JPWO2020185360A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 処理チャンバ用のシャワーヘッドアセンブリであって、
   支持特徴を備えた支持構造、及び
   少なくとも約５０Ｗ／（ｍＫ）の熱伝導率を有し、かつ約１００μｍ未満の平均直径を有する複数のポアを備えた多孔性プレートであって、該多孔性プレートのエッジの少なくとも一部が前記支持特徴上にある、多孔性プレート
   を含む、シャワーヘッドアセンブリ。
2. 前記複数のポアが、前記多孔性プレートの第１の表面から第２の表面まで延びる複数の連続した経路を形成する、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
3. 前記多孔性プレートが、少なくとも約２００ｍｍの直径を有する円形形状を有している、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
4. 前記複数のポアの数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約６０ポアである、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
5. 前記多孔性プレートの熱伝導率が少なくとも約７５Ｗ／（ｍＫ）である、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
6. 前記複数のポアが約５０μｍ未満の平均直径を有する、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
7. 前記支持構造がクランププレートをさらに含み、前記多孔性プレートの前記エッジの少なくとも一部が、前記クランププレートと前記支持特徴との間に保持される、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
8. 前記多孔性プレートが、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、及びモリブデンのうちの１つを含む、請求項１に記載のシャワーヘッドアセンブリ。
9. 処理チャンバであって、
   基板を支持するように構成された基板支持体、
   前記処理チャンバの内部にガスを流すように構成されたシャワーヘッドアセンブリであって、該シャワーヘッドアセンブリが、
   支持特徴を備えた支持構造と、
   少なくとも約５０Ｗ／（ｍＫ）の熱伝導率を有し、かつ約１００μｍ未満の直径を有する複数のポアを備えた多孔性プレートであって、該多孔性プレートのエッジの少なくとも一部が前記支持特徴上にある、多孔性プレートと
   を備えている、シャワーヘッドアセンブリ、及び
   プロセスガスを前記シャワーヘッドアセンブリに供給するように構成されたガス供給源
   を含む、処理チャンバ。
10. 前記複数のポアが、前記多孔性プレートの第１の表面から第２の表面まで延びる複数の連続した経路を形成する、請求項９に記載の処理チャンバ。
11. 前記多孔性プレートが、少なくとも約２００ｍｍの直径を有する円形形状を有している、請求項９に記載の処理チャンバ。
12. 前記複数のポアの数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約６０ポアである、請求項９に記載の処理チャンバ。
13. 前記多孔性プレートの熱伝導率が少なくとも約７５Ｗ／（ｍＫ）である、請求項９に記載の処理チャンバ。
14. 前記複数のポアが約５０μｍ未満の平均直径を有する、請求項９に記載の処理チャンバ。
15. 前記支持構造がクランププレートをさらに含み、前記多孔性プレートの前記エッジの少なくとも一部が前記クランププレートと前記支持特徴との間に保持される、請求項９に記載の処理チャンバ。
16. 前記多孔性プレートが、炭化ケイ素、窒化アルミニウム、及びモリブデンのうちの１つを含む、請求項９に記載の処理チャンバ。
17. 処理チャンバのシャワーヘッドアセンブリのための多孔性プレートであって、該多孔性プレートが、
    不規則なパターンに従って配置された複数のポアと、
    前記複数のポアから形成された複数の連続した経路と
    を備え、前記複数の連続した経路が、前記多孔性プレートの第１の表面から第２の表面まで延び、
    前記多孔性プレートが少なくとも約５０Ｗ／（ｍＫ）の熱伝導率を有する、多孔性プレート。
18. 前記複数のポアが、約１００μｍ未満の平均直径を有する、請求項１７に記載の多孔性プレート。
19. 前記複数の連続した経路の数が、前記多孔性プレートの立方インチあたり少なくとも約６０ポアである、請求項１７に記載の多孔性プレート。
20. 前記複数のポアが約５０μｍ未満の平均直径を有する、請求項１７に記載の多孔性プレート。