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KR101448541B1 - 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법 - Google Patents

고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법 Download PDF

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KR101448541B1
KR101448541B1 KR1020120156547A KR20120156547A KR101448541B1 KR 101448541 B1 KR101448541 B1 KR 101448541B1 KR 1020120156547 A KR1020120156547 A KR 1020120156547A KR 20120156547 A KR20120156547 A KR 20120156547A KR 101448541 B1 KR101448541 B1 KR 101448541B1
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Abstract

본 발명은 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광학 필름과 같은 디스플레이 부품 소재에 사용할 수 있는 고굴절율을 갖는 신규한 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.

Description

고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법{High Refractive (Meta)Acrylate and the method for preparing the same}
본 발명은 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 광학 필름과 같은 디스플레이 부품 소재에 사용할 수 있는 고굴절율을 갖는 신규한 (메타)아크릴레이트 유도체 및 그의 제조방법에 관한 것이다.
고굴절률을 갖는 (메타)아크릴레이트는 광학 제품, 즉 광학 렌즈, 광학 필름, 및 광 미디어 등에 사용이 가능하다. 특히, 광학필름은 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 디스플레이제품에 사용이 가능하고 그 중에서도 액정 디스플레이 프리즘 시트(LCD Prism sheet) 등의 광학 필름에 사용되어 액정 디스플레이(LCD) 후면에 배치되는 백라이트 유니트(Back-Light Unit)의 휘도를 개선하는데 주로 사용되고 있다.
광학필름 중 프리즘 필름의 프리즘층을 구성하는 물질의 한가지 중요한 광학적 변수로서 굴절율을 들 수 있으며, 굴절율이 높을수록 프리즘 필름의 성능이 향상되는데, 높은 굴절율을 가진 프리즘 필름이 LCD 백라이트의 효율을 증가시키는 데 사용되는 예로서, 대한민국 공개특허 특2001-0012340과 대한민국 공개특허 10-2005-0010760에 고굴절율을 갖는 브롬화 단량체를 포함하는 중합성 조성물로 제조된 광학 제품이 개시되어 있다. 그러나 브롬이나 염소와 같은 할로겐 화합물은 굴절율은 높일 수 있으나 경화 후에 필름의 황변이 심하고 이러한 황변은 필름의 성능을 저하시키고 심한 경우에는 디스플레이 색상에도 영향을 주게 된다.
즉, 현재 개발된 고굴절 아크릴레이트는 할로겐 화합물이 포함되어 있어 독성이 강하며, 연소 시 많은 양의 부식성 가스가 발생되는 문제점을 가지고 있으며, 제품의 점도가 매우 높거나 고체 상태인 경우가 많아 코팅액 제조 시 고점도를 상태를 유지하게 되므로 가공성 문제가 발생하게 되며, 고가의 원료 물질을 사용하기 때문에 가격 경쟁력이 떨어지는 단점을 가지고 있다.
따라서 비할로겐이며, 점도가 상대적으로 낮은 액상의 고굴절 (메타)아크릴레이트를 저가의 공정으로 제조할 필요성이 있다.
대한민국 공개특허 특2001-0012340 (2001.02.15.) 대한민국 공개특허 10-2005-0010760 (2005.01.28.)
본 발명은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 높은 굴절율을 갖으면서 점도가 낮은 특성을 가지고 있고, 경화 시 투명성이 우수하며, 장시간 빛 노출에도 황변이 적으면서 성형성 및 접착성이 우수하고 광학특성이 우수한 신규한 (메타)아크릴레이트 유도체를 제공하는데 목적이 있다.
또한 본 발명은 상기 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체를 제조하는 방법을 제공하는데 다른 목적이 있다.
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 신규한 (메타)아크릴레이트 유도체를 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112012109114609-pat00001
상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 (메타)아크릴레이트 유도체는 하기 화합물에서 선택될 수 있다.
Figure 112012109114609-pat00002
상기 R은 수소 또는 메틸이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 (메타)아크릴레이트 유도체는 25℃에서 점도가 300 내지 3500 cP 이며, 굴절율이 1.61 내지 1.63 일 수 있다.
또한, 본 발명은 1) 제1반응기에 하기 화학식 a의 플루오렌 유도체, PFA(paraformaldehyde) 및 산을 투입하여 반응시켜 화학식 b의 화합물을 제조하는 단계;
2) 제2반응기에 KOH 수용액 및 하기 화학식 c의 (메타)아크릴산을 투입한 다음, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)를 투입하여 KOH/(메타)아크릴산 수용액을 제조하는 단계;
3) 상기 1) 단계의 반응생성물인 하기 화학식 b의 화합물을 2) 단계의 제2반응기에 투입하여 에스테르 반응시켜 하기 화학식 1의 (메타)아크릴레이트 유도체를 제조하는 단계;를 포함하는 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법을 제공한다:
[화학식 1]
Figure 112012109114609-pat00003
[화학식 a]
Figure 112012109114609-pat00004
[화학식 b]
Figure 112012109114609-pat00005
[화학식 c]
Figure 112012109114609-pat00006
상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 산은 아세트산, 염산, 인산, 황산, p-톨루엔술폰산 및 메탄술폰산에서 선택될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 반응온도는 80 내지 85℃일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 2) 단계에서 KOH 수용액 및 화학식 c의 (메타)아크릴산의 투입은 5 내지 15℃에서 수행될 수 있으며, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)의 투입은 20 내지 30℃에서 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 3) 단계의 에스테르 반응은 70 내지 90℃에서 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 반응 후 제1반응기에 중합금지제를 추가로 투입하는 단계 또는 제 3) 단계의 에스테르 반응 후 중합금지제를 추가로 투입하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 신규한 (메타)아크릴레이트 유도체은 플루오렌 구조 내 9번 위치에 산소 또는 황을 함유하고 있는 액상의 플루오렌 메틸 (메타)아크릴레이트 유도체로, 높은 굴절율을 갖으면서 점도가 낮은 특성을 가지고 있어 흐름성 및 성형성이 좋으며, 반응성이 우수하여 공정상에 유리하며, 상기 (메타)아크릴레이트 유도체는 저가의 공정으로 제조되므로 경제적이다. 또한, 경화 시 투명성이 우수하며, 장시간 빛 노출에도 황변이 적으면서 성형성 및 접착성이 우수하고 광경화수지 및 필름, 코팅 분야에 다양하게 사용할 수 있다.
본 발명은 액상의 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체를 제공하는 것으로, 하기 화학식 1로 표시된다.
[화학식 1]
Figure 112012109114609-pat00007
상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 (메타)아크릴레이트 유도체는 하기 화합물에서 선택될 수 있다.
Figure 112012109114609-pat00008
상기 R은 수소 또는 메틸이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 (메타)아크릴레이트 유도체는 25℃에서 점도가 300 내지 3500 cP 이며, 굴절율이 1.61 내지 1.63 일 수 있다.
또한, 본 발명은 1) 제1반응기에 하기 화학식 a의 플루오렌 유도체, PFA(paraformaldehyde) 및 산을 투입하여 반응시켜 화학식 b의 화합물을 제조하는 단계;
2) 제2반응기에 KOH 수용액 및 하기 화학식 c의 (메타)아크릴산을 투입한 다음, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)를 투입하여 KOH/(메타)아크릴산 수용액을 제조하는 단계;
3) 상기 1) 단계의 반응생성물인 하기 화학식 b의 화합물을 2) 단계의 제2반응기에 투입하여 에스테르 반응시켜 하기 화학식 1의 (메타)아크릴레이트 유도체를 제조하는 단계를 포함하는 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법을 제공한다:
[화학식 1]
Figure 112012109114609-pat00009
[화학식 a]
Figure 112012109114609-pat00010
[화학식 b]
Figure 112012109114609-pat00011
[화학식 c]
Figure 112012109114609-pat00012
상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
이하 본 발명의 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법을 보다 상세하게 상술한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 산은 한정이 있는 것은 아니나, 바람직하게는 아세트산, 염산, 인산, 황산, p-톨루엔술폰산 및 메탄술폰산에서 선택되는 하나 이상일 수 있으며, 보다 바람직하게는 아세트산, 염산 및 인산에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 반응온도는 80 내지 85℃일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 2) 단계에서 아크릴산을 염(salt)화 하기 위하여 KOH를 사용하며 수용액의 pH를 중성으로 유지하기 위해 동일 당량을 사용한다. 또한, KOH 수용액 및 화학식 c의 (메타)아크릴산의 투입은 5 내지 15℃에서 수행될 수 있으며, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)는 상전이 촉매로 수층과 유기층 사이의 반응을 원활하게 하는 것으로, TBAB의 투입은 20 내지 30℃에서 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 3) 단계의 에스테르 반응은 70 내지 90℃에서 수행될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 최종 제품인 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 색상을 개선하기 위하여 각 단계마다 활성탄을 이용한 탈색 공정을 실시할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법에서 상기 1) 단계의 반응 후 제1반응기에 중합금지제를 추가로 투입하는 단계 또는 제 3) 단계의 에스테르 반응 후 중합금지제를 추가로 투입하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 중합금지제는 하이드로퀴논(hydroquinone), MEHQ (4-Methoxy Phenol), 터셔리부틸카테콜(tertbutylcatechol), 파라-벤조퀴논(p-benzoquinone), 페노시아진(phenothiazine), 부틸레이티드하이드록시톨루엔(butylated hydroxy toluene), 파이로갈롤(pyrogallol), 모노터셔리-부틸하이드로퀴논(mono tertbutylhydroquinone) 및 디터셔리부틸하이드로퀴논(di tert-butylhydroquinone)으로루터 1종 이상 선택되어 사용하는 것이 바람직하다.
또한 상기 중합금지제는 반응기 내부 온도에 의한 중합 방지를 위하여 추가로 투입되는 것으로, 1) 단계의 반응 후 화학식 b의 화합물 100 중량부에 대하여 0.04 내지 0.06 중량부, 3) 단계의 에스테르 반응 후 화학식 1의 화합물 100 중량부에 대하여 0.04 내지 0.05 중량부를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 제조방법을 통하여 생성된 (메타)아크릴레이트 화합물 제품은, 예를 들면, 알카리 수세, 수세, 증류, 여과, 등과 같은 공지의 정제방법을 통하여 회수될 수 있다.
이하, 실시예를 통하여 본 발명의 구성을 보다 구체적으로 설명하지만, 하기의 실시예들은 본 발명에 대한 이해를 돕기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 여기에 국한된 것은 아니다.
[실시예 1] 디벤조[b,d]퓨란일메틸 아크릴레이트 (Dibenzo[b,d]furanylmethyl acrylate)의 합성
Figure 112012109114609-pat00013
1L 반응기에 디벤조퓨란 (Dibenzofuran) (100.0 g, 0.595 mol), PFA (paraformaldehyde) (44.6 g, 1.486 mol), 증류수 (50 g), 아세트산 (100.0 g)를 넣고 교반하며 80℃로 승온한다. 반응기 내부 온도를 80℃로 유지하고 HCl 가스(54.2 g, 1.486 mol)를 투입하며 5시간 반응한다. 반응 종료 후, 톨루엔 (300.0 g)을 투입하여 클로로메틸이 도입된 디벤조퓨란을 중간 생성물로서 층분리한다. 중간 생성물층을 교반하며 반응기 내부 온도를 25℃로 냉각하고 매 회 정제수 (200.0 g)를 사용하여 3회에 걸쳐 수세 및 층분리하고, 최종 목적 화합물의 색상을 개선하기 위해 중간 생성물층에 활성탄을 사용하여 탈색한다. 탈색 후 MgSO4로 수분을 제거 및 여과하고 중합억제제인 MEHQ (4-Methoxy Phenol) (0.064 g, 0.00052 mol)을 투입한다(이하, 반응액 1 이라 함).
다른 1L 반응기에 정제수 (200.0 g)을 넣고 반응기 내부 온도를 5℃로 냉각한다. 내부 온도를 15℃ 이하로 유지하며 90% KOH (66.7 g, 1.070 mol)을 천천히 투입한다. 90% KOH 완전 용해 후, 내부 온도를 15℃ 이하로 유지하며 아크릴산 (Acrylic acid) (85.7 g, 1.189 mol)을 천천히 투입한다. 상온으로 승온하여 TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide) (27.7 g, 0.083 mol)을 투입하여 용해시켜 KOH/AA 수용액을 제조한다.
제조된 KOH/AA 수용액을 상기 제조된 반응액 1에 투입하고, 공기를 주입하며 80℃에서 4시간동안 반응한다. 반응 종료 후, 디벤조[b,d]퓨란일메틸 아크릴레이트를 최종 목적 화합물로서 층분리하고 반응기 내부 온도를 25℃로 냉각하고 매 회 정제수 (200.0 g)를 사용하여 3회에 걸쳐 수세 및 층분리하고, 최종 목적 화합물의 색상을 개선하기 위해 활성탄을 사용하여 탈색한다. 탈색 후 MgSO4로 수분을 제거 및 여과하고 중합억제제인 MEHQ (4-Methoxy Phenol) (0.075 g, 0.0006 mol)을 투입한다. 감압 증류 장치를 사용하여 톨루엔을 증류하여 최종 목적 화합물로, 디벤조[b,d]퓨란-3-일메틸 아크릴레이트(A) 및 디벤조[b,d]퓨란-1-일메틸 아크릴레이트(B)의 혼합물을 얻었다(A+B=142.2 g, A+B의 수율=94.8%, A : B = 1 : 0.7).
A의 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.34 (s, 2H), 5.83-5.86 (dd, 1H), 6.14-6.22 (m, 1H), 6.43-6.49 (dd, 1H), 7.31-7.35 (m, 1H), 7.43-7.48 (m, 2H), 7.53-7.58 (m, 2H), 7.90-7.97 (m, 2H)
B의 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.32 (s, 2H), 5.83-5.86 (dd, 1H), 6.14-6.21 (m, 1H), 6.43-6.48 (dd, 1H), 7.33-7.36 (m, 1H), 7.46-7.48 (m, 2H), 7.52-7.58 (m, 2H), 7.90-7.97 (m, 2H)
[실시예 2] 디벤조[b,d]티오펜일메틸 아크릴레이트 (Dibenzo[b,d] thiophenylmethyl acrylate)의 합성
Figure 112012109114609-pat00014
1L 반응기에 디벤조티오펜 (Dibenzothiophene) (100.0 g, 0.543 mol), PFA (paraformaldehyde) (40.7 g, 1.357 mol), 증류수 (50 g), 아세트산 (100.0 g)를 넣고 교반하며 90℃로 승온한다. 반응기 내부 온도를 90℃로 유지하고 HCl 가스(49.5 g, 1.356 mol)를 투입하며 5시간 반응한다. 반응 종료 후, 톨루엔 (300.0 g)을 투입하여 클로로메틸이 도입된 디벤조티오펜을 중간 생성물로서 층분리한다. 중간 생성물층을 교반하며 반응기 내부 온도를 25℃로 냉각하고 매 회 정제수 (200.0 g)를 사용하여 3회에 걸쳐 수세 및 층분리하고, 최종 목적 화합물의 색상을 개선하기 위해 중간 생성물층에 활성탄을 사용하여 탈색한다. 탈색 후 MgSO4로 수분을 제거 및 여과하고 중합억제제인 MEHQ (4-Methoxy Phenol) (0.063 g, 0.00057 mol)을 투입한다(이하, 반응액 2 이라 함).
다른 1L 반응기에 정제수 (200.0 g)을 넣고 반응기 내부 온도를 5℃로 냉각한다. 내부 온도를 15℃ 이하로 유지하며 90% KOH (60.9 g, 0.977 mol)을 천천히 투입한다. 90% KOH 완전 용해 후, 내부 온도를 15℃ 이하로 유지하며 아크릴산 (Acrylic acid) (78.2 g, 1.085 mol)을 천천히 투입한다. 상온으로 승온하여 TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide) (25.3 g, 0.076 mol)을 투입하여 용해시켜 KOH/AA 수용액을 제조한다.
제조된 KOH/AA 수용액을 상기 제조된 반응액 2에 투입하고, 공기를 주입하며 80℃에서 4시간동안 반응한다. 반응 종료 후, 디벤조[b,d]티오펜일메틸 아크릴레이트를 최종 목적 화합물로서 층분리하고 반응기 내부 온도를 25℃로 냉각하고 매 회 정제수 (200.0 g)를 사용하여 3회에 걸쳐 수세 및 층분리하고, 최종 목적 화합물의 색상을 개선하기 위해 활성탄을 사용하여 탈색한다. 탈색 후 MgSO4로 수분을 제거 및 여과하고 중합억제제인 MEHQ (4-Methoxy Phenol) (0.073 g, 0.0006 mol)을 투입한다. 감압 증류 장치를 사용하여 톨루엔을 증류하여 최종 목적 화합물로, 디벤조[b,d]티오펜-3-일메틸 아크릴레이트(C) 및 디벤조[b,d]티오펜-1-일메틸 아크릴레이트(D)의 혼합물을 얻었으며, 1H NMR로 구조를 확인하였다(C+D=133.4 g, C+D 의 수율=91.6%, C : D = 1 : 0.7).
C의 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.34 (s, 2H), 5.83-5.86 (dd, 1H), 6.14-6.22 (m, 1H), 6.43-6.49 (dd, 1H), 7.66-7.70 (m, 1H), 7.55-7.60 (m, 2H), 7.85-7.90 (m, 2H), 8.46-8.53 (m, 2H)
D의 1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 5.32 (s, 2H), 5.83-5.86 (dd, 1H), 6.14-6.21 (m, 1H), 6.43-6.49 (dd, 1H), 7.68-7.71 (m, 1H), 7.58-7.60 (m, 2H), 7.84-7.90 (m, 2H), 8.45-8.52 (m, 2H)
상기 실시예 1의 디벤조[b,d]퓨란일메틸 아크릴레이트(A+B) 및 실시예 2의 디벤조[b,d]티오펜일메틸 아크릴레이트(C+D)에 대한 물성 평가 방법은 하기와 같으며, 하기 표 1에 각 실시예로부터 제조된 아크릴레이트 화합물들의 물성을 나타내었다.
(1) <점도>
회전형 점도계(Brookfield, DV-ΙΙ + pro)를 사용하여 25℃에서의 점도를 측정하였다.
(2) <굴절률>
ATAGO사의 Abbe 굴절률계(제품명 : NAR-1T)를 사용하여 25℃에서 측정하였다.
분석 항목 실시예 1의 디벤조[b,d]퓨란일메틸 아크릴레이트(A+B) 실시예 2의 디벤조[b,d]티오펜일메틸 아크릴레이트(C+D) 종래 아크릴레이트 화합물
페닐티오에틸 아크릴레이트 2-페닐페녹시에틸 아크릴레이트
외관 (Appearance) Yellowish liquid Yellowish liquid Yellow to pale yellowish liquid Yellow to pale yellowish liquid
색도 (APHA) 151 120 50 50
점도 (at 25℃) 310.28 cP 3,304.8 cP 7~12 (20℃) 120.0 ~150.0 (20℃)
굴절률 (at 25℃) 1.611 1.636 1.557 (20℃) 1.579 (20℃)
상기 표 1에 기재된 바와 같이, 본원발명의 실시예 1 및 2의 아크릴레이트 화합물들은 종래의 아크릴레이트에 비해 상당히 높은 굴절율을 가져 광학필름, 카메라, 복사기, 프린터 등에 사용되는 산업용 광학렌즈, 안경재료용 광학 렌즈 및 기타 광학재료 등의 제품에 사용할 경우 휘도 강화 효과가 매우 우수할 것으로 예상된다.

Claims (9)

  1. 하기 화학식 1로 표시되는 (메타)아크릴레이트 유도체.
    [화학식 1]
    Figure 112012109114609-pat00015

    상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트 유도체는 하기 화합물에서 선택되는 것인 (메타)아크릴레이트 유도체.
    Figure 112012109114609-pat00016

    상기 R은 수소 또는 메틸이다.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 (메타)아크릴레이트 유도체는 25℃에서 점도가 300 내지 3500 cP 이며, 굴절율이 1.61 내지 1.63인 (메타)아크릴레이트 유도체.
  4. 1) 제1반응기에 하기 화학식 a의 플루오렌 유도체, PFA(paraformaldehyde) 및 아세트산, 인산, 황산, p-톨루엔술폰산 및 메탄술폰산으로부터 선택되는 산을 투입하고 HCl 가스를 투입하여 반응시켜 화학식 b의 화합물을 제조하는 단계;
    2) 제2반응기에 KOH 수용액 및 하기 화학식 c의 (메타)아크릴산을 투입한 다음, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)를 투입하여 KOH/(메타)아크릴산 수용액을 제조하는 단계;
    3) 상기 1) 단계의 반응생성물인 하기 화학식 b의 화합물을 2) 단계의 제2반응기에 투입하여 에스테르 반응시켜 하기 화학식 1의 (메타)아크릴레이트 유도체를 제조하는 단계;를 포함하는 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법.
    [화학식 1]
    Figure 112014020116841-pat00017

    [화학식 a]
    Figure 112014020116841-pat00018

    [화학식 b]
    Figure 112014020116841-pat00019

    [화학식 c]
    Figure 112014020116841-pat00020

    상기 X는 O 또는 S이고, R은 수소 또는 메틸이다.
  5. 삭제
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 1) 단계의 반응온도는 80 내지 85℃인 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법.
  7. 제 4항에 있어서,
    상기 2) 단계에서 KOH 수용액 및 화학식 c의 (메타)아크릴산의 투입은 5 내지 15℃에서 수행되며, TBAB(Tetra-n-butylammonium bromide)의 투입은 20 내지 30℃에서 수행되는 것인 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법.
  8. 제 4항에 있어서,
    상기 3) 단계의 에스테르 반응은 70 내지 90℃에서 수행되는 것인 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법.
  9. 제 4항에 있어서,
    상기 1) 단계의 반응 후 제1반응기에 중합금지제를 추가로 투입하는 단계 또는 제 3) 단계의 에스테르 반응 후 중합금지제를 추가로 투입하는 단계를 포함하는 고굴절 (메타)아크릴레이트 유도체의 제조방법.
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