DE4003070A1 - Verfahren zum aufloeten eines halbleiterkoerpers auf einen traegerkoerper - Google Patents
Verfahren zum aufloeten eines halbleiterkoerpers auf einen traegerkoerperInfo
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Description
In der Halbleitertechnik werden bekanntlich Halbleiter
körper von Halbleiterbauelementen wie z. B. Transisto
ren oder Dioden auf einen Trägerkörper aufgelötet. Da
bei kommt es darauf an, daß der Halbleiterkörper lun
kerfrei auf den Trägerkörper aufgelötet wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
zum Auflöten eines Halbleiterkörpers auf einen Träger
körper anzugeben, welches ein lunkerfreies Auflöten des
Halbleiterkörpers auf den Trägerkörper gewährleistet.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkma
len des Anspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung wird im folgenden an einem Ausführungs
beispiel erläutert.
Das Ausführungsbeispiel befaßt sich mit dem Auflöten
des Halbleiterkörpers eines Transistors auf eine Trä
gerplatte, die bei einem Transistor auch als Kollektor
platte bezeichnet wird, weil der Halbleiterkörper eines
Transistors den Leitungstyp der Kollektorzone hat und
deshalb auch als Kollektorkörper bezeichnet wird. Die
ser Kollektorkörper wird auf die Kollektorplatte auf
gelötet, die im allgemeinen als Kollektoranschluß ver
wendet wird. Die Basiszone und die Emitterzone werden
auf der der Kollektorplatte gegenüberliegenden Oberflä
chenseite in den Kollektorkörper eingebracht.
Gemäß der Erfindung wird der Halbleiterkörper 1 des
Transistors vor dem Auflöten auf einen Trägerkörper
(Kollektorplatte) nach der Fig. 1 vorbelotet. Das Vor
beloten des Halbleiterkörpers 1 erfolgt gemäß der Fig.
1 auf derjenigen Oberflächenseite, mit der der
Halbleiterkörper 1 auf den Trägerkörper aufgelötet
wird. Diese Oberflächenseite weist in der Fig. 1 nach
oben. Das Vorbeloten des Halbleiterkörpers 1 erfolgt
nach der Fig. 1 dadurch, daß ein Lot 2 in reduzieren
der Atmosphäre auf den Halbleiterkörper 1 aufgeschmol
zen wird. Die Temperatur wird beim Vorbeloten so ge
wählt, daß das Lot 2 nicht zerfließt, sondern gemäß der
Fig. 1 eine Kuppe bildet. Beim Aufschmelzen muß eine
Ronde gebildet werden und somit kein Band, sonst bildet
sich keine gleichmäßige Kuppe aus. Das lunkerfreie Lö
ten ist deshalb erforderlich, damit zwischen dem Halb
leiterkörper und dem Trägerkörper ein möglichst guter
elektrischer Kontakt erzielt wird, und außerdem soll
z. B. bei Leistungstransistoren eine gute Wärmeleitung
vom Halbleiterkörper zum Trägerkörper erfolgen. Auch
dafür ist eine lunkerfreie Lötung erforderlich.
Während die Fig. 1 den vorbeloteten Halbleiterkörper 1
mit der Lotkuppe 2 im Querschnitt zeigt, zeigt die Fig.
2 den vorbeloteten Halbleiterkörper 1 in der Drauf
sicht.
Nach dem Vorbeloten gemäß den Fig. 1 und 2 wird der
vorbelotete Halbleiterkörper 1 gemäß der Fig. 3 auf
den Trägerkörper 3 aufgelötet. Beim Auflöten des vorbe
loteten Halbleiterkörpers 1 zeigt die Lotkuppe 2 gemäß
der Fig. 3 nach unten, d. h. der vorbelotete Halblei
terkörper 1 wird mit seiner vorbeloteten Seite, die bei
der Fig. 3 nach unten weist, auf die Kollektorplatte 3
aufgelegt und mit der Kollektorplatte 3 verlötet. We
sentlich ist, daß beim Auflöten des vorbeloteten Halb
leiterkörpers 1 auf den Trägerkörper 3 sich der Träger
körper 3 unter dem vorbeloteten Halbleiterkörper 1 be
findet, und nicht umgekehrt.
Die Kollektorplatte 3 besteht beispielsweise aus Kup
fer. Sie wird so vorbehandelt, daß eine gute Benetzung
gewährleistet ist. Um dies zu erreichen, wird die Kol
lektorplatte rauhgebeizt und beispielsweise mattver
nickelt. Dies geschieht am besten stromlos.
Wie bereits zum Ausdruck gebracht, muß der Trägerkörper
beim Verlöten mit dem vorbeloteten Halbleiterkörper un
ten liegen. Erfolgt die Lötung umgekehrt, so entstehen
Lunker. Der Schmelzvorgang beim Löten beginnt am
höchsten Punkt der Lotkuppe und verdrängt somit das
beim Löten vorherrschende Gas nach außen. Dadurch wird
die Entstehung von Lunkern vermieden.
Im Ausführungsbeispiel wird beispielsweise eine
Blei-/Zinnlegierung (z. B. Pb/Sn 60/40) verwendet. Das
Löten erfolgt beispielsweise in einem Durchlaufofen.
Claims (6)
1. Verfahren zum Auflöten eines Halbleiterkörpers auf
einen Trägerkörper, dadurch gekennzeichnet, daß dieje
nige Oberflächenseite des Halbleiterkörpers, mit der
der Halbleiterkörper auf den Trägerkörper aufgelötet
wird, vor dem Auflöten des Halbleiterkörpers vorbelotet
wird, daß die Temperatur beim Vorbeloten so gewählt
wird, daß das auf den Halbleiterkörper aufgebrachte Lot
nicht zerfließt, sondern eine Kuppe bildet, und daß der
Halbleiterkörper mit der Kuppe nach unten auf den unter
dem Halbleiterkörper befindlichen Trägerkörper aufgelö
tet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Vorbeloten und/oder das Auflöten in reduzieren
der Atmosphäre erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Auflöten des Halbleiterkörpers auf
den Trägerkörper in reduzierender Atmosphäre erfolgt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Trägerkörper aus Kupfer be
steht.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß das Lot aus einer Blei-/Zinn-Legie
rung besteht.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der Trägerkörper auf der dem Halb
leiterkörper zugewandten Seite rauhgebeizt und ver
nickelt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904003070 DE4003070A1 (de) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Verfahren zum aufloeten eines halbleiterkoerpers auf einen traegerkoerper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19904003070 DE4003070A1 (de) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Verfahren zum aufloeten eines halbleiterkoerpers auf einen traegerkoerper |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4003070A1 true DE4003070A1 (de) | 1991-08-08 |
Family
ID=6399275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19904003070 Ceased DE4003070A1 (de) | 1990-02-02 | 1990-02-02 | Verfahren zum aufloeten eines halbleiterkoerpers auf einen traegerkoerper |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4003070A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10304469A1 (de) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | FNE Forschungsinstitut für Nichteisen-Metalle Freiberg GmbH | Weichlotlegierungszusammensetzung, Weichlotlegierung, Verwendung einer Weichlotlegierungszusammensetzung und Verfahren zum Herstellen einer Weichlotlegierung |
DE102013105079A1 (de) * | 2013-05-17 | 2014-12-18 | Koki Technik Transmission Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Schaltwelle |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD125559A1 (de) * | 1976-04-08 | 1977-05-04 | ||
DE3042085C2 (de) * | 1979-11-12 | 1984-09-13 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Halbleiteranordnung |
DE3442538A1 (de) * | 1983-12-21 | 1985-07-04 | BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau | Verfahren zum loeten von halbleiterbauelementen |
DE3406542A1 (de) * | 1984-02-23 | 1985-08-29 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Verfahren zum herstellen eines halbleiterbauelementes |
DE3412742C1 (de) * | 1984-04-05 | 1985-10-10 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren und Vorrichtung zur Vorbereitung von Metallflaechen fuer thermische Fuegeverfahren |
DE3513530A1 (de) * | 1984-06-01 | 1985-12-05 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung von leistungshalbleitermodulen mit isoliertem aufbau |
DD240347A1 (de) * | 1985-08-19 | 1986-10-29 | Pentacon Dresden Veb | Verfahren zum verbinden flexibler gedruckter verdrahtungsstrukturen |
DD246263A1 (de) * | 1986-01-20 | 1987-06-03 | Inst Fuer Nachrichtentechnik | Verfahren zum herstellen von metallhuegeln an anschlussflaechen |
-
1990
- 1990-02-02 DE DE19904003070 patent/DE4003070A1/de not_active Ceased
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD125559A1 (de) * | 1976-04-08 | 1977-05-04 | ||
DE3042085C2 (de) * | 1979-11-12 | 1984-09-13 | Hitachi, Ltd., Tokio/Tokyo | Halbleiteranordnung |
DE3442538A1 (de) * | 1983-12-21 | 1985-07-04 | BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau | Verfahren zum loeten von halbleiterbauelementen |
DE3406542A1 (de) * | 1984-02-23 | 1985-08-29 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Verfahren zum herstellen eines halbleiterbauelementes |
DE3412742C1 (de) * | 1984-04-05 | 1985-10-10 | Kernforschungsanlage Jülich GmbH, 5170 Jülich | Verfahren und Vorrichtung zur Vorbereitung von Metallflaechen fuer thermische Fuegeverfahren |
DE3513530A1 (de) * | 1984-06-01 | 1985-12-05 | Bbc Brown Boveri & Cie | Verfahren zur herstellung von leistungshalbleitermodulen mit isoliertem aufbau |
DD240347A1 (de) * | 1985-08-19 | 1986-10-29 | Pentacon Dresden Veb | Verfahren zum verbinden flexibler gedruckter verdrahtungsstrukturen |
DD246263A1 (de) * | 1986-01-20 | 1987-06-03 | Inst Fuer Nachrichtentechnik | Verfahren zum herstellen von metallhuegeln an anschlussflaechen |
Non-Patent Citations (6)
Title |
---|
- CHASE, E.N. * |
- Reflow Solder Joint with Extended Height. In: IBM Technical Disclosure Bulletin, Vol. 28, No. 7, Dec. 1985, S. 2871 * |
- TAN, K.S. * |
BOSE, D.: Rapidly Solidified Solder Foil for Die Attachment Application. In: Solid State Technology, April 1986, S. 165-168 * |
Dry Soldering Process using Halogenated Gas. In: IBM Technical Disclosure Bulletin, Vol. 27, No. 11, April 1985, S. 6513 * |
MASCH, K.G.: Semiconductor Solder reflow Chip Substrate Joining. In: IBM Techni- cal Disclosure Bulletin, Vol. 16, No. 8, Jan. 1974, S. 2675 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10304469A1 (de) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | FNE Forschungsinstitut für Nichteisen-Metalle Freiberg GmbH | Weichlotlegierungszusammensetzung, Weichlotlegierung, Verwendung einer Weichlotlegierungszusammensetzung und Verfahren zum Herstellen einer Weichlotlegierung |
DE102013105079A1 (de) * | 2013-05-17 | 2014-12-18 | Koki Technik Transmission Systems Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Schaltwelle |
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