JPH11300829A - エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 - Google Patents
エンボス模様付き金属薄膜の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 エンボス模様を正確に転写でき、干渉色の強
いエンボス模様付き金属薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 表面にエンボス模様を有するエンボス加
工ベルト１０上に熱硬化性樹脂である透明樹脂１２を塗
布し、乾燥させて硬化させる。このような透明樹脂１２
の上にＰＶＡを塗布し焼き付けてＰＶＡ層２０を形成す
る。以上のようにしてエンボス模様が転写され、反対面
にＰＶＡ層２０が接着された透明樹脂１２をエンボス加
工ベルト１０から剥がして巻き取り、エンボス模様が形
成された面にアルミ層２４を蒸着させる。このアルミ層
２４の上に更に透明樹脂をコーティングし、ＰＶＡ層２
０を溶解除去した後粉砕してホログラム顔料を得る。
いエンボス模様付き金属薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 表面にエンボス模様を有するエンボス加
工ベルト１０上に熱硬化性樹脂である透明樹脂１２を塗
布し、乾燥させて硬化させる。このような透明樹脂１２
の上にＰＶＡを塗布し焼き付けてＰＶＡ層２０を形成す
る。以上のようにしてエンボス模様が転写され、反対面
にＰＶＡ層２０が接着された透明樹脂１２をエンボス加
工ベルト１０から剥がして巻き取り、エンボス模様が形
成された面にアルミ層２４を蒸着させる。このアルミ層
２４の上に更に透明樹脂をコーティングし、ＰＶＡ層２
０を溶解除去した後粉砕してホログラム顔料を得る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はホログラム顔料の材
料として使用されるエンボス模様付き金属薄膜の製造方
法の改良に関する。
料として使用されるエンボス模様付き金属薄膜の製造方
法の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ホログラム顔料の材料として
エンボス模様を有する金属薄膜が知られている。この金
属薄膜は、図４に示されるように、エンボス模様が形成
されたエンボス面を有しており、ここに入射した光の回
折、干渉により高い玉虫色効果を得ることができる。こ
のようなホログラム顔料では、図５に示された、従来の
マイカ等に比べ強い干渉色を得ることができる。
エンボス模様を有する金属薄膜が知られている。この金
属薄膜は、図４に示されるように、エンボス模様が形成
されたエンボス面を有しており、ここに入射した光の回
折、干渉により高い玉虫色効果を得ることができる。こ
のようなホログラム顔料では、図５に示された、従来の
マイカ等に比べ強い干渉色を得ることができる。
【０００３】このような、エンボス模様付き金属薄膜の
製造方法としては、例えば特開平６−２４１９９号公報
に、熱可塑性樹脂にエンボス模様を転写した後、金属薄
膜をそのエンボス模様を転写した面に蒸着させる技術が
開示されている。
製造方法としては、例えば特開平６−２４１９９号公報
に、熱可塑性樹脂にエンボス模様を転写した後、金属薄
膜をそのエンボス模様を転写した面に蒸着させる技術が
開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の技
術においては、熱可塑性樹脂にエンボス模様を転写する
が、熱可塑性樹脂は、通常比較的軟らかい材質であり、
表面にエンボス模様を有する型を押し付けても正確な転
写を行うことができないという問題があった。また、エ
ンボス模様付き金属薄膜を製造する工程には、熱可塑性
樹脂の温度が高くなる工程があるので、熱可塑性樹脂に
転写されたエンボス模様が変形あるいは消失してしまう
という問題もあった。
術においては、熱可塑性樹脂にエンボス模様を転写する
が、熱可塑性樹脂は、通常比較的軟らかい材質であり、
表面にエンボス模様を有する型を押し付けても正確な転
写を行うことができないという問題があった。また、エ
ンボス模様付き金属薄膜を製造する工程には、熱可塑性
樹脂の温度が高くなる工程があるので、熱可塑性樹脂に
転写されたエンボス模様が変形あるいは消失してしまう
という問題もあった。
【０００５】これらのため、熱可塑性樹脂を使用して製
造したエンボス模様付き金属薄膜では、干渉色をあまり
高くできなかった。
造したエンボス模様付き金属薄膜では、干渉色をあまり
高くできなかった。
【０００６】本発明は、上記従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、エンボス模様を正確に転写で
き、干渉色の強いエンボス模様付き金属薄膜の製造方法
を提供することにある。
ものであり、その目的は、エンボス模様を正確に転写で
き、干渉色の強いエンボス模様付き金属薄膜の製造方法
を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、エンボス模様付き金属薄膜の製造方法で
あって、熱硬化性樹脂にエンボス原版を押し付ける工程
と、熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工程と、エン
ボス原版を熱硬化性樹脂から剥がす工程と、熱硬化性樹
脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工程と、を有する
ことを特徴とする。
に、本発明は、エンボス模様付き金属薄膜の製造方法で
あって、熱硬化性樹脂にエンボス原版を押し付ける工程
と、熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工程と、エン
ボス原版を熱硬化性樹脂から剥がす工程と、熱硬化性樹
脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工程と、を有する
ことを特徴とする。
【０００８】また、エンボス模様付き金属薄膜の製造方
法であって、熱硬化性樹脂をエンボス原版に塗布する工
程と、熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工程と、熱
硬化性樹脂との親和力の高い樹脂を熱硬化性樹脂に配し
熱硬化性樹脂と接着させる工程と、エンボス原版を親和
力の高い樹脂に接着した熱硬化性樹脂から剥がす工程
と、熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工
程と、を有することを特徴とする。
法であって、熱硬化性樹脂をエンボス原版に塗布する工
程と、熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工程と、熱
硬化性樹脂との親和力の高い樹脂を熱硬化性樹脂に配し
熱硬化性樹脂と接着させる工程と、エンボス原版を親和
力の高い樹脂に接着した熱硬化性樹脂から剥がす工程
と、熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工
程と、を有することを特徴とする。
【０００９】また、エンボス模様付き金属薄膜の製造方
法であって、表面にエンボス模様を有する加熱した型を
熱硬化性樹脂に押しつけつつその熱硬化性樹脂を硬化さ
せる工程と、その型を熱硬化性樹脂から剥がす工程と、
熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工程
と、を有することを特徴とする
法であって、表面にエンボス模様を有する加熱した型を
熱硬化性樹脂に押しつけつつその熱硬化性樹脂を硬化さ
せる工程と、その型を熱硬化性樹脂から剥がす工程と、
熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形成する工程
と、を有することを特徴とする
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態（以下
実施形態という）を、図面にしたがって説明する。
実施形態という）を、図面にしたがって説明する。
【００１０】実施形態１．図１には、本発明に係るエン
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態１の構成が
示される。図１において、まず表面にエンボス模様を有
するエンボス加工ベルト１０に透明樹脂１２が塗布され
る。この時透明樹脂１２は、透明樹脂槽１３からローラ
１５に供給され、ローラ１５によりエンボス加工ベルト
１０に塗布される。ここで使用される透明樹脂１２は、
熱硬化性樹脂である。また、透明樹脂１２の塗布される
厚さは、乾燥硬化後の膜厚が０．１〜５μｍ、好ましく
は０．２〜０．６μｍとなるように調整される。
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態１の構成が
示される。図１において、まず表面にエンボス模様を有
するエンボス加工ベルト１０に透明樹脂１２が塗布され
る。この時透明樹脂１２は、透明樹脂槽１３からローラ
１５に供給され、ローラ１５によりエンボス加工ベルト
１０に塗布される。ここで使用される透明樹脂１２は、
熱硬化性樹脂である。また、透明樹脂１２の塗布される
厚さは、乾燥硬化後の膜厚が０．１〜５μｍ、好ましく
は０．２〜０．６μｍとなるように調整される。
【００１１】エンボス加工ベルト１０に塗布された透明
樹脂１２は、乾燥機１４により溶媒が蒸発され、半硬化
〜全硬化状態まで加熱、焼き付けが行われる。この時の
温度は４０〜１００℃であり、加熱時間は１０秒〜３０
分程度である。これによりエンボス加工ベルト１０の表
面のエンボス模様が透明樹脂１２に転写される。
樹脂１２は、乾燥機１４により溶媒が蒸発され、半硬化
〜全硬化状態まで加熱、焼き付けが行われる。この時の
温度は４０〜１００℃であり、加熱時間は１０秒〜３０
分程度である。これによりエンボス加工ベルト１０の表
面のエンボス模様が透明樹脂１２に転写される。
【００１２】ここで使用されるエンボス加工ベルト１０
は、例えば平滑な連続スチールベルトの上にエンボス加
工されたニッケル原版を貼り合わせて作製される。更
に、このエンボス原版の表面には炭化水素基を有するよ
うなコーティングを施すのが好適である。このコーティ
ングにより、次工程においてエンボス加工ベルト１０と
透明樹脂１２とを剥がすことが容易になる。このような
コーティングは、例えばジメチルジメトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、デシルトリメトキシシラン等を加水分解、縮
合させた溶液を上記ニッケル原版の表面に塗布、焼き付
けることにより形成する。このコーティングを施すこと
により、エンボス加工ベルト１０上のニッケル原版の表
面が、メチル基、フェニル基、ヘキシル基、デシル基等
の炭化水素基で覆われることになる。
は、例えば平滑な連続スチールベルトの上にエンボス加
工されたニッケル原版を貼り合わせて作製される。更
に、このエンボス原版の表面には炭化水素基を有するよ
うなコーティングを施すのが好適である。このコーティ
ングにより、次工程においてエンボス加工ベルト１０と
透明樹脂１２とを剥がすことが容易になる。このような
コーティングは、例えばジメチルジメトキシシラン、メ
チルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、ジフェニルジメトキシシラン、ヘキシルトリメトキ
シシラン、デシルトリメトキシシラン等を加水分解、縮
合させた溶液を上記ニッケル原版の表面に塗布、焼き付
けることにより形成する。このコーティングを施すこと
により、エンボス加工ベルト１０上のニッケル原版の表
面が、メチル基、フェニル基、ヘキシル基、デシル基等
の炭化水素基で覆われることになる。
【００１３】次に、前述したエンボス加工ベルト１０の
上で加熱され硬化された透明樹脂１２の表面にＰＶＡ層
２０を形成する。これは、ポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）の水溶液（ＰＶＡ濃度５〜２０％）を塗布し、焼き
付け乾燥を行って形成する。この焼き付け乾燥は焼付装
置１６中で実施される。またＰＶＡは、ＰＶＡ槽１７か
らローラ１８に供給され、上記透明樹脂１２の上にロー
ラ１８により塗布される。乾燥後のＰＶＡ層２０の膜厚
は１０〜５０μｍであり、好ましくは２０〜３０μｍで
ある。この時の乾燥温度は１００〜１６０℃であり、乾
燥時間は５〜３０分程度である。なお、このＰＶＡ層２
０が、本発明に係る熱硬化性樹脂と親和力の高い樹脂に
相当する。
上で加熱され硬化された透明樹脂１２の表面にＰＶＡ層
２０を形成する。これは、ポリビニルアルコール（ＰＶ
Ａ）の水溶液（ＰＶＡ濃度５〜２０％）を塗布し、焼き
付け乾燥を行って形成する。この焼き付け乾燥は焼付装
置１６中で実施される。またＰＶＡは、ＰＶＡ槽１７か
らローラ１８に供給され、上記透明樹脂１２の上にロー
ラ１８により塗布される。乾燥後のＰＶＡ層２０の膜厚
は１０〜５０μｍであり、好ましくは２０〜３０μｍで
ある。この時の乾燥温度は１００〜１６０℃であり、乾
燥時間は５〜３０分程度である。なお、このＰＶＡ層２
０が、本発明に係る熱硬化性樹脂と親和力の高い樹脂に
相当する。
【００１４】以上のようにしてＰＶＡ層２０が接着され
た透明樹脂１２は、エンボス加工ベルト１０から剥離さ
れる。剥離された透明樹脂１２はここで一旦巻き取られ
る。
た透明樹脂１２は、エンボス加工ベルト１０から剥離さ
れる。剥離された透明樹脂１２はここで一旦巻き取られ
る。
【００１５】このように、表面にエンボス模様が転写さ
れ、反対側の面にＰＶＡ層２０が接着された透明樹脂１
２は、一旦巻き取られた後蒸着装置２２の中に入れられ
る。この蒸着装置２２の中で、透明樹脂１２のエンボス
模様が転写されたエンボス面にアルミ層２４が蒸着され
る。蒸着されるアルミ層の膜厚は２００〜１５００Åで
あり、好ましくは３００〜１０００Åである。
れ、反対側の面にＰＶＡ層２０が接着された透明樹脂１
２は、一旦巻き取られた後蒸着装置２２の中に入れられ
る。この蒸着装置２２の中で、透明樹脂１２のエンボス
模様が転写されたエンボス面にアルミ層２４が蒸着され
る。蒸着されるアルミ層の膜厚は２００〜１５００Åで
あり、好ましくは３００〜１０００Åである。
【００１６】次に、アルミ層２４が蒸着された面に、更
に２層目の透明樹脂１２をコーティングする。これは、
上述したように、透明樹脂槽１３からローラ１５を用い
てアルミ層２４が蒸着された面に透明樹脂１２を塗布す
ることによって行う。塗布された透明樹脂は、乾燥機１
４によって乾燥、硬化される。このような４層構造とな
ったフィルムを、溶解装置２６中で多量の水の中に投入
することにより、ＰＶＡ層２０を溶かし、アルミ層２４
の両面に透明樹脂１２がコーティングされたフィルムを
得る。ＰＶＡ層２０の溶解は、３０秒〜数分で行うこと
ができる。このようにして得た３層構造のフィルムは、
極めて薄く、機械的強度が非常に弱い。このため、ＰＶ
Ａ層２０が水に溶解してなくなると、補強材を失い、自
然に粗粉砕される。次に、この粗粉砕されたフィルムを
乾燥した後、塗料用顔料として必要な大きさまで粉砕
し、本発明に係るエンボス模様付き金属薄膜（ホログラ
ム顔料）を得る。粉砕後の粒径は５〜５０μｍ、好まし
くは１０〜３０μｍ、厚さ０．３〜５μｍ、好ましくは
０．５〜１．５μｍである。なお、この際の粉砕方法と
しては、通常用いられている方法を使用することができ
る。例えば、ボールミル、ロータスピードミル、ホモジ
ナイザ等が使用可能である。
に２層目の透明樹脂１２をコーティングする。これは、
上述したように、透明樹脂槽１３からローラ１５を用い
てアルミ層２４が蒸着された面に透明樹脂１２を塗布す
ることによって行う。塗布された透明樹脂は、乾燥機１
４によって乾燥、硬化される。このような４層構造とな
ったフィルムを、溶解装置２６中で多量の水の中に投入
することにより、ＰＶＡ層２０を溶かし、アルミ層２４
の両面に透明樹脂１２がコーティングされたフィルムを
得る。ＰＶＡ層２０の溶解は、３０秒〜数分で行うこと
ができる。このようにして得た３層構造のフィルムは、
極めて薄く、機械的強度が非常に弱い。このため、ＰＶ
Ａ層２０が水に溶解してなくなると、補強材を失い、自
然に粗粉砕される。次に、この粗粉砕されたフィルムを
乾燥した後、塗料用顔料として必要な大きさまで粉砕
し、本発明に係るエンボス模様付き金属薄膜（ホログラ
ム顔料）を得る。粉砕後の粒径は５〜５０μｍ、好まし
くは１０〜３０μｍ、厚さ０．３〜５μｍ、好ましくは
０．５〜１．５μｍである。なお、この際の粉砕方法と
しては、通常用いられている方法を使用することができ
る。例えば、ボールミル、ロータスピードミル、ホモジ
ナイザ等が使用可能である。
【００１７】熱硬化性樹脂である透明樹脂１２は、硬化
後の硬度が鉛筆硬度Ｈ以上であるのが好適である。これ
より軟らかいとホログラム顔料として好適である５０μ
ｍ以下の粒径まで粉砕できない。これを無理に粉砕する
と、アルミ層２４にコーティングされた透明樹脂１２に
不必要な傷をつけ、また透明樹脂１２とアルミ層２４と
が剥離してしまうという問題も生ずる。
後の硬度が鉛筆硬度Ｈ以上であるのが好適である。これ
より軟らかいとホログラム顔料として好適である５０μ
ｍ以下の粒径まで粉砕できない。これを無理に粉砕する
と、アルミ層２４にコーティングされた透明樹脂１２に
不必要な傷をつけ、また透明樹脂１２とアルミ層２４と
が剥離してしまうという問題も生ずる。
【００１８】以上のように、透明樹脂１２として熱硬化
性樹脂を使用した場合には、他の溶剤等と混合して塗料
化した場合にも膨潤しにくいという特徴がある。また、
乾燥、焼き付け等の工程でホログラム顔料が塗料中で軟
化することがなく、エンボス模様が崩れないので、干渉
光が弱まることがない。
性樹脂を使用した場合には、他の溶剤等と混合して塗料
化した場合にも膨潤しにくいという特徴がある。また、
乾燥、焼き付け等の工程でホログラム顔料が塗料中で軟
化することがなく、エンボス模様が崩れないので、干渉
光が弱まることがない。
【００１９】このような熱硬化性樹脂としては、シリコ
ーン系樹脂、アクリル架橋樹脂等が挙げられる。特に、
メチルトリメトキシシラン等のシリコーン系樹脂は、透
明性、粉砕性、耐久性の面で好適である。また、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等のエポキシ系
シリコーン樹脂は、アルミとの付着性が良好である。こ
のような熱硬化性樹脂の溶媒として、ヘキサン、ヘプタ
ン等の炭化水素を使用すると、エンボス模様を有するニ
ッケル原版の表面とのなじみがよく、これに塗布した場
合にもはじきがなく、かつ乾燥時に剥がれやすいという
特性がある。
ーン系樹脂、アクリル架橋樹脂等が挙げられる。特に、
メチルトリメトキシシラン等のシリコーン系樹脂は、透
明性、粉砕性、耐久性の面で好適である。また、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン等のエポキシ系
シリコーン樹脂は、アルミとの付着性が良好である。こ
のような熱硬化性樹脂の溶媒として、ヘキサン、ヘプタ
ン等の炭化水素を使用すると、エンボス模様を有するニ
ッケル原版の表面とのなじみがよく、これに塗布した場
合にもはじきがなく、かつ乾燥時に剥がれやすいという
特性がある。
【００２０】実施形態２．図２には、本発明に係るエン
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態２の構成が
示される。図２において、図１の場合と同様に、エンボ
ス加工ベルト１０の上に、透明樹脂槽１３からの透明樹
脂１２をローラ１５によって塗布し、乾燥させて、エン
ボス加工ベルト１０の上に形成されているエンボス模様
を透明樹脂１２に転写させる。ただし、透明樹脂１２は
完全には硬化させず半硬化状態まで加熱、焼き付けを行
う。この場合の加熱温度は４０〜１００℃であり、加熱
時間は１０秒〜２０分である。
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態２の構成が
示される。図２において、図１の場合と同様に、エンボ
ス加工ベルト１０の上に、透明樹脂槽１３からの透明樹
脂１２をローラ１５によって塗布し、乾燥させて、エン
ボス加工ベルト１０の上に形成されているエンボス模様
を透明樹脂１２に転写させる。ただし、透明樹脂１２は
完全には硬化させず半硬化状態まで加熱、焼き付けを行
う。この場合の加熱温度は４０〜１００℃であり、加熱
時間は１０秒〜２０分である。
【００２１】本実施形態において特徴的な点は、上述の
ようにエンボス加工ベルト１０の上に焼き付けられた透
明樹脂１２のエンボス加工ベルト１０とは反対側の面に
ＰＶＡフィルムを圧着させ、ＰＶＡ層２０が形成される
点にある。ＰＶＡフィルムは、圧着ローラ２８により透
明樹脂１２に圧着される。この場合、圧着ローラ２８は
１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃に加熱
されており、ＰＶＡフィルムは透明樹脂１２に熱圧着さ
れる。これにより、ＰＶＡフィルムの透明樹脂１２への
圧着がより完全なものとなる。この際、エンボス加工ベ
ルト１０の温度はなるべく高くした方が透明樹脂１２と
ＰＶＡフィルムとの接着を促進することができる。
ようにエンボス加工ベルト１０の上に焼き付けられた透
明樹脂１２のエンボス加工ベルト１０とは反対側の面に
ＰＶＡフィルムを圧着させ、ＰＶＡ層２０が形成される
点にある。ＰＶＡフィルムは、圧着ローラ２８により透
明樹脂１２に圧着される。この場合、圧着ローラ２８は
１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２００℃に加熱
されており、ＰＶＡフィルムは透明樹脂１２に熱圧着さ
れる。これにより、ＰＶＡフィルムの透明樹脂１２への
圧着がより完全なものとなる。この際、エンボス加工ベ
ルト１０の温度はなるべく高くした方が透明樹脂１２と
ＰＶＡフィルムとの接着を促進することができる。
【００２２】このように、ＰＶＡフィルムによってＰＶ
Ａ層２０が形成された透明樹脂１２は、エンボス加工ベ
ルト１０から自然に剥がれる。従って、このＰＶＡ層２
０が接着された透明樹脂１２を乾燥機３０に通過させ、
透明樹脂１２を更に硬化させる。この時の温度は１００
〜１６０℃で、乾燥時間は１〜２０分である。乾燥後の
透明樹脂１２はここで一旦巻き取られる。
Ａ層２０が形成された透明樹脂１２は、エンボス加工ベ
ルト１０から自然に剥がれる。従って、このＰＶＡ層２
０が接着された透明樹脂１２を乾燥機３０に通過させ、
透明樹脂１２を更に硬化させる。この時の温度は１００
〜１６０℃で、乾燥時間は１〜２０分である。乾燥後の
透明樹脂１２はここで一旦巻き取られる。
【００２３】巻き取られた後の工程は、図１に示された
工程と同様であり、アルミ層２４が蒸着された後、透明
樹脂１２がアルミ層２４の上にコーティングされてＰＶ
Ａ層２０が溶解除去され、その後粉砕されてホログラム
顔料となる。
工程と同様であり、アルミ層２４が蒸着された後、透明
樹脂１２がアルミ層２４の上にコーティングされてＰＶ
Ａ層２０が溶解除去され、その後粉砕されてホログラム
顔料となる。
【００２４】本実施形態においては、ＰＶＡ層２０を形
成するのにＰＶＡフィルムを使用しているので、ＰＶＡ
層２０の膜強度が向上され、加工中にエンボス模様付き
金属薄膜が不都合に変形することを防止できる。また、
ＰＶＡの水溶液を使用する場合に比べ、乾燥時間を短縮
することもできる。
成するのにＰＶＡフィルムを使用しているので、ＰＶＡ
層２０の膜強度が向上され、加工中にエンボス模様付き
金属薄膜が不都合に変形することを防止できる。また、
ＰＶＡの水溶液を使用する場合に比べ、乾燥時間を短縮
することもできる。
【００２５】実施形態３．図３には、本発明に係るエン
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態３の構成が
示される。図３においては、図１及び図２と異なり、エ
ンボス加工ベルト１０は使用されていない。その代わ
り、ＰＶＡフィルム３２の上に、透明樹脂槽１３からロ
ーラ１５を介して透明樹脂１２が塗布される。この場合
のＰＶＡフィルム３２の厚さは１０〜５０μｍであり好
ましくは２０〜３０μｍである。またこの上に塗布され
る透明樹脂１２の厚さは、乾燥、硬化後の膜厚として
０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜０．６μｍであ
る。透明樹脂１２が塗布されたＰＶＡフィルム３２は、
乾燥機１４に通され、半硬化状態まで加熱される。この
時の温度は４０〜１２０℃であり加熱時間は１０秒〜１
０分である。
ボス模様付き金属薄膜の製造方法の実施形態３の構成が
示される。図３においては、図１及び図２と異なり、エ
ンボス加工ベルト１０は使用されていない。その代わ
り、ＰＶＡフィルム３２の上に、透明樹脂槽１３からロ
ーラ１５を介して透明樹脂１２が塗布される。この場合
のＰＶＡフィルム３２の厚さは１０〜５０μｍであり好
ましくは２０〜３０μｍである。またこの上に塗布され
る透明樹脂１２の厚さは、乾燥、硬化後の膜厚として
０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜０．６μｍであ
る。透明樹脂１２が塗布されたＰＶＡフィルム３２は、
乾燥機１４に通され、半硬化状態まで加熱される。この
時の温度は４０〜１２０℃であり加熱時間は１０秒〜１
０分である。
【００２６】次に、半硬化状態の透明樹脂１２に、表面
にエンボス模様が形成された型を押し付け、エンボス模
様を透明樹脂１２に転写する。この時の型の温度として
は１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２３０℃とす
る。これにより、透明樹脂１２の表面にエンボス模様を
転写しつつ熱硬化性樹脂である透明樹脂１２の硬化も併
せて行うことができる。この場合、型が透明樹脂１２に
接触している間に透明樹脂の表面を硬化させるので、エ
ンボス模様をより正確に転写できる。また、型を透明樹
脂から剥がした後に生ずる樹脂の収縮によるパターンの
変化も防止することができる。
にエンボス模様が形成された型を押し付け、エンボス模
様を透明樹脂１２に転写する。この時の型の温度として
は１００〜２５０℃、好ましくは１５０〜２３０℃とす
る。これにより、透明樹脂１２の表面にエンボス模様を
転写しつつ熱硬化性樹脂である透明樹脂１２の硬化も併
せて行うことができる。この場合、型が透明樹脂１２に
接触している間に透明樹脂の表面を硬化させるので、エ
ンボス模様をより正確に転写できる。また、型を透明樹
脂から剥がした後に生ずる樹脂の収縮によるパターンの
変化も防止することができる。
【００２７】このような型としては、通常用いられるニ
ッケル原版の板でもよいが、図３に示されるように、表
面にエンボス模様が形成された転写ローラ３４を使用す
ることも好適である。このようなニッケル原版あるいは
転写ローラ３４の表面には、炭化水素等をコーティング
することにより、透明樹脂１２が付着することを完全に
防止できる。あるいは、炭化水素の代わりにフッ素樹脂
等をコーティングしてもよい。このフッ素樹脂としては
フルオロアルキルシランが好適である。
ッケル原版の板でもよいが、図３に示されるように、表
面にエンボス模様が形成された転写ローラ３４を使用す
ることも好適である。このようなニッケル原版あるいは
転写ローラ３４の表面には、炭化水素等をコーティング
することにより、透明樹脂１２が付着することを完全に
防止できる。あるいは、炭化水素の代わりにフッ素樹脂
等をコーティングしてもよい。このフッ素樹脂としては
フルオロアルキルシランが好適である。
【００２８】なお、ニッケル原版あるいは転写ローラ３
４によりエンボス模様を透明樹脂１２に転写する際の加
熱条件によっては、前述した乾燥機１４による乾燥工程
を省略することも可能となる。
４によりエンボス模様を透明樹脂１２に転写する際の加
熱条件によっては、前述した乾燥機１４による乾燥工程
を省略することも可能となる。
【００２９】次に、上記型によって透明樹脂１２にエン
ボス模様を転写した後、透明樹脂１２をこれら型から剥
がし、焼付装置１６により必要に応じて更に透明樹脂１
２を焼き付け硬化させる。この場合の焼き付け条件は、
温度が１００〜１６０℃であり加熱時間が１〜２０分で
ある。なお、型によるエンボス模様の転写時に十分透明
樹脂１２が硬化した場合には、この焼き付けは省略する
ことができる。次に、このようにしてエンボス模様が転
写された透明樹脂１２を巻き取る。これ以後の工程は図
１と同様である。
ボス模様を転写した後、透明樹脂１２をこれら型から剥
がし、焼付装置１６により必要に応じて更に透明樹脂１
２を焼き付け硬化させる。この場合の焼き付け条件は、
温度が１００〜１６０℃であり加熱時間が１〜２０分で
ある。なお、型によるエンボス模様の転写時に十分透明
樹脂１２が硬化した場合には、この焼き付けは省略する
ことができる。次に、このようにしてエンボス模様が転
写された透明樹脂１２を巻き取る。これ以後の工程は図
１と同様である。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
熱硬化性樹脂の乾燥硬化をエンボス原版の上で行い、そ
の完了後原版から剥がすので、エンボス模様の転写を確
実に行うことができる。
熱硬化性樹脂の乾燥硬化をエンボス原版の上で行い、そ
の完了後原版から剥がすので、エンボス模様の転写を確
実に行うことができる。
【００３１】また、熱硬化性樹脂と親和力の高い樹脂を
熱硬化性樹脂に接着させるので、エンボス加工ベルトか
ら熱硬化性樹脂を容易に剥がすことができる。
熱硬化性樹脂に接着させるので、エンボス加工ベルトか
ら熱硬化性樹脂を容易に剥がすことができる。
【００３２】さらに、エンボス原版を押し当てた状態で
熱硬化性樹脂を硬化させるため、エンボス模様を正確に
転写することができる。
熱硬化性樹脂を硬化させるため、エンボス模様を正確に
転写することができる。
【図１】 本発明に係るエンボス模様付き金属薄膜の製
造方法の実施形態１の構成を示す図である。
造方法の実施形態１の構成を示す図である。
【図２】 本発明に係るエンボス模様付き金属薄膜の製
造方法の実施形態２の構成を示す図である。
造方法の実施形態２の構成を示す図である。
【図３】 本発明に係るエンボス模様付き金属薄膜の製
造方法の実施形態３の構成を示す図である。
造方法の実施形態３の構成を示す図である。
【図４】 エンボス模様を表面に有するホログラム顔料
の干渉の様子の説明図である。
の干渉の様子の説明図である。
【図５】 従来におけるマイカの干渉の説明図である。
１０ エンボス加工ベルト、１２ 透明樹脂、１３ 透
明樹脂槽、１４ 乾燥機、１５ ローラ、１６ 焼付装
置、１７ ＰＶＡ槽、１８ ローラ、２０ ＰＶＡ層、
２２ 蒸着装置、２４ アルミ層、２６ 溶解装置、２
８ 圧着ローラ、３０ 乾燥機、３２ ＰＶＡフィル
ム、３４ 転写ローラ。
明樹脂槽、１４ 乾燥機、１５ ローラ、１６ 焼付装
置、１７ ＰＶＡ槽、１８ ローラ、２０ ＰＶＡ層、
２２ 蒸着装置、２４ アルミ層、２６ 溶解装置、２
８ 圧着ローラ、３０ 乾燥機、３２ ＰＶＡフィル
ム、３４ 転写ローラ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２３Ｃ 14/14 Ｃ２３Ｃ 14/14 Ｂ // Ｂ２９Ｋ 101:10
Claims (3)
- 【請求項１】 熱硬化性樹脂にエンボス原版を押し付け
る工程と、前記熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工
程と、前記エンボス原版を前記熱硬化性樹脂から剥がす
工程と、前記熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形
成する工程と、を有することを特徴とするエンボス模様
付き金属薄膜の製造方法。 - 【請求項２】 熱硬化性樹脂をエンボス原版に塗布する
工程と、前記熱硬化性樹脂に熱を加えて硬化させる工程
と、前記熱硬化性樹脂との親和力の高い樹脂を前記熱硬
化性樹脂に配し前記熱硬化性樹脂と接着させる工程と、
前記エンボス原版を前記親和力の高い樹脂に接着した前
記熱硬化性樹脂から剥がす工程と、前記熱硬化性樹脂の
エンボス面に金属薄膜を形成する工程と、を有すること
を特徴とするエンボス模様付き金属薄膜の製造方法。 - 【請求項３】 表面にエンボス模様を有する加熱した型
を熱硬化性樹脂に押しつけつつその熱硬化性樹脂を硬化
させる工程と、前記型を前記熱硬化性樹脂から剥がす工
程と、前記熱硬化性樹脂のエンボス面に金属薄膜を形成
する工程と、を有することを特徴とするエンボス模様付
き金属薄膜の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10112107A JPH11300829A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
| US09/619,155 US6432245B1 (en) | 1998-04-22 | 1999-04-07 | Method for manufacturing a thin metal film with embossed pattern |
| EP99107548A EP0952009A3 (en) | 1998-04-22 | 1999-04-15 | Method for manufacturing a thin metal film with embossed pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10112107A JPH11300829A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11300829A true JPH11300829A (ja) | 1999-11-02 |
Family
ID=14578336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10112107A Pending JPH11300829A (ja) | 1998-04-22 | 1998-04-22 | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6432245B1 (ja) |
| EP (1) | EP0952009A3 (ja) |
| JP (1) | JPH11300829A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016505407A (ja) * | 2012-11-26 | 2016-02-25 | 蔡 ▲シー▼▲チュアン▼Ｃａｉ， Ｓｈｉｑｕａｎ | 金属蒸着薄膜及びその作製中間体並びに関連する作製方法 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69930156T2 (de) * | 1998-12-30 | 2006-11-02 | Glud & Marstrand A/S | Replikationsverfahren für ein oberflächen-relief und ein produkt mit einem reliefdruck |
| US6588099B2 (en) * | 2001-01-22 | 2003-07-08 | Sankyo Kasei Kabushiki Kaisha | Process for manufacturing molded circuit board |
| US6841238B2 (en) * | 2002-04-05 | 2005-01-11 | Flex Products, Inc. | Chromatic diffractive pigments and foils |
| DE10146635B4 (de) * | 2001-09-21 | 2005-06-23 | Alcan Deutschland Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines mit einer Hologrammprägung versehenen Folienmaterials sowie Folienmaterial |
| DE10252645A1 (de) * | 2002-11-11 | 2004-05-27 | Bühler AG | Diffraktive Pigmente |
| EP1613558A2 (en) * | 2003-04-14 | 2006-01-11 | National Graphics, Inc. | Lenticular images formed on selected image portions |
| US7271940B2 (en) | 2004-02-10 | 2007-09-18 | Zebra Imaging, Inc. | Deposition of photosensitive media for digital hologram recording |
| US20070037960A1 (en) * | 2005-08-15 | 2007-02-15 | General Electric Company | Copolyester stilbene embossed film and methods of making the same |
| US20070240585A1 (en) * | 2006-04-13 | 2007-10-18 | Nitin Vaish | Embossing system, methods of use, and articles produced therefrom |
| US20070240813A1 (en) * | 2006-04-17 | 2007-10-18 | Yu Hu | Process for forming a multilayer film and the film formed therefrom |
| WO2011037988A1 (en) * | 2009-09-28 | 2011-03-31 | The Procter & Gamble Company | Method for imparting topical holographic effect to a polymeric film substrate |
| TW201208857A (en) * | 2010-08-16 | 2012-03-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Film manufacturing device |
| EP3435156A1 (de) * | 2017-07-26 | 2019-01-30 | Covestro Deutschland AG | Schutzschicht für photopolymer |
| DE102017008918A1 (de) | 2017-09-22 | 2019-03-28 | Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh | Plättchenförmiges Pigment, Druckfarbe, Sicherheitselement und Herstellungsverfahren |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49125472A (ja) * | 1973-04-03 | 1974-11-30 | ||
| JPS5010856A (ja) * | 1973-06-04 | 1975-02-04 | ||
| JPS599012A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
| JPS61238079A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色ホログラムシ−ト |
| JPH02118932A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 光記録体の複製方法 |
| JPH0577259A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Fujitsu Ltd | 樹脂層複製方法 |
| JPH07276570A (ja) * | 1994-04-13 | 1995-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱硬化性樹脂化粧板用賦型シート |
Family Cites Families (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2839378A (en) | 1955-04-15 | 1958-06-17 | American Marietta Co | Method of making metal flakes |
| US3689346A (en) * | 1970-09-29 | 1972-09-05 | Rowland Dev Corp | Method for producing retroreflective material |
| US3765940A (en) | 1971-11-08 | 1973-10-16 | Texas Instruments Inc | Vacuum evaporated thin film resistors |
| US3811983A (en) * | 1972-06-23 | 1974-05-21 | Rowland Dev Corp | Method for producing retroreflective sheeting |
| US4129166A (en) | 1977-07-18 | 1978-12-12 | General Electric Company | Nb3 Ge superconductive films grown with air |
| US4321087A (en) | 1978-12-21 | 1982-03-23 | Revlon, Inc. | Process for making metallic leafing pigments |
| JPS55160060A (en) | 1979-05-30 | 1980-12-12 | Dainichi Seika Kogyo Kk | Metallic pigment and production thereof |
| US4420527A (en) * | 1980-09-05 | 1983-12-13 | Rexham Corporation | Thermoset relief patterned sheet |
| US4420502A (en) * | 1980-09-05 | 1983-12-13 | Conley Kenneth E | Apparatus and method for producing a flexible sheet material having a predetermined surface characteristic |
| US4414316A (en) * | 1980-09-05 | 1983-11-08 | Rexham Corporation | Composite lenticular screen sheet |
| US4601861A (en) * | 1982-09-30 | 1986-07-22 | Amerace Corporation | Methods and apparatus for embossing a precision optical pattern in a resinous sheet or laminate |
| US4906315A (en) * | 1983-06-20 | 1990-03-06 | Mcgrew Stephen P | Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same |
| GB2152433B (en) * | 1984-01-03 | 1988-01-20 | Oike Kogyo Kk | Stamping foil |
| US4758003A (en) | 1984-04-05 | 1988-07-19 | Quantum Group, Inc. | Method and apparatus for changing physical and chemical properties of materials |
| JPH0677174B2 (ja) * | 1984-05-31 | 1994-09-28 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム転写シートおよびその製造方法 |
| JPS62222282A (ja) * | 1986-03-24 | 1987-09-30 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム転写箔の製造方法 |
| JPS62257190A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-09 | Nissha Printing Co Ltd | ホログラムを有する成形品の製造方法 |
| US4754012A (en) | 1986-10-03 | 1988-06-28 | Ppg Industries, Inc. | Multi-component sol-gel protective coating composition |
| JPH01213375A (ja) | 1987-07-27 | 1989-08-28 | Sonshiyaku You | 微細な円形回折格子のホログラム・ペンキ |
| US4971841A (en) | 1989-06-08 | 1990-11-20 | Basf Corporation | Reflective automotive coating compositions |
| US5116703A (en) | 1989-12-15 | 1992-05-26 | Xerox Corporation | Functional hybrid compounds and thin films by sol-gel process |
| US5335526A (en) | 1991-01-29 | 1994-08-09 | Garrison Marvin C | Method of manufacturing substrates for memory disks |
| IT1254613B (it) | 1992-02-18 | 1995-09-28 | Processo per la produzione di pezzi smaltati | |
| US5672410A (en) | 1992-05-11 | 1997-09-30 | Avery Dennison Corporation | Embossed metallic leafing pigments |
| US5549774A (en) | 1992-05-11 | 1996-08-27 | Avery Dennison Corporation | Method of enhancing the visibility of diffraction pattern surface embossment |
| JPH0624199A (ja) | 1992-07-06 | 1994-02-01 | Aica Kogyo Co Ltd | 多彩な輝きをもった化粧材 |
| JPH0651682A (ja) | 1992-07-28 | 1994-02-25 | Tootsuya:Kk | ホログラム顔料及びホログラム組成物 |
| US5330799A (en) * | 1992-09-15 | 1994-07-19 | The Phscologram Venture, Inc. | Press polymerization of lenticular images |
| US5831766A (en) * | 1993-02-17 | 1998-11-03 | Reflexite Corporation | Retroreflective structure |
| ES2134930T3 (es) * | 1993-09-13 | 1999-10-16 | Minnesota Mining & Mfg | Articulo abrasivo, metodo para fabricar el mismo, metodo para utilizar el mismo para el acabado y herramienta de produccion. |
| US5415950A (en) | 1993-11-08 | 1995-05-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Holographic flake pigment |
| US5851602A (en) | 1993-12-09 | 1998-12-22 | Applied Materials, Inc. | Deposition of high quality conformal silicon oxide thin films for the manufacture of thin film transistors |
| JP2744196B2 (ja) | 1993-12-28 | 1998-04-28 | 大同メタル工業株式会社 | 球面すべり軸受 |
| JPH08337654A (ja) | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
| US6112388A (en) | 1997-07-07 | 2000-09-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Embossed metallic flakelets and method for producing the same |
| US5980992A (en) | 1997-10-03 | 1999-11-09 | 3M Innovative Properties Company | Fluorochemical treatments to provide low-energy surfaces |
-
1998
- 1998-04-22 JP JP10112107A patent/JPH11300829A/ja active Pending
-
1999
- 1999-04-07 US US09/619,155 patent/US6432245B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-04-15 EP EP99107548A patent/EP0952009A3/en not_active Withdrawn
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49125472A (ja) * | 1973-04-03 | 1974-11-30 | ||
| JPS5010856A (ja) * | 1973-06-04 | 1975-02-04 | ||
| JPS599012A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 平板状情報記録担体複製金型の製造方法 |
| JPS61238079A (ja) * | 1985-04-15 | 1986-10-23 | Dainippon Printing Co Ltd | 着色ホログラムシ−ト |
| JPH02118932A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 光記録体の複製方法 |
| JPH0577259A (ja) * | 1991-09-20 | 1993-03-30 | Fujitsu Ltd | 樹脂層複製方法 |
| JPH07276570A (ja) * | 1994-04-13 | 1995-10-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 熱硬化性樹脂化粧板用賦型シート |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016505407A (ja) * | 2012-11-26 | 2016-02-25 | 蔡 ▲シー▼▲チュアン▼Ｃａｉ， Ｓｈｉｑｕａｎ | 金属蒸着薄膜及びその作製中間体並びに関連する作製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0952009A2 (en) | 1999-10-27 |
| US6432245B1 (en) | 2002-08-13 |
| EP0952009A3 (en) | 2002-10-09 |
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