[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

TW202346089A - 光學積層體及顯示系統 - Google Patents

光學積層體及顯示系統 Download PDF

Info

Publication number
TW202346089A
TW202346089A TW112109164A TW112109164A TW202346089A TW 202346089 A TW202346089 A TW 202346089A TW 112109164 A TW112109164 A TW 112109164A TW 112109164 A TW112109164 A TW 112109164A TW 202346089 A TW202346089 A TW 202346089A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
adhesive layer
adhesive
optical
optical laminate
meth
Prior art date
Application number
TW112109164A
Other languages
English (en)
Inventor
小野健太郎
後藤周作
Original Assignee
日商日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2022077658A external-priority patent/JP2023166840A/ja
Priority claimed from JP2022077678A external-priority patent/JP2023166853A/ja
Priority claimed from JP2022077631A external-priority patent/JP2023134316A/ja
Priority claimed from JP2022077633A external-priority patent/JP7516456B2/ja
Priority claimed from JP2022077657A external-priority patent/JP2023134317A/ja
Priority claimed from JP2022077676A external-priority patent/JP2023166851A/ja
Priority claimed from JP2022077659A external-priority patent/JP2023166841A/ja
Priority claimed from JP2022077679A external-priority patent/JP7516458B2/ja
Priority claimed from JP2022077634A external-priority patent/JP7516457B2/ja
Priority claimed from JP2022077677A external-priority patent/JP2023166852A/ja
Priority claimed from JP2022077632A external-priority patent/JP7516455B2/ja
Priority claimed from JP2022212221A external-priority patent/JP2024095149A/ja
Application filed by 日商日東電工股份有限公司 filed Critical 日商日東電工股份有限公司
Publication of TW202346089A publication Critical patent/TW202346089A/zh

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08—Catadioptric systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/02—Viewing or reading apparatus
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
    • G02C7/00—Optical parts
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
    • H04N13/30—Image reproducers
    • H04N13/332—Displays for viewing with the aid of special glasses or head-mounted displays [HMD]
    • H04N13/344—Displays for viewing with the aid of special glasses or head-mounted displays [HMD] with head-mounted left-right displays
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N13/00—Stereoscopic video systems; Multi-view video systems; Details thereof
    • H04N13/30—Image reproducers
    • H04N13/346—Image reproducers using prisms or semi-transparent mirrors
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/64—Constructional details of receivers, e.g. cabinets or dust covers
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N5/00—Details of television systems
    • H04N5/66—Transforming electric information into light information
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • H05B33/24—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers of metallic reflective layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

本發明提供一種即便在嚴酷環境下光學特性仍穩定之光學積層體。本發明實施形態之光學積層體，包含至少1個光學構件與至少1層黏著劑層；令前述光學積層體所含之前述黏著劑層之總數為N時，N/2以上之黏著劑層為滿足下述關係之黏著劑層A：從20℃升溫至30℃時之線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。

Description

光學積層體及顯示系統
本發明涉及光學積層體及使用該光學積層體之顯示系統。
以液晶顯示裝置及電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置)為代表之影像顯示裝置急速普及。影像顯示裝置中，為了實現影像顯示、提高影像顯示之性能，一般係使用偏光構件、相位差構件等光學構件(例如參照專利文獻1)。
近年來，有開發出影像顯示裝置之新用途。例如，有開始將用以實現Virtual Reality(VR)之附顯示器之護目鏡(VR護目鏡)產品化。有檢討將VR護目鏡利用在各種情況下，因而相較於應用於以往之影像顯示裝置的光學積層體，對於在高溫及/或高濕環境等嚴酷環境下之穩定性這點有更高的要求。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2021-103286號公報
發明欲解決之課題 本發明主要目的在於提供一種即便在嚴酷環境下光學特性仍穩定之光學積層體。
用以解決課題之手段 [1]本發明實施形態之光學積層體，包含至少1個光學構件與至少1層黏著劑層；令上述光學積層體所含之上述黏著劑層之總數為N時，N/2以上之黏著劑層為滿足下述關係之黏著劑層A：從20℃升溫至30℃時之線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。 [2]如上述[1]之光學積層體中，上述黏著劑層A之厚度亦可為1µm以上且15µm以下。 [3]如上述[1]或[2]之光學積層體之厚度亦可為100µm以上且300µm以下。 [4]如上述[1]至[3]中任一項之光學積層體，亦可依序具有第一黏著劑層、偏光構件、第二黏著劑層、第一相位差構件、第三黏著劑層及保護構件；並且選自上述第一、第二及第三黏著劑層中之2層以上亦可為上述黏著劑層A。 [5]如上述[4]之光學積層體中，上述第一相位差構件亦可包含λ/4構件。 [6]上述[4]或[5]之光學積層體中，上述保護構件亦可具有表面處理層。 [7]如上述[1]至[6]中任一項之光學積層體中，構成上述黏著劑層A之黏著劑組成物亦可包含具有150萬以上之重量平均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物。 [8]本發明實施形態之顯示系統包含如上述[1]至[7]中任一項之光學積層體。 [9]如上述[8]之顯示系統亦可具備：顯示元件，其具有顯示面，該顯示面會將顯示影像之光隔著偏光構件而朝前方射出；反射型偏光構件，配置於上述顯示元件之前方，且會反射從上述顯示元件射出之光；第一透鏡部，配置於上述顯示元件與上述反射型偏光構件之間的光路上；半反射鏡，配置於上述顯示元件與上述第一透鏡部之間，且該半反射鏡會將從上述顯示元件射出之光透射，並將上述反射型偏光構件所反射之光朝向上述反射型偏光構件反射；第1λ/4構件，配置於上述顯示元件與上述半反射鏡之間的光路上；及第2λ/4構件，配置於上述半反射鏡與上述反射型偏光構件之間的光路上；且如上述[5]之光學積層體亦可以使上述顯示元件與上述第1λ/4板設置成一體之方式，配置於上述半反射鏡之上述顯示元件側。
發明效果 本發明實施形態中，係於光學積層體所含之黏著劑層的半數以上使用滿足下述關係之黏著劑層A：在20℃~30℃之範圍內升溫時之線膨脹係數α1與降溫時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。藉此，可獲得即使在嚴酷環境下光學特性仍穩定之光學積層體。
以下參照圖式針對本發明實施形態進行說明，惟本發明不受該等實施形態所限。又，為了更明確說明圖式，相較於實施形態，有將各部分之寬度、厚度、形狀等示意顯示之情形，但僅為一例，非用以限定解釋本發明。又，本說明書中，表示數值範圍之「~」包含其上限及下限之數值；「(甲基)丙烯酸」意指「丙烯酸及/或甲基丙烯酸」。
(用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義如下。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」為面內折射率達最大之方向(亦即慢軸方向)的折射率，「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)的折射率，而「nz」為厚度方向的折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係在23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如，「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時，藉由式：Re(λ)=(nx-ny)×d求出。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向之相位差。例如，「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向之相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時，藉由式：Rth(λ)=(nx-nz)×d求出。 (4)Nz係數 Nz係數可藉由Nz=Rth/Re求出。 (5)角度 本說明書中提及角度時，該角度包含相對於基準方向往順時針方向及逆時針方向兩方向。因此，例如「45°」係往順時針方向45°或往逆時針方向45°。又，本說明書中，「大致平行」包含0°±10°之範圍內的情況，例如0°±5°、宜為0°±3°、較宜為0°±1°之範圍內；「大致正交」包含90°±10°之範圍內的情況，例如90°±5°、宜為90°±3°、較宜為90°±1°之範圍內。
A.光學積層體 本發明實施形態之光學積層體包含至少1個光學構件與至少1層黏著劑層。令上述光學積層體所含之黏著劑層之總數為N時，N/2以上之黏著劑層為滿足下述關係之黏著劑層A：從20℃升溫至30℃時之線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。α1/α2小於0.8或大於1.2之黏著劑層有在升溫時與降溫時變形率之差大的傾向，從而反覆溫度變化會造成變形量變大，而有光學積層體之光學特性改變之情形，結果應用作為附顯示器之護目鏡的構成構件時，有對其顯示特性造成影響之情形。相對於此，藉由以預定比率以上使用滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係的黏著劑層，可抑制因黏著劑層之變形造成光學積層體之光學特性的變化。
光學積層體所含之光學構件可舉例如吸收型偏光構件、反射型偏光構件、相位差構件等。
光學積層體所含之黏著劑層的總數N為1以上，宜為2以上，較宜為3以上，且例如為6以下。在一實施形態中，光學積層體所含之黏著劑層的總數N為2以上且5以下，宜為3或4。光學積層體例如於最外層具有黏著劑層，且可透過該黏著劑層貼附於相鄰接之構件上。
黏著劑層A之數量相對於光學積層體所含之黏著劑層的總數的比率為1/2以上，宜為2/3以上，較宜為3/4以上，亦可為1。
當然，因黏著劑層A之數量為整數，故黏著劑層之總數N為奇數時，黏著劑層A之數量為N/2以上且N以下之整數。具體上，N為3時，黏著劑層A之數量為2以上且3以下之整數，即2或3；N為4時，黏著劑層A之數量為2以上且4以下之整數，即2、3或4。此外，在本說明書中，係將滿足下述關係之黏著劑層全部稱為黏著劑層A：從20℃升溫至30℃時之線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。因此，光學積層體所含之複數層黏著劑層為黏著劑層A時，該複數層黏著劑層只要滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係，便無須以具有相同組成之黏著劑組成物形成成相同厚度，亦可以具有不同組成之黏著劑組成物形成成相同或不同厚度。
光學積層體之厚度例如為100µm以上且300µm以下，宜為110µm以上且250µm以下，較宜為120µm以上且200µm以下。以所述整體厚度小的光學積層體來說，因黏著劑層之變形的影響大，故可適宜獲得本發明之效果，即藉由使用升溫時與降溫時變形率之差小的黏著劑層所帶來之效果。
在一實施形態中，黏著劑層A之厚度例如為1µm以上且15µm以下，宜為2µm以上且小於10µm，較宜為3µm以上且8µm以下。藉由使用升溫時與降溫時變形率之差小且厚度小的黏著劑層，可適宜獲得光學特性等之穩定性優異的光學積層體。
以下，一邊參照圖式一邊具體說明本發明實施形態之光學積層體。
A-1.實施形態1 圖1A係本發明一實施形態之光學積層體的概略截面圖。圖1A所示之光學積層體100a依序具有第一黏著劑層a1、偏光構件10、第二黏著劑層a2、第一相位差構件20、第三黏著劑層a3及保護構件30。具體而言，偏光構件10與第一相位差構件20係透過第二黏著劑層a2貼合，且第一相位差構件20與保護構件30係透過第三黏著劑層a3貼合。第一黏著劑層a1係用以與鄰接光學積層體100a本身之構件(例如構成附顯示器之護目鏡的其他構件)貼合的黏著劑層，其表面亦可在供於使用前之期間被剝離襯材保護著。光學積層體100a中，黏著劑層之總數為3，且其中2層以上為上述黏著劑層A。
光學積層體100a之厚度例如為100µm以上且300µm以下，宜為110µm以上且250µm以下，較宜為120µm以上且200µm以下。
＜黏著劑層＞ 光學積層體100a具有合計3層之黏著劑層(第一黏著劑層a1、第二黏著劑層a2及第三黏著劑層a3)，且其中至少2層為黏著劑層A，宜全部為黏著劑層A。
3層黏著劑層中之2層為黏著劑層A時，第一黏著劑層a1及第二黏著劑層a2宜為黏著劑層A。將光學積層體應用於VR護目鏡時，將對溫度變化之形狀穩定性高之黏著劑層A配置於顯示元件及第一相位差構件20附近，藉此可適宜獲得本發明之效果。
如上述，黏著劑層A從20℃升溫至30℃時的線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時的線膨脹係數α2代表上係滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係，宜滿足0.85≦α1/α2≦1.15，較宜滿足0.9≦α1/α2≦1.1之關係。藉由使用所述黏著劑層A，可獲得即使在嚴酷環境下光學特性之穩定性仍優異之光學積層體。黏著劑層A之α1及α2各自只要可獲得本發明之效果則無限制，亦可為任意值。黏著劑層A之α1例如可為5.0×10 -4/℃以上且7.0×10 -4/℃以下。黏著劑層A之α2例如可為5.0×10 -4/℃以上且7.0×10 -4/℃以下，且例如可為6.0×10 -4/℃以上且7.0×10 -4/℃以下。
黏著劑層A從60℃升溫至70℃時的線膨脹係數β1與從70℃降溫至60℃時的線膨脹係數β2例如滿足1.0≦β1/β2≦1.5之關係，宜滿足1.05≦β1/β2≦1.45，較宜滿足1.1≦β1/β2≦1.4之關係。藉由使用所述黏著劑層，可獲得即使在嚴酷環境下光學特性之穩定性仍優異之光學積層體。黏著劑層A之β1及β2各自只要可獲得本發明之效果則無限制，亦可為任意值。黏著劑層A之β1例如可為8.0×10 -4/℃以上且9.0×10 -4/℃以下。黏著劑層A之β2例如可為6.0×10 -4/℃以上且7.0×10 -4/℃以下。
黏著劑層A在25℃下之儲存彈性模數例如為5×10 4Pa以上，宜為10×10 4Pa以上，較宜為12×10 4Pa以上，且例如為20×10 4Pa以下，宜為15×10 4Pa以下。藉由使用升溫時與降溫時之變形率之差小且具有所述儲存彈性模數之黏著劑層，則可獲得即便在嚴酷環境下光學特性之穩定性仍優異之光學積層體。儲存彈性模數例如可藉由使用動態黏彈性測定測定裝置(「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，Rheometric Scientific公司製)之動態黏彈性測定(例如平行板(8.0mmφ)、扭轉模式、頻率範圍1Hz之測定條件)來求算。
黏著劑層A可藉由任意適當之黏著劑組成物形成。形成黏著劑層A之黏著劑組成物可列舉：丙烯酸系黏著劑組成物、橡膠系黏著劑組成物、聚矽氧系黏著劑組成物、聚酯系黏著劑組成物、胺甲酸酯系黏著劑組成物、環氧系黏著劑組成物及聚醚系黏著劑組成物。藉由調整形成黏著劑組成物之基底樹脂的單體的種類、數量、組合及摻混比、以及交聯劑的摻混量、反應溫度、反應時間等，可調製出具有符合目的之所期望特性的黏著劑組成物。黏著劑組成物之基底聚合物可單獨使用，亦可組合二種以上來使用。黏著劑層宜以包含(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物之丙烯酸系黏著劑組成物構成。
在一實施形態中，構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分包含通式CH 2=C(R 1)COOR 2(惟，R 1為氫或甲基，R 2係碳數2~14、宜為碳數3~12、較宜為碳數4~9烷基)所示之(甲基)丙烯酸系單體作為主成分。
通式CH 2=C(R 1)COOR 2所示之(甲基)丙烯酸系單體可列舉例如：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸異肉豆蔻酯)、(甲基)丙烯酸正十三酯、(甲基)丙烯酸正十四酯、(甲基)丙烯酸十八酯、(甲基)丙烯酸異十八酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯等。其中，又可適宜使用(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等。通式CH 2=C(R 1)COOR 2所示之(甲基)丙烯酸系單體可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分中，通式CH 2=C(R 1)COOR 2所示之(甲基)丙烯酸系單體之含有比率例如為50重量%~98重量%，宜為60重量%~90重量%，較宜為70重量%~80重量%。
構成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分宜更包含含氮單體。上述單體成分中，含氮單體之含有比率例如為0.1重量%~35重量%，宜為3重量%~30重量%，較宜為5重量%~25重量%。含氮單體之含有比率若在上述範圍內，便可獲得在加熱環境下及/或高濕環境下之耐久性優異之黏著劑層。
含氮單體係在單體結構中含有1個以上氮原子之聚合性單體，可適宜例示含醯亞胺基單體、含醯胺基單體等。其中，較宜為含醯胺基單體。上述單體成分中，含醯胺基單體之含有比率例如為3重量%~15重量%，宜為5重量%~10重量%。含氮單體可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
含醯胺基單體可列舉：N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-丙基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-丁基馬來醯亞胺、伊康醯亞胺等。
含醯胺基單體可列舉：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基甲基丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯、二丙酮(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基乙醯胺、N,N'-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺等。
其他含氮單體可舉含胺基單體、(甲基)丙烯腈、N-(甲基)丙烯醯基嗎福林、N-乙烯基-2-吡咯啶酮等。
單體成分可在不損及本發明效果之範圍內包含用以調整(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉移點或剝離性的其他聚合性單體。
其他聚合性單體可列舉例如含羧基單體、含磺酸基單體、含磷酸基單體、乙烯酯單體、芳香族乙烯基單體等，該等可有助於提升凝集力、耐熱性等。又可列舉例如含酸酐基單體、含羥基單體、含環氧基單體、乙烯基醚單體等，該等可有助於提升接著力，同時具有作為交聯化基點發揮功用之官能基。又例如可使用具有碳數1或碳數15以上之烷基的(甲基)丙烯酸系單體等。該等聚合性單體可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
含羧基單體可列舉丙烯酸、甲基丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等。其中，可適宜使用丙烯酸及甲基丙烯酸。
含磺酸基單體可列舉苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等。
含磷酸基單體可舉2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等。
乙烯酯單體可舉乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、月桂酸乙烯酯、乙烯基吡咯啶酮等。
芳香族乙烯基單體可舉苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯等。
含酸酐基單體可舉馬來酸酐、伊康酸酐等。
含羥基單體可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯、(4-羥甲基環己基)甲基丙烯酸酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、乙烯醇、烯丙醇、2-羥乙基乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚等。
含環氧基單體可舉環氧丙基(甲基)丙烯酸酯、烯丙基環氧丙基醚等。
乙烯基醚單體可舉甲基乙烯基醚、乙基乙烯基醚、異丁基乙烯基醚等。
具有碳數1或碳數15以上之烷基的(甲基)丙烯酸系單體，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸十五酯、(甲基)丙烯酸十六酯等。
上述單體成分中，上述其他聚合性單體之含有比率例如為0.1重量%~10重量%，宜為0.2重量%~7重量%，較宜為0.5重量%~5重量%。
並且，上述以外之可共聚單體可舉含有矽原子之矽烷系單體等。矽烷系單體可列舉：3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。矽烷系單體可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，上述矽烷系單體之摻混量宜為0.1重量份~3重量份，較宜為0.5重量份~2重量份。使矽烷系單體共聚可適宜提高耐久性。
(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如為60萬以上，宜為150萬以上，較宜為160萬以上，更宜為180萬以上。(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量例如為300萬以下，宜為250萬以下。重量平均分子量若在上述範圍內，便滿足上述α1/α2之關係，而可適宜獲得耐久性及作業性優異之黏著劑層。此外，重量平均分子量係指利用GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定，並藉由聚苯乙烯換算所算出之值。
由容易取得黏著性能之平衡來看，上述(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)例如為-5℃以下，宜為-10℃以下。玻璃轉移溫度高於-5℃時，聚合物不易流動而對被黏體之濕潤變得不充分，有造成於層間發生膨脹的情形。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之玻璃轉移溫度(Tg)可藉由適當變更所用單體成分或組成比來調整至前述範圍內。
(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適當選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知的製造方法。溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。關於具體之溶液聚合例，反應可於氮等非活性氣體氣流下，例如相對於單體總量100重量份添加偶氮雙異丁腈0.01~0.2重量份作為聚合引發劑，且通常在50~70℃左右進行8~30小時左右。所得(甲基)丙烯酸系聚合物亦可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。
在聚合中，可視需要適當選擇任意適當之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等來使用。
丙烯酸系黏著劑組成物包含(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物，宜更包含過氧化物及異氰酸酯系交聯劑。
過氧化物若為經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基底聚合物進行交聯者即可適當使用，但考慮到作業性或穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。1分鐘半衰期溫度若過低，有在塗佈乾燥前之保存時便會進行反應，導致黏度變高而無法塗佈之情形；另一方面，1分鐘半衰期溫度若過高，有交聯反應時之溫度變高而發生副反應、且大量殘留未反應之過氧化物而隨時間進行交聯之情形。
過氧化物可列舉：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，由交聯反應效率優異來看，宜可使用二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。過氧化物可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。有關用以在任意時間內達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂股份公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等之中。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，過氧化物之摻混量例如為0.02重量份~2重量份，宜為0.04重量份~1.5重量份，較宜為0.05重量份~1重量份。過氧化物之摻混量若在上述範圍內，便可獲得耐久性及接著性優異之黏著劑層。
異氰酸酯系交聯劑可舉二異氰酸甲苯酯、二異氰酸二甲苯酯等芳香族異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族異氰酸酯等。異氰酸酯系交聯劑可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
更具體而言，可列舉：伸丁基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類、伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類、2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類、三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate L)、三羥甲丙烷/六亞甲基二異氰酸酯三聚物加成物(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate HL)、六亞甲基二異氰酸酯的三聚異氰酸酯物(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，商品名Coronate HX)等異氰酸酯加成物、聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯、以及該等與各種多元醇之加成物、經以三聚異氰酸酯鍵、縮二脲鍵、脲甲酸酯鍵等多官能化之聚異氰酸酯等。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，異氰酸酯系交聯劑之摻混量例如為0.02重量份~2重量份，宜為0.04重量份~1.5重量份，較宜為0.05重量份~1重量份。異氰酸酯系交聯劑之摻混量若在上述範圍內，便可獲得凝集力及接著性優異之黏著劑層。
交聯劑(過氧化物及異氰酸酯系交聯劑)之摻混量係調整成使經交聯之黏著劑層之凝膠分率成為例如45重量%~95重量%、宜為50重量%~90重量%、較宜為55重量%~85重量%。凝膠分率在上述範圍內之黏著劑層其耐久性及接著性優異。
黏著劑層之凝膠分率(重量%)可為下述方式計算之值：將黏著劑層之乾燥重量W1(g)在約23℃下浸漬於乙酸乙酯中7天後，將上述黏著劑層之不溶解成分從乙酸乙酯中取出並測定乾燥後之重量W2(g)，以(W2/W1)×100計算而得之值。
藉由調整過氧化物及異氰酸酯系交聯劑之摻混量、交聯處理溫度、交聯處理時間等，可將上述凝膠分率調整至所期望之範圍內。
交聯處理溫度或交聯處理時間宜設定成使黏著劑組成物中所含之過氧化物之分解量達50重量%以上，較宜設定成使其達60重量%以上，更宜設定成使其達70重量%以上。
例如，以交聯處理溫度為1分鐘半衰期溫度來說，在1分鐘內過氧化物之分解量為50重量%，在2分鐘內過氧化物之分解量為75重量%，從而必須為1分鐘以上之交聯處理時間。又，例如在交聯處理溫度下過氧化物之半衰期(半衰時間)若為30秒，便需要30秒以上之交聯處理時間，又例如在交聯處理溫度下過氧化物之半衰期(半衰時間)若為5分鐘，便需要5分鐘以上之交聯處理時間。
如此一來，依據使用之過氧化物，交聯處理溫度或交聯處理時間可藉由假設過氧化物呈一次方正比而從半衰期(半衰時間)以理論計算算出，且可適當調節添加量。另一方面，設為愈高溫，產生副反應之可能性便愈高，因此交聯處理溫度宜為170℃以下。
交聯處理時間通常為0.2分鐘~20分鐘左右，宜為0.5分鐘~10分鐘左右。
交聯處理可在黏著劑層的乾燥步驟時之溫度下進行，也可以在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟來進行。
黏著劑組成物中可為了提高接著力、耐久性而摻混矽烷耦合劑。矽烷耦合劑可列舉：3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3-4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。矽烷耦合劑可單獨使用，亦可混合2種以上來使用。
相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，矽烷耦合劑之摻混量例如為0.01重量份~1重量份，宜為0.02重量份~0.6重量份，較宜為0.05重量份~0.3重量份。
上述黏著劑組成物亦可視需要更包含有任意適當之添加劑。添加劑可列舉：界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑等。亦可在可控制之範圍內添加還原劑。
藉由使上述黏著劑組成物交聯可適宜獲得黏著劑層A。上述黏著劑組成物交聯而得之黏著劑層A在升溫時與降溫時之變形率的差小，且即便在已薄層化之情況下，在高溫高濕下之耐久性仍優異。黏著劑組成物可在塗佈於所期望之構件(在圖1A之構成中，為偏光構件、第一相位差構件或保護構件)之表面後進行交聯，亦可塗佈於剝離襯材等之支持體上並交聯後轉印至所期望之構件上。
黏著劑層A之厚度如上述，例如為1µm以上且15µm以下，宜為2µm以上且小於10µm，較宜為3µm以上且8µm以下。
光學積層體可包含上述黏著劑層A以外之黏著劑層。所述黏著劑層亦可藉由任意適當之黏著劑組成物形成。形成黏著劑層A以外之黏著劑層的黏著劑組成物可列舉：丙烯酸系黏著劑組成物、橡膠系黏著劑組成物、聚矽氧系黏著劑組成物、聚酯系黏著劑組成物、胺甲酸酯系黏著劑組成物、環氧系黏著劑組成物及聚醚系黏著劑組成物。由透明性、耐熱性等優異來看，可適宜使用丙烯酸系黏著劑組成物。
黏著劑層A以外之黏著劑層在25℃下之儲存彈性模數例如為5×10 4Pa以上，宜為10×10 4Pa以上，較宜為14×10 4Pa以上，且例如為20×10 4Pa以下，宜為15×10 4Pa以下。
黏著劑層A以外之黏著劑層之厚度例如為12µm以上且100µm以下，宜為12µm以上且80µm以下。
＜偏光構件＞ 偏光膜構件10代表上係包含含二色性物質之樹脂薄膜(有時稱為吸收型偏光膜)的吸收型偏光構件，可視需求於其單側或兩側進一步包含保護層。保護層代表上係透過任意適當之接著劑層貼合於吸收型偏光膜上。形成接著劑層之接著劑代表上可舉紫外線硬化型接著劑。
偏光構件(吸收型偏光膜)之正交透射率(Tc)宜為0.5%以下，較宜為0.1%以下，更宜為0.05%以下。偏光構件(吸收型偏光膜)之單體透射率(Ts)例如為41.0%~45.0%，宜為42.0%以上。偏光構件(吸收型偏光膜)之偏光度(P)例如為99.0%~99.997%，宜為99.9%以上。
上述正交透射率、單體透射率及偏光度例如可使用紫外線可見光光譜光度計來測定。偏光度P可使用紫外線可見光光譜光度計測定單體透射率Ts、平行透射率Tp及正交透射率Tc，並從所得Tp及Tc利用下述式來求算。此外，Ts、Tp及Tc係以JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正後之Y值。 偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)} 1 /2×100
吸收型偏光膜之厚度例如為1µm以上且20µm以下，可為2µm以上且15µm以下，可為12µm以下，可為10µm以下，可為8µm以下，亦可為5µm以下。
上述吸收型偏光膜可由單層樹脂薄膜製作，亦可使用二層以上之積層體來製作。
由單層樹脂薄膜製作時，例如可藉由對聚乙烯醇(PVA)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯・乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等之親水性高分子薄膜，施行利用碘或二色性染料等之二色性物質進行之染色處理、延伸處理等，而獲得吸收型偏光膜。其中，宜為將PVA系薄膜用碘染色並進行單軸延伸所得之吸收型偏光膜。
上述利用碘進行之染色，例如可藉由將PVA系薄膜浸漬於碘水溶液中來進行。上述單軸延伸之延伸倍率宜為3~7倍。延伸可在染色處理後進行，亦可邊染色邊進行。又，亦可延伸後再染色。視需要，對PVA系薄膜施行膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。
作為使用上述二層以上之積層體來製作時的積層體，可列舉以下積層體：樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂薄膜)的積層體；或者樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層的積層體而得之吸收型偏光膜，例如可藉由以下步驟來製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材並使其乾燥，於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層的積層體；及，將該積層體延伸及染色，而將PVA系樹脂層製成吸收型偏光膜。本實施形態中，宜於樹脂基材之單側形成含鹵化物與聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系樹脂層。延伸在代表上包含使積層體浸漬於硼酸水溶液中來延伸。並且視需求，延伸可更包含在硼酸水溶液中進行延伸前將積層體在高溫(例如95℃以上)下進行空中延伸。並且，在本實施形態中，宜將積層體供於乾燥收縮處理，該乾燥收縮處理係將積層體邊往長邊方向輸送邊加熱藉此使其於寬度方向收縮2%以上。代表上，本實施形態之製造方法包含對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理及乾燥收縮處理。藉由導入輔助延伸，即便是在將PVA塗佈於熱塑性樹脂上之情況下仍可提高PVA之結晶性，而可達成高光學特性。又，同時事先提高PVA之定向性，可在後續的染色步驟或延伸步驟中浸漬於水中時，防止PVA之定向性降低或溶解等問題，而可達成高光學特性。並且，將PVA系樹脂層浸漬於液體中時，相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況，更可抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此，可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之吸收型偏光膜的光學特性。並且，透過乾燥收縮處理使積層體於寬度方向收縮，可提升光學特性。所得樹脂基材/吸收型偏光膜之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為吸收型偏光膜之保護層)，亦可於從樹脂基材/吸收型偏光膜之積層體剝離樹脂基材後的剝離面、或於與剝離面相反側的面積層符合目的之任意適當的保護層來使用。所述吸收型偏光膜之製造方法之詳細內容記載於例如日本專利特開2012-73580號公報、日本專利第6470455號中。本說明書中係引用該等公報整體之記載作為參考。
保護層係以可作為吸收型偏光膜之保護層使用之任意適當的薄膜形成。作為成為該薄膜之主成分的材料之具體例，可列舉：聚降𦯉烯系等環烯烴(COP)系、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)系等聚酯系、三醋酸纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、聚碳酸酯(PC)系、(甲基)丙烯酸系、聚乙烯醇系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚苯乙烯系、聚烯烴系及乙酸酯系等之透明樹脂。又，亦可舉(甲基)丙烯酸系、胺甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。其他還可舉例如矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中記載之聚合物薄膜。作為該薄膜之材料，例如可使用含有於側鏈具有取代或非取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂、及於側鏈具有取代或非取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組成物，可舉例如具有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺構成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組成物。該聚合物薄膜例如可為上述樹脂組成物之擠製成形物。樹脂薄膜之材料可單獨或組合來使用。
保護層之厚度代表上為100µm以下，例如為5µm~80µm，宜為10µm~50µm，較宜為15µm~35µm。
＜第一相位差構件＞ 第一相位差構件20包含第1λ/4構件20a。第1λ/4構件20a係配置成使偏光構件10(吸收型偏光膜)之吸收軸與第1λ/4構件20a之慢軸構成的角度宜成為40°~50°、較宜為42°~48°、例如約45°。
第1λ/4構件20a之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第1λ/4構件宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第1λ/4構件之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上且小於1，亦可為0.8以上且0.95以下。
第1λ/4構件宜為折射率特性展現nx＞ny≧nz之關係。在此「ny=nz」不只ny與nz完全相同之情況，還包含實質上相同之情況。因此，在不損及本發明效果之範圍下可有成為ny＜nz之情形。第1λ/4構件之Nz係數宜為0.9~3，較宜為0.9~2.5，更宜為0.9~1.5，尤宜為0.9~1.3。
第1λ/4構件係以可滿足上述特性之任意適當之材料形成。第1λ/4構件例如可為樹脂薄膜之延伸薄膜或液晶化合物之定向固化層。
上述樹脂薄膜所含之樹脂可列舉：聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂等。該等樹脂可單獨使用，亦可組合來使用。組合方法可舉例如摻合、共聚。第1λ/4構件展現逆色散波長特性時，可適宜使用含聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱為聚碳酸酯系樹脂)之樹脂薄膜。
上述聚碳酸酯系樹脂可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如，聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種二羥基化合物之結構單元。聚碳酸酯系樹脂宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元、源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或是源自二、三或聚乙二醇之結構單元；更宜包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可視需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外，可適宜用於第1λ/4構件之聚碳酸酯系樹脂及第1λ/4構件之形成方法的詳細內容，例如記載於日本專利特開2014-10291號公報、日本專利特開2014-26266號公報、日本專利特開2015-212816號公報、日本專利特表2015-212817號公報、日本專利特表2015-212818號公報中，本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
以樹脂薄膜之延伸薄膜構成之第1λ/4構件的厚度例如為10µm~100µm，宜為10µm~70µm，較宜為20µm~60µm。
上述液晶化合物之定向固化層係液晶化合物在層內於預定方向定向且其定向狀態經固定之層。此外，「定向固化層」之概念包含如後述使液晶單體硬化而得之定向硬化層。以第1λ/4構件來說，代表上係棒狀液晶化合物沿第1λ/4構件之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。棒狀液晶化合物可舉例如液晶聚合物及液晶單體。液晶化合物宜可聚合。液晶化合物若可聚合，便可使液晶化合物於定向後進行聚合，藉此固定液晶化合物的定向狀態。
上述液晶化合物之定向固化層(液晶定向固化層)可藉由下述方式來形成：對預定基材之表面施行定向處理，並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液，使該液晶化合物於對應上述定向處理之方向定向，並固定該定向狀態。定向處理可採用任意適當之定向處理。具體上可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。
液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類在可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理，液晶化合物會變為液晶狀態，而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。
在一實施形態中，定向狀態之固定係藉由冷卻依上述方式定向之液晶化合物來進行。當液晶化合物為聚合性或交聯性時，定向狀態之固定係藉由對依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。
上述液晶化合物可使用任意適當之液晶聚合物及/或液晶單體。液晶聚合物及液晶單體各自可單獨使用，亦可組合。液晶化合物之具體例及液晶定向固化層之製作方法記載於例如日本專利特開2006-163343號公報、日本專利特開2006-178389號公報、國際公開第2018/123551號公報中。本說明書即援用該等公報之記載作為參考。
以液晶定向固化層構成之第1λ/4構件的厚度例如為1µm~10µm，宜為1µm~8µm，較宜為1µm~6µm，更宜為1µm~4µm。
＜保護構件＞ 保護構件30代表上包含基材。基材可以任意適當之薄膜構成。作為構成基材之薄膜之主成分的材料可列舉例如：三醋酸纖維素(TAC)等之纖維素系樹脂、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系等之環烯烴系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系及乙酸酯系等之樹脂。基材之厚度宜為5µm~80µm，較宜為10µm~40µm，更宜為15µm~35µm。
保護構件宜具有基材與形成於基材上之表面處理層。表面處理層可位於光學積層體100a之最表面。表面處理層可具有任意適當之功能。表面處理層可舉例如硬塗層、抗反射層、抗黏層、防眩層。保護構件亦可具有2層以上表面處理層。
抗反射層係為了防止外光等之反射而設置。抗反射層可舉例如氟樹脂層、含奈米粒子(代表上為中空奈米粒子，例如中空奈米二氧化矽粒子)之樹脂層、或具有奈米結構(例如蛾眼結構)之抗反射層。抗反射層之厚度宜為0.05µm~1µm。上述樹脂層之形成方法可舉例如溶膠凝膠法、使用異氰酸酯之熱硬化法、使用交聯性單體(例如多官能丙烯酸酯)與光聚合引發劑之游離輻射線硬化法(代表上為光硬化法)。
硬塗層宜具有充分之表面硬度、優異之機械強度及優異之光透射性。硬塗層可由任意適當之樹脂形成。硬塗層代表上係由紫外線硬化型樹脂形成。紫外線硬化型樹脂可舉例如聚酯系、丙烯酸系、胺甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、環氧系。硬塗層之厚度例如為0.5µm以上，宜為1µm以上，且例如為20µm以下，宜為15µm以下。
A-2.實施形態2 圖1B係本發明一實施形態之光學積層體的概略截面圖。圖1B所示之光學積層體100b依序具有：第一黏著劑層a1、偏光構件10、第二黏著劑層a2、包含第1λ/4構件20a之第一相位差構件20、第三黏著劑層a3及保護構件30；該光學積層體100b在下述這點與光學積層體100a不同：第一相位差構件20不僅包含第1λ/4構件20a且還包含有折射率特性可展現nz ＞nx=ny之關係的構件(所謂正C板)20b。偏光構件10之吸收軸與第1λ/4構件20a之慢軸構成之角度宜配置成40°~50°、較宜為42°~48°、例如約45°。
第一相位差構件20具有第1λ/4構件20a與正C板20b之積層結構。具體而言，第1λ/4構件20a與正C板20b係透過接著層b1積層。如圖式例所示，第1λ/4構件20a宜較正C板20b位於更靠偏光構件10側，但該等之配置亦可相反。接著層b1代表上為黏著劑層或接著劑層。接著層b1為接著劑層時，光學積層體100b中之黏著劑層的總數為3，其中2層以上之黏著劑層為黏著劑層A，宜為3層全部為黏著劑層A。接著層b1為黏著劑層時，光學積層體100b中之黏著劑層的總數為4，此時亦為2層以上之黏著劑層為上述黏著劑層A，宜為3層以上、較宜為4層全部黏著劑層為黏著劑層A。接著劑層例如係以紫外線硬化型接著劑形成，其厚度例如為0.05µm~30µm。
光學積層體100b之厚度例如為100µm以上且300µm以下，宜為110µm以上且250µm以下，較宜為120µm以上且200µm以下。
關於黏著劑層、偏光構件、第1λ/4構件及保護構件如A-1項所記載。
＜正C板＞ 正C板20b之厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm，較宜為-70nm~-250nm，更宜為-90nm~-200nm，尤宜為-100nm~-180nm。在此，「nx=ny」不僅包含nx與ny嚴格上相等之情況，還包含nx與ny實質上相等之情況。正C板之面內相位差Re(550)例如小於10nm。
正C板可以任意適當之材料形成。正C板宜由含固定成垂面定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體，亦可為液晶聚合物。所述液晶化合物及正C板之形成方法的具體例可舉日本專利特開2002-333642號公報之段落[0020]~[0028]中記載之液晶化合物及相位差層之形成方法。此時，正C板之厚度宜為0.5µm~5µm。
B.顯示系統 圖2係示意圖，顯示包含A項記載之光學積層體的顯示系統(附顯示器之護目鏡)之一例的概略構成。圖2(a)係示意圖示顯示系統2之主要構成要素之配置及形狀等，圖2(b)係示意圖，用以說明圖2(a)所示之顯示系統2為液晶顯示系統時之上述光學積層體之配置。
如圖2(a)所示，顯示系統2具備有：顯示元件12、反射型偏光構件14、第一透鏡部16、半反射鏡18、第一相位差構件20、第二相位差構件22及第二透鏡部24。反射型偏光構件14係配置於顯示元件12’之顯示面12’側即前方，其可反射從顯示元件12射出之光。第一透鏡部16係配置於顯示元件12與反射型偏光構件14之間的光路上，半反射鏡18係配置於顯示元件12與第一透鏡部16之間。第一相位差構件20係配置於顯示元件12與半反射鏡18之間的光路上，第二相位差構件22係配置於半反射鏡18與反射型偏光構件14之間的光路上。雖未圖示，但顯示系統2可於反射型偏光構件14與第二透鏡部24之間更具備吸收型偏光構件。
有時會將從半反射鏡起配置於前方之構成要素(圖式例中，為半反射鏡18、第一透鏡部16、第二相位差構件22、反射型偏光構件14及第二透鏡部24)統稱為透鏡部(透鏡部4)。
顯示元件12例如為液晶顯示器或有機EL顯示器，且具有用以顯示影像之顯示面12’。要從顯示面12’射出之光例如會通過顯示元件12可包含之偏光構件10後射出，成為第1直線偏光。
第一相位差構件20包含第1λ/4構件，其可將入射第一相位差構件20之第1直線偏光轉換成第1圓偏光。第一相位差構件不包含第1λ/4構件以外之構件時，第一相位差構件便相當於第1λ/4構件。此外，在圖式例中，為了說明，而於第一相位差構件20與顯示元件12之間中介有空間，但如後述，本發明實施形態之顯示系統係藉由使用包含如A項記載之偏光構件與第一相位差構件(第1λ/4構件)之光學積層體，而將第一相位差構件20與顯示元件12設置成一體。
半反射鏡18會將從顯示元件12射出之光透射，並將反射型偏光構件14所反射之光朝反射型偏光構件14反射。半反射鏡18係設於第一透鏡部16上而成一體。
第二相位差構件22包含第2λ/4構件，其可使在反射型偏光構件14及半反射鏡18反射之光透射反射型偏光構件14。第二相位差構件不包含第2λ/4構件以外之構件時，第二相位差構件便相當於第2λ/4構件。第二相位差構件22亦可設於第一透鏡部16上而成一體。
從第一相位差構件20所含之第1λ/4構件射出之第1圓偏光會通過半反射鏡18及第一透鏡部16，藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第2直線偏光。從第2λ/4構件射出之第2直線偏光不會透射反射型偏光構件14而朝半反射鏡18反射。此時，入射反射型偏光構件14之第2直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件14之反射軸同方向。因此，入射反射型偏光構件14之第2直線偏光會被反射型偏光構件14反射。
被反射型偏光構件14反射之第2直線偏光藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第2圓偏光，而從第2λ/4構件射出之第2圓偏光係通過第一透鏡部16而被半反射鏡18反射。被半反射鏡18反射之第2圓偏光會通過第一透鏡部16，藉由第二相位差構件22所含之第2λ/4構件轉換成第3直線偏光。第3直線偏光會透射反射型偏光構件14。此時，入射反射型偏光構件14之第3直線偏光的偏光方向係與反射型偏光構件14之透射軸同方向。因此，入射反射型偏光構件14之第3直線偏光會透射反射型偏光構件14。
如上述，顯示系統2亦可於反射型偏光構件14之前方(靠近眼睛側)包含有吸收型偏光構件(代表上為吸收型偏光薄膜)。反射型偏光構件14之反射軸與吸收型偏光構件之吸收軸可配置成互相大致平行，且反射型偏光構件之透射軸與吸收型偏光構件之透射軸可配置成互相大致平行。藉此，透射反射型偏光構件14之第3直線偏光可直接透射吸收型偏光構件。反射型偏光構件與吸收型偏光構件例如亦可透過接著層積層。
透射反射型偏光構件14之光會通過第二透鏡部24入射使用者之眼睛26。
例如，顯示元件12所含之偏光構件10之吸收軸與反射型偏光構件14之反射軸可配置成互相大致平行，亦可配置成大致正交。顯示元件12所含之偏光構件10之吸收軸與第一相位差構件20所含之第1λ/4構件之慢軸構成的角度例如為40°~50°，可為42°~48°，亦可為約45°。顯示元件12所含之偏光構件10之吸收軸與第二相位差構件22所含之第2λ/4構件之慢軸構成的角度例如為40°~50°，可為42°~48°，亦可為約45°。包含偏光構件10及第1λ/4構件之第一相位差構件20各自如A項所記載。
第2λ/4構件之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第2λ/4構件宜展現相位差值隨測定光之波長而變大的逆色散波長特性。第2λ/4構件宜滿足Re(450)＜Re(550)＜Re(650)之關係。第2λ/4構件之Re(450)/Re(550)例如為0.75以上且小於1，亦可為0.8以上且0.95以下。
圖2(b)係顯示顯示系統2為液晶顯示系統時之光學積層體之配置。光學積層體100可適宜使用圖1A或圖1B中記載之光學積層體100a、100b。圖式例中，顯示元件12包含背光單元12a、背光側偏光構件12b、液晶單元12c及偏光構件10。背光側偏光構件12b與偏光構件10代表上係配置成使吸收軸方向互相大致正交，而與液晶單元12c一同構成液晶面板。光學積層體100係配置於半反射鏡18之顯示元件12側，在此，偏光構件10係透過黏著劑層a1貼合於液晶單元12c，又，第一相位差構件20(第1λ/4構件)係透過黏著劑層a2與偏光構件10貼合，結果成為顯示元件12與第一相位差構件20(第1λ/4構件)設置成一體之構成。又，藉由配置成具有表面處理層之保護構件30之該表面處理層成為最表面，可在半反射鏡18與第一相位差構件20(保護構件30)之間形成有空間之顯示系統獲得優異之抗反射效果。此外，圖式例之實施形態中，光學積層體100係貼合於液晶單元，而本發明實施形態之光學積層體亦可與有機EL面板一同構成有機EL顯示系統。此時，可於光學積層體100與有機EL面板之間配置包含第3λ/4構件之第三相位差構件。第三相位差構件亦可包含於本發明實施形態之光學積層體中。例如，本發明實施形態之光學積層體亦可透過接著層依序具有第三相位差構件、偏光構件、第一相位差構件及保護構件。具體而言，光學積層體可具有[黏著劑層/第三相位差構件/黏著劑層/偏光構件/黏著劑層/第一相位差構件/黏著劑層/保護構件]之構成，在該構成中可包含至少4層黏著劑層。黏著劑層之總數為4時，可於其中2層以上、宜3層或4層黏著劑層使用黏著劑層A。第3λ/4構件之面內相位差Re(550)例如為100nm~190nm，可為110nm~180nm，可為130nm~160nm，亦可為135nm~155nm。第3λ/4構件可應用與第1λ/4構件相同之說明。第三相位差構件可配置成使第3λ/4構件之慢軸與偏光構件10之吸收軸構成例如40°~50°、42°~48°或約45°之角度。
實施例 以下，藉由實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例所限。此外，厚度係藉由下述測定方法測定之值。 ＜厚度＞ 10µm以下的厚度係使用掃描型電子顯微鏡(日本電子公司製，製品名「JSM-7100F」)進行測定。大於10µm的厚度係使用數位測微器(Anritsu公司製，產品名「KC-351C」)進行測定。 ＜面內相位差＞ 使用王子計測器公司製「KOBRA-WPR」測定23℃下之面內相位差。 ＜線膨脹係數＞ 將黏著劑層(厚度1mm)切削成約5mm見方，並將所得者作為測定試料使用。將測定試料設置於測定裝置之試料台，按下述條件進行TMA測定。 ・測定裝置：SII NanoTechnology Inc.製「TMA/SS6000」 ・測定模式：壓縮膨脹法 ・測定荷重：9.8mN ・探針直徑：3.5mmφ(壓縮膨脹法) ・溫度過程：-60℃→210℃→-70℃→200℃ ・升溫/降溫速度：10℃/分鐘 ・測定氣體環境：N 2(流量：200ml/分鐘) ＜分子量之測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係利用GPC(凝膠滲透層析法)測定且以聚苯乙烯換算來算出。 ・分析裝置：東曹(Tosoh)公司製，HLC-8120GPC ・數據處理裝置：東曹(Tosoh)公司製，GPC-8020 ・管柱：東曹(Tosoh)公司製，G7000HXL-H+GMHXL+GMHXL ・管柱尺寸；各7.8mmφ×30cm(合計90cm) ・流量：0.8ml/分鐘 ・注入試料濃度：約0.1重量% ・注入量：100µl ・管柱溫度：40℃ ・溶析液：四氫呋喃 ・檢測器：示差折射計(RI)
[製造例1A：黏著劑層1之製作] ＜丙烯酸系聚合物1＞ 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，饋入丙烯酸丁酯92重量份、N-丙烯醯基嗎福林(ACMO)5重量份、丙烯酸2.9重量份、丙烯酸2-羥乙酯0.1重量份、作為聚合引發劑之2,2-偶氮雙異丁腈0.1重量份、乙酸乙酯100重量份，一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫保持在55℃附近進行8小時聚合反應，而調製出丙烯酸系聚合物1之溶液。丙烯酸系聚合物1之重量平均分子量為200萬。
＜黏著劑溶液1＞ 相對於丙烯酸系聚合物1之溶液的固體成分100重量份，混合作為交聯劑之二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期：130℃)0.15重量份及二異氰酸甲苯酯之三羥甲丙烷加成物構成的聚異氰酸酯系交聯劑(Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.製，Coronate L)0.6重量份，而調製出丙烯酸系黏著劑溶液1。
＜黏著劑層1＞ 將丙烯酸系黏著劑溶液1塗佈於經施行聚矽氧處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(Mitsubishi Polyester Film公司製，厚度：38µm)之單面，並在150℃下進行3分鐘乾燥、交聯處理，而形成乾燥後之厚度為5µm的黏著劑層1。
[製造例1B：黏著劑層2之製作] ＜丙烯酸系聚合物2＞ 於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器之四口燒瓶中，饋入含有丙烯酸丁酯94.9重量份、丙烯酸5重量份及丙烯酸2-羥乙酯0.1重量份之單體混合物。並相對於該單體混合物100重量份，將作為聚合引發劑之二苯甲醯基過氧化物0.3重量份與乙酸乙酯一同饋入，一邊緩慢地攪拌一邊導入氮氣將燒瓶內進行氮取代後，將燒瓶內之液溫保持在60℃進行7小時聚合反應。接著，於所得之反應液中添加乙酸乙酯調整成固體成分濃度30重量%，藉此獲得丙烯酸系聚合物2之溶液。丙烯酸系聚合物2之重量平均分子量為220萬。
＜黏著劑溶液2＞ 相對於丙烯酸系聚合物2之溶液的固體成分100重量份，混合聚異氰酸酯系交聯劑(三羥甲丙烷/二異氰酸甲苯酯加成物，Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，Coronate L)0.6重量份及矽烷耦合劑(信越化學工業公司製，KBM403)0.075重量份，而調製出丙烯酸系黏著劑溶液2。
＜黏著劑層2＞ 將丙烯酸系黏著劑溶液2塗佈於經施行聚矽氧處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(Mitsubishi Polyester Film公司製，厚度：38µm)之單面，並在預定溫度下乾燥，而形成厚度12µm、15µm或20µm之黏著劑層2。
[製造例2：偏光薄膜1之製作] 將厚度30µm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜(Kuraray公司製，製品名「PE3000」)的長條捲材，利用輥延伸機往長邊方向進行單軸延伸使其沿長邊方向成為5.9倍，並同時施以膨潤、染色、交聯、洗淨處理，最後施以乾燥處理，藉此製作出厚度12µm之吸收型偏光膜。 具體而言，膨潤處理係於20℃之純水中一邊進行處理一邊延伸成2.2倍。接著，染色處理係一邊於碘與碘化鉀之重量比為1：7之30℃的水溶液中進行處理一邊延伸成1.4倍，且該水溶液之碘濃度已調整成可使所得吸收型偏光膜之單體透射率成為45.0%。並且，交聯處理係採用二階段之交聯處理，第一階段之交聯處理係一邊於40℃的溶有硼酸與碘化鉀的水溶液中進行處理一邊延伸成1.2倍。第一階段之交聯處理的水溶液之硼酸含量為5.0重量%，碘化鉀含量係設為3.0重量%。第二階段之交聯處理係一邊於65℃的硼酸與碘化鉀的水溶液中進行處理一邊延伸成1.6倍。第二階段之交聯處理的水溶液之硼酸含量為4.3重量%，碘化鉀含量係設為5.0重量%。又，洗淨處理係以20℃之碘化鉀水溶液進行處理。洗淨處理之水溶液的碘化鉀含量係設為2.6重量%。最後，乾燥處理係於70℃下使其乾燥5分鐘而獲得吸收型偏光膜。 於所得吸收型偏光膜兩面透過紫外線硬化型接著劑貼合作為保護層之三醋酸纖維素(TAC)系樹脂薄膜(厚度：22µm)。具體而言，係塗敷成紫外線硬化型接著劑之總厚度成為約1µm，並使用輥軋機進行貼合。然後，從TAC薄膜側照射UV光線使接著劑硬化。 藉此，獲得具有[TAC薄膜(保護層)/吸收型偏光膜/TAC薄膜(保護層)]之構成的偏光薄膜1(厚度57µm)。
[製造例3：λ/4構件1之製作] 使用由2台具備有攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10 -2質量份(6.78×10 -5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後，以熱介質加溫，並於內溫達100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，控制維持該溫度的同時開始減壓，在達到220℃後以90分鐘使其成為13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器，使苯酚蒸氣中所含些許量之單體成分返回反應器，並將未凝聚之苯酚蒸氣導入45℃的凝聚器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓後，將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著，開始進行第2反應器內的升溫及減壓，並以50分鐘使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。然後，進行聚合直到達到預定之攪拌功率。在達到預定功率之時間點將氮導入反應器中使壓力回復，並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠出至水中，裁切束狀物而獲得丸粒。
將所得聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後，使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製，缸筒設定溫度：250℃)、T型模(寬200mm，設定溫度：250℃)、冷卻輥(設定溫度：120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置，製作出厚度135µm之長條狀樹脂薄膜。將所得長條狀樹脂薄膜以延伸溫度143℃、延伸倍率2.8倍沿寬度方向延伸。藉此獲得厚度51µm之延伸薄膜(λ/4構件1)。λ/4構件1之Re(590)為143nm，Re(450)/Re(550)為0.86，Nz係數為1.12。
[製造例4：保護構件1之製作] 於具有內酯環結構之丙烯酸薄膜塗佈下述所示之硬塗層形成用材料，並使塗佈層乾燥而形成厚度0.5µm之硬塗層。接著，於硬塗層表面塗佈下述所示之抗反射層形成材料並在80℃下加熱1分鐘後，以高壓水銀燈對加熱後之塗佈層照射累積光量300mJ/cm 2之紫外線使塗佈層硬化，而形成厚度0.1µm之抗反射層。藉此，獲得具有[丙烯酸薄膜/硬塗層/抗反射層]之構成的保護構件1(厚度44µm)。
(硬塗層形成用材料) 於丙烯酸系樹脂原料(大日本油墨公司製，商品名：GRANDIC PC1071)中加入調平劑0.5重量%，並以乙酸乙酯稀釋成固體成分濃度成為50重量%，藉此調製出硬塗層形成用材料。此外，調平劑係以二甲基矽氧烷：羥丙基矽氧烷：6-異氰酸酯己基三聚異氰酸：脂肪族聚酯=6.3：1.0：2.2：1.0之莫耳比共聚而成的共聚物。
(抗反射層形成材料) 混合以新戊四醇三丙烯酸酯為主成分之多官能丙烯酸酯(大阪有機化學工業股份公司製，商品名「Viscoat #300」，固體成分100重量%)100重量份、中空奈米二氧化矽粒子(日揮觸媒化成工業股份公司製，商品名「THRULYA 5320」，固體成分20重量%，重量平均粒徑75nm)100重量份、實心奈米二氧化矽粒子(日產化學工業股份公司製，商品名「MEK-2140Z-AC」，固體成分30重量%，重量平均粒徑10nm)、含氟添加劑(信越化學工業股份公司製，商品名「KY-1203」，固體成分20重量%)12重量份及光聚合引發劑(BASF公司製，商品名「OMNIRAD907」，固體成分100重量%)3重量份。於該混合物中，添加以60：25：15重量比混合三級丁醇、甲基異丁基酮及丙二醇單甲基醚乙酸酯而成之混合溶劑作為稀釋溶劑，使整體之固體成分成為4重量%，並攪拌而調製出抗反射層形成材料。
[實施例1] 於偏光薄膜1之其中一面按每個PET薄膜貼合黏著劑層1(厚度5µm)，並從PET薄膜將另一黏著劑層1(厚度5µm)轉印至另一面，再於其上貼合λ/4構件1。此時，係配置成使吸收型偏光膜之吸收軸與λ/4構件1之慢軸構成的角度成為45°。 接著，從PET薄膜將另一黏著劑層1(厚度5µm)轉印至λ/4構件1之表面，並於其上貼合保護構件1。此時，係貼合成使保護構件1之丙烯酸薄膜側表面在λ/4構件1側(換言之，使表面處理層成為最表面)。 依以上方式，而獲得具有[剝離襯材(PET薄膜)/黏著劑層1/偏光薄膜1/黏著劑層1/λ/4構件1/黏著劑層1/保護構件1]之構成的光學積層體。
[實施例2、比較例1-2] 除了將3層黏著劑層1中之1層以上變更成黏著劑層2外，以與實施例1相同方式而獲得光學積層體。將各光學積層體之構成顯示於表1。又，將黏著劑層1及2之線膨脹係數(N=2的平均值)顯示於表2。
＜濕熱試驗＞ 從實施例及比較例所得之光學積層體剝離剝離襯材，並透過露出之黏著劑層貼合於玻璃板，而獲得試驗試樣。將試驗試樣放置於65℃90RH%之濕熱烘箱內240小時。測定光學積層體在試驗前、放置120小時或240小時後之面內相位差。面內相位差之測定係從烘箱取出試驗試樣，並從玻璃板側照射測定光來進行。將結果顯示於表1及圖3。此外，表1中，相位差變化表示光學積層體在試驗前之Re(590) before、與光學積層體在放置240小時後之Re(590) after的差(Re(590) before-Re(590) after)。
[表1]
[表2]
如表1及表2所示，實施例之光學積層體係合計3層黏著劑層中之2層以上之黏著劑層滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係者，從而在濕熱條件下之光學特性的穩定性優異。
本發明不受上述實施形態所限，可進行各種變形。例如，可以實質上與上述實施形態所示構成相同之構成、可發揮相同作用效果之構成或可達成相同目的之構成作取代。
產業上之可利用性 本發明實施形態之光學積層體例如可用於製造VR護目鏡等之附顯示器之護目鏡。
2:顯示系統 4:透鏡部 10:偏光構件 12:顯示元件 12':顯示面 12a:背光單元 12b:背光側偏光構件 12c:液晶單元 14:反射型偏光構件 16:第一透鏡部 18:半反射鏡 20:第一相位差構件 20a:第1λ/4構件 20b:正C板 22:第二相位差構件 24:第二透鏡部 26:使用者之眼睛 30:保護構件 100,100a,100b:光學積層體 a1:第一黏著劑層 a2:第二黏著劑層 a3:第三黏著劑層 b1:接著層
圖1A係本發明一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。 圖1B係本發明一實施形態之光學積層體的概略剖面圖。 圖2係顯示本發明一實施形態之顯示系統之概略構成的示意圖。 圖3係顯示實施例及比較例所得之光學積層體之濕熱試驗結果的圖。
2:顯示系統
4:透鏡部
10:偏光構件
12:顯示元件
12':顯示面
12a:背光單元
12b:背光側偏光構件
12c:液晶單元
14:反射型偏光構件
16:第一透鏡部
18:半反射鏡
20:第一相位差構件
22:第二相位差構件
24:第二透鏡部
26:使用者之眼睛
30:保護構件
100:光學積層體
a1:第一黏著劑層
a2:第二黏著劑層
a3:第三黏著劑層

Claims (9)

  1. 一種光學積層體，包含至少1個光學構件與至少1層黏著劑層； 令前述光學積層體所含之前述黏著劑層之總數為N時，N/2以上之黏著劑層為滿足下述關係之黏著劑層A：從20℃升溫至30℃時之線膨脹係數α1與從30℃降溫至20℃時之線膨脹係數α2滿足0.8≦α1/α2≦1.2之關係。
  2. 如請求項1之光學積層體，其中前述黏著劑層A之厚度為1µm以上且15µm以下。
  3. 如請求項1之光學積層體，其厚度為100µm以上且300µm以下。
  4. 如請求項1之光學積層體，其中前述光學積層體依序具有第一黏著劑層、偏光構件、第二黏著劑層、第一相位差構件、第三黏著劑層及保護構件；並且 選自前述第一、第二及第三黏著劑層中之2層以上為前述黏著劑層A。
  5. 如請求項4之光學積層體，其中前述第一相位差構件包含λ/4構件。
  6. 如請求項4之光學積層體，其中前述保護構件具有表面處理層。
  7. 如請求項1之光學積層體，其中構成前述黏著劑層A之黏著劑組成物包含具有150萬以上之重量平均分子量的(甲基)丙烯酸系聚合物。
  8. 一種顯示系統，包含如請求項1至7中任一項之光學積層體。
  9. 如請求項8之顯示系統，其具備： 顯示元件，其具有顯示面，該顯示面會將顯示影像之光隔著偏光構件而朝前方射出； 反射型偏光構件，配置於前述顯示元件之前方，且會反射從前述顯示元件射出之光； 第一透鏡部，配置於前述顯示元件與前述反射型偏光構件之間的光路上； 半反射鏡，配置於前述顯示元件與前述第一透鏡部之間，且該半反射鏡會將從前述顯示元件射出之光透射，並將前述反射型偏光構件所反射之光朝向前述反射型偏光構件反射； 第1λ/4構件，配置於前述顯示元件與前述半反射鏡之間的光路上；及 第2λ/4構件，配置於前述半反射鏡與前述反射型偏光構件之間的光路上；且 如請求項5之光學積層體係以使前述顯示元件與前述第1λ/4板設置成一體之方式，配置於前述半反射鏡之前述顯示元件側。
TW112109164A 2022-03-14 2023-03-13 光學積層體及顯示系統 TW202346089A (zh)

Applications Claiming Priority (28)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022039286 2022-03-14
JP2022-039286 2022-03-14
JP2022039285 2022-03-14
JP2022-039285 2022-03-14
JP2022-077633 2022-05-10
JP2022077631A JP2023134316A (ja) 2022-03-14 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022-077632 2022-05-10
JP2022077633A JP7516456B2 (ja) 2022-05-10 2022-05-10 表示方法
JP2022-077634 2022-05-10
JP2022-077678 2022-05-10
JP2022-077658 2022-05-10
JP2022077657A JP2023134317A (ja) 2022-03-14 2022-05-10 表示システム、表示方法、表示体および表示体の製造方法
JP2022-077676 2022-05-10
JP2022077676A JP2023166851A (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022077658A JP2023166840A (ja) 2022-05-10 2022-05-10 表示システム、表示方法、表示体および表示体の製造方法
JP2022-077631 2022-05-10
JP2022077632A JP7516455B2 (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022-077657 2022-05-10
JP2022-077679 2022-05-10
JP2022077678A JP2023166853A (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022077677A JP2023166852A (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022-077659 2022-05-10
JP2022077634A JP7516457B2 (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022077679A JP7516458B2 (ja) 2022-05-10 2022-05-10 レンズ部、積層体、表示体、表示体の製造方法および表示方法
JP2022-077677 2022-05-10
JP2022077659A JP2023166841A (ja) 2022-05-10 2022-05-10 表示システム、表示方法、表示体および表示体の製造方法
JP2022-212221 2022-12-28
JP2022212221A JP2024095149A (ja) 2022-12-28 2022-12-28 光学積層体および表示システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW202346089A true TW202346089A (zh) 2023-12-01

Family

ID=88023250

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW112109164A TW202346089A (zh) 2022-03-14 2023-03-13 光學積層體及顯示系統

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW202346089A (zh)
WO (1) WO2023176628A1 (zh)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4869015B2 (ja) * 2005-10-18 2012-02-01 日東電工株式会社 粘着剤組成物、粘着剤層およびその製造方法、ならびに粘着剤付光学部材
KR101908182B1 (ko) * 2016-04-22 2018-10-15 삼성에스디아이 주식회사 점착필름, 이를 포함하는 광학부재 및 이를 포함하는 광학표시장치
US10203489B2 (en) * 2016-08-02 2019-02-12 Apple Inc. Optical system for head-mounted display

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023176628A1 (ja) 2023-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI822718B (zh) 偏光板
JP2020003650A (ja) 光学積層体および有機ｅｌ表示装置
KR20210008003A (ko) 편광판 및 표시 장치
CN111512197B (zh) 偏振板
JP2017049574A (ja) 光学積層体
JP7498606B2 (ja) 画像表示装置および光学部材のセット
JP6935530B2 (ja) 積層体およびそれを含む表示装置
TW202426983A (zh) 附相位差層之偏光板及包含附相位差層之偏光板的影像顯示裝置
TW202346089A (zh) 光學積層體及顯示系統
CN114641711B (zh) 图像显示装置及光学构件组
CN116235101A (zh) 偏光板、附有覆盖玻璃的偏光板及图像显示装置
JP2024095149A (ja) 光学積層体および表示システム
TWI856195B (zh) 圖像顯示裝置及光學構件之套組
TW202345432A (zh) 附表面保護薄膜之光學積層體及顯示系統之製造方法
WO2023042518A1 (ja) 光学積層体
US10816848B2 (en) Polarizing plate, and method for manufacturing polarizing plate including bonding optical rotary layer to polarizer and adjusting storage elastic modulus of bonding layer
JP2024095263A (ja) 画像表示装置
JP6938701B2 (ja) 積層体およびそれを含む表示装置
TW202438939A (zh) 附相位差層的偏光板以及影像顯示裝置
TW202318041A (zh) 附相位差層之偏光板
TW202404803A (zh) 光學積層體
KR20230031220A (ko) 위상차층 및 점착제층 구비 편광판, 그리고 해당 위상차층 및 점착제층 구비 편광판을 사용한 화상 표시 장치
TW202402524A (zh) 附表面保護薄膜之光學積層體及其製造方法
JP2024027295A (ja) 偏光板および該偏光板を用いた画像表示装置
TW202248246A (zh) 黏著片、光學積層體、影像顯示裝置及黏著片之製造方法