JP3461377B2 - 画像記録材料 - Google Patents
画像記録材料Info
- Publication number
- JP3461377B2 JP3461377B2 JP07888894A JP7888894A JP3461377B2 JP 3461377 B2 JP3461377 B2 JP 3461377B2 JP 07888894 A JP07888894 A JP 07888894A JP 7888894 A JP7888894 A JP 7888894A JP 3461377 B2 JP3461377 B2 JP 3461377B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- image recording
- recording material
- alkali
- binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 54
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 46
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 42
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 claims description 28
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 18
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 claims description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 64
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 45
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 42
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 39
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 32
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 24
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 21
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 14
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 13
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 12
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 9
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 6
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 6
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 6
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 4
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N (2-aminoethyl)phosphonic acid Chemical compound [NH3+]CCP(O)([O-])=O QQVDJLLNRSOCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 3
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(C)C)C(C(C)C)=C(C(C)C)C(S(O)(=O)=O)=C21 RSZXXBTXZJGELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trihydroxbenzophenone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HTQNYBBTZSBWKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(C)C(S(O)(=O)=O)=C1 IRLYGRLEBKCYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N Di-n-hexyl phthalate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCC KCXZNSGUUQJJTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 2
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N glycine betaine Chemical compound C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N phenyl phosphate Chemical compound OP(O)(=O)OC1=CC=CC=C1 CMPQUABWPXYYSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N phenylphosphinic acid Chemical compound OP(=O)C1=CC=CC=C1 MLCHBQKMVKNBOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical class [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-difluorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC(F)=C1F PQUXFUBNSYCQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLALPCADBTIS-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibutoxy-4-morpholin-4-ylbenzenediazonium Chemical compound C1=C([N+]#N)C(OCCCC)=CC(N2CCOCC2)=C1OCCCC NJLLALPCADBTIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- DXPQDAHFCMBFMM-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXPQDAHFCMBFMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzene-1,4-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C(C=O)=C1 DILXLMRYFWFBGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonoethylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCP(O)(O)=O XYJLPCAKKYOLGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1OC DAUAQNGYDSHRET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 QDWTXRWOKORYQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 3-chlorobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC(Cl)=C1 IQOJIHIRSVQTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 3-chlorofuran-2,5-dione Chemical compound ClC1=CC(=O)OC1=O CXJAFLQWMOMYOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 3-methylphenylacetic acid Chemical group CC1=CC=CC(CC(O)=O)=C1 GJMPSRSMBJLKKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=C(O)C=C1 LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical class [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 BTJIUGUIPKRLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 4-nitrotoluene-2-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1S(O)(=O)=O ZDTXQHVBLWYPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 5-hydroxynaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O YLKCHWCYYNKADS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 80-82-0 Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O HWTDMFJYBAURQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100024133 Coiled-coil domain-containing protein 50 Human genes 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000910772 Homo sapiens Coiled-coil domain-containing protein 50 Proteins 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNQABZCSYCTZMS-UHFFFAOYSA-N Orthoform Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(O)C(N)=C1 VNQABZCSYCTZMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N Sorbitan monopalmitate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O IYFATESGLOUGBX-YVNJGZBMSA-N 0.000 description 1
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 1
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N Veratric acid Natural products COC1=CC=C(C(O)=O)C(OC)=C1 GPVDHNVGGIAOQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N [(2R)-2-[(2R,3R,4S)-4-hydroxy-3-octadecanoyloxyoxolan-2-yl]-2-octadecanoyloxyethyl] octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC IJCWFDPJFXGQBN-RYNSOKOISA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N alpha-glycerophosphate Natural products OCC(O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 1
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N beta-monoglyceryl stearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 229910021538 borax Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CCC1C(O)=O ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M diphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)([O-])OC1=CC=CC=C1 ASMQGLCHMVWBQR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSPCFYPYRYKNF-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-octylphenol Chemical compound O=C.CCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 ZLSPCFYPYRYKNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910001389 inorganic alkali salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N medronic acid Chemical compound OP(O)(=O)CP(O)(O)=O MBKDYNNUVRNNRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N n-(9,10-dioxoanthracen-1-yl)-4-[4-[[4-[4-[(9,10-dioxoanthracen-1-yl)carbamoyl]phenyl]phenyl]diazenyl]phenyl]benzamide Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC(=O)C(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1N=NC(C=C1)=CC=C1C(C=C1)=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O AJDUTMFFZHIJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylphosphonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(P(O)(=O)O)=CC=CC2=C1 YOOYVODKUBZAPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 KVBGVZZKJNLNJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N oxolan-2-ylmethyl (z)-octadec-9-enoate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC1CCCO1 GIPDEPRRXIBGNF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000011134 resol-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000010731 rolling oil Substances 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N sn-glycerol 3-phosphate Chemical compound OC[C@@H](O)COP(O)(O)=O AWUCVROLDVIAJX-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229940047670 sodium acrylate Drugs 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000010339 sodium tetraborate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001570 sorbitan monopalmitate Substances 0.000 description 1
- 235000011071 sorbitan monopalmitate Nutrition 0.000 description 1
- 229940031953 sorbitan monopalmitate Drugs 0.000 description 1
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 1
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 1
- 239000001589 sorbitan tristearate Substances 0.000 description 1
- 235000011078 sorbitan tristearate Nutrition 0.000 description 1
- 229960004129 sorbitan tristearate Drugs 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 150000003455 sulfinic acids Chemical class 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072958 tetrahydrofurfuryl oleate Drugs 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N thiopyrylium Chemical class C1=CC=[S+]C=C1 OKYDCMQQLGECPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117957 triethanolamine hydrochloride Drugs 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N trisodium borate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]B([O-])[O-] BSVBQGMMJUBVOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004418 trolamine Drugs 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001043 yellow dye Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
として使用できる画像記録材料に関するものであり、特
にコンピュータ等のディジタル信号から直接製版できる
いわゆるダイレクト製版用のポジ型の感光性平版印刷版
に関する。
から直接製版するシステムとしては、電子写真法によ
るもの、Arレーザによる露光と後加熱の組み合わせ
による光重合系、感光性樹脂上に銀塩感材を積層した
もの、シルバーマスタータイプのもの、放電破壊や
レーザ光によりシリコーンゴム層を破壊することによる
もの等が知られている。
は、帯電、露光、現像等処理が煩雑であり、装置が複雑
で大がかりなものになる。の方法では後加熱工程を要
するほか、高感度な版材を要し、明室での取扱いが難し
くなる。、の方法では銀塩を使用するため処理が煩
雑になり、コストが高くなる欠点がある。またの方法
は比較的完成度の高い方法であるが、版面に残るシリコ
ーン滓の除去に問題点を残している。一方、近年におけ
るレーザの発展は目ざましく、特に近赤外から赤外に発
光領域を持つ固体レーザ・半導体レーザは高出力かつ小
型の物が容易に入手できる様になっている。コンピュー
タ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源
として、これらのレーザは非常に有用である。
27919号公報には、加熱する前は不溶性もしくは僅
かに可溶性であり、熱の影響下に溶媒中でより可溶性に
なし得る重合体化合物または組成物を混入した記録層を
含む記録材料を情報に従って加熱し、画像形成する方法
が記載されている。また、特開昭56−69192号公
報にはノボラック型フェノール樹脂とカーボンブラック
を含有する感熱層を有する感熱記録材料が開示されてい
る。しかしながら、これらは、レーザ光を用いずに画像
を記録した場合の実施例しか開示されておらず、コンピ
ュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光
光源として、上記の近赤外から赤外に発光領域を持つレ
ーザを用いて画像を記録した場合には、地汚れや耐刷力
の低下などで必ずしも良好な印刷物を得ることができな
かった。良好な印刷物を得るためには、露光後アルカリ
現像処理される際に、光の照射された部分(非画像部)
が容易に溶解され、光の当たらなかった部分(画像部)
が残存し更にこの残存した画像部の耐久性が良好である
必要がある。即ち、上記公知技術では、レーザ光を用い
た場合、画像の記録性が良好でないため、非画像部が溶
解しにくく、また画像部が溶解され易くなっていると考
えられる。従って、レーザ光による画像の記録性が良く
良好な印刷物が得られる画像記録材料が望まれる。
の処理装置や印刷装置をそのまま利用できる、コンピュ
ータ等のディジタルデータから直接製版可能な記録性及
び耐刷性の良い画像記録材料を提供することである。
記の構成(1)〜(14)により達成することができ
る。 (1)結着剤と、光を吸収し熱を発生する物質と、熱分
解性でありかつ分解しない状態では該結着剤の溶解性を
実質的に低下させる物質を含むことを特徴とする画像記
録材料。 (2)支持体上に、結着剤と、赤外光もしくは近赤外光
を吸収し熱を発生する物質と、熱分解性でありかつ分解
しない状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる
物質を含む層を設けて成ることを特徴とする画像記録材
料。 (3)結着剤としてアルカリ可溶性の樹脂を含む上記
(2)に記載の画像記録材料。 (4)結着剤としてフェノール樹脂を含む上記(2)に
記載の画像記録材料。 (5)結着剤としてアクリル樹脂を含む上記(2)に記
載の画像記録材料。 (6)結着剤としてポリウレタン樹脂を含む上記(2)
記載の画像記録材料。 (7)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として染料を用いる上記(2)に記載の画像記録材
料。 (8)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質として顔料を用いる上記(2)に記載の画像記録材
料。 (9)赤外光もしくは近赤外光を吸収し熱を発生する物
質としてカーボンブラックを用いる上記(2)に記載の
画像記録材料。 (10)熱分解性でありかつ分解しない状態では該結着
剤の溶解性を実質的に低下させる物質としてオニウム塩
を含む上記(2)に記載の画像記録材料。 (11)熱分解性でありかつ分解しない状態では結着剤
の溶解性を実質的に低下させる物質としてジアゾニウム
塩を含む上記(2)に記載の画像記録材料。 (12)熱分解性でありかつ分解しない状態では該結着
剤の溶解性を実質的に低下させる物質としてキノンジア
ジド化合物を含む上記(2)に記載の画像記録材料。 (13)支持体としてポリエステルフィルムを用いる上
記(2)に記載の画像記録材料。 (14)支持体としてアルミ板を用いる上記(2)に記
載の画像記録材料。
と、光を吸収し熱を発生する物質と、熱分解性でありか
つ分解しない状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下
させる物質(以下、本発明の添加剤ということもあ
る。)を少なくとも含有するポジ型感光性組成物からな
る記録層(感光性層)を設けてなっている。本発明の添
加剤を含有させると画像部の画像強度が向上し、非画像
部との差を大きくすることができる。つまり、本発明の
添加剤は画像を形成する結着樹脂の非画像部の溶解性と
画像部の非溶解性を良好にするものである。
の樹脂であるとアルカリ現像により容易に画像形成でき
る点で好ましく、結着剤がフェノール樹脂であると本発
明の添加剤により容易に不溶化される点で好ましく、結
着剤がアクリル樹脂であると皮膜性が良く耐久性のある
画像が得られる点で好ましく、また結着剤がポリウレタ
ン樹脂であると画像強度の強い耐久性のある画像が得ら
れる点で好ましい。本発明において、赤外光もしくは近
赤外光を吸収し熱を発生する物質として染料を用いると
均一な皮膜が得られる点で好ましく、赤外光もしくは近
赤外光を吸収し熱を発生する物質として顔料を用いると
熱を発生する効率が高い点で好ましく、また、赤外光も
しくは近赤外光を吸収し熱を発生する物質としてカーボ
ンブラックを用いると熱発生効率が高く安価な点で好ま
しい。本発明において、熱分解性でありかつ分解しない
状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質と
してオニウム塩を用いると結着剤不溶化効率が高い点で
好ましく、また、ジアゾニウム塩を用いると結着剤不溶
化効率が高く、化合物の安全性が高い点で好ましく、更
にまた、キノンジアジド化合物を用いると結着剤不溶化
効率が高く、熱分解後に結着剤の溶解を助ける効果が高
い点で好ましい。本発明において、支持体としてポリエ
ステルフィルムを用いると安価であり、画像記録材料の
生産性に優れる点で好ましく、また、支持体としてアル
ミ板を用いると画像記録材料の耐久性が高く、寸度安定
性に優れる点で好ましい。
に一応溶解するポリマーであり、印刷インクに対する親
和性を有するものが好ましい。また、光を吸収し熱を発
生する物質は、レーザー光を吸収し熱を発生し、その熱
により、熱分解性且つ分解しない状態では結着剤の溶解
性を実質的に低下させる物質を分解し画像を形成させる
ものが好ましい。また、熱分解性且つ分解しない状態で
は結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質は、露光部
では熱分解し結着剤の溶解を助け、非露光部では結着剤
の溶解性を下げ耐久性を上げるものが好ましい。
解性を実質的に低下させる物質を添加することについて
の明確な記載はなく、特に本発明で好ましく用いられる
アルカリ可溶性のフェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂等の結着剤を実質的に不溶化させる添加物
をそこから類推するのは困難であった。本発明者らは鋭
意研究を進めた結果、熱分解性でありかつ分解しない状
態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質とし
て種々のオニウム塩、キノンジアジド化合物類等が、結
着剤の溶解性を低下させることに優れており、好適に用
いられることを見いだし、本発明に到達した。
としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウ
ム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム
塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。本発明にお
いて用いられるオニウム塩として、好適なものとして
は、例えば S. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng.,
18, 387(1974) 、T. S. Bal et al, Polymer, 21, 423
(1980) 、特開平5−158230号公報に記載のジア
ゾニウム塩、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056
号、同 Re 27,992号、特願平3-140140号の明細書に記載
のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolecul
es,17, 2468(1984)、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Con
f. Rad. Curing ASIA, p478Tokyo, Oct (1988)、米国特
許第4,069,055 号、同4,069,056 号に記載のホスホニウ
ム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10(6),
1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (198
8)、欧州特許第104,143 号、米国特許第339,049 号、同
第410,201 号、特開平2-150848号、特開平2-296514号に
記載のヨードニウム塩、J. V. Crivello et al, Polyme
r J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivelloet al. J. Org. C
hem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、J. V.
Crivello et al, Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、
J. V. Crivello et al, Macromorecules, 14(5) ,1141
(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polymer Sci., Pol
ymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州特許第370,69
3 号, 同3,902,114 号、同233,567 号、同297,443 号、
同297,442 号、米国特許第4,933,377 号、同161,811
号、同410,201 号、同339,049 号、同4,760,013 号、同
4,734,444 号、同2,833,827 号、独国特許第2,904,626
号、同3,604,580 号、同3,604,581 号に記載のスルホニ
ウム塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、J. V. Crivello etal, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979) に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf.
Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo,Oct (1988)に記載のア
ルソニウム塩等があげられる。
ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開
平5−158230号公報記載のものがあげられる。好
適なキノンジアジド類としてはo−キノンジアジド化合
物を挙げることができる。本発明に用いられるo−キノ
ンジアジド化合物は、少なくとも1個のo−キノンジア
ジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性
を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることが
できる。つまり、o−キノンジアジドは熱分解により結
着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キノンジアジド自
身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果
により感材系の溶解性を助ける。本発明に用いられるo
−キノンジアジド化合物としては、例えば、J.コーサ
ー著「ライト−センシティブ・システムズ」(John Wil
ey & Sons. Inc.)第339〜352頁に記載の化合物が
使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物
あるいは芳香族アミノ化合物と反応させたo−キノンジ
アジドのスルホン酸エステルまたはスルホン酸アミドが
好適である。また、特公昭43−28403 号公報に記載され
ているようなベンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライドまたはナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−5−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセ
トン樹脂とのエステル、米国特許第3,046,120 号および
同第3,188,210 号に記載されているベンゾキノン−
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライドまたはナフ
トキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロ
ライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステ
ルも好適に使用される。
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特
開昭48−63802 号、特開昭48−63803 号、特開昭48−96
575 号、特開昭49−38701 号、特開昭48−13354 号、特
公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481
号、米国特許第2,797,213 号、同第3,454,400 号、同
第3,544,323 号、同第3,573,917 号、同第3,674,495
号、同第3,785,825 号、英国特許第1,227,602 号、同第
1,251,345 号、同第1,267,005 号、同第1,329,888 号、
同第1,330,932 号、ドイツ特許第854,890 号などの各明
細書中に記載されているものをあげることができる。本
発明で使用されるo−キノンジアジド化合物の添加量は
好ましくは感光性組成物全固形分に対し、1〜50重量
%、更に好ましくは5〜30重量%、特に好ましくは1
0〜30重量%の範囲である。これらの化合物は単一で
使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。o
−キノンジアジド化合物の添加量が、1重量%未満だと
画像の記録性が悪化し、また、50重量%を越えると画
像部の耐久性が劣化したり感度が低下したりする。
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。o−キノンジアジド化合物以外の本発明の添加
剤の添加量は、好ましくは1〜50重量%、更に好まし
くは5〜30重量%、特に好ましくは10〜30重量%
である。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させ
ることが好ましい。
物質としては種々の顔料もしくは染料を用いる事ができ
る。顔料としては、市販の顔料およびカラーインデック
ス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術
協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CM
C出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等)
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)およ
び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)
に記載されている。
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、10μmを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭59−202829号、特開昭
60−78787号等に記載されているシアニン染料、
特開昭58−173696号、特開昭58−18169
0号、特開昭58−194595号等に記載されている
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭58−112792号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載
のシアニン染料等を挙げることができる。
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物は特に好ましく用いられる。
て米国特許第4,756,993号明細書中に式
(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、感
光性組成物全固形分に対し0.01〜50重量%、好ま
しくは0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは
0.5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは3.1
〜10重量%の割合で感光性組成物中に添加することが
できる。顔料もしくは染料の添加量が0.01重量%未
満であると感度が低くなり、また50重量%を越えると
感光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。
これらの染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加
してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。別
の層とする場合、本発明の熱分解性でありかつ分解しな
い状態では該結着剤の溶解性を実質的に低下させる物質
を含む層に隣接する層へ添加するのが望ましい。また、
染料もしくは顔料と結着樹脂は同一の層が好ましいが、
別の層でも構わない。
かつアルカリ水可溶性の樹脂が好ましい。この性質を有
する種々の樹脂を使用することができるが、好ましい樹
脂としては下記ノボラック樹脂を挙げることができる。
例えばフェノールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾー
ルホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m−
/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノー
ル/クレゾール(m−,p−,o−またはm−/p−,
m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよい)混合ホ
ルムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド
樹脂などが挙げられる。その他レゾール型のフェノール
樹脂類も好適に用いられ、フェノール/クレゾール(m
−,p−,o−またはm−/p−,m−/o−,o−/
p−混合のいずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂
が、好ましく、特に特開昭61−217034号公報に記載され
ているフェノール樹脂類が好ましい。またフェノール変
性キシレン樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲ
ン化ヒドロキシスチレン、特開昭51−34711 号公報に開
示されているようなフェノール性水酸基を含有するアク
リル系樹脂、特開平2−866 号に記載のスルホンアミド
基を有するアクリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂等、種
々のアルカリ可溶性の高分子化合物も用いることができ
る。スルホンアミド基を有するアクリル系樹脂が特に好
ましい。ウレタン系の樹脂としては、特開昭63−12
4047号、同63−261350号、同63−287
942号、同63−287943号、同63−2879
44号、同63−287946号、同63−28794
7号、同63−287948号、同63−287949
号、特開平1−134354号、同1−255854号
の各公報に開示されているものが好ましく用いられる。
これらのアルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子
量が500〜200,000で数平均分子量が200〜
60,000のものが好ましい。かかるアルカリ可溶性
の高分子化合物は1種類あるいは2種類以上を組み合わ
せて使用してもよく、全感光性組成物固形分中、5〜9
9重量%、好ましくは10〜90重量%、特に好ましく
は20〜80重量%の添加量で用いられる。アルカリ可
溶性の高分子化合物の添加量が5重量%未満であると記
録層の耐久性が悪化し、また、99重量%を越えると感
度、耐久性の両面で好ましくない。
に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ばオクチルフェノールホルムアルデヒド樹脂の様な炭素
数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノール
とホルムアルデヒドの縮合物を併用することは、画像の
感脂性を向上させる上で好ましい。又更に感度を向上さ
せる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類
を併用することもできる。環状酸無水物としては米国特
許第4,115,128 号明細書に記載されている無水フタル
酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸、3,6−エンドオキシ−Δ4 −テトラヒドロ無水
フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン
酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン
酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用でき
る。フェノール類としては、ビスフェノールA、p−ニ
トロフェノール、p−エトキシフェノール、2,4,
4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニル
メタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−
3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタン
などが挙げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60
−88942 号、特開平2−96755 号公報などに記載されて
いる、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸
類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、
ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,
4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、
ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが
挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類および
有機酸類の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜2
0重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載さ
れているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044
号公報、特開平4−13149 号公報に記載されているよう
な両性界面活性剤を添加することができる。非イオン界
面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレー
ト、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレ
ート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレ
ンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤
の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N
−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業
(株)製)等が挙げられる。上記非イオン界面活性剤お
よび両性界面活性剤の感光性組成物中に占める割合は、
0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜
5重量%である。本発明における感光性組成物中には、
露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤
や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができ
る。焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を
放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染
料の組合せを代表として挙げることができる。具体的に
は、特開昭50−36209 号、同53−8128号の各公報に記載
されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸
ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−
36223 号、同54−74728 号、同60−3626号、同61−1437
48号、同61−151644号および同63−58440 号の各公報に
記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染
料の組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチ
ル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン
系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な
焼き出し画像を与える。
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、感光性組成物全固形分に対し、0.01〜10
重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合で感光性組成
物中に添加することができる。更に本発明の感光性組成
物中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために
可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエ
チレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエ
チル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル
酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフル
フリル、アクリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマー
およびポリマー等が用いられる。
を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布することによ
り製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メト
キシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテー
ト、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチル
アセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン等
をあげることができるがこれに限定されるものではな
い。 これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の濃度
は、好ましくは1〜50重量%である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量(固形分)は、用途によ
って異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に0.
5〜5.0g/m2 が好ましい。塗布する方法としては、
種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコー
ター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、デ
ィップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール
塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつ
れて、見かけの感度は大になるが、感光膜の皮膜特性は
低下する。本発明における感光性層中には、塗布性を良
化するための界面活性剤、例えば特開昭62−170950号公
報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加す
ることができる。好ましい添加量は、全感光性組成物の
0.01〜1重量%さらに好ましくは0.05〜0.5重量%
である。
的に安定な板状物であり、例えば、紙、プラスチック
(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミ
ニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属が
ラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチ
ックフィルム等が含まれる。本発明の支持体としては、
ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、
その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミ
ニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純
アルミニウム板およびアルミニウムを主成分とし、微量
の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミ
ネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよ
い。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々10重量%以下である。本発明において特
に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完
全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難である
ので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このよう
に本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特
定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアル
ミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用
いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm
程度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好ましくは0.
2mm〜0.3mmである。
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭54−63902 号に開示されてい
るように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理および中和処理された後、
所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極
酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に
用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する
種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン
酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解時間1
0秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は1.0g/m2 より少ないと耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウ
ム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使
用される親水化処理としては、米国特許第2,714,066
号、同第3,181,461 号、第3,280,734 号および第3,902,
734 号に開示されているようなアルカリ金属シリケート
(例えばケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処
理されるかまたは電解処理される。他に特公昭36−2206
3 号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムお
よび米国特許第3,276,868 号、同第4,153,461 号、同第
4,689,272 号に開示されているようなポリビニルホスホ
ン酸で処理する方法などが用いられる。
型の感光性組成物を設けたものであるが、必要に応じて
その間に下塗層を、感光性組成物層の上にマット層を設
けることができる。下塗層成分としては種々の有機化合
物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、
デキストリン、アラビアガム、2−アミノエチルホスホ
ン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有
してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、
アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジ
ホスホン酸およびエチレンジホスホン酸などの有機ホス
ホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチ
ルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの
有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン
酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およ
びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリ
シンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタ
ノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミ
ンの塩酸塩等から選ばれるが、2種以上混合して用いて
もよい。
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々
の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度
は0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%で
あり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50
℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒
〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の範囲に調
整することもできる。また、画像記録材料の調子再現性
改良のために黄色染料を添加することもできる。有機下
塗層の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当であり、好
ましくは5〜100mg/m2 である。上記の被覆量が2
mg/m2 よりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。
また、200mg/m2 より大きくても同様である。
面には、擦り傷や接着故障等を防ぐためにマット層を設
けることができる。具体的には特開昭50−125805号、特
公昭57−6582号、同61−28986 号の各公報に記載されて
いるようなマット層を設ける方法、特公昭62−62337 号
公報に記載されているような固体粉末を熱融着させる方
法などが挙げられる。本発明に用いられるマット層の平
均径は100μm以下が好ましく、より好ましい範囲と
しては2〜8μmである。平均径が大きくなると、細線
が付き難く、ハイライトドットも点減りし、調子再現上
好ましくない。平均径が2μm以下では擦り傷等の点で
好ましくない。マット層の塗布量は5〜200mg/m2
が好ましく、更に好ましくは20〜150mg/m2 であ
る。塗布量がこの範囲より大きいと擦り傷の原因とな
り、これよりも小さいと接着故障の点で好ましくない。
上記のようにして作成されたポジ型画像記録材料は、通
常、像露光、現像処理を施される。像露光に用いられる
活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボ
ンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、X線、
イオンビーム、遠赤外線などがある。またg線、i線、
Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レーザービー
ム)も使用される。レーザービームとしてはヘリウム・
ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザ
ー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrFエキシマレ
ーザー等が挙げられる。本発明においては、近赤外から
赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。
液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機ア
ルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もし
くは2種以上を組み合わせて用いられる。これらのアル
カリ剤の中で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水溶液である。その理
由はケイ酸塩の成分である酸化珪素SiO2 とアルカリ金
属酸化物 M2Oの比率と濃度によって現像性の調節が可能
となるためであり、例えば、特開昭54−62004 号公報、
特公昭57−7427号に記載されているようなアルカリ金属
ケイ酸塩が有効に用いられる。
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には現像性の促
進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イン
キ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有
機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、ア
ニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活性
剤があげられる。更に現像液および補充液には必要に応
じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水
素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元
剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加える
こともできる。上記現像液および補充液を用いて現像処
理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリン
ス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後
処理される。本発明の画像記録材料を印刷版として使用
する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み合
わせて用いることができる。
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。本発
明の画像記録材料を感光性平版印刷版として使用する場
合について説明する。画像露光し、現像し、水洗及び/
又はリンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版
に不必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッ
ジ跡など)がある場合には、その不必要な画像部の消去
が行なわれる。このような消去は、例えば特公平 2−13
293 号公報に記載されているような消去液を不必要画像
部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗す
ることにより行なう方法が好ましいが、特開平59−1748
42号公報に記載されているようなオプティカルファイバ
ーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現
像する方法も利用できる。
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−
2518号、同55−28062 号、特開昭62−31859 号、同61−
159655号の各公報に記載されているような整面液で処理
することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸
み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布
するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して
塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用さ
れる。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキー
ジローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好
ましい結果を与える。整面液の塗布量は一般に0.03〜
0.8g/m2 (乾燥重量)が適当である。整面液が塗布
された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニ
ングプロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)よ
り販売されているバーニングプロセッサー:BP−13
00)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて
適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処
理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有
する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆ
る不感脂化処理を省略することができる。この様な処理
によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にか
けられ、多数枚の印刷に用いられる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 (カーボンブラック分散液) カーボンブラック 1 重量部 ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 1.6重量部 (モル比72:28、平均分子量7万) シクロヘキサノン 1.6重量部 メトキシプロピルアセテート 3.8重量部
より10分間分散しカーボンブラック分散液を得た。厚
さ0.30mmのアルミニウム板(材質1050)をト
リクロロエチレン洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシ
と400メッシュのパミストン−水懸濁液を用いその表
面を砂目立てし、よく水で洗浄した。この板を45℃の
25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチ
ングを行い水洗後、更に2%HNO3に20秒間浸漬し
て水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約
3g/m2 であった。次にこの板を7%H2 SO4 を電
解液として電流密度15A/dm2 で3g/m2 の直流
陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥した。次にこのアル
ミニウム板に下記下塗り液を塗布し、80℃,30秒乾
燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2 であった。
℃で2分間乾燥してポジ型感光性平版印刷版を得た。乾
燥後の重量は2.0g/m2 であった。
力2Wに調節したYAGレーザで露光した後、富士写真
フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8)、リンス
液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機を通して処
理した。次いで富士写真フイルム(株)製ガムGU−7
(1:1)で版面を処理し、1日放置後、ハイデルKO
R−D機で印刷した。画像部の画像強度が上がり、非画
像部の現像性が上がった結果、地汚れのない良好な印刷
物が得られた。
5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂
とのエステル化物、及びナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−4−スルホニルクロリドを除いた他は同様にしてポ
ジ型感光性平版印刷版を作成した。実施例1と同様の露
光、現像処理を施したところ画像部と非画像部の濃度差
の少ない弱々しい画像しか得られなかった。これを用い
て実施例1と同様の印刷を行ったところ、地汚れのある
印刷物しか得られなかった。
400メッシュのパミストンの水懸濁液を用いその表面
を砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナ
トリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした
後、流水で水洗後20%HNO3 で中和洗浄、水洗し
た。これをVA =12.7Vの条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/d
m2 の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表
面粗さを測定したところ、0.6μ(Ra表示)であっ
た。ひきつづいて30%のH2 SO4 水溶液中に浸漬し
55℃で2分間デスマットした後、20%H2 SO4 水
溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g
/m2 になるように陽極酸化した。
極酸化されたアルミニウム板上に塗布し、100℃で2
分間乾燥して感光性平版印刷版を作成した。このときの
塗布量は乾燥重量で2.5g/m2 であった。
力2Wに調節したYAGレーザで露光し、DP−4(商
品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶液で
25℃において60秒間浸漬現像した。得られた平版印
刷版を用いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機で市販
のインキにて上質紙に印刷した。画像部の耐久性が上が
った結果、最終印刷枚数は65,000枚であり耐刷性
に優れたものであった。
5−スルホニルクロリドとピロガロール−アセトン樹脂
とのエステル化物を除いた他は同様にしてポジ型感光性
平版印刷版を作成した。実施例2と同様の露光、現像処
理を施したところ画像部と非画像部の濃度差の少ない弱
々しい画像しか得られなかった。これを用いて実施例2
と同様の印刷を行ったところ、地汚れのある印刷物がわ
ずかしか得られなかった。
に下記感光液を塗布し、100℃で2分間乾燥して感光
性平版印刷版を作成した。このときの塗布量は乾燥重量
で2.5g/m2 であった。
力2Wに調節したYAGレーザで露光し、DP−4(商
品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶液で
25℃において60秒間浸漬現像した。得られた平版印
刷版を用いてハイデルベルグ社製KOR型印刷機で市販
のインキ及びUVインキを用いて上質紙に印刷した。最
終印刷枚数を調べたところ、画像部の耐久性が良好にな
った結果、通常インキ使用時の印刷枚数60,000
枚、UVインキ使用時の印刷枚数30,000枚と非常
に優れた耐刷性をしめした。
板を、平均粒径約21μのパミストンと水の懸濁液をア
ルミニウム表面に供給しながら、回転ナイロンブラシに
より、ブラシグレイニング処理した後よく水で洗浄し
た。10%水酸化ナトリウム水溶液に50℃で10秒間
浸漬してエッチングした後、流水で水洗後20%HNO
3 で中和洗浄、水洗した。これを電圧12.7Vの条件
下で正弦波の交番波形電流を用いて1%HNO3 水溶液
中で160クーロン/dm2 の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.
6μ(Ra表示)であった。引き続いて30%のH2 S
O4 水溶液中に浸漬し、55℃で2分間デスマットした
後、20%H2 SO4 水溶液中、電流密度2A/dm 2
において酸化皮膜の厚さが2.7g/m2 になるように
陽極酸化し、基板を調整した。このように処理された基
板の表面に下記組成の下塗り液を塗布し、80℃,30
秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は30mg/m2 であっ
た。
℃で2分間乾燥をしてポジ型感光性平版印刷版を得た。
乾燥後の重量は1.5g/m2 であった。
昭61−28986号公報実施例1に記載の方法に基づ
いて、(メチルメタクリレート/エチルアクリレート/
アクリル酸ソーダ=68/20/12)の共重合体水溶
液を静電スプレーすることによりマット層を設けた。得
られたポジ型感光性平版印刷版を版面出力2Wに調節し
たYAGレーザで露光し、DP−4(商品名:富士写真
フイルム(株)製)の8倍希釈水溶液で25℃において
60秒間浸漬現像した。次に富士写真フイルム(株)製
バーニング整面液BC−3で版面をふいた後、富士写真
フイルム(株)製バーニング装置BP−1300で26
0℃で7分間加熱処理した。版が冷えた後、富士写真フ
イルム(株)製ガムGU−7を水で2倍に希釈した液で
版面を処理した。この平版印刷版を1日放置後、印刷機
ハイデルベルグKOR−Dにかけて印刷したところ、画
像部の耐久性が上がった結果、印刷濃度の高い良好な印
刷物が得られた。
記染料を用い、実施例3と同様の操作によりポジ型感光
性平版印刷版を得た。 染料 2,6−ジ−t−ブチル−4−{5−(2,6−ジ− 0.01422 g t−ブチル−4H−チオピラン−4−イリデン)− ペンタ−1,3−ジエニル}チオピリリウム テトラフルオロボレート (米国特許第4,283,475号明細書記載の化合
物)
レーザ(波長825nm,ビーム径:1/e2 =11.
9μ)を用い、線速度8m/secで版面出力110m
Wに調節し、露光した。次に実施例3と同様の現像処理
を行ったところ、線幅10μの細線が形成できた。次
に、ビーム径を6μ(1/e2 )に調整し同様にして4
000dpiの書き込み解像度にて200lpiの網点
画像を露光後、同様の処理を行い網点画像を形成した。
得られた平版印刷版を用いてハイデルベルグ社製KOR
型印刷機で市販のインキ及びUVインキを用いて上質紙
に印刷したところ、画像部の耐久性が良好になった結
果、実施例3と同様な優れた耐刷性が得られた。
400メッシュのパミストン−水懸濁を用いその表面を
砂目立てした後、よく水で洗浄して基板〔I〕を用意し
た。基板〔I〕を10%水酸化ナトリウムに70℃で2
0秒間浸漬してエッチングした後流水で水洗後、20%
HNO3 で中和洗浄、水洗し、12.7Vの条件下で正
弦波の交番波形電流を用いて0.7%硝酸水溶液中で4
00クーロン/dm2 の電気量で電解粗面化処理を行
い、水洗して基板〔II〕を用意した。この基板〔II〕を
10%水酸化ナトリウム水溶液中で表面の溶解量が0.
9g/m2 になるように処理した。水洗後、20%硝酸
溶液中で中和、洗浄してデスマットを行った後、18%
硫酸水溶液中で、酸化皮膜量が3g/m2 になるように
陽極酸化した。次に下記感光液を調製し、上記の陽極酸
化されたアルミニウム板上に塗布し、100℃で2分間
乾燥して感光性平版印刷版を作成した。この時の塗布量
は乾燥重量で2.3g/m2 であった。
力2Wに調整したYAGレーザで露光し、DP−4(商
品名:富士写真フイルム(株)製)の8倍希釈水溶液で
25℃において60秒間浸漬現像した。得られた平版印
刷版の消去スピードをPR−1(富士写真フイルム
(株)製消去液)を用いて測定したところ、10秒と効
率的なものであった。また、画像部の耐久性が良好にな
った結果、耐刷力はUVインキ使用時45,000枚、
油性インキ使用時90,000枚と優れたものであっ
た。またこの平版印刷版はUVインキ用洗浄液耐性に優
れ、画像部と非画像部の現像性の差が拡大できた結果、
活性度の落ちた疲労現像液での処理性にも優れたもので
あった。
をそのまま利用できる、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版可能な記録性及び耐刷性の良い画像記
録材料を提供することができる。
Claims (8)
- 【請求項1】 アルカリ可溶性結着剤と赤外光又は近赤
外光を吸収し熱を発生する物質を含むポジ型画像記録材
料を近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源で露光し
アルカリ水溶液で現像する方法において、上記ポジ型画
像記録材料にさらに該アルカリ可溶性結着剤のアルカリ
溶解性を実質的に低下させる物質を添加することによ
り、上記ポジ型画像記録材料の非露光部における画像部
の画像強度を向上させる方法。 - 【請求項2】 アルカリ可溶性結着剤として、スルホン
アミド基を有するアクリル系樹脂を含有する請求項1記
載の方法。 - 【請求項3】 アルカリ可溶性結着剤として、アルカリ
可溶性の高分子化合物を2種以上組み合わせて使用する
請求項1記載の方法。 - 【請求項4】 ポジ型画像形成材料が更に環状酸無水物
類を含有する請求項1記載の方法。 - 【請求項5】 ポジ型画像形成材料が更にフッ素系界面
活性剤を含有する請求項1記載の方法。 - 【請求項6】 ポジ型画像形成材料がその表面にマット
層を有する請求項1記載の方法。 - 【請求項7】 請求項1記載のポジ型画像記録材料を請
求項1記載の現像をした後、更にバーニング処理するポ
ジ型画像記録方法。 - 【請求項8】 結着剤と、光を吸収し熱を発生する物質
と、熱分解性でありかつ分解しない状態では該結着剤の
溶解性を実質的に低下させる物質を含むことを特徴とす
るポジ型画像記録材料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07888894A JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 画像記録材料 |
US08/739,064 US5840467A (en) | 1994-04-18 | 1996-10-28 | Image recording materials |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07888894A JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 画像記録材料 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002095510A Division JP3712198B2 (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | 画像記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07285275A JPH07285275A (ja) | 1995-10-31 |
JP3461377B2 true JP3461377B2 (ja) | 2003-10-27 |
Family
ID=13674356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07888894A Expired - Lifetime JP3461377B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 画像記録材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5840467A (ja) |
JP (1) | JP3461377B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7492483B2 (en) | 2004-03-05 | 2009-02-17 | Fujifilm Corporation | Threshold matrix, a method of generating the same, and a method of assigning the same |
US7511856B2 (en) | 2004-03-05 | 2009-03-31 | Fujifilm Corporation | Threshold matrix, storage unit for storing threshold matrix as data, and raster image processor incorporating storage unit |
US7619778B2 (en) | 2005-01-25 | 2009-11-17 | Fujifilm Corporation | Method of generating a threshold matrix for producing a color separation, the matrix having a varied intensity distribution, method of reproducing a color image using the threshold matrix, apparatus for producing the color separation, and the threshold matrix |
Families Citing this family (83)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3017079B2 (ja) * | 1996-02-23 | 2000-03-06 | 東洋鋼鈑株式会社 | 熱可塑性樹脂被覆アルミニウム合金板、その製造法及び製造装置 |
DE69700397T2 (de) | 1996-04-23 | 2000-04-13 | Kodak Polychrome Graphics Co. Ltd., Norwalk | Vorläufer einer lithographischen druckform und ihre verwendung bei der bebilderung durch wärme |
JP3814961B2 (ja) * | 1996-08-06 | 2006-08-30 | 三菱化学株式会社 | ポジ型感光性印刷版 |
US5858626A (en) | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
US6117610A (en) * | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
US6060222A (en) * | 1996-11-19 | 2000-05-09 | Kodak Polcyhrome Graphics Llc | 1Postitve-working imaging composition and element and method of forming positive image with a laser |
EP0864420B2 (en) * | 1997-03-11 | 2005-11-16 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive imaging element for making positive working printing plates |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
WO1999001796A2 (en) * | 1997-07-05 | 1999-01-14 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Pattern-forming methods |
DE19729067A1 (de) * | 1997-07-08 | 1999-01-14 | Agfa Gevaert Ag | Infrarot-bebilderbares Aufzeichnungsmaterial und daraus hergestellte Offsetdruckplatte |
JP3779444B2 (ja) * | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
EP0901902A3 (en) * | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive photosensitive composition for use with an infrared laser |
EP0908308A1 (en) * | 1997-10-06 | 1999-04-14 | Bayer Corporation | Positive working radiation sensitive compositions containing a large proportion of carbon black which are laser imageable |
US6060218A (en) * | 1997-10-08 | 2000-05-09 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
US6235451B1 (en) * | 1997-10-08 | 2001-05-22 | Agfa-Gevaert | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
US6083663A (en) * | 1997-10-08 | 2000-07-04 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
US6132929A (en) * | 1997-10-08 | 2000-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive type photosensitive composition for infrared lasers |
US6251563B1 (en) * | 1997-10-08 | 2001-06-26 | Agfa-Gevaert, N.V. | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive image element |
EP1449655A1 (en) * | 1997-10-17 | 2004-08-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | A positive type photosensitive image-forming material for an infrared laser and a positive type photosensitive composition for an infrared laser |
US6248503B1 (en) * | 1997-11-07 | 2001-06-19 | Agfa-Gevaert | Method for making positive working printing plates from a heat mode sensitive imaging element |
JP3810538B2 (ja) | 1997-11-28 | 2006-08-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型画像形成材料 |
US6528237B1 (en) * | 1997-12-09 | 2003-03-04 | Agfa-Gevaert | Heat sensitive non-ablatable wasteless imaging element for providing a lithographic printing plate with a difference in dye density between the image and non image areas |
US6399279B1 (en) | 1998-01-16 | 2002-06-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for forming a positive image |
US6511782B1 (en) * | 1998-01-23 | 2003-01-28 | Agfa-Gevaert | Heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith |
EP0934822B1 (en) | 1998-02-04 | 2005-05-04 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive composition, positive photosensitive lithographic printing plate and method for forming a positive image |
US6342336B2 (en) * | 1998-03-06 | 2002-01-29 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
US6447977B2 (en) * | 1998-04-15 | 2002-09-10 | Agfa-Gevaert | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
US6152036A (en) * | 1998-05-28 | 2000-11-28 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates |
JP3635203B2 (ja) | 1998-10-06 | 2005-04-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用原版 |
JP2000275828A (ja) | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
JP4417528B2 (ja) * | 1999-05-24 | 2010-02-17 | コダックグラフィックコミュニケーションズ株式会社 | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
EP1093934B1 (en) | 1999-10-19 | 2004-02-11 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and planographic printing plate using the same |
KR100422971B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2004-03-12 | 삼성전자주식회사 | 나프톨 구조를 가진 이온형 광산발생제 및 이를 이용한감광성 폴리이미드 조성물 |
US6884561B2 (en) | 2000-01-12 | 2005-04-26 | Anocoil Corporation | Actinically imageable and infrared heated printing plate |
US6468712B1 (en) | 2000-02-25 | 2002-10-22 | Massachusetts Institute Of Technology | Resist materials for 157-nm lithography |
TW588220B (en) * | 2000-04-04 | 2004-05-21 | Daikin Ind Ltd | Novel fluorine-containing polymer having group reactive with acid and chemically amplifying type photo resist composition prepared by using same |
JP4615673B2 (ja) * | 2000-05-16 | 2011-01-19 | コダック株式会社 | ポジ型感光性組成物及びポジ型感光性平版印刷版 |
JP2002055446A (ja) * | 2000-08-11 | 2002-02-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
US6511790B2 (en) | 2000-08-25 | 2003-01-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Alkaline liquid developer for lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
JP3917422B2 (ja) | 2001-07-26 | 2007-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
US7033725B2 (en) | 2001-11-30 | 2006-04-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Infrared-sensitive photosensitive composition |
ATE393020T1 (de) | 2002-02-08 | 2008-05-15 | Fujifilm Corp | Lithographischer druckplattenvorläufer |
JP2003241399A (ja) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
JP2003315987A (ja) | 2002-02-21 | 2003-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法 |
AU2003209895A1 (en) * | 2002-03-15 | 2003-09-29 | Creo Inc. | Sensitivity enhancement of radiation-sensitive elements |
US20050003296A1 (en) * | 2002-03-15 | 2005-01-06 | Memetea Livia T. | Development enhancement of radiation-sensitive elements |
DE60314794T2 (de) | 2002-03-20 | 2008-04-10 | Fujifilm Corp. | IR-photoempfindliche Zusammensetzung |
JP2003345014A (ja) * | 2002-05-28 | 2003-12-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP4171254B2 (ja) | 2002-07-12 | 2008-10-22 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物 |
US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
JP4049258B2 (ja) | 2002-12-27 | 2008-02-20 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線感光性平版印刷版 |
EP1433594B1 (en) | 2002-12-27 | 2008-04-09 | FUJIFILM Corporation | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
JP4163964B2 (ja) | 2003-01-07 | 2008-10-08 | 岡本化学工業株式会社 | 画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版 |
JP2004219261A (ja) | 2003-01-15 | 2004-08-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜の解析方法 |
US7160667B2 (en) | 2003-01-24 | 2007-01-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
WO2004074935A1 (en) * | 2003-02-13 | 2004-09-02 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Micropatterning of molecular surfaces via selective irradiation |
JP2004271985A (ja) | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 |
CN100389956C (zh) * | 2003-03-14 | 2008-05-28 | 柯达图像通信加拿大公司 | 辐射敏感组合物、可成像元件、阳性作用型光刻印刷前体及其制备方法 |
DE602004021525D1 (de) | 2003-03-26 | 2009-07-30 | Fujifilm Corp | Flachdruckverfahren und vorsensibilisierte Platte |
JP2005067006A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の製版方法、平版印刷方法および平版印刷原版 |
JP4644458B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
WO2005060668A2 (en) * | 2003-12-18 | 2005-07-07 | The Trustees Of Columbia University In The City Ofnew York | Methods of modifying surfaces |
JP2005252888A (ja) | 2004-03-05 | 2005-09-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 閾値マトリクスの作成方法及びその閾値マトリクス並びにカラー画像の再現方法 |
JP4391285B2 (ja) * | 2004-03-26 | 2009-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
US7279263B2 (en) * | 2004-06-24 | 2007-10-09 | Kodak Graphic Communications Canada Company | Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements |
JP4404734B2 (ja) | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2007055224A (ja) | 2005-01-26 | 2007-03-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体 |
JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4404792B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP2006293162A (ja) | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
WO2008047539A1 (fr) * | 2006-10-17 | 2008-04-24 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Matériau de plaque d'impression lithographique photosensible positive et procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique |
US20080274424A1 (en) * | 2007-05-05 | 2008-11-06 | Yisong Yu | Positive photosensitive element comprising vinyl polymers |
US20080286694A1 (en) * | 2007-05-15 | 2008-11-20 | Yisong Yu | Method to obtain a positive-working thermal lithographic printing master |
JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP4994175B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版、及びそれに用いる共重合体の製造方法 |
JP2009132974A (ja) | 2007-11-30 | 2009-06-18 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
CN101762982B (zh) | 2008-12-24 | 2013-03-13 | 成都新图新材料股份有限公司 | 一种红外阳图热敏平版印刷版 |
US8298750B2 (en) | 2009-09-08 | 2012-10-30 | Eastman Kodak Company | Positive-working radiation-sensitive imageable elements |
EP2555054B1 (en) | 2010-03-31 | 2018-06-20 | FUJIFILM Corporation | Method for manufacturing a lithographic printing plate and printing method |
EP3754428B1 (en) | 2018-03-29 | 2024-04-17 | FUJIFILM Corporation | Development processing device for planographic printing plate manufacture, and manufacturing method of planographic printing plate |
EP4082791B1 (en) | 2019-12-27 | 2024-10-16 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing method |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6049301B2 (ja) * | 1977-12-06 | 1985-11-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成方法 |
JPS5560944A (en) * | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
US4299906A (en) * | 1979-06-01 | 1981-11-10 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive color proofing film with surfactant in a light-sensitive coating |
JPS569740A (en) * | 1979-07-05 | 1981-01-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | Image forming method |
US4504566A (en) * | 1982-11-01 | 1985-03-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers |
JP2571115B2 (ja) * | 1989-01-17 | 1997-01-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物 |
JP2871710B2 (ja) * | 1989-03-17 | 1999-03-17 | 株式会社きもと | 画像形成方法 |
DE4426820A1 (de) * | 1993-07-29 | 1995-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bilderzeugungsmaterial und Bilderzeugungsverfahren |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP07888894A patent/JP3461377B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-10-28 US US08/739,064 patent/US5840467A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7492483B2 (en) | 2004-03-05 | 2009-02-17 | Fujifilm Corporation | Threshold matrix, a method of generating the same, and a method of assigning the same |
US7511856B2 (en) | 2004-03-05 | 2009-03-31 | Fujifilm Corporation | Threshold matrix, storage unit for storing threshold matrix as data, and raster image processor incorporating storage unit |
US7619778B2 (en) | 2005-01-25 | 2009-11-17 | Fujifilm Corporation | Method of generating a threshold matrix for producing a color separation, the matrix having a varied intensity distribution, method of reproducing a color image using the threshold matrix, apparatus for producing the color separation, and the threshold matrix |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5840467A (en) | 1998-11-24 |
JPH07285275A (ja) | 1995-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3461377B2 (ja) | 画像記録材料 | |
JP3779444B2 (ja) | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 | |
JP2000187318A (ja) | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 | |
JP4369570B2 (ja) | 平版印刷版の品質管理方法 | |
JP2001350261A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2002229186A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2006084592A (ja) | 感光性組成物 | |
JP3842446B2 (ja) | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 | |
JP4335399B2 (ja) | 平版印刷版の品質管理方法 | |
JP2002303983A (ja) | ポジ型画像形成材料 | |
JP4238152B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP3712198B2 (ja) | 画像記録材料 | |
JP2005215651A (ja) | 平版印刷版の作製方法 | |
JPH11216962A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
JP2003330176A (ja) | 赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版原版及びそれを用いた平版印刷版の作成方法 | |
JP2004061947A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP4315535B2 (ja) | 平版印刷版の品質管理方法 | |
JP4328172B2 (ja) | 感光性組成物およびそれを用いたポジ型平版印刷版原版の製造方法 | |
JP2002062660A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2002062663A (ja) | 平版印刷版の品質管理方法 | |
JP2002323755A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2003122025A (ja) | ポジ型感光性平版印刷版の作製方法 | |
JPH11119418A (ja) | 赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物 | |
JP2000025352A (ja) | ポジ型平版印刷用原版 | |
JP2006091767A (ja) | 平版印刷版原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070815 Year of fee payment: 4 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070815 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080815 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090815 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090815 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815 Year of fee payment: 10 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |