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KR920020267A - 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물 및 이를 사용하여 제조된 방사선-감수성 기록물질 - Google Patents

네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물 및 이를 사용하여 제조된 방사선-감수성 기록물질 Download PDF

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KR920020267A
KR920020267A KR1019920006516A KR920006516A KR920020267A KR 920020267 A KR920020267 A KR 920020267A KR 1019920006516 A KR1019920006516 A KR 1019920006516A KR 920006516 A KR920006516 A KR 920006516A KR 920020267 A KR920020267 A KR 920020267A
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KR
South Korea
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radical
alkyl
negative
radiation
aryl
Prior art date
Application number
KR1019920006516A
Other languages
English (en)
Inventor
로하우스 게르하르트
스피스 발터
파블로브스키 게오르그
Original Assignee
칼-헤르만 메이어-돌호이어, 베른하르트 엠. 벡크
훽스트 아크티엔게젤샤프트
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물 및 이를 사용하여 제조된 방사선-감수성 기록물질
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (18)

  1. a)화학선의 작용하에 강산을 생성시키는 하기 일반식(I)의 1-설포닐옥시-2-피리돈, b) 산에 의해 가교 결합성인 2개 이상의 그룹을 갖는 화합물 및 c) 수불용성이고 알칼리성 수용액에 가용성이거나 적어도 팽윤성인 중합체성 결합제의 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
    상기식에서, R1은 수소원자 또는 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 아르알케닐, 헤테로아릴 또는 헤테로아르알케닐 라디칼이고, R2는 수소, 염소, 브롬 또는 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이거나, R1과 R2는 함께 5원 내지 8원 환을 형성하며, R3은 수소 또는 알킬 라디칼이고, R4는 수소, 할로겐, 니트로, 아실아미노, 시아노, 티오시아네이토 또는 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아르알킬, 알킬티오, 아릴티오 또는 사이클로알킬티오 라디칼이며, R5는 수소 또는 알킬 또는 아릴 라디칼이거나, R4와 R5는 함께 5원 내지 8원 환을 형성하고, R6은 수소, 할로겐, 니트로, 아실아미노, 시아노, 티오시아 네이토 또는 알킬, 알케닐, 알콕시알킬, 아릴, 아르알킬, 알킬티오, 사이클로알킬티오 또는 아릴티오 라디칼이며, R7은 알킬 또는 사이클로알킬 라디칼, 퍼플루오르화 또는 고플루오르화 알킬 라디칼 또는 아릴, 아릴알킬 또는 헤테로아릴 라디칼 또는 알킬렌 또는 아릴렌 라디칼이고, m은 1 또는 2의 수이며, n은 0 내지 3의 정수이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 알킬 또는 사이클로알킬 라디칼이거나 하기 일반식(II)의 아릴 라디칼인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
    상기식에서, R8및 R9는 동일하거나 상이하고, 수소 또는 저급알킬 또는 아릴 그룹이며, R10내지 R14는 동일하거나 상이하고, 수소; 각각 탄소수 6이하의 알킬, 알케닐, 알콕시, 알킬티오 또는 알칸설포닐 라디칼; 탄소수 8이하의 사이클로알킬옥시, 사이클로알킬티오 또는 사이클로알칸설포닐 라디칼; 방향족 환에서 치환될 수 있고 알킬 쇄에 3개 이하의 탄소원자를 갖는 페닐, 스티릴, 페녹시, 페닐티오, 벤젠설포닐, 페닐알콕시, 페닐알킬티오 또는 페닐알칸설포닐 라디칼; 하이드록시, 할로겐, 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노, 알콕시카보닐, 서로 연결되어 5원 내지 7원 환을 형성할 수 있는 1개 또는 2개의 알킬 라디칼(들)에 의해 질소가 치환될 수 있는 설파모일, 알칸설포닐옥시, 아릴설포닐옥시, 아실아미노, 알킬아미노 또는 아릴아미노이거나, 2개의 서로 인접한 치환체 R10내지 R14는 1개 또는 2개의 추가의 융합된 환(들)을 형성하며, o는 0 또는 1의 수이다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, R1이 하기 일반식(III)의 3개 이하의 헤테로원자를 갖는 5원 또는 6원 헤테로사이클릭 환인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
    상기식에서, R8내지 R12및 o는 제2항에서 정의한 바와 같다.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, R1이 페로세닐 라디칼이고, R2가 수소, 브롬, 알킬 사이클로 알킬 또는 일반식(II) 또는 (III)의 라디칼이거나, R1과 R2가 함께 5원 내지 8원 환을 형성하며, R3이 수소 또는 알킬 라디칼이고, R4가 수소, 할로겐, 니트로 , 아실아미노, 시아노, 티오시아네이토 또는 알킬, 아릴, 알킬티오, 아릴티오 또는 사이클로알킬티오 라디칼이며, R5가 수소 또는 알킬 또는 아릴 라디칼이거나, R4와 R5가 함께 5원 내지 8원 환을 형성하고, R6이 수소, 할로겐, 니트로, 아실아미노, 시아노, 티오시아네이토 또는 알킬, 아릴, 알킬티오, 아릴티오 또는 사이클로알킬티오 라디칼이며, R7이 알킬 또는 사이클로알킬 라디칼, 퍼플루오르화 또는 고플루오르화 알킬 라디칼 또는 아릴, 아릴알킬 또는 헤테로아릴 라디칼 또는 알킬렌 또는 아릴렌 라디칼이고, m이 1 또는 2의 수이며, n이 0 내지 3인 정수의 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  5. 제1항에 있어서, R7이 탄소수 1 내지 4의 알킬 라디칼, 탄소수 1내지 4의 고플루오르화 또는 퍼플루오르화 알킬 라디칼 또는 하기 일반식(IV)의 아릴 라디칼인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
    상기식에서, R15내지 R19는 동일하거나 상이하고, 수소원자 또는 할로겐원자, 바람직하게는 불소, 염소 또는 브롬; 비치환되거나 할로겐원자, 바람직하게는 염소 또는 브롬에 의해 치환된 탄소수 6이하의 알킬 라디칼; 각각의 메틸렌 그룹이 산소 또는 황원자에 의해 대체될 수 있고 각각의 경우 라디칼중 2개가 연결되어 5원 또는 6원환을 형성할 수 있는 아릴 또는 아릴옥시 라디칼; 탄소수 8이하의 사이클로알킬 라디칼; 탄소수 6이하의 알케닐 라디칼, 또는 탄소수 10이하의 아릴 또는 아릴옥시 라디칼이며, 라디칼 R15내지 R19중 총 탄소원자수는 12이하이다.
  6. 제1항에 있어서, R7이 탄소수 10이하의 나프릴 또는 헤테로아릴 라디칼, 탄소수 6이하의 알킬렌 라디칼, 또는 탄소수 14이하의 아릴렌 또는 헤테로알릴렌 라디칼인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  7. 제1항에 있어서, R2,R3,R4및 R6이 수소원자이고, R5가 메틸 그룹이며, R7이 메틸, 에틸, 트리플루오로메틸, 1,1,2,3,3,3-헥사 플루오로프로필, 페닐, 톨일, 4-플루오로페닐, 4-클로로페닐, 4-브로모페닐 또는 4-니트로페닐 라디칼이고, m이 수 1이며, n이 수 0 또는 1인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  8. 제1항 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서, 산-생성 화합물 a)의 함량이 방사선-감수성 혼합물의 고체 전체 중량에 대해 각각 0.5 내지 25중량%, 바람직하게는, 1.0 내지 15중량%인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  9. 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에있어서, 약 220 내지 500nm의 파장에 대한 결합제 또는 결합제 조성물의 흡수율이 0.5㎛-1미만, 바람직하게는 0.3㎛-1미만인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  10. 제1항내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 결합제 c)가 페놀 하이드록시 그룹을 함유하는 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  11. 제10항에 있어서, 결합제 C)가 30중량%이하, 특히 20중량% 이하의 노볼락 축합수지를 함유하는 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  12. 제9항 내지 제11항중 어느 한 항에 있어서, 결합제 c)의 함량이 방사선-감수성 혼합물의 고체 전체 중량에 대해 각각 30 내지 95중량%, 바람직하게는 40 내지 90중량%, 특히 바람직하게는 50 내지 85중량%인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  13. 제1항 내지 제12항중 어느 한 항에 있어서, 가교결합성 화합물 b)가 레졸인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  14. 제1항 내지 제13항중 어느 한 항에 있어서, 가교결합성 화합물 b)가 알콕시메틸-또는 글리시딜-치환된 방향족 또는 멜라민/포름알데히드 또는 우레아-포를알데히드 축합물인 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  15. 제1항에 있어서, 1-설포닐옥시-2-피리든이 혼합물의 잔류하는 성분보다 파장 220 내지 550nm의 조사에 대해 보다 높은 몰 흡수율을 갖는 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물.
  16. 지지체 및 제1항 내지 제15항중 어느 한 항에서 청구한 방사선-경화성 혼합물을 포함하는 방사선-감수성층으로 이루어진 네가티브-작용 방사선-감수성 기록물질.
  17. 기록물질을 상 조사하고, 가열한 다음, 현상하여 물질의 비노출부를 용해시키거나 제거함을 포함하는, 영상 패턴의 제조방법.
  18. 제17항에 있어서, 기록물질을 파장 150 내지 550nm, 바람직하게는 200 내지 450nm, 특히 바람직하게는 240 내지 440nm로 조사하여 사용하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920006516A 1991-04-20 1992-04-18 네가티브-작용 방사선-감수성 혼합물 및 이를 사용하여 제조된 방사선-감수성 기록물질 KR920020267A (ko)

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