DE2344244C3 - Laterale Transistorstruktur - Google Patents
Laterale TransistorstrukturInfo
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- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 8
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 8
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000036039 immunity Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- HCUOEKSZWPGJIM-YBRHCDHNSA-N (e,2e)-2-hydroxyimino-6-methoxy-4-methyl-5-nitrohex-3-enamide Chemical compound COCC([N+]([O-])=O)\C(C)=C\C(=N/O)\C(N)=O HCUOEKSZWPGJIM-YBRHCDHNSA-N 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/02—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components
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- H03K19/082—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using bipolar transistors
- H03K19/091—Integrated injection logic or merged transistor logic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/73—Bipolar junction transistors
- H01L29/735—Lateral transistors
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- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K23/00—Pulse counters comprising counting chains; Frequency dividers comprising counting chains
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- Bipolar Integrated Circuits (AREA)
- Bipolar Transistors (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft eine laterale Transistorstruktur nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Aus den Aufsätzen von Berger und Wiedmann »Merged-Transistor Logic — A Low-Cost Bipolar
Logic Concept« und von Hart und Slob »integrated Injection Logic — A New Approach to LSI« in den
Zeitschriften »IEEE Journal of Solid-State Circuits«,
Vol. SC-7, Nr. 5 (Oktober 1972), Seite 340 bis 346, und
»IEEE International Solid State Circuits Conference« 1972, Digest of Technical Papers, Seite 90 bis 93, die
einander von ihrem technischen Inhalt her entsprechen, sind bereits laterale Transistorstrukturen bekannt, die
jeweils eine Stromquelle darstellen, aber nur einen einzigen Kollektor enthalten, der den Ausgangskollektor
der lateralen Transistorstruktur bildet. Ein zwischen der Emitterzone und dem Ausgangskollektor angeordneter Steuerkollektor, der zur Steuerung des Durchflusses
der von der Emitterzone her injizierten, zum Ausgangskollektor fließenden Ladungsträger dient, ist nicht vorhanden.
Aus der US-PS 35 79 059 und aus der US-PS 10 269 sind ferner laterale Transistorstrukturen be
Iu
15
20
iO
kannt, die in einem als Basisgebiet dienenden Halbleitersubstrat jeweils eine einzige Emitterzone und mehrere
Kollektorzonen enthalten. Diese Kollektoren dienen aber alle als Ausgangskollektoren. Ein durch ein unabhängiges
Steuersignal ansteuerbarer Steuerkollektor, der zur Steuerung des Durchflusses der von der Emitterzone
her injizierten, zu den Ausgangskollektoren fließenden Ladungsträger dient, ist auch bei den Anordnungen
nach diesen beiden Patentschriften nicht vorhanden.
Aus der Zeitschrift »IBM Technical Disclosure Bulletin,
Vol. 13, No. 6 (November 1970), ist eine bipolare Speicherzelle mit niedriger Leistungsaufnahme bekannt,
bei der aber nicht zu erkennen ist, ob sie in einer lateralen Struktur aufgebaut ist.
Aus der DE-AS 11 08 333 ist ferner eine Transistorstruktur bekannt, bei der auf der einen Seite eines HaIbleiterplättchens die Emitterzone und auf der anderen Seite des Halbleiterplättchens eine Hauptkollektorzone und eine die Hauptkollektorzone ringförmig umgebende Hilfskollektorzone angebracht ist. Die Transistorstruktur ist demnach insgesamt nicht ?-'s laterale, sondern als vertikale Struktur aufzufassen. Deshalb kann der Hilfskollektor auch nicht zur Steuerung des Durchflusses der vom Emitter her injizierten, zum Hauptkollektor fließenden Landungsträger dienen.
Aus der DE-AS 11 08 333 ist ferner eine Transistorstruktur bekannt, bei der auf der einen Seite eines HaIbleiterplättchens die Emitterzone und auf der anderen Seite des Halbleiterplättchens eine Hauptkollektorzone und eine die Hauptkollektorzone ringförmig umgebende Hilfskollektorzone angebracht ist. Die Transistorstruktur ist demnach insgesamt nicht ?-'s laterale, sondern als vertikale Struktur aufzufassen. Deshalb kann der Hilfskollektor auch nicht zur Steuerung des Durchflusses der vom Emitter her injizierten, zum Hauptkollektor fließenden Landungsträger dienen.
Eine laterale Transistorstruktur nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs ί ist aus der DE-OS
20 27 127 bekannt. Bei dieser Transistorstruktur bildet die als Ausgangskollektor dienende Kollektorzone
einen ringförmigen Bereich, der die Emitterzone vollständig umschließt. Zwischen diesen beiden konzentrisch
zueinander angeordneten Zonen ist der Steuerkollektor angeordnet, der ebenfalls einen zusammenhängenden,
ringförmigen Bereich bildet und die Emit- j= terzone vollständig umschließt. Bei einer lateralen
Transistorstrüktur mit einer derartigen Anordnung und Ausbildung des Steuerkollektors läßt sich zwar der
Durchfluß der von der Emitterzone her injizierten, zum Ausgangskc'Iektor fließenden Ladungsträger steuern,
wenn an den Steuerkollektor entsprechende Steuerpotentiale gelegt werden. Bei einer solchen Transistorstruktur
läßt sich aber als einzige logische Funktion nur eine Inversion erreichen, falls der vom Ausgangskollektor
gelieferte Strom mit Hilfe eines an diesen angeschlosseneil Umkelirtransistors investiert wird.
Der Erfindung liegt demgegenüber die Aufgabe zugrunde, eine laterale Transistorstruktur nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs I anzugeben, die es ermöglicht, logische Verknüpfungen zwischen mindestens
zwei Eingangssignalen zu bilden.
Erfindurt^sgemäß ist diese Aufgabe durch die kennzeichnenden
Merkmale des Patentanspruchs 1 gelöst. Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den
Unteransprüchen.
Der besondere Vorteil der erfindungsgemäßen lateralen Transistorstruktur besteht darin, daß durch geeignet
angeordnete Geometrien der Teilkollektoren des Steuerkollektors der Injektionsstrom des Emitters,
den dieser auf den Ausgangskollektor hin injiziert, geschaltet werden kann.
Aus der DE-AS 10 63 279 ist zwar bereits eine laterale,
in Mesatechnik ausgeführte Transistorstruktur bekannt, bei der auf eine die gemeinsame Basiszone
bildende Halbleiterplatte jeweils in gleichem Abstand zu dem zentral gelegenen Basisanschluß mehrere hökkerförmig
ausgebildete rimitterbereiche und mehrere ebenfalls höckerförmig ausgebildete Kollektoren auf-
50
55
60 gesetzt sind, wobei diese Kollektoren die logischen
Ausgänge der Anordnung bilden und jeweils in sich noch einen zusätzlichen, parallel zur Oberfläche der
Halbleiterplatte verlaufenden pn-übergang enthalten und wobei die Anschlüsse dieser Ausgangskollektoren
je einzeln gegenüber der Basiszone definiert vorgespannt werden können, so daß bei Erhöhung des durch
die Emitterbereiche in die Basiszone injizierten Stroms immer einer der Ausgangskollektoren vom nichtleitenden
in den leitenden Zustand geschaltet wird und bei Erniedrigung umgekehrt, wobei das Zurückschalten mit
einer gewissen Hysterese erfolgt. Bei dieser Anordnung ist im Gegensatz zur erfindungsgemäßen lateralen
Transistorstruktur zwischen die Emitterbereiche und die Ausgangskollektoren kein in mehrere Teilkollektoren
unterteilter Steuerkollektor geschaltet. Die logischen Funktionen werden dort vielmehr dadurch erzielt,
daß mehrere Ausgangskollektorcn vorhanden sind und daß an diese Ausgangskollektoren verschiedene
Vorspannungen gelegt werdp···:.
An Hand der Zeichnung wird die Erfindung näher
erläutert und die Anwendung am Beispiel eines statischen Frequenzteilers gezeigt
Es zeigt
Fig 1 eine Draufsicht auf eine schaltbare Stromquelle
mit einem nicht unterteilten Steuerkoilektor, F i g. 2 einen Schnitt nach der Linie H-II der F i g. 1,
F i g. 3 einen Schnitt nach der Linie III-III der F i g. lt
Fig.4 die Ersatzschaltung der Anordnung nach den Fig. Ibis 3,
Fig.5 das vorgeschlagene Schaltungssymbol für die
Anordnung nach den F i g. 1 bis 3,
F i g. 6a die Struktur eines Inverters in der Draufsicht, Fig.6b die Struktur eines NOR-Gatters in der
Draufsicht,
Fig.6c die Struktur eines NAND-Gatters in der
Draufsicht,
F i g. 7a das vorgeschlagene Schaltungsrymbc i für die
Inverter-Struktur nach F i g. 6a,
F i g. 7b das vorgeschlagene Schaltungssymbol für die NOR-Gatter-Struktur nach F i g. 6b,
F i g. 7c das vorgeschlagene Schaltungssymbol für die NAND-Gatter-Struktur nach F i g. 6c,
Fig.8a die Schaltung für den Inverter nach Fig.6a
und 7a,
F i g. 8b die Schaltung für das NOR-Gatter nach den F i g. 6b und 7b,
F i g. 8c die Schaltung für das NAND-Gatter nach den F i g. 6c und 7c,
F i g. 9a eine Schaltungsanordnung zur Veranschaulichung der unerwünschten Injektion,
F i g. 9b eine Schaltungsanordnung, bei der die uner¥'ünschte Injektion vermieden ist,
Fi g. 10 eine Schaltung zur Eingangsentkopplung und zur Vergrößerung des fan-out,
Fig. 11a eine Draufsicht auf eine Anordnung zur
Realisierung gemischter Gatterfunktionen,
F i g. 1 Ib die vorgeschlagene symbolische schaltungsmäßige
Darstellung der Anordnung nach F i g. 11 a,
Fig. lic die schaltungsmäßige Darstellung der Anordnung nach F i g. I la mit üblichen Gattersymbolen,
Fig. 12a ein ÄS-Flip-Flop in der Ddrstellung mit
üblichen Gattersymbolen,
Fig. 12b das als Stromquellenlogik ausgestaltete ÄS-Flip-FIop nach Fig. lia in symbolischer Darstellung,
Fig. 12c die Flankenfolge der Kollektorpotentiale beim Rücksetzen des als Strnmniipllpnlncril· nnccrohiMo.
ten MS- Flip- Flops,
Fig. 13a die Schaltung einer statischen Frequenzteilerzelle mit üblichen Gattersymbolen,
Fig. 13b die Schaltung der statischen Frequenzteilerzelle
nach Fig. 13a in Stromquellenlogik,
Fig. 14 das lay-out einer in Stromquellenlogik ausgebildeten Frequenzteilerdoppelzelle.
In den Fig. 1 bis 3 ict als Beispiel einer lateralen
Transistorstruktur nach dem Oberbegriff des Anspruchs
I eine schaltbare Stromquelle dargestellt. Der Trägerkristall
wird von dem Substrat 10 aus p-leitendem Silizium gebildet. In das Substrat 10 ist eine Leitschicht
II eindiffundiert, die eine hochdotierte η-leitende Zone,
eine sogenannte η+ -Zone, bildet. Oberhalb des mit der Leitschicht 11 versehenen Substrats 10 ist eine
Epitaxialschicht 12 aus η-leitendem Silizium vorgesehen. Beim Aufwachsen dieser Schicht ist ein Teil der
Störstellen der Leitschicht 11 in die Epitaxialschicht 12
hineindiliundiert, so daö die Leitschicht i i sich teilweise
in die Epitaxialschicht 12 hinein erstreckt. In die aufgewachsene Epitaxialschicht 12 ist eine p-leitende
Isolierungsdiffusionszone 13 so tief eindiffundiert, daß sie mit dem p-leitenden Substrat 10 einen zusammenhängenden,
wannenförmigen p-leitenden Bereich 13, 10 bildet, der von der Epitaxialschicht 12 eine Epitaxie-Insel
14 abtrennt. In die als Basiszone dienende Epitaxie-Insel 14 sind eine n + -leitende Basiskontaktierungsdiffusionszone
B und vier als parallele Streifen ausgebildete p-leitende Zonen C, E, d, G>
eindiffundiert. Der Emitter Estellt dabei mit den Kollektoren d und C
einen üblichen lateralen Doppel-Kollektor-pnp-Transistor
dar. Der Kollektor G> ist stromlos, wenn der
Kollektor Ci negativ gegen den Emitter £ vorgespannt
ist. Läßt man den Kollektor Ci jedoch offen, so geht dieser Kollektor in Sättigung, nimmt also nahezu
Emitterpotential an. Somit entspricht die Löcherdichte am Übergang Kollektorzone C1-Basiszone 14 etwa
dem Wert am Emitter-Basis-Übergang, so daß die der Kollektorzone Q zugewandte Kante der Kollektorzone
Ci ebenfalls als Emitter wirkt und in Richtung C0
weiterinjiziert.
Bei nicht vorgespanntem Kollektor Ci wirkt also der Emitter £ mit dem Kollektor Co nach außen als
normaler pnp-Transistor, wobei wegen der insgesamt größeren Basisweite und der parasitären Injektion des
Kollektors Ci bei unveränderter Basis-Emitter-Spannung am Kollektor C0 weniger Strom geliefert wird als
vorher am Kollektor C\.
Wird der Kollektor Ci negativ vorgespannt, so saugt
er alle von der rechten Etnitterkante injizierten Ladungsträger au/. In diesem Fall mißt man am
vorgespannten Kollektor Co einen Strom, der nur geringfügig größer als der Reststrom Ic^bo ist
Mit solchen Transistoren lassen sich Stromquellen realisieren, die durch Ein- und Ausschalten des Stromes
am Kollektor Ci oder Anlegen entsprechender Spannung
an diesen Kollektor schaltbar sind Am Kollektor C kann bei Verbinden mit der Basis B der Referenzstrom
eingeprägt werden.
Fig.4 zeigt die Ersatzschaltung und Fig.5 das
Schaltungssymbol der in F i g. 1 bis 3 dargestellten
schaltbaren Stromquelle.
Die in F i g. 1 bis 5 dargestellte Struktur E, G, C0 kann
durch Anbringen weiterer p-leitender Zonen zwischen
dem Emitter E und dem Ausgangskollektor Co und/oder
durch Unterteilen der Kollektorzone Ci modifiziert werden.
Die Fig.6b und 6c zeigen zwei einfache Beispiele dieser Art, während Fig.6a nochmals die Anordnung
der F i g. 1 bis 5 unter Weglassung des Kollektors C zeigt.
Gemäß F i g. 6b ist dabei zwischen dem Ausgangskol-'
lektor Co und dem Steuerkollektor G ein zweiter als p-leitende Zone ausgebildeter Steuerkollektor C2
angeordnet. Die beiden Steuerkollektoren G und C2
sind dabei als Streifen ausgebildet und hintereinander so angeordnet, daß sie jeweils unabhängig voneinander
ι« durch negative Vorspannung gegen den Emitter Ein der
Lage sind, den Ausgangskollektor Co gegen vom Emitter Einjizierte Ladungsträger abzuschirmen.
Bei der Anordnung nach Fig.6c sind zwischen dem
Emitter E und dem Ausgangskollektor Co zwei
1' Steuerkollektoren G und C2 derart angeordnet, daß die
Abschirmung des Ausgangskollektors Co gegen vom Emitter E injizierte Ladungsträger nur dann erreicht
wird, wenn beide Steuerkollektoren G und Ci zugleich
gegen ucii Emitter E pegs!;·» vcrgcspsrint sind. Dies
■'" entspricht einer Aufteilung der Kollektorzone G aus
F i g. 6a in zwei Teilbereiche G und Ci. Die Lücke zwischen diesen Teilbereichen läßt bei 10 μπι Breite
keine Ladungsträger mehr durch.
Wenn man als logische Größen Ströme einführt und
-'> die logischen Zustände definiert als:
I z- Strom
0 = kein Strom,
hat man mit den Strukturen von Fig.6b und 6c NOR-1(1
und NAND-Funktionen realisiert, und die Struktur in F i g. 6a ist als Inverter anzusehen.
Zum Aufbau einer Logik !nuß aber noch die
Bedingung erfüllt sein, daß der Ausgang eines Gatters zum Ansteuern der Eingänge anderer Gatter geeignet
r> ist. Man muß also die Stromrichtung der Ausgangsströme
noch umkehren und die logischen Pegel nun genauer definieren:
1 i Stromfluß,
an Eingängen: aus der Klemme heraus,
an Ausgängen: in die Klemme hinein,
0 = kein Strom.
0 = kein Strom.
Zum Invertieren des Stromes der Ausgangskollektoren Co wird jedem Ausgang ein npn-Umkehrtransistor
Tu nachgeschaltet, und man erhält so die in F i g. 8a bis 8c
gezeigten Grundgatter der Stromquellenlogik. Der npn-Umkehrtransistor regeneriert außerdem den am
Ausgangskollektor Co ankommenden Strom, denn es wurde schon erwähnt, daß hier stets weniger Strom
fließt, als an den Eingängen G und C2 gezogen werden
muß.
Werden vom Ausgang eines Gatters mehrere Gattereingänge gesteuert, so kann, wie in Fig.9a
gezeigt, unerwünschte Injektion auftreten, und zwar
immer dann, wenn Gattereingangskollektoren miteinander
verbunden sind, von denen mindestens einer nicht unmittelbar neben einem Emitter liegt
Es werde in Fig.9a der Betriebszustand betrachtet,
bei dem der npn-Transistor gesperrt und der Kollektor
M' G vorgespannt ist Da es sich um NOR-Gates handelt
darf dann am Ausgangskollektor Qn kein Strom ankommen. Hier ist jedoch C3 mit dem Eingang eines
anderen NOR-Gates (C2) verbunden. C2 liegt unmittelbar
neben einem Emitter, und somit werden C2 und C3
<-■'- mit Injektionsstrom versorgt,und es erhält also auch der
Ausgang Qa unerwünschterweise Strom.
Diese unerwünschte Injektion kann durch Vorschalten einer Entkopplungsdiode De vor den Eingang C3
unterdrückt werden (s. F i g. 9b).
Nun kann man die Entkoppeldioden noch durch Vertikal-npn-Transistoren ersetzen und sie in eine
Isolationsinsel mit dem npn-Transistor der vorangehenden Stufe legen. Die sich so ergebende Ausgangsschal-
tung eines Gatters zeigt Fig. 10. Man kann natürlich alle Gattereingänge über Vertikal-pnp's ansteuern (der
Inselanschluß der npn-pnp-Struktur wird dann nicht benötigt), was wegen der dann größeren Stromverstärkung der npn-pnp-Struktur (gegenüber npn-Transistor
allein) zu einem erheblich größeren fan-out führt.
Wie aus den F i g. 6b und 6c zu erkennen ist, lassen sich in dieser Logik NAND- und NOR-Funktionen mit
gleichem Aufwand realisieren. Noch größer wird die Flächennutzung, wenn gemischte Gatterfunktionen
verlangt werden. Welche komplizierten Ausdrücke dabei möglich sind, zeigen die Fig. 11a bis lic. Man
sieht, daß für alle logischen Funktionen, die auf einen Ausgang wirken, nur ein npn-Transistor Tu gebraucht
wird.
wobei die Zahl der Eingänge an den OR- und AN D-Gattern (s. F i g. 11 c) noch erhöht werden kann.
Wie viele Eingänge möglich sind (fan-in), hängt zum einen von dem verlangten fan-out ab und zum anderen
von der Geometrie. Durch Aufspalten der dem Emitter benachbarten Kollektorreihe in immer mehr AND-Eingänge und durch Einfügen weiterer OR-Kollektoren
wird der für das fan-out wichtige minimale Ausgangsstrom im Zustand k = 1 immer kleiner.
Für ein fan-out von 1 z. B. muß der kleinste im Zustand /0 =■ 1 vorkommende Ausgangsstrom noch in
der Lage sein, den größten Eingangsstrom der nächsten J5
Stufe zu ziehen.
Das fan-out der Geometrie in Fig. 11a liegt für θπρπ ·= 20 bei 1 und für Bn^n = 100 bei 5 als worst case
ffinpn - Stromverstärkung des Ausgangs-npn-Transistors). Wenn, wie oben besprochen, über Vertikal-pnp's
ausgekoppelt wird, werden diese Werte um die pnp-Stromverstärkung größer.
Die Fig. 12a und 12b zeigen, wie aus zwei NOR-Gates ein ÄS-Flip-Flop geschaltet wird. Zum
Setzen bzw. Rücksetzen muß an den Eingang R bzw. S eine 1 angelegt werden.
Es sei angenommen, Transistor 7Ί leitet, d. h. es ist
Q = 1. Dann kann bei Vorspannen des Kollektors C2 (C3
offen), d. h. Abziehen seines Stromquellenstromes, der
Transistor Ti nicht mehr mit Basisstrom versorgt so werden. Das Kollektorpotential von 71 steigt langsam
an, und erst wenn dieses bis auf wenige Millivolt auf die Versorgungsspannung angestiegen ist, also G gesättigt
hat, tritt nach Verstreichen einer kurzen Verzögerungszeit r, die zum Aufbau der Ladungsträger in der Basis ss
von Ta benötigt wird, an Transistor 7} Basisstrom auf.
Das Koilektorpotential von 7} fällt langsam ab.
In Fig. 12c sind die Potentialverläufe dargestellt.
Anstiegs- und Abfallzeiten liegen im μβ-ΒβΓείαι, bedingt
durch die Auf- und Abbauzeiten der Ladungsträger im Basisgebiet der pnp-Strukturen.
Den Aufbau einer statischen Frequenzteilerzelle, He
nach dem Master-Slave-Prinzip arbeitet, zeigt Fig. I3a mit Gattersymbolen. Es werden zwei /?S-Flip-Flops
benötigt, vor deren Eingänge AND-Gates geschaltet sind. Hierzu braucht man nur bei der Schaltung nach
Fig. 12b die Eingangskollektoren Ci und C3 in je zwei
Eingangskollektoren zu zerteilen. So ergibt sich die Schaltung nach Fig. 13b, wenn, wie hier erforderlich,
noch Entkoppel-pnp's hinzugefügt werden.
Die Transistoren T4, T6, Tn und Ti5 sind nicht
unbedingt erforderlich. Sie erhöhen jedoch die Belastbarkeit am Ausgang und sorgen für genügende
Stromverstärkung der npn-pnp-Kcmbinationen auch bei sehr kleinen Strömen. T9 stellt einen Referenztransistor dar.
Die Flankenfolge der Ausgangssignale entspricht derjenigen in Fig. 12c. Da somit die Ausgangssignale
einer Teilerzelle unmittelbar zum Ansteuern der nächsten Teilerzelle benutzt werden können, ist der
Aufbau einer beliebig langen Teilerkette möglich.
Das lay-out einer Frequenzdoppelteilerzelle zeigt Fig. 14. Man beachte, daß die pnp-Logik-Strukturen
beider Stufen in eine Isolationsinsel gelegt wurden und für jede Teilerstufe nur vier weitere Isolationsinseln
gebraucht werden.
Zur Vermeidung parasitärer Thyristoreffekte wurden bei den kombinierten npn-pnp-Strukturen (z. B. T1, T3
und T4) der npn-Teil und der pnp-Teil durch einen mit
der Isolation verbundenen p-Basissteg miteinander entkoppelt.
Zur Realisierung von benötigten Überkreuzungen wurden an dafür geeigneten Stellen der Schaltung
Untertunnelungen mit Emittermaterial im Isolationsgraben hergestellt.
Die Logik besitzt wegen der Benutzung lateraler pnp-Strukturen von Natur aus gute dynamische
Störsicherheit Alle Schaltzeiten liegen im U5-Bereich,
wodurch kurze dynamische Störungen unterdrückt werden. Auch die statische Störsicherheit ist groß genug
(ca.1 V bzw. t/j-IV).
Es wird wenig Chipfläche benötigt, da die Logikfunktionen hier nicht durch Einzeltransistoren, sondern
durch funktioneile Strukturen realisiert werden, die sich besonders zum Aufbau komplizierter Gatterfunktionen
eignen. Weiterhin können alle Logikelemente in eine Isolationsinsel gelegt werden. Für jeden Ausgang ist nur
noch ein weiterer npn-Transistor nötig.
Die Logik arbeitet in einem Versorgungsspannungsbereich von ca. 1 V bis t/cfütym-
Die Logik ist auf Silizium-Standard-Planartechnologie zugeschnitten. Es werden keine besonderen
Anforderungen bezüglich der Bauelemente-P'arameter gestellt
Claims (9)
1. (η einem Halbleiterkörper untergebrachte laterale Transistorstruktur, die in einem Basisgebiet s
(14) eine zur Injektion elektrischer Ladungsträger in den Halbleiterkörper dienende Emitterzone (E) und
eine zur Aufnahme der injizierten Ladungsträger dienende Kollektorzone (Q) enthält, wobei in das
Basisgebiet (14) zwischen der Emitterzone (E) und der als Ausgangskollektor diendenden Kollektorzone (Q) zur Steuerung des Durchflusses der von der
Emitterzone (E) her injizierten, zum Ausgangskollektor (Q) fließenden Ladungsträger ein Steuerkollektor (Q in den F i g. 1,2,4,6a, 7a) eingebracht ist, ι -der mit einem von den an den anderen Zonen (14; E;
Q) anliegenden Potentialen unabhängigen Steuerpotential betreibbar ist; dadurch gekennzeichnet, daß der Steuerkollektor (Q in den
Fig. 1,2, i, 6a, 7a) aus zwei oder mehreren räumlich
voneinander getrennten, und elektrisch voneinander
isolierten Teilkollektoren (beispielsweise Ci und C2
in den F i g. 6b und 7b oder in den F i g. 6c und 7c) besteht, an die als logische Hingangssignale dienende und miteinander zu verknüpfende Steuer-
Potentiale anlegbar sind.
2. Laterale Transistorstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung einer
ODER-Verknüpfung zwischen den an die Teilkollektoren (Q und C2 in den F i g. 6b und 7b) anlegbaren
Steuerpotritialen diese Teilkollektoren zueinander,
zum Emitter (E) und zum Ausgangskollektor (Co) so angeordnet sind, daü sie den von den Ladungsträgern zwischen dem Emitier (E) und dem Ausgangskollektor (Co) zurückzuleget.Jen Weg je einzeln 3S
vollständig versperren.
3. Laterale Transistorstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung einer
UND-Verknüpfung zwischen den an die Teilkollektoren (Q und Cr in den Fi g. 6c und 7c) anlegbaren ·*ο
Steuerpotentialen diese Teilkollektoren zueinander, zum Emitter (E) und zum Ausgangskollektor (Q) so
angeordnet sind, daß die Gesamtheit aller Teilkollektoren den von den Ladungsträgern zwischen dem
Emitter (E) und dem Ausgangskollektor (Co) zurückzulegenden Weg vollständig versperrt
4. Laterale Transistorstruktur nach Anspruch 1 mit einer Vielzahl räumlich voneinander getrennter
und elektrisch voneinander isolierter Teilkollektoren, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzielung von
aus UND- und aus ODER-Funktionen zusammengesetzten logischen Verknüpfungen zwischen den an
die Teilkollektoren anlegbaren Steuerpotentialen diese Vielzahl von zwischen dem Emitter (E) und
dem Ausgangskollektor (Co) angeordneten Teilkollektoren sowohl solche Teilkollektoren enthält, die
jeweils unabhängig von allen anderen Teilkollektoren in der Lage sind, durch Vorspannung gegen den
Emitter (E) von diesem injizierte Ladungsträger vom Ausgangskollektor (C0) abzuschirmen, als auch eine t>o
oder mehrere Gruppen von Teilkollektoren, die nur bei gleichzeitiger Vorspannung aller Teilkollektoren
der oder einer Gruppe gegen den Emitter (E) in der Lage sind, von diesem injizierte Ladungsträger vom
Ausgangskollektor (C0) abzuschirmen. * ">
5. Laterale Transistorstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere auf einen
einzigen Ausgangskollektor (Q) wirkende Emitter
(E in Fig. Ua) vorgesehen sind, wobei zwischen
diesen Emittern und dem gemeinsamen Ausgangskollektor (Co) jeweils ein Steuerkollektor angebracht ist, der in mehrere Teilkollektoren (1, 2, 3
bzw. 4,5,6 in F i g. Π a) unterteilt ist
6. Logische Schaltung unter Verwendung einer lateralen Transistorstruktur nach mindestens einem
der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zur Umkehrung des vom Ausgangskollekvor (C0) der
lateralen Transistorstruktur gelieferten Stromes ein npn-Umkehrtransistor (T11) vorgesehen ist dessen
Basis an den Ausgangskollektor (Q) angeschlossen ist und dessen Kollektor den Ausgang der logischen
Schaltung bildet (F i g. 8a, 8b, 8c).
7. Logische Schaltung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet daß der Kollektor des npn-Umkehrtransistors (Tu) zur Ansteuerung von Steuerkollektoren weiterer logischer Stufen dient
8. Logische Schaltung nach Anspruch 7 unter Verwendung mehrerer logischer Stufen, wobei der
Ausgang einer Stufe Steuerkollektoren von mindestens zwei nachgeschalteten, ebenfalls als logische
Gatter ausgebildeten Stufen ansteuert und wobei mindestens einer dieser Steuerelektroden nicht
unmittelbar neben dem zugehörigen Emitter liegt dadurch gekennzeichnet daß zur Entkopplung der
Eingänge deriseiden nachgeschalteten Stufen in die Zuleitung des nicht neben dem zugehörigen Emitter
liegenden Steuerkollektors der einen dieser beiden Stufen eine Diode in Flußrichtung geschaltet ist
9. Logische Schaltung nach Anspruch 7 unter Verwendung mehrerer logischer Stufen, wobei der
Ausgang einer Stufe Steuerkollektoren von nachgeschalteten, ebenfalls als logische Gatter ausgebildeten Stufen ansteuert dadurch gekennzeichnet daß
zur Vergrößerung der Stromverstärkung des Umkehrtransistors und/oder zur Entkopplung der
Eingänge der nachgeschalteten Stufen vertikale pnp-Transistoren verwendet "/erden, die mit ihren
Basen an den Kollektor des Umkehrtransistors und mit ihren Emittern an die S'teuerkollektoren der
nachgeschalteten Stufen angeschlossen sind.
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2344244A DE2344244C3 (de) | 1973-09-01 | 1973-09-01 | Laterale Transistorstruktur |
CH1087274A CH572683A5 (de) | 1973-09-01 | 1974-08-08 | |
AT0698774A AT373442B (de) | 1973-09-01 | 1974-08-29 | Laterale transistorstruktur |
IT26727/74A IT1020289B (it) | 1973-09-01 | 1974-08-29 | Circuito logico eseguito nella tecnologia in piano standardizza ta di silicio per l esecuzione di funzioni logiche |
GB37978/74A GB1488152A (en) | 1973-09-01 | 1974-08-30 | Logic circuit |
NLAANVRAGE7411559,A NL173455C (nl) | 1973-09-01 | 1974-08-30 | Samengestelde halfgeleiderschakeling voorzien van ten minste een als te schakelen stroombron dienstdoende laterale pnp-transistor die is gekoppeld met een als uitgangstransistor dienstdoende npn-omkeertransistor. |
JP49100804A JPS5818786B2 (ja) | 1973-09-01 | 1974-09-02 | 横方向トランジスタ |
FR7429854A FR2246071B1 (de) | 1973-09-01 | 1974-09-02 | |
US06/094,119 US4328509A (en) | 1973-09-01 | 1979-11-14 | Current hogging logic circuit with npn vertical reversal transistor and diode/pnp vertical transistor output |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2344244A DE2344244C3 (de) | 1973-09-01 | 1973-09-01 | Laterale Transistorstruktur |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2344244A1 DE2344244A1 (de) | 1975-03-20 |
DE2344244B2 DE2344244B2 (de) | 1978-05-11 |
DE2344244C3 true DE2344244C3 (de) | 1982-11-25 |
Family
ID=5891416
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2344244A Expired DE2344244C3 (de) | 1973-09-01 | 1973-09-01 | Laterale Transistorstruktur |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4328509A (de) |
JP (1) | JPS5818786B2 (de) |
AT (1) | AT373442B (de) |
CH (1) | CH572683A5 (de) |
DE (1) | DE2344244C3 (de) |
FR (1) | FR2246071B1 (de) |
GB (1) | GB1488152A (de) |
IT (1) | IT1020289B (de) |
NL (1) | NL173455C (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Family Cites Families (13)
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- 1973-09-01 DE DE2344244A patent/DE2344244C3/de not_active Expired
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1974
- 1974-08-08 CH CH1087274A patent/CH572683A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-08-29 AT AT0698774A patent/AT373442B/de not_active IP Right Cessation
- 1974-08-29 IT IT26727/74A patent/IT1020289B/it active
- 1974-08-30 NL NLAANVRAGE7411559,A patent/NL173455C/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-08-30 GB GB37978/74A patent/GB1488152A/en not_active Expired
- 1974-09-02 JP JP49100804A patent/JPS5818786B2/ja not_active Expired
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-
1979
- 1979-11-14 US US06/094,119 patent/US4328509A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7411559A (nl) | 1975-03-04 |
FR2246071B1 (de) | 1982-06-18 |
NL173455C (nl) | 1984-01-16 |
DE2344244A1 (de) | 1975-03-20 |
IT1020289B (it) | 1977-12-20 |
NL173455B (nl) | 1983-08-16 |
AT373442B (de) | 1984-01-25 |
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FR2246071A1 (de) | 1975-04-25 |
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JPS5056187A (de) | 1975-05-16 |
ATA698774A (de) | 1983-05-15 |
JPS5818786B2 (ja) | 1983-04-14 |
GB1488152A (en) | 1977-10-05 |
CH572683A5 (de) | 1976-02-13 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8220 | Willingness to grant licences (paragraph 23) | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |