KR20030033938A

KR20030033938A - 반사방지막을 갖는 광학부재

Info

Publication number: KR20030033938A
Application number: KR1020020063798A
Authority: KR
Inventors: 미쓰이시타케시; 시라카와히로시; 신데켄이치
Original assignee: 호야 가부시키가이샤
Priority date: 2001-10-25
Filing date: 2002-10-18
Publication date: 2003-05-01
Also published as: US6919134B2; HU0203631D0; CA2408113A1; EP1306695B1; AU2002301541B8; CA2408113C; ATE484764T1; AU2002301541B2; EP2249187A1; DE60237951D1; HUP0203631A3; EP1306695B9; EP1306695A2; KR100511837B1; EP1306695A3; US20040151918A9; TW571114B; CN1414398A; HUP0203631A2; ES2351435T3

Abstract

본 발명의 목적은 반사율이 작고, 투과율이 높은 우수한 반사방지막을 가질 뿐만 아니라, 플라스틱 기재 상에 있어서, 내충격성, 밀착성, 내열성, 내마모성 및 내알칼리성이 우수하고, 생산성도 양호한 반사방지막을 갖는 광학부재를 제공함에 있다. 이 목적은, 플라스틱 기재와, 진공증착을 통해 형성된 반사방지막을 구비한, 반사방지막을 갖는 광학부재에 있어서, 반사방지막 중의 적어도 1층이, 무기물질 및 유기물질로 이루어진 하이브리드층인 것을 특징으로 하는 광학부재에 의해 달성된다.

Description

반사방지막을 갖는 광학부재{OPTICAL ELEMENT HAVING ANTIREFLECTION FILM}

본 발명은, 반사방지막을 갖는 광학부재에 관한 것으로, 특히, 시감 반사율이 작고, 시감 투과율이 높은 우수한 반사방지막을 가질 뿐만 아니라, 플라스틱 기재 상에 있어서, 내충격성, 밀착성, 내열성, 내마모성 및 내알칼리성이 우수하고, 생산성도 양호한 반사방지막을 갖는 광학부재에 관한 것이다.

종래부터, 플라스틱 기재와, 플라스틱 기재 상에 무기물질을 증착하여 이루어진 반사방지막을 구비한 광학부재가 알려져 있다. 이러한 광학부재는 우수한 반사방지성, 내스크래치성을 갖고 있다.

그렇지만, 이러한 반사방지막을 갖는 광학부재는, 내충격성 및 내열성이 충분하지 않다. 그 과제를 해결하는 방법으로서, 예를 들면, 일본국 특허공개 141001/1988호 공보에 기재되어 있는 것과 같이, 플라스틱 기재와 반사방지막 사이에 유기화합물로 이루어진 프라이머층을 설치하는 것이 알려져 있다.

그렇지만, 이 프라이머층은, 프라이머액을 플라스틱 기재에 도포하고, 그 후, 가열하여 경화시키고, 반사방지막을 증착하여 형성된다. 따라서, 프라이머층의막두께가, 균일하게 되지 않지 않는 일이 있었다. 또한, 상기 공보에 개시된 프라이머에 관해, 프라이머층을 형성하는 것은 대기중이고, 반사방지막을 형성하는 것은 진공중이다. 따라서, 반사방지막과 프라이머층 사이의 계면에 이물질이 들어 가기 쉬워, 최종제품을 만들기까지의 시간이 길다고 하는 과제를 갖고 있었다.

본 발명은 상기한 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 반사율이 작고, 투과율이 높은 우수한 반사방지막을 가질 뿐만 아니라, 플라스틱 기재 상에 있어서, 내충격성, 밀착성, 내열성, 내마모성 및 내알칼리성이 우수하고, 생산성도 양호한 광학부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자들은, 상기한 과제를 해결하도록 예의 연구를 거듭하였다. 그 결과, 반사방지막의 구성층의 적어도 1층에 무기물질 및 유기물질로 이루어진 하이브리드층을 설치하는 것에 의해, 내충격성, 밀착성, 내열성 및 내마모성이 우수하고, 더구나 생산성이 향상되는 반사방지막을 갖는 광학부재를 얻을 수 있다는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 반사방지막을 갖는 광학부재는, 플라스틱 기재와, 진공증착으로 형성된 반사방지막을 갖는 광학부재에 있어서, 이 반사방지막의 적어도 1층에, 무기물질 및 유기물질로 이루어진 하이브리드층을 갖는 것을 특징으로 한다. 이러한 하이브리드층을 설치하는 것에 의해, 상기 일본 특허공개소 141001/1998호 공보에 기재되어 있는 것과 같은 프라이머층을 형성하지 않더라도, 내충격성을 손상하지 않고서, 밀착성, 내열성 및 내마모성이 우수한 반사방지막을 갖는 광학부재를 제공할 수 있다. 이러한 하이브리드층은, 다른 구성층과 동일하게 진공중에서 적층된다. 따라서, 일본 특허공개 141001/1998호 공보에 기재되어 있는 것과 같은 프라이머층을 형성할 때에 필요한 경화시간을 삭감할 수 있고, 더구나 반사방지막 내부의 이물질의 발생을 저감하는 것이 가능해진다.

[발명의 실시예]

이하, 상세하게 본 발명에 관해 설명한다.

본 발명의 광학부재는, 증착법에 의해 형성되는 반사방지막 내부에, 무기물질 및 유기물질로 이루어진 하이브리드층을 형성함으로써, 반사방지막의 유연성 향상, 막내 응력 감소를 꾀하는 것이 가능해진다. 따라서, 일본 특허공개 141001/1998호 공보 기재의 발명과 동등하게, 내충격성을 손상하는 일 없이, 밀착성, 내열성, 내마모성이 우수한 반사방지막을 갖는 광학부재를 제공하는 것이 가능하다. 더구나, 본 발명에서는, 일본 특허공개 141001/1998호 공보 기재의 발명과 같이, 프라이머액을 대기중에서, 도포, 가열하여 이루어진 프라이머층을 설치할 필요가 없기 때문에, 경화를 생략할 수 있어, 이물질의 혼입을 막고, 반사방지막의 막두께를 더욱 정확하게 제어할 수 있다.

상기한, 하이브리드층은, 반사방지막 중의 임의의 층에 형성할 수 있다. 그러나, 반사율 특성과, 전술한 물성, 특히, 내충격성을 더 잘 얻기 위해, 플라스틱 기재측에 가장 가까운 층과, 플라스틱 기재측에서 가장 먼 층에 형성되는 것이 특히 바람직하다. 또한, 상기 하이브리드층은 복수의 층으로 형성되어도 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 양호한 막강도 및 밀착성을 얻기 위해 상기한 하이브리드층은 이온 어시스트법으로 형성된다.

이온 어시스트법에 있어서, 출력에 관해 바람직한 범위는, 특히, 양호한 반응을 얻는 관점에서, 가속전압 50 V∼150 V, 가속전류 30 mA∼100 mA이다. 상기한 이온 어시스트법을 실시할 때에 사용되는 이온화 가스는, 막형성 중의 반응성, 산화방지의 점에서 아르곤(Ar), 또는 아르곤+산소 혼합가스를 사용하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 광학부재는, 반사방지막의 아래에, 밀착성을 향상시키기 위해, 하지층으로서, 후술하는 하이브리드층 형성시에 촉매작용을 갖는 금속, 예를 들면, 니켈(Ni), 은(Ag), 백금(Pt), 니오븀(Nb) 및 티타늄(Ti)으로부터 선택되는 적어도 1종류를 포함하는 층이 형성될 수 있다. 특히 바람직한 하지층은, 내충격성을 더욱 향상시키기 위해, 니오븀으로 이루어진 금속층이다. 금속층을 하지층으로서 사용한 경우, 하지층 위에 설치되는 하이브리드층의 반응이 진행하기 쉬어져, 분자내 그물 구조를 갖는 물질이 얻어지므로, 내충격성이 향상된다.

또한, 플라스틱 기재와 하지층과의 밀착성 확보 및 증착물질의 초기 막형성 상태의 균일화를 꾀하기 위해, 하지층을 형성하기 전에 이온총 전처리를 행하여도 된다. 이온총 전처리에 있어서의 이온화 가스는, 산소, 아르곤(Ar) 등을 사용할 수있다. 전처리시에 출력으로 바람직한 범위는, 특히 양호한 밀착성, 내마모성을 얻는 관점에서, 가속전압이 50 V∼200 V, 가속전류가 50 mA∼150 mA이다.

본 발명에 있어서, 반사방지막은 증착법으로 형성된다. 필요에 따라서, 물리적증착법(PVD법), 화학적증착법(CVD법), 스퍼터링법, 이온도금법, 플라즈마 CVD법 등으로 형성하는 것도 가능하다.

상기 반사방지막의 하이브리드층 이외의 막 구성층은 특별히 한정되지 않는다. 양호한 반사방지 효과 등의 물성을 얻기 위해, 저굴절률층은 SiO₂층, 또는 SiO₂와 Al₂0₃와의 혼합층, 고굴절률층은 Nb₂0₅층 또는 TiO₂층으로 형성되는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서의, 하이브리드층에 사용되는 무기물질로서는, SiO₂단독, SiO₂및 Al₂0₃, 또는 Nb₂0₅, Ta₂0₅, TiO₂, ZrO₂및 Y₂0₃로부터 선택되는 적어도 1종류의 무기산화물이 바람직하다.

본 발명에 있어서의, 하이브리드층에 사용되는 유기물질로서는, 변성 실리콘 오일이 바람직하게 사용된다.

상기 변성 실리콘 오일로서는, 수평균 분자량 250∼6000이 바람직하고, 이하 의 일반식 (a) 내지 (d)로 표시되는 어느 하나의 구조를 갖는 것이 바람직하다.

(1) 측쇄형

(a) 폴리실록산의 측쇄에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(2) 양말단형

(b) 폴리실록산의 양 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(3) 편말단형

(c) 폴리실록산의 한쪽 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(4) 측쇄양말단형

(d) 폴리실록산의 측쇄와 양 말단의 양쪽에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

일반식 (a) 내지 (d)에 있어서, m, n은, 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 표시하고, 일반식 (c)에 있어서, R은 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 1∼10의 알케닐기, 또는 탄소수 1∼10의 알키닐기를 표시한다. 일반식 (a) 내지 (d)의 화합물은 블록 공중합체이거나 랜덤 공중합체일 수 있다.

또한, 도입되는 유기기의 종류에 따라, 변성 실리콘 오일은, 반응성 실리콘 오일과 비반응성 실리콘 오일로 나누어진다.

반응성 실리콘 오일로서는, 상기 유기기가,

(1) 아미노기

(2) 에폭시기

(3) 카르복실기

(4) 탄소수 1∼15의 수산기 함유 탄화수소기

(5) 메타크릴기

(6) 머캅토기

(7) 페놀기

(8) C_1-15알콕시기

(9) 1개 이상의 전술한 치환기를 지닌 탄소수 1∼15의 탄화수소기

(10) 2개 이상의 상기한 작용기의 조합을 포함하는 유기기(바람직하게는, 아미노기와 알콕시기의 조합, 에폭시기와 폴리에테르기의 조합, 아미노기와 폴리에테르기의 조합) 등을 들 수 있다.

비반응성 실리콘 오일로서는, 상기 유기기가,

(1) 2∼15개의 반복 단위를 갖는 폴리(C_2-15알킬렌) 에테르기

(2) 메틸스티릴기

(3) C_1-15알킬기

(4) C_2-15고급 산 에스테르기

(5) 탄소수 1∼15의 지방산의 에스테르

(6) 1개 이상의 불소 원자로 치환된 탄소수 1∼15의 탄화수소기

등을 들 수 있다.

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량은, 하이브리드막 중의 유기성분의 제어, 막 자체의 강도 증가면에서 250∼6,000인 것이 바람직하다.

더구나, 상기 하이브리드층의 유기물질은, 다음의 일반식 (I)로 표시되는 화합물이 바람직하게 사용된다.

이때, x, z는, 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, y는 1 이상의 정수이다. R₁∼R₆는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는, 메틸기, 에폭시기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 아미노기, (메타)아크릴기, 수산기, 카르보닐기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 비닐기, 티올기, 탄소수 1∼15의 탄소-탄소 3중 결합 함유 탄화수소기, 탄소수 1∼15의 알콕시실란기, 탄소수 1∼15의 알킬아미노기, 탄소수 5∼8의 고리형 알킬기로부터 선택되는 유기기를 나타낸다.

상기 R₁∼R₆중에서 적어도 1개가 솔비탄 잔기(솔비탄으로부터 수소를 1개 뺀 작용기) 또는 솔비탄 에스테르 잔기(솔비탄 에스테르로부터 수소를 1개 뺀 작용기)이면 바람직하다.

R로 표시되는 탄화수소기는 10 내지 20개의 탄소 원자를 포함하는 것이 바람직하다. 이것은 가지를 치거나 선형일 수 있으며, 1개 이상의 불포화기를 포함할 수 있다.

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물로서는, 폴리에틸렌 글리콜 모노부틸 모노글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리옥시에틸렌 α,ω-비스-3-아미노프로필에테르, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노라우레이트, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노올레이트 또는 폴리옥시에티렌 모노아크릴레이트인 것이 바람직하다.

또한, 상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량은, 하이브리드막 중의 유기성분의 제어 및 하이브리드막의 막 강도를 고려하여, 250∼6000인 것이 바람직하다. 바람직하게는 250 내지 6000의 낮은 분자량을 갖는 일반식 (I)로 표시되는 화합물을 선택함으로써 하이브리드막 내부의 유기성분의 제어가 향상될 수 있다.

본 발명에 있어서의 유기물질의 막형성 방법으로서는, 유기물질의 증착량을 제어하기 위해, 상기 유기물질을 용매로 희석하고, 희석액을 바이오 칼럼 필터에서 함침 및 건조시킨 것을 사용하는 것이 바람직하다. 바이오 컬럼 필터는 바람직하게는 소결 스테인레스 및 무기질 유리로 제조된다. 이 용매로서는 특별히 한정은 되지 않는다. 말단 아민계의 유기물에서는 디메틸 에테르, 말단 에폭시드계의 유기물에서는 초산 에틸, 극성이 낮은 폴리실록산계의 유기물은 트리메틸에틸실란 또는 디에틸 에테르, 극성이 높은 폴리에테르계의 유기물에서는 메탄올이 바람직하게 사용된다.

막형성에 대해서는, 다공성 재료를 가열하고, 이 유기물질을 증착에 의해 피막형성체에 막형성을 행하는 것이 바람직하다. 유기물질을 용매에 용해시켜, 이 용액량을 조정하는 것에 의해 막두께의 제어를 행할 수 있다. 가열장치는 한정되지 않는다. 예를 들면, 할로겐 히터, 저항 가열장치, 세라믹 히터 등을 사용할 수 있다.

용해된 유기물질은 적당한 용기에 넣고, 가열 증발시킨다. 특히 바람직한 용기는, 다공성 재료로서, 이 다공성 재료에 상기 용액을 함침시키고, 가열한다. 이것에 의해, 적절한 증착속도를 얻는 것이 가능하다. 다공성 재료는, 보다 구체적으로는 구리 등의 열전도성이 높은 금속분말을 소결한 소결필터를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 다공성 재료의 구멍 크기는, 적절한 증착속도를 얻는다고 하는 관점에서, 통상은 40∼200미크론이며, 80∼120미크론으로 하면 바람직하다.

용기의 가열온도는, 200∼300℃, 바람직하게는 200∼240℃으로 하는 것이 적당한 증착속도를 얻는다고 하는 점에서 바람직하다.

가열장치에는, 막형성 제어용으로, 셔터기구를 갖는 것이 바람직하다. 또한, 가열시에 막형성 물질의 비산에 의한 플라스틱 기재의 오염방지를 위해, 가열장치의 주위를 둘러싸는 것이 바람직하다. 막형성시의 막형성 물질의 안정 공급을 행하기 위해, 상기 바이오 칼럼 필터를 덮고, 작은 지름의 구멍을 갖는, 막형성량 조정실을 설치하는 것이 바람직하다. 이 구멍의 형상은 막형성 유기물질의 분포 지향성을 향상시키기 위해 타원형인 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서의, 하이브리드층의 유기물질의 바람직한 막내 함유율은, 특히 양호한 물성개질 효과를 얻을 수 있는 점을 고려하여, 0.02중량%∼70중량%이다. 특히 바람직한 유기물질의 함유율은 0.5중량% 내지 25중량%이다.

하이브리드층의 유기물질 막내 함유율은, 예를 들면, 무기물질, 유기물질의 굴절률을 미리 파악해 두고, 하이브리드층의 막두께, 반사율을 측정함으로써 구할 수 있다. 하이브리드층의 유기물질의 함유율은, 유기물질로 구성된 층의 굴절률과 무기물질로 구성된 층의 굴절률을 기준으로 하여, 하이브리드층의 굴절률로부터 보간을 사용하여 결정될 수 있다.

하이브리드층을 형성할 때에는, 무기물질, 유기물질 각각을 별도의 증착원으로 동시에 증착하여 막형성하는 것이 바람직하다. 유기물질의 상대적인 양은, 유기물질 및/또는 무기물질의 가열장치의 온도 및/또는 표면을 변화시킴으로써 조절될 수 있다. 하이브리드층이 1개보다 많은 무기물질 또는 1개보다 많은 유기물질을 포함하려면, 이들을 별고의 가열장치에서 증착하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서 플라스틱 기재 상에 형성된 반사방지막의 구성으로서는, 예를 들면 이하와 같은 것이 바람직하다.

제 1 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 10∼180 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 1∼25 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

제 7 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 70∼100 nm)

상기 막두께 범위는, 플라스틱 기재 상에 반사방지막을 갖는 광학부재의 내충격성, 밀착성, 내열성 및 내마모성에 있어서 바람직한 범위이다.

또한, 이하와 같은 반사방지막의 구성도 바람직하다.

하지층: Nb 층(막두께 1∼5 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

상기 막두께 범위는, 플라스틱 기재 상에 반사방지막을 갖는 광학부재의 내충격성, 밀착성, 내열성 및 내마모성, 내열성에 있어서 바람직한 범위이다. 또한, 더욱 좋은 특성을 얻기 위해, 상기 막구성의 적어도 1층 이상의 층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성된다.

상기 각 구성에 있어서, SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층의 바람직한 굴절률의 범위는, 양호한 내마모성, 내충격성을 얻는 관점에서 1.450∼1.485이다.

본 발명에서 사용하는 플라스틱 기재의 재질은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 메틸 메타크릴레이트 단독 중합체, 메틸 메타크릴레이트와 1종 이상의 다른 모노머와의 공중합체, 디에틸렌 글리콜 비스알릴 카보네이트 단독 중합체, 디에틸렌 글리콜 비스알릴 카보네이트와 1종 이상의 다른 모노머와의 공중합체, 황 함유 공중합체, 할로겐 공중합체, 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 폴리염화비닐, 불포화 폴리에스테르, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리우레탄, 폴리티오우레탄 등을 들 수 있다.

본 발명의 광학부재는, 상기 플라스틱 기재와 상기 하지층 사이에, 경화피막을 가져도 된다.

경화피막으로서는, 통상, 금속 산화물 콜로이드 입자와 하기 일반식 (II)로 표시되는 유기규소 화합물로 이루어진 조성물이 사용된다:

이때, R₇및 R₈은, 각각 독립적으로, 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 2∼8의 알케닐기, 탄소수 6∼8의 아릴기, 탄소수 1∼8의 아실기, 할로겐기, 글리시독시기, 에폭시기, 아미노기, 머캅토기, 메타크릴옥시기 및 시아노기 중에서 선택되는 유기기를 나타내고, R₉은 탄소수 1∼8의 알킬기, 탄소수 1∼8의 아실기 및 탄소수 6∼10의 아릴기 중에서 선택되는 유기기를 나타내며, a 및 b는, 각각 독립적으로 0 또는 1의 정수이다.

상기 금속 산화물 콜로이드 입자로서는, 예를 들면, 산화 텅스텐(WO₃), 산화 아연(ZnO), 산화 규소(SiO₂), 산화 알루미늄(Al₂0₃), 산화 티타늄(TiO₂), 산화 지르코늄(ZrO₂), 산화 주석(Sn0₂), 산화 베릴륨(BeO) 또는 산화 안티몬(Sb₂0₅) 등을 들수 있다. 이들 금속 산화물은 단독 또는 2종 이상을 병용할 수 있다.

상기 일반식 (II)로 표시되는 유기규소 화합물로서는, 예를 들면, 메틸 실리케이트, 에틸 실리케이트, n-프로필 실리케이트, I-프로필 실리케이트, n-부틸 실리케이트, sec-부틸 실리케이트, t-부틸 실리케이트, 테트라아세톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리아세톡시실란, 메틸트리부톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리아밀옥시실란, 메틸트리페녹시실란, 메틸트리벤질옥시실란, 메틸트리페네틸옥시실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리에톡시실란, α-글리시독시에틸트리에톡시실란, β-글리시독시에틸트리메톡시실란, β-글리시독시에틸트리에톡시실란, α-글리시독시프로필트리메톡시실란, α-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리프로폭시실란, γ-글리시독시프로필트리부톡시실란, γ-글리시독시프로필트리페녹시실란, α-글리시독시부틸트리메톡시실란, α-글리시독시부틸트리에톡시실란, β-글리시독시부틸트리메톡시실란, β-글리시독시부틸트리에톡시실란, γ-글리시독시부틸트리메톡시실란, γ-글리시독시부틸트리에톡시실란, δ-글리시독시부틸트리메톡시실란, δ-글리시독시부틸트리에톡시실란, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸트리메톡시실란, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸트리에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리프로폭시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리부톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리페녹시실란, γ-(3,4-에폭시시클로헥실)프로필트리메톡시실란, γ-(3,4-에폭시시클로헥실)프로필트리에톡시실란, δ-(3,4-에폭시시클로헥실)부틸트리메톡시실란, δ-(3,4-에폭시시클로헥실)부틸트리에톡시실란, 글리시독시메틸메틸디메톡시실란, 글리시독시메틸메틸디에톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, α-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, β-글리시독시에틸메틸디메톡시실란, β-글리시독시에틸메틸디에톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, α-글리시독시프로필메틸디에톡시실란. β-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, β-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디프로폭시실란, γ-글리시독시프로필메틸디부톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디페녹시실란, γ-글리시독시프로필에틸디메톡시실란, γ-글리시독시프로필에틸디에토시실란, γ-글리시독시프로필비닐디메톡시실란, γ-글리시독시프로필비닐디에톡시실란, γ-글리시독시프로필페닐디메톡시실란, γ-글리시독시프로필페닐디에톡시실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리아세톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리에톡시실란, γ-클로로프로필트리아세톡시실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리에톡시실란, β-시아노에틸트리에톡시실란, 클로로메틸트리메톡시실란, 클로로메틸트리에톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐메틸디에톡시실란, γ-클로로프로필메틸디메톡시실란, γ-클로로프로필메틸디에톡시실란, 디메틸디아세톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필메틸디에톡시실란, γ-머캅토프로필메틸디메톡시실란, γ-머캅토프로필메틸디에톡시실란, 메틸비닐디메톡시실란, 메틸비닐디에톡시실란 등을 들 수 있다.

상기 경화피막을 만드는 코팅액에서는, 종래 알려지고 있는 방법으로, 액의 조정을 행할 수 있다. 필요에 따라, 경화촉매 뿐만 아니라, 도포시에 있어서 젖음성을 향상시켜 경화피막의 평활성을 향상시킬 목적으로 각종의 유기용제나 계면활성제를 함유시킬 수도 있다. 더구나, 자외선흡수제, 산화방지제, 광안정제, 노화방지제 등도 코팅 조성물 및 경화피막의 물성에 영향을 주지 않는 한 첨가할 수 있다.

코팅 조성물의 경화는, 열풍건조 또는 활성 에너지선 조사에 의해 행한다. 경화조건으로서는, 70∼200℃의 열풍중에서 행하는 것이 좋으며, 특히 바람직하게는 90∼150℃이다. 이때, 활성 에너지선으로서는 원적외선 등이 있으며, 열에 의한 손상을 낮게 억제할 수 있다.

또한, 코팅 조성물로 이루어진 경화막을 기재 상에 형성하는 방법으로서는, 전술한 코팅 조성물을 기재에 도포하는 방법을 들 수 있다. 도포수단으로서는 디핑법, 스핀코팅법, 스프레이법 등의 통상 행해지는 방법을 적용할 수 다. 면정밀도의 면에서 디핑법, 스핀코팅법이 특히 바람직하다.

(실시예)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.

이때, 실시예 및 비교예에 있어서 얻어진 광학부재의 물성평가는 아래와 같이 하여 행하였다.

(1) 시감 투과율:

플라스틱 렌즈의 시감 투과율 Y는, 양면에 반사방지막을 갖는 플라스틱 렌즈를 샘플로 하여, 히타치사의 분광광도계 U-3410를 사용하여 측정하였다.

(2) 시감 반사율:

플라스틱 렌즈의 시감 반사율 Z는, 양면에 반사방지막을 갖는 플라스틱 렌즈를 샘플로 하여, 히타치 분광광도계 U-3410를 사용하여 측정하였다.

(3) 내충격성:

렌즈 중심부 두께 2.0 mm(CT로 기재한다)에서, 렌즈 도수 -4.00 D의 플라스틱 렌즈를 제작하여 FDA(Food and Drug Administration)로 정해져 있는 드롭볼 테스트를 행하였다. "○"는 양호한 샘플을 나타내고, "X"는 불량 샘플로 하였다. 다시 렌즈가 파손될 때까지 드롭볼 테스트를 계속하여, 최대하중으로서 강도확인을 행하였다. 볼의 중량은 14g이었다.

(4) 밀착성:

플라스틱 렌즈의 표면에 절단기로 1 mm X 1 mm의 바둑판을 100개 작성하였다. 바둑판 상에 접착 테이프, 즉 셀로판 테이프를 붙이고, 단숨에 테이프를 벗겼다. 남은 바둑판의 수를 세었으며, 다음 표에 나타내었는데, 표 중에서, (남은 바둑판의 수/100)은 밀착성을 표시한다.

(5) 내마모성:

플라스틱 렌즈의 표면에 스틸 울로 1 kgf/cm²의 하중을 걸어 문질렀다. 10 스트로크 문질러, 다음과 같은 기준에 따라 플라스틱 렌즈의 표면 상태를 평가하였다.

UA: 거의 상처없음

A: 가는 상처 수개 있음

B: 가는 상처 다수, 굵은 상처 수개 있음

C: 가는 상처 다수, 굵은 상처 다수 있음

D: 거의 막 벗겨짐 상태

(6) 내열성:

플라스틱 렌즈를 드라이오븐으로 1시간 동안 가열하였다. 테스트의 시작시의 가열 온도는 60℃이었으며, 5℃씩 상승시켰다. 크랙의 발생 온도를 측정하였다.

(7) 내알칼리성:

플라스틱 렌즈를 NaOH 10% 수용액에 20℃, 1시간 침지하고, 표면 상태에 의해 이하의 기준으로 평가하였다.

UA: 거의 변화 없음

A: 점 형태의 막 벗겨짐 수개 있음

B: 점 형태의 막 벗겨짐이 전체면에 있음

C: 점 형태의 벗겨짐이 전체면, 면 형태의 벗겨짐 수개 있음

D: 거의 전체면 막 벗겨짐

실시예 1∼20:

유리제 용기에, 콜로이덜 실리카(스노텍스-40, 닛산화학) 90중량부, 메틸트리메톡시실란 81.6중량부, 유기규소 화합물로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 176중량부, 0.5 N 염산 2.0중량부, 초산 20중량부, 물 90중량을 가한 액을, 실온에서 8시간 교반하였다. 이 용액을 실온에서 16시간 방치하여 가수분해 용액을 얻었다. 이 용액에, 이소프로필 알코올 120중량부, n-부틸 알코올 120중량부, 알루미늄 아세틸아세톤 16중량부, 실리콘계 계면활성제 0.2중량부, 자외선 흡수제 0.1중량부를 가하였다. 이 혼합물을 실온에서 8시간 교반후, 실온에서 24시간 숙성시켜 코팅액을 얻었다.

알칼리 수용액으로 전처리한 플라스틱 렌즈 기판(소재: 디에틸렌 글리콜 비스알릴 카보네이트, 굴절률 1.50, 중심 두께 2.0 mm, 렌즈 도수 0.00)을, 상기 코팅액 안에 침지시켰다. 침지 종료후, 상승속도 20 cm/분으로 플라스틱 렌즈를 끌어올렸다. 그후, 플라스틱 렌즈를 120℃에서 2시간 가열하여 경화막(하드코트 A층)을 형성하였다. 다음에, 얻어진 플라스틱 렌즈를 표 1∼10에 기재한 이온 가속전압,조사시간의 조건하에서 Ar 가스를 사용하여, 이온총 전처리를 행하였다.

다음에, 하드코트 A층 위에, 표 1∼10에 나타낸 조건에서 제 1∼7층으로 이루어진 반사방지막을 형성하여, 플라스틱 렌즈를 얻었다.

이때, 하이브리드층은, 무기물질의 증착과 유기물질이라는, 2원 증착으로서, 거의 동시에 증착하도록 조건을 설정하였다. 유기물질의 증착시는, 유기물질을 유기용매에 용해시킨 용액을, 스테인레스제 소결필터(구멍 크기 80∼100㎛, 직경 18mm, 두께: 3mm)에 함침시켰다. 유기물질과 용매의 함유비율은 중량비로 1:4, 유기물질과 용매의 함유량은 필터 칩당 1ml이었다. 필터를 진공증착장치 내에 세트하여, 250℃로 가열하였다. 단, 유기물질 E는 외부 가열탱크에서 기화하고, 기화한 유기물을, 가스밸브, 매스 플로우 콘트롤러를 사용하여 증착장치 내에 도입하는 형식을 채용하고 있기 때문에, 필터 칩은 사용하지 않고 있다.

또한, 표에 기재되어 있는 유기물질 A∼E의 상품의 구조는 이하와 같다.

유기물질 A:

상기 일반식 (a)에 있어서, 유기기가 에폭시기인 반응성 실리콘 오일 KF1001(신에쯔실리콘사제)이다. 용매는 트리메틸에틸실란 LS-865(신에쓰화학사제)이다.

유기물질 B:

상기 일반식 (a)에 있어서, 유기기가 에폭시기 및 폴리에스터기인 반응성 실리콘 오일 X22-4741(신에쯔 실리콘사 제조)이다. 용매는 초산에틸이다.

유기물질 C:

상기 일반식 (a)에 있어서, 유기기가 아미노알킬기인 반응성 실리콘 오일 X22-8008(신에쯔 실리콘사제)이다. 용매는 디에틸 에테르이다.

유기물질 D:

폴리옥시에틸렌 모노아크릴레이트 AE-400(NOF사제)이다, 용매는 초산에틸이다.

유기물질 E:

폴리에틸렌 글리콜 글리시딜 에테르 E-400(NOF사제)이다. 용매는 사용하지 않았다.

얻어진 플라스틱 렌즈에 관해 상기 (1)∼(7)를 평가하여, 그들 결과를 표 1∼10에 나타내었다. 한편, 표 중에서, λ는 조사광의 파장으로, λ=500nm을 나타낸다. 하이브리드층의 굴절률은 λ=500nm에서 구하였다.

비교예 1∼4:

하드코트층 및 제 1 층∼제 7 층으로 이루어진 기능막을 무기물질만으로 하여, 표 11 및 12에 나타낸 조건에서 형성하여, 플라스틱 렌즈를 얻었다.

얻어진 플라스틱 렌즈에 대해 상기 (1)∼(7)를 평가하여, 그들 결과를 표 11및 12에 나타내었다.

이하의 표에 있어서, 이온 어시스트법을 사용하지 않고 제조된 층은 "이온총 설정값" 열에서 "-" 부호로 표시하였다. 이들 층은 통상적인 증착을 통해 적층하였다.

[표 1-1]

[표 1-2]

[표 2-1]

[표 2-2]

[표 3-1]

[표 3-2]

[표 4-1]

[표 4-2]

[표 5-1]

[표 5-2]

[표 6-1]

[표 6-2]

[표 7-1]

[표 7-2]

[표 8-1]

[표 8-2]

[표 9-1]

[표 9-2]

[표 10-1]

[표 10-2]

[표 11]

[표 12]

표 1∼10에 나타낸 것과 같이, 실시예 1∼20의 플라스틱 렌즈는, 시감 반사율이 0.70∼0.82%로 매우 작고, 시감 투과율은 99.0∼99.11%로 높았다. 더구나, 내충격성이 양호하고, 밀착성, 내마모성, 내열성, 내알칼리성도 양호하였다.

이것에 대해, 표 11 및 12에 나타낸 것과 같이, 비교예 1∼4의 플라스틱 렌즈는, 시감 반사율이 1.1∼1.2%로 높다. 더구나, 내충격성이 떨어지고, 밀착성, 내마모성, 내열성, 내알칼리성도 실시예 1∼20에 비교하여 뒤떨어지고 있었다.

이상 상세히 설명한 것과 같이, 본 발명의 광학부재는, 반사율이 작고, 투과율이 높은 우수한 반사방지막을 가질 뿐만 아니라, 내충격성, 밀착성, 내열성, 내마모성 및 내알칼리성이 우수하고, 생산성도 양호하다.

Claims

플라스틱 기재와, 진공증착을 통해 형성된 반사방지막을 구비한, 반사방지막을 갖는 광학부재에 있어서,

반사방지막 중의 적어도 1층이, 무기물질 및 유기물질로 이루어진 하이브리드층인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층이, 이온 어시스트법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이 SiO₂인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 2항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이 SiO₂인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이 SiO₂및 Al₂0₃인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 2항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이 SiO₂및 Al₂0₃인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이, Nb₂05₅Ta₂0₅, TiO₂, ZrO₂및 Y₂0₃로부터 선택되는 적어도 1종류의 무기산화물인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 2항에 있어서,

상기 하이브리드층의 무기물질이, Nb₂05₅Ta₂0₅, TiO₂, ZrO₂및 Y₂0₃로부터 선택되는 적어도 1종류의 무기산화물인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층의 유기물질이 변성 실리콘 오일인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 2항에 있어서,

상기 하이브리드층의 유기물질이 변성 실리콘 오일인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 9항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일이 이하의 일반식 (a)∼(d)로 표시되는 어느 한개의 구조를 갖는 1개 이상의 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는광학부재:

(a) 폴리실록산의 측쇄에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(b) 폴리실록산의 양 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(c) 폴리실록산의 한쪽 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(d) 폴리실록산의 측쇄와 양 말단의 양쪽에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일:

일반식 (a) 내지 (d)에 있어서, m, n은, 각각 독립적으로 0 이상의 정수를표시하고, 일반식 (c)에 있어서, R은 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 1∼10의 알케닐기, 또는 탄소수 1∼10의 알키닐기를 표시한다.
제 10항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일이 이하의 일반식 (a)∼(d)로 표시되는 어느 한개의 구조를 갖는 1개 이상의 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

(a) 폴리실록산의 측쇄에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(b) 폴리실록산의 양 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(c) 폴리실록산의 한쪽 말단에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일

(d) 폴리실록산의 측쇄와 양 말단의 양쪽에 유기기를 도입한 변성 실리콘 오일:

일반식 (a) 내지 (d)에 있어서, m, n은, 각각 독립적으로 0 이상의 정수를 표시하고, 일반식 (c)에 있어서, R은 탄소수 1∼10의 알킬기, 탄소수 1∼10의 알케닐기, 또는 탄소수 1∼10의 알키닐기를 표시한다.
제 11항에 있어서,

상기 유기기가, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 수산기, 탄소수 1∼15의 수산기 함유 탄화수소기, 메타크릴기, 머캅토기, 페놀기, 탄소수 1∼15의 알콕시기, 1개 이상의 전술한 치환기를 지닌 탄소수 1∼15의 탄화수소기 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 12항에 있어서,

상기 유기기가, 아미노기, 에폭시기, 카르복실기, 수산기, 탄소수 1∼15의 수산기 함유 탄화수소기, 메타크릴기, 머캅토기, 페놀기, 탄소수 1∼15의 알콕시기, 1개 이상의 전술한 치환기를 지닌 탄소수 1∼15의 탄화수소기 및 이들의 조합으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 11항에 있어서,

상기 유기기가, 탄소수 1∼15의 알킬기, 탄소수 2∼15의 에스테르기, 메틸스티릴기, 2∼15의 반복 반위를 갖는 폴리(C_2-15알킬렌) 에테르기, 탄소수 16∼20의 포화 또는 불포화 지방산의 에스터, 및 1개 이상의 불소 원자로 치환된 탄소수 1∼15의 탄화수소기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 12항에 있어서,

상기 유기기가, 탄소수 1∼15의 알킬기, 탄소수 2∼15의 에스테르기, 메틸스티릴기, 2∼15의 반복 반위를 갖는 폴리(C_2-15알킬렌) 에테르기, 탄소수 16∼20의 포화 또는 불포화 지방산의 에스터, 및 1개 이상의 불소 원자로 치환된 탄소수 1∼15의 탄화수소기로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 9항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 10항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 11항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 12항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 13항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 14항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 15항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 16항에 있어서,

상기 변성 실리콘 오일의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항에 있어서,

상기 하이브리드층의 유기물질이, 일반식 (I)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

이때, x, z는, 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, y는 1 이상의 정수이며, R₁∼R₆는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는, 메틸기, 에폭시기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 아미노기, (메타)아크릴기, 수산기, 카르보닐기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 비닐기, 티올기, 탄소수 1∼15의 탄소-탄소 3중 결합 함유 타화수소기, 탄소수 1∼15의 알콕시실란기, 탄소수 1∼15의 알킬아미노기, 탄소수 5∼8의 고리형 알킬기로부터 선택되는 유기기를 나타낸다.
제 2항에 있어서,

상기 하이브리드층의 유기물질이, 일반식 (I)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

이때, x, z는, 각각 독립적으로 0 이상의 정수이고, y는 1 이상의 정수이며, R₁∼R₆는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는, 메틸기, 에폭시기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 아미노기, (메타)아크릴기, 수산기, 카르보닐기를 함유하는 탄소수 1∼15의 탄화수소기, 비닐기, 티올기, 탄소수 1∼15의 탄소-탄소 3중 결합 함유 타화수소기, 탄소수 1∼15의 알콕시실란기, 탄소수 1∼15의 알킬아미노기, 탄소수 5∼8의 고리형 알킬기로부터 선택되는 유기기를 나타낸다.
제 25항에 있어서,

상기 R₁∼R₆중에서 적어도 1개가 솔비탄 잔기 또는 솔비탄 에스테르 잔기인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 26항에 있어서,

상기 R₁∼R₆중에서 적어도 1개가 솔비탄 잔기 또는 솔비탄 에스테르 잔기인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 25항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물이, 폴리에틸렌 글리콜 모노부틸 모노글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리옥시에틸렌 α,ω-비스-3-아미노프로필 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노라우레이트, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노올레이트 또는 폴리옥시에티렌 모노아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 26항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물이, 폴리에틸렌 글리콜 모노부틸 모노글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 디글리시딜 에테르, 폴리옥시에틸렌 α,ω-비스-3-아미노프로필 에테르, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노라우레이트, 폴리에틸렌 글리콜 솔비탄 모노올레이트 또는 폴리옥시에티렌 모노아크릴레이트인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 25항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 26항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 27항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 28항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 29항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 30항에 있어서,

상기 일반식 (I)로 표시되는 화합물의 수평균 분자량이 250∼6,000인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항∼제 36항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 하이브리드층의 유기물질의 막내 함유율이 0.02중량%∼70중량%인 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항∼제 36항 중 어느 한 항에 있어서,

상기 플라스틱 기재와 반사방지막 사이에, 니켈(Ni), 은(Ag), 백금(Pt), 니오븀(Nb) 및 티타늄(Ti)으로부터 선택되는 적어도 1종류로 이루어진 막두께 1∼5nm의 하지층을 갖는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 37항에 있어서,

상기 플라스틱 기재와 반사방지막 사이에, 니켈(Ni), 은(Ag), 백금(Pt), 니오븀(Nb) 및 티타늄(Ti)으로부터 선택되는 적어도 1종류로 이루어진 막두께 1∼5nm의 하지층을 갖는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 1항∼제 36항 중 어느 한 항에 있어서,

한 개의 하이브리드층이 플라스틱 기재에 가장 가깝게 위치하고, 제 1 하이브리드층과 동일하거나 다를 수 있는 다른 하이브리드층이 플라스틱 기재에서 가장 멀리 위치하도록, 반사방지막이 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 37항에 있어서,

한 개의 하이브리드층이 플라스틱 기재에 가장 가깝게 위치하고, 제 1 하이브리드층과 동일하거나 다를 수 있는 다른 하이브리드층이 플라스틱 기재에서 가장 멀리 위치하도록, 반사방지막이 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 38항에 있어서,

한 개의 하이브리드층이 플라스틱 기재에 가장 가깝게 위치하고, 제 1 하이브리드층과 동일하거나 다를 수 있는 다른 하이브리드층이 플라스틱 기재에서 가장 멀리 위치하도록, 반사방지막이 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 39항에 있어서,

한 개의 하이브리드층이 플라스틱 기재에 가장 가깝게 위치하고, 제 1 하이브리드층과 동일하거나 다를 수 있는 다른 하이브리드층이 플라스틱 기재에서 가장 멀리 위치하도록, 반사방지막이 구성된 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재.
제 40항에 있어서,

상기 반사방지막이 플라스틱 기재 상에 순차적으로 이하에 기재된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

제 1 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 10∼180 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 1∼25 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

제 7 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 70∼100 nm).
제 41항에 있어서,

상기 반사방지막이 플라스틱 기재 상에 순차적으로 이하에 기재된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

제 1 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 10∼180 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 1∼25 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

제 7 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 70∼100 nm).
제 42항에 있어서,

상기 반사방지막이 플라스틱 기재 상에 순차적으로 이하에 기재된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

제 1 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 10∼180 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 1∼25 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

제 7 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 70∼100 nm).
제 43항에 있어서,

상기 반사방지막이 플라스틱 기재 상에 순차적으로 이하에 기재된 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사방지막을 갖는 광학부재:

제 1 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 10∼180 nm)

제 2 층: Nb₂0₅층(막두께 1∼25 nm)

제 3 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 4 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼55 nm)

제 5 층: SiO₂+Al₂0₃층(막두께 10∼50 nm)

제 6 층: Nb₂0₅층(막두께 10∼120 nm)

제 7 층: SiO₂+Al₂0₃+유기물질로 이루어진 하이브리드층(막두께 70∼100 nm).
제 1항 내지 제 36항 중 어느 한 항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 37항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 38항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 39항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 40항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 41항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 42항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 43항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 44항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 45항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 46항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 47항에 기재된 방사방지막을 갖는 광학부재를 형성하는 방법에 있어서,

상기 반사방지막은 진공증착을 통해 형성된 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 48항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 49항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 50항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 51항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 52항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 53항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 54항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 55항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 56항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 57항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 58항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.
제 59항에 있어서,

적어도 1개의 하이브리드층은 이온 어시스트법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 광학부재 형성방법.