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WO1997008141A1 - Nouveaux composes a base de sel de sulfonium, initiateur de polymerisation, composition solidifiable et procede de durcissement - Google Patents

Nouveaux composes a base de sel de sulfonium, initiateur de polymerisation, composition solidifiable et procede de durcissement Download PDF

Info

Publication number
WO1997008141A1
WO1997008141A1 PCT/JP1996/002333 JP9602333W WO9708141A1 WO 1997008141 A1 WO1997008141 A1 WO 1997008141A1 JP 9602333 W JP9602333 W JP 9602333W WO 9708141 A1 WO9708141 A1 WO 9708141A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
curable composition
sulfonium salt
compound
polymerization initiator
Prior art date
Application number
PCT/JP1996/002333
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Eiji Takahashi
Original Assignee
Nippon Soda Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Soda Co., Ltd. filed Critical Nippon Soda Co., Ltd.
Priority to EP96927862A priority Critical patent/EP0846681B1/en
Priority to DE69630959T priority patent/DE69630959T2/de
Priority to US09/011,854 priority patent/US6093753A/en
Priority to DE0846681T priority patent/DE846681T1/de
Publication of WO1997008141A1 publication Critical patent/WO1997008141A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C381/00Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
    • C07C381/12Sulfonium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/68Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used
    • C08G59/687Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the catalysts used containing sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Definitions

  • the present invention relates to a novel sulfonium salt compound, a cationic polymerization initiator containing the compound, a curable composition containing the cationic polymerization initiator, and a curing method.
  • the present invention relates to a cationically curable composition which cures from an extremely thin film to a thick film in a short time by irradiation with active energy rays such as X-rays. Since the cured product of the composition has excellent physical properties, it is suitably used as a paint, an adhesive, an ink, a photo resist, a photosensitive resin for stereolithography, and the like. Background technology:
  • JP-A-50-15997, JP-A-50-158680, JP-A-2-17830 No. 3 is known and describes that it can be used as an initiator for curing a cation polymerizable compound such as an epoxy compound by radiation such as light, an electron beam, and X-ray.
  • the sulfonium chloride described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-15997 is known as a polymerization initiator having high photoactivity, but is considered to be effective for ultraviolet curing. Although it has little absorption at wavelengths longer than 360 nm, it is effective for photo-curing a transparent composition, but a composition containing a large amount of photolithography using long-wavelength laser light, pigments, etc. Not suitable for photocuring objects.
  • sensitizers have been studied, and compounds such as phenothiazine, anthracene, and perylene have been found, but they are still insufficient and the problem has not been solved.
  • the present invention has been made in view of these circumstances, and is highly sensitive to heating or irradiation with active energy rays such as light, electron beams, and X-rays, and can be particularly sensitive to light having a wavelength longer than 360 nm.
  • a curable composition and a curing method which provide an excellent cation polymerization initiator, can cure from an extremely thin film to a thick film in a short time, and the obtained cured product has excellent cured material properties.
  • the purpose is to provide DISCLOSURE OF THE INVENTION:
  • the present invention has the general formula (I)
  • Ri and R 2 each represent a C18 alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, a C, 8 alkylcarbonyl group, an aromatic carbonyl group, an aromatic thio group or a halogen atom.
  • R 3 (iC, -. Represents an 8 alkyl group
  • R 4 is an alkyl group (provided that in the case of unsubstituted C 5 -.
  • each of the substituents may have a hydroquine group, a carbonyl group, a nitrile group, a phenyl group, an alkoxy group, a phenoxy group, an alkyleneoxy group, a halogen atom, or an indanyl group. , 2 or 3.
  • X represents a non-nucleophilic anion residue.
  • C-, 8- alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl , Butyl, isobutyl, t-butyl, del, dodecyl, etc.
  • c, -alkoxy includes methoxy, ethoxy, propyl, butoxy, hexyloxy, decyloxy, dodecyloxy.
  • Examples of the C 18 alkylcarbonyl group include an acetyloxy group, a propionyloxy group, a decylcarbonyloxy group, a dodecylcarbonyloxy group, and the like.
  • aromatic carbonyl group examples include a benzoyloxy group.
  • aromatic thio group examples include a phenylthio group.
  • halogen atom examples include fluorine, chlorine, bromine, and iodine.
  • Ci- 8 alkyl group for R 3 examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, an amyl group, and a hexyl group.
  • the present invention also includes a compound having two sulfonium salt structures represented by the general formula [I] in one molecule, for example, represented by the general formula [II] or the general formula [III]. Sulfonium salt compounds.
  • represents a cycloalkylene group, a phenylene group, an alkylene group, or an alkenylene group, and they may have a hydroxyl group, a carbonyl group, an ester, or an ether bond.
  • the sulfonium salt compound of the present invention can be produced according to the following reaction formula.
  • the reaction is carried out, if necessary, in an organic solvent such as acetonitrile, dioxane or ethanol at a temperature of from room temperature to 150 ° C, preferably from 40 ° C to 90 ° C for 1 hour to several tens of hours. .
  • an organic solvent such as acetonitrile, dioxane or ethanol
  • the precipitated compound is collected by filtration or extracted with an organic solvent to obtain the desired product.
  • the sulfonium salt compound of the present invention can cure a cationically polymerizable compound not only by heat but also by irradiation with active energy rays such as light, electron beam, and X-ray.
  • R 4 is a decyl group, a dodecyl group, a 2-phenylethyl group, a 2-phenyl Propyl group, 2-phenoxyquinethyl group, 2-phenyl-2-hydroxyxyl group, 2-phenyl-2-acetoxethyl group, 2-phenyl-2-methoxyl group, cyclohexyl group, 2-hydroxycyclohexyl group, Examples thereof include a cyclopentyl group, a 2-indanyl group, a 1-hydroxy-2-indanyl group, a 1-acenaphthenyl group, a bicyclononyl group, a norbornyl group, a coumarinyl group, and a dihydrobenzofuranyl group.
  • R 5 is C, - alkyl, C 2 - 2 4 alkenyl or C 3 - 2.
  • R 6 and R 7 represent a hydrogen atom, an 8- alkyl group, or a phenyl group.
  • R 5 and R 6 may combine to form a ring, and the ring has a hydroxy group, a carbonyl group, a nitrile group, a phenyl group, an alkoxy group, a phenoxy group, or an alkyleneoxy group as a substituent. May be.
  • R 5 and R 6 may be combined to form indanone.
  • R 6 When R 6 is not a hydrogen atom, R 5 may represent a hydroxyl group.
  • m and n represent 0, 1, 2 or 3.
  • X represents a non-nucleophilic anion residue.
  • the sulfonium salt compound represented by the formula (1) is particularly preferable because the photoreactivity is remarkably improved by combination with a sensitizer and is suitable for curing a pigment-based curable composition.
  • R s represents a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, a 3-chloro-2-hydroxypropoxy group, a 3-acetoxy group
  • 2-acetoxypropoxy, n-butoxy, 1-dodecyloxy, pheno examples thereof include a xy group, a benzyloxy group, an N-methyl-14-methoxycarbonylanilino group, a phenyl group, and an ethoxyquinoloxymethyl group.
  • non-nucleophilic anion residues of X include S b F 6 , As F 6 , PF 6 and
  • BF 4 is a preferred example.
  • X in the formula represents a non-nucleophilic anion residue such as sb F 6 , As F 6 , PF 6 or BFV.
  • the sulfonium salt compound of the present invention can be used together with a sensitizer, and when the sensitizer is used, it can be cured in an extremely short time. It is extremely effective when curing a curable composition containing a pigment such as titanium oxide.
  • the sensitizer used in the present invention refers to a compound that promotes the photoreaction of the sulfonium salt compound.
  • compounds that readily release hydrogen radicals, radical polymerization inhibitors, compounds that react with sulfonium salt compounds during the photoreaction process of sulfonium salt compounds, resulting in the release of protons, and electron donors Body and the like are examples of compounds that readily release hydrogen radicals, radical polymerization inhibitors, compounds that react with sulfonium salt compounds during the photoreaction process of sulfonium salt compounds, resulting in the release of protons, and electron donors Body and the like.
  • compounds that readily release hydrogen radicals such as thiol compounds and hydrocarbon compounds, 4-methoxyphenol, 4-benzyloxyphenol, 4-methoxy-2- (t-butyl) phenol, and hydroquinone , 4-Methoxy 1-Naphthol, 2-Phenol derivatives such as hydroxydibenzofuran, 1-Naphthol, 2-Naphthol, 1-Methoxynaphthalene, 2-Methoxynaphthalene, 1-Hydroxyquinphenane Tolene, glycidyl 1-naphthyl ether, 2- (2-naphthoxy) ethyl vinyl ether, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2, 7—Dihydroxynaphthalene, 2,7—Dimethoxynaphthalene, 1,1'-Chobis (2-naphthol), 1 -1,1
  • R 8 and R 9 represent the same or different linear or branched d to C 20 alkyl groups, and R 8 and R 9 may be bonded together;
  • Examples of the compound represented by the general formula [IV] include, for example, p-dimethylaminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzaldehyde, p-dimethylaminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid (2-n-butoxethyl), Isoamyl p-dimethylaminobenzoate, p-dimethylaminoacetophenone, p-methylaminobenzoic acid, p-ethylaminobenzaldehyde and the like can be mentioned.
  • phenothiazine anthraquinone derivatives such as 2-ethylanthraquinone, 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-jetoxyanthracene, 2,10-dialkoxyanthracene derivatives such as 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, thioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-1 Thioxanthone derivatives such as isopropylthioxanthone and 2-chlorothioxanthone; phenolic derivatives such as N-ethyl sorbazole; naphthalene having at least one hydroxyl or alkoxy group such as 1-naphthol and 2-methoxynaphthalene; Deriv
  • the following compounds can be mentioned as the cationic polymerizable compound used in the present invention.
  • epoxy compounds phenyldaricidyl ether, p-tert-butylphenylglycidyl ether, butylglycidylether, 2-ethylhexylglycidylether, arylglycidylether, 1,2-butyleneoxy 1,3-butadiene monooxide, 1,2-dodecylene oxide, epichlorohydrin, 1,2-epoxydecane, ethylene oxide, propylene oxide, styrene oxide, cyclohexa Monofunctional monomers such as xenoxide, 3-methacryloyloxymethylcyclohexenoxide, 3-acryloyloxymethylcyclohexene oxide, 3-vinylcyclohexene oxide, and 4-vinylcyclohexene oxide; 1,1,3-tetradecadiene dioxide Limonene dioxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl- (3,4-epoxycyclohexyl)
  • the sulfonium salt compound of the present invention is an alicyclic epoxy compound or a vinyl ether. Suitable for curing compounds. ⁇
  • the mixing ratio of the sulfonium salt compound represented by the general formula [I] and the cation polymerizable compound is such that the sulfonium salt compound is added to the cationic polymerizable compound in an amount of 100 parts. ⁇ 20 parts, preferably 0.1 ⁇ 10 parts. If the amount of the sulfonium salt compound is small, the curability of the cationically polymerizable compound decreases, and if it is excessive, the properties of the cured product deteriorate.
  • the mixing ratio of the sensitizer and the cationically polymerizable compound is 0.0001 to 10 parts, preferably 0.01 to 0.1 part, of the sensitizer to 100 parts of the cationically polymerizable compound. Mix in 5 parts.
  • the amount of the sensitizer is small, the photoreactivity of the sulfonium salt compound is reduced, and when the amount is excessive, the properties of the composition are deteriorated.
  • the curable composition of the present invention can be easily cured by light.
  • light with a wavelength of 500 nm or less is preferably used.
  • light sources include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, and the like.
  • a power-bon lamp or the like is used.
  • Laser light such as a semiconductor laser, an argon laser, and a He—Cd laser can also be used.
  • a pigment-containing curable composition such as titanium oxide
  • a gallium-containing metal halide lamp is preferably used.
  • the curable composition of the present invention can be easily cured by ionizing radiation such as ⁇ -ray, ray, ⁇ -ray, neutron ray, X-ray, and accelerated electron beam.
  • ionizing radiation such as ⁇ -ray, ray, ⁇ -ray, neutron ray, X-ray, and accelerated electron beam.
  • a dose range of usually 0.5 to 60 Mrad can be used, and a range of 1 to 50 Mrad is preferable.
  • the curable composition of the present invention can be easily cured by heating. Heating is used in the range of 800 ° C. to 250 ° C., preferably 100 ° C. to 200 ° C. In addition, it is also possible to cure using a combination of light, ionizing radiation and heat.
  • BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION is used in the range of 800 ° C. to 250 ° C., preferably 100 ° C. to 200 ° C.
  • Test example 1 (transparent type).
  • ERL-4221 (UCC alicyclic epoxy) was dissolved with 2,4-ethylthioxanthone (2,4-DETX) and a sulfonium salt compound as sensitizers in Arpuchi mouth lagton.
  • a formulation was prepared such that the sensitizer was 1.0 part as a pure component and the sulfonium salt compound was 2.0 parts as a pure component.
  • the composition was applied to a tin plate to a thickness of 3 and photocured under the following conditions. At this time, those in which the compound was cured and became tack-free were marked with a symbol ⁇ , those with remaining tack or those which were not cured were marked with an X in Table 2 below.
  • UV irradiation equipment belt conveyor type UV irradiation equipment
  • Lamp 2 Kw (80 w / cm) collimated high-pressure mercury lamp, distance 15 cm Conveyor speed: 10 mZ min
  • Test example 2 (pigment type) _
  • UVR-610 Alicyclic epoxy manufactured by UCC 100 parts and titanium oxide (CR-588 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 100 parts, and sulfonium salt compound 3 parts
  • sulfonium salt compound 3 parts One part of the sensitizer was dissolved and kneaded in a roll to prepare a blend. Add this composition to a tin plate
  • the sulfonium salt compound of the present invention is excellent in heat and photoactivity, and heats a cation polymerizable compound from an extremely thin film to a thick film by heating and active energy rays such as light, electron beam and X-ray. Irradiation allows curing in a short time, and combined use with a sensitizer can further improve photocurability. Further, since the composition can be cured even with light having a wavelength longer than 360 nm, the composition containing a pigment or the like also exhibits high curability. Since the cured product of the composition has excellent physical properties, it is suitably used as a paint, an adhesive, an ink, a photoresist, a photosensitive resin for stereolithography, and the like.

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Description

明 細 書 ― 新規スルホ二ゥム塩化合物、 重合開始剤、 硬化性組成物および硬化方法 ■ 技術分野:
本発明は、 新規スルホ二ゥム塩化合物、 該化合物を含有するカチオン重合開始 剤、 該カチオン重合開始剤を含有する硬化性組成物及び硬化方法に関し、 更に詳 しくは、 加熱または光、 電子線、 X線等の活性エネルギー線照射により、 極めて 薄い膜から厚手の膜まで短時間で硬化するカチオン硬化性組成物に関する。 該組 成物による硬化物は優れた物性を有するため、 塗料、 接着剤、 インキ、 フオ トレ ジスト及び光造形用の感光性樹脂等として好適に用いられる。 背景技術:
本発明に類似のスルホ二ゥム塩化合物として、 特開昭 5 0— 1 5 1 9 9 7号、 特開昭 5 0— 1 5 8 6 8 0号、 特開平 2 _ 1 7 8 3 0 3号が知られており、 光、 電子線、 X線等の放射線によりェポキシ化合物等のカチォン重合性化合物を硬化 させる開始剤として使用できることが記載されている。
し力、し、 特開昭 5 0 - 1 5 1 9 9 7号等に記載されているスルホニゥム塩化合 物は、 光活性の高い重合開始剤として知られているが、 紫外線硬化に有効とされ る 3 6 0 n mよりも長波長にほとんど吸収をもっていないため透明な組成物を光 硬化するには有効であるが、 長波長のレーザー光を使用する光造形や顔料等を多 く含むような組成物を光硬化するには適していない。 この解決方法として増感剤 の検討が行われ、 フヱノチアジン、 アントラセン、 ペリレン等の化合物が見いだ されたが未だ不十分であり、 問題は解決されていない。 また熱重合開始剤として 殆ど作用しないため、 厚膜の硬化には適用が困難であり、 さらに合成方法が複雑 で高価であるとともに、 モノマーに対する溶解性が低い等の問題点がある。 一方 、 特開平 2— 1 7 8 3 0 3号等に記載されている化合物は、 熱重合開始剤として 作用するため厚膜硬化が可能であるが、 光重合開始剤としての性能が著しく低く 、 モノマーに対する溶解性も低い。 更に、 遠藤等によって報告されている脂肪族 のスルホ二ゥム塩化合物 [ I UP AC MACRO 88 P r e p r. 90 ( 1 98 8 ) ] も、 熱開始剤として作用するため、 厚膜硬化が可能であるが、 光開 始剤としての性能が著しく低い。
本発明は、 これらの事情からみてなされたもので、 加熱または光、 電子線、 X 線等の活性エネルギー線照射に高感度で感応、 特に 360 nmよりも長波長の光 でも感光することが可能なカチォン重合開始剤を提供すると共に、 極めて薄い膜 から厚手の膜まで短時間で硬化することが可能で、 かつ得られた硬化物が優れた 硬化物物性を有するカチォン硬化性組成物及び硬化方法を提供することを目的と している。 発明の開示:
本発明は、 一般式 〔I〕
〔I〕
Figure imgf000004_0001
〔式中、 Ri , R2 はそれぞれ C卜 18アルキル基、 ヒドロキシ基、 アルコ キシ基、 C, 8アルキルカルボニル基、 芳香族カルボニル基、 芳香族チォ基また はハロゲン原子を表す。 R3 (iC, - 8 アルキル基を表す。 R4 は アルキル 基 (但し、 無置換の場合は C 52.,アルキル基) 、 C224アルケニル基または C3一 20シクロアルキル基を表し、 それぞれ置換基としてヒドロキン基、 カルボニル基 、 二トリル基、 フヱニル基、 アルコキシ基、 フエノキシ基、 アルキレンォキシ基 、 ハロゲン原子、 インダニル基を有してもよい。 mおよび nは 0, 1, 2または 3を示す。 Xは非求核性のァニオン残基を示す。 〕 で表されるスルホニゥム塩化 合物である。 また、 該化合物を含有するカチオン重合開始剤及び硬化性組成物並 びに硬化方法である。
—般式 〔I〕 において、 R, および R2
C卜, 8アルキル基としては、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 イソプロピル基 、 ブチル基、 イソブチル基、 t 一ブチル基、 デ ル基、 ドデシル基などが、 c ,— アルコキシ基としては、 メ トキシ基、 エトキシ基、 プロピル基、 ブトキシ 基、 へキシルォキシ基、 デシルォキシ基、 ドデシルォキシ基などが、
C 1 8アルキルカルボニル基としては、 ァセトキシ基、 プロピオニルォキシ基、 デシルカルボニルォキシ基、 ドデシルカルボニルォキシ基などが、
芳香族カルボニル基としては、 ベンゾィルォキシ基などが、
芳香族チォ基としては、 フヱニルチオ基などが、
ハロゲン原子としては、 フッ素、 塩素、 臭素、 ヨウ素などが例示できる。
R 3 の C i— 8 アルキル基としては、 メチル墓、 ェチル基、 プロピル基、 イソプ 口ピル基、 ブチル基、 イソブチル基、 t—ブチル基、 アミル基、 へキシル基など が例示される。
R 4 で表される置換基としては、
ペンチル基、 ディシル基、 ドデシル基、 2—フヱニルェチル基、 2—フヱニルプ 口ピル基、 2—フエノキシェチル基、 2—フヱニルー 2—ヒ ドロキシェチル基、 2—フエ二ルー 2—ァセトキシェチル基、 2—フエニル一 2—メ トキシェチル基 、 2 —メ トキシカルボニルェチル基、 3—ヒ ドロキシプロピル基、 2—メ トキシ カルボニルプロピル基、 シクロへキシル基、 2—ヒ ドロキシシクロへキシル基、 シクロペンチル基、 2 —インダニル基、 1 —ヒ ドロキシー 2 —インダニル基、 1 ーァセナフテニル基、 ビシクロノニル基、 ノルボルニル基、 クマリニル基、 ジヒ ドロべンゾフラニル基、 ァリル基、 2—ブテニル基、 シンナミル基、 1 —カルボ キシェチル基、 1 —メ トキシカルボニルェチル基、 1 —エトキシカルボ二ルェチ ル基、 1— ( n—プロポキシカルボニル) ェチル基、 1— ( i s o —プロポキシ カルボニル) ェチル基、 1 一 (3 —クロロー 2—ヒ ドロキシプロポキシカルボ二 ル) ェチル基、 1 一 (3 —ァセトキシ一 2 —ヒ ドロキシプロポキシカルボニル) ェチル基、 1— ( 3—メタクリロイルォキシー 2 —ヒ ドロキシプロポキシカルボ ニル) ェチル基、 1— ( 3 —ベンゾィルォキシ一 2—ヒ ドロキシプロポキシカル ボニル) ェチル基、 1— ( 3 —クロロー 2 —ァセトキシプロポキシカルボニル) ェチル基、 1— ( n —ブトキシカルボニル) ェチル基、 1 ー ドデシルォキシカル ボニルェチル基、 1 一フヱノキンカルボニルェチル基、 1 一べンジルォキシカル ボニルェチル基、 1一 (N—メチル一 4—メ トキシカルボ二ルァニリノカルボ二 ル) ェチル基、 1 一カルボキシプロピル基、 1ーメ トキシカルボニルプロピル基 、 1—ェトキシカルボニルプロピル基、 1 一ドデシルォキシカルボニルプロピル 基、 1 一カルボキシブチル基、 1ーメ トキシカルボニルブチル基、 1—エトキシ カルボニルブチル基、 1ードデシルォキシカルボニルブチル基、 1 一カルボキシ ペンチル基、 1—メ トキシカルボ二ルペンチル基、 1 一エトキシカルボ二ルペン チル基、 1—ドデシルォキシカルボ二ルペンチル基、 一エトキンカルボニルべ ンジル基、 フエナシル基、 1 一ベンゾィルェチル基、 シァノメチル基、 1—シァ ノエチル基、 エトキシカルボニルァセチルメチル基、 2—インダノニル基、 2— シクロへキサノニル基、 カンファー基、 ァープチロラク トニル基等が例示できる
また、 本発明には、 一般式 〔 I〕 で表されるスルホ二ゥム塩構造を一分子内に 二個有する化合物も含有され、 例えば一般式 〔I I〕 や一般式 〔I I I〕 で表さ れるスルホニゥム塩化合物などが挙げられる。
R . 〔I I〕
Figure imgf000006_0001
, )
2)
〔I I I〕
Figure imgf000006_0002
〔ここで、 Yは酸素または硫黄原子を表す。 .
Αはシクロアルキレン基、 フエ二レン基、 アルキレン基、 アルケニレン基を表 し、 さらにそれらは水酸基、 カルボニル基、 エステルおよびエーテル結合を有し ていてもよい。 〕
本発明のスルホ二ゥム塩化合物は、 下記反応式に従って製造することができる
3 R3
S0a
Figure imgf000007_0001
Y : ノヽロゲン
Figure imgf000007_0002
: アル力リ金属
C I ) 反応は、 必要によりァセトニトリル、 ジォキサン、 エタソ一ルなどの有機溶媒 中、 室温から 1 5 0 °C、 好ましくは 4 0 °C~ 9 0 °Cの温度で 1時間から数十時間 行われる。 反応終了後、 反応液に水および MXを加え、 撹拌する。 析出した化合 物を濾取または有機溶媒で抽出し、 目的物を得る。
本発明のスルホ二ゥム塩化合物は、 熱のみならず、 光、 電子線、 X線等の活性 エネルギー線照射によりカチオン重合性化合物を硬化することができる。
本発明の一般式 〔I〕 で表される化合物の内、
一般式 〔I〕 の!^ が C 8 ~ C 2 4アルキル基、 硫黄原子からみて/ S位の炭素に芳 香環を有するアルキル基、 シクロアルキル基、 インダニル基であるスルホニゥム 塩化合物はモノマーへの相溶性がよく好ましい。
R 4 としては、 ディシル基、 ドデシル基、 2—フヱニルェチル基、 2—フエ二 ルプロピル基、 2—フヱノキンェチル基、 2—フヱニルー 2—ヒ ドロキシェチル 基、 2—フヱニルー 2—ァセトキシェチル基、 2—フエ二ルー 2—メ トキシェチ ル基、 シクロへキシル基、 2—ヒドロキシシクロへキシル基、 シクロペンチル基 、 2—インダニル基、 1ーヒドロキシー 2 —インダニル基、 1ーァセナフテニル 基、 ビシクロノニル基、 ノルボルニル基、 クマリニル基、 ジヒドロベンゾフラ二 ル基が例示される。
また、 本発明の一般式 〔I〕 で表される化合物の内、
一般式 〔I〕 の R 4
- C N
Figure imgf000008_0001
〔式中、 R 5 は C ,— アルキル基、 C 22 4アルケニル基または C 3— 2。シクロアル キル基、 — 2 4アルコキシ基、 フヱニル基、 ナフチル基、 アミノ基を表し、 それ ぞれ置換基としてヒドロキシ基、 カルボニル基、 二トリル基、 フヱニル基、 アル コキシ基、 フヱノキシ基、 アルキレンォキシ基、 ハロゲン原子、 ニトロ基を有し てもよい。 R 6 、 R 7 は水素原子、 じぃ8 アルキル基、 フヱニル基を表す。 ここ で R 5 と R 6 は結合して環を形成してもよく、 環にはヒドロキシ基、 カルボニル 基、 二トリル基、 フヱニル基、 アルコキシ基、 フヱノキシ基、 アルキレンォキシ 基を置換基として有してもよい。 また R 5 と R 6 は一緒になつてインダノンを形 成してもよい。 また、 R 6 が水素原子でない時、 R 5 は水酸基を表してもよい。 mおよび nは 0, 1 , 2または 3を示す。 Xは非求核性のァニオン残基を示す。 〕 で表されるスルホ二ゥム塩化合物は特に増感剤との組み合わせにより著しく光 反応性が向上し顔料系の硬化性組成物の硬化に適しており好ましい。
R s としては、 水酸基、 メ トキシ基、 エトキシ基、 n—プロポキシ基、 i s o 一プロポキシ基、 3 —クロロー 2—ヒドロキシプロポキシ基、 3—ァセトキシー
2 —ヒドロキンプロポキシ基、 3 —メタクリロイルォキシー 2 —ヒドロキシプロ ポキシ基、 3 —ベンゾィルォキシ一 2 —ヒ ドロキシプロポキシ基、 3 —クロロー
2—ァセトキシプロポキシ基、 n—ブトキシ基、 1—ドデシルォキシ基、 フエノ キシ基、 ベンジルォキシ基、 N—メチル一 4ー トキシカルボ二ルァニリノ基、 フェニル基、 エトキン力ルポ二ルォキシメチル基などが例示できる。
式中 Xの非求核性のァニオン残基としては S b F6 , A s F6 , PF6 および
BF4 が好ましく例示できる。
本発明のスルホ二ゥム塩化合物の代表例を以下に示す。 但し、 式中の Xは、 s b F6 , A s F6 , PF6 または BFV, 等の非求核性のァニオン残基を示す。
CHS CH
Figure imgf000010_0001
CH3 CH3
+-CH2C00CH2CH;
Figure imgf000011_0001
- HC00CH2CH;
Figure imgf000011_0002
Figure imgf000011_0003
Figure imgf000011_0004
C 1HCOO -( /
Figure imgf000011_0005
CH3 し Π3 CH3 CH3
NO;
Figure imgf000011_0006
CH0C0CH:
Figure imgf000011_0007
HCH0C0C = CH 2
Figure imgf000011_0008
H
Figure imgf000012_0001
Figure imgf000012_0002
CHs
H2COOCH2CH3
Figure imgf000012_0003
Figure imgf000013_0001
Figure imgf000013_0002
o/96¾vl:w , OAV
Figure imgf000014_0001
CH2CH3 CH2CH3 CH2CH3 CH2CH3
S+ CHC00CH2CH;
Figure imgf000015_0001
X一
CH2CH3 CH2CH2CH3 CHzCHr
CH2CN
Figure imgf000015_0002
Figure imgf000015_0003
Figure imgf000015_0004
Figure imgf000015_0005
OCH 2 CH;
CH2C00CH2CH20C0CH,—
Figure imgf000016_0001
X" H3
HC00CH2CH2CH2CH
Figure imgf000016_0002
Figure imgf000016_0003
本発明のスルホニゥム塩化合物は増感剤とともに使用することができ、 増感剤 を使用した場合は著しく短時間で硬化することができる。 また酸化チタンなどの 顔料として含む硬化性組成物を硬化させる際、 極めて有効である。
本発明に使用される增感剤は、 上記スルホ二ゥム塩化合物の光反応を促進する 化合物を言う。 例えば、 水素ラジカルを容易に放出する化合物、 ラジカル重合禁 止剤、 スルホ二ゥム塩化合物の光反応過程でスルホ二ゥム塩化合物と反応して結 果的にプロトンを放出する化合物、 電子供与体等が挙げられる。 具体的には、 チ オール化合物、 炭化水素化合物等の水素ラジカルを容易に放出する化合物、 4 一 メ トキシフエノール、 4 —ベンジルォキシフエノール、 4—メ トキシー 2— ( t ーブチル) フエノール、 ハイ ドロキノン、 4ーメ トキシー 1 一ナフ トール、 2— ヒ ドロキシジベンゾフラン等のフヱノール誘導体、 1—ナフ トール、 2—ナフ ト ール、 1ーメ トキシナフタレン、 2—メ トキシナフタレン、 1—ヒ ドロキンフエ ナン卜レン、 グリシジルー 1 一ナフチルエーテル、 2— ( 2—ナフ トキシ) ェチ ルビニルエーテル、 1, 4—ジヒ ドロキシナフタレン、 1, 5—ジヒ ドロキシナ フタレン、 1, 6 —ジヒ ドロキシナフタレン、 2, 7 —ジヒ ドロキシナフタレン 、 2 , 7—ジメ トキシナフタレン、 1 , 1 ' ―チォビス (2 —ナフ トール) 、 1 , 1 ' ービ一 2—ナフ トール、 1, 5 —ナフチルジグリシジルエーテル、 2 , 7 ージ (2 —ビニルォキシェチル) ナフチルェ一テル、 4—メ トキシ一 1—ナフ ト ール、 E S N— 1 7 5 (新日鉄化学社製のエポキシ樹脂) またはそのシリーズ、 ナフ トール誘導体とホルマリンとの縮合体、 フヱノチアジン等のラジカル重合禁 止剤、 ナフ トキノン、 アントラキノン、 2—ェチルアントラキノン、 2— t—ブ チルアントラキノン、 2 —ヒ ドロキンメチルアントラキノン、 2, 3—ジメチル アントラキノン、 ナフタセンキノン、 9, 1 0 —フエナントレンキノン、 カンフ ァ一キノン等のキノン化合物、 9, 1 0—ジメ トキシアントラセン、 2—ェチル — 9 , 1 0 —ジメ トキシアントラセン、 2— t—ブチル一 9, 1 0—ジメ トキシ アントラセン、 2, 3—ジメチルー 9, 1 0 —ジメ トキシアントラセン、 9—メ トキシ一 1 0—メチルアントラセン、 1 , 4—ジメ トキシク リセン、 9 , 1 0— ジェトキシアントラセン、 2—ェチル一 9, 1 0—ジェトキシアントラセン、 2 — tーブチルー 9, 1 0 —ジェトキシアントラセン、 2, 3—ジメチル一 9, 1 0—ジェトキシアントラセン、 9一エトキシ一 _1 0—メチルアン トラセン、 1, 4ージェトキシクリセン、 9, 1 0—ジプロポキシアントラセン、 2—ェチルー 9, 1 0—ジプロポキシアントラセン、 2— t—ブチルー 9 , 1 0—ジプロポキ シアントラセン、 2, 3—ジメチル一 9, 1 0—ジプロポキシアントラセン、 9 一イソプロポキシ一 1 0 —メチルアントラセン、 1, 4ージプロポキシクリセン 、 9, 1 0—ジベンジルォキシアントラセン、 2—ェチルー 9, 1 0—ジベンジ ルォキシアントラセン、 2— t 一ブチル一 9, 1 0 —ジベンジルォキシアントラ セン、 2, 3—ジメチルー 9, 1 0—ジベンジルォキシアントラセン、 9一ベン ジルォキシ一 1 0—メチルアントラセン、 1, 4ージベンジルォキシクリセン、 9, 1 0—ジー α—メチルベンジルォキシアントラセン、 2—ェチル一 9 , 1 0 ージー α—メチルベンジルォキシアントラセン、 2— t—ブチルー 9, 1 0—ジ 一 一メチルベンジルォキシアントラセン、 2, 3—ジメチルー 9, 1 0—ジー α一メチルベンジルォキシアントラセン、 9— ( 一メチルベンジルォキシ) 一
1 0 —メチルアントラセン、 1, 4ージー α—メチルベンジルォキンクリセン、 9ーヒ ドロキシフエナントレン、 キサントン、 チォキサントン、 2 , 4—ジェチ ルチオキサントン等の (チォ) キサントン誘導体、 カルバゾール、 Ν—ビニルカ ルバゾール、 Ν—ェチルカルバゾール等の力ルバゾール誘導体、 Ν, Ν—ジフエ 二ルー ρ—フヱニレンジアミン等の芳香族ァミ ン化合物および下記一般式 〔I V 〕 で示される化合物等を使用することができる。
〔 I V〕
Figure imgf000018_0001
〔式中、 R 8 および R 9 は、 同一または相異なる直鎖または分枝の d 〜C 2 0の アルキル基を表し、 R 8 と R 9 は一体となって結合してもよく、 。は、 水素原 子、 低級アルキル基、 またはハロゲン原子を表し、 は、 水素原子、 ヒ ドロキ シ基、 置換されていてもよいアルキル基、 置換基を有してもよいフヱニル基、 置 換基を有してもよいべンジル基、 置換されていてもよいアルコキシ基、 置換され ていてもよいフヱノキシ基または置換基を有してもよいベンジルォキシ基を表す
) 上記一般式 〔I V〕 で表される化合物としては、 例えば、 p—ジメチルァミノ 安息香酸、 p —ジメチルァミノべンズアルデヒ ド、 p—ジメチルァミノ安息香酸 ェチル、 p —ジメチルァミ ノ安息香酸 (2— n—ブトキシェチル) 、 p—ジメチ ルァミノ安息香酸イソァミル、 p —ジメチルアミノアセトフエノン、 p—ジェチ ルァミノ安息香酸、 p—ジェチルァミノベンズアルデヒド等を挙げることができ る。
これらの增感剤の中でカチォン重合開始剤との組み合わせとして特に好ましく は、 フエノチアジン、 2—ェチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体、 9 , 1 0 —ジメ トキシアントラセン、 9, 1 0 —ジェトキシアントラセン、 2—ェ チル一 9, 1 0—ジメ トキシアントラセン等の 9, 1 0 —ジアルコキシアントラ セン誘導体、 チォキサントン、 イソプロピルチォキサントン、 2, 4ージメチル チォキサントン、 2, 4 一ジェチルチオキサントン、 2, 4 一イソプロピルチオ キサントン、 2—クロ口チォキサントン等のチォキサントン誘導体、 N—ェチル 力ルバゾ一ル等の力ルバゾール誘導体、 1—ナフ トール、 2—メ トキシナフタレ ン等の少なく とも一つの水酸基またはアルコキシ基を有するナフタレン誘導体で あ <S) o
本発明に使用されるカチォン重合性化合物としては、 次の化合物を挙げること ができる。
( a ) ビニル化合物として、 メチルビニルエーテル、 n—プチルビニルエーテル 、 ェチルビニルエーテル、 イソブチルビニルエーテル、 シクロへキシルビニルェ 一テル、 2—クロロェチルビニルエーテル、 2—フヱノキシェチルビニルエーテ ル、 2 —ヒ ドロキンェチルビニルエーテル、 4ーヒ ドロキンブチルビニルエーテ ノレ、 ステアリルビニルエーテル、 2—ァセトキシェチルビニルエーテル等のアル キルビニルエーテル化合物、 ァリルビ二ルェ一テル、 2—メタクリロイルォキシ ェチルビニルエーテル、 2—ァクリロイルォキシェチルビニルエーテル等のアル ケニルビニルエーテル化合物、 フヱニルビニルエーテル、 p—メ トキシフエニル ビニルエーテル等のァリ一ルビニルエーテル化合物、 N—ビニルカルバゾ一ル、 N—ビニルピロリ ドン等のカチオン重合性窒素含有化合物、 ブタンジォ一ルジビ 二ルェ一テル、 トリエチレングリコールジビニルェ一テル、 シクロへキサンジォ ールジビニルエーテル、 1, 4 一ベンゼンジメ ノ一ルジビニルエーテル、 ハイ ドロキノンジビニルエーテル、 サゾルシノールジビニルエーテル等の多官能ビニ ル化合物。
( b ) エポキシ化合物として、 フヱニルダリシジルエーテル、 p— t e r t—ブ チルフエ二ルグリシジルエーテル、 ブチルグリシジルエーテル、 2—ェチルへキ シ^グリシジルエーテル、 ァリルグリシジルエーテル、 1, 2 —ブチレンォキサ イ ド、 1, 3 —ブタジエンモノオキサイ ド、 1, 2 — ドデシレンオキサイ ド、 ェ ピクロロヒ ドリン、 1, 2 —エポキシデカン、 エチレンオキサイ ド、 プロピレン オキサイ ド、 スチレンオキサイ ド、 シクロへキセンオキサイ ド、 3—メタクリロ ィルォキシメチルシクロへキセンォキサイ ド、 3—ァクリロイルォキシメチルシ クロへキセンオキサイ ド、 3—ビニルシクロへキセンオキサイ ド、 4ービニルシ クロへキセンオキサイ ド等の単官能のモノマ一、 1, 1, 3—テトラデカジエン ジオキサイ ド、 リモネンジオキサイ ド、 3, 4 一エポキシシクロへキシルメチル - ( 3 , 4 一エポキシシクロへキシル) カルボキシレート、 ジ (3, 4—ェポキ シシクロへキシル) アジペート、 フヱニルグリシジルェ一テル、 ビスフエノール A型エポキシ樹脂、 ビスフエノール F型エポキシ樹脂、 o _, m—, p—クレゾ —ルノポラック型エポキシ樹脂、 フヱノールノボラック型エポキシ樹脂、 多価ァ ルコールのポリグリシジルエーテル等の多官能ェポキシ化合物。
( c ) ビシクロオルソエステル化合物として、 1 —フヱニルー 4 一ェチル— 2, 6 , 7 — トリオキサビシクロ 〔2 , 2 , 2〕 オクタン、 1 一ェチル一 4—ヒ ドロ キンメチルー 2 , 6 , 7 — トリオキサビシクロ 〔2, 2, 2〕 オクタン等の化合 物。
( d ) スピロオルソカーボネート化合物として、 1, 5, 7 , 1 1 ーテトラォキ サスピロ 〔5 , 5〕 ゥンデカン、 3, 9—ジベンジルー 1, 5, 7, 1 1 ーテト ラオキサスピロ 〔5, 5〕 ゥンデカン、 1 , 4, 6 — トリオキサスピロ 〔4, 4 〕 ノナン、 2—メチル一 1 , 4, 6 — トリオキサスピロ 〔4, 4〕 ノナン、 1, 4, 6—十リオキサスピロ 〔4, 5〕 デカン等の化合物が挙げられる。
なお、 これらは、 単独もしくは 2種以上を併用して用いても差し支えない。 特 に本発明のスルホ二ゥム塩化合物は脂環型エポキシ化合物またはビニルエーテル 化合物を硬化させるのに好適である。 ―
本発明において、 一般式 〔I〕 で表されるスルホ二ゥム塩化合物とカチオン重 合性化合物との配合割合は、 カチオン重合性化合物 1 0 0部に対し、 スルホニゥ ム塩化合物 0 . 0 1 ~ 2 0部、 好ましくは 0 . 1 ~ 1 0部である。 このスルホ二 ゥム塩化合物が少ないと、 カチオン重合性化合物の硬化性が低下し、 過剰である と硬化物の特性が低下する。
一方、 前記増感剤とカチオン重合性化合物との配合割合は、 カチオン重合性化 合物 1 0 0部に対し、 増感剤 0 . 0 0 1〜1 0部、 好ましくは 0 . 0 1〜5部の 割合で配合する。 この増感剤が少ないと、 スルホ二ゥム塩化合物の光反応性が低 下し、 過剰であると組成物の特性が低下する。
本発明の硬化性組成物は、 光により容易に硬化することができる。
光による硬化は、 波長 5 0 0 n m以下の光、 特に紫外線が好適に使用されるた め、 光源としては、 低圧水銀灯、 中圧水銀灯、 高圧水銀灯、 超高圧水銀灯、 メタ ルハライ ドランプ、 クセノンランプ、 力一ボンアーク灯等が用いられる。 また、 半導体レーザー、 アルゴンレーザー、 H e— C dレーザー等のレーザー光を用い ることもできる。 特に酸化チタンのような顔料含有の硬化性組成物に使用する際 は、 ガリウム入りのメタルハライ ドランプが好適に用いられる。
本発明の硬化性組成物は、 α線、 線、 ァ線、 中性子線、 X線、 加速電子線の ような電離性放射線によっても容易に硬化することができる。 電離性放射線によ る硬化の場合は、 通常 0 . 5〜6 0 M r a dの線量の範囲が使用でき、 1 ~ 5 0 M r a dの範囲が好ましい。
本発明の硬化性組成物は、 加熱により容易に硬化することができる。 加熱は、 8 0 °C~ 2 5 0 °C、 好ましくは、 1 0 0 °C〜 2 0 0 °Cの範囲で使用される。 なお 、 光、 電離性放射線及び熱を併用して硬化させることも可能である。 発明を実施するための最良の形態:
以下、 本発明を実施例によって更に詳細に説明するが本発明は以下のもののみ に限定されるものではない。 実施例 1 ―
2—ナフチル (2—インダニル) メチルスルホニゥムへキサフロロホスホネート の合成:
2—ナフチル (2—ィンダニル) スルフィ ド 2 7 . 6 4 gとジメチル硫酸 1 3 . 2 4 gを混合し、 5 0 °Cで 1 0時間反応させた後、 蒸留水 1 0 0 gに溶解させ 、 六フッ化リン酸カリウム 1 8 . 4 1 gを加え、 激しく撹拌した。 析出した化合 物を水洗後 4 0 °Cで減圧乾燥させた。 収率: 8 1 % 実施例 2
2 一ナフチルー 2—フヱニルプロピルメチルスルホニゥムへキサフロロホスホネ ―卜の合成:
2 —ナフチル一 2—フヱニルプロピルスルフィ ド 2 7 . 8 4 gとジメチル硫酸 1 3 . 2 4 gを混合し、 5 0でで1 0時間反応させた後、 蒸留水 1 0 0 gに溶解 させ、 六フッ化リン酸カリウム 1 8 . 4 1 gを加え、 激しく撹拌した。 析出した 化合物を酢酸ェチルで抽出し、 水洗後酢酸ェチルを除去し 4 0 °Cで減圧乾燥させ た。 収率: 8 6 % 実施例 3
2—ナフチルドデシルメチルスルホニゥムへキサフロロホスホネー小の合成:
2 —ナフチルドデシルスルフイ ド 3 2 . 8 6 gとジメチル硫酸 1 3 . 2 4 gを 混合し、 8 0 °Cで 1時間後 5 0でで 1 0時間反応させた。 その反応物を蒸留水 1 0 0 gに溶解させ、 六フッ化リン酸カリウム 1 8 . 4 1 gを加え、 激しく撹拌し た。 析出した化合物を酢酸ェチルで抽出し、 水洗後酢酸ェチルを除去し 4 0 °Cで 減圧乾燥させた。 収率: 9 3 % 実施例 4 2 —ナフチルェ卜キシカルボ二ルメチルメチルスルホニゥムへキサフ ロロホスホネートの合成
2 —ナフチルエトキンカルボ二ルメチルスルフイ ド 2 4 . 6 3 gとジメチル硫 酸 1 3 . 2 4 gを混合し、 8 0 °Cで 1 0時間反応させた。 この反応物を蒸留水 3 00m lと酢酸ェチル 1 0 0m lに溶解させ、 撐拌後、 水溶液層を取り出し、 六 フツイヒリン酸カリウム 1 8. 4 1 gと酢酸ェチル 300 m lを加え撹拌した。 酢 酸ェチル層を蒸留水 1 00m lで 2回洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで酢酸ェチ ル層の水分を除去後、 酢酸ェチルをエバポレートし、 更に 4 0°Cで減圧乾燥させ 、 目的物を得た。 収量: 3 6. 4 g 実施例 5〜 27 上記実施例と同様に製造した。 本発明のスルホ二ゥム塩化合物の実施例を第 1表に示した。
z z
Figure imgf000024_0001
££€Z0/96df/XDd 180/ム 6 O 第 1 表 (続き)
Figure imgf000025_0001
第 1 表 (続き)
Figure imgf000026_0001
第 1 表 (続き)
Figure imgf000027_0001
試験例 1 (透明タイプ) .
(1) 光硬化性テスト
ERL- 4 2 2 1 (UCC社製脂環型エポキシ) に增感剤として 2, 4—ジェ チルチオキサントン (2, 4 -DETX) とスルホ二ゥム塩化合物をァープチ口 ラグトンに溶解させ、 增感剤は、 純分として 1. 0部になるように、 スルホニゥ ム塩化合物は、 純分として 2. 0部になるように、 配合物を調製した。 この配合 物を、 ブリキ板に厚さ 3 になるように塗布し、 下記の条件で光硬化させた。 この時、 配合物が硬化しタックフリーになったものは〇印、 タックが残ったもの 、 または硬化しなかったものには X印で第 2表に示した。
U V照射機器:ベルトコンベア型 U V照射機器
ランプ: 2 Kw (8 0 w/c m) 平行光型高圧水銀灯、 距離 1 5 cm コンベア速度: 1 0 mZ分
照射回数: 1回
(2) 熱硬化性テスト
上記の配合物を、 サンプルびんに 0. 5 g秤量し、 1 5 0°Cのオーブン中に 3 0分間置いた。 この時、 配合物が硬化したものには〇印、 硬化しなかったものに は X印で表した。 その結果を第 2表に示した。
(3) 保存安定性テスト
上記の配合物を、 サンプルびんに 1 0 0 g秤量し、 2 5°Cのオーブン中に 1 ケ 月間置いた。 この時、 配合物の粘度が初期の 2倍以下のものには〇印、 2倍以上 の増粘および硬化したものには X印で表した。 その結果を第 2表に示した。
第 2 表
Figure imgf000029_0003
注)
比較化合物 1 [ IUPAC MACRO 88 Prepr. 90(1988) 記載化合物]
Figure imgf000029_0001
比較化合物 2 [特開昭 50 - 151997号記載化合物]
Figure imgf000029_0002
試験例 2 (顔料タイプ) _
(1 ) 光硬化性テスト
UVR- 6 1 1 0 (UC C社製脂環型エポキシ) 1 0 0部と酸化チタン (石原 産業社製 CR— 5 8 ) 1 0 0部に、 スルホ二ゥム塩化合物 3部と各増感剤 1部を 溶解させ、 ロール混練をし、 配合物を調製した。 この配合物を、 ブリキ板に厚さ
3 になるように塗布し、 下記の条件で光硬化させた。 この時、 配合物が硬化 したものは〇印、 硬化しなかったものには X印で第 3表に示した。
UV照射機器 オーク製作所製 HMW— 4 5 0
ランプ 水冷式 3 kW—超高圧水銀灯
照射光量 20 0 mJ/cm2
(2) 熱硬化性テスト
上記の配合物を、 サンプルびんに 0. 5 g抨量し、 1 5 0°Cのオーブン中に 3 0分間置いた。 この時、 配合物が硬化したものには〇印、 硬化しなかったものに は X印で表した。 その結果を第 3表に示した。
3 表
Figure imgf000031_0001
2 4-DBTX 2 4-ジェチルチオキサントン 2, 4-DMTX : 2 4-ジメチルチオキサントン IPTX: イソプロピルチオキサントン
EDMA 2-ェチル- 9 10-ジメ トキシアントラセン 産業上の利用可能性: .
本発明のスルホ二ゥム塩化合物は、 熱および光活性に優れており、 カチオン重 合性化合物を、 極めて薄い膜から厚手の膜まで、 加熱および光、 電子線、 X線等 の活性エネルギー線照射により、 短時間で硬化することができ、 増感剤との併用 では、 更に光硬化性を向上することができる。 また 3 6 0 n mよりも長波長の光 でも硬化することができるため、 顔料等を含む組成物にも高い硬化性を示す。 該 組成物の硬化物は優れた物性を有するため、 塗料、 接着剤、 インキ、 フォ トレジ スト、 光造形用の感光性樹脂等として好適に用いられる。

Claims

1. 一般式 〔 I〕
〔I〕
Figure imgf000033_0001
一一-青
〔式中、 R, , R2 はそれぞれ C 18アルキル基、 ヒドロキシ基、 C 18アルコ の
キン基、 8アルキルカルボニル基、 芳香族カルボニル基、 芳香族チォ基また はハロゲン原子を表す。 R38 アルキル基を表す。 R4 は C 4アルキル ,囲
基 (但し、 無置換の場合は C 52 アルキル基) 、 C224アルケニル基または C3- 20シクロアルキル基を表し、 それぞれ置換基としてヒドロキン基、 カルボニル基 、 二トリル基、 フヱニル基、 アルコキシ基、 フエノキシ基、 アルキレンォキシ基 、 ハロゲン原子、 インダニル基を有してもよい。 mおよび nは 0, 1, 2または 3を示す。 Xは非求核性のァニオン残基を示す。 〕 で表されるスルホニゥム塩化 合物。
2. 一般式 〔I〕 の Xが SbFf) , As F6 , PF6 および BF4 から選ばれる 一種である請求項 1記載のスルホ二ゥム塩化合物。
3. 一般式 〔I〕 の が C8 〜C24アルキル基、 硫黄原子からみて/?位の炭素 に芳香環を有するアルキル基、 シクロアルキル基、 インダニル基である請求項 1 または 2記載のスルホ二ゥム塩化合物。
4. 一般式 〔I〕 の R4
R,
C一 C一 R5 または
I II
H 〇
〔式中、 R5 は C'- アルキル基、 C224アルケニル基または C3-2。シクロアル キル基、 C ,— 2,アルコキシ基、 フヱニル基、 ナフチル基、 アミノ基を表し、 それ ぞれ置換基としてヒドロキシ基、 カルボニル基、 二トリル基、 フヱニル基、 アル コキシ基、 フヱノキシ基、 アルキレンォキシ基、 ハロゲン原子、 ニトロ基を有し てもよい。 R6 、 RT は水素原子、 d— 8 アルキル基、 フヱニル基を表す。 ここ で R5 と R6 は結合して環を形成してもよく、 環にはヒドロキシ基、 カルボニル 基、 二トリル基、 フヱニル基、 アルコキシ基、 フヱノキシ基、 アルキレンォキシ
RHCII
基を置換基として有してもよい。 また RS と R6 は一 7一緒になってインダノンを形
C
成してもよい。 また、 R6 が水素原子でない時は R 5 は水 N酸基を表してもよい。 mおよび nは 0, 1, 2または 3を示す。 Xは非求核性のァニオン残基を示す。 〕 で表される請求項 1または 2記載のスルホ二ゥム塩化合物。
5. 請求項 1記載のスルホ二ゥム塩化合物の少なくとも一種を含有することを特 徴とするカチオン重合開始剤。
6. 請求項 1記載のスルホ二ゥム塩化合物の少なくとも一種および増感剤を含有 することを特徴とするカチォン重合開始剤組成物。
7. 増感剤が少なくとも一つの水酸基またはアルコキシ基を有するナフタレン誘 導体、 チォキサントン誘導体または 9, 1 0—ジアルコキシアントラセン誘導体 である請求項 6記載のカチオン重合開始剤組成物。
8. カチォン重合性化合物が脂環型エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物 であり、 カチォン重合開始剤が請求項 1記載のスルホ二ゥム塩化合物の少なくと も一種である硬化性組成物。 ―
9. 少なくとも一つの水酸基またはアルコキシ基を有するナフタレン誘導体、 チ ォキサントン誘導体および 9, 1 0—ジアルコキシアントラセン誘導体の中から 選ばれる少なくとも一種を増感剤として含有することを特徴とする請求項 8記載 の硬化性組成物。
1 0. 顔料を含有していることを特徴とする請求項 9記載の硬化性組成物。
1 1. 顔料として酸化チタンを用いることを特徴とする請求項 1 0記載の硬化性 組成物。
1 2. 次の (1 ) 〜 (4) を含有することを特徴とする硬化性組成物。
( 1 ) 重合性化合物として脂環型エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物
(2) 顔料
(3) カチォン重合開始剤組成物として請求項 4記載のスルホニゥム塩化合物の 少なくとも一種
(4) 増感剤として、 少なくとも一つの水酸基またはアルコキシ基を有するナフ タレン誘導体、 チォキサントン誘導体および 9, 1 0—ジアルコキシアントラセ ン誘導体の中から選ばれる少なくとも一種
1 3. 請求項 8、 9、 1 0、 1 1及び 1 2記載の硬化性組成物を硬化させるにあ たり、 ガリウム含有ランプで光硬化させることを特徴とするカチォン重合性化合 物の硬化方法。
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