JPWO2019176971A1 - 電荷輸送材料、化合物および有機発光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
そこで、本発明者らが、2つのアクセプター性基を有する化合物群について、特に連結基の構造に着目してホスト材料としての性能を網羅的に検討したところ、2つのアクセプター性基がアルキル基で置換されたメチレン基により連結している場合、そのアルキル基に置換する置換基の種類がホスト材料としての性能に大きく影響することが判明した。この点、上記の特許文献1、2では、連結基がアルキル基で置換されている場合の、そのアルキル基の置換基種については詳細な検討を行っていない。そのため、これらの文献からは、2つのアクセプター性基がメチレン基で連結している化合物のホストとしての性能が、そのメチレン基に置換しているアルキル基の置換基種により左右されることは予測がつかない。
このような状況下において本発明者らは、2つのアクセプター性基が連結基で連結した構造を有していて、ホスト材料等の電荷輸送材料として優れた性能を示す化合物の一般式を導きだし、優れた有機発光素子の構成を一般化することを目的として鋭意検討を進めた。
[2] R1およびR2が各々独立にパーフルオロアルキル基である、[1]に記載の電荷輸送材料。
[3] R1およびR2の炭素数が各々独立に1〜3のいずれかである、[1]または[2]に記載の電荷輸送材料。
[4] R1およびR2の炭素数が各々独立に1または2である、[3]に記載の電荷輸送材料。
[5] R1およびR2の炭素数が1である、[3]に記載の電荷輸送材料。
[6] R1およびR2がトリフルオロメチル基である、[1]に記載の電荷輸送材料。
[7] Ar1およびAr2が各々独立に置換基を有していてもよいベンゼン環である、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[8] Ar1およびAr2が、A1またはA2との結合位置、並びに、R1およびR2が結合しているCとの結合位置以外の位置が無置換であるベンゼン環である、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[9] A1およびA2が、各々独立に、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のヘテロアリール基である、[1]〜[8]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[10] 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環のいずれか一つ以上を含む基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[11] 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のピリジニル基、置換もしくは無置換のピリミジニル基または置換もしくは無置換のトリアジニル基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[12] 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基がトリアジン環を含む基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[13] 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が置換もしくは無置換のトリアジニル基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[14] 前記ヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたヘテロアリール基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[15] 前記ヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたトリアジニル基である、[9]に記載の電荷輸送材料。
[16] A1およびA2が同一の基である、[1]〜[15]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[17] n1およびn2が、1または2である、[1]〜[16]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[18] 前記電荷輸送材料がホスト材料である、[1]〜[17]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[19] 前記電荷輸送材料が電子輸送材料である、[1]〜[17]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[20] 最低励起三重項エネルギー準位(ET1)が2.90eV以上である、[1]〜[19]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[21] 最大発光波長が360〜495nmである有機発光素子用である、[1]〜[20]のいずれか1つに記載の電荷輸送材料。
[22] 下記一般式(1)で表される化合物。
[23] 下記一般式(1)で表される化合物を含む層を基板上に有する有機発光素子。
[24] 最低励起一重項エネルギー準位と最低励起三重項エネルギー準位との差ΔESTが0.3eV以下である化合物を前記発光層に含む、[23]に記載の有機発光素子。
[25] 遅延蛍光を放射する、[23]または[24]に記載の有機発光素子。
[26] 前記一般式(1)で表される化合物を発光層に有する、[23]〜[25]のいずれか1つに記載の有機発光素子。
[27] 前記発光層における一般式(1)で表される化合物の含有量が50重量%以上である、[26]に記載の有機発光素子。
[28] 前記一般式(1)で表される化合物を、発光層と陰極の間に形成される層に有する、[23]〜[25]のいずれか1つに記載の有機発光素子。
ここで、「ハメットのσp値」は、L.P.ハメットにより提唱されたものであり、パラ置換ベンゼン誘導体の反応速度または平衡に及ぼす置換基の影響を定量化したものである。具体的には、パラ置換ベンゼン誘導体における置換基と反応速度定数または平衡定数の間に成立する下記式:
log(k/k0) = ρσp
または
log(K/K0) = ρσp
における置換基に特有な定数(σp)である。上式において、kは置換基を持たないベンゼン誘導体の速度定数、k0は置換基で置換されたベンゼン誘導体の速度定数、Kは置換基を持たないベンゼン誘導体の平衡定数、K0は置換基で置換されたベンゼン誘導体の平衡定数、ρは反応の種類と条件によって決まる反応定数を表す。本発明における「ハメットのσp値」に関する説明と各置換基の数値については、Hansch,C.et.al.,Chem.Rev.,91,165-195(1991)のσp値に関する記載を参照することができる。ハメットのσp値が負である置換基は電子供与性(ドナー性)を示し、ハメットのσp値が正である置換基は電子求引性(アクセプター性)を示す傾向がある。以下の説明では、「ハメットのσp値が負である」ことを「電子供与性」と言い、「ハメットのσp値が正である」ことを「電子求引性」と言うことがある。
ハメットのσp値が正の基で置換されたアリール基において、アリール基に置換するハメットのσp値が正の基の数は1つであっても2つ以上であってもよいが、1〜3つであることが好ましく、1つまたは2つであることがより好ましい。アリール基における、ハメットのσp値が正の基の置換数が2以上である場合、複数のハメットのσp値が正の基は、互いに同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
アリール基に置換するハメットのσp値が正の基の具体例として、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、ホルミル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、ハロアルキル基、スルホニル基、を挙げることができ、シアノ基であることが好ましい。また、後述のAr1またはAr2へ炭素原子で結合する置換もしくは無置換のヘテロアリール基や後掲の各式で表される具体例も、ハメットのσp値が正の基として好ましく用いることができる。
フェニル基で置換されたアリール基において、アリール基に置換するフェニル基の数は1つであっても2つ以上であってもよいが、1〜3つであることが好ましく、1つまたは2つであることが好ましい。
A1およびA2が表す、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する置換もしくは無置換のヘテロアリール基は、ハメットのσp値が正の基であることが好ましく、そのヘテロアリール基が含む芳香族ヘテロ環はπ電子欠如系の芳香族ヘテロ環であることが好ましい。
また、A1およびA2が表す、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する置換もしくは無置換のヘテロアリール基において、そのヘテロアリール基が含むヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、硼素原子を挙げることができ、ヘテロアリール基は、少なくとも1つの窒素原子を環員として含むことが好ましい。そのようなヘテロアリール基として、窒素原子を環員として含む5員環または6員環からなる基、または窒素原子を環員として含む5員環または6員環にベンゼン環が縮環した構造を有する基を挙げることができ、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環およびトリアジン環のいずれか1つ以上を含む基であることが好ましく、ピリジン環、ピリミジン環およびトリアジン環のいずれか1つ以上を含む基であることがより好ましく、トリアジン環を含む基であることがさらに好ましい。ヘテロアリール基の具体例として、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環から水素原子を1つ除いた1価の基、または、これらの芳香族ヘテロ環同士が縮環した構造を有する基、これらの芳香族ヘテロ環にベンゼン環が縮環した構造を有する基を挙げることができ、置換もしくは無置換のピリジニル基、置換もしくは無置換のピリミジニル基、置換もしくは無置換のトリアジニル基であることが好ましく、置換もしくは無置換のトリアジニル基であることがより好ましい。Ar1またはAr2へ炭素原子で結合するヘテロアリール基は、置換基で置換されていても無置換であってもよいが、置換基で置換されていることが好ましい。ヘテロアリール基における置換基の数は、1つであっても2つ以上であってもよいが、1〜3つであることが好ましく、1つまたは2つであることがより好ましい。ヘテロアリール基が2つ以上の置換基を有するとき、複数の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
Ar1またはAr2へ炭素原子で結合するヘテロアリール基に置換しうる置換基として、例えばアルキル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子、ヘテロアリール基等を挙げることができ、このうち、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基は、それぞれ炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜40のアリール基、炭素数5〜40のヘテロアリール基であることが好ましい。これらの中で、ヘテロアリール基の置換基として好ましいのはアリール基である。このアリール基を構成する芳香環は、単環であっても、2以上の芳香環が縮合した縮合環であっても、2以上の芳香環が連結した連結環であってもよい。2以上の芳香環が連結している場合は、直鎖状に連結したものであってもよいし、分枝状に連結したものであってもよい。このアリール基を構成する芳香環の炭素数は、6〜22であることが好ましく、6〜18であることがより好ましく、6〜14であることがさらに好ましく、6〜10であることがさらにより好ましい。アリール基の具体例として、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基を挙げることができ、フェニル基であることが最も好ましい。これらの置換基のうち置換基により置換可能なものは、これらの置換基により置換されていてもよい。
一般式(1)で表される化合物は、分子量にかかわらず塗布法で成膜してもよい。塗布法を用いれば、分子量が比較的大きな化合物であっても成膜することが可能である。
例えば、一般式(1)で表される構造中にあらかじめ重合性基を存在させておいて、その重合性基を重合させることによって得られる重合体を、電荷輸送材料として用いることが考えられる。具体的には、一般式(1)のR1、R2、Ar1、Ar2、A1、A2のいずれかに重合性官能基を含むモノマーを用意して、これを単独で重合させるか、他のモノマーとともに共重合させることにより、繰り返し単位を有する重合体を得て、その重合体を電荷輸送材料として用いることが考えられる。あるいは、一般式(1)で表される構造を有する化合物どうしをカップリングさせることにより、二量体や三量体を得て、それらを電荷輸送材料として用いることも考えられる。
一般式(11)または(12)において、R101、R102、R103およびR104は、各々独立に置換基を表す。好ましくは、炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数1〜6の置換もしくは無置換のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは炭素数1〜3の無置換のアルキル基、炭素数1〜3の無置換のアルコキシ基、フッ素原子、塩素原子であり、さらに好ましくは炭素数1〜3の無置換のアルキル基、炭素数1〜3の無置換のアルコキシ基である。
L1およびL2で表される連結基は、Qを構成する一般式(1)の構造のR1、R2、Ar1、Ar2、A1、A2のいずれかに結合することができる。1つのQに対して連結基が2つ以上連結して架橋構造や網目構造を形成していてもよい。
一般式(1)で表される化合物は、既知の反応を組み合わせることによって合成することができる。例えば、一般式(1)のAr1、Ar2がベンゼン環、A1、A2が一般式(2)で表される基である化合物は、下記の反応スキーム1により中間体b’を合成し、この中間体b’と一般式(2)の部分構造(L19に結合している基)に対応する前駆体とを、カップリング反応を応用して結合させることにより合成することが可能である。
上記の反応は、公知のカップリング反応を応用したものであり、公知の反応条件を適宜選択して用いることができる。上記の反応の詳細については、後述の合成例を参考にすることができる。また、一般式(1)で表される化合物は、その他の公知の合成反応を組み合わせることによっても合成することができる。
本発明の一般式(1)で表される化合物は、有機発光素子の電荷輸送材料として有用である。このため、本発明の一般式(1)で表される化合物は、有機発光素子の発光層のホスト材料や電子輸送層の電子輸送材料等として効果的に用いることができ、これにより、駆動電圧が低い有機発光素子、発光効率が高い有機発光素子、または素子寿命が長い有機発光素子を実現することができる。なかでも、最低励起三重項エネルギー準位(ET1)が2.90eV以上、好ましくは2.95eV以上、さらに好ましくは3.00eV以上の化合物は、発光波長が短い有機発光素子用の材料として有用である。例えば、最大発光波長が360〜550nm、特に360〜495nmの有機発光素子の材料として有用である。
以下において、有機エレクトロルミネッセンス素子の各部材および各層について説明する。一般式(1)で表される化合物は、有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極と陰極の間に形成される層の少なくとも1つに含まれる。なお、基板と発光層の説明は有機フォトルミネッセンス素子の基板と発光層にも該当する。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板に支持されていることが好ましい。この基板については、特に制限はなく、従来から有機エレクトロルミネッセンス素子に慣用されているものであればよく、例えば、ガラス、透明プラスチック、石英、シリコンなどからなるものを用いることができる。
有機エレクトロルミネッセンス素子における陽極としては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極材料とするものが好ましく用いられる。このような電極材料の具体例としてはAu等の金属、CuI、インジウムチンオキシド(ITO)、SnO2、ZnO等の導電性透明材料が挙げられる。また、IDIXO(In2O3−ZnO)等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極材料を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパターン精度をあまり必要としない場合は(100μm以上程度)、上記電極材料の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。あるいは、有機導電性化合物のように塗布可能な材料を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望ましく、また陽極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常10〜1000nm、好ましくは10〜200nmの範囲で選ばれる。
一方、陰極としては、仕事関数の小さい(4eV以下)金属(電子注入性金属と称する)、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極材料とするものが用いられる。このような電極材料の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、インジウム、リチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性および酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al2O3)混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、膜厚は通常10nm〜5μm、好ましくは50〜200nmの範囲で選ばれる。なお、発光した光を透過させるため、有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極または陰極のいずれか一方が、透明または半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。
また、陽極の説明で挙げた導電性透明材料を陰極に用いることで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することができる。
発光層は、陽極および陰極のそれぞれから注入された正孔および電子が再結合することにより励起子が生成した後、発光する層であり、発光材料のみからなる層であってもよいし、発光材料とホスト材料を含む層であってもよい。発光材料には公知のものを用いることができ、蛍光材料、遅延蛍光材料、りん光材料のいずれであってもよいが、高い発光効率が得られることから遅延蛍光材料であることが好ましい。
ホスト材料としては、一般式(1)で表される本発明の化合物群から選ばれる1種または2種以上を用いることができる。ホスト材料には、一般式(1)で表される化合物群のうち、その最低励起一重項エネルギー準位および最低励起三重項エネルギー準位の少なくとも何れか一方が発光材料よりも高い値を有するものを用いることが好ましく、最低励起一重項エネルギー準位および最低励起三重項エネルギー準位の両方が発光材料よりも高い値を有するものを用いることがより好ましい。これにより、発光材料に生成した一重項励起子、三重項励起子を発光材料の分子中に閉じ込めることが可能となり、その発光効率を十分に引き出すことが可能となる。発光は蛍光発光、遅延蛍光発光、りん光発光のいずれであってもよく、2種類以上の発光を含んでいてもよい。但し、発光の一部或いは部分的にホスト材料からの発光があってもかまわない。
発光層における発光材料の含有量は、50重量%未満とすることが好ましい。さらに、発光材料の含有量の上限値は30重量%未満とすることが好ましく、また、含有量の上限値は例えば20重量%未満、10重量%未満、5重量%未満、3重量%未満、1重量%未満、0.5重量%未満とすることもできる。下限値は0.001重量%以上とすることが好ましく、例えば0.01重量%超、0.1重量%超、0.5重量%超、1重量%超とすることもできる。
すなわち、有機エレクトロルミネッセンス素子においては、正負の両電極より発光材料にキャリアを注入し、励起状態の発光材料を生成し、発光させる。通常、キャリア注入型の有機エレクトロルミネッセンス素子の場合、生成したエキシトンのうち、励起一重項状態に励起されるのは25%であり、残り75%は励起三重項状態に励起される。従って、励起三重項状態からの発光である燐光を利用するほうが、エネルギーの利用効率が高い。しかしながら、励起三重項状態は寿命が長いため、励起状態の飽和や励起三重項状態のエキシトンとの相互作用によるエネルギーの失活が起こり、一般に燐光の量子収率が高くないことが多い。一方、遅延蛍光材料は、項間交差等により励起三重項状態へとエネルギーが遷移した後、三重項−三重項消滅あるいは熱エネルギーの吸収により、励起一重項状態に逆項間交差され蛍光を放射する。有機エレクトロルミネッセンス素子においては、なかでも熱エネルギーの吸収による熱活性化型の遅延蛍光材料が特に有用であると考えられる。有機エレクトロルミネッセンス素子に遅延蛍光材料を利用した場合、励起一重項状態のエキシトンは通常通り蛍光を放射する。一方、励起三重項状態のエキシトンは、デバイスが発する熱を吸収して励起一重項へ項間交差され蛍光を放射する。このとき、励起一重項からの発光であるため蛍光と同波長での発光でありながら、励起三重項状態から励起一重項状態への逆項間交差により、生じる光の寿命(発光寿命)は通常の蛍光や燐光よりも長くなるため、これらよりも遅延した蛍光として観察される。これを遅延蛍光として定義できる。このような熱活性化型のエキシトン移動機構を用いれば、キャリア注入後に熱エネルギーの吸収を経ることにより、通常は25%しか生成しなかった励起一重項状態の化合物の比率を25%以上に引き上げることが可能となる。100℃未満の低い温度でも強い蛍光および遅延蛍光を発する化合物を用いれば、デバイスの熱で充分に励起三重項状態から励起一重項状態への項間交差が生じて遅延蛍光を放射するため、発光効率を飛躍的に向上させることができる。
発光層が発光材料とホスト材料とアシストドーパントを含む系では、発光層におけるアシストドーパントの含有量は、ホスト材料の含有量よりも少なく、発光材料の含有量よりも多いこと、すなわち、「発光材料の含有量<アシストドーパントの含有量<ホスト材料の含有量」の関係を満たすことが好ましい。具体的には、この態様での発光層におけるアシストドーパントの含有量は、50重量%未満とすることが好ましい。さらに、アシストドーパントの含有量の上限値は40重量%未満とすることが好ましく、また、含有量の上限値は例えば30重量%未満、20重量%未満、10重量%未満とすることもできる。下限値は0.1重量%以上とすることが好ましく、例えば1重量%超、3重量%超とすることもできる。
ここで、化合物の最低励起一重項エネルギー準位(ES1)および最低励起三重項エネルギー準位(ET1)は以下の方法で算出することができ、最低励起一重項エネルギー準位(ES1)と最低励起三重項エネルギー準位(ET1)の差(ΔEST)は、ΔEST=ES1−ET1により求められる。
(1)最低励起一重項エネルギー準位ES1
測定対象化合物とmCPとを、測定対象化合物が濃度6重量%となるように共蒸着することでSi基板上に厚さ100nmの試料を作製する。もしくは測定対象化合物が1×10−5mol/Lとなるようなトルエン溶液を調製する。常温(300K)でこの試料の蛍光スペクトルを測定する。具体的には、励起光入射直後から入射後100ナノ秒までの発光を積算することで、縦軸を発光強度、横軸を波長の蛍光スペクトルを得る。この発光スペクトルの短波側の立ち上がりに対して接線を引き、その接線と横軸との交点の波長値 λedge[nm]を求める。この波長値を次に示す換算式でエネルギー値に換算した値をES1とする。
換算式:ES1[eV]=1239.85/λedge
発光スペクトルの測定には、励起光源に窒素レーザー(Lasertechnik Berlin社製、MNL200)を用い、検出器にストリークカメラ(浜松ホトニクス社製、C4334)を用いることができる。
(2)最低励起三重項エネルギー準位ET1
一重項エネルギーES1と同じ試料を5[K]に冷却し、励起光(337nm)をりん光測定用試料に照射し、ストリークカメラを用いて、りん光強度を測定する。励起光入射後1ミリ秒から入射後10ミリ秒の発光を積算することで、縦軸を発光強度、横軸を波長のりん光スペクトルを得る。このりん光スペクトルの短波長側の立ち上がりに対して接線を引き、その接線と横軸との交点の波長値λedge[nm]を求める。この波長値を次に示す換算式でエネルギー値に換算した値をET1とする。
換算式:ET1[eV]=1239.85/λedge
りん光スペクトルの短波長側の立ち上がりに対する接線は以下のように引く。りん光スペクトルの短波長側から、スペクトルの極大値のうち、最も短波長側の極大値までスペクトル曲線上を移動する際に、長波長側に向けて曲線上の各点における接線を考える。この接線は、曲線が立ち上がるにつれ(つまり縦軸が増加するにつれ)、傾きが増加する。この傾きの値が極大値をとる点において引いた接線を、当該りん光スペクトルの短波長側の立ち上がりに対する接線とする。
なお、スペクトルの最大ピーク強度の10%以下のピーク強度をもつ極大点は、上述の最も短波長側の極大値には含めず、最も短波長側の極大値に最も近い、傾きの値が極大値をとる点において引いた接線を当該りん光スペクトルの短波長側の立ち上がりに対する接線とする。
注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、正孔注入層と電子注入層があり、陽極と発光層または正孔輸送層の間、および陰極と発光層または電子輸送層との間に存在させてもよい。注入層は必要に応じて設けることができる。
阻止層は、発光層中に存在する電荷(電子もしくは正孔)および/または励起子の発光層外への拡散を阻止することができる層である。電子阻止層は、発光層および正孔輸送層の間に配置されることができ、電子が正孔輸送層の方に向かって発光層を通過することを阻止する。同様に、正孔阻止層は発光層および電子輸送層の間に配置されることができ、正孔が電子輸送層の方に向かって発光層を通過することを阻止する。阻止層はまた、励起子が発光層の外側に拡散することを阻止するために用いることができる。すなわち電子阻止層、正孔阻止層はそれぞれ励起子阻止層としての機能も兼ね備えることができる。本明細書でいう電子阻止層または励起子阻止層は、一つの層で電子阻止層および励起子阻止層の機能を有する層を含む意味で使用される。
正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は電子を輸送しつつ、正孔が電子輸送層へ到達することを阻止する役割があり、これにより発光層中での電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。正孔阻止層の材料としては、後述する電子輸送層の材料を必要に応じて用いることができる。
電子阻止層とは、広い意味では正孔を輸送する機能を有する。電子阻止層は正孔を輸送しつつ、電子が正孔輸送層へ到達することを阻止する役割があり、これにより発光層中での電子と正孔が再結合する確率を向上させることができる。
励起子阻止層とは、発光層内で正孔と電子が再結合することにより生じた励起子が電荷輸送層に拡散することを阻止するための層であり、本層の挿入により励起子を効率的に発光層内に閉じ込めることが可能となり、素子の発光効率を向上させることができる。励起子阻止層は発光層に隣接して陽極側、陰極側のいずれにも挿入することができ、両方同時に挿入することも可能である。すなわち、励起子阻止層を陽極側に有する場合、正孔輸送層と発光層の間に、発光層に隣接して該層を挿入することができ、陰極側に挿入する場合、発光層と陰極との間に、発光層に隣接して該層を挿入することができる。また、陽極と、発光層の陽極側に隣接する励起子阻止層との間には、正孔注入層や電子阻止層などを有することができ、陰極と、発光層の陰極側に隣接する励起子阻止層との間には、電子注入層、電子輸送層、正孔阻止層などを有することができる。阻止層を配置する場合、阻止層として用いる材料の励起一重項エネルギーおよび励起三重項エネルギーの少なくともいずれか一方は、発光材料の励起一重項エネルギーおよび励起三重項エネルギーよりも高いことが好ましい。
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、正孔輸送層は単層または複数層設けることができる。
正孔輸送材料としては、正孔の注入または輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。使用できる公知の正孔輸送材料としては例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、また導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられるが、ポルフィリン化合物、芳香族第3級アミン化合物およびスチリルアミン化合物を用いることが好ましく、芳香族第3級アミン化合物を用いることがより好ましい。
電子輸送層とは電子を輸送する機能を有する材料からなり、電子輸送層は単層または複数層設けることができる。
電子輸送材料(正孔阻止材料を兼ねる場合もある)としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよい。電子輸送材料としては、一般式(1)で表される化合物を用いることができる。一般式(1)で表される化合物以外に電子輸送層に用いることができる電子輸送材料としては例えば、ピリジン誘導体、ジアジン誘導体、トリアジン誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した、またはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
一方、りん光については、有機化合物からなる発光材料では、励起三重項エネルギーは不安定であり、熱失活の速度定数が大きく、発光の速度定数が小さいことから直ちに失活するため、室温では殆ど観測できない。通常の有機化合物の励起三重項エネルギーを測定するためには、極低温の条件での発光を観測することにより測定可能である。
撹拌後、この混合物を室温に戻してから、セライトを通してろ液を得る。得られたろ液にクロロホルムを加えて抽出し、抽出した有機層をエバポレーターで濃縮して、固体を得る。得られた固体をヘキサン:酢酸エチル:クロロホルム=30:2:2の混合溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。目的物のフラクションを濃縮し、乾燥させたところ、粉末状白色固体(化合物2)を得る。
撹拌後、この混合物を室温に戻してから、セライトを通してろ液を得る。得られたろ液にクロロホルムを加えて抽出し、抽出した有機層をエバポレーターで濃縮して、固体を得る。得られた固体をヘキサン:酢酸エチル:クロロホルム=30:2:2の混合溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製する。目的物のフラクションを濃縮し、乾燥させたところ、粉末状白色固体(化合物4)を得る。
撹拌後、この混合物を室温に戻してから、セライトを通してろ液を得た。得られたろ液にクロロホルムを加えて抽出し、抽出した有機層をエバポレーターで濃縮して、固体を得た。得られた固体をヘキサン:酢酸エチル:クロロホルム=30:2:2の混合溶媒を用いて、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。目的物のフラクションを濃縮し、乾燥させたところ、粉末状白色固体(化合物23)を収量1.90g、収率38%で得た。
1HNMR(500MHZ,CDCl3,δ):9.05(s,2H),8.87(d,J=7.0Hz,2H),8.70-8.73(m,8H),7.56-7.68(m,16H);
APCl-MS m/z:766.30M+
Ar雰囲気のグローブボックス中で化合物1のトルエン溶液(濃度1x10−5mol/L)を調製した。
このトルエン溶液の紫外可視吸収スペクトル、298Kでの発光スペクトルおよび77Kでのりん光スペクトルを図2に示す。図2中、「UV-Vis」は紫外可視吸収スペクトルを示し「PL」は発光スペクトルを示し、「Phos.」はりん光スペクトルを示す。りん光スペクトルから求められた化合物1の最低励起三重項エネルギー準位は3.0eVであった。
膜厚100nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを30nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを20nmの厚さに形成し、その上に、mCBPを10nmの厚さに形成した。次に、化合物1と4CzIPNを異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、4CzIPNの濃度は15重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を10nmの厚さに形成し、その上に、Bebq2を35nmの厚さに形成した。さらにフッ化リチウム(LiF)を0.8nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
発光層を形成する際、化合物1の代わりにmCBPを用い、発光層の上に化合物1からなる層を形成する代わりに、T2Tからなる層を10nmの厚さに形成した以外は、実施例1と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
図3、4から、化合物1をホスト材料に用いた実施例1の有機エレクトロルミネッセンス素子は、mCBPをホスト材料に用いた比較例1の有機エレクトロルミネッセンス素子に比べて、各段に高い外部量子効率を有しており、素子寿命も遥かに長いことがわかった。
膜厚100nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを10nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを15nmの厚さに形成し、その上に、mCBPを5nmの厚さに形成した。次に、mCBPと4CzIPNを異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、4CzIPNの濃度は20重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を10nmの厚さに形成し、その上に、化合物1とLiqの共蒸着膜を40nmの厚さに形成した。この時、Liqの濃度は30重量%とした。さらにLiqを2nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
電子輸送層を形成する際、化合物1の代わりにSF3−TRZを用いた以外は、実施例2と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
実施例2および比較例2の最大外部量子効率EQEはそれぞれ20%を達成した。実施例2の電圧値は比較例2のものに対しおよそ2V低駆動電圧化し、LT80は2.95倍となった。
この結果から化合物1を正孔阻止材料および電子輸送材料に用いた実施例2の有機エレクトロルミネッセンス素子は、SF3−TRZを正孔阻止材料および電子輸送材料に用いた比較例2の有機エレクトロルミネッセンス素子に比べて、低電圧駆動かつ素子寿命が遥かに長いことがわかった。
膜厚100nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを10nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを15nmの厚さに形成し、その上に、mCBPを5nmの厚さに形成した。次に、H−1と4CzTPNを異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、4CzTPNの濃度は20重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を50nmの厚さに形成し、その上にLiqを2nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
化合物1を50nmの厚さに形成する代わりに、正孔阻止層としてSF3−TRZを10nmの厚さに形成し、その上に電子輸送層としてSF3−TRZとLiqを7:3で共蒸着し40nmの厚さに形成した以外は、実施例4と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
この結果から化合物1が正孔阻止材料および電子輸送材料として有用であることがわかった。
膜厚50nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを15nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを15nmの厚さに形成し、その上に、PYD−2Czを5nmの厚さに形成した。次に、PYD−2CzとD−1を異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、4CzIPNの濃度は30重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を10nmの厚さに形成し、その上にSF3−TRZとLiqの共蒸着膜を30nmの厚さに形成した。この時、Liqの濃度は30重量%とした。さらにLiqを2nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
正孔阻止層を形成する際、化合物1の代わりに化合物23を用いた以外は、実施例5と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
正孔阻止層を形成する際、化合物1の代わりにSF3−TRZを用いた以外は、実施例5と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
この結果から化合物1と化合物23の最低励起三重項エネルギー準位(ET1)が高くて、青色発光有機エレクトロルミネッセンス素子に有用であることがわかった。
膜厚100nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを10nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを15nmの厚さに形成し、その上に、mCBPを5nmの厚さに形成した。次に、H−1と4CzTPNを異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、4CzTPNの濃度は20重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を10nmの厚さに形成し、その上に、化合物1とLiqの共蒸着膜を40nmの厚さに形成した。この時、Liqの濃度は30重量%とした。さらにLiqを2nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
正孔阻止層と電子輸送層を形成する際、化合物1の代わりにSF3−TRZを用いた以外は、実施例7と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
電子輸送層として化合物1とLiqの共蒸着膜を形成する代わりに、SF3−TRZとLiqの共蒸着膜を形成した以外は、実施例7と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
膜厚50nmのインジウム・スズ酸化物(ITO)からなる陽極が形成されたガラス基板上に、各薄膜を真空蒸着法にて、真空度3×10−4Paで積層した。まず、ITO上にHAT−CNを10nmの厚さに形成し、その上に、α−NPDを15nmの厚さに形成した。続いて、Tris−PCzを15nmの厚さに形成し、その上に、PYD−2Czを5nmの厚さに形成した。次に、PYD−2CzとD−1を異なる蒸着源から共蒸着し、30nmの厚さの層を形成して発光層とした。この時、D−1の濃度は30重量%とした。形成した発光層の上に、化合物1を10nmの厚さに形成し、その上に、SF3−TRZとLiqの共蒸着膜を30nmの厚さに形成した。この時、Liqの濃度は30重量%とした。さらにLiqを2nm蒸着し、次いでアルミニウム(Al)を100nmの厚さに蒸着することにより陰極を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子とした。
電子輸送層としてSF3−TRZとLiqの共蒸着膜を形成する代わりに、TRZ−4DPBTとLiqの共蒸着膜を形成した以外は、実施例9と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
正孔阻止層を形成する際、化合物1の代わりにSF3−TRZを用いた以外は、実施例9と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
正孔阻止層を形成する際、化合物1の代わりに化合物23を用いた以外は、実施例9と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
電子輸送層としてSF3−TRZとLiqの共蒸着膜を形成する代わりに、化合物23とLiqの共蒸着膜を形成した以外は、実施例11と同様にして、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した。
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 電子輸送層
7 陰極
Claims (28)
- R1およびR2が各々独立にパーフルオロアルキル基である、請求項1に記載の電荷輸送材料。
- R1およびR2の炭素数が各々独立に1〜3のいずれかである、請求項1または2に記載の電荷輸送材料。
- R1およびR2の炭素数が各々独立に1または2である、請求項3に記載の電荷輸送材料。
- R1およびR2の炭素数が1である、請求項3に記載の電荷輸送材料。
- R1およびR2がトリフルオロメチル基である、請求項1に記載の電荷輸送材料。
- Ar1およびAr2が各々独立に置換基を有していてもよいベンゼン環である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- Ar1およびAr2が、A1またはA2との結合位置、並びに、R1およびR2が結合しているCとの結合位置以外の位置が無置換であるベンゼン環である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- A1およびA2が、各々独立に、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のヘテロアリール基である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環のいずれか一つ以上を含む基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のピリジニル基、置換もしくは無置換のピリミジニル基または置換もしくは無置換のトリアジニル基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基がトリアジン環を含む基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- 前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基が置換もしくは無置換のトリアジニル基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- 前記ヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたヘテロアリール基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- 前記ヘテロアリール基が、置換もしくは無置換のアリール基で置換されたトリアジニル基である、請求項9に記載の電荷輸送材料。
- A1およびA2が同一の基である、請求項1〜15のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- n1およびn2が、1または2である、請求項1〜16のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 前記電荷輸送材料がホスト材料である、請求項1〜17のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 前記電荷輸送材料が電子輸送材料である、請求項1〜17のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 最低励起三重項エネルギー準位(ET1)が2.90eV以上である、請求項1〜19のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 最大発光波長が360〜495nmである有機発光素子用である、請求項1〜20のいずれか1項に記載の電荷輸送材料。
- 下記一般式(1)で表される化合物。
Ar1およびAr2は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香環を表し、
A1およびA2は、各々独立に、ハメットのσp値が正の基で置換されたアリール基、フェニル基で置換されたアリール基、または、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のヘテロアリール基(ただし、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のイミダゾリル基、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のチアジアゾリル基、および、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のオキサジアゾリル基を除く)を表し、
n1は、Ar1に置換可能な最大置換基数以下の自然数を表し、
n2は、Ar2に置換可能な最大置換基数以下の自然数を表す。] - 下記一般式(1)で表される化合物を含む層を基板上に有する有機発光素子。
Ar1およびAr2は、各々独立に、置換基を有していてもよい芳香環を表し、
A1およびA2は、各々独立に、ハメットのσp値が正の基で置換されたアリール基、フェニル基で置換されたアリール基、または、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のヘテロアリール基(ただし、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のイミダゾリル基、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のチアジアゾリル基、および、Ar1またはAr2へ炭素原子で結合する、置換もしくは無置換のオキサジアゾリル基を除く)を表し、
n1は、Ar1に置換可能な最大置換基数以下の自然数を表し、
n2は、Ar2に置換可能な最大置換基数以下の自然数を表す。] - 最低励起一重項エネルギー準位と最低励起三重項エネルギー準位との差ΔESTが0.3eV以下である化合物を発光層に含む、請求項23に記載の有機発光素子。
- 遅延蛍光を放射する、請求項23または24に記載の有機発光素子。
- 前記一般式(1)で表される化合物を発光層に有する、請求項23〜25のいずれか1項に記載の有機発光素子。
- 前記発光層における一般式(1)で表される化合物の含有量が50重量%以上である、請求項26に記載の有機発光素子。
- 前記一般式(1)で表される化合物を、発光層と陰極の間に形成される層に有する、請求項23〜25のいずれか1項に記載の有機発光素子。
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