TW200521637A - Exposure device for printed circuit board responsive to board dimension variation - Google Patents
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Description
200521637 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種對應基板伸縮之印刷電路板用曝光 裝置。 【先前技術】 ^隧著近年來電子製品的輕薄短小化•高機能化,印刷 =路板越來越高精度•高密度化,因此在製造印刷電路板 %也要使用㈣光裝置將預定圖案感光成像在塗布 光阻y等之感光材料的基板表面,然後藉由钱刻步驟在 土板上形成圖案的微影法。 由於印刷電路板之材料為塑膠,因此通過製程 ^胃$職學藥品或熱職生的衝擊並且發生伸缩。要 在P刷電路板利用微影的手法 案時,通常可藓AA 深及鮮錫先阻劑的圖 ^, 由稷數次的微影法來製造。一π所#田+ 使光罩及印刷電路板密接而曝光的贫又所吏用之 精度·高密度的印刷電路板時^ 要以高 響’而使圖案無法配置在適當的二伸:會-來不良的影 得多層板之各層間之結人* ,因此會產生為了取 光阻劑之開口部位移的;題的位置偏移、或是鮮錫 得不對圖案進行具有充分裕度的^止這種情況產生,不 度·高密度化造成影響。 、又汁,結果就會對高精 為了解決上述問題, 〈習知技術] > 知用以下的解決方法。 藉由其他步驟測定印刷 J1甲蝻置亚且依測定結 316402 200521637 果予以分組。從預先準備之不同尺寸的複數種光罩中,依 各組選取最適當的光罩放置在眼 、, 隹*光衣置,亚將印刷電路板 依組別投入曝光裝置的方法。 〈習知技術2> 2光裝置設置分㈣㈣(shutter)功能,並非 有面和整面一起曝光,而是拉 疋猎由刀剎成複數個區域而曝 先,以儘置減少圖案位置偏移量的方法。 一 〈習知技術3> 使用投影曝光裝置的方法。由於可藉由使透^ 動來進行光罩的倍率修正,因此配 夕 而進行光罩之倍率修正並且曝光的方法。的伸^ [專利文獻1]曰本特開2000_250227號 【發明内容】 [發明所欲解決之課題] ;二在上述習知技術中分別有如下的問題。 =技術!在將印刷電路板投入曝光裝置之前 先測疋伸縮量並且做好八 要預讀 習知 刀、、且,因而增加多餘之製程。 ;LJ疋在進行曝光時,並非所有面产敕而 曝光,而是分室JA 齐所百面和整面一起
Λ ^ 成祓數次而曝光,因此有曝光時門從I 致處理時間變長的缺點。 h先4間笑長以 習知技術3則是裝置罝 同等的處理時間,需要ir亦南’為了獲得與密接方式 費用需要密接方式的1。倍左右之多。0而小入 本發明之目的在於解決上述習知技術的問題。 316402 7 200521637 [用以解決課題之手段] :了達成上述目的,本發明提供 光裝置,其特徵為呈有· S + 丨Μ包給槪用曝 繪的不同大小上L:應印刷電路板之伸縮而描 檢知的複數個光罩(一。嗽 檢知的手段而得知的曝光前少< ο手奴,攸猎由耵述 針、十、、—p刷電路板的伸縮狀態,從 刚述稷數個光罩中選擇最適各 〜攸 擇的光罩—&罟, 々手段;將前述所選 禪的光罩叹置在曝光部的手段;以、 的光罩,然後對前述印刷電用5又置在该曝光部 在上、千m 订曝光的曝光手段。 縮狀態,並選擇適人*先別榀知印刷電路板的伸 因此可進行有效率且古_疮_ 再叹置农曝光部, 丁令效卞且月度•高密度的曝光。 可構成使前述複數個光罩形成、, 且使該薄膜狀的光I h寻艇狀先罩,亚 邻m 罩私動而將所選擇的光罩設置在曝光 「心措由此構成可進行更有效率的曝光。 在*先 [發明之效果] 根據本發明之印刷電路板 事前測定伸縮旦廿μ& 彳、尤衣置,具有不會產生 j疋伸、、佰里亚做好組群區 間與習知宓接$ 夕餘手‘,而在節拍時 的價格下等,裝置導入費用也大致同等 最小限度,::=縮所造成的圖案位移的影響抑制在 精度·产的:篇/土地進灯生產’而可有效率地製造高 回山度的印刷電路板的效果。 【貫施方式】 以下根據圖式來說明本發明之實施形態。 316402 200521637 第1圖中,此印刷電路板用曝光裝置具有投 曝光部β。 反 在刖步驟施有光阻劑的基板50是經由投入部a而載 於曝光部B的载置台(stage)4上,而可在此接受曝光载置 載置口 4可朝χγζ & θ方向移動,而可使所 板標記51與光罩薄膜丨進行對位。 1基 在 & Α。又有搬送滾輪20,在此上方移動而來的美 板可藉由兩台或四台咖相機2讀取其基板標記/ 51。基板標記51是事先設在基板50上的㈣位置,夢由 板標記51、51的位置關係,便可算出基板 伸縮置。 來自CCD相機2之基板標記51白勺晝像會被送到控制裝 置3,並在此計算出伸縮量。 、 此外1基板標記51可❹與光罩進行對位用的標記。 於=我1是形成連續的薄膜狀,並且捲繞在光罩滾 輪10、1 0上。然後藉由滾輪 的基板50上。 Π構成位在載置台4上 在光罩薄膜1設有複數個光罩15。亦即,描緣有複數 個具有以設計值尺寸作成之曝光圖案的標準光罩15、以及 =於該標準圖案描”微小尺寸不同之大小之圖案的光 罩15。被小尺寸最好是事先準備好預定數量之相對於例 如曝光尺寸500_而在Χγ方向皆以1〇微米左右之一定比 例’使@案备§小及擴大後的圖案。 另外’在預先已知道會因為基板材料之伸縮特性或所 316402 9 200521637 描繪之圖案以致以方向的伸縮率不-定的情況下,又最好 準備配合χγ之各個伸縮之尺寸的光罩。 控制裝置3可對光罩滾輪1〇進行驅動控制而進行旋 LV:止Λ之控制,並且使具有預定尺寸之光罩圖案的光 罩15位在基板50上。 控制裝置3是如前所述而構成,即根據來自⑽相機 2之基板標記51的晝像訊號計算㈣縮量,並且從該計算 結果’使在光罩薄膜1中具有最洎 光罩15位在基板50上。適田之尺寸之曝光圖案的 當基板50,皮載置於載置台4,並且在該基板5〇使最 適观罩15位於基板50上之後,利用CCD相機43分別 項取基板標記51及預先設在光罩15的定位標記(未圖 了)’並且使載置纟4朝XY& 0方向移動,以 與光罩15的定位。 然後,使載置台4朝Z方向上升,並且如第2圖所干, 以包圍破螭板40及玻璃板4〇之周圍的方式,使安裴於四 邊的墊圈41經由光罩薄膜1密接於載置台4。 同時,從吸引孔42進行真空吸引,藉此使光罩“與 土板50岔接,在CCD相機43從曝光區域退開之後,從光 源5發出紫外線光並進行曝光。 曝光結束後便排出基板50。通常是利用反轉機使美 反轉並進行背面的曝光。 土 #路此外,亦可取代玻璃板40而使用壓克力(丙烯酸樹脂) 等紫外線可透過的塑膠製品。 曰 316402 10 200521637 所說明的實施形態由於是在投入部A算出基板5〇 ^伸縮量’並且在曝光時使用對應該伸縮量的光罩15,因 可有效率地進行高精度的曝光。 【圖式簡單說明】 [主 1 3 5 11 20 41 43 51 ^西疋本务明之一Λ他艰恶的概略圖〇 昂2圖是本發明之一實施形態之動作的說 要元件符號說明】 光罩薄膜 控制裝置 光源 滚輪 搬送滾輪 墊圈 CCD相機 基板標記 2 CCD相機 4 載置台 10 光罩滾輪 15 光罩 40 玻璃板 42 吸引孔 50 基板
Claims (1)
- 200521637 、申清專利範圍: 1. -種印刷電路板用曝光裝置,係具有: 具有對應印刷電路# 之要曝光圖案的複數個光罩,中縮而描緣的不同大々 ::1 暴光f之印刷電路板之伸縮狀態的手段. 仗猎由珂述檢知手段 卞半又’ 路板的伸縮狀鲅,從前—、、+光岫之印刷電 光罩的手段;““數個光罩中選擇最適當; :二ί:::的光罩設置在曝光部的手段;以及 使用叹置在該曝光部的光Ά 路板進行曝光的曝料段。 4印刷電 =申請專利範圍第1項之印刷電路板料光裝置,其 二,複數個光罩係連續的薄膜狀光罩, 設置所選擇的光罩。、&〜㈣狀的光罩移動而 :申%專利範圍第丨項之印刷電路板用曝光裝置,其 二述複數個光罩係連續的薄膜狀光罩, 光罩具有用來捲取/捲回該薄膜狀 薄膜狀弁置梦 且控制該光罩滾輪的驅動使 的光罩動,而將藉由前述選擇用的手段所選擇 九罩&置在前述曝光部。 中申月專利範圍第1項之印刷電路板用曝光裝置,其 316402 12 200521637 前述複數個光罩係由··呈 標準圖案的標準光[,以及具以汁值尺寸作成之 之尺寸所描洽之m# ’、以不同於該標準圖案 r 其他光罩所構成。 • σ申%專利範圍第1項之印刷泰 中, |剕电路板用曝光裝置,其 之伸縮狀態的手段係 電路板用曝光裝置,其 前述檢測前述印刷電路板 檢測出印刷電路板的伸縮量。 6·如申請專利範圍第1項之印刷 中, μ前=檢測印刷電路板之伸縮狀態的手段係設置 在设於前述曝光部之前段的投入部,而檢測投入曝光 部的印刷電路板的伸縮狀態。 316402 13
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