式会社 ポジ画像形成組成物
EP0803771A1 (de) 1996-04-23 1997-10-29 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckplatte unter Verwendung eines Bildaufzeichnungsmaterials mit einer wärmeempfindlichen Maske
EP0819980B1 (de) 1996-07-19 2000-05-31 Agfa-Gevaert N.V. IR-Strahlungsempfindliches Bildaufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten mit diesem Element
JP3814961B2 (ja) 1996-08-06 2006-08-30 三菱化学株式会社 ポジ型感光性印刷版
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5759742A (en) 1996-09-25 1998-06-02 Eastman Kodak Company Photosensitive element having integral thermally bleachable mask and method of use
US5858626A (en) * 1996-09-30 1999-01-12 Kodak Polychrome Graphics Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition
US5705308A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Infrared-sensitive, negative-working diazonaphthoquinone imaging composition and element
US5705322A (en) 1996-09-30 1998-01-06 Eastman Kodak Company Method of providing an image using a negative-working infrared photosensitive element
US6117610A (en) * 1997-08-08 2000-09-12 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use
EP0839647B2 (de) 1996-10-29 2014-01-22 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte mit verbesserten Druckfarbe-Aufnahme
US6060222A (en) * 1996-11-19 2000-05-09 Kodak Polcyhrome Graphics Llc 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser
DE69804876T2 (de) 1997-01-24 2002-11-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Flachdruckplatte
EP0864419B1 (de) 1997-03-11 2002-08-07 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten
US6090532A (en) * 1997-03-21 2000-07-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method
DE19712323A1 (de) 1997-03-24 1998-10-01 Agfa Gevaert Ag Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten
US6083662A (en) * 1997-05-30 2000-07-04 Kodak Polychrome Graphics Llc Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate
JP3779444B2 (ja) 1997-07-28 2006-05-31 富士写真フイルム株式会社 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物
US6060217A (en) * 1997-09-02 2000-05-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermal lithographic printing plates
US6060218A (en) * 1997-10-08 2000-05-09 Agfa-Gevaert, N.V. Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element
EP0908306B3 (de) 1997-10-08 2009-08-05 Agfa-Gevaert Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
DE69810242T2 (de) * 1997-10-28 2003-10-30 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
EP0934822B1 (de) * 1998-02-04 2005-05-04 Mitsubishi Chemical Corporation Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung, lichtempfindliche Druckplatte und Verfahren zur Herstellung eines positiven Bildes
US6251559B1 (en) * 1999-08-03 2001-06-26 Kodak Polychrome Graphics Llc Heat treatment method for obtaining imagable coatings and imagable coatings
US6300038B1 (en) * 1999-11-19 2001-10-09 Kodak Polychrome Graphics Llc Articles having imagable coatings
US6294311B1 (en) * 1999-12-22 2001-09-25 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic printing plate having high chemical resistance

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Publication number Publication date
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